JP2011129881A - Template treatment method, program, computer storage medium, template treatment apparatus - Google Patents

Template treatment method, program, computer storage medium, template treatment apparatus Download PDF

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幸吉 広城
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孝典 西
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the throughput of a template treatment while suitably forming films of a release agent on surfaces of templates. <P>SOLUTION: In the template treatment of forming films of a release agent on surfaces of templates, surfaces of a plurality of templates are first cleaned by dipping the templates in a cleaning solution reserved in a cleaning solution tank (process A2). Thereafter, the plurality of templates are dipped in a release agent reserved in a release agent tank to apply the release agent to the surfaces of the templates (process A3). The release agent on the templates is then dried (process A4). Then, the plurality of templates are dipped in alcohol reserved in an alcohol tank to bring the release agent into contact with the surfaces of the templates, and an unreacted portion of the release agent is removed (process A5). Thereafter, the alcohol on the templates is dried and removed (process A6). In this manner, films of the release agent are formed in a predetermined film thickness on the surfaces of the templates. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置に関する。   The present invention relates to a template processing method, a program, a computer storage medium, and a template processing apparatus for forming a release agent on a template on which a transfer pattern is formed.

例えば半導体デバイスの製造工程では、例えば半導体ウェハ(以下、「ウェハ」という。)にフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上に所定のレジストパターンを形成することが行われている。   For example, in a semiconductor device manufacturing process, for example, a photolithography process is performed on a semiconductor wafer (hereinafter referred to as “wafer”) to form a predetermined resist pattern on the wafer.

上述したレジストパターンを形成する際には、半導体デバイスのさらなる高集積化を図るため、当該レジストパターンの微細化が求められている。一般にフォトリソグラフィー処理における微細化の限界は、露光処理に用いる光の波長程度である。このため、従来より露光処理の光を短波長化することが進められている。しかしながら、露光光源の短波長化には技術的、コスト的な限界があり、光の短波長化を進める方法のみでは、例えば数ナノメートルオーダーの微細なレジストパターンを形成するのが困難な状況にある。   When the resist pattern described above is formed, the resist pattern is required to be miniaturized in order to achieve higher integration of the semiconductor device. In general, the limit of miniaturization in the photolithography process is about the wavelength of light used for the exposure process. For this reason, it has been advancing to shorten the wavelength of exposure light. However, there are technical and cost limitations to shortening the wavelength of the exposure light source, and it is difficult to form a fine resist pattern on the order of several nanometers, for example, only by the method of advancing the wavelength of light. is there.

そこで、近年、ウェハにフォトリソグラフィー処理を行う代わりに、いわゆるインプリントと呼ばれる方法を用いてウェハ上に微細なレジストパターンを形成することが提案されている。この方法は、表面に微細なパターンを有するテンプレート(モールドや型と呼ばれることもある。)をウェハ上に形成したレジスト表面に圧着させ、その後剥離し、当該レジスト表面に直接パターンの転写を行うものである(特許文献1)。   Therefore, in recent years, it has been proposed to form a fine resist pattern on a wafer by using a so-called imprint method instead of performing a photolithography process on the wafer. In this method, a template (sometimes called a mold or a mold) having a fine pattern on the surface is pressure-bonded to the resist surface formed on the wafer, then peeled off, and the pattern is directly transferred to the resist surface. (Patent Document 1).

特開2009−43998号公報JP 2009-43998 A

上述のインプリント方法で用いられるテンプレートの表面には、テンプレートをレジストから剥離し易くするため、通常、レジストに対して撥液性を有する離型剤が成膜されている。   On the surface of the template used in the above-described imprinting method, a release agent having liquid repellency with respect to the resist is usually formed in order to make the template easy to peel from the resist.

テンプレートの表面に離型剤を成膜する際には、先ず、テンプレートの表面を洗浄した後、当該テンプレートの表面に離型剤を塗布する。このとき、テンプレート上の離型剤の接触角は、例えば77度〜80度になっている。次に、成膜される離型剤が所定の接触角、例えば110度程度を有してレジストに対する撥液性機能を発揮できるようにするため、離型剤をテンプレートの表面に密着させる。具体的には、離型剤とテンプレートの表面を化学反応させて、離型剤中に含まれる成分のうち、レジストに対して撥液性を有する成分、例えばフッ化物成分をテンプレートの表面に吸着させる。その後、離型剤の未反応部を除去して、テンプレートの表面に所定の膜厚の離型剤が成膜される。なお、離型剤の未反応部とは、離型剤がテンプレートの表面と化学反応して密着する部分以外をいう。   When forming a release agent on the surface of the template, first, after cleaning the surface of the template, the release agent is applied to the surface of the template. At this time, the contact angle of the release agent on the template is, for example, 77 degrees to 80 degrees. Next, the release agent is adhered to the surface of the template so that the release agent to be formed has a predetermined contact angle, for example, about 110 degrees and can exhibit a liquid repellent function with respect to the resist. Specifically, by chemically reacting the mold release agent and the template surface, among the components contained in the mold release agent, a component having liquid repellency to the resist, such as a fluoride component, is adsorbed on the template surface. Let Thereafter, the unreacted portion of the release agent is removed, and a release agent having a predetermined film thickness is formed on the surface of the template. The unreacted part of the release agent means a part other than the part where the release agent is chemically reacted with the surface of the template.

しかしながら、上述のように離型剤を成膜する場合、テンプレート上の離型剤をテンプレートの表面に密着させるのに時間がかかる。例えば常温雰囲気下でテンプレートを放置した場合、離型剤をテンプレートに密着させるのに約24時間かかってしまう。   However, when the release agent is formed as described above, it takes time to bring the release agent on the template into close contact with the surface of the template. For example, when the template is left in a room temperature atmosphere, it takes about 24 hours to bring the release agent into close contact with the template.

そこで、発明者らは、離型剤とテンプレートの表面との化学反応を促進させるため、テンプレート上の離型剤を加熱して焼成することを試みた。この場合、離型剤をテンプレートに密着させる時間を短縮することができた。例えば離型剤を60℃に加熱した場合、離型剤をテンプレートに密着させるのに必要な時間は約1時間であり、また離型剤を200℃に加熱した場合、離型剤をテンプレートに密着させるのに必要な時間は約3分であった。   Therefore, the inventors have attempted to heat and bake the release agent on the template in order to promote the chemical reaction between the release agent and the surface of the template. In this case, the time for bringing the release agent into close contact with the template could be shortened. For example, when the mold release agent is heated to 60 ° C., the time required to make the mold release agent adhere to the template is about 1 hour. When the mold release agent is heated to 200 ° C., the mold release agent is used as the template. The time required for adhesion was about 3 minutes.

しかしながら、この場合、一旦加熱したテンプレートを冷却するのに時間がかかる。したがって、テンプレート処理のスループットを向上させるには至らなかった。また、離型剤を加熱すると当該離型剤は熱膨張するため、テンプレートの表面に離型剤を所定の膜厚で成膜することができない。そして、このように離型剤が成膜されたテンプレートを用いてインプリント処理を行った場合、ウェハ上に数ナノメートルオーダーの微細なレジストパターンを形成することは困難であった。   However, in this case, it takes time to cool the template once heated. Therefore, the throughput of template processing has not been improved. In addition, when the release agent is heated, the release agent expands thermally, so that the release agent cannot be formed on the surface of the template with a predetermined film thickness. When the imprint process is performed using the template on which the release agent is formed in this way, it is difficult to form a fine resist pattern on the order of several nanometers on the wafer.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させることを目的とする。   The present invention has been made in view of this point, and an object of the present invention is to improve the throughput of template processing while appropriately forming a release agent on the surface of the template.

前記の目的を達成するため、本発明は、転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理方法であって、離型剤槽内に貯留された離型剤中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる離型剤処理工程と、その後、アルコール槽内に貯留された液体状のアルコール中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、又は気体状若しくはミスト状のアルコール中に前記複数のテンプレートを晒し、当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール処理工程と、を有することを特徴としている。   In order to achieve the above object, the present invention provides a template processing method for forming a release agent on a template on which a transfer pattern is formed, and a plurality of release agents stored in a release agent tank. A mold release agent treatment step in which the template is immersed and a mold release agent is attached to the surface of the template, and then the plurality of templates are immersed in a liquid alcohol stored in an alcohol tank, or in a gaseous state. Or it has the alcohol processing process which exposes the said several template in mist-like alcohol, and improves the adhesiveness of the surface of the said template and the said mold release agent, It is characterized by the above-mentioned.

発明者らが調べたところ、離型剤が付着したテンプレートを液体状のアルコール中に浸漬させる、又は離型剤が付着したテンプレートを気体状若しくはミスト状のアルコール中に晒すと、このアルコールによってテンプレートの表面と離型剤との化学反応が促進され、当該テンプレートの表面と離型剤との密着性が向上することが分かった。すなわち、アルコールによってテンプレートの表面に離型剤を短時間で密着させることができ、テンプレート上に成膜される離型剤の接触角を所定の角度にして、当該離型剤の離型機能を発揮させることができる。このように短時間で離型剤をテンプレートの表面に密着させることができるので、テンプレート処理全体のスループットを向上させることができる。しかも、この場合、従来のように離型剤を加熱する必要がないため、離型剤が熱膨張することもない。したがって、テンプレートの表面に離型剤を所定の膜厚で適切に成膜することができる。また、本発明によれば、複数のテンプレートを一度に処理するため、上述したテンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。   As a result of investigations by the inventors, when a template with a release agent attached is immersed in a liquid alcohol, or a template with a release agent attached is exposed to a gaseous or mist-like alcohol, the template is formed by the alcohol. It was found that the chemical reaction between the surface of the mold and the release agent was promoted, and the adhesion between the template surface and the release agent was improved. That is, the release agent can be brought into close contact with the template surface with alcohol in a short time, and the release angle of the release agent formed on the template is set to a predetermined angle. It can be demonstrated. Thus, the release agent can be brought into close contact with the surface of the template in a short time, so that the throughput of the entire template processing can be improved. In addition, in this case, since it is not necessary to heat the release agent as in the prior art, the release agent does not thermally expand. Therefore, the release agent can be appropriately formed on the surface of the template with a predetermined film thickness. Further, according to the present invention, since a plurality of templates are processed at a time, the throughput of the template processing described above can be further improved.

前記アルコール処理工程において、前記液体状のアルコール、気体状のアルコール又はミスト状のアルコールによって前記テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させた後、当該液体状のアルコール、気体状のアルコール又はミスト状のアルコールによって前記テンプレート上の離型剤の未反応部を除去してもよい。なお、離型剤の未反応部とは、離型剤がテンプレートの表面と化学反応して密着する部分以外をいう。   In the alcohol treatment step, after improving the adhesion between the surface of the template and the release agent with the liquid alcohol, gaseous alcohol or mist alcohol, the liquid alcohol, gaseous alcohol You may remove the unreacted part of the mold release agent on the said template with alcohol or mist-like alcohol. The unreacted part of the release agent means a part other than the part where the release agent is chemically reacted with the surface of the template.

前記離型剤処理工程において、前記複数のテンプレートを前記離型剤槽内の離型剤中に浸漬させた後、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けて、当該テンプレート上の離型剤を乾燥させ、前記アルコール処理工程において、前記複数のテンプレートを前記アルコール槽内の液体状のアルコール中に浸漬させた後、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けて、当該テンプレート上の液体状のアルコールを除去してもよい。   In the release agent treatment step, after immersing the plurality of templates in the release agent in the release agent tank, gas is blown to the plurality of templates to dry the release agent on the template. In the alcohol treatment step, after immersing the plurality of templates in liquid alcohol in the alcohol tank, gas is blown onto the plurality of templates to remove the liquid alcohol on the template. Also good.

前記テンプレート処理方法は、前記アルコール処理工程後に、リンス液槽に貯留されたリンス液中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、前記テンプレート上の離型剤の未反応部を除去するリンス工程を有していてもよい。   The template processing method includes a rinsing step of immersing the plurality of templates in a rinsing liquid stored in a rinsing liquid tank and removing an unreacted portion of the release agent on the template after the alcohol treatment step. It may be.

前記テンプレート処理方法は、前記離型剤処理工程前に、洗浄液槽に貯留された洗浄液中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面を洗浄する洗浄工程を有していてもよい。   The template processing method may include a cleaning step of immersing the plurality of templates in a cleaning liquid stored in a cleaning liquid tank and cleaning the surface of the template before the releasing agent processing step.

別な観点による本発明によれば、前記テンプレート処理方法をテンプレート処理装置によって実行させるために、当該テンプレート処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided a program that operates on a computer of a control unit that controls the template processing apparatus in order to cause the template processing apparatus to execute the template processing method.

また別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。   According to another aspect of the present invention, a readable computer storage medium storing the program is provided.

さらに別な観点による本発明は、転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理装置であって、複数のテンプレートを保持して搬送する搬送アームと、離型剤を貯留し、前記複数のテンプレートを前記離型剤中に浸漬させて当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる離型剤槽と、前記離型剤槽の下流側に設けられ、液体状のアルコールを貯留し、前記複数のテンプレートを前記液体状のアルコール中に浸漬させて当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール槽、又は前記離型剤槽の下流側に設けられ、気体状若しくはミスト状のアルコールを供給し、前記複数のテンプレートを前記気体状若しくはミスト状のアルコール中に晒して当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール供給部を備えたアルコール処理ユニットと、を有することを特徴としている。   According to another aspect of the present invention, there is provided a template processing apparatus for depositing a release agent on a template on which a transfer pattern is formed, the transfer arm holding and transferring a plurality of templates, and storing the release agent. A mold release agent tank that immerses the plurality of templates in the mold release agent and attaches the mold release agent to the surface of the template; and a liquid alcohol provided downstream of the mold release agent tank. Storing, provided in a downstream of the release tank, an alcohol tank that improves the adhesion between the surface of the template and the release agent by immersing the plurality of templates in the liquid alcohol, A gaseous or mist-like alcohol is supplied, and the plurality of templates are exposed to the gaseous or mist-like alcohol so that the surface of the template and the mold release agent are tightly sealed. It is characterized by having, an alcohol processing unit with an alcohol supply unit to improve sexual.

前記離型剤槽の上方には、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けるガスノズルが設けられ、前記アルコール槽の上方には、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けるガスノズルが設けられていてもよい。   A gas nozzle for blowing gas to the plurality of templates may be provided above the release agent tank, and a gas nozzle for blowing gas to the plurality of templates may be provided above the alcohol tank.

前記アルコール処理ユニットの下流側に設けられ、リンス液を貯留し、前記複数のテンプレートを前記リンス液中に浸漬させて前記テンプレートの上の離型剤の未反応部を除去するリンス液槽を有していてもよい。   A rinsing liquid tank is provided on the downstream side of the alcohol treatment unit, stores a rinsing liquid, and immerses the plurality of templates in the rinsing liquid to remove unreacted portions of the release agent on the template. You may do it.

前記テンプレート処理装置は、前記離型剤槽の上流側に設けられ、洗浄液を貯留し、前記複数のテンプレートを前記洗浄液中に浸漬させて前記テンプレートの表面を洗浄する洗浄液槽を有していてもよい。   The template processing apparatus may include a cleaning liquid tank that is provided upstream of the release agent tank, stores a cleaning liquid, and immerses the plurality of templates in the cleaning liquid to clean the surface of the template. Good.

本発明によれば、テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the throughput of template processing can be improved, forming a mold release agent into the surface of a template appropriately.

本実施の形態にかかるテンプレート処理装置の構成の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of a structure of the template processing apparatus concerning this Embodiment. 本実施の形態にかかるテンプレート処理装置の構成の概略を示す側面図である。It is a side view which shows the outline of a structure of the template processing apparatus concerning this Embodiment. テンプレートの斜視図である。It is a perspective view of a template. 搬送ユニットの構成の概略を示す側面図である。It is a side view which shows the outline of a structure of a conveyance unit. 搬送ユニットの構成の概略を示す側面図である。It is a side view which shows the outline of a structure of a conveyance unit. 洗浄ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the outline of a structure of a washing | cleaning unit. テンプレート処理の各工程を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed each process of the template process. テンプレート処理の各工程におけるテンプレートの状態を模式的に示した説明図であり、(a)はテンプレートの表面が洗浄された様子を示し、(b)はテンプレートを離型剤中に浸漬させた様子を示し、(c)は表面に離型剤が付着したテンプレートをアルコール中に浸漬させた様子を示し、(d)はテンプレート上に離型剤が成膜された様子を示す。It is explanatory drawing which showed typically the state of the template in each process of a template process, (a) shows a mode that the surface of the template was wash | cleaned, (b) mode that the template was immersed in the mold release agent (C) shows a state in which a template having a release agent attached to the surface is immersed in alcohol, and (d) shows a state in which the release agent is formed on the template. 他の実施の形態にかかるテンプレート処理装置の構成の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of a structure of the template processing apparatus concerning other embodiment. 他の実施の形態にかかるアルコール処理ユニットの構成の概略を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the outline of a structure of the alcohol processing unit concerning other embodiment.

以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態にかかるテンプレート処理装置1の構成の概略を示す平面図である。図2は、テンプレート処理装置1の構成の概略を示す側面図である。   Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view schematically showing the configuration of the template processing apparatus 1 according to the present embodiment. FIG. 2 is a side view showing an outline of the configuration of the template processing apparatus 1.

本実施の形態のテンプレート処理装置1では、図3に示すように直方体形状を有し、表面に所定の転写パターンPが形成されたテンプレートTが処理される。なお、テンプレートTには、可視光、近紫外光、紫外線などの光を透過可能な透明材料、例えばガラスが用いられる。   In the template processing apparatus 1 of the present embodiment, a template T having a rectangular parallelepiped shape and having a predetermined transfer pattern P formed on the surface is processed as shown in FIG. For the template T, a transparent material that can transmit visible light, near ultraviolet light, ultraviolet light, or the like, such as glass, is used.

テンプレート処理装置1は、テンプレートTの搬入、テンプレートTの処理、テンプレートTの搬出をバッチ式に一貫して行うように構成されている。このテンプレート処理装置1は、図1に示すように複数、例えば5枚のテンプレートTをキャリア単位で外部からテンプレート処理装置1へ搬入し、キャリアCから処理前のテンプレートTを取り出す搬入ステーション2と、テンプレートTに所定の処理を施す複数の処理ユニットを備えた処理ステーション3と、処理後のテンプレートTをキャリアC内に収納し、テンプレートTをキャリア単位でテンプレート処理装置1から外部へ搬出するテンプレート搬出ステーション4とを一体に接続した構成を有している。なお、搬入ステーション2と搬出ステーション4とを一体化して、テンプレートTの搬入と搬出の両方を行う搬入出ステーションを設けてもよい。   The template processing apparatus 1 is configured to consistently perform batch loading of the template T, template T processing, and template T unloading. As shown in FIG. 1, the template processing apparatus 1 carries a plurality of, for example, five templates T from the outside into the template processing apparatus 1 in units of carriers, and takes in a template T before processing from a carrier C, A processing station 3 including a plurality of processing units for performing predetermined processing on the template T, and a template unloading for storing the processed template T in the carrier C and unloading the template T from the template processing apparatus 1 to the outside in units of carriers. The station 4 is integrally connected. Note that the carry-in station 2 and the carry-out station 4 may be integrated to provide a carry-in / out station that performs both loading and unloading of the template T.

搬入ステーション2には、キャリアCを載置するキャリア載置台10と、キャリアCから処理前のテンプレートTを取り出すローダ11と、キャリア載置台10からローダ11にキャリアCを移送する移送ユニット12とが設けられている。ローダ11は、キャリア載置台10の下流側、すなわちY方向正方向側(図1中の右方向側)に配置されている。また、移送ユニット12は、キャリア載置台10及びローダ11のX方向正方向側(図1中の上方向側)に配置されている。   The loading station 2 includes a carrier mounting table 10 on which the carrier C is mounted, a loader 11 that takes out the template T before processing from the carrier C, and a transfer unit 12 that transfers the carrier C from the carrier mounting table 10 to the loader 11. Is provided. The loader 11 is disposed on the downstream side of the carrier mounting table 10, that is, on the Y direction positive direction side (the right direction side in FIG. 1). Moreover, the transfer unit 12 is arrange | positioned at the X direction positive direction side (upward side in FIG. 1) of the carrier mounting base 10 and the loader 11.

キャリア載置台10の上面には、開口部13がX方向(図1中の上下方向)に延伸して形成されている。キャリアCの下面周縁が開口部13の周縁部に載置されて、複数のキャリアCがキャリア載置台10上の所定の位置に載置されるようになっている。キャリア載置台10の内部には、キャリア搬送ユニット(図示せず)が設けられている。このキャリア搬送ユニットによって、キャリアCは開口部13に沿って移動可能である。またキャリアCは、キャリア搬送ユニットによって鉛直周り(θ方向)に回転自在であり、かつ昇降自在である。キャリア載置台10上のキャリアCには、複数、例えば5枚のテンプレートTが起立した状態の垂直姿勢で並列に収納されている。なお、搬入ステーション2には、例えばキャリアCを90度回動して、当該キャリアC内のテンプレートTの姿勢を水平姿勢から垂直姿勢に変換する他のキャリア載置台が設けられていてもよい。   An opening 13 is formed on the upper surface of the carrier mounting table 10 so as to extend in the X direction (vertical direction in FIG. 1). The lower surface periphery of the carrier C is placed on the periphery of the opening 13, and a plurality of carriers C are placed at predetermined positions on the carrier placement table 10. A carrier transport unit (not shown) is provided inside the carrier mounting table 10. The carrier C can move along the opening 13 by the carrier transport unit. The carrier C can be rotated around the vertical direction (θ direction) by the carrier transport unit and can be raised and lowered. In the carrier C on the carrier mounting table 10, a plurality of, for example, five templates T are stored in parallel in a vertical posture in a standing state. The carry-in station 2 may be provided with another carrier mounting table that rotates the carrier C by 90 degrees, for example, and converts the posture of the template T in the carrier C from a horizontal posture to a vertical posture.

ローダ11には、キャリアC内の複数のテンプレートTを取り出して保持する保持部14が設けられている。保持部14は、その下方に設けられた昇降機構(図示せず)によって昇降自在に構成されている。また保持部14には、テンプレートTを挿入して保持する保持溝15が所定の間隔で例えば5箇所に形成されている。この保持溝15の間隔は、後述する搬送アーム50の保持溝53の間隔と同一である。したがって、搬送アーム50が複数のテンプレートTを適切に保持できるように、保持部14は複数のテンプレートTを垂直姿勢で整列させることができる。   The loader 11 is provided with a holding unit 14 that takes out and holds a plurality of templates T in the carrier C. The holding part 14 is configured to be movable up and down by an elevating mechanism (not shown) provided therebelow. The holding portion 14 is formed with holding grooves 15 for inserting and holding the template T at, for example, five locations at predetermined intervals. The interval between the holding grooves 15 is the same as the interval between holding grooves 53 of the transfer arm 50 described later. Accordingly, the holding unit 14 can align the plurality of templates T in a vertical posture so that the transfer arm 50 can appropriately hold the plurality of templates T.

移送ユニット12は、接近、離隔自在かつ伸縮自在に構成された一対のアームを備えた移送アーム16を有している。移送アーム16は、一対のアームでキャリアCを保持して移送することができる。移送アーム16は、Y方向(図1中の左右方向)に延伸するレール17に沿って移動可能であり、かつ昇降自在に構成されている。   The transfer unit 12 has a transfer arm 16 having a pair of arms configured to be close, separable and extendable. The transfer arm 16 can hold and transfer the carrier C with a pair of arms. The transfer arm 16 is movable along a rail 17 extending in the Y direction (left and right direction in FIG. 1), and is configured to be movable up and down.

また、搬出ステーション4も搬入ステーション2と同様の構成を有している。すなわち、搬出ステーション4には、キャリアCを載置するキャリア載置台20と、処理後のテンプレートTをキャリアCに収納するアンローダ21と、アンローダ21からキャリア載置台20にキャリアCを移送する移送ユニット22とが設けられている。アンローダ21は、キャリア載置台20の上流側、すなわちY方向負方向側に配置されている。また、移送ユニット22は、アンローダ20及びキャリア載置台のX方向正方向側に配置されている。なお、これらキャリア載置台20、アンローダ21、移送ユニット22の構成は、それぞれ搬入ステーション2のキャリア載置台10、ローダ11、移送ユニット12の構成と同様であるので説明を省略する。   Further, the carry-out station 4 has the same configuration as the carry-in station 2. That is, the unloading station 4 includes a carrier mounting table 20 for mounting the carrier C, an unloader 21 for storing the processed template T in the carrier C, and a transfer unit for transferring the carrier C from the unloader 21 to the carrier mounting table 20. 22 are provided. The unloader 21 is arranged on the upstream side of the carrier mounting table 20, that is, on the Y direction negative direction side. Moreover, the transfer unit 22 is arrange | positioned at the X direction positive direction side of the unloader 20 and a carrier mounting base. Note that the configurations of the carrier mounting table 20, the unloader 21, and the transfer unit 22 are the same as the configurations of the carrier mounting table 10, the loader 11, and the transfer unit 12 of the loading station 2, respectively, and thus description thereof is omitted.

処理ステーション3には、上流側から順に、すなわち搬入ステーション2側から順に、テンプレートTの表面を洗浄する洗浄ユニット30、31、テンプレートTの表面を離型剤処理する離型剤処理ユニット32、テンプレートTの表面をアルコール処理するアルコール処理ユニット33が一列に配置されている。なお、一般的な洗浄プロセスに従い、洗浄ユニット30では酸洗浄が行われ、洗浄ユニット31ではリンス洗浄が行われる。   The processing station 3 includes cleaning units 30 and 31 for cleaning the surface of the template T in order from the upstream side, that is, in order from the loading station 2 side, a release agent processing unit 32 for processing the surface of the template T, and a template. Alcohol treatment units 33 for treating the surface of T with alcohol are arranged in a row. In accordance with a general cleaning process, the cleaning unit 30 performs acid cleaning, and the cleaning unit 31 performs rinse cleaning.

さらに、これら洗浄ユニット30、31、離型剤処理ユニット32、アルコール処理ユニット33のX方向負方向側には、複数のテンプレートTを保持して搬送する搬送ユニット34が設けられている。搬送ユニット34は、図2に示すようにロード11とアンロード21との間でY方向(図2中の左右方向)に延伸するレール35に沿って移動することができる。すなわち、搬送ユニット34は、ロード11、各処理ユニット30〜33、アンロード21に対して複数のテンプレートTを搬送することができる。なお、図示の例においてレール35は、ロード11、各処理ユニット30〜33、アンロード21の側面に設けられているが、例えばテンプレート処理装置1の底面に設けられていてもよい。   Further, a transport unit 34 that holds and transports the plurality of templates T is provided on the negative side in the X direction of the cleaning units 30 and 31, the release agent processing unit 32, and the alcohol processing unit 33. The transport unit 34 can move between the load 11 and the unload 21 along a rail 35 extending in the Y direction (left and right direction in FIG. 2) as shown in FIG. That is, the transport unit 34 can transport a plurality of templates T to the load 11, the processing units 30 to 33, and the unload 21. In the illustrated example, the rail 35 is provided on the side surface of the load 11, the processing units 30 to 33, and the unload 21, but may be provided on the bottom surface of the template processing apparatus 1, for example.

ローダ11と洗浄ユニット30の間には、図1に示すように開閉自在のシャッタ40が設けられている。同様に洗浄ユニット30、31の間、洗浄ユニット31と離型剤処理ユニット32の間、離型剤処理ユニット32とアルコール処理ユニット33の間、アルコール処理ユニット33とアンローダ21との間にもそれぞれシャッタ40が設けられている。シャッタ40は、各処理ユニット30〜33内の雰囲気を遮断することができる。   As shown in FIG. 1, a shutter 40 that can be freely opened and closed is provided between the loader 11 and the cleaning unit 30. Similarly, between the cleaning units 30 and 31, between the cleaning unit 31 and the release agent processing unit 32, between the release agent processing unit 32 and the alcohol processing unit 33, and between the alcohol processing unit 33 and the unloader 21, respectively. A shutter 40 is provided. The shutter 40 can block the atmosphere in the processing units 30 to 33.

次に、搬送ユニット34の構成について説明する。搬送ユニット34は、図4及び図5に示すようにテンプレートTを保持する搬送アーム50を有している。搬送アーム50は、接近、離隔自在かつ伸縮自在に構成された一対のアーム51、51と、アーム51、51を支持する支持部材52を有している。支持部材52は屈曲し、その下端部においてアーム51、51を支持している。アーム51には、テンプレートTを挿入して保持する保持溝53が形成されている。保持溝51は所定の間隔で例えば5箇所に形成され、搬送アーム50は複数、例えば5枚のテンプレートTを垂直姿勢で保持することができる。なお、この保持溝51の所定の間隔は、上述した通りロード11及びアンロード21の保持部14に形成された保持溝15の間隔と同一である。   Next, the configuration of the transport unit 34 will be described. The transport unit 34 includes a transport arm 50 that holds the template T as shown in FIGS. The transfer arm 50 includes a pair of arms 51 and 51 that are configured to be able to approach, separate, and extend, and a support member 52 that supports the arms 51 and 51. The support member 52 is bent and supports the arms 51 and 51 at its lower end. A holding groove 53 for inserting and holding the template T is formed in the arm 51. The holding grooves 51 are formed at predetermined intervals, for example, at five locations, and the transfer arm 50 can hold a plurality of, for example, five templates T in a vertical posture. The predetermined interval between the holding grooves 51 is the same as the interval between the holding grooves 15 formed in the holding portions 14 of the load 11 and the unload 21 as described above.

搬送アーム50の基端部には、搬送アーム50を支持する支持部54が設けられている。支持部54の下方には、シャフト55を介して移動機構56が設けられている。この移動機構56によって、搬送アーム50は昇降できる。また、移動機構56はレール35に取り付けられ、搬送ユニット34はレール35に沿って移動できるようになっている。   A support portion 54 that supports the transfer arm 50 is provided at the base end of the transfer arm 50. A moving mechanism 56 is provided below the support portion 54 via a shaft 55. The transfer mechanism 50 can be moved up and down by the moving mechanism 56. In addition, the moving mechanism 56 is attached to the rail 35, and the transport unit 34 can move along the rail 35.

次に、処理ステーション3の各処理ユニット30〜31の構成について説明する。洗浄ユニット30は、図6に示すように内部に洗浄液を貯留する洗浄液槽60を有している。洗浄液槽60は、その上面が開口し、テンプレートTを収容するのに十分な大きさを備えた略直方体の形状を有している。したがって、洗浄液槽60は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTを洗浄液中に浸漬させて、テンプレートTの表面の有機汚染物やパーティクル等の不純物を除去し、当該テンプレートTの表面を洗浄することができる。なお、洗浄液としては、例えば硫酸過酸化水素水が用いられる。   Next, the configuration of each processing unit 30 to 31 of the processing station 3 will be described. As shown in FIG. 6, the cleaning unit 30 has a cleaning liquid tank 60 for storing the cleaning liquid therein. The cleaning liquid tank 60 has a substantially rectangular parallelepiped shape with an upper surface opened and a size sufficient to accommodate the template T. Accordingly, the cleaning liquid tank 60 immerses a plurality of templates T held on the transfer arm 50 of the transfer unit 34 in the cleaning liquid to remove impurities such as organic contaminants and particles on the surface of the template T, and the template T The surface can be cleaned. For example, sulfuric acid hydrogen peroxide is used as the cleaning liquid.

洗浄液槽60の底面には、洗浄液槽60内に洗浄液を供給する給液管61が接続されている。給液管61は、洗浄液を供給する洗浄液供給源62に連通している。給液管61には、洗浄液の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群63が設けられている。また、洗浄液槽60の底面には、バルブ64を介して洗浄液槽60内の洗浄液を排出する排液管65が接続されている。バルブ64は、排液管65から排出される洗浄液の排液量を調節することができる。   A liquid supply pipe 61 for supplying the cleaning liquid into the cleaning liquid tank 60 is connected to the bottom surface of the cleaning liquid tank 60. The liquid supply pipe 61 communicates with a cleaning liquid supply source 62 that supplies the cleaning liquid. The supply pipe 61 is provided with a supply device group 63 including a valve for controlling the flow of the cleaning liquid, a flow rate adjusting unit, and the like. Further, a drain pipe 65 for discharging the cleaning liquid in the cleaning liquid tank 60 is connected to the bottom surface of the cleaning liquid tank 60 through a valve 64. The valve 64 can adjust the amount of the cleaning liquid discharged from the drain pipe 65.

洗浄液槽60の上方には、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面に、例えば窒素等の不活性ガスや乾燥空気などのガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。このガスノズル70から吹き付けられるガスにより、洗浄液槽60で洗浄されたテンプレートTの表面を乾燥させることができる。ガスノズル70には、ガス供給源71に連通する給気管72が接続されている。給気管72には、レジスト液の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群73が設けられている。   Above the cleaning liquid tank 60, a gas nozzle 70 is provided that blows an inert gas such as nitrogen or a gas such as dry air onto the surfaces of the plurality of templates T held in the transfer arm 50. The surface of the template T cleaned in the cleaning liquid tank 60 can be dried by the gas blown from the gas nozzle 70. An air supply pipe 72 that communicates with a gas supply source 71 is connected to the gas nozzle 70. The supply pipe 72 is provided with a supply device group 73 including a valve for controlling the flow of the resist solution, a flow rate adjusting unit, and the like.

洗浄ユニット30の側面には、シャッタ40を閉じることによって形成される洗浄ユニット30内の室内雰囲気を排気する排気管74が接続されている。排気管74には、排気量を調節するバルブ75が設けられている。なお、排気管74は、搬送アーム50に対向する洗浄ユニット30の側面に設けられてもよいし、シャッタ40に設けられてもよい。   An exhaust pipe 74 that exhausts the indoor atmosphere in the cleaning unit 30 formed by closing the shutter 40 is connected to the side surface of the cleaning unit 30. The exhaust pipe 74 is provided with a valve 75 for adjusting the exhaust amount. The exhaust pipe 74 may be provided on the side surface of the cleaning unit 30 facing the transfer arm 50 or may be provided on the shutter 40.

他の処理ユニット31〜33も、上述した洗浄ユニット30と同様の構成を有している。洗浄ユニット31は、洗浄ユニット30における洗浄液槽60に代えて、図1に示すように内部に純水を貯留する純水槽80を有している。純水槽80は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTを純水中に浸漬させて、テンプレートTの表面をリンス洗浄することができる。なお、純水槽80の構成は上述した洗浄槽60の構成と同様であるので説明を省略する。また、洗浄ユニット31のその他の構成についても、上述した洗浄ユニット30の構成と同様である。例えば純水槽80の上方にも、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面にガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。   The other processing units 31 to 33 have the same configuration as the cleaning unit 30 described above. The cleaning unit 31 has a pure water tank 80 for storing pure water therein as shown in FIG. 1 instead of the cleaning liquid tank 60 in the cleaning unit 30. The pure water tank 80 can rinse and clean the surface of the template T by immersing a plurality of templates T held by the transfer arm 50 of the transfer unit 34 in pure water. In addition, since the structure of the pure water tank 80 is the same as the structure of the washing tank 60 mentioned above, description is abbreviate | omitted. Further, the other configuration of the cleaning unit 31 is the same as the configuration of the cleaning unit 30 described above. For example, a gas nozzle 70 that blows gas onto the surfaces of a plurality of templates T held in the transfer arm 50 is also provided above the pure water tank 80.

離型剤処理ユニット32は、洗浄ユニット30における洗浄槽60に代えて、内部に液体状の離型剤を貯留する離型剤槽81を有している。離型剤槽81は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTを離型剤中に浸漬させて、テンプレートTの表面に離型剤を付着させることができる。なお、離型剤槽81の構成は、上述した洗浄槽60の構成と同様であるので説明を省略する。また、離型剤処理ユニット32のその他の構成についても、上述した洗浄ユニット30の構成と同様である。例えば離型剤槽81の上方にも、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面にガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。なお、離型剤の材料には、例えばウェハ上に形成され、テンプレートTの転写パターンPが転写されるレジスト膜に対して撥液性を有する材料、例えばフッ素炭素系化合物等が用いられる。   The release agent processing unit 32 has a release agent tank 81 for storing a liquid release agent inside instead of the cleaning tank 60 in the cleaning unit 30. The release agent tank 81 can immerse a plurality of templates T held by the transfer arm 50 of the transfer unit 34 in the release agent to attach the release agent to the surface of the template T. In addition, since the structure of the mold release agent tank 81 is the same as that of the washing | cleaning tank 60 mentioned above, description is abbreviate | omitted. Further, the other configuration of the release agent processing unit 32 is the same as the configuration of the cleaning unit 30 described above. For example, a gas nozzle 70 for blowing gas onto the surfaces of the plurality of templates T held in the transfer arm 50 is also provided above the release agent tank 81. As a material for the release agent, for example, a material that is formed on a wafer and has a liquid repellency with respect to a resist film to which the transfer pattern P of the template T is transferred, for example, a fluorine-carbon compound is used.

アルコール処理ユニット33は、洗浄ユニット30における洗浄槽60に代えて、内部に常温で液体状のアルコール、例えばエタノールを貯留するアルコール槽82を有している。アルコール槽82は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTを液体状のアルコール中に浸漬させて、テンプレートTの表面と離型剤の密着性を向上させることができる。なお、アルコール槽82の構成は、上述した洗浄槽60の構成と同様であるので説明を省略する。また、アルコール処理ユニット33のその他の構成についても、上述した洗浄ユニット30の構成と同様である。例えばアルコール槽82の上方にも、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面にガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。なお、アルコールはアルコール類であればよく、エタノール以外の他のアルコールを用いてもよい。例えばメタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノールを用いてもよく、あるいはこれらのアルコールの混合物を用いてもよい。また、アルコールの濃度は特に限定されないが、100%であることが好ましい。さらに、本実施の形態では常温のアルコールを用いているが、アルコールが結露するのを抑制するため、例えば70℃以下に加熱したアルコールを用いてもよい。   The alcohol processing unit 33 has, in place of the cleaning tank 60 in the cleaning unit 30, an alcohol tank 82 that stores alcohol that is liquid at room temperature, for example, ethanol. The alcohol tank 82 can improve the adhesion between the surface of the template T and the release agent by immersing a plurality of templates T held by the transfer arm 50 of the transfer unit 34 in liquid alcohol. The configuration of the alcohol tank 82 is the same as that of the above-described cleaning tank 60, and thus the description thereof is omitted. The other configuration of the alcohol processing unit 33 is the same as the configuration of the cleaning unit 30 described above. For example, a gas nozzle 70 that blows gas onto the surfaces of the plurality of templates T held in the transfer arm 50 is also provided above the alcohol tank 82. In addition, alcohol should just be alcohols and you may use alcohol other than ethanol. For example, methanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol may be used, or a mixture of these alcohols may be used. The concentration of alcohol is not particularly limited, but is preferably 100%. Furthermore, although normal temperature alcohol is used in the present embodiment, alcohol heated to, for example, 70 ° C. or less may be used in order to suppress the condensation of alcohol.

以上のテンプレート処理装置1には、図1に示すように制御部100が設けられている。制御部100は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部(図示せず)を有している。プログラム格納部には、搬入ステーション2と処理ステーション3との間のテンプレートTの搬送や、処理ステーション3と搬出ステーション4との間のテンプレートTの搬送、処理ステーション3における駆動系の動作などを制御して、テンプレート処理装置1における後述するテンプレート処理を実行するプログラムが格納されている。なお、このプログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御部100にインストールされたものであってもよい。   The template processing apparatus 1 is provided with a control unit 100 as shown in FIG. The control unit 100 is, for example, a computer and has a program storage unit (not shown). The program storage unit controls the transport of the template T between the loading station 2 and the processing station 3, the transport of the template T between the processing station 3 and the unloading station 4, and the operation of the drive system in the processing station 3. A program for executing template processing (to be described later) in the template processing apparatus 1 is stored. This program is recorded in a computer-readable storage medium such as a computer-readable hard disk (HD), flexible disk (FD), compact disk (CD), magnetic optical desk (MO), memory card, or the like. Or installed in the control unit 100 from the storage medium.

本実施の形態にかかるテンプレート処理装置1は以上のように構成されている。次に、そのテンプレート処理装置1で行われるテンプレート処理について説明する。図7は、このテンプレート処理の主な処理フローを示し、図8は、各工程におけるテンプレートTの状態を示している。   The template processing apparatus 1 according to the present embodiment is configured as described above. Next, template processing performed in the template processing apparatus 1 will be described. FIG. 7 shows the main processing flow of this template processing, and FIG. 8 shows the state of the template T in each step.

先ず、複数、例えば5枚のテンプレートTを収納したキャリアCがテンプレート処理装置1内に搬入される(図7の工程A1)。搬入されたキャリアCは、キャリア載置台10上の所定の位置に載置される。そして、キャリア載置台10の内部に設けられたキャリア搬送ユニットにより、キャリアCを開口部13に沿って移送ユニット12側に移動させる。その後、キャリアCは、移送ユニット12の移送アーム16に保持され、キャリア載置台10からローダ11に移送される。ローダ11では、キャリアCから複数のテンプレートTが取り出され、保持部14に保持される。このとき、各テンプレートTは保持部14に形成された保持溝15に挿入されて保持される。その後、保持部14に整列保持された複数のテンプレートTは、搬送ユニット34の搬送アーム50に受け渡され保持される。   First, a plurality of carriers C containing, for example, five templates T are carried into the template processing apparatus 1 (step A1 in FIG. 7). The carried carrier C is placed at a predetermined position on the carrier placing table 10. Then, the carrier C is moved along the opening 13 toward the transfer unit 12 by the carrier transport unit provided inside the carrier mounting table 10. Thereafter, the carrier C is held by the transfer arm 16 of the transfer unit 12 and transferred from the carrier mounting table 10 to the loader 11. In the loader 11, a plurality of templates T are taken out from the carrier C and held in the holding unit 14. At this time, each template T is inserted and held in a holding groove 15 formed in the holding portion 14. Thereafter, the plurality of templates T aligned and held in the holding unit 14 are transferred to and held by the transfer arm 50 of the transfer unit 34.

その後、搬送ユニット34によって、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTは洗浄ユニット30に搬送される。複数のテンプレートTが洗浄液槽60の上方まで搬送されると、洗浄ユニット30の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、洗浄液槽60内に貯留された洗浄液中に複数のテンプレートTを浸漬させる。この洗浄液によって、各テンプレートTの表面の有機汚染物やパーティクル等の不純物が除去され、図8(a)に示すようにテンプレートTの表面が洗浄される(図7の工程A2)。その後、搬送アーム50を洗浄液槽60の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを吹き付け、各テンプレートTの表面を乾燥させる。   Thereafter, the plurality of templates T held on the transfer arm 50 are transferred to the cleaning unit 30 by the transfer unit 34. When the plurality of templates T are conveyed above the cleaning liquid tank 60, the shutters 40 on both sides of the cleaning unit 30 are closed. Thereafter, the transfer arm 50 is lowered, and the plurality of templates T are immersed in the cleaning liquid stored in the cleaning liquid tank 60. By this cleaning liquid, impurities such as organic contaminants and particles on the surface of each template T are removed, and the surface of the template T is cleaned as shown in FIG. 8A (step A2 in FIG. 7). Thereafter, the transfer arm 50 is raised above the cleaning liquid tank 60. Subsequently, gas is blown from the gas nozzle 70 onto the surfaces of the plurality of templates T held by the transfer arm 50 to dry the surfaces of the templates T.

その後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTは洗浄ユニット31に搬送される。複数のテンプレートTが純水槽80の上方まで搬送されると、洗浄ユニット31の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、純水槽80内に貯留された純水中に複数のテンプレートTを浸漬させる。この純水によって、各テンプレートTの表面がリンス処理される。その後、搬送アーム50を純水槽80の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを吹き付け、各テンプレートTの表面を乾燥させる。   Thereafter, the shutter 40 is opened, and the plurality of templates T held on the transport arm 50 are transported to the cleaning unit 31. When the plurality of templates T are conveyed to above the pure water tank 80, the shutters 40 on both sides of the cleaning unit 31 are closed. Thereafter, the transfer arm 50 is lowered, and the plurality of templates T are immersed in pure water stored in the pure water tank 80. The surface of each template T is rinsed with this pure water. Thereafter, the transfer arm 50 is raised above the pure water tank 80. Subsequently, gas is blown from the gas nozzle 70 onto the surfaces of the plurality of templates T held by the transfer arm 50 to dry the surfaces of the templates T.

その後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTは離型剤処理ユニット32に搬送される。複数のテンプレートTが離型剤槽81の上方まで搬送されると、離型剤処理ユニット32の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、離型剤槽81内に貯留された離型剤中に複数のテンプレートTを例えば10秒間浸漬させる(図7の工程A3)。そうすると、図8(b)に示すようにテンプレートTの表面に離型剤Sが付着する。その後、搬送アーム50離型剤槽81の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを例えば20秒間吹き付け、各テンプレートT上の離型剤Sを乾燥させる(図7の工程A4)。   Thereafter, the shutter 40 is opened, and the plurality of templates T held on the transport arm 50 are transported to the release agent processing unit 32. When the plurality of templates T are conveyed above the release agent tank 81, the shutters 40 on both sides of the release agent processing unit 32 are closed. Thereafter, the transfer arm 50 is lowered, and the plurality of templates T are immersed in the release agent stored in the release agent tank 81 for 10 seconds, for example (step A3 in FIG. 7). As a result, the release agent S adheres to the surface of the template T as shown in FIG. Thereafter, the transfer arm 50 is raised above the release agent tank 81. Subsequently, a gas is sprayed from the gas nozzle 70 onto the surfaces of the plurality of templates T held on the transfer arm 50 for 20 seconds, for example, to dry the release agent S on each template T (step A4 in FIG. 7).

その後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTはアルコール処理ユニット33に搬送される。複数のテンプレートTがアルコール槽82の上方まで搬送されると、アルコール処理ユニット33の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、アルコール槽82内に貯留された液体状のアルコール中に複数のテンプレートTを例えば10秒間浸漬させる(図7の工程A5)。このアルコールによって、図8(c)に示すように離型剤SがテンプレートTの表面と強固且つ密に化学反応し、当該テンプレートTの表面に離型剤Sが密着する。また、このようにテンプレートTの表面に離型剤Sが密着した後、さらにアルコール槽82内のアルコールによって離型剤Sの未反応部のみ、すなわち離型剤SがテンプレートTの表面と化学反応して当該表面と密着する部分以外のみが除去される。このとき、テンプレートTの表面に離型剤Sが密着しているので、テンプレートTの表面から所定の距離の離型剤Sが剥離することはない。また、テンプレートT上の離型剤Sの接触角は所定の角度、例えば108度になっており、離型剤Sはレジスト膜に対して十分な撥液性を有し、その離型機能を発揮することができる。こうして、図8(d)に示すようにテンプレートT上に転写パターンPに沿った離型剤Sが所定の膜厚で成膜される。その後、搬送アーム50をアルコール槽82の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを例えば20秒間吹き付け、各テンプレートT上のアルコールを乾燥させて除去する(図7の工程A6)。   Thereafter, the shutter 40 is opened, and the plurality of templates T held on the transport arm 50 are transported to the alcohol processing unit 33. When the plurality of templates T are conveyed to above the alcohol tank 82, the shutters 40 on both sides of the alcohol processing unit 33 are closed. Thereafter, the transfer arm 50 is lowered, and the plurality of templates T are immersed in the liquid alcohol stored in the alcohol tank 82 for 10 seconds, for example (step A5 in FIG. 7). With this alcohol, as shown in FIG. 8C, the release agent S chemically reacts with the surface of the template T firmly and closely, and the release agent S adheres to the surface of the template T. Further, after the release agent S adheres to the surface of the template T in this way, only the unreacted portion of the release agent S, that is, the release agent S chemically reacts with the surface of the template T by the alcohol in the alcohol tank 82. As a result, only the portion other than the portion in close contact with the surface is removed. At this time, since the release agent S is in close contact with the surface of the template T, the release agent S at a predetermined distance from the surface of the template T is not peeled off. In addition, the contact angle of the release agent S on the template T is a predetermined angle, for example, 108 degrees, and the release agent S has sufficient liquid repellency with respect to the resist film, and has a release function. It can be demonstrated. In this way, as shown in FIG. 8D, the release agent S along the transfer pattern P is formed on the template T with a predetermined film thickness. Thereafter, the transfer arm 50 is raised above the alcohol tank 82. Subsequently, gas is sprayed from the gas nozzle 70 onto the surfaces of the plurality of templates T held on the transfer arm 50 for 20 seconds, for example, and the alcohol on each template T is dried and removed (step A6 in FIG. 7).

その後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTはアンローダ21に搬送される。アンローダ21では、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTが保持部14に受け渡される。このとき、各テンプレートTは保持部14に形成された保持溝15に挿入されて保持される。続いて、アンローダ21に予め用意しておいたキャリアC内に、複数のテンプレートTが収納される。その後、キャリアCは、移送ユニット22の移送アーム16に保持され、アンローダ21からキャリア載置台20に移送される。そして、キャリアCがキャリア載置台20の所定の位置に載置されると、キャリア載置台20の内部に設けられたキャリア搬送ユニットにより、キャリアCを開口部13に沿って移送ユニット22と反対側に移動させる。その後、キャリアCはテンプレート処理装置1外に搬出される(図7の工程A7)。こうしてテンプレート処理装置1における一連のテンプレート処理が終了し、テンプレートTの表面に、転写パターンPの形状に沿った離型剤Sが所定の膜厚で成膜される。   Thereafter, the shutter 40 is opened, and the plurality of templates T held by the transport arm 50 are transported to the unloader 21. In the unloader 21, the plurality of templates T held by the transfer arm 50 are delivered to the holding unit 14. At this time, each template T is inserted and held in a holding groove 15 formed in the holding portion 14. Subsequently, a plurality of templates T are stored in the carrier C prepared in advance in the unloader 21. Thereafter, the carrier C is held by the transfer arm 16 of the transfer unit 22 and transferred from the unloader 21 to the carrier mounting table 20. When the carrier C is placed at a predetermined position on the carrier placement table 20, the carrier C is moved along the opening 13 on the side opposite to the transfer unit 22 by the carrier transport unit provided inside the carrier placement table 20. Move to. Thereafter, the carrier C is carried out of the template processing apparatus 1 (step A7 in FIG. 7). In this way, a series of template processing in the template processing apparatus 1 is completed, and the release agent S along the shape of the transfer pattern P is formed on the surface of the template T with a predetermined film thickness.

なお、一連のテンプレート処理の終了後、離型剤Sが成膜されたテンプレートTは、例えばテンプレート処理装置1からインプリントユニット(図示せず)に搬送される。そして、インプリントユニットにおいてテンプレートTの転写パターンPがウェハ上のレジスト膜に転写される。このとき、離型剤Sによってウェハ上のレジストがテンプレートTの表面に付着することがない。したがって、ウェハ上のレジスト膜に所定のパターンを適切に形成することができる。   In addition, after completion | finish of a series of template processes, the template T in which the mold release agent S was formed into a film is conveyed from the template processing apparatus 1 to an imprint unit (not shown), for example. Then, the transfer pattern P of the template T is transferred to the resist film on the wafer in the imprint unit. At this time, the resist on the wafer does not adhere to the surface of the template T due to the release agent S. Therefore, a predetermined pattern can be appropriately formed on the resist film on the wafer.

以上の実施の形態によれば、工程A5において離型剤Sが付着したテンプレートTを液体状のアルコール中に浸漬させているので、テンプレートTの表面と離型剤Sとの化学反応が促進され、当該テンプレートTの表面と離型剤Sの密着性が向上する。すなわち、テンプレートTの表面に離型剤Sを短時間で密着させることができる。これによって、工程A1〜工程A7のテンプレート処理のスループットを向上させることができる。   According to the above embodiment, since the template T to which the release agent S adheres in step A5 is immersed in liquid alcohol, the chemical reaction between the surface of the template T and the release agent S is promoted. The adhesion between the surface of the template T and the release agent S is improved. That is, the release agent S can be brought into close contact with the surface of the template T in a short time. Thereby, the throughput of the template process of process A1-process A7 can be improved.

また、工程A5においてアルコールによってテンプレートTの表面に離型剤Sを密着させた後、さらにこのアルコールによって離型剤Sの未反応部分のみが除去される。このようにテンプレートTの表面と離型剤Sとの密着と、離型剤Sの未反応部分の除去を同じ工程で行っているので、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。   In Step A5, after the release agent S is brought into close contact with the surface of the template T with alcohol, only the unreacted portion of the release agent S is further removed with this alcohol. As described above, since the adhesion between the surface of the template T and the release agent S and the removal of the unreacted portion of the release agent S are performed in the same step, the throughput of the template processing can be further improved.

さらに、工程A2〜工程A6において、複数のテンプレートTに対して一括して所定の処理を行うので、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。   Further, since predetermined processes are collectively performed on the plurality of templates T in the processes A2 to A6, the throughput of the template process can be further improved.

また、工程A5においてテンプレートTの表面に離型剤Sが密着するので、当該テンプレートT上の離型剤Sの接触角を所定の角度にすることができる。これによって、離型剤Sはレジスト膜に対して十分な撥液性を有し、その離型機能を発揮することができる。   Moreover, since the release agent S adheres to the surface of the template T in step A5, the contact angle of the release agent S on the template T can be set to a predetermined angle. Thereby, the release agent S has sufficient liquid repellency with respect to the resist film, and can exhibit its release function.

また、工程A5においてテンプレートTの表面と離型剤Sを密着させる際、従来のように離型剤を加熱していないので、離型剤Sが熱膨張することがない。したがって、テンプレートTの表面に離型剤Sを所定の膜厚で適切に成膜することができる。   Further, when the surface of the template T and the release agent S are brought into close contact with each other in the step A5, the release agent S is not thermally expanded because the release agent is not heated as in the prior art. Therefore, the mold release agent S can be appropriately formed on the surface of the template T with a predetermined film thickness.

また、工程A2においてテンプレートTの表面を洗浄しているので、その後工程S3においてテンプレートTの表面に離型剤Sを所定の膜厚で塗布することができる。なお、この工程A2は、テンプレートTの表面が予め十分に洗浄されている場合には省略してもよい。   Further, since the surface of the template T is cleaned in the step A2, the mold release agent S can be applied to the surface of the template T with a predetermined film thickness in the subsequent step S3. Note that this step A2 may be omitted when the surface of the template T is sufficiently cleaned in advance.

また、洗浄ユニット30はガスノズル70を有しているので、工程A2でテンプレートTの表面を洗浄した後、ガスノズル70から吹き付けられるガスによってテンプレートTの表面を乾燥させることができる。このため、洗浄ユニット30の洗浄液が後続の純水槽80内の純水に混じることがない。同様に、洗浄ユニット31と離型剤処理ユニット32もガスノズル70を有しているので、洗浄ユニット31の純水が後続の離型剤槽81内の離型剤に混ざることがなく、また離型剤処理ユニット32の離型剤も後続のアルコール槽82内のアルコールに混ざることがない。さらに、アルコール処理ユニット33もガスノズル70を有しているので、アルコール処理ユニット33のアルコールが後続のアンローダ21に付着することがない。   Further, since the cleaning unit 30 has the gas nozzle 70, the surface of the template T can be dried by the gas blown from the gas nozzle 70 after the surface of the template T is cleaned in step A2. For this reason, the cleaning liquid of the cleaning unit 30 is not mixed with the pure water in the subsequent pure water tank 80. Similarly, since the cleaning unit 31 and the release agent processing unit 32 also have the gas nozzle 70, the pure water of the cleaning unit 31 is not mixed with the release agent in the subsequent release agent tank 81, and is released. The mold release agent of the mold treatment unit 32 is not mixed with the alcohol in the subsequent alcohol tank 82. Further, since the alcohol processing unit 33 also has the gas nozzle 70, the alcohol of the alcohol processing unit 33 does not adhere to the subsequent unloader 21.

以上の実施の形態のテンプレート処理装置1は、リンス液によってテンプレートT上の離型剤Sの未反応部を除去するリンスユニットをさらに有していてもよい。かかる場合、図9に示すように処理ステーション3においてアルコール処理ユニット33の下流側、すなわちアルコール処理ユニット33とアンローダ21との間にリンスユニット110が配置される。また、リンスユニット110の両側にも、開閉自在のシャッタ40が設けられている。   The template processing apparatus 1 of the above embodiment may further include a rinsing unit that removes an unreacted portion of the release agent S on the template T with a rinsing liquid. In such a case, as shown in FIG. 9, the rinsing unit 110 is disposed downstream of the alcohol processing unit 33 in the processing station 3, that is, between the alcohol processing unit 33 and the unloader 21. In addition, openable and closable shutters 40 are provided on both sides of the rinse unit 110.

リンスユニット110は、図6に示した洗浄ユニット30と同様の構成を有し、洗浄ユニット30における洗浄液槽60に代えて、内部にリンス液を貯留するリンス液槽111を有している。リンス液槽111は、搬送ユニット34の搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTをリンス液中に浸漬させて、テンプレートT上の離型剤Sの未反応部を除去することができる。なお、リンス液槽111の構成は、上述した洗浄槽60の構成と同様であるので説明を省略する。また、リンスユニット31のその他の構成についても、上述した洗浄ユニット30の構成と同様である。例えばリンス液槽111の上方にも、搬送アーム50内に保持された複数のテンプレートTの表面にガスを吹き付けるガスノズル70が設けられている。なお、リンス液には、例えば離型剤Sの溶剤が用いられる。   The rinsing unit 110 has the same configuration as the cleaning unit 30 shown in FIG. 6, and has a rinsing liquid tank 111 for storing a rinsing liquid therein instead of the cleaning liquid tank 60 in the cleaning unit 30. The rinse liquid tank 111 can remove the unreacted portion of the release agent S on the template T by immersing the plurality of templates T held by the transport arm 50 of the transport unit 34 in the rinse liquid. In addition, since the structure of the rinse tank 111 is the same as that of the washing tank 60 mentioned above, description is abbreviate | omitted. Further, the other configuration of the rinse unit 31 is the same as the configuration of the cleaning unit 30 described above. For example, a gas nozzle 70 for blowing gas onto the surfaces of the plurality of templates T held in the transfer arm 50 is also provided above the rinse liquid tank 111. In addition, the solvent of the mold release agent S is used for the rinse liquid, for example.

かかる場合、工程A6においてテンプレートT上の液体状のアルコールを乾燥除去した後、シャッタ40が開かれ、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTはリンスユニット110に搬送される。複数のテンプレートTがリンス液槽111の上方まで搬送されると、リンスユニット110の両側のシャッタ40が閉じられる。その後、搬送アーム50を下降させ、リンス液槽111内に貯留されたリンス液中に複数のテンプレートTを浸漬させる。このリンス液によって、各テンプレートT上の離型剤Sの未反応部のみが剥離する。その後、搬送アーム50をリンス液槽111の上方に上昇させる。続いて、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTの表面にガスノズル70からガスを吹き付け、各テンプレートT上のリンス液を乾燥させて除去する。こうしてリンスユニット111での処理が終了すると、工程A7において、アンローダ21で複数のテンプレートTがキャリアC内に収納され、さらにキャリア載置台20に移送されたキャリアCがテンプレート処理装置1外に搬出される。なお、工程A1〜A7は、前記実施の形態と同様であるので説明を省略する。   In such a case, after the liquid alcohol on the template T is dried and removed in step A6, the shutter 40 is opened, and the plurality of templates T held on the transport arm 50 are transported to the rinse unit 110. When the plurality of templates T are conveyed to above the rinse liquid tank 111, the shutters 40 on both sides of the rinse unit 110 are closed. Thereafter, the transfer arm 50 is lowered, and the plurality of templates T are immersed in the rinse liquid stored in the rinse liquid tank 111. Only the unreacted part of the release agent S on each template T is peeled off by this rinse liquid. Thereafter, the transfer arm 50 is raised above the rinse liquid tank 111. Subsequently, gas is blown from the gas nozzle 70 onto the surfaces of the plurality of templates T held by the transfer arm 50, and the rinse liquid on each template T is dried and removed. When the processing in the rinse unit 111 is thus completed, in step A7, the plurality of templates T are stored in the carrier C by the unloader 21, and the carrier C transferred to the carrier mounting table 20 is carried out of the template processing apparatus 1. The Since steps A1 to A7 are the same as those in the above embodiment, the description thereof is omitted.

以上の実施の形態によれば、工程A5でアルコールによって離型剤Sの未反応部分を除去しきれない場合でも、この離型剤Sの未反応部分をリンス液によって確実に除去することができる。したがって、テンプレートT上の離型剤Sをより確実に所定の膜厚で成膜することができる。   According to the above embodiment, even when the unreacted portion of the release agent S cannot be completely removed by alcohol in step A5, the unreacted portion of the release agent S can be reliably removed by the rinse liquid. . Therefore, the release agent S on the template T can be more reliably deposited with a predetermined film thickness.

以上の実施の形態のアルコール処理ユニット33は、液体状のアルコールを貯留するアルコール槽82を有していたが、アルコール槽82に代えて、例えば図10に示すように気体状のアルコールを供給するアルコール供給部としてのアルコールノズル120を有していてもよい。アルコールノズル120は、シャッタ40を閉じることによって形成されるアルコール処理ユニット33の室内に気体状のアルコールを供給する。なお、本実施の形態にかかる気体状のアルコールの種類は、上記実施の形態のアルコール槽82内に貯留される液体状のアルコールの種類と同様であるので説明を省略する。   The alcohol processing unit 33 according to the above embodiment has the alcohol tank 82 for storing liquid alcohol, but instead of the alcohol tank 82, for example, gaseous alcohol is supplied as shown in FIG. You may have the alcohol nozzle 120 as an alcohol supply part. The alcohol nozzle 120 supplies gaseous alcohol into the chamber of the alcohol processing unit 33 formed by closing the shutter 40. In addition, since the kind of gaseous alcohol concerning this Embodiment is the same as the kind of liquid alcohol stored in the alcohol tank 82 of the said embodiment, description is abbreviate | omitted.

アルコールノズル120には、アルコール供給源121に連通する供給管122が接続されている。アルコール供給源121の内部には、気体状のアルコール、例えばアルコール蒸気が貯留されている。供給管122には、アルコール蒸気の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群123が設けられている。   A supply pipe 122 communicating with the alcohol supply source 121 is connected to the alcohol nozzle 120. Inside the alcohol supply source 121, gaseous alcohol, for example, alcohol vapor is stored. The supply pipe 122 is provided with a supply device group 123 including a valve for controlling the flow of alcohol vapor, a flow rate adjusting unit, and the like.

アルコール処理ユニット33の側面には、当該アルコール処理ユニット33の室内雰囲気を排気する排気管124が接続されている。排気管124には、排気量を調節するバルブ125が設けられている。なお、排気管124は、搬送アーム50に対向するアルコール処理ユニット33の側面に設けられてもよいし、シャッタ40に設けられてもよい。   An exhaust pipe 124 that exhausts the indoor atmosphere of the alcohol processing unit 33 is connected to the side surface of the alcohol processing unit 33. The exhaust pipe 124 is provided with a valve 125 for adjusting the exhaust amount. The exhaust pipe 124 may be provided on the side surface of the alcohol processing unit 33 facing the transport arm 50 or may be provided on the shutter 40.

かかる場合、工程A5においてアルコールノズル120からアルコール処理ユニット33内にアルコール蒸気が供給され、当該アルコール処理ユニット33内がアルコール雰囲気に維持される。そして、搬送アーム50に保持された複数のテンプレートTがアルコール処理ユニット33内に搬送されると、当該複数のテンプレートTはアルコール雰囲気に晒される。このアルコールによって、離型剤SがテンプレートTの表面と強固且つ密に化学反応し、当該テンプレートTの表面に離型剤Sが密着する。また、このようにテンプレートTの表面に離型剤Sが密着した後、さらにアルコール処理ユニット33内のアルコールによって離型剤Sの未反応部のみ、すなわち離型剤SがテンプレートTの表面と化学反応して当該表面と密着する部分以外のみが除去される。こうして、テンプレートT上に転写パターンPに沿った離型剤Sが所定の膜厚で成膜される。   In such a case, alcohol vapor is supplied from the alcohol nozzle 120 into the alcohol processing unit 33 in step A5, and the inside of the alcohol processing unit 33 is maintained in an alcohol atmosphere. When the plurality of templates T held on the transfer arm 50 are transferred into the alcohol processing unit 33, the plurality of templates T are exposed to the alcohol atmosphere. With this alcohol, the mold release agent S chemically and tightly reacts with the surface of the template T, and the mold release agent S adheres to the surface of the template T. In addition, after the release agent S adheres to the surface of the template T in this way, only the unreacted portion of the release agent S by the alcohol in the alcohol treatment unit 33, that is, the release agent S is chemically bonded to the surface of the template T. Only the part that reacts and adheres to the surface is removed. Thus, the release agent S along the transfer pattern P is formed on the template T with a predetermined film thickness.

本実施の形態では、テンプレートTが気体状のアルコール中に晒されるので、テンプレートTの表面と離型剤Sの密着性を向上させることができる。このとき、液体状のアルコールを用いた場合、当該液体状のアルコールによってテンプレートT上の離型剤Sが若干程度流されるおそれがあるが、本実施のように気体状のアルコールを用いた場合、テンプレートT上の離型剤Sが流されることがない。それ故、テンプレートT上の離型剤Sの接触角をより高くすることができる。したがって、テンプレートT上に離型剤Sをより適切に成膜することができる。   In this Embodiment, since the template T is exposed in gaseous alcohol, the adhesiveness of the surface of the template T and the mold release agent S can be improved. At this time, when liquid alcohol is used, there is a risk that the release agent S on the template T may be slightly washed away by the liquid alcohol, but when gaseous alcohol is used as in this embodiment, The release agent S on the template T is not flowed. Therefore, the contact angle of the release agent S on the template T can be further increased. Therefore, the release agent S can be more appropriately formed on the template T.

また、本実施の形態では、気体状のアルコールを用いているので、アルコール処理されたテンプレートTを乾燥させる必要がない。このため、本実施の形態のアルコール処理ユニット33において、上記実施の形態の処理ユニット33に設けられたガスノズル70を省略できる。   Moreover, in this Embodiment, since gaseous alcohol is used, it is not necessary to dry the template T by which alcohol processing was carried out. For this reason, in the alcohol processing unit 33 of the present embodiment, the gas nozzle 70 provided in the processing unit 33 of the above embodiment can be omitted.

なお、本実施の形態では、アルコール供給部としてアルコールノズル120を用いたが、アルコール処理ユニット33内に気体状のアルコールを供給できる機構であれば他の種々の機構を用いることができる。また、本実施の形態では、アルコールノズル120から気体状のアルコールを供給していたが、気体状のアルコールに代えて、ミスト状のアルコールをアルコールノズル120から供給してもよい。かかる場合でも、テンプレートTがミスト状のアルコール中に晒されるので、テンプレートTの表面と離型剤Sの密着性を向上させることができる。   In the present embodiment, the alcohol nozzle 120 is used as the alcohol supply unit, but various other mechanisms can be used as long as the mechanism can supply gaseous alcohol into the alcohol processing unit 33. In the present embodiment, gaseous alcohol is supplied from the alcohol nozzle 120, but mist-like alcohol may be supplied from the alcohol nozzle 120 instead of gaseous alcohol. Even in such a case, since the template T is exposed to the mist-like alcohol, the adhesion between the surface of the template T and the release agent S can be improved.

以上の実施の形態では、洗浄ユニット30、31は別々に設けられていたが、いわゆるワンバス方式の洗浄ユニットとしてもよい。かかる場合、洗浄ユニットの洗浄槽には、洗浄液を供給する洗浄液供給源と純水を供給する純水供給源が接続される。この洗浄ユニットでは、先ず、洗浄槽に洗浄液を供給する。続いて、複数のテンプレートTを洗浄液中に浸漬させ、各テンプレートTの表面を洗浄する。その後、洗浄液を洗浄槽から排出した後、洗浄槽に純水を供給する。続いて、複数のテンプレートTを純水中に浸漬させ、各テンプレートTの表面をリンス洗浄する。本実施の形態によれば、2つの洗浄ユニット30、31を1つの洗浄ユニットに置き換えることができるので、テンプレート処理装置1を小型化することができる。   In the above embodiment, the cleaning units 30 and 31 are provided separately, but a so-called one-bus cleaning unit may be used. In such a case, a cleaning liquid supply source that supplies a cleaning liquid and a pure water supply source that supplies pure water are connected to the cleaning tank of the cleaning unit. In this cleaning unit, first, the cleaning liquid is supplied to the cleaning tank. Subsequently, the plurality of templates T are immersed in the cleaning liquid, and the surface of each template T is cleaned. Thereafter, after the cleaning liquid is discharged from the cleaning tank, pure water is supplied to the cleaning tank. Subsequently, the plurality of templates T are immersed in pure water, and the surface of each template T is rinse-cleaned. According to the present embodiment, since the two cleaning units 30 and 31 can be replaced with one cleaning unit, the template processing apparatus 1 can be reduced in size.

以上の実施の形態の各処理ユニット30〜33、110では、それぞれガスノズル70からのガスによってテンプレートTの表面を乾燥させ、各処理ユニット30〜33、110の処理液が後続の処理に影響を与えないようにしていたが、別途洗浄槽を設けてもよい。この洗浄槽には例えば純水が貯留される。かかる場合、各処理ユニット30〜33、110で処理後の複数のテンプレートTを純水で洗浄することができるので、各処理ユニット30〜33、110の処理液が後続の処理に影響を与えるのを確実に防止することができる。   In each of the processing units 30 to 33 and 110 of the above embodiment, the surface of the template T is dried by the gas from the gas nozzle 70, and the processing liquid of each of the processing units 30 to 33 and 110 affects the subsequent processing. However, a separate washing tank may be provided. For example, pure water is stored in the cleaning tank. In such a case, since a plurality of templates T processed by the processing units 30 to 33 and 110 can be washed with pure water, the processing liquid of the processing units 30 to 33 and 110 affects subsequent processing. Can be reliably prevented.

以上の実施の形態のテンプレート処理装置1において、処理ステーション3内に搬送ユニット34の搬送アーム50を洗浄する洗浄槽をさらに設けてもよい。これによって、搬送アーム50に例えば離型剤やアルコール等の処理液が付着しても、後続の処理に影響を与えるのを防止することができる。   In the template processing apparatus 1 of the above embodiment, a cleaning tank for cleaning the transfer arm 50 of the transfer unit 34 may be further provided in the processing station 3. Thus, even if a processing solution such as a release agent or alcohol adheres to the transfer arm 50, it is possible to prevent the subsequent processing from being affected.

以上の実施の形態の各処理ユニット30〜33、110には、複数のテンプレートTを保持し、昇降自在の保持機構がさらに設けられていてもよい。かかる場合、各処理ユニット30〜33、110では、搬送アーム50から保持機構に複数のテンプレートTが受け渡される。そして、保持機構に保持された複数のテンプレートTに対して所定の処理が行われる。これによって、一の処理ユニットで複数のテンプレートTを処理中に、搬送アーム50によって他の処理ユニットに別の複数のテンプレートTを搬送することができる。したがって、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。   Each of the processing units 30 to 33 and 110 in the above embodiments may further include a holding mechanism that holds the plurality of templates T and can be moved up and down. In such a case, in each of the processing units 30 to 33 and 110, a plurality of templates T are delivered from the transfer arm 50 to the holding mechanism. Then, a predetermined process is performed on the plurality of templates T held by the holding mechanism. As a result, while a plurality of templates T are being processed by one processing unit, another plurality of templates T can be transferred to another processing unit by the transfer arm 50. Therefore, the throughput of template processing can be further improved.

以上の実施の形態のテンプレート処理装置1には、1つの搬送ユニット34が設けられていたが、2つ以上の搬送ユニット34を設けてもよい。これによって、テンプレートTの搬送効率が向上し、テンプレート処理のスループットをさらに向上させることができる。   In the template processing apparatus 1 of the above embodiment, one transport unit 34 is provided, but two or more transport units 34 may be provided. Thereby, the conveyance efficiency of the template T can be improved, and the throughput of the template processing can be further improved.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious for those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the idea described in the claims, and these naturally belong to the technical scope of the present invention. It is understood. The present invention is not limited to this example and can take various forms.

本発明は、転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜する際に有用である。   The present invention is useful when a release agent is formed on a template on which a transfer pattern is formed.

1 テンプレート処理装置
30、31 洗浄ユニット
32 離型剤処理ユニット
33 アルコール処理ユニット
34 搬送ユニット
50 搬送アーム
60 洗浄液槽
70 ガスノズル
80 純水槽
81 離型剤槽
82 アルコール槽
100 制御部
110 リンスユニット
111 リンス液槽
120 アルコールノズル
P 転写パターン
S 離型剤
T テンプレート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Template processing apparatus 30, 31 Cleaning unit 32 Release agent processing unit 33 Alcohol processing unit 34 Transfer unit 50 Transfer arm 60 Cleaning liquid tank 70 Gas nozzle 80 Pure water tank 81 Release agent tank 82 Alcohol tank 100 Control part 110 Rinse unit 111 Rinse liquid Tank 120 Alcohol nozzle P Transfer pattern S Release agent T Template

Claims (11)

転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理方法であって、
離型剤槽内に貯留された離型剤中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる離型剤処理工程と、
その後、アルコール槽内に貯留された液体状のアルコール中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、又は気体状若しくはミスト状のアルコール中に前記複数のテンプレートを晒し、当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール処理工程と、を有することを特徴とする、テンプレート処理方法。
A template processing method for forming a release agent on a template on which a transfer pattern is formed,
A mold release agent treatment step of immersing a plurality of templates in the mold release agent stored in the mold release agent tank, and attaching the mold release agent to the surface of the template;
Thereafter, the plurality of templates are immersed in liquid alcohol stored in an alcohol tank, or the plurality of templates are exposed in gaseous or mist-like alcohol, and the surface of the template and the release agent And an alcohol treatment step for improving the adhesion of the template.
前記アルコール処理工程において、前記液体状のアルコール、気体状のアルコール又はミスト状のアルコールによって前記テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させた後、当該液体状のアルコール、気体状のアルコール又はミスト状のアルコールによって前記テンプレート上の離型剤の未反応部を除去することを特徴とする、請求項1に記載のテンプレート処理方法。 In the alcohol treatment step, after improving the adhesion between the surface of the template and the release agent with the liquid alcohol, gaseous alcohol or mist alcohol, the liquid alcohol, gaseous alcohol The template processing method according to claim 1, wherein an unreacted portion of the release agent on the template is removed with alcohol or mist-like alcohol. 前記離型剤処理工程において、前記複数のテンプレートを前記離型剤槽内の離型剤中に浸漬させた後、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けて、当該テンプレート上の離型剤を乾燥させ、
前記アルコール処理工程において、前記複数のテンプレートを前記アルコール槽内の液体状のアルコール中に浸漬させた後、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けて、当該テンプレート上の液体状のアルコールを除去することを特徴とする、請求項1又は2に記載のテンプレート処理方法。
In the release agent treatment step, after immersing the plurality of templates in the release agent in the release agent tank, gas is blown to the plurality of templates to dry the release agent on the template. ,
In the alcohol treatment step, after the plurality of templates are immersed in liquid alcohol in the alcohol tank, gas is blown onto the plurality of templates to remove liquid alcohol on the templates. The template processing method according to claim 1, wherein the template processing method is characterized.
前記アルコール処理工程後に、リンス液槽に貯留されたリンス液中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、前記テンプレート上の離型剤の未反応部を除去するリンス工程を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のテンプレート処理方法。 After the alcohol treatment step, it has a rinsing step of immersing the plurality of templates in a rinsing liquid stored in a rinsing liquid tank and removing an unreacted portion of the release agent on the template. Item 4. The template processing method according to any one of Items 1 to 3. 前記離型剤処理工程前に、洗浄液槽に貯留された洗浄液中に前記複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のテンプレート処理方法。 5. The method according to claim 1, further comprising a cleaning step of immersing the plurality of templates in a cleaning solution stored in a cleaning solution tank and cleaning a surface of the template before the releasing agent treatment step. The template processing method of crab. 請求項1〜5のいずれかに記載のテンプレート処理方法をテンプレート処理装置によって実行させるために、当該テンプレート処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。 A program that operates on a computer of a control unit that controls the template processing apparatus in order to cause the template processing apparatus to execute the template processing method according to claim 1. 請求項6に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。 A readable computer storage medium storing the program according to claim 6. 転写パターンが形成されたテンプレート上に離型剤を成膜するテンプレート処理装置であって、
複数のテンプレートを保持して搬送する搬送アームと、
離型剤を貯留し、前記複数のテンプレートを前記離型剤中に浸漬させて当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる離型剤槽と、
前記離型剤槽の下流側に設けられ、液体状のアルコールを貯留し、前記複数のテンプレートを前記液体状のアルコール中に浸漬させて当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール槽、又は前記離型剤槽の下流側に設けられ、気体状若しくはミスト状のアルコールを供給し、前記複数のテンプレートを前記気体状若しくはミスト状のアルコール中に晒して当該テンプレートの表面と前記離型剤との密着性を向上させるアルコール供給部を備えたアルコール処理ユニットと、を有することを特徴とする、テンプレート処理装置。
A template processing apparatus for forming a release agent on a template on which a transfer pattern is formed,
A transfer arm for holding and transferring a plurality of templates;
A mold release agent tank for storing a mold release agent, immersing the plurality of templates in the mold release agent, and attaching the mold release agent to the surface of the template;
Provided on the downstream side of the release agent tank, storing liquid alcohol, and immersing the plurality of templates in the liquid alcohol to improve the adhesion between the template surface and the release agent An alcohol tank, or a downstream of the mold release agent tank, supplying gaseous or mist-like alcohol, and exposing the plurality of templates to the gaseous or mist-like alcohol to the surface of the template A template processing apparatus comprising: an alcohol processing unit including an alcohol supply unit that improves adhesion to the mold release agent.
前記離型剤槽の上方には、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けるガスノズルが設けられ、
前記アルコール槽の上方には、前記複数のテンプレートにガスを吹き付けるガスノズルが設けられていることを特徴とする、請求項8に記載のテンプレート処理装置。
A gas nozzle for blowing gas to the plurality of templates is provided above the release agent tank,
The template processing apparatus according to claim 8, wherein a gas nozzle that blows gas to the plurality of templates is provided above the alcohol tank.
前記アルコール処理ユニットの下流側に設けられ、リンス液を貯留し、前記複数のテンプレートを前記リンス液中に浸漬させて前記テンプレートの上の離型剤の未反応部を除去するリンス液槽を有することを特徴とする、請求項8又は9に記載のテンプレート処理装置。 A rinsing liquid tank is provided on the downstream side of the alcohol treatment unit, stores a rinsing liquid, and immerses the plurality of templates in the rinsing liquid to remove an unreacted portion of the release agent on the template. The template processing apparatus according to claim 8 or 9, characterized by the above. 前記離型剤槽の上流側に設けられ、洗浄液を貯留し、前記複数のテンプレートを前記洗浄液中に浸漬させて前記テンプレートの表面を洗浄する洗浄液槽を有することを特徴とする、請求項8〜10のいずれかに記載のテンプレート処理装置。 It has a cleaning liquid tank which is provided in the upper stream side of the mold release agent tank, stores cleaning liquid, and immerses the plurality of templates in the cleaning liquid to clean the surface of the template. The template processing apparatus according to any one of 10.
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