JP2011133843A - 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 - Google Patents
反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011133843A JP2011133843A JP2010100664A JP2010100664A JP2011133843A JP 2011133843 A JP2011133843 A JP 2011133843A JP 2010100664 A JP2010100664 A JP 2010100664A JP 2010100664 A JP2010100664 A JP 2010100664A JP 2011133843 A JP2011133843 A JP 2011133843A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mmol
- concentration
- group concentration
- particles
- antireflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 77
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 58
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 39
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims abstract description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 44
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims description 21
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 18
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 14
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 11
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 claims description 9
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 claims description 9
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 3
- 125000002270 phosphoric acid ester group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 14
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 abstract 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 16
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 2
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGXHEYIJQQJGM-UHFFFAOYSA-N 2-[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propyl]butanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C BUGXHEYIJQQJGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000001046 glycoluril group Chemical class [H]C12N(*)C(=O)N(*)C1([H])N(*)C(=O)N2* 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- MFTPIWFEXJRWQY-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OP(O)(O)=O MFTPIWFEXJRWQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propoxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOUOSDUKXYHNEQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethanone;(1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1.C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BOUOSDUKXYHNEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-1,5-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCO)C=C1 LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMCCONIRBZIDTH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carboxylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 RMCCONIRBZIDTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHLIEYMSXLYEBR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phosphonooxyphenyl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1=CC=CC=C1OP(O)(O)=O CHLIEYMSXLYEBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNSGORPKHQFSCW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one;2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1.CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 YNSGORPKHQFSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYLCVRHQTJPCTN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-4-(2-methylprop-2-enoylamino)benzoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 JYLCVRHQTJPCTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LCANECIWPMDASZ-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethanol Chemical compound OCCN=C=O LCANECIWPMDASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOGCLLMDQOJKHB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxycarbonyl]phthalic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GOGCLLMDQOJKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWYIIZUTNNTNTO-UHFFFAOYSA-N C(=C)C1=CC=C(C[P])C=C1 Chemical compound C(=C)C1=CC=C(C[P])C=C1 XWYIIZUTNNTNTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIBQLZRYJYMHLS-UHFFFAOYSA-N CC=CC(=O)NC1=CC=C(C=C1)N(CC(=O)O)CC(=O)O Chemical compound CC=CC(=O)NC1=CC=C(C=C1)N(CC(=O)O)CC(=O)O RIBQLZRYJYMHLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100389975 Mus musculus Ezhip gene Proteins 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLFWPQHKIBEWBF-UHFFFAOYSA-N P(=O)(O)(O)O.C(C=C)(=O)C(C(C(O)(C(C=C)=O)C(C=C)=O)(C(O)(C(C=C)=O)C(C=C)=O)CO)OCC(CO)(CO)CO Chemical compound P(=O)(O)(O)O.C(C=C)(=O)C(C(C(O)(C(C=C)=O)C(C=C)=O)(C(O)(C(C=C)=O)C(C=C)=O)CO)OCC(CO)(CO)CO ZLFWPQHKIBEWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYQEPMUPCBSBK-UHFFFAOYSA-N [F].[SiH4] Chemical group [F].[SiH4] BSYQEPMUPCBSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N bis(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.O=C1CCCCC1 JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- FSPSELPMWGWDRY-UHFFFAOYSA-N m-Methylacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC(C)=C1 FSPSELPMWGWDRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明に係る反射防止用積層体は、基材上に、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物の硬化膜を有し、前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在していることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、
基材上に、
カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有するマトリックスと、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記マトリックス1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化膜を有し、
前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在していることを特徴とする。
適用例1の反射防止用積層体において、
前記マトリックス1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜10mmol/gであることができる。
適用例1の反射防止用積層体において、
前記マトリックス1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜5mmol/gであることができる。
本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、
基材上に、
カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物の硬化膜を有し、
前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在していることを特徴とする。
適用例4の反射防止用積層体において、
前記全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜10mmol/gであることができる。
適用例4の反射防止用積層体において、
前記全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜5mmol/gであることができる。
適用例1ないし適用例6のいずれか一例の反射防止用積層体において、
前記粒子は、中空シリカ粒子であることができる。
適用例1ないし適用例7のいずれか一例の反射防止用積層体において、
前記基材は、トリアセチルセルロース樹脂フィルムまたはポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムであることができる。
本発明に係る反射防止用積層体の製造方法の一態様は、
カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物を、基材上に塗布した後、硬化させる工程を含むことを特徴とする。
適用例9の反射防止用積層体の製造方法において、
前記粒子は、中空シリカ粒子であることができる。
適用例9または適用例10の反射防止用積層体の製造方法において、
前記基材は、トリアセチルセルロース樹脂フィルムまたはポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムであることができる。
本発明に係る硬化性組成物の一態様は、
カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、
全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gであることを特徴とする。
適用例12の硬化性組成物において、
前記全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜10mmol/gであることができる。
適用例12の硬化性組成物において、
前記全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜5mmol/gであることができる。
適用例12ないし適用例14のいずれか一例の硬化性組成物において、
前記粒子は、中空シリカ粒子であることができる。
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A1)カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、(B)屈折率が1.40以下である粒子と、を含有する。以下、本実施の形態に係る硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。なお、以下の記載において(A)ないし(D)の各材料を、それぞれ(A)成分ないし(D)成分と省略して記載することもある。
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物を有する。本実施の形態に係る(A)重合性化合物は、重合性官能基を有する化合物であり、(メタ)アクリロイル基またはビニル基を有する化合物であることが好ましい。さらに、(A)重合性化合物には(A1)カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物が含まれる。本実施の形態に係る硬化性組成物は、前記(A1)極性基を有する重合性化合物を含有していればよく、これ以外の極性基を有しない重合性化合物(以下、(A2)成分ともいう)を含有してもよい。前記(A1)極性基を有する重合性化合物の機能の一つとしては、硬化膜を形成する際に後述する(B)成分の偏在化を引き起こして、硬化性組成物の成膜性を高めることが挙げられる。
本実施の形態に係る硬化性組成物は、屈折率が1.40以下である粒子を含有する。かかる粒子が硬化膜の表面に偏在化することにより低屈折率層を形成し、硬化膜に反射防止膜としての機能を付与することができる。また、該粒子が硬化膜の表面に偏在化することで、硬化膜の表面の硬度を向上させたり、カールを小さくさせたりする効果も期待される。
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(C)重合開始剤を含有してもよい。このような(C)重合開始剤としては、例えば(A)成分として(メタ)アクリルエステル化合物および/またはビニル化合物を含有する場合には、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物(熱ラジカル重合開始剤)および放射線(光)照射により活性ラジカル種を発生させる化合物(放射線(光)ラジカル重合開始剤)等の汎用品を挙げることができる。これらの中でも、放射線(光)重合開始剤が好ましい。
本実施の形態に係る硬化性組成物は、塗膜の厚さを調節するために、(D)溶剤で希釈して用いることができる。例えば、本実施の形態に係る硬化性組成物を反射防止膜や被覆材として用いる場合の粘度は、通常0.1〜50,000mPa・秒/25℃であり、好ましくは0.5〜10,000mPa・秒/25℃である。
本実施の形態に係る硬化性組成物は、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、無機系充填材、有機系充填材、フィラー、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を含有することができる。なお、前記例示した粒子分散剤として、フッ素原子を含有する化合物および/またはシロキサン鎖を有する化合物を使用することで、中空シリカ粒子の偏在化を促進し、塗膜の屈折率を低下させることができる。
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物、(B)粒子、必要に応じて(C)重合開始剤、(D)溶媒、その他の添加剤をそれぞれ添加して、室温または加熱条件下で混合することにより調製することができる。具体的には、ミキサー、ニーダー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて調製することができる。但し、加熱条件下で混合する場合には、熱重合開始剤の分解温度以下で行うことが好ましい。
2.1.反射防止用積層体の製造方法
本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法は、(a)カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gの関係を満たす硬化性組成物を準備する工程(以下、「工程(a)」ともいう。)と、(b)前記硬化性組成物を基材に塗布した後、硬化させる工程(以下、「工程(b)」ともいう。)と、を含む。
工程(a)は、前述した硬化性組成物を準備する工程である。かかる硬化性組成物の構成や製造方法等は前述したとおりであるため、詳細な説明は省略するものとする。
工程(b)は、工程(a)で準備された硬化性組成物を基材に塗布した後、硬化させる工程である。
本実施の形態に係る反射防止用積層体は、前述した反射防止用積層体の製造方法によって製造されたものである。図1は、本実施の形態に係る反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。図1に示すように、本実施の形態に係る反射防止用積層体100は、基材10の上に前述した硬化性組成物を硬化させた硬化膜20が形成されており、前記硬化膜20のうち、基材10と接触した面側には粒子22が実質的に存在しないハードコート層24が形成され、基材10と接触した面とは反対の面側に粒子22が高密度に存在する低屈折率層26が形成されている。硬化膜20のうち、粒子以外の部分(以下、「マトリックス」ともいう)は、前記組成物の(B)成分以外が硬化することで得られ、マトリクス1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gとなることが好ましく、0.5mmol/g〜10mmol/gとなることがより好ましく、0.5mmol/g〜5mmol/gとなることがさらに好ましい。以下、本実施の形態に係る反射防止用積層体の各層について説明する。
本実施の形態に係る反射防止用積層体に用いられる基材10の種類は特に限定されるものではないが、例えば、トリアセチルセルロース樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、ガラス等が挙げられる。これらの中でも、トリアセチルセルロース樹脂またはポリエチレンテレフタレート樹脂からなる基材であることが好ましい。これらの基材を含む反射防止用積層体とすることにより、前述した硬化性組成物中に含まれる(A)成分が基材に引き寄せられやすくなる。これにより、基材と接触した面とは反対の面側に粒子22が高密度に存在する低屈折率層26を形成することができる。
ハードコート層24は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる二層構造を有する硬化膜20のうち、粒子22が実質的に存在しない層から構成される。
低屈折率層26は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる二層構造を有する硬化膜20のうち、粒子22が高密度に存在する層から構成される。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。
3.1.1.硬化性組成物の製造
紫外線を遮蔽した容器中において、中空シリカ粒子(商品名「JX−1009SIV」、20質量%メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成工業株式会社製)5質量部(固形分として1質量部)、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(商品名「アロニックスM−520」、東亜合成株式会社製)96質量部、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリホリノプロパン−1−オン(商品名「イルガキュア(登録商標)907」、チバジャパン株式会社製)3質量部、サイラプレーンFM0725(チッソ株式会社製)0.1質量部、さらにメチルイソブチルケトンを適量加えて室温で2時間撹拌することにより均一な溶液を得た。この溶液をアルミ皿に2g秤量後、175℃のホットプレート上で30分間乾燥させ、秤量した後固形分含量を求めたところ、50質量%であった。
前記「3.1.1.硬化性組成物の製造」で得られた溶液をトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(商品名「TDY−80UL」、富士フイルム株式会社製)上にバーコーターを用いて全体の硬化膜厚が約7μmとなるように塗布し、80℃で2分間乾燥後、窒素フロー下で高圧水銀灯(300mJ/cm2)を用いて硬化させた。なお、塗布は、ロール状に巻かれたフィルムの内側の面に塗膜を形成するように行った。
表2〜表3に示す成分を、表2〜表3に示す組成で配合したこと以外は、実施例1と同様にして硬化性組成物を製造し、硬化膜サンプルを得た。なお、重合性化合物の種類、商品名、極性基の種類、極性基濃度を表1にまとめておいた。
実施例および比較例で得られた硬化性組成物および硬化膜の特性を下記項目について評価した。その結果を表2〜表3に併せて示す。
得られた硬化膜の裏面を黒色スプレーで塗装し、分光反射率測定装置(大型試料室積分球付属装置150−09090を組み込んだ自記分光光度計U−3410、日立製作所株式会社製)により波長340〜700nmの範囲における反射率を基材側から測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準(100%)として、各波長における反射防止用積層体(反射防止膜)の反射率を測定し、そのうち波長550nmにおける光の反射率を表2〜表3に併せて示した。反射率は、3.0%未満であれば低反射性を有すると判断することができる。
得られた硬化膜をスチールウール(ボンスターNo.0000、日本スチールウール株式会社製)を学振型摩擦堅牢度試験機(AB−301、テスター産業株式会社製)に取り付け、硬化膜の表面を荷重200gの条件で10回繰り返し擦過し、当該硬化膜の表面における傷の発生の有無を以下の基準により目視で確認した。評価基準は、以下のとおりである。
AA:硬化膜に傷が発生しない。
A :硬化膜の剥離や傷の発生がほとんど認められないか、あるいは硬化膜にわずかな
細い傷が認められる。
B :硬化膜全面に筋状の傷が認められる。
C :硬化膜の剥離が生じる。
得られた硬化膜を「JIS K5600−5−4」に準拠し、ガラス基板上に固定させて評価した。
表2の結果から、全重合性化合物中の極性基濃度が前記の条件を満たす実施例1〜10の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜においては、反射率が3%未満となり反射防止性を有していることが分かった。また、耐スチールウール性の結果から耐擦傷性にも優れていることが分かった。
Claims (15)
- 基材上に、
カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有するマトリックスと、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記マトリックス1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化膜を有し、
前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在している、反射防止用積層体。 - 請求項1において、
前記マトリックス1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜10mmol/gである、反射防止用積層体。 - 請求項1において、
前記マトリックス1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜5mmol/gである、反射防止用積層体。 - 基材上に、
カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物の硬化膜を有し、
前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在している、反射防止用積層体。 - 請求項4において、
前記全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜10mmol/gである、反射防止用積層体。 - 請求項4において、
前記全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜5mmol/gである、反射防止用積層体。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか一項において、
前記粒子は、中空シリカ粒子である、反射防止用積層体。 - 請求項1ないし請求項7のいずれか一項において、
前記基材は、トリアセチルセルロース樹脂フィルムまたはポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムである、反射防止用積層体。 - カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物を、基材上に塗布した後、硬化させる工程を含む、反射防止用積層体の製造方法。
- 請求項9において、
前記粒子は、中空シリカ粒子である、反射防止用積層体の製造方法。 - 請求項9または請求項10において、
前記基材は、トリアセチルセルロース樹脂フィルムまたはポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムである、反射防止用積層体の製造方法。 - カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、
全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜15mmol/gである、硬化性組成物。 - 請求項12において、
前記全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜10mmol/gである、硬化性組成物。 - 請求項12において、
前記全重合性化合物1g中におけるカルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が0.5mmol/g〜5mmol/gである、硬化性組成物。 - 請求項12ないし請求項14のいずれか一項において、
前記粒子は、中空シリカ粒子である、硬化性組成物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010100664A JP4775603B2 (ja) | 2009-11-30 | 2010-04-26 | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 |
KR1020100114353A KR101184995B1 (ko) | 2009-11-30 | 2010-11-17 | 반사 방지용 적층체 및 그 제조 방법, 그리고 경화성 조성물 |
TW099140217A TW201127919A (en) | 2009-11-30 | 2010-11-22 | Reflection prevention laminate and production method thereof, and curable composition |
CN2010105707415A CN102152560A (zh) | 2009-11-30 | 2010-11-29 | 防反射用层合体及其制备方法、以及固化性组合物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009271394 | 2009-11-30 | ||
JP2009271394 | 2009-11-30 | ||
JP2010100664A JP4775603B2 (ja) | 2009-11-30 | 2010-04-26 | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011133843A true JP2011133843A (ja) | 2011-07-07 |
JP4775603B2 JP4775603B2 (ja) | 2011-09-21 |
Family
ID=44346598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010100664A Active JP4775603B2 (ja) | 2009-11-30 | 2010-04-26 | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4775603B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013134282A (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-08 | Konica Minolta Inc | ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法及び偏光板 |
JP2015087710A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
US9447288B2 (en) | 2011-09-29 | 2016-09-20 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective coating composition providing improved scratch resistance, anti-reflective film using the same, and manufacturing method thereof |
JP2022018582A (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-27 | 荒川化学工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化型コーティング剤、硬化物、及び積層体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008009347A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
JP2008162069A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Nippon Zeon Co Ltd | 反射防止積層体及びその製造方法 |
-
2010
- 2010-04-26 JP JP2010100664A patent/JP4775603B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008009347A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
JP2008162069A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Nippon Zeon Co Ltd | 反射防止積層体及びその製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9447288B2 (en) | 2011-09-29 | 2016-09-20 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective coating composition providing improved scratch resistance, anti-reflective film using the same, and manufacturing method thereof |
JP2013134282A (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-08 | Konica Minolta Inc | ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法及び偏光板 |
JP2015087710A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
JP2022018582A (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-27 | 荒川化学工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化型コーティング剤、硬化物、及び積層体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4775603B2 (ja) | 2011-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5027915B2 (ja) | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 | |
JP6300838B2 (ja) | プラスチックフィルム | |
JP6039460B2 (ja) | コーティング組成物およびコーティングフィルム | |
JP2011051340A (ja) | ハードコート形成用積層フィルム、ロールフィルム、及び、ハードコート形成用硬化性組成物 | |
JP2005161111A (ja) | ジルコニア粒子分散液、その製造方法及び光硬化性組成物 | |
JP2006231316A (ja) | 積層体の製造方法 | |
KR101268700B1 (ko) | 액상 경화성 조성물, 경화막 및 대전 방지용 적층체 | |
JP4899545B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物及びそれからなる硬化膜 | |
JP2012247606A (ja) | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 | |
JP4775603B2 (ja) | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 | |
JP2006306008A (ja) | 帯電防止用積層体 | |
JP2006206832A (ja) | 積層体の製造方法 | |
JP2021038386A (ja) | 活性エネルギー線硬化型防眩性ハードコート剤、硬化膜、及び積層フィルム | |
JP2013008025A (ja) | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 | |
JP2012159744A (ja) | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 | |
JP2004269644A (ja) | 硬化性組成物、その硬化物及び積層体 | |
JP2006257379A (ja) | 硬化性樹脂組成物、それからなる硬化膜及び積層体 | |
JP2012247681A (ja) | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 | |
JP4831377B2 (ja) | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 | |
KR101184995B1 (ko) | 반사 방지용 적층체 및 그 제조 방법, 그리고 경화성 조성물 | |
JP4982982B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物、それからなる硬化膜及び積層体 | |
JP2008111964A (ja) | 光学フィルムおよびその製造方法 | |
JP5247977B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物及びそれからなる硬化膜 | |
JP2010122267A (ja) | ハードコートフィルム、反射防止ハードコートフィルム、光学素子及び画像表示装置 | |
JP2012247667A (ja) | 反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110601 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110614 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4775603 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |