JP2011091226A - 電磁波シールド材およびそれを装着してなるプラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

【課題】反射光の干渉によって干渉縞が発生することを防止した電磁波シールド材を提供することを主要な目的とする。
【解決手段】電磁波シールド材１は、プラズマディスプレイパネルに配置する、近赤外線吸収機能及び電磁波シールド機能を有する機能複合化フィルムであって、屈折率が１．２０〜１．５０の範囲内にある低屈折率層が基材に直接もしくは易接着層を介して形成された反射防止層６を一方の面に有する第１の基材層４と、導電性ペーストインキを焼成することによって形成された電磁波シールドメッシュ層９を一方の面に有する、近赤外線吸収機能付の第２の基材層５とを備える。第１の基材層４の他方の面と、電磁波シールドメッシュ層９が形成された第２の基材層５の一方の面側とを接着剤層１０で貼り合わせてなる。
【選択図】図２

Description

本発明は一般に電磁波シールド機能及び近赤外線吸収機能を有する電磁波シールド材に関するものであり、より特定的には、干渉縞が発生しないように改良された反射防止機能を有した電磁波シールド材に関する。この発明はまたそのような電磁波シールド材を装着してなるプラズマディスプレイパネルに関する。

近年、電子画像表示装置（電子ディスプレイ）は、テレビジョン用やモニター用として広く普及している。中でもプラズマディスプレイは大画面フラットパネルディスプレイに最適であるとして多くの注目を浴びており、その表面には、それぞれ視認性向上、電磁波遮蔽、近赤外線遮蔽、色調補正の目的のための反射防止層、電磁波シールドメッシュ層、近赤外線吸収層、色調補正層が設けられている。

従来の方法では、種々の機能層を有するフィルムを寄せ集めて、ガラスに貼り合わせて光学フィルターを製造していたため、部品点数が多く、作業が煩雑であった。また、ガラス基材で光学フィルターを形成しているため、割れ易く、ロールツーロール（roll to roll）の流れ作業ができず、作業効率を低下させていた。また種々の機能を有するフィルムを寄せ集めて、ディスプレイに直接貼り合わせする方式も同様に部品点数が多く、作業が煩雑であった（例えば、特許文献１参照。）。

また、反射防止層は、ハードコート層の上に、高屈折率層と低屈折率層とを複数層積層させた多層構成が一般的であった。

しかしながら、ハードコート層と基材の屈折率差により、両者界面で生じる反射光の干渉によって干渉縞が発生することが問題となった（例えば、特許文献２参照。）。

特許公開２００７−５７８８９号公報 特許公開２００５−２１５２８３号公報

本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、干渉縞が発生しないように改良された電磁波シールド材を提供することを目的とする。

本発明の他の目的は、近赤外線吸収機能、電磁波シールド機能さらに、反射防止機能を有し、かつ部品点数が少なくなるように一体化された電磁波シールド材を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、ロールツーロールを実現できる、ロール状に巻き取ることができる一体化された電磁波シールド材を提供することにある。

この発明のさらに他の目的は、そのような電磁波シールド材を装着してなるプラズマディスプレイパネルを提供することにある。

本発明に係る電磁波シールド材は、プラズマディスプレイパネルに配置する、近赤外線吸収機能及び電磁波シールド機能を有する機能複合化フィルムであって、屈折率が１．２０〜１．５０の範囲内にある低屈折率層が基材に直接もしくは易接着層を介して形成された反射防止層を一方の面に有する第１の基材層と、導電性ペーストインキを焼成することによって形成された電磁波シールドメッシュ層を一方の面側に有する、近赤外線吸収機能付の第２の基材層とを備え、上記第１の基材層の他方の面と、前記電磁波シールドメッシュ層が形成された上記第２の基材層の上記一方の面側とを接着剤で貼り合わせてなる。

上記低屈折率層で形成された反射防止層は、シリカ微粒子とバインダー成分を含む塗液を硬化させてなる。

上記低屈折率層で形成された反射防止層の光学膜厚（ｎｄ）は、０．０４〜０．２μｍであるのが好ましい。

上記基材層は可とう性のある基材であれば特に制限はないが、プラスチックフィルムが好適に用いることができる。特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムで形成されているのが好ましい。ロール状に巻き取ることができるようにするためである。

上記第２の基材層の上記一方の面の上には、ハードコート層、上記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成されており、該インキ受容層の上に、上記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、上記第２の基材層の他方の面には、近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層が形成されて、具体化されるのが好ましい。

また、上記第２の基材層の上記一方の面の上には、近赤外線吸収機能付きハードコート層、上記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成され、該インキ受容層の上に、上記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、上記第２の基材層の他方の面には、感圧接着剤層が形成されて、具体化されてもよい。

また、上記第２の基材層の上記一方の面の上には、第１のハードコート層、上記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成され、該インキ受容層の上に、上記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、上記第２の基材層の他方の面には、第２のハードコート層、近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層が順次形成されて、具体化されてもよい。

また、上記第２の基材層の上記一方の面の上には、近赤外線吸収機能付き第１のハードコート層、上記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成され、該インキ受容層の上に、上記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、上記第２の基材層の他方の面には、第２のハードコート層、感圧接着剤層が順次形成されて、具体化されてもよい。なお、近赤外線吸収機能は第１のハードコート層ではなく、第２のハードコート層に設けても良い。

また、上記第２の基材層の上記一方の面の上には、近赤外線吸収機能付き第１のハードコート層、上記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成され、該インキ受容層の上に、上記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、上記第２の基材層の他方の面には、近赤外線吸収機能付き第２のハードコート層、感圧接着剤層が順次形成されて、具体化されてもよい。

本発明のプラズマディスプレイパネルは、上述の特徴を有する電磁波シールド材を装着してなる。

本発明によれば、反射防止層が屈折率が１．２０〜１．５０の範囲内にある低屈折率層で形成されており、基材層と低屈折率層との間に、ハードコート層、高屈折率層がないため、ハードコート層と基材層の界面で生じる反射光の干渉によって干渉縞が発生することが無い。また、電磁波シールド機能を有し、かつ近赤外線吸収機能を有し、一体化した電磁波シールド材が得られる。一体化しているので、その分、部品点数が減り、作業が簡易化される。ロール状に巻き取ることができるので、ロールツーロールの作業が実現できる。

本発明に係る電磁波シールド材を貼り付けたプラズマディスプレイパネルの概念図である。 実施例１に係る電磁波シールド材の断面図である。 実施例１に係る電磁波シールド材の製造方法を説明する図であり、図３（Ｂ）は、図４におけるＩＩＩＢ−ＩＩＩＢ線に沿う断面図である。 図３（Ｂ）に示す、電磁波シールドメッシュ層が形成された第２の基材の平面図である。 実施例２に係る電磁波シールド材の断面図である。 実施例３に係る電磁波シールド材の断面図である。 実施例４に係る電磁波シールド材の断面図である。 実施例５に係る電磁波シールド材の断面図である。

干渉縞が発生しないように改良された電磁波シールド材を得るという目的を、反射防止層を、屈折率が１．２０〜１．５０の範囲内にある低屈折率層を基材に直接もしくは易接着層を介して形成することによって実現した。

図１は、本発明に係る電磁波シールド材を装着してなるプラズマディスプレイパネルの概念図である。プラズマディスプレイパネル２の表示部３には、近赤外線吸収機能、電磁波シールド機能を有し、かつ反射防止機能を有する、干渉縞を発生させない一体化した電磁波シールド材１が設けられている。電磁波シールド材１が一体化しているので、部品点数が減り、組立て作業が簡易化される。

以下、この発明の電磁波シールド材に係る実施例を、図面を用いて説明する。

図２は、実施例に係る電磁波シールド材の断面図である。

電磁波シールド材１は、第１の基材層（１００μｍ厚）４と第２の基材層（１００μｍ厚）５を備える。第１の基材層４の一方の面には、屈折率が１．２０〜１．５０の範囲内にある低屈折率層が基材に直接形成された反射防止層（ＡＲ）６が設けられている。

反射防止層（ＡＲ）６は、シリカ微粒子、バインダー成分などを含む低屈折率層形成用塗液を硬化させることによって形成される。シリカ微粒子は、シリカゾル、多孔質シリカ微粒子、中空シリカ微粒子等を用いることができる。バインダー成分は、含フッ素有機化合物の単体又は混合物や、フッ素を含まない有機化合物の単体若しくは混合物又は重合体等を用いることができる。

反射防止層（ＡＲ）６の塗工方法としては、ロールコート法、スピンコート法、コイルバー法、ディップコート法、ダイコート法等により基材フィルム上に塗布、乾燥した後、紫外線を照射する方法が挙げられる。ロールコート法等、連続的に塗布できる方法が生産性及び生産コストの点より好ましい。

反射防止層（ＡＲ）６の光学膜厚（ｎｄ）は、好ましくは０．０４μｍ〜０．２μｍである。実施例にかかる反射防止層６の膜厚と屈折率は、光学膜厚（ｎｄ）：０．１４μｍ、屈折率（ｎ）：１．４１である。反射防止層（ＡＲ）６は、第１の基材層４であるポリエチレンテレフタレートフィルム（実膜厚（ｄ）＝１００μｍ）の一方の面に、屈折率（ｎ）１．４１の低屈折率層（光学膜厚（ｎｄ）＝０．１４μｍ）を形成するバインダー溶液を直接塗布し、これを硬化させることによって形成された。

第１の基材層４と第２の基材層５は共に、可とう性のある基材であれば特に制限はないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリアリレート（ＰＡＲ）フィルム及びポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）フィルム等がある。これらのうち、特にＰＥＴフィルムが成形の容易性、入手の容易性及びコストの点で好ましい。

上記ＰＥＴフィルムは、ＰＥＴフィルムと低屈折率層との間に、易接着層を設けることもできる。この易接着層を形成する材料は特に制限されず、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂が用いられる。また、易接着層は、ＰＥＴフィルムの製造時に公知の方法でＰＥＴフィルム表面に形成することができ、或いは予め易接着層が形成されたＰＥＴフィルムの市販品を使用することもできる。

なお、ＰＥＴフィルム、易接着層には、添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤として例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。

第２の基材層５の一方の面には、ハードコート層（ＨＣ）７と、導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層（ＡＣ）８（実膜厚（ｄ）＝１μｍ）が設けられている。ハードコート層（ＨＣ）７は、ＰＥＴのオリゴマー成分のブリードアウトを防止するために設けられるものであり、膜厚は、０．０５〜２５μｍが好ましく、実施例では１μｍである。インキ受容層８の上に、導電性ペーストインキをスクリーン印刷し、これを焼成することによって形成された電磁波シールドメッシュ層９が設けられている。電磁波シールドメッシュ層９は、図４に示すように、格子状に形成されている。

インキ受容層（ＡＣ）８は透明多孔質層であり、シリカ、チタニア、アルミナなどを主成分とする微粒子の集合体で形成される。導電性ペーストインキは、導電性粉末とバインダーとからなり、例えば銀ペーストを用いる。

第１の基材層４の他方の面と、第２の基材層５の電磁波シールドメッシュ層９が形成された最上面とは、感圧接着剤層（ＰＳＡ）１０で貼り合わされている。

第２の基材層５の他方の面には、近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層（ＮＩＲＡ−ＰＳＡ）１１が形成されている。近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層（ＮＩＲＡ−ＰＳＡ）１１の厚みは、好ましくは５〜５０μｍである。近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層（ＮＩＲＡ−ＰＳＡ）１１は、有機系近赤外線吸収剤、バインダー成分などを含む。

上記有機系近赤外線吸収剤は、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ジイモニウム系化合物等を用いることができる。

上記バインダー成分は、ポリスチレン系化合物、スチレン系共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸アルキル、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。

実施例１の電磁波シールド性反射防止フィルムの視感度反射率は、１．０％であった。視感度反射率の測定方法は、測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計〔日本分光（株）製、商品名：Ｕ−ｂｅｓｔ５６０〕により、光の波長３８０〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。得られる３８０〜７８０ｎｍの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の三刺激値Ｙを視感度反射率とした。

実施例１の電磁波シールド性反射防止フィルムは、干渉縞が無く、塗面品位に優れることが分かった。

図１と図２を参照して、電磁波シールド材１は、この近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層（ＮＩＲＡ−ＰＳＡ）１１により、プラズマディスプレイパネル２の表示部３に貼り付けられる。

本実施例によれば、反射防止層６が、屈折率が１．２０〜１．５０の範囲内にある低屈折率層が基材に直接形成されているので、反射光の干渉によって生じる干渉縞が生じず、視聴者１２は、干渉縞に悩まされることなく、テレビの画面を見ることができる。

次に、電磁波シールド材１の製造方法について説明すると、まず、図３（Ａ）を参照して、その一方の面に低屈折率層が基材に直接もしくは易接着層を介して形成された反射防止層（ＡＲ）６が形成され、他方の面に感圧接着剤層１０を有する第１の基材４を準備する。次に、図３（Ｂ）を参照して、ハードコート層（ＨＣ）７とインキ受容層（ＡＣ）８と電磁波シールドメッシュ層９が一方の面に形成され、他方の面に近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層（ＮＩＲＡ−ＰＳＡ）１１と図示しない剥離フィルム、又は剥離紙が順次形成された第２の基材５を準備する。第１の基材層４の他方の面と、第２の基材層５の電磁波シールドメッシュ層が形成された最上面とを貼り合わせる。次にロールに巻き取り、出荷前の電磁波シールド材１が完成する。

この製造方法によれば、第１の基材層４の他方の面と、第２の基材層５の電磁波シールドメッシュ層が形成された最上面とを感圧接着剤層（ＰＳＡ）１０で貼り合わせることにより、電磁波シールド材１が形成されるので、熱に弱い反射防止層（ＡＲ）６に熱負荷がかからない。そのため、反射防止層（ＡＲ）６の熱による損傷がない。

テレビ製造メーカは、電磁波シールド材のメーカから購入した電磁波シールド材１のロールからフィルムを取り出し、単片にカットし、剥離フィルム、又は剥離紙を剥がして、プラズマディスプレイパネル２の表示部３に貼り付けて使用する。

図５は、実施例２に係る電磁波シールド材の断面図である。本実施例２は以下の点を除いて、実施例１と同じであるので、同一部材には同一の参照番号を付し、その説明を繰り返さない。実施例２に係る電磁波シールド材と実施例１に係る電磁波シールド材が異なる点は、ハードコート層（ＨＣ）が近赤外線吸収機能付きハードコート層（ＮＩＲＡ−ＨＣ）７ａであり、感圧接着剤層（ＰＳＡ）１１ａに近赤外線吸収剤を含めない点である。近赤外線吸収機能付きハードコート層（ＮＩＲＡ−ＨＣ）７ａは、無機系近赤外線吸収剤、紫外線硬化型樹脂などを含む近赤外線吸収機能付きハードコート塗液を硬化させることによって形成される。

上記近赤外線吸収機能付きハードコート層（ＮＩＲＡ−ＨＣ）７ａの塗工方法としては、ロールコート法、スピンコート法、コイルバー法、ディップコート法、ダイコート法等により基材フィルム上に塗布、乾燥した後、紫外線を照射する方法が挙げられる。ロールコート法等、連続的に塗布できる方法が生産性及び生産コストの点より好ましい。

上記無機系近赤外線吸収剤は、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、複合タングステン酸化物等を用いることができる。そのうち、近赤外線の吸収率が高く、かつ可視光線の透過率が高いことから、複合タングステン酸化物が好ましく、特にセシウム含有酸化タングステンが最も好ましい。

上記紫外線硬化型樹脂は、紫外線硬化性の官能基を有する単量体、オリゴマー、重合体又はそれらの混合物が含まれる。具体的には、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能アクリレート、多官能メタクリレート等を用いることができる。

上記近赤外線吸収機能付きハードコート層（ＮＩＲＡ−ＨＣ）７ａの厚みは、好ましくは２〜２５μｍである。実施例における実膜厚（ｄ）は１５μｍである。

図６は、実施例３に係る電磁波シールド材の断面図である。本実施例３は以下の点を除いて、実施例１と同じであるので、同一部材には同一の参照番号を付し、その説明を繰り返さない。実施例３に係る電磁波シールド材と実施例１に係る電磁波シールド材が異なる点は、ハードコート層（ＨＣ）７が、第２の基材層５の両面、すなわち第２の基材層５の他方の面と近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層（ＮＩＲＡ−ＰＳＡ）１１との間にも形成されており、第２の基材層５の一方の面からのみならず、他方の面からも、ＰＥＴのオリゴマー成分のブリードアウトを防止している点である。図中、上の方のハードコート層をＨＣ（ＵＣ）と表し、下の方のハードコート層をＨＣ（ＢＣ）と表し、区別している。以下の図において、同じである。

図７は、実施例４に係る電磁波シールド材の断面図である。本実施例４は以下の点を除いて、実施例３と同じであるので、同一部材には同一の参照番号を付し、その説明を繰り返さない。実施例４に係る電磁波シールド材と実施例３に係る電磁波シールド材が異なる点は、第２の基材層５の一方の面側に形成されるハードコート層ＨＣ（ＵＣ）が近赤外線吸収機能付きハードコート層（ＮＩＲＡ−ＨＣ（ＵＣ））７ａであり、感圧接着剤層（ＰＳＡ）１１ａに近赤外線吸収剤を含めない点である。

図８は、実施例５に係る電磁波シールド材の断面図である。本実施例５は以下の点を除いて、実施例４と同じであるので、同一部材には同一の参照番号を付し、その説明を繰り返さない。実施例５に係る電磁波シールド材と実施例４に係る電磁波シールド材が異なる点は、第２の基材層５の一方の面側及び他方の面側に形成されるハードコート層の双方（ＨＣ（ＵＣ），ＨＣ（ＢＣ））が近赤外線吸収機能付きハードコート層（ＮＩＲＡ−ＨＣ）１１ａである点である。

今回開示された実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

本発明に係る電磁波シールド材を装着したプラズマディスプレイパネルは、視聴者を電磁波から守ることができ、かつ干渉縞を発生させない。

１ 電磁波シールド材
２ プラズマディスプレイパネル
３ 表示部
４ 第１の基材層
５ 第２の基材層
６ 反射防止層（ＡＲ）
７ ハードコート層（ＨＣ）
７ａ 近赤外線吸収機能付きハードコート層（ＮＩＲＡ−ＨＣ）
８ インキ受容層（ＡＣ）
９ 電磁波シールドメッシュ層
１０ 感圧接着剤層（ＰＳＡ）
１１ 近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層（ＮＩＲＡ−ＰＳＡ）
１１ａ 感圧接着剤層（ＰＳＡ）
１２ 視聴者

Claims (10)

1. プラズマディスプレイパネルに配置する、近赤外線吸収機能及び電磁波シールド機能を有する機能複合化フィルムであって、
   屈折率が１．２０〜１．５０の範囲内にある低屈折率層が基材に直接もしくは易接着層を介して形成された反射防止層を一方の面に有する第１の基材層と、
   導電性ペーストインキを焼成することによって形成された電磁波シールドメッシュ層を一方の面側に有する、前記近赤外線吸収機能付の第２の基材層とを備え、
   前記第１の基材層の他方の面と、前記電磁波シールドメッシュ層が形成された前記第２の基材層の前記一方の面側とを接着剤で貼り合わせてなる電磁波シールド材。
2. 前記低屈折率層で形成された前記反射防止層は、シリカ微粒子とバインダー成分を含む塗液を硬化させてなる、請求項１に記載の電磁波シールド材。
3. 前記低屈折率層で形成された前記反射防止層の光学膜厚（ｎｄ）は、０．０４〜０．２μｍである、請求項１又は２に記載の電磁波シールド材。
4. 前記第１及び第２の基材層は、ＰＥＴで形成されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁波シールド材。
5. 前記第２の基材層の前記一方の面の上には、ハードコート層、前記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成されており、該インキ受容層の上に、前記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、
   前記第２の基材層の他方の面には、近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層が形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波シールド材。
6. 前記第２の基材層の前記一方の面の上には、近赤外線吸収機能付きハードコート層、前記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成され、該インキ受容層の上に、前記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、
   前記第２の基材層の他方の面には、感圧接着剤層が形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波シールド材。
7. 前記第２の基材層の前記一方の面の上には、第１のハードコート層、前記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成され、該インキ受容層の上に、前記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、
   前記第２の基材層の他方の面には、第２のハードコート層、近赤外線吸収機能付き感圧接着剤層が順次形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波シールド材。
8. 前記第２の基材層の前記一方の面の上には、近赤外線吸収機能付き第１のハードコート層、前記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成され、該インキ受容層の上に、前記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、
   前記第２の基材層の他方の面には、第２のハードコート層、感圧接着剤層が順次形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波シールド材。
9. 前記第２の基材層の前記一方の面の上には、近赤外線吸収機能付き第１のハードコート層、前記導電性ペーストインキのにじみ（線太り）を防止するためのインキ受容層が順次形成され、該インキ受容層の上に、前記電磁波シールドメッシュ層が形成されており、
   前記第２の基材層の他方の面には、近赤外線吸収機能付き第２のハードコート層、感圧接着剤層が順次形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波シールド材。
10. 請求項１から９のいずれか１項に記載の電磁波シールド材を装着してなるプラズマディスプレイパネル。

Images