JP2011129881A - Template treatment method, program, computer storage medium, template treatment apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置に関する。 The present invention relates to a template processing method, a program, a computer storage medium, and a template processing apparatus for forming a release agent on a template on which a transfer pattern is formed.
例えば半導体デバイスの製造工程では、例えば半導体ウェハ(以下、「ウェハ」という。)にフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上に所定のレジストパターンを形成することが行われている。 For example, in a semiconductor device manufacturing process, for example, a photolithography process is performed on a semiconductor wafer (hereinafter referred to as “wafer”) to form a predetermined resist pattern on the wafer.
上述したレジストパターンを形成する際には、半導体デバイスのさらなる高集積化を図るため、当該レジストパターンの微細化が求められている。一般にフォトリソグラフィー処理における微細化の限界は、露光処理に用いる光の波長程度である。このため、従来より露光処理の光を短波長化することが進められている。しかしながら、露光光源の短波長化には技術的、コスト的な限界があり、光の短波長化を進める方法のみでは、例えば数ナノメートルオーダーの微細なレジストパターンを形成するのが困難な状況にある。 When the resist pattern described above is formed, the resist pattern is required to be miniaturized in order to achieve higher integration of the semiconductor device. In general, the limit of miniaturization in the photolithography process is about the wavelength of light used for the exposure process. For this reason, it has been advancing to shorten the wavelength of exposure light. However, there are technical and cost limitations to shortening the wavelength of the exposure light source, and it is difficult to form a fine resist pattern on the order of several nanometers, for example, only by the method of advancing the wavelength of light. is there.
そこで、近年、ウェハにフォトリソグラフィー処理を行う代わりに、いわゆるインプリントと呼ばれる方法を用いてウェハ上に微細なレジストパターンを形成することが提案されている。この方法は、表面に微細なパターンを有するテンプレート(モールドや型と呼ばれることもある。)をウェハ上に形成したレジスト表面に圧着させ、その後剥離し、当該レジスト表面に直接パターンの転写を行うものである(特許文献1)。 Therefore, in recent years, it has been proposed to form a fine resist pattern on a wafer by using a so-called imprint method instead of performing a photolithography process on the wafer. In this method, a template (sometimes called a mold or a mold) having a fine pattern on the surface is pressure-bonded to the resist surface formed on the wafer, then peeled off, and the pattern is directly transferred to the resist surface. (Patent Document 1).
上述のインプリント方法で用いられるテンプレートの表面には、テンプレートをレジストから剥離し易くするため、通常、レジストに対して撥液性を有する離型剤が成膜されている。 On the surface of the template used in the above-described imprinting method, a release agent having liquid repellency with respect to the resist is usually formed in order to make the template easy to peel from the resist.
テンプレートの表面に離型剤を成膜する際には、先ず、テンプレートの表面を洗浄した後、当該テンプレートの表面に離型剤を塗布する。このとき、テンプレート上の離型剤の接触角は、例えば77度〜80度になっている。次に、成膜される離型剤が所定の接触角、例えば110度程度を有してレジストに対する撥液性機能を発揮できるようにするため、離型剤をテンプレートの表面に密着させる。具体的には、離型剤とテンプレートの表面を化学反応させて、離型剤中に含まれる成分のうち、レジストに対して撥液性を有する成分、例えばフッ化物成分をテンプレートの表面に吸着させる。その後、離型剤の未反応部を除去して、テンプレートの表面に所定の膜厚の離型剤が成膜される。なお、離型剤の未反応部とは、離型剤がテンプレートの表面と化学反応して密着する部分以外をいう。 When forming a release agent on the surface of the template, first, after cleaning the surface of the template, the release agent is applied to the surface of the template. At this time, the contact angle of the release agent on the template is, for example, 77 degrees to 80 degrees. Next, the release agent is adhered to the surface of the template so that the release agent to be formed has a predetermined contact angle, for example, about 110 degrees and can exhibit a liquid repellent function with respect to the resist. Specifically, by chemically reacting the mold release agent and the template surface, among the components contained in the mold release agent, a component having liquid repellency to the resist, such as a fluoride component, is adsorbed on the template surface. Let Thereafter, the unreacted portion of the release agent is removed, and a release agent having a predetermined film thickness is formed on the surface of the template. The unreacted part of the release agent means a part other than the part where the release agent is chemically reacted with the surface of the template.
しかしながら、上述のように離型剤を成膜する場合、テンプレート上の離型剤をテンプレートの表面に密着させるのに時間がかかる。例えば常温雰囲気下でテンプレートを放置した場合、離型剤をテンプレートに密着させるのに約24時間かかってしまう。 However, when the release agent is formed as described above, it takes time to bring the release agent on the template into close contact with the surface of the template. For example, when the template is left in a room temperature atmosphere, it takes about 24 hours to bring the release agent into close contact with the template.
そこで、発明者らは、離型剤とテンプレートの表面との化学反応を促進させるため、テンプレート上の離型剤を加熱して焼成することを試みた。この場合、離型剤をテンプレートに密着させる時間を短縮することができた。例えば離型剤を60℃に加熱した場合、離型剤をテンプレートに密着させるのに必要な時間は約1時間であり、また離型剤を200℃に加熱した場合、離型剤をテンプレートに密着させるのに必要な時間は約3分であった。 Therefore, the inventors have attempted to heat and bake the release agent on the template in order to promote the chemical reaction between the release agent and the surface of the template. In this case, the time for bringing the release agent into close contact with the template could be shortened. For example, when the mold release agent is heated to 60 ° C., the time required to make the mold release agent adhere to the template is about 1 hour. When the mold release agent is heated to 200 ° C., the mold release agent is used as the template. The time required for adhesion was about 3 minutes.
しかしながら、この場合、一旦加熱したテンプレートを冷却するのに時間がかかる。したがって、テンプレート処理のスループットを向上させるには至らなかった。また、離型剤を加熱すると当該離型剤は熱膨張するため、テンプレートの表面に離型剤を所定の膜厚で成膜することができない。そして、このように離型剤が成膜されたテンプレートを用いてインプリント処理を行った場合、ウェハ上に数ナノメートルオーダーの微細なレジストパターンを形成することは困難であった。 However, in this case, it takes time to cool the template once heated. Therefore, the throughput of template processing has not been improved. In addition, when the release agent is heated, the release agent expands thermally, so that the release agent cannot be formed on the surface of the template with a predetermined film thickness. When the imprint process is performed using the template on which the release agent is formed in this way, it is difficult to form a fine resist pattern on the order of several nanometers on the wafer.
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させることを目的とする。 The present invention has been made in view of this point, and an object of the present invention is to improve the throughput of template processing while appropriately forming a release agent on the surface of the template.
前記の目的を達成するため、本発明は、転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理方法であって、離型剤槽内に貯留された離型剤中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる離型剤処理工程と、その後、アルコール槽内に貯留された液体状のアルコール中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、又は気体状若しくはミスト状のアルコール中に前記複数のテンプレートを晒し、当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール処理工程と、を有することを特徴としている。 In order to achieve the above object, the present invention provides a template processing method for forming a release agent on a template on which a transfer pattern is formed, and a plurality of release agents stored in a release agent tank. A mold release agent treatment step in which the template is immersed and a mold release agent is attached to the surface of the template, and then the plurality of templates are immersed in a liquid alcohol stored in an alcohol tank, or in a gaseous state. Or it has the alcohol processing process which exposes the said several template in mist-like alcohol, and improves the adhesiveness of the surface of the said template and the said mold release agent, It is characterized by the above-mentioned.
発明者らが調べたところ、離型剤が付着したテンプレートを液体状のアルコール中に浸漬させる、又は離型剤が付着したテンプレートを気体状若しくはミスト状のアルコール中に晒すと、このアルコールによってテンプレートの表面と離型剤との化学反応が促進され、当該テンプレートの表面と離型剤との密着性が向上することが分かった。すなわち、アルコールによってテンプレートの表面に離型剤を短時間で密着させることができ、テンプレート上に成膜される離型剤の接触角を所定の角度にして、当該離型剤の離型機能を発揮させることができる。このように短時間で離型剤をテンプレートの表面に密着させることができるので、テンプレート処理全体のスループットを向上させることができる。しかも、この場合、従来のように離型剤を加熱する必要がないため、離型剤が熱膨張することもない。したがって、テンプレートの表面に離型剤を所定の膜厚で適切に成膜することができる。また、本発明によれば、複数のテンプレートを一度に処理するため、上述したテンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。 As a result of investigations by the inventors, when a template with a release agent attached is immersed in a liquid alcohol, or a template with a release agent attached is exposed to a gaseous or mist-like alcohol, the template is formed by the alcohol. It was found that the chemical reaction between the surface of the mold and the release agent was promoted, and the adhesion between the template surface and the release agent was improved. That is, the release agent can be brought into close contact with the template surface with alcohol in a short time, and the release angle of the release agent formed on the template is set to a predetermined angle. It can be demonstrated. Thus, the release agent can be brought into close contact with the surface of the template in a short time, so that the throughput of the entire template processing can be improved. In addition, in this case, since it is not necessary to heat the release agent as in the prior art, the release agent does not thermally expand. Therefore, the release agent can be appropriately formed on the surface of the template with a predetermined film thickness. Further, according to the present invention, since a plurality of templates are processed at a time, the throughput of the template processing described above can be further improved.
前記アルコール処理工程において、前記液体状のアルコール、気体状のアルコール又はミスト状のアルコールによって前記テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させた後、当該液体状のアルコール、気体状のアルコール又はミスト状のアルコールによって前記テンプレート上の離型剤の未反応部を除去してもよい。なお、離型剤の未反応部とは、離型剤がテンプレートの表面と化学反応して密着する部分以外をいう。 In the alcohol treatment step, after improving the adhesion between the surface of the template and the release agent with the liquid alcohol, gaseous alcohol or mist alcohol, the liquid alcohol, gaseous alcohol You may remove the unreacted part of the mold release agent on the said template with alcohol or mist-like alcohol. The unreacted part of the release agent means a part other than the part where the release agent is chemically reacted with the surface of the template.
前記離型剤処理工程において、前記複数のテンプレートを前記離型剤槽内の離型剤中に浸漬させた後、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けて、当該テンプレート上の離型剤を乾燥させ、前記アルコール処理工程において、前記複数のテンプレートを前記アルコール槽内の液体状のアルコール中に浸漬させた後、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けて、当該テンプレート上の液体状のアルコールを除去してもよい。 In the release agent treatment step, after immersing the plurality of templates in the release agent in the release agent tank, gas is blown to the plurality of templates to dry the release agent on the template. In the alcohol treatment step, after immersing the plurality of templates in liquid alcohol in the alcohol tank, gas is blown onto the plurality of templates to remove the liquid alcohol on the template. Also good.
前記テンプレート処理方法は、前記アルコール処理工程後に、リンス液槽に貯留されたリンス液中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、前記テンプレート上の離型剤の未反応部を除去するリンス工程を有していてもよい。 The template processing method includes a rinsing step of immersing the plurality of templates in a rinsing liquid stored in a rinsing liquid tank and removing an unreacted portion of the release agent on the template after the alcohol treatment step. It may be.
前記テンプレート処理方法は、前記離型剤処理工程前に、洗浄液槽に貯留された洗浄液中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面を洗浄する洗浄工程を有していてもよい。 The template processing method may include a cleaning step of immersing the plurality of templates in a cleaning liquid stored in a cleaning liquid tank and cleaning the surface of the template before the releasing agent processing step.
別な観点による本発明によれば、前記テンプレート処理方法をテンプレート処理装置によって実行させるために、当該テンプレート処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a program that operates on a computer of a control unit that controls the template processing apparatus in order to cause the template processing apparatus to execute the template processing method.
また別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。 According to another aspect of the present invention, a readable computer storage medium storing the program is provided.
さらに別な観点による本発明は、転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理装置であって、複数のテンプレートを保持して搬送する搬送アームと、離型剤を貯留し、前記複数のテンプレートを前記離型剤中に浸漬させて当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる離型剤槽と、前記離型剤槽の下流側に設けられ、液体状のアルコールを貯留し、前記複数のテンプレートを前記液体状のアルコール中に浸漬させて当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール槽、又は前記離型剤槽の下流側に設けられ、気体状若しくはミスト状のアルコールを供給し、前記複数のテンプレートを前記気体状若しくはミスト状のアルコール中に晒して当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール供給部を備えたアルコール処理ユニットと、を有することを特徴としている。 According to another aspect of the present invention, there is provided a template processing apparatus for depositing a release agent on a template on which a transfer pattern is formed, the transfer arm holding and transferring a plurality of templates, and storing the release agent. A mold release agent tank that immerses the plurality of templates in the mold release agent and attaches the mold release agent to the surface of the template; and a liquid alcohol provided downstream of the mold release agent tank. Storing, provided in a downstream of the release tank, an alcohol tank that improves the adhesion between the surface of the template and the release agent by immersing the plurality of templates in the liquid alcohol, A gaseous or mist-like alcohol is supplied, and the plurality of templates are exposed to the gaseous or mist-like alcohol so that the surface of the template and the mold release agent are tightly sealed. It is characterized by having, an alcohol processing unit with an alcohol supply unit to improve sexual.
前記離型剤槽の上方には、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けるガスノズルが設けられ、前記アルコール槽の上方には、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けるガスノズルが設けられていてもよい。 A gas nozzle for blowing gas to the plurality of templates may be provided above the release agent tank, and a gas nozzle for blowing gas to the plurality of templates may be provided above the alcohol tank.
前記アルコール処理ユニットの下流側に設けられ、リンス液を貯留し、前記複数のテンプレートを前記リンス液中に浸漬させて前記テンプレートの上の離型剤の未反応部を除去するリンス液槽を有していてもよい。 A rinsing liquid tank is provided on the downstream side of the alcohol treatment unit, stores a rinsing liquid, and immerses the plurality of templates in the rinsing liquid to remove unreacted portions of the release agent on the template. You may do it.
前記テンプレート処理装置は、前記離型剤槽の上流側に設けられ、洗浄液を貯留し、前記複数のテンプレートを前記洗浄液中に浸漬させて前記テンプレートの表面を洗浄する洗浄液槽を有していてもよい。 The template processing apparatus may include a cleaning liquid tank that is provided upstream of the release agent tank, stores a cleaning liquid, and immerses the plurality of templates in the cleaning liquid to clean the surface of the template. Good.
本発明によれば、テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the throughput of template processing can be improved, forming a mold release agent into the surface of a template appropriately.
以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態にかかるテンプレート処理装置1の構成の概略を示す平面図である。図2は、テンプレート処理装置1の構成の概略を示す側面図である。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view schematically showing the configuration of the
本実施の形態のテンプレート処理装置1では、図3に示すように直方体形状を有し、表面に所定の転写パターンPが形成されたテンプレートTが処理される。なお、テンプレートTには、可視光、近紫外光、紫外線などの光を透過可能な透明材料、例えばガラスが用いられる。
In the
テンプレート処理装置1は、テンプレートTの搬入、テンプレートTの処理、テンプレートTの搬出をバッチ式に一貫して行うように構成されている。このテンプレート処理装置1は、図1に示すように複数、例えば5枚のテンプレートTをキャリア単位で外部からテンプレート処理装置1へ搬入し、キャリアCから処理前のテンプレートTを取り出す搬入ステーション2と、テンプレートTに所定の処理を施す複数の処理ユニットを備えた処理ステーション3と、処理後のテンプレートTをキャリアC内に収納し、テンプレートTをキャリア単位でテンプレート処理装置1から外部へ搬出するテンプレート搬出ステーション4とを一体に接続した構成を有している。なお、搬入ステーション2と搬出ステーション4とを一体化して、テンプレートTの搬入と搬出の両方を行う搬入出ステーションを設けてもよい。
The
搬入ステーション2には、キャリアCを載置するキャリア載置台10と、キャリアCから処理前のテンプレートTを取り出すローダ11と、キャリア載置台10からローダ11にキャリアCを移送する移送ユニット12とが設けられている。ローダ11は、キャリア載置台10の下流側、すなわちY方向正方向側(図1中の右方向側)に配置されている。また、移送ユニット12は、キャリア載置台10及びローダ11のX方向正方向側(図1中の上方向側)に配置されている。
The
キャリア載置台10の上面には、開口部13がX方向(図1中の上下方向)に延伸して形成されている。キャリアCの下面周縁が開口部13の周縁部に載置されて、複数のキャリアCがキャリア載置台10上の所定の位置に載置されるようになっている。キャリア載置台10の内部には、キャリア搬送ユニット(図示せず)が設けられている。このキャリア搬送ユニットによって、キャリアCは開口部13に沿って移動可能である。またキャリアCは、キャリア搬送ユニットによって鉛直周り(θ方向)に回転自在であり、かつ昇降自在である。キャリア載置台10上のキャリアCには、複数、例えば5枚のテンプレートTが起立した状態の垂直姿勢で並列に収納されている。なお、搬入ステーション2には、例えばキャリアCを90度回動して、当該キャリアC内のテンプレートTの姿勢を水平姿勢から垂直姿勢に変換する他のキャリア載置台が設けられていてもよい。
An
ローダ11には、キャリアC内の複数のテンプレートTを取り出して保持する保持部14が設けられている。保持部14は、その下方に設けられた昇降機構(図示せず)によって昇降自在に構成されている。また保持部14には、テンプレートTを挿入して保持する保持溝15が所定の間隔で例えば5箇所に形成されている。この保持溝15の間隔は、後述する搬送アーム50の保持溝53の間隔と同一である。したがって、搬送アーム50が複数のテンプレートTを適切に保持できるように、保持部14は複数のテンプレートTを垂直姿勢で整列させることができる。
The
移送ユニット12は、接近、離隔自在かつ伸縮自在に構成された一対のアームを備えた移送アーム16を有している。移送アーム16は、一対のアームでキャリアCを保持して移送することができる。移送アーム16は、Y方向(図1中の左右方向)に延伸するレール17に沿って移動可能であり、かつ昇降自在に構成されている。
The
また、搬出ステーション4も搬入ステーション2と同様の構成を有している。すなわち、搬出ステーション4には、キャリアCを載置するキャリア載置台20と、処理後のテンプレートTをキャリアCに収納するアンローダ21と、アンローダ21からキャリア載置台20にキャリアCを移送する移送ユニット22とが設けられている。アンローダ21は、キャリア載置台20の上流側、すなわちY方向負方向側に配置されている。また、移送ユニット22は、アンローダ20及びキャリア載置台のX方向正方向側に配置されている。なお、これらキャリア載置台20、アンローダ21、移送ユニット22の構成は、それぞれ搬入ステーション2のキャリア載置台10、ローダ11、移送ユニット12の構成と同様であるので説明を省略する。
Further, the carry-out
処理ステーション3には、上流側から順に、すなわち搬入ステーション2側から順に、テンプレートTの表面を洗浄する洗浄ユニット30、31、テンプレートTの表面を離型剤処理する離型剤処理ユニット32、テンプレートTの表面をアルコール処理するアルコール処理ユニット33が一列に配置されている。なお、一般的な洗浄プロセスに従い、洗浄ユニット30では酸洗浄が行われ、洗浄ユニット31ではリンス洗浄が行われる。
The
さらに、これら洗浄ユニット30、31、離型剤処理ユニット32、アルコール処理ユニット33のX方向負方向側には、複数のテンプレートTを保持して搬送する搬送ユニット34が設けられている。搬送ユニット34は、図2に示すようにロード11とアンロード21との間でY方向(図2中の左右方向)に延伸するレール35に沿って移動することができる。すなわち、搬送ユニット34は、ロード11、各処理ユニット30〜33、アンロード21に対して複数のテンプレートTを搬送することができる。なお、図示の例においてレール35は、ロード11、各処理ユニット30〜33、アンロード21の側面に設けられているが、例えばテンプレート処理装置1の底面に設けられていてもよい。
Further, a
ローダ11と洗浄ユニット30の間には、図1に示すように開閉自在のシャッタ40が設けられている。同様に洗浄ユニット30、31の間、洗浄ユニット31と離型剤処理ユニット32の間、離型剤処理ユニット32とアルコール処理ユニット33の間、アルコール処理ユニット33とアンローダ21との間にもそれぞれシャッタ40が設けられている。シャッタ40は、各処理ユニット30〜33内の雰囲気を遮断することができる。
As shown in FIG. 1, a
次に、搬送ユニット34の構成について説明する。搬送ユニット34は、図4及び図5に示すようにテンプレートTを保持する搬送アーム50を有している。搬送アーム50は、接近、離隔自在かつ伸縮自在に構成された一対のアーム51、51と、アーム51、51を支持する支持部材52を有している。支持部材52は屈曲し、その下端部においてアーム51、51を支持している。アーム51には、テンプレートTを挿入して保持する保持溝53が形成されている。保持溝51は所定の間隔で例えば5箇所に形成され、搬送アーム50は複数、例えば5枚のテンプレートTを垂直姿勢で保持することができる。なお、この保持溝51の所定の間隔は、上述した通りロード11及びアンロード21の保持部14に形成された保持溝15の間隔と同一である。
Next, the configuration of the
搬送アーム50の基端部には、搬送アーム50を支持する支持部54が設けられている。支持部54の下方には、シャフト55を介して移動機構56が設けられている。この移動機構56によって、搬送アーム50は昇降できる。また、移動機構56はレール35に取り付けられ、搬送ユニット34はレール35に沿って移動できるようになっている。
A
次に、処理ステーション3の各処理ユニット30〜31の構成について説明する。洗浄ユニット30は、図6に示すように内部に洗浄液を貯留する洗浄液槽60を有している。洗浄液槽60は、その上面が開口し、テンプレートTを収容するのに十分な大きさを備えた略直方体の形状を有している。したがって、洗浄液槽60は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTを洗浄液中に浸漬させて、テンプレートTの表面の有機汚染物やパーティクル等の不純物を除去し、当該テンプレートTの表面を洗浄することができる。なお、洗浄液としては、例えば硫酸過酸化水素水が用いられる。
Next, the configuration of each
洗浄液槽60の底面には、洗浄液槽60内に洗浄液を供給する給液管61が接続されている。給液管61は、洗浄液を供給する洗浄液供給源62に連通している。給液管61には、洗浄液の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群63が設けられている。また、洗浄液槽60の底面には、バルブ64を介して洗浄液槽60内の洗浄液を排出する排液管65が接続されている。バルブ64は、排液管65から排出される洗浄液の排液量を調節することができる。
A
洗浄液槽60の上方には、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面に、例えば窒素等の不活性ガスや乾燥空気などのガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。このガスノズル70から吹き付けられるガスにより、洗浄液槽60で洗浄されたテンプレートTの表面を乾燥させることができる。ガスノズル70には、ガス供給源71に連通する給気管72が接続されている。給気管72には、レジスト液の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群73が設けられている。
Above the cleaning
洗浄ユニット30の側面には、シャッタ40を閉じることによって形成される洗浄ユニット30内の室内雰囲気を排気する排気管74が接続されている。排気管74には、排気量を調節するバルブ75が設けられている。なお、排気管74は、搬送アーム50に対向する洗浄ユニット30の側面に設けられてもよいし、シャッタ40に設けられてもよい。
An
他の処理ユニット31〜33も、上述した洗浄ユニット30と同様の構成を有している。洗浄ユニット31は、洗浄ユニット30における洗浄液槽60に代えて、図1に示すように内部に純水を貯留する純水槽80を有している。純水槽80は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTを純水中に浸漬させて、テンプレートTの表面をリンス洗浄することができる。なお、純水槽80の構成は上述した洗浄槽60の構成と同様であるので説明を省略する。また、洗浄ユニット31のその他の構成についても、上述した洗浄ユニット30の構成と同様である。例えば純水槽80の上方にも、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面にガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。
The
離型剤処理ユニット32は、洗浄ユニット30における洗浄槽60に代えて、内部に液体状の離型剤を貯留する離型剤槽81を有している。離型剤槽81は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTを離型剤中に浸漬させて、テンプレートTの表面に離型剤を付着させることができる。なお、離型剤槽81の構成は、上述した洗浄槽60の構成と同様であるので説明を省略する。また、離型剤処理ユニット32のその他の構成についても、上述した洗浄ユニット30の構成と同様である。例えば離型剤槽81の上方にも、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面にガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。なお、離型剤の材料には、例えばウェハ上に形成され、テンプレートTの転写パターンPが転写されるレジスト膜に対して撥液性を有する材料、例えばフッ素炭素系化合物等が用いられる。
The release
アルコール処理ユニット33は、洗浄ユニット30における洗浄槽60に代えて、内部に常温で液体状のアルコール、例えばエタノールを貯留するアルコール槽82を有している。アルコール槽82は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTを液体状のアルコール中に浸漬させて、テンプレートTの表面と離型剤の密着性を向上させることができる。なお、アルコール槽82の構成は、上述した洗浄槽60の構成と同様であるので説明を省略する。また、アルコール処理ユニット33のその他の構成についても、上述した洗浄ユニット30の構成と同様である。例えばアルコール槽82の上方にも、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面にガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。なお、アルコールはアルコール類であればよく、エタノール以外の他のアルコールを用いてもよい。例えばメタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノールを用いてもよく、あるいはこれらのアルコールの混合物を用いてもよい。また、アルコールの濃度は特に限定されないが、100%であることが好ましい。さらに、本実施の形態では常温のアルコールを用いているが、アルコールが結露するのを抑制するため、例えば70℃以下に加熱したアルコールを用いてもよい。
The
以上のテンプレート処理装置1には、図1に示すように制御部100が設けられている。制御部100は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部(図示せず)を有している。プログラム格納部には、搬入ステーション2と処理ステーション3との間のテンプレートTの搬送や、処理ステーション3と搬出ステーション4との間のテンプレートTの搬送、処理ステーション3における駆動系の動作などを制御して、テンプレート処理装置1における後述するテンプレート処理を実行するプログラムが格納されている。なお、このプログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御部100にインストールされたものであってもよい。
The
本実施の形態にかかるテンプレート処理装置1は以上のように構成されている。次に、そのテンプレート処理装置1で行われるテンプレート処理について説明する。図7は、このテンプレート処理の主な処理フローを示し、図8は、各工程におけるテンプレートTの状態を示している。
The
先ず、複数、例えば5枚のテンプレートTを収納したキャリアCがテンプレート処理装置1内に搬入される(図7の工程A1)。搬入されたキャリアCは、キャリア載置台10上の所定の位置に載置される。そして、キャリア載置台10の内部に設けられたキャリア搬送ユニットにより、キャリアCを開口部13に沿って移送ユニット12側に移動させる。その後、キャリアCは、移送ユニット12の移送アーム16に保持され、キャリア載置台10からローダ11に移送される。ローダ11では、キャリアCから複数のテンプレートTが取り出され、保持部14に保持される。このとき、各テンプレートTは保持部14に形成された保持溝15に挿入されて保持される。その後、保持部14に整列保持された複数のテンプレートTは、搬送ユニット34の搬送アーム50に受け渡され保持される。
First, a plurality of carriers C containing, for example, five templates T are carried into the template processing apparatus 1 (step A1 in FIG. 7). The carried carrier C is placed at a predetermined position on the carrier placing table 10. Then, the carrier C is moved along the
その後、搬送ユニット34によって、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTは洗浄ユニット30に搬送される。複数のテンプレートTが洗浄液槽60の上方まで搬送されると、洗浄ユニット30の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、洗浄液槽60内に貯留された洗浄液中に複数のテンプレートTを浸漬させる。この洗浄液によって、各テンプレートTの表面の有機汚染物やパーティクル等の不純物が除去され、図8(a)に示すようにテンプレートTの表面が洗浄される(図7の工程A2)。その後、搬送アーム50を洗浄液槽60の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを吹き付け、各テンプレートTの表面を乾燥させる。
Thereafter, the plurality of templates T held on the
その後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTは洗浄ユニット31に搬送される。複数のテンプレートTが純水槽80の上方まで搬送されると、洗浄ユニット31の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、純水槽80内に貯留された純水中に複数のテンプレートTを浸漬させる。この純水によって、各テンプレートTの表面がリンス処理される。その後、搬送アーム50を純水槽80の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを吹き付け、各テンプレートTの表面を乾燥させる。
Thereafter, the
その後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTは離型剤処理ユニット32に搬送される。複数のテンプレートTが離型剤槽81の上方まで搬送されると、離型剤処理ユニット32の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、離型剤槽81内に貯留された離型剤中に複数のテンプレートTを例えば10秒間浸漬させる(図7の工程A3)。そうすると、図8(b)に示すようにテンプレートTの表面に離型剤Sが付着する。その後、搬送アーム50離型剤槽81の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを例えば20秒間吹き付け、各テンプレートT上の離型剤Sを乾燥させる(図7の工程A4)。
Thereafter, the
その後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTはアルコール処理ユニット33に搬送される。複数のテンプレートTがアルコール槽82の上方まで搬送されると、アルコール処理ユニット33の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、アルコール槽82内に貯留された液体状のアルコール中に複数のテンプレートTを例えば10秒間浸漬させる(図7の工程A5)。このアルコールによって、図8(c)に示すように離型剤SがテンプレートTの表面と強固且つ密に化学反応し、当該テンプレートTの表面に離型剤Sが密着する。また、このようにテンプレートTの表面に離型剤Sが密着した後、さらにアルコール槽82内のアルコールによって離型剤Sの未反応部のみ、すなわち離型剤SがテンプレートTの表面と化学反応して当該表面と密着する部分以外のみが除去される。このとき、テンプレートTの表面に離型剤Sが密着しているので、テンプレートTの表面から所定の距離の離型剤Sが剥離することはない。また、テンプレートT上の離型剤Sの接触角は所定の角度、例えば108度になっており、離型剤Sはレジスト膜に対して十分な撥液性を有し、その離型機能を発揮することができる。こうして、図8(d)に示すようにテンプレートT上に転写パターンPに沿った離型剤Sが所定の膜厚で成膜される。その後、搬送アーム50をアルコール槽82の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを例えば20秒間吹き付け、各テンプレートT上のアルコールを乾燥させて除去する(図7の工程A6)。
Thereafter, the
その後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTはアンローダ21に搬送される。アンローダ21では、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTが保持部14に受け渡される。このとき、各テンプレートTは保持部14に形成された保持溝15に挿入されて保持される。続いて、アンローダ21に予め用意しておいたキャリアC内に、複数のテンプレートTが収納される。その後、キャリアCは、移送ユニット22の移送アーム16に保持され、アンローダ21からキャリア載置台20に移送される。そして、キャリアCがキャリア載置台20の所定の位置に載置されると、キャリア載置台20の内部に設けられたキャリア搬送ユニットにより、キャリアCを開口部13に沿って移送ユニット22と反対側に移動させる。その後、キャリアCはテンプレート処理装置1外に搬出される(図7の工程A7)。こうしてテンプレート処理装置1における一連のテンプレート処理が終了し、テンプレートTの表面に、転写パターンPの形状に沿った離型剤Sが所定の膜厚で成膜される。
Thereafter, the
なお、一連のテンプレート処理の終了後、離型剤Sが成膜されたテンプレートTは、例えばテンプレート処理装置1からインプリントユニット(図示せず)に搬送される。そして、インプリントユニットにおいてテンプレートTの転写パターンPがウェハ上のレジスト膜に転写される。このとき、離型剤Sによってウェハ上のレジストがテンプレートTの表面に付着することがない。したがって、ウェハ上のレジスト膜に所定のパターンを適切に形成することができる。
In addition, after completion | finish of a series of template processes, the template T in which the mold release agent S was formed into a film is conveyed from the
以上の実施の形態によれば、工程A5において離型剤Sが付着したテンプレートTを液体状のアルコール中に浸漬させているので、テンプレートTの表面と離型剤Sとの化学反応が促進され、当該テンプレートTの表面と離型剤Sの密着性が向上する。すなわち、テンプレートTの表面に離型剤Sを短時間で密着させることができる。これによって、工程A1〜工程A7のテンプレート処理のスループットを向上させることができる。 According to the above embodiment, since the template T to which the release agent S adheres in step A5 is immersed in liquid alcohol, the chemical reaction between the surface of the template T and the release agent S is promoted. The adhesion between the surface of the template T and the release agent S is improved. That is, the release agent S can be brought into close contact with the surface of the template T in a short time. Thereby, the throughput of the template process of process A1-process A7 can be improved.
また、工程A5においてアルコールによってテンプレートTの表面に離型剤Sを密着させた後、さらにこのアルコールによって離型剤Sの未反応部分のみが除去される。このようにテンプレートTの表面と離型剤Sとの密着と、離型剤Sの未反応部分の除去を同じ工程で行っているので、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。 In Step A5, after the release agent S is brought into close contact with the surface of the template T with alcohol, only the unreacted portion of the release agent S is further removed with this alcohol. As described above, since the adhesion between the surface of the template T and the release agent S and the removal of the unreacted portion of the release agent S are performed in the same step, the throughput of the template processing can be further improved.
さらに、工程A2〜工程A6において、複数のテンプレートTに対して一括して所定の処理を行うので、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。 Further, since predetermined processes are collectively performed on the plurality of templates T in the processes A2 to A6, the throughput of the template process can be further improved.
また、工程A5においてテンプレートTの表面に離型剤Sが密着するので、当該テンプレートT上の離型剤Sの接触角を所定の角度にすることができる。これによって、離型剤Sはレジスト膜に対して十分な撥液性を有し、その離型機能を発揮することができる。 Moreover, since the release agent S adheres to the surface of the template T in step A5, the contact angle of the release agent S on the template T can be set to a predetermined angle. Thereby, the release agent S has sufficient liquid repellency with respect to the resist film, and can exhibit its release function.
また、工程A5においてテンプレートTの表面と離型剤Sを密着させる際、従来のように離型剤を加熱していないので、離型剤Sが熱膨張することがない。したがって、テンプレートTの表面に離型剤Sを所定の膜厚で適切に成膜することができる。 Further, when the surface of the template T and the release agent S are brought into close contact with each other in the step A5, the release agent S is not thermally expanded because the release agent is not heated as in the prior art. Therefore, the mold release agent S can be appropriately formed on the surface of the template T with a predetermined film thickness.
また、工程A2においてテンプレートTの表面を洗浄しているので、その後工程S3においてテンプレートTの表面に離型剤Sを所定の膜厚で塗布することができる。なお、この工程A2は、テンプレートTの表面が予め十分に洗浄されている場合には省略してもよい。 Further, since the surface of the template T is cleaned in the step A2, the mold release agent S can be applied to the surface of the template T with a predetermined film thickness in the subsequent step S3. Note that this step A2 may be omitted when the surface of the template T is sufficiently cleaned in advance.
また、洗浄ユニット30はガスノズル70を有しているので、工程A2でテンプレートTの表面を洗浄した後、ガスノズル70から吹き付けられるガスによってテンプレートTの表面を乾燥させることができる。このため、洗浄ユニット30の洗浄液が後続の純水槽80内の純水に混じることがない。同様に、洗浄ユニット31と離型剤処理ユニット32もガスノズル70を有しているので、洗浄ユニット31の純水が後続の離型剤槽81内の離型剤に混ざることがなく、また離型剤処理ユニット32の離型剤も後続のアルコール槽82内のアルコールに混ざることがない。さらに、アルコール処理ユニット33もガスノズル70を有しているので、アルコール処理ユニット33のアルコールが後続のアンローダ21に付着することがない。
Further, since the
以上の実施の形態のテンプレート処理装置1は、リンス液によってテンプレートT上の離型剤Sの未反応部を除去するリンスユニットをさらに有していてもよい。かかる場合、図9に示すように処理ステーション3においてアルコール処理ユニット33の下流側、すなわちアルコール処理ユニット33とアンローダ21との間にリンスユニット110が配置される。また、リンスユニット110の両側にも、開閉自在のシャッタ40が設けられている。
The
リンスユニット110は、図6に示した洗浄ユニット30と同様の構成を有し、洗浄ユニット30における洗浄液槽60に代えて、内部にリンス液を貯留するリンス液槽111を有している。リンス液槽111は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTをリンス液中に浸漬させて、テンプレートT上の離型剤Sの未反応部を除去することができる。なお、リンス液槽111の構成は、上述した洗浄槽60の構成と同様であるので説明を省略する。また、リンスユニット31のその他の構成についても、上述した洗浄ユニット30の構成と同様である。例えばリンス液槽111の上方にも、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面にガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。なお、リンス液には、例えば離型剤Sの溶剤が用いられる。
The
かかる場合、工程A6においてテンプレートT上の液体状のアルコールを乾燥除去した後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTはリンスユニット110に搬送される。複数のテンプレートTがリンス液槽111の上方まで搬送されると、リンスユニット110の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、リンス液槽111内に貯留されたリンス液中に複数のテンプレートTを浸漬させる。このリンス液によって、各テンプレートT上の離型剤Sの未反応部のみが剥離する。その後、搬送アーム50をリンス液槽111の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを吹き付け、各テンプレートT上のリンス液を乾燥させて除去する。こうしてリンスユニット111での処理が終了すると、工程A7において、アンローダ21で複数のテンプレートTがキャリアC内に収納され、さらにキャリア載置台20に移送されたキャリアCがテンプレート処理装置1外に搬出される。なお、工程A1〜A7は、前記実施の形態と同様であるので説明を省略する。
In such a case, after the liquid alcohol on the template T is dried and removed in step A6, the
以上の実施の形態によれば、工程A5でアルコールによって離型剤Sの未反応部分を除去しきれない場合でも、この離型剤Sの未反応部分をリンス液によって確実に除去することができる。したがって、テンプレートT上の離型剤Sをより確実に所定の膜厚で成膜することができる。 According to the above embodiment, even when the unreacted portion of the release agent S cannot be completely removed by alcohol in step A5, the unreacted portion of the release agent S can be reliably removed by the rinse liquid. . Therefore, the release agent S on the template T can be more reliably deposited with a predetermined film thickness.
以上の実施の形態のアルコール処理ユニット33は、液体状のアルコールを貯留するアルコール槽82を有していたが、アルコール槽82に代えて、例えば図10に示すように気体状のアルコールを供給するアルコール供給部としてのアルコールノズル120を有していてもよい。アルコールノズル120は、シャッタ40を閉じることによって形成されるアルコール処理ユニット33の室内に気体状のアルコールを供給する。なお、本実施の形態にかかる気体状のアルコールの種類は、上記実施の形態のアルコール槽82内に貯留される液体状のアルコールの種類と同様であるので説明を省略する。
The
アルコールノズル120には、アルコール供給源121に連通する供給管122が接続されている。アルコール供給源121の内部には、気体状のアルコール、例えばアルコール蒸気が貯留されている。供給管122には、アルコール蒸気の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群123が設けられている。
A
アルコール処理ユニット33の側面には、当該アルコール処理ユニット33の室内雰囲気を排気する排気管124が接続されている。排気管124には、排気量を調節するバルブ125が設けられている。なお、排気管124は、搬送アーム50に対向するアルコール処理ユニット33の側面に設けられてもよいし、シャッタ40に設けられてもよい。
An
かかる場合、工程A5においてアルコールノズル120からアルコール処理ユニット33内にアルコール蒸気が供給され、当該アルコール処理ユニット33内がアルコール雰囲気に維持される。そして、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTがアルコール処理ユニット33内に搬送されると、当該複数のテンプレートTはアルコール雰囲気に晒される。このアルコールによって、離型剤SがテンプレートTの表面と強固且つ密に化学反応し、当該テンプレートTの表面に離型剤Sが密着する。また、このようにテンプレートTの表面に離型剤Sが密着した後、さらにアルコール処理ユニット33内のアルコールによって離型剤Sの未反応部のみ、すなわち離型剤SがテンプレートTの表面と化学反応して当該表面と密着する部分以外のみが除去される。こうして、テンプレートT上に転写パターンPに沿った離型剤Sが所定の膜厚で成膜される。
In such a case, alcohol vapor is supplied from the
本実施の形態では、テンプレートTが気体状のアルコール中に晒されるので、テンプレートTの表面と離型剤Sの密着性を向上させることができる。このとき、液体状のアルコールを用いた場合、当該液体状のアルコールによってテンプレートT上の離型剤Sが若干程度流されるおそれがあるが、本実施のように気体状のアルコールを用いた場合、テンプレートT上の離型剤Sが流されることがない。それ故、テンプレートT上の離型剤Sの接触角をより高くすることができる。したがって、テンプレートT上に離型剤Sをより適切に成膜することができる。 In this Embodiment, since the template T is exposed in gaseous alcohol, the adhesiveness of the surface of the template T and the mold release agent S can be improved. At this time, when liquid alcohol is used, there is a risk that the release agent S on the template T may be slightly washed away by the liquid alcohol, but when gaseous alcohol is used as in this embodiment, The release agent S on the template T is not flowed. Therefore, the contact angle of the release agent S on the template T can be further increased. Therefore, the release agent S can be more appropriately formed on the template T.
また、本実施の形態では、気体状のアルコールを用いているので、アルコール処理されたテンプレートTを乾燥させる必要がない。このため、本実施の形態のアルコール処理ユニット33において、上記実施の形態の処理ユニット33に設けられたガスノズル70を省略できる。
Moreover, in this Embodiment, since gaseous alcohol is used, it is not necessary to dry the template T by which alcohol processing was carried out. For this reason, in the
なお、本実施の形態では、アルコール供給部としてアルコールノズル120を用いたが、アルコール処理ユニット33内に気体状のアルコールを供給できる機構であれば他の種々の機構を用いることができる。また、本実施の形態では、アルコールノズル120から気体状のアルコールを供給していたが、気体状のアルコールに代えて、ミスト状のアルコールをアルコールノズル120から供給してもよい。かかる場合でも、テンプレートTがミスト状のアルコール中に晒されるので、テンプレートTの表面と離型剤Sの密着性を向上させることができる。
In the present embodiment, the
以上の実施の形態では、洗浄ユニット30、31は別々に設けられていたが、いわゆるワンバス方式の洗浄ユニットとしてもよい。かかる場合、洗浄ユニットの洗浄槽には、洗浄液を供給する洗浄液供給源と純水を供給する純水供給源が接続される。この洗浄ユニットでは、先ず、洗浄槽に洗浄液を供給する。続いて、複数のテンプレートTを洗浄液中に浸漬させ、各テンプレートTの表面を洗浄する。その後、洗浄液を洗浄槽から排出した後、洗浄槽に純水を供給する。続いて、複数のテンプレートTを純水中に浸漬させ、各テンプレートTの表面をリンス洗浄する。本実施の形態によれば、2つの洗浄ユニット30、31を1つの洗浄ユニットに置き換えることができるので、テンプレート処理装置1を小型化することができる。
In the above embodiment, the cleaning
以上の実施の形態の各処理ユニット30〜33、110では、それぞれガスノズル70からのガスによってテンプレートTの表面を乾燥させ、各処理ユニット30〜33、110の処理液が後続の処理に影響を与えないようにしていたが、別途洗浄槽を設けてもよい。この洗浄槽には例えば純水が貯留される。かかる場合、各処理ユニット30〜33、110で処理後の複数のテンプレートTを純水で洗浄することができるので、各処理ユニット30〜33、110の処理液が後続の処理に影響を与えるのを確実に防止することができる。
In each of the
以上の実施の形態のテンプレート処理装置1において、処理ステーション3内に搬送ユニット34の搬送アーム50を洗浄する洗浄槽をさらに設けてもよい。これによって、搬送アーム50に例えば離型剤やアルコール等の処理液が付着しても、後続の処理に影響を与えるのを防止することができる。
In the
以上の実施の形態の各処理ユニット30〜33、110には、複数のテンプレートTを保持し、昇降自在の保持機構がさらに設けられていてもよい。かかる場合、各処理ユニット30〜33、110では、搬送アーム50から保持機構に複数のテンプレートTが受け渡される。そして、保持機構に保持された複数のテンプレートTに対して所定の処理が行われる。これによって、一の処理ユニットで複数のテンプレートTを処理中に、搬送アーム50によって他の処理ユニットに別の複数のテンプレートTを搬送することができる。したがって、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。
Each of the
以上の実施の形態のテンプレート処理装置1には、1つの搬送ユニット34が設けられていたが、2つ以上の搬送ユニット34を設けてもよい。これによって、テンプレートTの搬送効率が向上し、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。
In the
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。 The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious for those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the idea described in the claims, and these naturally belong to the technical scope of the present invention. It is understood. The present invention is not limited to this example and can take various forms.
本発明は、転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜する際に有用である。 The present invention is useful when a release agent is formed on a template on which a transfer pattern is formed.
1 テンプレート処理装置
30、31 洗浄ユニット
32 離型剤処理ユニット
33 アルコール処理ユニット
34 搬送ユニット
50 搬送アーム
60 洗浄液槽
70 ガスノズル
80 純水槽
81 離型剤槽
82 アルコール槽
100 制御部
110 リンスユニット
111 リンス液槽
120 アルコールノズル
P 転写パターン
S 離型剤
T テンプレート
DESCRIPTION OF
Claims (11)
離型剤槽内に貯留された離型剤中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる離型剤処理工程と、
その後、アルコール槽内に貯留された液体状のアルコール中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、又は気体状若しくはミスト状のアルコール中に前記複数のテンプレートを晒し、当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール処理工程と、を有することを特徴とする、テンプレート処理方法。 A template processing method for forming a release agent on a template on which a transfer pattern is formed,
A mold release agent treatment step of immersing a plurality of templates in the mold release agent stored in the mold release agent tank, and attaching the mold release agent to the surface of the template;
Thereafter, the plurality of templates are immersed in liquid alcohol stored in an alcohol tank, or the plurality of templates are exposed in gaseous or mist-like alcohol, and the surface of the template and the release agent And an alcohol treatment step for improving the adhesion of the template.
前記アルコール処理工程において、前記複数のテンプレートを前記アルコール槽内の液体状のアルコール中に浸漬させた後、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けて、当該テンプレート上の液体状のアルコールを除去することを特徴とする、請求項1又は2に記載のテンプレート処理方法。 In the release agent treatment step, after immersing the plurality of templates in the release agent in the release agent tank, gas is blown to the plurality of templates to dry the release agent on the template. ,
In the alcohol treatment step, after the plurality of templates are immersed in liquid alcohol in the alcohol tank, gas is blown onto the plurality of templates to remove liquid alcohol on the templates. The template processing method according to claim 1, wherein the template processing method is characterized.
複数のテンプレートを保持して搬送する搬送アームと、
離型剤を貯留し、前記複数のテンプレートを前記離型剤中に浸漬させて当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる離型剤槽と、
前記離型剤槽の下流側に設けられ、液体状のアルコールを貯留し、前記複数のテンプレートを前記液体状のアルコール中に浸漬させて当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール槽、又は前記離型剤槽の下流側に設けられ、気体状若しくはミスト状のアルコールを供給し、前記複数のテンプレートを前記気体状若しくはミスト状のアルコール中に晒して当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール供給部を備えたアルコール処理ユニットと、を有することを特徴とする、テンプレート処理装置。 A template processing apparatus for forming a release agent on a template on which a transfer pattern is formed,
A transfer arm for holding and transferring a plurality of templates;
A mold release agent tank for storing a mold release agent, immersing the plurality of templates in the mold release agent, and attaching the mold release agent to the surface of the template;
Provided on the downstream side of the release agent tank, storing liquid alcohol, and immersing the plurality of templates in the liquid alcohol to improve the adhesion between the template surface and the release agent An alcohol tank, or a downstream of the mold release agent tank, supplying gaseous or mist-like alcohol, and exposing the plurality of templates to the gaseous or mist-like alcohol to the surface of the template A template processing apparatus comprising: an alcohol processing unit including an alcohol supply unit that improves adhesion to the mold release agent.
前記アルコール槽の上方には、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けるガスノズルが設けられていることを特徴とする、請求項8に記載のテンプレート処理装置。 A gas nozzle for blowing gas to the plurality of templates is provided above the release agent tank,
The template processing apparatus according to claim 8, wherein a gas nozzle that blows gas to the plurality of templates is provided above the alcohol tank.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114654635A (en) * | 2021-12-24 | 2022-06-24 | 平高集团有限公司 | Method for improving surface smoothness of epoxy casting product |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004111735A (en) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Tokyo Electron Ltd | Substrate treatment device, treatment system, and substrate treatment method |
JP2004202926A (en) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Towa Corp | Cleaning method of component in resin molding and apparatus therefor |
JP2005153091A (en) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Hitachi Ltd | Transfer method and transfer device |
JP2007266384A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | Mold for imprinting and manufacturing method thereof |
JP2007296823A (en) * | 2006-05-08 | 2007-11-15 | Hitachi Ltd | Mold for pattern forming, method for releasing treatment of mold for pattern forming, and evaluation method of mold release agent concentration |
JP2007320142A (en) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Meisho Kiko Kk | Mold for nanoimprinting |
JP2008132543A (en) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Sharp Corp | Method for forming pattern on resin substrate, and manufacturing method of a micro-passage device using the method |
JP2008178984A (en) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Hitachi Ltd | Nano-imprinting stamper, its manufacturing method and surface treatment agent of nano-imprinting stamper |
JP2008179034A (en) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Toppan Printing Co Ltd | Imprint mold, imprint mold manufacturing method, and surface reforming device |
WO2009093661A1 (en) * | 2008-01-25 | 2009-07-30 | Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. | Process for forming metallic-film pattern |
-
2010
- 2010-10-06 JP JP2010226191A patent/JP2011129881A/en active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004111735A (en) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Tokyo Electron Ltd | Substrate treatment device, treatment system, and substrate treatment method |
JP2004202926A (en) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Towa Corp | Cleaning method of component in resin molding and apparatus therefor |
JP2005153091A (en) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Hitachi Ltd | Transfer method and transfer device |
JP2007266384A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | Mold for imprinting and manufacturing method thereof |
JP2007296823A (en) * | 2006-05-08 | 2007-11-15 | Hitachi Ltd | Mold for pattern forming, method for releasing treatment of mold for pattern forming, and evaluation method of mold release agent concentration |
JP2007320142A (en) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Meisho Kiko Kk | Mold for nanoimprinting |
JP2008132543A (en) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Sharp Corp | Method for forming pattern on resin substrate, and manufacturing method of a micro-passage device using the method |
JP2008178984A (en) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Hitachi Ltd | Nano-imprinting stamper, its manufacturing method and surface treatment agent of nano-imprinting stamper |
JP2008179034A (en) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Toppan Printing Co Ltd | Imprint mold, imprint mold manufacturing method, and surface reforming device |
WO2009093661A1 (en) * | 2008-01-25 | 2009-07-30 | Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. | Process for forming metallic-film pattern |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114654635A (en) * | 2021-12-24 | 2022-06-24 | 平高集团有限公司 | Method for improving surface smoothness of epoxy casting product |
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