JP2011124192A - インピーダンス整合装置及びそれを備えたプラズマ発生装置 - Google Patents
インピーダンス整合装置及びそれを備えたプラズマ発生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011124192A JP2011124192A JP2009283365A JP2009283365A JP2011124192A JP 2011124192 A JP2011124192 A JP 2011124192A JP 2009283365 A JP2009283365 A JP 2009283365A JP 2009283365 A JP2009283365 A JP 2009283365A JP 2011124192 A JP2011124192 A JP 2011124192A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- adjustment speed
- variable capacitor
- imaginary part
- impedance matching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 124
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 description 27
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
【解決手段】高周波電源Aと負荷Bとの間に接続された複数の可変コンデンサC1,C2と、負荷B側の反射係数の実部に応じた値と虚部に応じた値とを検出する検出部12と、この検出部12で検出した反射係数の実部に応じたZ値と虚部に応じたφ値とに基づいて、複数の可変コンデンサC1,C2の調整速度を多段階に変更する制御部13とを備える。そして、制御部13は、Z値及びφ値のいずれか一方のみが所定範囲に至ったときの当該所定範囲に至ったZ値及びφ値に対応する可変コンデンサC1,C2の調整速度を、Z値及びφ値の大きさが共に所定範囲に至ったときの調整速度よりも遅くする。
【選択図】図1
Description
図1に示すように、本実施形態に係るインピーダンス整合装置10は、高周波電源Aと負荷(本実施形態ではプラズマ発生装置)Bとの間に設置されており、高周波電源Aの出力インピーダンスZoutと負荷B側の入力インピーダンスZinとのインピーダンス整合を行うものである。なお、入力インピーダンスZinとは、図1を使って説明すると、インピーダンス整合回路20の入力端10aより負荷B側の回路全体のインピーダンスのことである。
上述したインピーダンス整合装置の具体的構成の一例について、図7及び図8を参照して説明する。
以上のように構成されたインピーダンス整合装置10の具体的動作について図9及び図10を参照して説明する。
上記実施形態では、制御部13は、検出部12で検出したZ値とφ値の大きさを大きい順に調整速度領域w1〜w3に分けたが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、調整速度領域を2つ又は4以上設けるようにしてもよい。例えば、図11に示すように、調整速度領域w3を設けずに、調整速度領域w1,w2のみを設けるようにしてもよい。このようにすることで処理を複雑にすることなく、第1及び第2の可変コンデンサC1,C2の高速調整が可能となる。また、調整速度領域w2のように、Z値及びφ値の大きさが共にその範囲に入ったときといずれか一方がその範囲に入ったときとで速度を変更する領域を複数設けるようにしてもよい。例えば、図12に示すように、第3調整速度領域w3を第2調整速度領域w2と同様の処理を行うようにしてもよい。
B 負荷(プラズマ発生装置)
10 インピーダンス整合装置
11 インピーダンス整合部
12 検出部
13 制御部
C1 第1の可変コンデンサ
C2 第2の可変コンデンサ
Claims (4)
- 高周波電源と負荷との間に接続された第1及び第2の可変コンデンサと、
前記負荷側の反射係数の実部に応じた値と虚部に応じた値とを検出する検出部と、
前記検出部で検出した反射係数の実部の大きさに基づいて前記第1の可変コンデンサを調整し、前記検出部で検出した反射係数の虚部の大きさに基づいて前記第2の可変コンデンサを調整する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記実部及び虚部の大きさのいずれか一方のみが所定範囲に至ったときの当該所定範囲に至った実部又は虚部に対応する可変コンデンサの調整速度を、前記実部及び虚部の大きさが共に所定範囲に至ったときの調整速度よりも遅くすることを特徴とするインピーダンス整合装置。 - 前記制御部は、前記実部の大きさが前記所定範囲に至る前までは、前記実部の大きさに比例した調整速度で前記第1の可変コンデンサを調整し、前記虚部の大きさが前記所定範囲に至る前までは、前記虚部の大きさに比例した調整速度で前記第2の可変コンデンサを調整したことを特徴とする請求項1に記載のインピーダンス整合装置。
- 前記制御部は、前記実部の大きさが前記所定範囲よりも小さいとき、前記実部の大きさが前記所定範囲での調整速度よりもさらに遅い調整速度で前記第1の可変コンデンサを調整し、前記虚部の大きさが前記所定範囲よりも小さいとき、前記虚部の大きさが前記所定範囲での調整速度よりもさらに遅い調整速度で前記第2の可変コンデンサを調整したことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のインピーダンス整合装置。
- 高周波電力を出力する高周波電源と、
前記高周波電力に入力してプラズマ放電を発生させるプラズマ発生部と
前記高周波電源と前記プラズマ発生部との間のインピーダンスを整合させるインピーダンス整合装置とを備え、
前記インピーダンス整合装置は、
高周波電源と負荷との間に接続された第1及び第2可変コンデンサと、
前記負荷側の反射係数の実部に応じた値と虚部に応じた値とを検出する検出部と、
前記検出部で検出した反射係数の実部の大きさに基づいて前記第1の可変コンデンサを調整し、前記検出部で検出した反射係数の虚部の大きさに基づいて前記第2の可変コンデンサを調整する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記実部及び虚部の大きさのいずれか一方のみが所定範囲に至ったときの当該所定範囲に至った実部又は虚部に対応する可変コンデンサの調整速度を、前記実部及び虚部の大きさが共に所定範囲に至ったときの調整速度よりも遅くすることを特徴とするプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009283365A JP5570796B2 (ja) | 2009-12-14 | 2009-12-14 | インピーダンス整合装置及びそれを備えたプラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009283365A JP5570796B2 (ja) | 2009-12-14 | 2009-12-14 | インピーダンス整合装置及びそれを備えたプラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011124192A true JP2011124192A (ja) | 2011-06-23 |
JP5570796B2 JP5570796B2 (ja) | 2014-08-13 |
Family
ID=44287866
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009283365A Active JP5570796B2 (ja) | 2009-12-14 | 2009-12-14 | インピーダンス整合装置及びそれを備えたプラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5570796B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104349567A (zh) * | 2013-07-29 | 2015-02-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 射频电源系统和利用射频电源系统进行阻抗匹配的方法 |
KR101829563B1 (ko) | 2014-02-28 | 2018-02-14 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 정합기 및 정합 방법 |
KR20180075576A (ko) * | 2015-10-26 | 2018-07-04 | 트럼프 헛팅거 게엠베하 + 코 카게 | 부하의 임피던스를 전력 발생기의 출력 임피던스에 조정시키는 방법 및 임피던스 조정 어셈블리 |
CN115882806A (zh) * | 2023-02-22 | 2023-03-31 | 季华实验室 | 一种射频电源自动阻抗匹配装置、系统以及方法 |
KR20230131263A (ko) | 2021-01-28 | 2023-09-12 | 고쿠리쓰다이가쿠호진 규슈다이가쿠 | 플라즈마 처리 장치, 고주파 전력 급전 회로, 및 임피던스정합 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0563604A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-03-12 | Daihen Corp | インピーダンス自動整合装置 |
JPH09134800A (ja) * | 1995-11-08 | 1997-05-20 | Jeol Ltd | 高周波装置 |
JP2001044780A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-16 | Daihen Corp | インピーダンス自動整合方法及び整合装置 |
JP2002501283A (ja) * | 1998-01-09 | 2002-01-15 | ラム リサーチ コーポレーション | 高周波プロセッサ内のプラズマ不安定性を最小化するための方法および装置 |
-
2009
- 2009-12-14 JP JP2009283365A patent/JP5570796B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0563604A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-03-12 | Daihen Corp | インピーダンス自動整合装置 |
JPH09134800A (ja) * | 1995-11-08 | 1997-05-20 | Jeol Ltd | 高周波装置 |
JP2002501283A (ja) * | 1998-01-09 | 2002-01-15 | ラム リサーチ コーポレーション | 高周波プロセッサ内のプラズマ不安定性を最小化するための方法および装置 |
JP2001044780A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-16 | Daihen Corp | インピーダンス自動整合方法及び整合装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104349567A (zh) * | 2013-07-29 | 2015-02-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 射频电源系统和利用射频电源系统进行阻抗匹配的方法 |
KR101829563B1 (ko) | 2014-02-28 | 2018-02-14 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 정합기 및 정합 방법 |
KR20180075576A (ko) * | 2015-10-26 | 2018-07-04 | 트럼프 헛팅거 게엠베하 + 코 카게 | 부하의 임피던스를 전력 발생기의 출력 임피던스에 조정시키는 방법 및 임피던스 조정 어셈블리 |
JP2018537895A (ja) * | 2015-10-26 | 2018-12-20 | トゥルンプフ ヒュッティンガー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトTRUMPF Huettinger GmbH + Co. KG | 電力発生器の出力インピーダンスへの負荷のインピーダンス整合方法およびインピーダンス整合装置 |
US10818477B2 (en) | 2015-10-26 | 2020-10-27 | Trumpf Huettinger Gmbh + Co. Kg | Impedance matching between loads and power generators |
KR102663551B1 (ko) | 2015-10-26 | 2024-05-03 | 트럼프 헛팅거 게엠베하 + 코 카게 | 부하의 임피던스를 전력 발생기의 출력 임피던스에 조정시키는 방법 및 임피던스 조정 어셈블리 |
KR20230131263A (ko) | 2021-01-28 | 2023-09-12 | 고쿠리쓰다이가쿠호진 규슈다이가쿠 | 플라즈마 처리 장치, 고주파 전력 급전 회로, 및 임피던스정합 방법 |
CN115882806A (zh) * | 2023-02-22 | 2023-03-31 | 季华实验室 | 一种射频电源自动阻抗匹配装置、系统以及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5570796B2 (ja) | 2014-08-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5570796B2 (ja) | インピーダンス整合装置及びそれを備えたプラズマ発生装置 | |
JP4887197B2 (ja) | 高周波装置 | |
KR101711667B1 (ko) | 자동 정합 장치 및 플라즈마 처리 장치 | |
US9736921B2 (en) | Method for impedance matching of plasma processing apparatus | |
TWI704592B (zh) | 阻抗匹配電路及相關系統與方法 | |
KR102265231B1 (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
KR20220088833A (ko) | 메인 rf 생성기 및 에지 rf 생성기를 동기화함으로써 플라즈마 챔버 내에서 에지 영역과 연관된 미리 결정된 인자를 달성하기 위한 시스템들 및 방법들 | |
US20180115299A1 (en) | Method for impedance matching of plasma processing apparatus | |
US10009028B2 (en) | Frequency and match tuning in one state and frequency tuning in the other state | |
JP2008181846A5 (ja) | ||
US20160126069A1 (en) | Pulse plasma apparatus and drive method thereof | |
US20180247795A1 (en) | Impedance matching between loads and power generators | |
TW201505366A (zh) | 射頻電源系統和利用射頻電源系統進行阻抗匹配的方法 | |
JP2020049568A (ja) | 搬送装置、半導体製造装置及び搬送方法 | |
TW201443971A (zh) | 調諧與電漿阻抗有關之參數 | |
US20120212135A1 (en) | Control apparatus, plasma processing apparatus, method for controlling control apparatus | |
JP5327785B2 (ja) | インピーダンス整合装置、およびインピーダンス整合方法 | |
JP2008300322A (ja) | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、整合器、及び整合器の動作方法 | |
JP5411683B2 (ja) | インピーダンス整合装置 | |
JPH0563604A (ja) | インピーダンス自動整合装置 | |
WO2013132591A1 (ja) | 高周波電源装置およびその整合方法 | |
JP2010255061A (ja) | スパッタリング装置及びスパッタリング処理方法 | |
US20230253185A1 (en) | Systems and Methods for Radiofrequency Signal Generator-Based Control of Impedance Matching System | |
JP7052162B1 (ja) | 高周波電力回路、プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法 | |
KR20210084264A (ko) | 임피던스 조정장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20110516 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110516 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121119 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20121119 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131008 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140513 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140528 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140617 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140625 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5570796 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |