JP2011089186A - 炭窒化ケイ素含有膜、その製法、及びその用途 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記一般式(1)
【化1】
(式中、X1,X2,X3,X4,X5は、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、またはケイ素含有炭化水素基を表し、互いに結合しても良い。但し、式中、少なくとも1個のケイ素含有炭化水素基を有する。Rは、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基を表す。m、nは、0〜20の整数を表す)で示される化合物を原料として用い、プラズマ励起化学気相成長法により炭窒化ケイ素含有膜を得て、ガスバリア層や絶縁膜として用いる。
【選択図】図1
Description
フェニル、ジフェニル、ナフチル等のアリール基、ベンジル、メチルベンジル等のアリールアルキル基、
o−トルイル、m−トルイル、p−トルイル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、o−エチルフェニル、m−エチルフェニル、p−エチルフェニル等のアルキルアリール基、
ビニル、アリル、1−プロペニル、1−ブテニル、1,3−ブタジエニル、1−ペンテニル、1−シクロペンテニル、2−シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、1−ヘキセニル、1−シクロヘキセニル、2,4−シクロヘキサジエニル、2,5−シクロヘキサジエニル、2,4,6−シクロヘプタトリエニル、5−ノルボルネン−2−イル等のアルケニル基
2−フェニル−1−エテニル等のアリールアルケニル基、
o−スチリル,m−スチリル,p−スチリル等のアルケニルアリール基、
エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル,2−ブチニル,3−ブチニル、1−ペンチニル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−ヘキシニル、3−ヘキシニル、5−ヘキシニル等のアルキニル基、
2−フェニル−1−エチニル等のアリールアルキニル基、
2−エチニル−2フェニル等のアルキニルアリール基
等を挙げることができる。
N,N’−ビス(ジメチルビニルシリル)−N,N’−ジメチルエチレンジアミン、
N−ジメチルビニルシリル−N’−メチルピペラジン、
N,N’’−ビス(ジメチルビニルシリル)ジエチレントリアミン、
N,N’,N’’−トリス(ジメチルビニルシリル)ジエチレントリアミン、
N,N,N’,N’’,N’’−ペンタキス(ジメチルビニルシリル)ジエチレントリアミン、
N,N’’’−ビス(ジメチルビニルシリル)トリエチレンテトラミン、
N,N’,N’’,N’’’−テトラキス(ジメチルビニルシリル)トリエチレンテトラミン、
N,N,N’,N’’,N’’’,N’’’−ヘキサキス(ジメチルビニルシリル)トリエチレン
テトラミン、
N,N’’’’−ビス(ジメチルビニルシリル)テトラエチレンペンタミン、
N,N’,N’’,N’’’,N’’’’−ペンタキス(ジメチルビニルシリル)テトラエチレンペンタミン、
N,N,N’,N’’,N’’’,N’’’’,N’’’’−ヘプタキス(ジメチルビニルシリル)テトラエチレンペンタミン
N,N’’−ビス(トリメチルシリル)ジエチレントリアミン、
N,N’,N’’−トリス(トリメチルシリル)ジエチレントリアミン、
N,N,N’,N’’,N’’−ペンタキス(トリメチルシリル)ジエチレントリアミン、
N,N’’’−ビス(トリメチルシリル)トリエチレンテトラミン、
N,N’,N’’,N’’’−テトラキス(トリメチルシリル)トリエチレンテトラミン、
N,N,N’,N’’,N’’’,N’’’−ヘキサキス(トリメチルシリル)トリエチレン
テトラミン、
N,N’’’’−ビス(トリメチルビニルシリル)テトラエチレンペンタミン、
N,N’,N’’,N’’’,N’’’’−ペンタキス(トリメチルシリル)テトラエチレンペンタミン、
N,N,N’,N’’,N’’’,N’’’’,N’’’’−ヘプタキス(トリメチルシリル)テトラエチレンペンタミン
等を挙げることができる。
技術分野で使用される電力が1W〜2000W、好ましくは10W〜1000W、周波数が50kHz〜2.5GHz、好ましくは100kHz〜100MHz、特に好ましくは200kHz〜50MHzのRF電源を用いることができる。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いて、ポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたN,N−ビス(ジメチルビニルシリル)−N’,N’−ジメチルエチレンジアミンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で10分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたN,N’−ビス(ジメチルビニルシリル)−N,N’−ジメチルエチレンジアミンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で10分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたN,N’−ビス(ジメチルビニルシリル)エチレンジアミンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で10分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたN,N−ビス(トリメチルシリル)−N’,N’−ジメチルエチレンジアミンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で10分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたN,N,N’−トリス(トリメチルシリル)エチレンジアミンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で10分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたN−ジメチルビニルシリル−N’−メチルピペラジンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で20分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたN−ジメチルビニルシリル−N’−ジメチルビニルシラジルエチルピペラジンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件10分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたジビニルテトラメチルジシラザンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で20分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたヘキサメチルジシラザンの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で20分間成膜した。
図1に示した平行平板容量結合型PECVD装置を用いてポリエチレンナフタレートフィルム基板上に成膜した。即ち、気化させたテトラキスジメチルアミノシランの流量50sccm、ヘリウムガスの流量50sccm、チャンバー内圧133Pa、基板温度室温、RF電源電力200W、RF電源周波数13.56MHzの条件で20分間成膜した。
使用したポリエチレンナフタレートフィルム基板のガス透過性、全光線透過率、線膨張係数を測定した。酸素透過性は21.0cc/m2・day、水透過性は6.70g/m2・dayであった。また、全光線透過率は86.9%、線膨張係数は35ppm/deg.、表面粗さは1.4nmであった。
2 PECVDチャンバー
3 シャワーヘッドを有する上部電極
4 下部電極
5 薄膜形成用基板
6 マッチング回路
7 RF電源
8 温度制御装置
9 気化器
10 液体流量制御装置
11 気体流量制御装置
12 容器
13 一般式(1)の化合物
14 不活性ガスを気化器経由でPECVD装置チャンバー内に供給する為の配管
15 不活性ガスにより加圧する配管
16 排気装置
17 アース
18 アース
19 誘導結合型リモートPECVD装置
20 PECVDチャンバー
21 コイル
22 石英管
23 ヒーター部
24 薄膜形成用基板
25 マッチング回路
26 RF電源
27 温度制御装置
28 気化器
29 液体流量制御装置
30 気体流量制御装置
31 シャワーヘッド
32 容器
33 一般式(1)の化合物
34 不活性ガスを気化器経由でPECVD装置チャンバー内に供給する為の配管
35 不活性ガスにより加圧する配管
36 排気装置
37 アース
38 マイクロ波PECVD装置
39 石英製チャンバー
40 薄膜形成用基板
41 ヒーター部
42 温度制御装置
43 気化器
44 液体流量制御装置
45 気体流量制御装置
46 シャワーヘッド
47 容器
48 一般式(1)の化合物
49 不活性ガスを気化器経由でPECVD装置チャンバー内に供給する為の配管
50 不活性ガスにより加圧する配管
51 マッチング回路
52 マイクロ波発信器
53 マイクロ波反射板
54 排気装置
Claims (14)
- 上記一般式(1)においてm=1である、請求項1に記載の製法。
- 上記一般式(2)及び(3)において、R1及びR4の少なくとも1つが不飽和炭化水素基である、請求項3に記載の製法。
- 上記一般式(2)及び(3)において、R1及びR4の少なくとも1つがアルケニル基である、請求項3または4に記載の製法。
- N,N’−ビス(ジメチルビニルシリル)−N,N’−ジメチルエチレンジアミン、またはN,N−ビス(ジメチルビニルシリル)−N’,N’−ジメチルエチレンジアミンを原料として用いる、請求項1〜5いずれかに記載の製法。
- 成膜時にアンモニアを共存させる、請求項1乃至6いずれかに記載の製法。
- 成膜時に不活性ガスを共存させる、請求項1乃至6いずれかに記載の製法。
- 不活性ガスが窒素である、請求項8に記載の製法。
- 請求項1乃至9いずれかに記載の製法によって得られることを特徴とする、炭窒化ケイ素含有膜。
- 請求項10に記載の炭窒化ケイ素含有膜を、熱処理、紫外線照射処理、または電子線処理することを特徴とする、炭窒化ケイ素含有膜の製法。
- 請求項11に記載の製法によって得られることを特徴とする、炭窒化ケイ素含有膜。
- 請求項10または12に記載の炭窒化ケイ素含有膜をガスバリア層として用いることを特徴とする、ガスバリア膜。
- 請求項10または12に記載の炭窒化ケイ素含有膜を絶縁膜として用いることを特徴とする、半導体デバイス。
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- 2009-10-26 JP JP2009245083A patent/JP2011089186A/ja active Pending
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