JP2011125940A - Polishing device - Google Patents
Polishing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011125940A JP2011125940A JP2009284985A JP2009284985A JP2011125940A JP 2011125940 A JP2011125940 A JP 2011125940A JP 2009284985 A JP2009284985 A JP 2009284985A JP 2009284985 A JP2009284985 A JP 2009284985A JP 2011125940 A JP2011125940 A JP 2011125940A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polishing head
- sensor
- polishing apparatus
- polished
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
Abstract
Description
本発明はベルト搬送研磨装置に関する。 The present invention relates to a belt conveyance polishing apparatus.
この研磨装置は、例えば、カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板の表面の突起部やフォトレジストの残渣、凝集物を研磨、除去する際に好適に利用できる。 This polishing apparatus can be suitably used, for example, when polishing and removing projections on the surface of a color filter substrate used in a color liquid crystal display device, and photoresist residues and aggregates.
研磨対象として、カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板を例として説明する。図1は、カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板Aの一例を断面で示した図である。カラーフィルタ基板Aは、ガラス基板11上にマトリックス状に配置された遮光膜12、赤色画素13R、緑色画素13G、青色画素13B、透明電極14、及びフォトスペーサー(Photo Spacer)(以下、PS)15、バーテイカルアライメント(Vertical Alignment)(以下、VA)16が順次形成されたものである。
As an object to be polished, a color filter substrate used in a color liquid crystal display device will be described as an example. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a color filter substrate A used in a color liquid crystal display device. The color filter substrate A includes a
上記構造のカラーフィルタ基板Aの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、フォトリソグラフィー法では、次のような工程を経て製造される。すなわち、先ず、ガラス基板上に遮光膜12を形成する。次に、着色フォトレジストを塗布し、露光・現像した後、硬化して、各色の画素を形成する。なお、この画素形成工程は、赤色画素13R、緑色画素13G及び青色画素13Bのそれぞれについて、行われる。そして、透明電極14を形成し、最後にフォトスペーサー15とバーテイカルアライメント16とを形成してカラーフィルタ基板Aが製造される。
As a method for manufacturing the color filter substrate A having the above structure, a photolithography method, a printing method, and an ink jet method are known. In the photolithography method, the color filter substrate A is manufactured through the following steps. That is, first, the
図2は、赤色画素13R、緑色画素13G及び青色画素13Bが形成された中間製品A’を示す図である。(なお、本明細書では、この中間製品A’を「カラーフィルタ」と呼ぶ。)各色の画素13は遮光膜12の開口部に設けられるが、遮光膜12と各着色画素13の隙間による白抜けを避けるために、着色画素13の端部を遮光膜12に乗り上げた構造とすることが一般的であって、そのために着色画素13の端部には突起17や各着色画素の膜厚の不均一よる段差dが生ずる。
FIG. 2 is a diagram showing an intermediate product A ′ in which
このような突起や段差のあるカラーフィルタA’を液晶カラー表示装置に組み上げた場合には、液晶の配向不良による光漏れを引き起こす原因となる。このため、これら着色画素13を被覆するオーバーコート層を設ける方法が採用されてきたが、オーバーコート層によるコスト増加を避けるため、カラーフィルタA’の表面を研磨する方法が期待されている。
When the color filter A 'having such protrusions and steps is assembled in a liquid crystal color display device, it causes light leakage due to poor alignment of the liquid crystal. For this reason, a method of providing an overcoat layer covering these
カラーフィルタA’を研磨する方法としては、例えば、平盤研磨機の円形テーブル上にカラーフィルタA’を載置し、研磨パットを加圧接触させ、円形テーブルを回転させて研磨する方法があるが、カラーフィルタA’の大面積化に伴い、このカラーフィルタA’を回転させる必要のないベルト搬送研磨装置を使用する方法が提案されている(特許文献1)。 As a method for polishing the color filter A ′, for example, there is a method in which the color filter A ′ is placed on a circular table of a flat plate polishing machine, the polishing pad is brought into pressure contact, and the circular table is rotated for polishing. However, as the area of the color filter A ′ is increased, a method of using a belt conveyance polishing apparatus that does not need to rotate the color filter A ′ has been proposed (Patent Document 1).
図3は、ベルト搬送研磨装置を、その前工程との関係で示す平面説明図である。すなわち、カラーフィルタA’を被研磨物として、このカラーフィルタA’を搬送するコロ・コンベアBが、図中、搬送方向Xに沿って、左方の前工程(着色画素を形成する工程)から右方の後工程(水洗工程)へと、研磨液供給部Cと研磨装置本体Eを貫いて設けられている。図中、Dはベルト式搬送装置であり、ベルトD1は、進行方向両端に設けられたロー
ルに掛け渡されている。カラーフィルタA’はこのベルトD1によって、研磨位置に搬送される。図中、Eは研磨位置に配置された研磨装置本体である。この研磨装置Eには、平面視で、カラーフィルタA’の搬送方向に短辺を有する長方形状の研磨ヘッド20が搭載されており、このため、図3では、研磨装置Eとしてこの研磨ヘッド20の形状を示している。なお、60aはこの研磨ヘッド20の回転軸60の位置を示している。研磨ヘッド回転軸60は、研磨ヘッド20の長軸に沿って複数配置されており、このため、研磨ヘッド20は、後述するように、その向きを変えることなく、すなわち、自転することなく、公転することができる。なお、平面視で研磨ヘッド20の長辺はカラーフィルタA’の幅よりも大きく構成されており、研磨ヘッド20の公転によって研磨むらが生じないように構成されている。
FIG. 3 is an explanatory plan view showing the belt conveyance polishing apparatus in relation to the previous process. That is, the roller conveyor B that transports the color filter A ′ using the color filter A ′ as an object to be polished from the left front process (process for forming colored pixels) along the transport direction X in the drawing. A polishing liquid supply unit C and a polishing apparatus main body E are provided to the right rear process (water washing process). In the figure, D is a belt type conveying device, and the belt D1 is stretched over rolls provided at both ends in the traveling direction. The color filter A ′ is conveyed to the polishing position by the belt D1. In the figure, E is a polishing apparatus main body arranged at a polishing position. The polishing apparatus E is mounted with a
研磨装置本体Eは、図4の正面説明図のような構成を有している。すなわち、研磨装置本体Eは、まず、ベルトD1の下に配置され、被研磨物A’を支える下定盤50を備えている。
The polishing apparatus main body E has a configuration as shown in the front explanatory view of FIG. That is, the polishing apparatus main body E is provided with a
また、研磨装置本体Eは、カラーフィルタA’の表面を押圧して研磨する研磨ヘッド20を備えており、この研磨ヘッド20の下面には、カラーフィルタA’の表面に接触する研磨プレート21が取り付けられている。また、研磨ヘッド20は弾性体を内蔵しており、この弾性体によって研磨プレート21をカラーフィルタA’の表面に押圧している。図示の例では、弾性体は圧力チューブ22で構成されている。
The polishing apparatus main body E includes a
そして、この研磨ヘッド20は、研磨ヘッド回転軸60を介してスピンドル40に接続しており、このスピンドル40を駆動させて研磨ヘッド20を回転する。なお、図示のように研磨ヘッド回転軸60はその先端にアーム61を有しており、このアーム61を介して研磨ヘッド20に接続されているから、研磨ヘッド20は回転軸60の周りを公転する。また、図3に示すように、研磨ヘッド回転軸60は複数設けられており、この複数の研磨ヘッド回転軸60が同期して回転するから、研磨ヘッド20はその向きを変えることがない。すなわち、自転することなく公転する。
The polishing
また、研磨装置本体Eは、その最上部に昇降機構30を備えており、この昇降機構30を駆動することにより、スピンドル40や研磨ヘッド20を下降させて、研磨プレート21をカラーフィルタA’の表面に接触させることができる。なお、研磨装置本体Eは、下降位置の適正化を図るため、着座70を備えている。この着座70は、研磨装置本体Eのフレーム(図示せず)に接続されて、その高さを示す着座オス部72と、スピンドル40に接続された着座メス部71とで構成されており、スピンドル40が下降して着座メス部71が着座オス部72に到達した位置を適正位置としている。
Further, the polishing apparatus main body E is provided with an
このベルト搬送研磨装置は、次の様に使用する。すなわち、コロ・コンベアBによってカラーフィルタA’を搬送しながら、研磨液供給部Cにおいて、その表面に研磨液を滴下する。次に、研磨液を滴下されたカラーフィルタA’は、ベルトD1によって、研磨位置に搬送される。研磨位置において、昇降機構30を駆動させて、スピンドル40や研磨ヘッド20を下降させ、着座メス部71と着座オス部72とが当接した位置で停止させる。この高さが適正位置である。そして、圧力チューブ22によって、研磨ヘッド20下面の研磨プレート21をカラーフィルタA’の表面に弾性的に押圧する。そして、昇降機構30を切り離した後、研磨ヘッド回転軸60を回転中心として、研磨ヘッド20を回転させてカラーフィルタA’の表面を研磨する。
This belt conveying polishing apparatus is used as follows. That is, while the color filter A ′ is conveyed by the roller conveyor B, the polishing liquid is dropped on the surface of the polishing liquid supply unit C. Next, the color filter A 'to which the polishing liquid has been dropped is conveyed to the polishing position by the belt D1. At the polishing position, the
なお、この研磨工程を通して、カラーフィルタA’はベルトD1によって一定速度で搬送されており、このため、カラーフィルタA’の全面を均一に研磨することができる。また、コロ・コンベアBとベルトD1とによって、図3の左側から右方向に向かって、常時
一定速度でカラーフィルタA’を搬送しているから、この研磨工程で滞留することがなく、その前後の工程(例えば、着色画素を形成する前工程)とインラインで実行することができる。
Note that through this polishing step, the color filter A ′ is conveyed at a constant speed by the belt D1, so that the entire surface of the color filter A ′ can be uniformly polished. Further, since the color filter A ′ is always conveyed at a constant speed from the left side to the right side in FIG. 3 by the roller conveyor B and the belt D1, there is no stagnation in this polishing step. This process can be performed in-line with the process (for example, the previous process for forming the colored pixels).
このベルト搬送研磨装置においては、研磨ヘッド20の高さの調整を着座メス部71と着座オス部72とによって行っており、着座メス部71と着座オス部72とが当接した位置を適正位置として研磨しているが、この機構によっては、研磨ヘッド20が水平に保たれているか、あるいは傾きを持っているか、という点については、検知することができない。
In this belt conveying polishing apparatus, the height of the
図4に示すように、着座70は複数位置に設けられているが、昇降機構30を駆動させて、スピンドル40や研磨ヘッド20を下降させたとき、その位置ずれによって研磨ヘッド20に傾きが生じることがある。また、研磨工程中の振動等によって研磨ヘッド20に傾きが生じることもある。
As shown in FIG. 4, the
そこで、本発明は、研磨工程の前及び研磨工程中のいずれにおいても、リアルタイムに研磨ヘッド20の傾きを検知して、その水平を確認することのできる研磨装置を提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a polishing apparatus capable of detecting the inclination of the polishing
請求項1に記載の発明は前記課題を解決する研磨装置を提供するもので、すなわち、被研磨物を研磨位置まで搬送すると共に、研磨された被研磨物を排出するベルト式搬送装置と、その研磨位置においてベルト式搬送装置の下側に位置する下定盤と、この下定盤に対向する研磨ヘッドを備える研磨装置本体と、この研磨ヘッドを昇降させる昇降機構とを備える研磨装置であって、研磨ヘッドを下降させ、前記研磨ヘッドの下面に配置された研磨プレートを被研磨物に押しあてて研磨する研磨装置において、
研磨プレートの高さを示す検知手段を複数箇所に備えることを特徴とする研磨装置である。
The invention according to claim 1 provides a polishing apparatus that solves the above-described problems, that is, a belt-type transfer device that transfers the object to be polished to a polishing position and discharges the polished object to be polished, and A polishing apparatus comprising: a lower surface plate located below a belt type conveying device at a polishing position; a polishing apparatus body including a polishing head facing the lower surface plate; and an elevating mechanism for moving the polishing head up and down. In a polishing apparatus that lowers the head and presses a polishing plate disposed on the lower surface of the polishing head against an object to be polished,
A polishing apparatus comprising a plurality of detecting means for indicating the height of the polishing plate.
この発明においては、研磨プレートの高さを示す検知手段を複数箇所に備えるから、この複数箇所で測定された高さが同一であれば、研磨プレートが水平であることが分かる。他方、複数箇所で測定された高さが異なっていれば、研磨プレートが傾いていることが分かる。このように、この発明によれば、研磨プレートが水平か否かを確認することができ、事前にその傾きを修正することにより、被研磨物の表面を均一に研磨することが可能となる。しかも、研磨作業の前に研磨ヘッド20を下降させ、着座メス部71と着座オス部72とを当接させたときに限らず、研磨作業中であっても、研磨ヘッド20に傾きが生じた場合には、リアルタイムでその傾きを検知することが可能となる。
In this invention, since the detection means which shows the height of a grinding | polishing plate is provided in several places, if the height measured in these several places is the same, it turns out that a grinding | polishing plate is horizontal. On the other hand, if the heights measured at a plurality of locations are different, it can be seen that the polishing plate is inclined. As described above, according to the present invention, it can be confirmed whether or not the polishing plate is horizontal, and the surface of the object to be polished can be uniformly polished by correcting the inclination in advance. Moreover, not only when the polishing
次に、請求項2に記載の発明は、前記検知手段の位置を特定したもので、すなわち、前記検知手段が被研磨物の搬送方向に並んだ複数位置に配置されていることを特徴とする請求項1記載の研磨装置である。 Next, the invention according to claim 2 is characterized in that the position of the detecting means is specified, that is, the detecting means is arranged at a plurality of positions aligned in the conveying direction of the object to be polished. The polishing apparatus according to claim 1.
そして、この発明によれば、検知手段が被研磨物の搬送方向に並んだ複数位置に配置されているから、搬送方向に沿って研磨プレートが傾いていた場合、その傾きを検出するこ
とが可能となる。すなわち、搬送方向前方の研磨プレートの高さと搬送方向後方の高さとが異なる場合、この研磨プレートが傾いていることが分かる。例えば、図3に示すように、搬送方向に短辺を有する長方形状の研磨ヘッド20を有する場合、この短辺方向に傾きがあるか否かを検出することができる。
According to the present invention, since the detecting means are arranged at a plurality of positions aligned in the conveyance direction of the object to be polished, when the polishing plate is inclined along the conveyance direction, the inclination can be detected. It becomes. That is, when the height of the polishing plate in front of the conveyance direction is different from the height in the rear of the conveyance direction, it can be seen that the polishing plate is inclined. For example, as shown in FIG. 3, in the case of having a
次に、請求項3に記載の発明は、前記検知手段が被研磨物の搬送方向に交差する方向に並んだ複数位置に配置されていることを特徴とする請求項1又は2記載の研磨装置である。搬送方向に交差する方向としては、例えば、搬送方向に直交する方向である。例えば、図3に示すように、搬送方向に短辺を有する長方形状の研磨ヘッド20を有する場合、その長辺方向に傾きがあるか否かを検出することができる。
Next, the invention according to claim 3 is the polishing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the detecting means is arranged at a plurality of positions arranged in a direction intersecting a conveying direction of the object to be polished. It is. The direction intersecting the transport direction is, for example, a direction orthogonal to the transport direction. For example, as shown in FIG. 3, when a
なお、どの方向についても研磨プレートの傾きを検出するため、検知手段を3箇所又はそれ以上配置することが望ましい。これら3箇所のうち2箇所は、被研磨物の搬送方向に並んだ複数位置である。また、2箇所は被研磨物の搬送方向に交差する方向に並んだ複数位置である。さらに望ましくは、4箇所以上である。 In order to detect the inclination of the polishing plate in any direction, it is desirable to arrange three or more detection means. Two of these three places are a plurality of positions arranged in the conveying direction of the object to be polished. Further, two places are a plurality of positions arranged in a direction intersecting with the conveying direction of the object to be polished. More desirably, the number is four or more.
次に、この検知手段は、センサーと、このセンサーによって被検知物の組み合わせから成るものである。そして、その一方は一定の高さに固定して、水平を示す必要がある。例えば、被検知物がこの水平を示すものであるとすると、複数位置に配置されたこれら複数の被検知物は、すべて同じ高さに固定されている必要がある。このため、被検知物は、昇降機構30の駆動によって上下動することのないフレーム等に固定される必要がある。なお、昇降機構30とは独立して設けられた調整手段によって、その高さが調整できる必要があることはもちろんである。また、この場合、センサーは研磨ヘッドの昇降に伴って上下動する位置に取り付けられて、研磨プレートとの距離が一定に保たれている必要がある。すなわち、これら複数のセンサーは、すべて、研磨プレートとの距離が同一となるように取り付けられる。
Next, the detection means comprises a sensor and a combination of objects to be detected by the sensor. And one of them needs to be fixed at a certain height to indicate the level. For example, if the detected object indicates this level, the plurality of detected objects arranged at a plurality of positions need to be fixed at the same height. For this reason, the object to be detected needs to be fixed to a frame or the like that does not move up and down by driving the
請求項4に係る発明はこれらの点を明らかにしたもので、ずなわち、前記検知手段がセンサーと被検知物の組み合わせから成り、そのいずれか一方が一定の高さの位置に固定されており、他方が研磨ヘッドの昇降に伴って上下動する位置に取り付けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の研磨装置である。 The invention according to claim 4 clarifies these points, in other words, the detection means comprises a combination of a sensor and an object to be detected, one of which is fixed at a fixed height position. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the other is attached to a position that moves up and down as the polishing head moves up and down.
次に、請求項5〜7に係る発明は、前記検知手段を特定したものである。 Next, the invention which concerns on Claims 5-7 specifies the said detection means.
すなわち、請求項5に係る発明は、前記センサーが接触式センサーであり、被検知物がこの接触式センサーによって検知可能なものであることを特徴とする請求項4記載の研磨装置である。 That is, the invention according to claim 5 is the polishing apparatus according to claim 4, wherein the sensor is a contact sensor, and the object to be detected can be detected by the contact sensor.
また、請求項6に係る発明は、前記センサーが非接触式センサーであり、被検知物がこの非接触式センサーによって検知可能なものであることを特徴とする請求項4記載の研磨装置であり、請求項7に係る発明は、前記非接触式センサーが渦電流変位センサーであり、被検知物が金属であることを特徴とする請求項6記載の研磨装置である。 The invention according to claim 6 is the polishing apparatus according to claim 4, wherein the sensor is a non-contact type sensor, and an object to be detected can be detected by the non-contact type sensor. The invention according to claim 7 is the polishing apparatus according to claim 6, wherein the non-contact type sensor is an eddy current displacement sensor, and the object to be detected is a metal.
本発明によれば、リアルタイムで研磨プレートが水平か否かを確認することができ、その傾きを修正することにより、被研磨物の表面を均一に研磨することが可能となる。 According to the present invention, whether or not the polishing plate is horizontal can be confirmed in real time, and the surface of the object to be polished can be uniformly polished by correcting the inclination.
以上のように、本願発明の研磨装置は、従来の研磨装置に複数の検知手段を設置して構成されるものである。図5は、本発明に係る研磨装置の正面説明図で、図4に対応して描いたものである。すなわち、図5に示す研磨装置は、図4の従来の研磨装置に複数の検知手段を設置したものである。 As described above, the polishing apparatus of the present invention is configured by installing a plurality of detection means in a conventional polishing apparatus. FIG. 5 is an explanatory front view of the polishing apparatus according to the present invention and is drawn corresponding to FIG. That is, the polishing apparatus shown in FIG. 5 is obtained by installing a plurality of detection means on the conventional polishing apparatus of FIG.
この研磨装置には、2種類の検知手段が設けられている。 This polishing apparatus is provided with two types of detection means.
すなわち、まず、接触式センサー81とこのセンサーによって検知可能な被接触部82との組み合わせで構成される接触式検知手段80である。接触式センサー81は着座オス部72と共に、フレーム(図示せず)に固定されており、このため、昇降機構30を駆動してもその高さは変動しない。他方、被接触部82は着座メス部82と共に、スピンドル40に取り付けられており、スピンドル40及び研磨ヘッド20の昇降に伴って上下動する。
That is, first, the contact type detection means 80 configured by a combination of the
そして、この接触式検知手段80は、複数の位置に設置されている。図5の正面説明図には左右両側に接触式検知手段80が図示されているが、図6の平面説明図に示すように、接触式検知手段80は計4箇所に設置されている。すなわち、平面視で四角形状の研磨ヘッド20に対して、被研磨物の搬送方向Xに並んだ複数位置(長辺の中央位置)80a及び80bに接触式検知手段80が設置され、また、被研磨物の搬送方向Xに直交する方向に並んだ複数位置(短辺の中央位置)80c及び80dにも接触式検知手段80が設置されている。
And this contact-type detection means 80 is installed in the some position. In the front explanatory view of FIG. 5, the contact type detection means 80 are shown on the left and right sides, but as shown in the plan explanatory view of FIG. 6, the contact type detection means 80 are installed in a total of four places. That is, the contact type detection means 80 is installed at a plurality of positions (center positions of long sides) 80a and 80b aligned in the conveyance direction X of the object to be polished with respect to the
なお、これら4つの接触式検知手段80を構成する4つの接触式センサー81は、いずれも、同一の高さに固定されている。すなわち、位置80aにおける接触式センサー81の高さと、位置80bにおける接触式センサー81の高さは、同一である。同様に、位置80cにおける接触式センサー81の高さも同一である。また、位置80dにおける接触式センサー81の高さも同一である。
The four
また、4つの被接触部82は研磨プレート21との距離が一定である。すなわち、位置80aにおける被接触部82と研磨プレート21と間の距離と、位置80bにおける被接触部82と研磨プレート21と間の距離は、同一である。同様に、位置80cにおける被接触部82と研磨プレート21と間の距離も同一である。また、位置80dにおける被接触部82と研磨プレート21と間の距離も同一である。
Further, the distance between the four contacted
そして、このため、これら4つの接触式センサー81が同時に4つの被接触部82に接触して検出したとき、研磨プレート21は水平であることが分かる。
For this reason, it can be seen that the polishing
そして、昇降機構30を駆動して研磨ヘッド20を下降させ、着座メス部71と着座オス部72とを当接させたとき、長辺の中央位置80aにおける検知結果と位置80bにおける検知結果とを比較することにより、搬送方向Xの傾きの有無を確認することができる。また、短辺の中央位置80cにおける検知結果と位置80dにおける検知結果とを比較することにより、搬送方向Xに直交する方向の傾きの有無を確認することができる。このように研磨作業の前に研磨ヘッド20を下降させ、着座メス部71と着座オス部72とを
当接させたときに研磨ヘッド20の傾きの有無を検知することができるが、これに限らず、研磨作業中であっても、研磨ヘッド20に傾きが生じた場合には、リアルタイムでその傾きを検知することができる。
Then, when the raising / lowering
なお、接触式検知手段80の設置位置は、図6のようなものに限られない。図7は別の設置位置を示す平面説明図である。すなわち、この例では、平面視で四角形状の研磨ヘッド20の4つの頂点の位置80e,80f,80g,80hに設置されている。そして、位置80eにおける検知結果と位置80fにおける検知結果とを比較することにより、搬送方向Xの傾きの有無を確認することができる。なお、位置80gにおける検知結果と位置80hにおける検知結果とを比較することにより、搬送方向Xの傾きの有無を確認することも可能である。また、位置80eにおける検知結果と位置80gにおける検知結果とを比較することにより、搬送方向Xに直交する方向の傾きの有無を確認することができる。位置80fにおける検知結果と位置80hにおける検知結果とを比較することによって、搬送方向Xに直交する方向の傾きの有無を確認することもできる。
The installation position of the
次に、図5に示す研磨装置には、渦電流変位センサー91と、この渦電流変位センサー91で検知される金属92との組み合わせで構成される非接触式検知手段90が設けられている。すなわち、渦電流変位センサー91は研磨ヘッド20に取り付けられており、研磨ヘッド20の昇降に伴って上下動する。また、金属92はベルトD1の横の位置でフレーム(図示せず)に固定されており、昇降機構30を駆動してもその高さは変動しない。
Next, the polishing apparatus shown in FIG. 5 is provided with a non-contact detection means 90 configured by a combination of an eddy
なお、この非接触式検知手段90の数及び平面視の設置位置は、接触式検知手段80と同様である。 The number of the non-contact type detection means 90 and the installation position in plan view are the same as those of the contact type detection means 80.
この渦電流変位センサー91はコイルを内蔵するもので、このコイルに高周波電流を流して、高周波磁界を発生させ、この高周波磁界によって金属92に渦電流を発生させ、この渦電流による前記コイルのインピーダンス変化を検出するもので、このため、接触式検知手段と異なり、渦電流変位センサー91と金属92とが離隔していてもその間の距離を測定することが可能である。検出精度は0.1mm以下であればよい。このような渦電流変位センサー91としては、例えば、(株)キーエンス製渦電流変位センサー、SUNX(株)製渦電流変位センサー等が使用できる。また、金属92としては、例えば、アルミニウム、鉄、ステンレスなどが使用できる。
The eddy
A カラーフィルタ基板
A’ 被研磨物(カラーフィルタ基板の中間製品)
11 ガラス基板
11a ガラス基板の端部
12 遮光膜
13 画素
13R 赤色画素
13G 緑色画素
13B 青色画素
14 透明電極
15 フォトスペーサー
16 バーティカルアライメント
17 突起
d 段差
B コロ
C 研磨液供給部
D ベルト式搬送装置
D1 ベルト
E 研磨装置本体
20 研磨ヘッド
21 研磨プレート
22 圧力チューブ
30 昇降機構
40 スピンドル
50 下定盤
60 研磨ヘッド回転軸
61 アーム
70 着座
71 着座メス部
72 着座オス部
80 接触式検知手段
81 接触センサー
82 被接触部
90 非接触式検知手段
91 渦電流変位センサー
92 金属
A Color filter substrate A 'Workpiece (intermediate product of color filter substrate)
DESCRIPTION OF
Claims (7)
研磨プレートの高さを示す検知手段を複数箇所に備えることを特徴とする研磨装置。 A belt-type conveying device that conveys the object to be polished to the polishing position and discharges the polished object to be polished, a lower surface plate located below the belt-type conveying device at the polishing position, and the lower surface plate. A polishing apparatus comprising a polishing apparatus main body having a polishing head and an elevating mechanism for raising and lowering the polishing head, wherein the polishing head is lowered and a polishing plate disposed on the lower surface of the polishing head is pressed against an object to be polished In a polishing apparatus for polishing
A polishing apparatus comprising a plurality of detecting means for indicating the height of the polishing plate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009284985A JP2011125940A (en) | 2009-12-16 | 2009-12-16 | Polishing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009284985A JP2011125940A (en) | 2009-12-16 | 2009-12-16 | Polishing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011125940A true JP2011125940A (en) | 2011-06-30 |
Family
ID=44289102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009284985A Pending JP2011125940A (en) | 2009-12-16 | 2009-12-16 | Polishing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011125940A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109500728A (en) * | 2017-09-15 | 2019-03-22 | 罗门哈斯电子材料Cmp控股股份有限公司 | Flange optical end point detection window and CMP pad containing it |
CN110340799A (en) * | 2018-04-02 | 2019-10-18 | 凯斯科技股份有限公司 | Substrate board treatment |
CN111434457A (en) * | 2019-01-15 | 2020-07-21 | 三星显示有限公司 | Substrate grinding device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02257628A (en) * | 1989-03-30 | 1990-10-18 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | Method and apparatus for polishing of semiconductor substrate |
JP2000288929A (en) * | 1999-04-06 | 2000-10-17 | Yotaro Hatamura | Method and device for grinding plate-like body |
JP2002361551A (en) * | 2001-04-02 | 2002-12-18 | Murata Mfg Co Ltd | Grinding device |
JP2006181697A (en) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Minami Kenmaki Seisakusho:Kk | Surface polishing device and method |
JP2009095923A (en) * | 2007-10-16 | 2009-05-07 | Sd Future Technology Co Ltd | Polishing device |
-
2009
- 2009-12-16 JP JP2009284985A patent/JP2011125940A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02257628A (en) * | 1989-03-30 | 1990-10-18 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | Method and apparatus for polishing of semiconductor substrate |
JP2000288929A (en) * | 1999-04-06 | 2000-10-17 | Yotaro Hatamura | Method and device for grinding plate-like body |
JP2002361551A (en) * | 2001-04-02 | 2002-12-18 | Murata Mfg Co Ltd | Grinding device |
JP2006181697A (en) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Minami Kenmaki Seisakusho:Kk | Surface polishing device and method |
JP2009095923A (en) * | 2007-10-16 | 2009-05-07 | Sd Future Technology Co Ltd | Polishing device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109500728A (en) * | 2017-09-15 | 2019-03-22 | 罗门哈斯电子材料Cmp控股股份有限公司 | Flange optical end point detection window and CMP pad containing it |
CN110340799A (en) * | 2018-04-02 | 2019-10-18 | 凯斯科技股份有限公司 | Substrate board treatment |
CN111434457A (en) * | 2019-01-15 | 2020-07-21 | 三星显示有限公司 | Substrate grinding device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9283652B2 (en) | Edge grinding apparatus and method for grinding glass substrate | |
WO2009119772A1 (en) | Method and apparatus for machining glass substrate | |
KR20130059416A (en) | Plate glass conveyance device and chamfering device provided with same | |
JP2011125940A (en) | Polishing device | |
US20170304864A1 (en) | Coating apparatus for color filter substrate and coating method thereof | |
KR101485062B1 (en) | Removable suction nozzle device of laser processing devices | |
JP2011110733A (en) | Printing roll and plate, method and device for controlling parallelism of printing object | |
KR100884732B1 (en) | Apparatus for cleaning panel for display device | |
KR101701213B1 (en) | Device for testing flatness | |
JP2008006705A (en) | Printing press | |
US20050098412A1 (en) | Conveyor system having width adjustment unit | |
KR101613738B1 (en) | Off-axis sheet-handling apparatus and technique for transmission-mode measurements | |
KR100699077B1 (en) | Cutting apparatus of ??????? panel | |
TWI436418B (en) | Method of manufacturing a substrate for a mask blank and double face plane polishing machine | |
JP4243837B2 (en) | Transparent substrate surface inspection method and inspection apparatus | |
JP2012185140A (en) | Automatic defect inspection device | |
JP5365243B2 (en) | Belt conveyor polishing machine | |
KR102016479B1 (en) | Printed circuit board test device | |
JP6407058B2 (en) | Printing apparatus and printing method | |
KR102110925B1 (en) | Screen printing device | |
KR101186272B1 (en) | Apparatus for inspecting substrate | |
TW201315569A (en) | Monitoring method and monitoring system for glass panel grinding device | |
JP2011025337A (en) | Belt conveying type polishing device | |
JP7289697B2 (en) | SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND SUBSTRATE CLEANING METHOD | |
JP2008298937A (en) | Polishing method and device for color filter |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131024 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131029 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131220 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140603 |