JP2011091249A - 太陽電池 - Google Patents
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Abstract
【課題】 カルコパイライト構造を有する光吸収層を利用するスーパーストレート型の太陽電池において、バッファ層と光吸収層との相互拡散に起因する特性劣化を防止して、変換効率等の特性が良好な太陽電池を提供する。
【解決手段】 バッファ層を、少なくともInとSとを含む化合物で形成することにより、前記課題を解決する。
【選択図】 図1
【解決手段】 バッファ層を、少なくともInとSとを含む化合物で形成することにより、前記課題を解決する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、スーパーストレート型の太陽電池に関し、詳しくは、バッファ層と光吸収層との相互拡散に起因する特性劣化を防止した、優れた特性を有するスーパーストレート型の太陽電池に関する。
Ib族、IIIb族、VIb元素からなるカルコパイライト構造を有するCuInSe2(いわゆるCIS)や、CISに、さらにGaを固溶させたCu(In,Ga)Se2(いわゆるCIGS)を、光吸収層に用いた太陽電池の開発が、盛んに行なわれている。
この太陽電池の構造は、大きく2つに分類することができる。
1つは、基板上に、金属電極、光吸収層、バッファ層、および透明電極の順番で積層した構造(いわゆる、サブストレート型)である。もう1つは、ガラスなどの透明基板上に、透明電極、バッファ層、光吸収層、および金属電極の順番で積層した構造(いわゆる、スーパーストレート型)である。
サブストレート型の太陽電池では、光は基板面と反対側から入射され、逆に、スーパーストレート型の太陽電池では、光は、透明基板面から入射される。
1つは、基板上に、金属電極、光吸収層、バッファ層、および透明電極の順番で積層した構造(いわゆる、サブストレート型)である。もう1つは、ガラスなどの透明基板上に、透明電極、バッファ層、光吸収層、および金属電極の順番で積層した構造(いわゆる、スーパーストレート型)である。
サブストレート型の太陽電池では、光は基板面と反対側から入射され、逆に、スーパーストレート型の太陽電池では、光は、透明基板面から入射される。
スーパーストレート型の太陽電池は、透明基板面より光を入射させるために、サブストレート型で必要であった保護ガラスが不要になる、pn界面が平坦になるために、バッファ層を気相成長できるなど、サブストレート型の太陽電池に比して、量産化や低コスト化に有利な構造であることが指摘されている。
ところで、カルコパイライド構造を有する化合物からなる光吸収層を利用する太陽電池では、代表的なバッファ層として、CdS層が用いられている。
ここで、スーパーストレート型では、その構造上、バッファ層を形成した後に、カルコパイライド構造の光吸収層の成膜を行なう必要がある。また、カルコパイライト構造を有する光吸収層は、特許文献1にも記載されるように、結晶性や膜質の良好な膜を成膜するために、高温での成膜(堆積)を行なう必要が有る。
そのため、バッファ層を成膜した後に、光吸収層を成膜するスーパーストレート型の太陽電池では、光吸収層の成膜中に、バッファ層が、長時間、高温に曝されてしまい、これにより、バッファ層と光吸収層との間で、構成元素の相互拡散が生じてしまい、光吸収層に不純物であるCdが拡散して、変換効率等の特性劣化を生じるという問題が有る。
そのため、バッファ層を成膜した後に、光吸収層を成膜するスーパーストレート型の太陽電池では、光吸収層の成膜中に、バッファ層が、長時間、高温に曝されてしまい、これにより、バッファ層と光吸収層との間で、構成元素の相互拡散が生じてしまい、光吸収層に不純物であるCdが拡散して、変換効率等の特性劣化を生じるという問題が有る。
光吸収層を成膜した後に、バッファ層を成膜するサブストレート型の太陽電池では、このような相互拡散は生じることはない。
しかしながら、スーパーストレート型の太陽電池では、このようなバッファ層と光吸収層との相互拡散のために、サブストレート型よりも変換効率が劣っているのが一般的である。
しかしながら、スーパーストレート型の太陽電池では、このようなバッファ層と光吸収層との相互拡散のために、サブストレート型よりも変換効率が劣っているのが一般的である。
このような問題点を解決するために、前記特許文献1では、スーパーストレート型の太陽電池において、CdSからなるバッファ層の代わりに、酸化亜鉛などの透明絶縁体バッファ層を用いて、相互拡散を抑制することを提案している。
しかしながら、特許文献1に示されるような、透明絶縁体バッファ層を用いる構成では、バッファ層と光吸収層との間に、異種間材料の接合による欠陥準位が多数存在してしまう。また、バッファ層として酸化物を用いた場合、光吸収層の構成元素と反応して、界面部分に絶縁酸化物が生成されてしまうことから、pn接合部の品質を上げることができず、高効率化には不利である。
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、スーパーストレート型の太陽電池であって、光吸収層へのCd等の不純物の拡散を抑制すると共に、Inを光吸収層に拡散して光吸収層内にpn構造を形成でき、しかも、光吸収層のSe抜けも好適に補修できる、高い変換効率等の優れた特性を有する太陽電池を提供することにある。
前記目的を達成するために、本発明の太陽電池は、透明な絶縁性基板の上に、下部透明電極と、少なくともInおよびSを含む化合物からなるバッファ層と、Ib族元素、IIIb族元素、および、VIb族元素からなる化合物半導体を有する光吸収層と、上部電極となる金属電極層または透明電極層とを、前記順番で有することを特徴とする太陽電池を提供する。
このような本発明の太陽電池において、前記InおよびSを含む化合物が、InxSyで示される化合物、もしくは、In(S,OH)zで示される化合物であるのが好ましく、また、前記下部透明電極が、ZnO系化合物であるのが好ましく、また、前記ZnO系化合物に、アルミニウムがドーピングされているのが好ましく、また、前記光吸収層を構成する化合物半導体が、Inを含む化合物であるのが好ましい。
また、前記光吸収層を構成する化合物半導体が、Cu(In1-xGax)Se2で示される化合物であるのが好ましく、この際において、前記光吸収層が、この光吸収層を構成するCu(In1-xGax)Se2のGa濃度が、pn接合から前記上部電極に向けて増加する領域を有するのが好ましい。
また、前記光吸収層に、Ia族元素が添加されているのが好ましく、また、前記バッファ層の層厚が、50〜200nmであるのが好ましく、さらに、前記光吸収層が、多源同時真空蒸着によって成膜されたものであるのが好ましい。
また、前記光吸収層を構成する化合物半導体が、Cu(In1-xGax)Se2で示される化合物であるのが好ましく、この際において、前記光吸収層が、この光吸収層を構成するCu(In1-xGax)Se2のGa濃度が、pn接合から前記上部電極に向けて増加する領域を有するのが好ましい。
また、前記光吸収層に、Ia族元素が添加されているのが好ましく、また、前記バッファ層の層厚が、50〜200nmであるのが好ましく、さらに、前記光吸収層が、多源同時真空蒸着によって成膜されたものであるのが好ましい。
前述のように、スーパーストレート型の太陽電池では、その構成上、バッファ層を形成した後に、光吸収層を形成する必要があり、両層の相互拡散が生じる。これに対し、上記構成を有する、本発明においては、In自身が光吸収層の構成元素であるため、CdSバッファ層では問題となる拡散問題によって、膜品質に悪影響を与えることがない。
また、Inを光吸収層に拡散するために、pn界面を光吸収層内部に形成することができ、ヘテロ界面での欠陥による性能低下を抑制することができる。しかも、スーパーストレート型では、バッファ層を形成する面を平坦にすることができるので、光吸収層内部に均一なpn接合部を作ることができる。
また、Inを光吸収層に拡散するために、pn界面を光吸収層内部に形成することができ、ヘテロ界面での欠陥による性能低下を抑制することができる。しかも、スーパーストレート型では、バッファ層を形成する面を平坦にすることができるので、光吸収層内部に均一なpn接合部を作ることができる。
以下、本発明の太陽電池について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
図1に、本発明の太陽電池の一例を概念的に示す。
図1に示す太陽電池10は、基板12と、下部透明電極層14と、バッファ層16と、光吸収層18と、上部電極層20とを有して構成される。
本発明の太陽電池10は、光吸収層18として、カルコパイライド構造を有する化合物半導体を光吸収層として用いるスーパーストレート型の太陽電池であって、図中の矢印で示すように、太陽光等の光は、基板12から入射する。
図1に示す太陽電池10は、基板12と、下部透明電極層14と、バッファ層16と、光吸収層18と、上部電極層20とを有して構成される。
本発明の太陽電池10は、光吸収層18として、カルコパイライド構造を有する化合物半導体を光吸収層として用いるスーパーストレート型の太陽電池であって、図中の矢印で示すように、太陽光等の光は、基板12から入射する。
本発明の太陽電池10において、基板12には、特に限定はなく、公知のスーパーストレート型の太陽電池で利用されている、透明で、かつ絶縁性を有する基板(板材)が、全て、利用可能である。
具体的には、青板ガラス(ソーダライムガラス)の他、青板ガラスよりもアルカリ成分が低く、かつ、歪点が高いガラス等が好適に例示される。
具体的には、青板ガラス(ソーダライムガラス)の他、青板ガラスよりもアルカリ成分が低く、かつ、歪点が高いガラス等が好適に例示される。
また、基板12の厚さにも、特に限定はなく、太陽電池10(太陽電池セル/太陽電池モジュール)の大きさや、基板12の形成材料等に応じて、十分な透明性や強度等を確保できる厚さを、適宜、設定すればよいが、通常、1〜3mm程度である。
図示例の太陽電池10において、基板12の上には、下部透明電極層14(以下、透明電極層14とする)が形成される。
透明電極層14は、透明で、かつ、導電性を有する材料からなる層である。
透明電極層14は、透明で、かつ、導電性を有する材料からなる層である。
透明電極層14の形成材料には、特に限定はなく、太陽電池において透明電極層として利用されている、透明で導電性を有する材料が、各種、利用可能である。
具体的には、ZnO等のZnO系化合物、ITO(インジウム錫酸化物)等のITO系化合物、SnO2等のSnO系化合物、および、これらの組合わせが、好ましく例示される。また、ZnO系化合物では、ドーパントとしてAl(アルミニウム)、Ga(ガリウム)、B(硼素)等をドーピングしたものが、好適に例示される。
中でも、ZnO系化合物は好適に例示され、中でも特に、ZnO系化合物にAlをドーピングした物は、好適に例示される。
具体的には、ZnO等のZnO系化合物、ITO(インジウム錫酸化物)等のITO系化合物、SnO2等のSnO系化合物、および、これらの組合わせが、好ましく例示される。また、ZnO系化合物では、ドーパントとしてAl(アルミニウム)、Ga(ガリウム)、B(硼素)等をドーピングしたものが、好適に例示される。
中でも、ZnO系化合物は好適に例示され、中でも特に、ZnO系化合物にAlをドーピングした物は、好適に例示される。
透明電極層14の厚さにも、特に限定は無いが、0.5〜1.5μmが好ましい。
また、透明電極層14は、単層でも、2層以上を積層した積層構造でもよい。
また、透明電極層14は、単層でも、2層以上を積層した積層構造でもよい。
透明電極層14の成膜方法(形成方法)には、特に限定はなく、電子ビーム等を用いる真空蒸着やスパッタリングなど、太陽電池の製造等で利用されている透明電極層の成膜方法が、各種、利用可能である。
透明電極層14の上には、バッファ層16が形成される。
バッファ層16は、本発明の特徴的な部位であって、InxSyやIn(S,OH)zなどの、少なくともInおよびSを含む化合物(以下、この化合物を、便宜的に『InS系化合物』と称する)からなる層である。
本発明においては、このような構成、すなわち、カルコパイライト構造の化合物半導体からなる光吸収層18を有する、スーパーストレート型の太陽電池において、透明電極層14と光吸収層8との間に設けられるバッファ層16を、InS系化合物からなる層とすることにより、汎用されるCdSをバッファ層として用いた際に生じるCdの光吸収層への拡散等の光吸収層への不純物の拡散の問題を解決し、また、Pn界面を光吸収層の内部に形成して、ヘテロ界面での欠陥による性能低下を抑制し、さらに、光吸収層18の表面におけるSe抜けを補修することで、変換効率のバラツキを低減した、高い変換効率等の優れた特性を有する太陽電池を実現している。
バッファ層16は、本発明の特徴的な部位であって、InxSyやIn(S,OH)zなどの、少なくともInおよびSを含む化合物(以下、この化合物を、便宜的に『InS系化合物』と称する)からなる層である。
本発明においては、このような構成、すなわち、カルコパイライト構造の化合物半導体からなる光吸収層18を有する、スーパーストレート型の太陽電池において、透明電極層14と光吸収層8との間に設けられるバッファ層16を、InS系化合物からなる層とすることにより、汎用されるCdSをバッファ層として用いた際に生じるCdの光吸収層への拡散等の光吸収層への不純物の拡散の問題を解決し、また、Pn界面を光吸収層の内部に形成して、ヘテロ界面での欠陥による性能低下を抑制し、さらに、光吸収層18の表面におけるSe抜けを補修することで、変換効率のバラツキを低減した、高い変換効率等の優れた特性を有する太陽電池を実現している。
CuInSe2(いわゆるCIS)や、Cu(In,Ga)Se2(いわゆるCIGS)などのカルコパイライト構造の化合物半導体からなる光吸収層を有する太陽電池では、光吸収層と電極層との間に設けられるバッファ層として、CdSが汎用されている。
ここで、スーパーストレート型の太陽電池では、その構成上、バッファ層を成膜した後に、光吸収層を成膜する必要がある。ところが、カルコパイライト構造の光吸収層では、膜の結晶性や膜質の向上を図るためには、高温で成膜(堆積)を行なう必要が有る。そのため、光吸収層の成膜中に、バッファ層が、長時間、高温に曝されてしまい、その結果、バッファ層と光吸収層との間で構成元素(構成成分)の相互拡散が生じて、不純物であるCdが光吸収層に拡散してしまい、変換効率の低下等の特性劣化が生じてしまう。
光吸収層を成膜した後に、バッファ層を成膜するサブストレート型の太陽電池では、このような問題は生じることはなく、すなわち、これは、スーパーストレート型に特有の課題である。
ここで、スーパーストレート型の太陽電池では、その構成上、バッファ層を成膜した後に、光吸収層を成膜する必要がある。ところが、カルコパイライト構造の光吸収層では、膜の結晶性や膜質の向上を図るためには、高温で成膜(堆積)を行なう必要が有る。そのため、光吸収層の成膜中に、バッファ層が、長時間、高温に曝されてしまい、その結果、バッファ層と光吸収層との間で構成元素(構成成分)の相互拡散が生じて、不純物であるCdが光吸収層に拡散してしまい、変換効率の低下等の特性劣化が生じてしまう。
光吸収層を成膜した後に、バッファ層を成膜するサブストレート型の太陽電池では、このような問題は生じることはなく、すなわち、これは、スーパーストレート型に特有の課題である。
このような問題点に対し、本発明においては、スーパーストレート型の太陽電池10において、バッファ層14を、前記InxSy等のInS系化合物で形成する。
InxSy等のInS系化合物からなるバッファ層も、加熱によって光吸収層との相互拡散を生じ、Inが光吸収層18に取り込まれる。すなわち、高い結晶性や膜質を得るために高温での成膜が必要な光吸収層18の成膜中に、バッファ層14のInが光吸収層18に拡散する。しかしながら、バッファ層14のInが光吸収層18に拡散しても、Inは、元々、光吸収層18の構成元素であるため、光吸収層18の品質に影響を与えることはない。
InxSy等のInS系化合物からなるバッファ層も、加熱によって光吸収層との相互拡散を生じ、Inが光吸収層18に取り込まれる。すなわち、高い結晶性や膜質を得るために高温での成膜が必要な光吸収層18の成膜中に、バッファ層14のInが光吸収層18に拡散する。しかしながら、バッファ層14のInが光吸収層18に拡散しても、Inは、元々、光吸収層18の構成元素であるため、光吸収層18の品質に影響を与えることはない。
加えて、Inが光吸収層18に拡散することにより、pn界面を光吸収層内部に形成することができ、ヘテロ界面での欠陥による性能劣化を抑制できる。例えば、Inを取り込んだCIGSからなる光吸収層18は、その領域のみCu(In.Ga)3Se5に変化するが、この層がGa/(In+Ga)<0.3の範囲では、n型を示すため、光吸収層18の内部にpn接合を形成できる。
しかも、サブストレート構造では、バッファ層の成膜面となる光吸収層における最表面の凹凸が激しいため、深さ方向に対するInの拡散分布が生じて、均一なpn接合部ができず、そのために、大面積化における性能再現性に問題があるが、本発明のようなスーパーストレート構造では、平坦な成膜面にバッファ層16を成膜できるので、このような問題も生じることはない。
しかも、サブストレート構造では、バッファ層の成膜面となる光吸収層における最表面の凹凸が激しいため、深さ方向に対するInの拡散分布が生じて、均一なpn接合部ができず、そのために、大面積化における性能再現性に問題があるが、本発明のようなスーパーストレート構造では、平坦な成膜面にバッファ層16を成膜できるので、このような問題も生じることはない。
また、スーパーストレート構造の製作上の問題として、酸化物上に、カルコパイライト構造の膜、例えば、CIGS膜を形成すると、膜中のGaまたはInが酸化物の酸素と反応して絶縁膜となり、その結果、短絡電流密度などの特性を悪化させることが知られている。
これに対して、本発明の太陽電池10では、透明電極層14の上に、InS系化合物からなるバッファ層16を設け、その上に、CIGS膜等の光吸収層18を形成しているので、バッファ層16が絶縁膜の形成を抑制することができ、短絡電流密度等の特性を改善することができる。
これに対して、本発明の太陽電池10では、透明電極層14の上に、InS系化合物からなるバッファ層16を設け、その上に、CIGS膜等の光吸収層18を形成しているので、バッファ層16が絶縁膜の形成を抑制することができ、短絡電流密度等の特性を改善することができる。
さらに、Cdは、環境汚染の点でも問題がある。
そのため、Cd化合物ではないバッファ層を用いるスーパーストレート型の太陽電池も検討されており、例えば、『Solar Energy Materials and Solar Cells 50 (1998) 97-103 「Superstrate-type CuInSe2-Based Thin Film Solar Cells by Low Temperature Process Using Sodium Compounds」』に示されるような、InSe系の材料からなるバッファ層を用いる太陽電池も知られている。
本発明の太陽電池も、Cdを用いないので、環境特性にも優れる。
そのため、Cd化合物ではないバッファ層を用いるスーパーストレート型の太陽電池も検討されており、例えば、『Solar Energy Materials and Solar Cells 50 (1998) 97-103 「Superstrate-type CuInSe2-Based Thin Film Solar Cells by Low Temperature Process Using Sodium Compounds」』に示されるような、InSe系の材料からなるバッファ層を用いる太陽電池も知られている。
本発明の太陽電池も、Cdを用いないので、環境特性にも優れる。
ここで、光吸収層として、CISやCIGSなどのSeを含むカルコパイライト構造を有する化合物を用いた場合には、光吸収層からのSe抜けによって変換効率のバラツキ等の特性劣化を生じるという問題が有る。
このような問題に対し、InSe系の材料では、Se抜けの問題が、そのまま発生してしまい、すなわち、Se抜けに起因する変換効率のバラツキ等の特性劣化を防ぐことができない。これに対し、InS系化合物からなるバッファ層16を有する本発明によれば、Sが光吸収層18のSe抜けを補修するため、Se抜けに起因する変換効率のバラツキ等の特性劣化も、大幅に抑制することができる。
このような問題に対し、InSe系の材料では、Se抜けの問題が、そのまま発生してしまい、すなわち、Se抜けに起因する変換効率のバラツキ等の特性劣化を防ぐことができない。これに対し、InS系化合物からなるバッファ層16を有する本発明によれば、Sが光吸収層18のSe抜けを補修するため、Se抜けに起因する変換効率のバラツキ等の特性劣化も、大幅に抑制することができる。
ところで、前述のように、Cdは有害物質であることから、サブストレート型の太陽電池において、Cdを含まないバッファ層として、InS系化合物が検討されている。
しかしながら、CISやCIGS等のカルコパイライト構造を有する光吸収層を用いた太陽電池では、InS系化合物からなるバッファ層よりも、CdSからなるバッファ層の方が、光吸収層との相性が良く、すなわち、CdSからなるバッファ層を用いた方が、変換効率等の点で優れた特性を得ることができる。また、前述のように、サブストレート型では、バッファ層の成膜面である光吸収層の表面性状の悪さから、InS系化合物をバッファ層に用いると、深さ方向に対するInの拡散分布が生じて、均一なpn接合部ができないという問題も有るのは、前述のとおりである。
そのため、サブストレート型の太陽電池では、バッファ層としてInS系化合物が利用可能であることは知られているが、やはり、優れた特性を得ることができるCdSがバッファ層として用いられているのが、現状である。
しかしながら、CISやCIGS等のカルコパイライト構造を有する光吸収層を用いた太陽電池では、InS系化合物からなるバッファ層よりも、CdSからなるバッファ層の方が、光吸収層との相性が良く、すなわち、CdSからなるバッファ層を用いた方が、変換効率等の点で優れた特性を得ることができる。また、前述のように、サブストレート型では、バッファ層の成膜面である光吸収層の表面性状の悪さから、InS系化合物をバッファ層に用いると、深さ方向に対するInの拡散分布が生じて、均一なpn接合部ができないという問題も有るのは、前述のとおりである。
そのため、サブストレート型の太陽電池では、バッファ層としてInS系化合物が利用可能であることは知られているが、やはり、優れた特性を得ることができるCdSがバッファ層として用いられているのが、現状である。
これに対し、本発明においては、スーパーストレート型の太陽電池において、強いて、カルコパイライト構造を有する光吸収層との相性がCdSよりも悪い、InS系化合物をバッファ層として用いる。
前述のように、スーパーストレート型の太陽電池では、サブストレート型の太陽電池では生じ得ない、光吸収層の成膜時に、バッファ層と光吸収層との相互拡散が生じ、バッファ層としてCdSを用いた場合には、相互拡散によって、変換効率等の特性劣化を生じてしまう。すなわち、スーパーストレート型の太陽電池では、光吸収層とバッファ層との相性の悪さに起因する特性劣化よりも、サブストレート型の太陽電池では生じ得ない光吸収層へのCdの拡散による特性劣化の方が、遥かに問題となり、光吸収層との相性がCdSよりも悪いInS系化合物をバッファ層に用いた方が、高い変換効率等の優れた特性を得ることができる。
加えて、前述のように、カルコパイライト構造を有する光吸収層を用いるスーパーストレート型の太陽電池では、バッファ層16にInS系化合物を用いることにより、光吸収層18内に均一なpn接合部を形成できる、バッファ層16と透明電極層14との間に不要な絶縁膜が形成されることを抑制できる、Sによる光吸収層16のSe欠陥の補修など、サブストレート型の太陽電池からは想定することができない、優れた効果を得ることができる。
前述のように、スーパーストレート型の太陽電池では、サブストレート型の太陽電池では生じ得ない、光吸収層の成膜時に、バッファ層と光吸収層との相互拡散が生じ、バッファ層としてCdSを用いた場合には、相互拡散によって、変換効率等の特性劣化を生じてしまう。すなわち、スーパーストレート型の太陽電池では、光吸収層とバッファ層との相性の悪さに起因する特性劣化よりも、サブストレート型の太陽電池では生じ得ない光吸収層へのCdの拡散による特性劣化の方が、遥かに問題となり、光吸収層との相性がCdSよりも悪いInS系化合物をバッファ層に用いた方が、高い変換効率等の優れた特性を得ることができる。
加えて、前述のように、カルコパイライト構造を有する光吸収層を用いるスーパーストレート型の太陽電池では、バッファ層16にInS系化合物を用いることにより、光吸収層18内に均一なpn接合部を形成できる、バッファ層16と透明電極層14との間に不要な絶縁膜が形成されることを抑制できる、Sによる光吸収層16のSe欠陥の補修など、サブストレート型の太陽電池からは想定することができない、優れた効果を得ることができる。
本発明において、バッファ層16となるInS系化合物には、特に限定はなく、InとSとを有する化合物が、各種、利用可能である。
一例として、InxSyおよびIn(S,OH)zは、好ましく例示される。
なお、InxSyは、主にIn2S3であるが、蒸着状態等によって、組成がストイキオメトリからズレる場合も有るので、InxSyと表記している。また、後述するCBD法などの溶液法でInxSyからなるバッファ層16を形成した場合、水酸化物の混入を防ぐことができない。In(S,OH)zは、これに対応して、主に前記InxSyに水酸化物が混在している状態を示している。
一例として、InxSyおよびIn(S,OH)zは、好ましく例示される。
なお、InxSyは、主にIn2S3であるが、蒸着状態等によって、組成がストイキオメトリからズレる場合も有るので、InxSyと表記している。また、後述するCBD法などの溶液法でInxSyからなるバッファ層16を形成した場合、水酸化物の混入を防ぐことができない。In(S,OH)zは、これに対応して、主に前記InxSyに水酸化物が混在している状態を示している。
バッファ層16の厚さにも、特に限定はなく、成膜温度や成膜時間などの光吸収層16の成膜条件等に応じて、適宜、設定すればよいが、50〜200nmが好ましい。
バッファ層16の厚さを、上記範囲とすることにより、光吸収層16の内部に、好適にpn接合を形成することができる等の点で好ましい結果を得ることができる。
バッファ層16の厚さを、上記範囲とすることにより、光吸収層16の内部に、好適にpn接合を形成することができる等の点で好ましい結果を得ることができる。
バッファ層16の成膜方法にも、特に限定はなく、上記各種のInS系化合物を成膜可能な、公知の成膜方法が、各種、利用可能である。
具体的には、蒸着法、気相化学製膜法であるALD(Atomic Layer Deposition)法、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)などのCVD法、溶液法であるCBD(Chemical Bath Deposition)法、RFスパッタリングや反応性スパッタリングなどのスパッタリング等が好適に例示される。
なお、バッファ層16の成膜にALDを用いた場合には、成膜温度180〜250℃で成膜するのが好ましい。
具体的には、蒸着法、気相化学製膜法であるALD(Atomic Layer Deposition)法、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)などのCVD法、溶液法であるCBD(Chemical Bath Deposition)法、RFスパッタリングや反応性スパッタリングなどのスパッタリング等が好適に例示される。
なお、バッファ層16の成膜にALDを用いた場合には、成膜温度180〜250℃で成膜するのが好ましい。
例えば、CBD法によって、InS系化合物からなるバッファ層を成膜する場合には、塩化インジウムとチオアセトアミドとを混合/溶解した水溶液を用い、室温の水溶液に、基板を浸漬した後、所定の温度まで加熱して、この温度で、所定時間、保つことにより、InS系化合物からなるバッファ層を成膜すればよい。
バッファ層16の上には、光吸収層18が形成される。
光吸収層18は、光を吸収することにより電流を発生する光電変換層である。本発明において、光吸収層18は、Ib族元素、IIIb族元素、および、VIb族元素からなる、カルコパイライト構造を有する少なくとも1種の化合物半導体を主成分とする層である。
光吸収層18は、光を吸収することにより電流を発生する光電変換層である。本発明において、光吸収層18は、Ib族元素、IIIb族元素、および、VIb族元素からなる、カルコパイライト構造を有する少なくとも1種の化合物半導体を主成分とする層である。
特に、光吸収率が高く、高い光電変換効率が得られることから、光吸収層18の主成分となる化合物は、
CuおよびAgからなる群より選択された少なくとも1種のIb族元素と、
Al,GaおよびInからなる群より選択された少なくとも1種のIIIb族元素と、
S,Se,およびTeからなる群から選択された少なくとも1種のVIb族元素とからなる、少なくとも1種の化合物半導体であることが好ましい。
CuおよびAgからなる群より選択された少なくとも1種のIb族元素と、
Al,GaおよびInからなる群より選択された少なくとも1種のIIIb族元素と、
S,Se,およびTeからなる群から選択された少なくとも1種のVIb族元素とからなる、少なくとも1種の化合物半導体であることが好ましい。
このような化合物半導体としては、
CuAlS2,CuGaS2,CuInS2,
CuAlSe2,CuGaSe2,CuInSe2(いわゆるCIS),
AgAlS2,AgGaS2,AgInS2,
AgAlSe2,AgGaSe2,AgInSe2,
AgAlTe2,AgGaTe2,AgInTe2,
Cu(In1-xGax)Se2(いわゆるCIGS),Cu(In1-xAlx)Se2,Cu(In1-xGax)(S,Se)2,
Ag(In1-xGax)Se2,および、Ag(In1-xGax)(S,Se)2等が挙げられる。
CuAlS2,CuGaS2,CuInS2,
CuAlSe2,CuGaSe2,CuInSe2(いわゆるCIS),
AgAlS2,AgGaS2,AgInS2,
AgAlSe2,AgGaSe2,AgInSe2,
AgAlTe2,AgGaTe2,AgInTe2,
Cu(In1-xGax)Se2(いわゆるCIGS),Cu(In1-xAlx)Se2,Cu(In1-xGax)(S,Se)2,
Ag(In1-xGax)Se2,および、Ag(In1-xGax)(S,Se)2等が挙げられる。
光吸収層18は、Inを有する化合物を含むのが好ましく、特に、CISおよび/またはCISにGaを固溶したCIGSを含むのが好ましい。中でも特に、CIGSを主成分とするのが、好ましい。
CISおよびCIGSは、共に、カルコパイライト結晶構造を有する半導体であり、光吸収率が高く、高エネルギー変換効率が報告されている。また、光照射等による効率の劣化が少なく、耐久性に優れている。
CISおよびCIGSは、共に、カルコパイライト結晶構造を有する半導体であり、光吸収率が高く、高エネルギー変換効率が報告されている。また、光照射等による効率の劣化が少なく、耐久性に優れている。
光吸収層18には、所望の半導体導電型を得るための不純物が含まれる。不純物は隣接する層からの拡散、および/または、積極的なドープによって、光吸収層18中に含有させることができる。
光吸収層18中において、I−III−VI族半導体の構成元素および/または不純物には、濃度分布があってもよく、n型、p型、およびi型等の半導体性の異なる複数の層領域が含まれていても構わない。
特に、光吸収層18が、CIGSのようにGaを含む化合物である場合には、光吸収層18中のGa濃度が層の厚さ方向に勾配を持って分布することによる、グレーテッドバンドギャップ構造であるのが好ましい。これにより、量に厚み方向の分布を持たせると、バンドギャップの幅/キャリアの移動度等を制御でき、光電変換効率を高く設計することができる。
特に、光吸収層18が、CIGSのようにGaを含む化合物である場合には、光吸収層18中のGa濃度が層の厚さ方向に勾配を持って分布することによる、グレーテッドバンドギャップ構造であるのが好ましい。これにより、量に厚み方向の分布を持たせると、バンドギャップの幅/キャリアの移動度等を制御でき、光電変換効率を高く設計することができる。
CdSを用いるバッファ層のように、バッファ層の元素をドーパントとして光吸収層へ拡散させる方式では、拡散が進みすぎると、pn接合部とは別に、p型の光吸収層の内部に拡散により生じたn型領域が点在する結果となり、太陽電池特性に悪影響を及ぼす。
これに対して、Inは、前述のように光吸収層18の構成元素の1つであり、しかも、Ga/(In+Ga)>0.3の濃度ではInが拡散してもn型になることはなく、p型のままであるので、特性の劣化は生じない。
これを利用して、光吸収層18(CIGS層)中のGa濃度が勾配を持って分布する、グレーデッドバンドギャップ構造とすることにより、pn接合部から離れるにつれて、光吸収層18(CIGS層)のGa濃度が増えるため、バッファ層からInが拡散されても光吸収層18の中央付近はp型を維持することができる。また、この構造では、内部電界が生じるために、光によって励起された少数キャリア(電子)が、後述する上部電極20(例えば、Au電極)側からpn接合側へ押し出され、小数キャリアの収集効率が向上し、電流値を上昇させることができる。そのため、特性改善の効果が大きい。
これを利用して、光吸収層18(CIGS層)中のGa濃度が勾配を持って分布する、グレーデッドバンドギャップ構造とすることにより、pn接合部から離れるにつれて、光吸収層18(CIGS層)のGa濃度が増えるため、バッファ層からInが拡散されても光吸収層18の中央付近はp型を維持することができる。また、この構造では、内部電界が生じるために、光によって励起された少数キャリア(電子)が、後述する上部電極20(例えば、Au電極)側からpn接合側へ押し出され、小数キャリアの収集効率が向上し、電流値を上昇させることができる。そのため、特性改善の効果が大きい。
光吸収層18には、特性に支障のない限りにおいて、半導体や、所望の導電型とするための不純物以外の任意成分が含まれていても構わない。
さらに、光吸収層18は、単層膜であるのに限定はされず、異なるカルコパイライト化合物半導体からなる層を積層してなる、複数層(同じ化合物が複数有っても可)から構成される積層構造であってもよい。
例えば、Cu(In,Ga)(S,Se)2を表面層として有する、CIGSであってもよい。
例えば、Cu(In,Ga)(S,Se)2を表面層として有する、CIGSであってもよい。
光吸収層18は、Li、Na、K等のIa族元素(アルカリ金属)が添加されているのが、好ましい。
光吸収層18にIa族元素を添加することにより、膜中のキャリア濃度を向上することができる等の点で好ましい結果を得ることができる。
光吸収層18にIa族元素を添加する方法には、特に限定はなく、公知の方法が、各種、利用可能である。一例として、1種または複数種のIa族元素を含む層である供給層を設け、光吸収層18の成膜時に、この供給層から光吸収層18に、Ia族元素を添加する方法が例示される。なお、供給層は、単層でも、異なる物質からなる層を積層した積層構造であってもよい。
光吸収層18にIa族元素を添加することにより、膜中のキャリア濃度を向上することができる等の点で好ましい結果を得ることができる。
光吸収層18にIa族元素を添加する方法には、特に限定はなく、公知の方法が、各種、利用可能である。一例として、1種または複数種のIa族元素を含む層である供給層を設け、光吸収層18の成膜時に、この供給層から光吸収層18に、Ia族元素を添加する方法が例示される。なお、供給層は、単層でも、異なる物質からなる層を積層した積層構造であってもよい。
光吸収層18の厚さには、特に限定はなく、公知のスーパーストレート型の太陽電池における光吸収層(光電変換層)の厚さと、同様でよいが、1.8〜2.5μm程度が好ましい。
光吸収層18の成膜方法には、特に限定はなく、太陽電池の製造等に利用されている、カルコパイライト構造を有する化合物半導体を成膜方法が、各種、利用可能である。
なお、カルコパイライト構造を有する化合物半導体からなる光吸収層18を成膜する際には、高温(好ましくは520℃以上)で成膜(堆積)を行なうことにより、結晶性に優れ、膜質が良好な光吸収層18が得られるのは、前述のとおりである。
なお、カルコパイライト構造を有する化合物半導体からなる光吸収層18を成膜する際には、高温(好ましくは520℃以上)で成膜(堆積)を行なうことにより、結晶性に優れ、膜質が良好な光吸収層18が得られるのは、前述のとおりである。
本発明の太陽電池10において、光吸収層18の成膜方法の具体的な一例としては、多源同時蒸着法が例示される。
光吸収層18としてCIGS層を成膜する場合を例に説明すると、多源同時蒸着法は、層の構成元素(成分)を含む成膜材料を、複数、適当な組み合わせで用いて、各成膜材料毎に異なる蒸発源を用いて、500℃以上の成膜温度で、同時に蒸着を行なうことによって、成膜を行なう方法である。この多元同時蒸着において、成膜条件を制御することにより、前述のGa濃度に勾配を持たせたグレーデッドバンドギャップ構造のCIGS層(光吸収層)を成膜できる。
また、多源同時蒸着法としては、3段階法(J.R.Tuttle et.al,Mat.Res.Soc.Symp.Proc.,Vol.426(1996)p.143.等)、および、ECグループの同時蒸着法(L.Stolt et al.:Proc.13th ECPVSEC(1995,Nice)1451.等)も、知られている。
前者の3段階法は、高真空中で最初にIn、Ga、およびSeを基板温度300℃で同時蒸着し、次に500〜560℃に昇温してCuおよびSeを同時蒸着後、In、Ga、およびSeをさらに同時蒸着する方法である。後者のECグループの同時蒸着法は、蒸着初期にCu過剰CIGS、後半でIn過剰CIGSを蒸着する方法である。
光吸収層18としてCIGS層を成膜する場合を例に説明すると、多源同時蒸着法は、層の構成元素(成分)を含む成膜材料を、複数、適当な組み合わせで用いて、各成膜材料毎に異なる蒸発源を用いて、500℃以上の成膜温度で、同時に蒸着を行なうことによって、成膜を行なう方法である。この多元同時蒸着において、成膜条件を制御することにより、前述のGa濃度に勾配を持たせたグレーデッドバンドギャップ構造のCIGS層(光吸収層)を成膜できる。
また、多源同時蒸着法としては、3段階法(J.R.Tuttle et.al,Mat.Res.Soc.Symp.Proc.,Vol.426(1996)p.143.等)、および、ECグループの同時蒸着法(L.Stolt et al.:Proc.13th ECPVSEC(1995,Nice)1451.等)も、知られている。
前者の3段階法は、高真空中で最初にIn、Ga、およびSeを基板温度300℃で同時蒸着し、次に500〜560℃に昇温してCuおよびSeを同時蒸着後、In、Ga、およびSeをさらに同時蒸着する方法である。後者のECグループの同時蒸着法は、蒸着初期にCu過剰CIGS、後半でIn過剰CIGSを蒸着する方法である。
また、CIGS膜の結晶性を向上させるため、上記方法に改良を加えた方法として、
a)イオン化したGaを使用する方法(H.Miyazaki, et.al, phys.stat.sol.(a),Vol.203(2006)p.2603.等)、
b)クラッキングしたSeを使用する方法(第68回応用物理学会学術講演会 講演予稿集(2007秋 北海道工業大学)7P−L−6等)、
c)ラジカル化したSeを用いる方法(第54回応用物理学会学術講演会 講演予稿集(2007春 青山学院大学)29P−ZW−10等)、
d)光励起プロセスを利用した方法(第54回応用物理学会学術講演会 講演予稿集(2007春 青山学院大学)29P−ZW−14等)等が知られている。
a)イオン化したGaを使用する方法(H.Miyazaki, et.al, phys.stat.sol.(a),Vol.203(2006)p.2603.等)、
b)クラッキングしたSeを使用する方法(第68回応用物理学会学術講演会 講演予稿集(2007秋 北海道工業大学)7P−L−6等)、
c)ラジカル化したSeを用いる方法(第54回応用物理学会学術講演会 講演予稿集(2007春 青山学院大学)29P−ZW−10等)、
d)光励起プロセスを利用した方法(第54回応用物理学会学術講演会 講演予稿集(2007春 青山学院大学)29P−ZW−14等)等が知られている。
本発明において、透明電極層14〜光吸収層18の導電型は特に制限されない。
通常、透明電極層14はn層(例えば、n−ZnO層など)、あるいは、i層とn層との積層構造(例えば、i−ZnO層とn−ZnO層との積層など)、バッファ層16はn層(例えば、n−InxSyなど)、光吸収層18はp層とされる。
この導電型では、透明電極層14と光吸収層18との間に、pn接合、あるいはpin接合が形成されると考えられる。
通常、透明電極層14はn層(例えば、n−ZnO層など)、あるいは、i層とn層との積層構造(例えば、i−ZnO層とn−ZnO層との積層など)、バッファ層16はn層(例えば、n−InxSyなど)、光吸収層18はp層とされる。
この導電型では、透明電極層14と光吸収層18との間に、pn接合、あるいはpin接合が形成されると考えられる。
光吸収層18の上には、金属電極層または透明電極層である、上部電極層20が成膜される。
金属電極層の主成分には、特に限定はなく、太陽電池で電極層(導電層)として用いられている導電性金属が、各種、利用可能である。一例として、Au、Mo、Cr、W、および、これらを組み合わせが、好適に例示される。また、透明電極層は、前述の透明電極層14と同様である。
金属電極層の主成分には、特に限定はなく、太陽電池で電極層(導電層)として用いられている導電性金属が、各種、利用可能である。一例として、Au、Mo、Cr、W、および、これらを組み合わせが、好適に例示される。また、透明電極層は、前述の透明電極層14と同様である。
上部電極層20の成膜方法には、特に限定はなく、電子ビーム等を用いる真空蒸着やスパッタリングなど、太陽電池の製造で利用されている透明電極層の成膜方法が、各種、利用可能である。
上部電極層20の厚さには、特に限定はないが、0.5〜1.5μmが好ましい。また、上部電極層20は、単層でも、複数層を積層してなる積層構成でもよい。
上部電極層20の厚さには、特に限定はないが、0.5〜1.5μmが好ましい。また、上部電極層20は、単層でも、複数層を積層してなる積層構成でもよい。
なお、本発明の太陽電池は、上記の構成を有するものに限定はされず、公知のスーパーストレート型の太陽電池が、全て、利用可能である。
例えば、光吸収層18と上部電極層20との間に両者の密着性を向上するための密着層を有する構成、基板12と下部透明電極層14との間に同様の密着層を有する構成、前述の特許文献1に示される光吸収層18と上部電極層20との間に半導体薄膜を有する構成のように、各層の間に必要に応じて何らかの機能を発現する層を設けた構成等であってもよい。また、光吸収層18にIa族元素を添加するための供給層を有してもよいのは、前述のとおりである。
なお、本発明の太陽電池においては、前述のバッファ層16から光吸収層18へのInの拡散効果を好適に得られる等の点で、バッファ層16と光吸収層18との間には、何も無い(両層が直接接触している)のが好ましい。
例えば、光吸収層18と上部電極層20との間に両者の密着性を向上するための密着層を有する構成、基板12と下部透明電極層14との間に同様の密着層を有する構成、前述の特許文献1に示される光吸収層18と上部電極層20との間に半導体薄膜を有する構成のように、各層の間に必要に応じて何らかの機能を発現する層を設けた構成等であってもよい。また、光吸収層18にIa族元素を添加するための供給層を有してもよいのは、前述のとおりである。
なお、本発明の太陽電池においては、前述のバッファ層16から光吸収層18へのInの拡散効果を好適に得られる等の点で、バッファ層16と光吸収層18との間には、何も無い(両層が直接接触している)のが好ましい。
以上、本発明の太陽電池について詳細に説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
[実施例1]
基板12として、青板ガラスを準備した。
この基板12の表面に、スパッタリング法によって、AlをドーピングしたZnO層を0.5μm成膜して、透明電極層14とした。なお、透明電極層14(ZnO:Al膜)の抵抗率は、2×10-3Ωcmであった。
この透明電極層14の上に、蒸着法によって、InxSy層を0.1μm成膜して、バッファ層16とした。
このバッファ層16の上に、多元同時蒸着法によって、厚さ1.8μmのCIGS層を成膜して、光吸収層18とした。なお、光吸収層18の成膜中に、成膜条件を調整して、バッファ層16から離間するにしたがって、層中のGa濃度が高くなるように濃度勾配を設けた。
さらに光吸収層18の上に、蒸着法によってAu層を0.1μm成膜して、図1に示すような、スーパーストレート型の太陽電池10を作製した。
基板12として、青板ガラスを準備した。
この基板12の表面に、スパッタリング法によって、AlをドーピングしたZnO層を0.5μm成膜して、透明電極層14とした。なお、透明電極層14(ZnO:Al膜)の抵抗率は、2×10-3Ωcmであった。
この透明電極層14の上に、蒸着法によって、InxSy層を0.1μm成膜して、バッファ層16とした。
このバッファ層16の上に、多元同時蒸着法によって、厚さ1.8μmのCIGS層を成膜して、光吸収層18とした。なお、光吸収層18の成膜中に、成膜条件を調整して、バッファ層16から離間するにしたがって、層中のGa濃度が高くなるように濃度勾配を設けた。
さらに光吸収層18の上に、蒸着法によってAu層を0.1μm成膜して、図1に示すような、スーパーストレート型の太陽電池10を作製した。
[比較例1および比較例2]
バッファ層16を、蒸着法によって成膜したCdS層とした以外は、実施例1と全く同様にして、スーパーストレート型の太陽電池を作製した(比較例1)。
バッファ層16を、スパッタリング法によって成膜したZnO層とした以外は、実施例1と全く同様にして、スーパーストレート型の太陽電池を作製した(比較例2)。
バッファ層16を、蒸着法によって成膜したCdS層とした以外は、実施例1と全く同様にして、スーパーストレート型の太陽電池を作製した(比較例1)。
バッファ層16を、スパッタリング法によって成膜したZnO層とした以外は、実施例1と全く同様にして、スーパーストレート型の太陽電池を作製した(比較例2)。
このようにして作製した各太陽電池について、AM(Air Mass)1.5 、100mW/cm2の疑似太陽を用いて、太陽電池特性(開放電圧、短絡電流密度、曲線因子、および、変換効率)を測定した。
結果を、下記表1に示す。
結果を、下記表1に示す。
上記表1に示されるように、バッファ層16としてInS系化合物からなる層を有する本発明によれば、従来から使用されているCdSやZnOのバッファ層を有する従来の太陽電池に比して、開放電圧、短絡電流密度、変換効率等の太陽電池特性が優れている。
[実施例2]
バッファ層16をCBDによって成膜したIn(S,OH)z層とした以外は、実施例1と全く同様にして、スーパーストレート型の太陽電池10を作製した。なお、In(S,OH)z層の成膜方法は、以下のとおりである。
原料として、塩化インジウムとチオアセトアミドとを室温で混合した水溶液を用意した。まず、この室温の水溶液に、前述のように透明電極層14を成膜した基板12を浸し、5分程度保持した。5分間保持した後、その状態のまま、水溶液の温度を約10分かけて70℃まで上昇させた。さらに、この70℃の状態を30分保つことにより、バッファ層16の成膜を完了した。なお、基板12を水溶液中に浸した状態の間は、水溶液は、撹拌しておいた。
バッファ層16の成膜を完了したら、基板12を水溶液から取り出し、純水により洗浄した後、乾燥した。
バッファ層16をCBDによって成膜したIn(S,OH)z層とした以外は、実施例1と全く同様にして、スーパーストレート型の太陽電池10を作製した。なお、In(S,OH)z層の成膜方法は、以下のとおりである。
原料として、塩化インジウムとチオアセトアミドとを室温で混合した水溶液を用意した。まず、この室温の水溶液に、前述のように透明電極層14を成膜した基板12を浸し、5分程度保持した。5分間保持した後、その状態のまま、水溶液の温度を約10分かけて70℃まで上昇させた。さらに、この70℃の状態を30分保つことにより、バッファ層16の成膜を完了した。なお、基板12を水溶液中に浸した状態の間は、水溶液は、撹拌しておいた。
バッファ層16の成膜を完了したら、基板12を水溶液から取り出し、純水により洗浄した後、乾燥した。
作成した太陽電池10について、先と同様に、太陽電池特性を測定した。
その結果、実施例1と同様に、良好な太陽電池特性が得られた。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
その結果、実施例1と同様に、良好な太陽電池特性が得られた。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
本発明は、発電装置等の太陽電池を利用する分野に、各種、利用可能である。
10 太陽電池
12 基板
14 (下部)透明電極層
16 バッファ層
18 光吸収層
20 上部電極層
12 基板
14 (下部)透明電極層
16 バッファ層
18 光吸収層
20 上部電極層
Claims (10)
- 透明な絶縁性基板の上に、
下部透明電極と、少なくともInおよびSを含む化合物からなるバッファ層と、Ib族元素、IIIb族元素、および、VIb族元素からなる化合物半導体を有する光吸収層と、上部電極となる金属電極層または透明電極層とを、前記順番で有することを特徴とする太陽電池。 - 前記InおよびSを含む化合物が、InxSyで示される化合物、もしくは、In(S,OH)zで示される化合物である請求項1に記載の太陽電池。
- 前記下部透明電極が、ZnO系化合物である請求項1または2に記載の太陽電池。
- 前記ZnO系化合物に、アルミニウムがドーピングされている請求項3に記載の太陽電池。
- 前記光吸収層を構成する化合物半導体が、Inを含む化合物である請求項1〜4のいずれかに記載の太陽電池。
- 前記光吸収層を構成する化合物半導体が、Cu(In1-xGax)Se2で示される化合物である請求項1〜5のいずれかに記載の太陽電池。
- 前記光吸収層が、この光吸収層を構成するCu(In1-xGax)Se2のGa濃度が、pn接合から前記上部電極に向けて増加する領域を有する請求項6に記載の太陽電池。
- 前記光吸収層に、Ia族元素が添加されている請求項1〜7のいずれかに記載の太陽電池。
- 前記バッファ層の層厚が、50〜200nmである請求項1〜8のいずれかに記載の太陽電池。
- 前記光吸収層が、多源同時真空蒸着によって成膜されたものである請求項1〜9のいずれかに記載の太陽電池。
Priority Applications (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013031843A1 (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 京セラ株式会社 | 光電変換素子とその製造方法並びに光電変換装置 |
JP2014011311A (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-20 | Honda Motor Co Ltd | カルコパイライト型薄膜太陽電池 |
-
2009
- 2009-10-23 JP JP2009244408A patent/JP2011091249A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013031843A1 (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 京セラ株式会社 | 光電変換素子とその製造方法並びに光電変換装置 |
JPWO2013031843A1 (ja) * | 2011-08-30 | 2015-03-23 | 京セラ株式会社 | 光電変換素子とその製造方法並びに光電変換装置 |
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