JP2011134800A - エッチング方法及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】レジスト膜の形状に関係なく凸部のテーパ形状を制御できるエッチング方法及びプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明は、凸部21aを有するサファイア基板21の上に半導体層22,23,24を設けて成る半導体発光素子に用いられる前記サファイア基板上に、エッチングにより前記凸部21aを形成する方法である。本発明では、表面にレジスト膜が形成されたサファイア基板21を、エッチングガスに炭素系ガスを添加した混合ガスをプラズマ状態に励起してエッチングすると共に、前記炭素系ガスの流量を調整することで前記凸部21aのテーパ形状を調整する。
【選択図】図1
【解決手段】本発明は、凸部21aを有するサファイア基板21の上に半導体層22,23,24を設けて成る半導体発光素子に用いられる前記サファイア基板上に、エッチングにより前記凸部21aを形成する方法である。本発明では、表面にレジスト膜が形成されたサファイア基板21を、エッチングガスに炭素系ガスを添加した混合ガスをプラズマ状態に励起してエッチングすると共に、前記炭素系ガスの流量を調整することで前記凸部21aのテーパ形状を調整する。
【選択図】図1
Description
本発明は、発光効率を高めるための複数の凸部を有するサファイア基板に該凸部を形成するエッチング方法及びプラズマ処理装置に関する。
半導体発光素子、例えば発光ダイオード(LED)は、基板上に積層されたp型半導体層及びn型半導体層の上に電極が形成された構造を有している。p型半導体層から注入される正孔とn型半導体層から注入される電子との再結合によって活性層のある発光領域で光が発生すると、その光は電極が形成された面、又は半導体層を成長させない基板面から取り出されるようになっている。
このような構造の発光ダイオードでは、基板の表面に多数の凸部(凹部)を形成し、発光領域で発生した光を散乱、回折させることにより、外部量子効率を向上させる方法が提案されている。例えば特許文献1には、サファイア基板上にn型窒化物半導体層、活性層、p型窒化物半導体層、透明電極を順に積層して成るGaN(窒化ガリウム)系LEDにおいて、フォトレジストをマスク材としてサファイア基板をドライエッチングすることにより、基板表面に多数の凸部を形成することが記載されている。
特許文献1によると、光の散乱、回折が起きる確率を高めるためには凸部の断面形状を台形状にすることが望ましく、さらには凸部のテーパ角(特許文献1では、凸部の上面と側面とのなす角度をテーパ角と称している。)が90°〜140°であることが望ましい。
特許文献1によると、光の散乱、回折が起きる確率を高めるためには凸部の断面形状を台形状にすることが望ましく、さらには凸部のテーパ角(特許文献1では、凸部の上面と側面とのなす角度をテーパ角と称している。)が90°〜140°であることが望ましい。
サファイア基板の表面にエッチングにより凸部を形成する場合にそのテーパ角を制御する方法として、サファイア基板に形成するレジストマスク(レジスト膜)のテーパ角を制御する方法がある。レジストマスクのテーパ角と凸部のテーパ角との間には相関があるからである。ところが、サファイア基板にレジストマスクを形成する工程と、サファイア基板をエッチングする工程が別の業者によって行われる場合がある。このような場合、エッチング加工業者には既にレジストマスクが形成されたサファイア基板が納品されるため、レジストマスクの形状を制御することが難しい。
本発明が解決しようとする課題は、レジスト膜の形状に関係なく凸部のテーパ形状を制御できるエッチング方法及びプラズマ処理装置を提供することである。
上記課題を解決するために成された第1発明は、凸部を有するサファイア基板の上に半導体層を設けて成る半導体発光素子に用いられる前記サファイア基板上に、エッチングにより前記凸部を形成する方法であって、表面にレジスト膜が形成されたサファイア基板を、前記レジスト膜をマスクとしてエッチングする工程を備え、前記エッチング工程では、エッチングガスに炭素系ガスを添加した混合ガスをプラズマ状態に励起して前記サファイア基板をエッチングすると共に、前記炭素系ガスの流量を調整することで前記凸部のテーパ形状を調整することを特徴としている。
この場合、前記炭素系ガスとしては、CH4、C2H2、C2H4、C2H6、C3H6、C3H8、C4H6、C4H8、C4H10、CHCl3、CHF3、CH2Cl2、CH2F2、CH3Cl、CH3F、CH3Br、CH3OH、C2H5OH、C2H2Cl2、C2H5Cl、C3H6Cl2のうちから選ばれる少なくとも一種のガスであることが好ましい。
また、上記課題を解決するために成された第2発明は、反応室と、この反応室内に配置され被処理基板が載置される支持台とを備え、エッチングガスをプラズマ状態に励起することにより前記被処理基板をエッチングするプラズマ処理装置であって、
前記反応室内に、プラズマにより炭素系ガスを発生する炭素系部材が収容されていることを特徴とする。
前記反応室内に、プラズマにより炭素系ガスを発生する炭素系部材が収容されていることを特徴とする。
また、第2発明においては、前記反応室材料の少なくとも一部を炭素系部材から構成することができる。
この場合、前記炭素系部材としては、炭化ケイ素であることが望ましい。
本発明は、エッチングガスに炭素系ガスを添加することによってフォトレジスト等の有機系マスクとサファイア基板との選択比を調整することができることを見出し、成されたものである。一般的に、サファイア基板のエッチングには塩素系ガスが用いられているが、塩素系ガスによるエッチングは、フォトレジスト等の有機系マスクとサファイア基板との選択比制御が難しく、エッチング加工形状を制御することが難しい。これに対して、エッチングガスに炭素系ガスを添加することで選択比を幅広く制御することができ、サファイア基板の凸部のテーパ形状を容易に制御することができる。
以下、本発明の一実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1は、窒化ガリウム系化合物半導体発光素子(GaN系半導体LED)の断面構成の一例を示す。GaN系半導体LED20は、サファイア基板21の上にn型GaN層22、GaN活性層23、p型GaN層24を積層して成る。前記GaN系半導体LED20では、外部量子効率を向上するために、エッチングによりサファイア基板21の表面に多数の凸部21aを形成した上で、n型GaN層22、GaN活性層23、p型GaN層24を積層している。
本実施の形態では、サファイア基板21に多数の凸部21aを形成するために後述するエッチング方法を用いた。
図1は、窒化ガリウム系化合物半導体発光素子(GaN系半導体LED)の断面構成の一例を示す。GaN系半導体LED20は、サファイア基板21の上にn型GaN層22、GaN活性層23、p型GaN層24を積層して成る。前記GaN系半導体LED20では、外部量子効率を向上するために、エッチングによりサファイア基板21の表面に多数の凸部21aを形成した上で、n型GaN層22、GaN活性層23、p型GaN層24を積層している。
本実施の形態では、サファイア基板21に多数の凸部21aを形成するために後述するエッチング方法を用いた。
図2は本実施形態に係るエッチング方法に用いたプラズマエッチング装置10の概略構成を示す。この装置は誘導結合型(ICP)であり、密閉された反応室11の中には平板状の下部電極12が、反応室11の上部(外部)には石英板14を介して励起コイル15が、それぞれ設けられている。励起コイル15は立体渦巻形(インバーテッド・トルネード形)のコイルであり、コイル中央から高周波電力を供給し、コイル外周の末端が接地されている。エッチング対象のサファイア基板21は直接或いは搬送用トレーを介して下部電極12に載置される。また、下部電極12は高周波電源13に接続されている。下部電極12にはサファイア基板を冷却するための冷却機構が内蔵されており、冷却制御部17によって制御される。
上記プラズマエッチング装置10を用いた本実施形態のエッチング方法は、次の工程から成る。まず、プラズマエッチング装置10の反応室11の下部電極12の上にレジスト膜が形成されたサファイア基板21を載置し、反応室11内の空気を排出して、反応室11内の圧力を減圧状態にする。
その後、反応室11にサファイア基板21をエッチングするためのエッチングガス等を供給し、反応室11内のガス圧力を調整する。そして、励起コイル15及び下部電極12に高出力の高周波電力を10分間供給することにより、反応ガスのプラズマ18を生成させる。このプラズマ18によってサファイア基板21のエッチングを行うことによりサファイア基板21の表面に多数の凸部21aを形成することができる。
図3はサファイア基板21に多数の凸部21aが形成されるまでの様子を模式的に示したものである。図3の(a)はレジスト膜31が形成されたサファイア基板21、(b)はエッチング後のサファイア基板21、(c)はレジスト膜を除去した後のサファイア基板を示す。図3に示すように、エッチング前のサファイア基板21には多数の円錐台状の凸部から成るレジスト膜31が形成されている(サファイア基板21上の凸部21aと区別するため、以下の説明ではレジスト膜31を構成する円錐台状の凸部をレジスト凸部とも言う)。
なお、本実施形態のエッチング方法には、サファイア基板21にレジスト膜31を形成する工程が含まれていても良い。すなわち、エッチング加工者自身がサファイア基板21にレジスト膜31を形成する場合、或いはレジスト膜31が予め形成されたサファイア基板21をエッチング加工業者が購入してエッチング加工を行う場合のいずれであって良い。
なお、本実施形態のエッチング方法には、サファイア基板21にレジスト膜31を形成する工程が含まれていても良い。すなわち、エッチング加工者自身がサファイア基板21にレジスト膜31を形成する場合、或いはレジスト膜31が予め形成されたサファイア基板21をエッチング加工業者が購入してエッチング加工を行う場合のいずれであって良い。
本実施形態のエッチング方法は、エッチング条件を最適化することにより、レジスト凸部の形状、すなわち、サファイア基板21の表面に対する円錐台状のレジスト凸部の側壁の角度に関係なく、凸部21aの側壁とサファイア基板21の表面とのなす角度を任意の角度に調整できるようにしたものである。本実施形態のエッチング方法では、プラズマエッチング装置10の反応室11の下部電極12の上に多数のレジスト凸部を有するサファイア基板21を載置した後、反応室11内の空気を排出して、反応室内の圧力を2×10-3Paとした。その後、反応室11にエッチングガスを所定の流量で供給し、反応室11内のガス圧力を調整した。そして、励起コイル15及び下部電極12に高周波電力を供給することにより、エッチングガスのプラズマ18を生成させる。このプラズマ18によりサファイア基板21のエッチングを行うことによりサファイア基板21の表面にレジスト凸部に対応して多数の凸部21aを形成することができる。
具体的なエッチング条件(エッチングガスの組成及び流量、反応室11内のガス圧力、高周波電力等)は凸部21aの大きさや密度等に応じて適宜選択されるが、特に、本実施形態ではエッチングガスとして炭素系ガスが添加された混合ガスを用いることにより、レジスト膜とサファイア基板の選択比を制御している。
以下に具体的な実施例について説明する。
以下に具体的な実施例について説明する。
エッチング対象となるサファイア基板として直径2インチの円板状の基板を用い、基板表面にレジストを塗布した後、リソグラフィ工程で所望のマスクパターンを転写してレジスト凸部(レジスト膜31)を形成した。レジスト凸部の高さは1.49μmであった。図4に示す形状のレジスト凸部を有するサファイア基板にエッチングを行い、エッチングガスにCH4ガスを添加した場合と添加しない場合とでエッチング後の凸部21aの形状を比較した。エッチング対象となるサファイア基板として一辺が10mmの正方形状のサンプル基板を用い、図5に示すように、下部電極12上に7枚の直径2インチの円板状のダミー基板を載置すると共に、ダミー基板のうち中央の1枚と周縁の1枚の間にサンプル基板を載置してエッチングを行った。実施例1のエッチング条件を図6に示す。エッチングガスにCH4ガスが添加されていない場合は、図6中のCH4の流量(2.0sccm)が「0」となる。
図7の表はエッチング後のエッチング深さ、エッチングレート、選択比、凸部の側壁の角度(テーパ角)を示す。
図7に示すように、エッチングガスにCH4ガスを添加した場合の方が、添加しなかった場合よりも選択比が大きく、サファイア基板21上の凸部21aの側壁の角度が大きくなった。また、凸部21aの厚み(エッチング深さ)はCH4ガスを添加した場合の方が小さかった。
図7に示すように、エッチングガスにCH4ガスを添加した場合の方が、添加しなかった場合よりも選択比が大きく、サファイア基板21上の凸部21aの側壁の角度が大きくなった。また、凸部21aの厚み(エッチング深さ)はCH4ガスを添加した場合の方が小さかった。
塩素と三塩化ホウ素の流量を2倍にし、かつ、エッチングガスに添加するCH4ガスの流量を0sccm、4sccm、8sccmに変化させた以外は実施例1と同じ方法でエッチングを行い、エッチング後の凸部21aの形状を比較した。図8に実施例2のエッチング条件を示す。
図9は実施例2のエッチング方法により得られたサファイア基板のSEM画像であり、(a)はエッチングガスにCH4を添加しなかった場合、(b)はCH4ガスを4sccm添加した場合、(c)はCH4ガスを8sccm添加した場合を示す。図10はCH4ガスの流量と選択比、凸部21aの角度、フォトレジストエッチングレート、および、サファイア基板のエッチングレートの関係を示すグラフである。図9及び図10に示すように、エッチングガスに添加するCH4ガスの流量が増えるに従い、選択比や凸部21aの角度が大きくなることが分かる。
図9は実施例2のエッチング方法により得られたサファイア基板のSEM画像であり、(a)はエッチングガスにCH4を添加しなかった場合、(b)はCH4ガスを4sccm添加した場合、(c)はCH4ガスを8sccm添加した場合を示す。図10はCH4ガスの流量と選択比、凸部21aの角度、フォトレジストエッチングレート、および、サファイア基板のエッチングレートの関係を示すグラフである。図9及び図10に示すように、エッチングガスに添加するCH4ガスの流量が増えるに従い、選択比や凸部21aの角度が大きくなることが分かる。
本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、例えば次のような変形が可能である。
エッチングガスにCH4ガスを添加する代わりに、プラズマエッチング装置の反応室内にプラズマにより炭素系ガスを発生する炭化ケイ素等の炭素系部材を収容しても良い。また、反応室の壁や天井部といった反応室材料の一部に炭素系部材を用いても良い。このような構成により、プラズマエッチング工程の際にエッチングガスにCH4ガスが含まれることになり、上記実施例と同様の作用効果が得られる。
上記実施例では、炭素系ガスとしてCH4ガスを用いたが、この他、C2H2、C2H4、C2H6、C3H6、C3H8、C4H6、C4H8、C4H10、CHCl3、CHF3、CH2Cl2、CH2F2、CH3Cl、CH3F、CH3Br、CH3OH、C2H5OH、C2H2Cl2、C2H5Cl、C3H6Cl2の何れか一種のガス、複数種のガスを組み合わせて用いても良い。
エッチングガスにCH4ガスを添加する代わりに、プラズマエッチング装置の反応室内にプラズマにより炭素系ガスを発生する炭化ケイ素等の炭素系部材を収容しても良い。また、反応室の壁や天井部といった反応室材料の一部に炭素系部材を用いても良い。このような構成により、プラズマエッチング工程の際にエッチングガスにCH4ガスが含まれることになり、上記実施例と同様の作用効果が得られる。
上記実施例では、炭素系ガスとしてCH4ガスを用いたが、この他、C2H2、C2H4、C2H6、C3H6、C3H8、C4H6、C4H8、C4H10、CHCl3、CHF3、CH2Cl2、CH2F2、CH3Cl、CH3F、CH3Br、CH3OH、C2H5OH、C2H2Cl2、C2H5Cl、C3H6Cl2の何れか一種のガス、複数種のガスを組み合わせて用いても良い。
また、上記実施の形態及び実施例では、複数の円錐台状のレジストマスクを有するサファイア基板をエッチングして、サファイア基板の表面に対する側壁の角度が90°未満の円錐台状の凸部を形成する場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、サファイア基板の表面に対して垂直な側壁を有する凸部を多数形成する場合にも適用できる。また、凸部は、円錐台状の他、角錐台状の凸部や細長く延びる畝状の凸部を多数形成する場合にも適用できる。
10…プラズマエッチング装置
11…反応室
12…下部電極(支持台)
15…励起コイル
18…プラズマ
21…サファイア基板
21a…凸部
31…レジスト膜
11…反応室
12…下部電極(支持台)
15…励起コイル
18…プラズマ
21…サファイア基板
21a…凸部
31…レジスト膜
Claims (5)
- 凸部を有するサファイア基板の上に半導体層を設けて成る半導体発光素子に用いられる前記サファイア基板上に、エッチングにより前記凸部を形成する方法であって、
表面にレジスト膜が形成されたサファイア基板を、前記レジスト膜をマスクとしてエッチングする工程を備え、
前記エッチング工程では、エッチングガスに炭素系ガスを添加した混合ガスをプラズマ状態に励起して前記サファイア基板をエッチングすると共に、前記炭素系ガスの流量を調整することで前記凸部のテーパ形状を調整することを特徴とするエッチング方法。 - 請求項1に記載のエッチング方法において、
前記炭素系ガスは、CH4、C2H2、C2H4、C2H6、C3H6、C3H8、C4H6、C4H8、C4H10、CHCl3、CHF3、CH2Cl2、CH2F2、CH3Cl、CH3F、CH3Br、CH3OH、C2H5OH、C2H2Cl2、C2H5Cl、C3H6Cl2のうちから選ばれる少なくとも一種のガスであることを特徴とするエッチング方法。 - 反応室と、この反応室内に配置され被処理基板が載置される支持台とを備え、エッチングガスをプラズマ状態に励起することにより前記被処理基板をエッチングするプラズマ処理装置において、
前記反応室内には、プラズマにより炭素系ガスを発生する炭素系部材が収容されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記反応室材料の少なくとも一部が炭素系部材から構成されていることを特徴とする請求項3に記載のプラズマ処理装置。
- 前記炭素系部材は炭化ケイ素であることを特徴とする請求項3又は4に記載のプラズマ処理装置。
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WO2013073417A1 (ja) | 2011-11-15 | 2013-05-23 | エルシード株式会社 | エッチング方法 |
JP2013254903A (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-19 | Panasonic Corp | 基板のプラズマ処理方法 |
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2009
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