JP5883565B2 - 電磁波シールド材の製造方法 - Google Patents
電磁波シールド材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5883565B2 JP5883565B2 JP2011025313A JP2011025313A JP5883565B2 JP 5883565 B2 JP5883565 B2 JP 5883565B2 JP 2011025313 A JP2011025313 A JP 2011025313A JP 2011025313 A JP2011025313 A JP 2011025313A JP 5883565 B2 JP5883565 B2 JP 5883565B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- conductive
- electromagnetic wave
- wave shielding
- electromagnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
隣り合う電磁波シールドメッシュ層を帯状の導電層によって接続するようにスクリーン印刷するので、電磁波シールドメッシュ層の一部からアースを取ることによって、ロール全体のアースを取ることができるため、電磁波シールドメッシュ層をスクリーン印刷する際に静電気がPET基材層に発生しても、その静電気は、帯状の導電層を通って、隣の電磁波シールドメッシュ層に逃げていき、帯電しない。
2 プラズマディスプレイパネル
3 表示部
4 PET基材層
5 機能層
6 インキ受容層
7 電磁波シールドメッシュ層
8 ガラス基板
9 接着剤
10 第1のスクリーン
11 帯状の導電層
12 第2のスクリーン
Claims (5)
- ロール状に巻き取られてなる電磁波シールド材の製造方法であって、
長尺のPET基材層を準備する工程と、
前記PET基材層の上に、導電性ペーストインキのにじみを防止するためのインキ受容層を形成する工程と、
前記インキ受容層の上に、格子状の電磁波シールドメッシュ層を、前記PET基材層の長尺方向に、前記導電性ペーストインキを用いて、複数個間隔を置いて並べてスクリーン印刷する工程と、
前記インキ受容層の上に、隣り合う前記格子状の電磁波シールドメッシュ層を接続するように、前記PET基材層に静電気を帯電させないために前記電磁波シールドメッシュ層の一部からアースを取る、帯状の導電層のパターンをスクリーン印刷する工程と、
前記電磁波シールドメッシュ層及び前記帯状の導電層を覆うように前記インキ受容層の上に、樹脂を溶剤に溶解させて塗布することにより、機能層を形成する工程と、を備えた電磁波シールド材の製造方法。 - 前記インキ受容層を、シリカ、チタニア又はアルミナを主成分とする微粒子の集合体で形成する請求項1に記載の電磁波シールド材の製造方法。
- 前記機能層は、ハードコート機能層、反射防止機能層、防眩性機能層、帯電防止機能層のうち、少なくとも一つの機能層である、請求項1又は2に記載の電磁波シールド材の製造方法。
- 前記電磁波シールドメッシュ層を、導電性銀ペーストを前記スクリーン印刷法により印刷して形成する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電磁波シールド材の製造方法。
- 前記導電層を、導電性銅ペーストをスクリーン印刷法により印刷して形成する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電磁波シールド材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011025313A JP5883565B2 (ja) | 2011-02-08 | 2011-02-08 | 電磁波シールド材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011025313A JP5883565B2 (ja) | 2011-02-08 | 2011-02-08 | 電磁波シールド材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012164885A JP2012164885A (ja) | 2012-08-30 |
JP5883565B2 true JP5883565B2 (ja) | 2016-03-15 |
Family
ID=46843965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011025313A Expired - Fee Related JP5883565B2 (ja) | 2011-02-08 | 2011-02-08 | 電磁波シールド材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5883565B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109168315B (zh) * | 2018-10-23 | 2023-12-08 | 秦皇岛波盾电子有限公司 | 宽频带透光屏蔽材料复合结构及复合玻璃及oca背胶结构 |
CN112105247A (zh) | 2019-06-18 | 2020-12-18 | 昇印光电(昆山)股份有限公司 | 电磁屏蔽膜 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4799970B2 (ja) * | 2005-09-12 | 2011-10-26 | 藤森工業株式会社 | 電磁波シールド材ロール体の製造方法 |
JP5011694B2 (ja) * | 2005-09-28 | 2012-08-29 | 大日本印刷株式会社 | ディスプレイ用複合フィルタの製造方法 |
KR101390526B1 (ko) * | 2006-12-22 | 2014-04-30 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 광학 적층체, 그 제조 방법 및 대전 방지층용 조성물 |
-
2011
- 2011-02-08 JP JP2011025313A patent/JP5883565B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012164885A (ja) | 2012-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101095097B1 (ko) | 투명 전극 필름 및 이의 제조 방법 | |
JP5774686B2 (ja) | 透明プリント配線板の製造方法、および透明タッチパネルの製造方法 | |
JP6027633B2 (ja) | タッチ入力センサの製造方法及び感光性導電フィルム | |
US20150185890A1 (en) | Transparent conductor, input device and electronic apparatus | |
US20100316851A1 (en) | Process for producing patterned film-formed member, patterned film-formed member, electrooptical device, and electronic apparatus | |
US20160041649A1 (en) | Transparent conductive substrate production method and transparent conductive substrate | |
KR20140113312A (ko) | 도전성 막 및 그것의 제작 방법 | |
JP2013005013A (ja) | 透明アンテナ、及び画像表示装置 | |
TWI497391B (zh) | 電容式透明導電膜及其製造方法 | |
WO2016186104A1 (ja) | 導体層付き構造体の製造方法、基材付き配線体、基材付き構造体、及びタッチセンサ | |
JP5883565B2 (ja) | 電磁波シールド材の製造方法 | |
KR101665906B1 (ko) | 도전성 필름, 도전성 필름 제조 방법, 및 도전성 필름을 구비하는 터치 스크린 | |
KR101515376B1 (ko) | 터치스크린 패널의 제조방법 및 이로부터 제조된 터치스크린 패널 | |
JP2011091237A (ja) | 回路基板の製造方法、タッチパネル、電気光学装置、電子機器 | |
JP5703050B2 (ja) | 電磁波シールド材およびそれを装着してなるプラズマディスプレイパネル | |
JP5520776B2 (ja) | センサーシートおよびその製造方法 | |
TWI534679B (zh) | 觸控面板及其製法 | |
JP5195146B2 (ja) | ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法 | |
JP2011222853A (ja) | 電磁波遮蔽フィルタの製造方法、及び電磁波遮蔽フィルタ | |
JP5618083B2 (ja) | タッチパネル部材の製造方法 | |
CN204990238U (zh) | 一种屏幕及电子设备 | |
KR20160034120A (ko) | 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널 | |
KR20120117617A (ko) | 투명 도전회로의 구조체와 그 제조방법 | |
KR20160034121A (ko) | 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널 | |
US10474309B2 (en) | Conductive element, input device, and electronic apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140207 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20140207 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20140207 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140925 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141007 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150714 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150806 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160126 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5883565 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |