JP2011096817A - 基板加熱装置 - Google Patents
基板加熱装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011096817A JP2011096817A JP2009248685A JP2009248685A JP2011096817A JP 2011096817 A JP2011096817 A JP 2011096817A JP 2009248685 A JP2009248685 A JP 2009248685A JP 2009248685 A JP2009248685 A JP 2009248685A JP 2011096817 A JP2011096817 A JP 2011096817A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- heating
- temperature
- resist
- peripheral portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】スピンコーティング法を用いて所定の塗液が塗布された基板を載置して該基板を加熱する加熱プレートを有する基板加熱装置であって、基板外周部の基板温度を、基板外周部より内側の基板内部の基板温度より低くする手段を有することを特徴とする基板加熱装置である。
【選択図】図1
Description
るものである。
供することができる。
図1は、本発明に係る基板加熱装置における加熱プレートの一実施態様を示した模式図である。本発明に係る基板加熱装置は、スピンコーティング法を用いて所定の塗液が塗布された基板を載置して、基板を加熱する加熱プレート10を有する基板加熱装置であって、基板外周部の基板温度を、基板外周部より内側の基板内部の基板温度より低くする手段を有することを特徴とする基板加熱装置である。
の基板温度より低くするために、基板外周部に対応して配置された加熱ゾーン4(14)、加熱ゾーン5(15)、加熱ゾーン6(16)、加熱ゾーン7(17)の4つの加熱ゾーンにはそれぞれ独立したヒーターが設けられており、基板内部に対応して配置された加熱ゾーン1(11)、加熱ゾーン2(12)、加熱ゾーン3(13)にも同様にそれぞれ独立したヒーターが設けられている。それぞれの加熱ゾーンに設けられたヒーターは、それぞれ独立して温度調節ができるようになっている。
ート状物であれば、プラスチックフィルム、特に発泡プラスチックフィルムや、合成紙、断熱性塗膜などが挙げられる。
11・・・加熱ゾーン1
12・・・加熱ゾーン2
13・・・加熱ゾーン3
14・・・加熱ゾーン4
15・・・加熱ゾーン5
16・・・加熱ゾーン6
17・・・加熱ゾーン7
20・・・ガラス基板
21・・・オリエンテーションフラット
22・・・Aピース
23・・・Bピース
24・・・Cピース
25・・・Dピース
31・・・温度センサーA
32・・・温度センサーB
41・・・凹凸部分
42・・・断熱性部材
Claims (5)
- スピンコーティング法を用いて所定の塗液が塗布された基板を載置して該基板を加熱する加熱プレートを有する基板加熱装置であって、基板外周部の基板温度を、基板外周部より内側の基板内部の基板温度より低くする手段を有することを特徴とする基板加熱装置。
- 加熱プレートは、基板外周部と、基板外周部より内側の基板内部に各々対応して配置された複数の加熱用ヒーターを有し、基板外周部を加熱するヒーターの温度を、基板内部を加熱するヒーターの温度より低くしたことを特徴とする請求項1に記載の基板加熱装置。
- 基板外周部と接触する加熱プレート表面に凹凸を設けることにより、基板外周部における単位面積当たりの接触面積を基板内部における単位面積当たりの接触面積より小さくしたことを特徴とする請求項1または2に記載の基板加熱装置。
- 基板外周部と接触する加熱プレート面に断熱性部材を取り付けたことを特徴とする請求項1または2に記載の基板加熱装置。
- 基板外周部は、基板端から30mm以下の領域であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009248685A JP5446729B2 (ja) | 2009-10-29 | 2009-10-29 | 基板加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009248685A JP5446729B2 (ja) | 2009-10-29 | 2009-10-29 | 基板加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011096817A true JP2011096817A (ja) | 2011-05-12 |
JP5446729B2 JP5446729B2 (ja) | 2014-03-19 |
Family
ID=44113434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009248685A Expired - Fee Related JP5446729B2 (ja) | 2009-10-29 | 2009-10-29 | 基板加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5446729B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109346613A (zh) * | 2018-10-11 | 2019-02-15 | 电子科技大学 | 差温预热旋涂工艺及基于该工艺制备的有机光电探测器 |
JP2020515903A (ja) * | 2017-03-31 | 2020-05-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光学システム |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05136042A (ja) * | 1991-11-08 | 1993-06-01 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH11274030A (ja) * | 1998-03-20 | 1999-10-08 | Hitachi Ltd | レジスト処理方法および装置ならびにレジスト塗布方法 |
JP2004261705A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜除去方法及びその装置 |
JP2006130374A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Sharp Corp | 塗布膜の乾燥方法および乾燥装置 |
JP2009162978A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Toppan Printing Co Ltd | 感光硬化型樹脂組成物の硬化パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法 |
JP2009170739A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Komatsu Ltd | 基板温度制御装置用ステージ |
-
2009
- 2009-10-29 JP JP2009248685A patent/JP5446729B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05136042A (ja) * | 1991-11-08 | 1993-06-01 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH11274030A (ja) * | 1998-03-20 | 1999-10-08 | Hitachi Ltd | レジスト処理方法および装置ならびにレジスト塗布方法 |
JP2004261705A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜除去方法及びその装置 |
JP2006130374A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Sharp Corp | 塗布膜の乾燥方法および乾燥装置 |
JP2009162978A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Toppan Printing Co Ltd | 感光硬化型樹脂組成物の硬化パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法 |
JP2009170739A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Komatsu Ltd | 基板温度制御装置用ステージ |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020515903A (ja) * | 2017-03-31 | 2020-05-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光学システム |
CN109346613A (zh) * | 2018-10-11 | 2019-02-15 | 电子科技大学 | 差温预热旋涂工艺及基于该工艺制备的有机光电探测器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5446729B2 (ja) | 2014-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007144983A (ja) | 印刷装置システム及びそれを用いたパターン形成方法 | |
Nishimura et al. | Photolithography | |
US20130038958A1 (en) | Color filter array and manufacturing method thereof | |
JP5446729B2 (ja) | 基板加熱装置 | |
KR100324440B1 (ko) | 치수 정밀도가 높은 포토마스크를 형성할 수 있는 포토마스크형성 방법 및 열처리장치 | |
US20120224276A1 (en) | Color filter array and manufacturing method thereof | |
US10466545B2 (en) | Method and device for processing photoresist component | |
KR20080083944A (ko) | 컬러필터 기판의 제조 방법 및 그를 위한 적외선 소성 장치 | |
JP2008049221A (ja) | 着色フォトレジストの塗布方法及び塗布装置並びにカラーフィルタの製造方法 | |
KR100796801B1 (ko) | 노광 장치 및 이를 사용한 감광막 패턴 형성 방법 | |
JP2010046980A (ja) | 印刷装置及び印刷物の製造方法 | |
JP2007035706A (ja) | 搬送装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2003177551A (ja) | パターン形成方法およびそれに用いる露光装置 | |
JP2007171616A (ja) | カラーフィルタの製造方法およびこの方法に用いるカラーフィルタの製造システム | |
JP2007130516A (ja) | スリットアンドスピンコータ、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ | |
JP2007232890A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2003068598A (ja) | ベーキング方法及びベーキング装置 | |
TWI385614B (zh) | 影像顯示系統及其製造方法 | |
KR101175809B1 (ko) | 평판 디스플레이용 패턴마스터 제작방법 | |
KR101537675B1 (ko) | 도포막용 건조로 | |
JP2007193154A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
KR100687332B1 (ko) | 액정표시장치 제조방법 | |
JP2012099607A (ja) | 基板加熱装置および基板加熱方法 | |
KR101308316B1 (ko) | 액정표시장치의 컬러필터 제조방법 | |
JP2014092701A (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130731 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130731 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130927 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131023 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |