JP2011079850A

JP2011079850A - アクリロニトリル化合物の製造方法

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Publication number: JP2011079850A
Application number: JP2010264981A
Authority: JP
Inventors: Kenzo Fukuda; 憲造福田; Yasuo Kondo; 康夫近藤; Norio Tanaka; 規生田中; Hideaki Suzuki; 秀章鈴木; Masatoshi Onari; 正壽大成; Koichi Nishio; 晃一西尾
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 2003-03-28
Filing date: 2010-11-29
Publication date: 2011-04-21
Anticipated expiration: 2024-03-29
Also published as: BRPI0409529A; CN1768042A; US7649104B2; TWI319398B; WO2004087674A1; BRPI0409529B1; TW200508205A; CN100402503C; CN101284814A; US20110313173A1; CN101284814B; JP5263552B2; CN101891682B; US20100029951A1; CN101891682A; US8138368B2; US20060178523A1; US8324420B2

Abstract

【課題】アクリロニトリル化合物の製造方法の提供。
【解決手段】

（式中、Ａｒ^１およびＡｒ^２はそれぞれ独立に置換されていてもよい芳香族置換基を表し、Ｒ^１は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香族置換基を表す。）で表されるＥ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物またはそれと式（４）（式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＲ^１はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で表されるＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物との混合物をアミンやピリジン等の有機塩基で異性化することを特徴とするＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、国際特許出願公開ＷＯ９７／４０００９号パンフレット記載の農園芸用の有害生物防除剤としての３−アシロキシアクリロニトリル化合物の工業的な製造方法とその中間体で医農薬等の生理活性物質をはじめとする種々のファインケミカル中間体として有用な３−オキソプロピオニトリル化合物の工業的な製造方法に関する。

３−アシロキシアクリロニトリル化合物の製造方法として、以下の方法が知られている。

３−オキソプロピオニトリル化合物を酸塩化物と反応させて３−アシロキシアクリロニトリル化合物を得ている例があるが、生成物はＥ，Ｚの立体異性体の混合物であり、一方の異性体のみが高収率で得られた記載がない（例えば、特許文献１，特許文献２および特許文献３参照）。

３−オキソプロピオニトリル化合物を酸塩化物と反応して一方の異性体を製造できるとの記載もあるが、実施例としてはクロロ蟻酸誘導体のみであり、カルボン酸塩化物を使用した実施例がない（例えば、特許文献４参照）。

アセトニトリル化合物と芳香族エステル化合物とを反応させる３−オキソプロピオニトリル化合物の製造方法は、アセトニトリル化合物と芳香族酸塩化物とを反応させることによる３−オキソプロピオニトリル化合物の製造方法より工業的に有利である。

すなわち、芳香族エステル化合物を加水分解し、次いで芳香族酸塩化物に変換するという２つの段階が不要になるという有利さと、芳香族酸塩化物を用いる反応よりも、用いる塩基の量が一当量削減できるという有利さがある。

現在、アセトニトリル化合物と芳香族エステル化合物とを反応させる３−オキソプロピオニトリル化合物の製造方法としては、以下の方法が知られている。

非特許文献１および非特許文献２にはＴＨＦ溶媒中水素化ナトリウムやリチウム・ジイソプロピルアミドを使用して製造する方法が記載されているが、使用塩基が高価である上に工業的な製造では取り扱い上の危険性がある。

非特許文献３、非特許文献４および特許文献５にはエタノール溶媒中でナトリウムエトキシドを使用して製造する方法が記載されているが、副生成物が多いため収率は低い。
特許文献４にはトルエン溶媒で固体ナトリウムエトキシドを使用した例が記載されているが収率は低い。また、非特許文献５、特許文献６および特許文献７にはトルエン溶媒でナトリウムメトキシドのメタノール溶液あるいは固体ナトリウムメトキシドを使用して、副生するメタノールを反応後あるいは反応中一時的または継続的に留去して除いているが、収率は３８〜７６％と高くない。この方法では副生するメタノールを除くことで収率が向上するが、溶媒も一緒に留出するために工業的には溶媒を追加しながら留去するなど操作が煩雑になると共に大量の溶媒を必要とするという欠点がある。

その他に特許文献８記載のマグネシウムアルコキシドを使用する方法があるが、マグネシウムアルコキシドは高価であり、汎用な試剤ではなく、工業的には使用されていない。

また、Ｅ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物またはそれとＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物との混合物を異性化してＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物を得る方法としては、光による異性化を用いた方法が記載されている（例えば、特許文献４参照）。しかし、Ｅ体とＺ体との溶解度の差を利用した有機塩基による異性化で純粋なＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物を得る方法は知られていない。
国際特許出願公開ＷＯ９７／４０００９号パンフレット国際特許出願公開ＷＯ９８／３５９３５号パンフレット国際特許出願公開ＷＯ９９／４４９９３号パンフレット国際特許出願公開ＷＯ０１／０９０８６号パンフレット特開昭５９−１１０６９１号公報国際特許出願公開ＷＯ０１／２９００３号パンフレット国際特許出願公開ＷＯ０１／０７４１０号パンフレット国際特許出願公開ＷＯ０１／６８５８９号パンフレットジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．），６５，４５１５（２０００）．テトラヘドロン・レターズ（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．），３８，８１２１（１９９７）．ジャーナル・ケミカル・ソサイエティ・パーキン・トランサクションＩ（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎｔｒａｎｓ．Ｉ），１２９７（１９８９）．ジャーナル・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．），１１０，４００８（１１０）．ケミカル・ファーマソイティカル・ブルチン（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．），３０，１０３３（１９８２）．

本発明が解決しようとする課題は、工業的に有利な３−アシロキシアクリロニトリル化合物と３−オキソプロピオニトリル化合物の製造方法を提供することである。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、３−オキソプロピオニトリル化合物と酸塩化物の反応でＥ、Ｚ体の３−アシロキシアクリロニトリル化合物を立体選択的に作り分けて製造する方法を見出し、更に中間体の３−オキソプロピオニトリル化合物はアセトニトリル化合物と芳香族エステル化合物とをアルカリ金属アルコキシドを使用して脂肪族炭化水素溶媒中、必要に応じて極性溶媒の存在下副生するアルコールを共沸留去しながら反応させるという工業的に安価で汎用性のある高収率な製造方法を見いだし、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、次の〔１〕から〔１６〕に関する。

〔１〕式（１）

（式中、Ar^１およびAr^２はそれぞれ独立に置換されていてもよい芳香族置換基を表す。）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物と式（２）

（式中、Ｒ^１は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香族置換基を表す。）で表される酸塩化物とを反応させる際に、塩基を用いずに副生する塩化水素を系内から除去しながら反応を行うか、塩基として有機塩基を使用するか、塩基としてアルカリ金属またはアルカリ土類金属の無機塩基を使用するかによって生成物の立体を制御することを特徴とする、式（３）

（式中、Ar^１、Ar^２およびＲ^１はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で表されるＥ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物、あるいは式（４）

（式中、Ar^１、Ar^２およびＲ^１はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で表されるＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の立体選択的製造方法。

〔２〕前記式（１）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物と前記式（２）で表される酸塩化物とを反応させる際に塩基を用いずに副生する塩化水素を系内から除去しながら反応させることを特徴とする〔１〕記載のＥ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の立体選択的製造方法。

〔３〕前記式（１）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物と前記式（２）で表される酸塩化物とを反応させる際に塩基として有機塩基を使用することを特徴とする〔１〕記載のＥ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の立体選択的製造方法。

〔４〕前記式（１）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物と前記式（２）で表される酸塩化物とを反応させる際に塩基としてアルカリ金属の無機塩基またはアルカリ土類金属の無機塩基を使用することを特徴とする〔１〕記載のＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の立体選択的製造方法。

〔５〕式（５）

（式中、Ar^１は前記と同様の意味を表す。）で表されるアセトニトリル化合物と式（６）

（式中、Ar^２は前記と同様の意味を表し、Ｒ^２は置換基されていてもよいアルキル基を表す。）で表される芳香族エステル化合物とを、アルカリ金属アルコキシドを使用して脂肪族炭化水素溶媒中、副生するアルコールを共沸留去して分液槽で分離しながら反応させることを特徴として製造される前記式（１）（式中、Ar^１およびAr^２はそれぞれ前記と同様を表す。）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物を用いる〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕記載の製造方法。

〔６〕前記式（５）で表されるアセトニトリル化合物と前記式（６）で表される芳香族エステル化合物とを、アルカリ金属アルコキシドを使用して脂肪族炭化水素溶媒中、極性溶媒の存在下で副生するアルコールを共沸留去して分液槽で分離しながら反応させることを特徴として製造される前記式（１）（式中、Ar^１およびAr^２はそれぞれ前記と同様を表す。）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物を用いる〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕記載の製造方法。

〔７〕前記式（５）で表されるアセトニトリル化合物と前記式（６）で表される芳香族エステル化合物とを、アルカリ金属アルコキシドを使用して脂肪族炭化水素溶媒中、副生するアルコールを共沸留去して分液槽で分離しながら反応させることを特徴とする前記式（１）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物の製造方法。

〔８〕前記式（５）で表されるアセトニトリル化合物と前記式（６）で表される芳香族エステル化合物とを、アルカリ金属アルコキシドを使用して脂肪族炭化水素溶媒中、極性溶媒の存在下で副生するアルコールを共沸留去して分液槽で分離しながら反応させることを特徴とする前記式（１）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物の製造方法。

〔９〕前記アルカリ金属アルコキシドがナトリウムメトキシドあるいはそのメタノール溶液である〔５〕、〔６〕、〔７〕または〔８〕記載の３−オキソプロピオニトリル化合物の製造方法。

〔１０〕前記脂肪族炭化水素溶媒がヘプタンである〔５〕、〔６〕、〔７〕または〔８〕記載の３−オキソプロピオニトリル化合物の製造方法。

〔１１〕前記極性溶媒がジエチレングリコールモノエチルエーテルとジエチレングリコールジメチルエーテルとの混合溶媒または５―エチル―２−ピコリンである〔６〕または〔８〕記載の製造方法。

〔１２〕前記式（３）で表されるＥ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物またはそれと前記式（４）で表されるＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物との混合物をアミンやピリジン等の有機塩基で異性化することを特徴とするＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の製造方法。

〔１３〕 Ar^１が置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいチアゾリル基、置換されていてもよいピラゾリル基または置換されていてもよいトリアゾリル基である〔１〕、〔２〕、〔３〕、〔４〕、〔５〕、〔６〕、〔７〕、〔８〕、〔９〕、〔１０〕、〔１１〕または〔１２〕記載の製造方法。

〔１４〕 Ar^２が置換されていてもよいピラゾリル基または置換されていてもよいチアゾリル基である〔１〕、〔２〕、〔３〕、〔４〕、〔５〕、〔６〕、〔７〕、〔８〕、〔９〕、〔１０〕、〔１１〕、〔１２〕または〔１３〕記載の製造方法。

〔１５〕 Ar^１が４−ｔｅｒｔ（ターシャリー）ブチルフェニル基であり、Ar^２が１，３，４−トリメチル−５−ピラゾリル基または３−クロロ−１，４−ジメチル−５−ピラゾリル基である〔１〕、〔２〕、〔３〕、〔４〕、〔５〕、〔６〕、〔７〕、〔８〕、〔９〕、〔１０〕、〔１１〕または〔１２〕記載の製造方法。

〔１６〕 Ar^１が２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イルであり、Ar^２が１，３，４−トリメチル−５−ピラゾリル基または３−クロロ−１，４−ジメチル−５−ピラゾリル基である〔１〕、〔２〕、〔３〕、〔４〕、〔５〕、〔６〕、〔７〕、〔８〕、〔９〕、〔１０〕、〔１１〕または〔１２〕記載の製造方法。

本発明に従うと、高収率かつ選択的にアクリロニトリル化合物を製造することができる。

本発明が適用される化合物としては、式（１）で表される３−オキソプロピオニトリル化合物、式（２）で表される酸塩化物、式（３）、（４）で表される３−アシロキシアクリロニトリル化合物、式（５）で表されるアセトニトリル化合物、式（６）で表される芳香族エステル化合物において、Ar^１およびAr^２としては、置換基Ａで置換されたフェニルおよび置換基Ａで置換されたヘテロアリール基が挙げられ、置換基Ａとしては置換されていてもよい置換基Ｂ基、ハロゲン原子基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられ、置換基Ｂとしてはアルキル基、ハロアルキル基、フェニル基、ヘテロアリール基、アルコキシ等が挙げられ、Ｒ^１としては置換基Ｃで置換されていてもよいアルキル基、置換基Ｄで置換されていてもよいフェニル基または置換基Ｄで置換されていてもよいヘテロアリール基が挙げられ、置換基Ｃとしてはアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられ、置換基Ｄとしてはアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられ、Ｒ^２としては置換されていてもよいアルキル基が挙げられる。

ヘテロアリールとしてはフラン−２−イル基、フラン−３−イル基、ピロ−ル−１−イル基、ピロ−ル−２−イル基、ピロ−ル−３−イル基、オキサゾール−２−イル基、オキサゾール−４−イル基、オキサゾール−５−イル基、チアゾール−２−イル基、チアゾール−４−イル基、チアゾール−５−イル基、イミダゾール−１−イル基、イミダゾール−２−イル基、イミダゾール−４−イル基、イソキサゾール−３−イル基、イソキサゾール−４−イル基、イソキサゾール−５−イル基、イソチアゾール−３−イル基、イソチアゾール−４−イル基、イソチアゾール−５−イル基、ピラゾール−１−イル基、ピラゾ−ル−３−イル基、ピラゾール−４−イル基、ピラゾール−５−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基、１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−３−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，２，４−トリアゾール−５−イル基、１，２，３−チアジアゾール−４−イル基、１，２，３−チアジアゾール−５−イル基、１，２，３−トリアゾール−１−イル基、１，２，３−トリアゾール−２−イル基、１，２，３−トリアゾール−４−イル基、１，２，３，４−テトラゾール−１−イル基、１，２，３，４−テトラゾール−２−イル基、１，２，３，４−テトラゾール−５−イル基、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、ピリミジン−２−イル基、ピリミジン−４−イル基、ピリミジン−５−イル基、ピラジン−２−イル基、ピリダジン−３−イル基、ピリダジン−４−イル基、１，３，５−トリアジン−２−イル基、１，２，４−トリアジン−３−イル基、１，２，４−トリアジン−５−イル基、１，２，４−トリアジン−６−イル基、１，２，４，５−テトラジン−３−イル基、３−ピラゾリン−１−イル基、３−ピラゾリン−３−イル基、３−ピラゾリン−４−イル基、３−ピラゾリン−５−イル基、１−イミダゾリン−３−イル基、１−イミダゾリン−２−イル基、１−イミダゾリン−４−イル基、４−イミダゾリン−２−イル基、２−オキサゾリン−２−イル基、２−オキサゾリン−４−イル基、２−オキサゾリン−５−イル基、２−イソキサゾリン−３−イル基、２−イソキサゾリン−４−イル基、２−イソキサゾリン−５−イル基、２−チアゾリン−２−イル基、２−チアゾリン−４−イル基、３−チアゾリン−２−イル基、イミダゾリジン−２−オン−１−イル基、２−イミダゾリノン−１−イル基、３（２Ｈ）−ピリダジノン−２−イル基、３（２Ｈ）−ピリダジノン−４−イル基、３（２Ｈ）−ピリダジノン−５−イル基または３（２Ｈ）−ピリダジノン−６−イル基等が挙げられる。

アルキルとしては直鎖または分岐状のアルキルとしてメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル−１基、ペンチル−２基、ペンチル−３基、２−メチルブチル−１基、２−メチルブチル−２基、２−メチルブチル−３基、３−メチルブチル−１、２，２−ジメチルプロピル−１基、ヘキシル−１基、ヘキシル−２基、ヘキシル−３基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。

アルコキシとしては、直鎖または分岐鎖状のアルコキシとしてメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、１−メチルブチルオキシ基、２−メチルブチルオキシ基、３−メチルブチルオキシ基、１，１−ジメチルプロピルオキシ基、１，２−ジメチルプロピルオキシ基、２，２−ジメチルプロピルオキシ基、１−エチルプロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、１，１−ジメチルブチルオキシ基、１，２−ジメチルブチルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオキシ基、２，２−ジメチルブチルオキシ基、２，３−ジメチルブチルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、１−エチルブチルオキシ基、２−エチルブチルオキシ基、１，１，２−トリメチルプロピルオキシ基、１，２，２−トリメチルプロピルオキシ基、１−エチル−１−メチルプロピルオキシ基、１−エチル−２−メチルプロピルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基およびｎ−デシルオキシ基などが挙げられる。

ハロアルキルとしては、直鎖または分岐状のハロアルキルとしてフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロエチル基、クロロエチル基、ブロモエチル基、フルオロ−ｎ−プロピル基、クロロ−ｎ−プロピル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、トリクロロエチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、トリフルオロクロロエチル基、ヘキサフルオロ-ｎ-プロピル基、クロロブチル基、フルオロブチル基、クロロ−ｎ−ペンチル基、フルオロ−ｎ−ペンチル基、クロロ−ｎ−ヘキシル基、フルオロ−ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。

ハロゲン原子としては塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

３−オキソプロピオニトリル化合物は、式（７）

（式中、Ar^１、Ar^２はそれぞれ前期と同様の意味を表す。）で表される３−ヒドロキシアクリロニトリル化合物と互変異性体の関係にあり、同一の化合物である。

３−アシロキシアクリロニトリル化合物を得るために３−オキソプロピオニトリル化合物と酸塩化物を反応する際に使用する試剤および反応条件は以下の通りであるが、これらに限定されるものではない。

酸塩化物を反応させる際に塩基を用いずに副生する塩化水素を系内から除去する方法は、以下の通りであるが、これらに限定されるものではない。

酸塩化物の使用量としては、３−オキソプロピオニトリル化合物１モルに対して０．５〜１０モルが好ましく、２〜５モルが更に好ましい。過剰分は、低沸点の酸塩化物の場合反応後留去回収して再使用できる。

反応に用いる溶媒としては、本反応に不活性な溶媒であれば特に制限は無く、例えば、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシメタン、ジエトキシメタン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラヒドロナフタレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等のエステル類が挙げられる。これらは、単独または組合せて使用できる。

溶媒の使用量としては、３−オキソプロピオニトリル化合物に対して１〜２０倍量が好ましく、３〜１０倍量が更に好ましい。

反応温度としては５０〜１２０℃が好ましく、６０〜１００℃が更に好ましい。

反応中副生する塩化水素を除くための方法としては、減圧下脱塩化水素しながら酸塩化物を滴下するか、あるいは窒素、アルゴンなどの反応に不活性なガスの気流を気相または反応液中に流して曝気させ、不活性ガスによる同伴、追い出しにより脱塩化水素しながら酸塩化物を滴下するといった方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

反応時に塩化水素を除かないと立体選択性は低下し、反応が停止する。

酸塩化物の滴下時間は、副生する塩化水素ガスの除去速度を考えてそれにかかる時間以上の時間をかけるが、通常１〜１５時間であり、滴下後の反応時間は通常１時間から１０時間である。

反応終了後、過剰の酸塩化物を留去回収するか、室温以下に冷却後アルカリ水で分解するかした後、抽出操作によって３−アシロキシアクリロニトリル化合物の溶液を得ることができる。さらに、これをそのまま冷却して結晶を析出させるか、あるいは溶媒を留去してから晶析溶媒を加えて再結晶させたあと、ろ過して結晶として得ることもできる。

酸塩化物を反応させる際に有機塩基または無機塩基を使用する方法は、以下の通りであるが、これらに限定されるものではない。

酸塩化物の使用量としては、３−オキソプロピオニトリル化合物１モルに対して０．５〜２モルが好ましく、１．０〜１．２モルが更に好ましい。

反応に用いる溶媒としては、本反応に不活性な溶媒であれば特に制限は無く、例えば、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシメタン、ジエトキシメタン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラヒドロナフタレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等のエステル類が挙げられる。これらは、単独または組合せて使用できる。

有機塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等の３級アミン類、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ピコリン、ルチジン、キノリン等のピリジン類が挙げられるが、工業的にはトリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等の回収再利用できる有機塩基が好ましい。

有機塩基の使用量としては、３−オキソプロピオニトリル化合物１モルに対して０．５〜３モルが好ましく、１．０〜１．２モルが更に好ましい。

無機塩基としては、３−オキソプロピオニトリル化合物と反応して塩を生成するものは使用することができ、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩や炭酸塩、炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム等のアルカリ土類金属の水酸化物等が挙げられるが、工業的に安価な炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が好ましい。

無機塩基の使用量としては、３−オキソプロピオニトリル化合物１モルに対して０．５〜４．０モルが好ましく、１．０〜１．５モルが更に好ましい。

無機塩基を使用する場合は、３−オキソプロピオニトリル化合物の塩を生成した後、副生した水を留去してから反応させると酸塩化物の使用量を削減できる。

有機塩基を使用する場合の反応温度としては、極低温から溶媒の沸点まで可能であるが、−１０〜２０℃が好ましい。

無機塩基を使用する場合の反応温度としては、３−オキソプロピオニトリル化合物の塩を生成させる際には５０℃から溶媒の沸点までの温度、更に好ましくは６０℃から溶媒の沸点までの温度に加熱することが必要である。塩を生成させたあとの酸塩化物との反応温度は、通常は極低温から溶媒の沸点まで可能であるが、より好ましくは−１０〜２０℃である。

有機塩基あるいは無機塩基を使用した場合の反応後の処理としては、使用した溶媒が水に不溶の場合はそのまま水洗した後、あるいは水に可溶の場合は留去して除いた後、又はそのまま抽出溶媒を加えることで、３−アシロキシアクリロニトリル化合物の溶液として得ることができる。さらに、これをそのまま冷却して結晶を析出させるか、あるいは溶媒を留去した後、晶析溶媒を加え、再結晶させた後、ろ過することによって結晶として得ることもできる。

３−アシロキシアクリロニトリル化合物のＥ，Ｚ混合物を異性化してＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物を得る際に使用する試剤および反応条件は以下の通りであるが、これらに限定されるものではない。

反応する溶媒の種類とその使用量、有機塩基の種類については、酸塩化物を反応させる際に有機塩基を使用してＥ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物を製造する場合と同様である。

溶媒の使用量としては、溶媒の種類にもよるが、例えば３−アシロキシアクリロニトリル化合物に対して１倍量ないし５倍量が好ましい。

有機塩基の使用量としては、３−アシロキシプロピオニトリル化合物１モルに対して０．０１〜２．０モルが好ましく、０．１〜１．０モルが更に好ましい。

前記反応は、３−アシロキシアクリロニトリル化合物のＥ，Ｚ混合物と有機塩基とを溶媒中で加熱した後、Ｚ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の結晶を析出させながら徐々に冷却し、ろ過することによってＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物を得るものである。その際、冷却時にＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の種結晶を添加すると、速やかな結晶化、異性化が起こり収率を向上させることができる。

３−オキソプロピオニトリル化合物を得るためにアセトニトリル化合物と芳香族エステル化合物を反応させる際に使用する試剤および反応条件は以下の通りであるが、これらに限定されるものではない。

アセトニトリル化合物の使用量としては、芳香族エステル化合物１モルに対して１．０〜２．０モルが好ましく、１．０〜１．２モルが更に好ましい。

芳香族エステル化合物のエステル部としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル等の直鎖あるいは分岐アルキルやベンジル、フェネチル等の置換アルキルが挙げられるが、生じたアルコールの除去のしやすさからメチル、エチル等の低沸点アルコールのエステルが好ましく、反応して副生するアルコールが脂肪族炭化水素溶媒と分離するメチルエステルが最も好ましい。

アルカリ金属アルコキシドとしては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム等のメトキシドあるいはエトキシド等が挙げられるが、反応して副生するアルコールが炭化水素溶媒と分離するメタノールであって、安価で工業的に汎用されるナトリウムメトキシドが最も好ましく、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液が取り扱い易さから更に好ましい。

アルカリ金属メトキシドの使用量としては、芳香族エステル化合物１モルに対して０．５〜２．０モルが好ましく、１．０〜１．３モルが更に好ましい。

脂肪族炭化水素溶媒としては、２−メチルペンタン、メチルシクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、２，２，４−トリメチルペンタン、ノナン等挙げられるが、メタノールと分離し、沸点が比較的高いシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、２，２，４−トリメチルペンタン等が好ましく、価格と取り扱いやすさから工業的にヘプタンが更に好ましい。炭化水素溶媒は、２種類以上の混合溶媒も可能である。

脂肪族炭化水素溶媒の使用量としては、芳香族エステル化合物に対して３〜２０倍量が好ましく、５〜１２倍量が更に好ましい。

また、必要に応じて極性溶媒を使用することもできる。極性溶媒は、反応にしたがって生成する３−オキソプロピオニトリル化合物のアルカリ金属塩を速やかに結晶として析出させるものである。脂肪族炭化水素溶媒だけではアルカリ金属塩がオイル状となって析出しする際、槽壁付着等を起こして結晶化する場合があるため、極性溶媒の存在はしばしば有用である。

極性溶媒としては、２−ピコリン、3−ピコリン、４−ピコリン、５−エチル−２−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２，６−ルチジン、２，４，６−トリメチルピリジン、キノリン等のピリジン類、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ−テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエ−テル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル類、ジエチレングリコールモノメチルエ−テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエ−テル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル構造をもつアルコール類等の高沸点の溶媒類が挙げられ、中でも、例えば５−エチル−２−ピコリン、ジエチレングリコールジメチルエ−テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等の後処理時に廃水に分離除去できる溶媒類が好ましい。これらの溶媒は、混合使用も可能である。

極性溶媒の使用量としては、芳香族エステル化合物に対して０．０１〜５倍量が好ましく、０．１〜１倍量が更に好ましい。

また、以上の溶媒に芳香族類、エーテル類、アルコール類等、反応に影響しないような溶媒類を少量混入させることも、炭化水素溶媒とメタノールとの分離を阻害しない限りにおいて可能である。

反応は、アセトニトリル化合物、芳香族エステル化合物、炭化水素溶媒、極性溶媒の混合物を分液槽を通して還流しながら、ナトリウムメトキシドを徐々に添加して反応させるが、その際副生するメタノールを分液槽で分液して除きながら行う。

反応温度としては、室温から使用溶液の沸点の範囲で行うことができ、好ましくは６０℃から反応溶媒の沸点以下の温度である。反応は高温になるほど速度が大きくなる。

反応時の圧力としては、常圧あるいは減圧状態で行うことができるが、減圧状態での還流は反応温度の制御のしやすさという観点から好ましい。

ナトリウムメトキシドの添加は分液槽でのメタノール分離速度以下の速度で行うが、その滴下時間は通常１〜１５時間であり、滴下終了後の反応時間は通常１〜１５時間である。

反応を円滑に進ませて収率をさらに高めるには、精留塔を使用して還流させることができる。精留塔により、メタノールの分離効率の向上をはかれると同時に、原料のアセトニトリル化合物や芳香族エステル化合物の同伴留去を妨げることができる。

また、ナトリウムメトキシドの添加前に原料中の水を共沸脱水で除いておくと、芳香族エステル化合物の加水分解が抑制されて収率が向上する。

反応中に酸素が存在すると反応液が黒色に変化し、収率低下および後処理の際の分液時に不溶物の増加を引き起こすので、窒素等の不活性ガスの雰囲気下反応させる必要がある。

反応後の処理法としては、３０℃以下に冷却した後、水を投入して炭化水素溶媒層と３−オキソプロピオニトリル化合物のアルカリ金属塩を含む水層に分液する。分液によって原料残のアセトニトリル化合物や芳香族エステル化合物や脂溶性副生成物の多くが炭化水素溶媒層に除かれる。更に精製するために、３−オキソプロピオニトリル化合物のアルカリ金属塩を含む水層を少量の炭化水素溶媒で洗浄、分液することも可能である。３−オキソプロピオニトリル化合物は、この水層を塩酸や酢酸等の酸で中和することによって結晶として、あるいは中和時にトルエンやキシレン等の抽出溶媒を存在させることによって、溶液として得ることができる。

以下、実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

〔実施例１〕
３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリル４５６ｇ（１．４７モル）とキシレン２７３８ｇを１０L反応フラスコに入れて７０℃に昇温し、６８〜７１℃／１０〜１３ｋＰａで減圧下において脱塩化水素しながら還流下塩化ピバロイル５３４ｇ（４．４３モル）を１０時間かけて滴下した。そのまま３時間反応させた後、過剰の塩化ピバロイルを除くために塩化ピバロイルとキシレンとの混合物２１８１ｇを７０℃で減圧下において留去した。７０℃の温水４５６ｇを投入後、２．７％炭酸水素ナトリウム水溶液２２８ｇを滴下した。水層を分液した後、７０℃の温水４５６ｇで洗浄し、水層を分液してキシレン溶液を得た。このキシレン中には、液体クロマトグラフィー定量分析で、このキシレン中には、（２Ｅ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリルが５５５ｇ（収率９５．６％）含まれていることが判明した。キシレンを９０℃で留去した後、ヘプタン１１４１ｇを投入し、７０℃から徐々に冷却して結晶化させた。０℃で１時間熟成の後、ろ過し、乾燥させ、（２Ｅ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル５３３ｇ（収率９1．９％）を得た（融点１１０℃）。

〔実施例２〕
精留塔を備えた２Ｌ反応フラスコ内に、２−フェニル−４−シアノメチル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール１１６．７ｇ（０．５５モル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エチルエステル９１ｇ（０．５モル）、ヘプタン９００ｇ、ジエチレングリコールジメチルエーテル６０ｇ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル３０ｇを加えた後、９０〜９５℃に加熱して共沸脱水を行い、その後、２８％ナトリウム１１５．５ｇ（０．６モル）を１０時間かけて滴下した後、７時間反応させた。３０℃以下に冷却後、水３０００gを投入してヘプタン層を分液し、更に、水層を更にヘプタン６００ｇで洗浄、分液し、キシレン９００ｇを投入した後、３５％塩酸６２．５ｇ（０．６モル）を滴下して中和した。水層を分液後、水６００ｇで２度洗浄、分液して、３−オキソ−２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルを１５６．８ｇ（収率９０％）含むキシレン溶液を得た。

〔実施例３〕
３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリル５９４ｇ（１．９２モル）、テトラヒドロフラン６０００ｇを１０L反応フラスコ内に入れ、トリエチルアミン２１４ｇ（２．１１モル）を投入後、塩化ピバロイル２５５ｇ（２．１１モル）を２５〜２７℃で１時間かけて滴下した。２０時間反応させた後、減圧濃縮してテトラヒドロフランを除き、その後、トルエン１８００ｇ、水１８００ｇを加えてトルエン層を分液した。トルエンを留去した後、ヘキサン７９４ｇを投入して溶解し、徐々に７℃まで冷却して結晶化させた。ろ過した後、５℃に冷却したヘキサン１０００ｇで洗浄し、乾燥させ、（２Ｅ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル５５４ｇ（収率７３．４％）を得た。

〔実施例４〕
３−オキソ−２−（５−エチル−２−フェニル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリル２２３ｇ（０．６３９モル）、１，４−ジオキサン４４５６ｇを１０L反応フラスコ内に入れ、炭酸カリウム９７．２ｇ（０．３５１モル）を投入後、６０℃に昇温して３時間攪拌した。副生した水を除くために溶媒を４８６ｇ減圧留去した後、塩化ピバロイル９２．５ｇ（０．７６７モル）を６０℃で１時間かけて滴下した。２時間反応させた後、溶媒の１，４−ジオキサンを減圧留去し、その後、トルエン４５６ｇを加えて溶解させた。水４４６ｇで２度洗浄して（２Ｚ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（５−エチル−２−フェニル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル２１７ｇ（収率７８．６％）と（２Ｅ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（５−エチル−２−フェニル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル４３ｇ（収率１５．５％）を含むトルエン溶液を得た。減圧留去してトルエンを除いた後、アセトニトリル７８０ｇに溶解させ、徐々に０℃まで冷却して結晶化させた。ろ過後、アセトニトリル２６０ｇで洗浄し、乾燥させ、（２Ｚ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（５−エチル−２−フェニル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル１６６ｇ（収率６３．１％）を得た。

〔実施例５〕
アセトニトリル４００ｍｌ中で（２Ｅ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル１８０ｇ、ピリジン２０ｇの混合物を還流条件下で７２時間攪拌した。液体クロマトグラフィーで分析したところ、反応液中の（２Ｅ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリルと（２Ｚ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリルとの比は５：６であった。その後、１時間に１０℃ずつ降温し、最終的に１５℃で２４時間攪拌した。均一溶液に（２Ｚ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリルの種晶を添加し、３時間攪拌した後、冷却し、１時間後の液温を５℃とした。５℃で１時間攪拌後、ろ過を行い、得られた結晶を５℃のヘプタン１５０ｍｌにて洗浄し、乾燥させ、９９％純度の（２Ｚ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（４−ｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル８２ｇを得た（融点１４６℃）。

〔実施例６〕
３−オキソ−２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリル１５６．８ｇ（０．４５モル）とキシレン９００ｇを３L反応フラスコ内に入れて７０℃に昇温し、６８〜７１℃／１０〜１３ｋＰａで減圧下において脱塩化水素しながら還流下で塩化ピバロイル１６２．７ｇ（１．３５モル）を１０時間かけて滴下した。そのまま５時間反応させた後、過剰の塩化ピバロイルを除くために、塩化ピバロイルとキシレンの混合物７４０ｇを７０℃で減圧下において留去した。７０℃の温水１５６ｇを投入した後、２．７％炭酸水素ナトリウム水溶液７０ｇを滴下した。水層を分液した後、７０℃の温水１５６ｇで洗浄し、水層を分液して、（２Ｅ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリルを１８１ｇ（収率９３．０％）含むキシレン溶液を得た。キシレンを減圧下において９０℃でほぼ留去した後、アセトニトリル５４０ｇを投入し、７０℃から徐々に冷却して結晶化させ、０℃で１時間撹拌した後、ろ過し、乾燥させ、（２Ｅ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル１６３．５ｇ（収率８４％）を得た（融点：１１９℃）。

〔実施例７〕
アセトニトリル６００ｇ中で、（２E）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル２１６．３ｇとピリジン２０ｇとの混合物を還流条件下で５時間攪拌した。液体クロマトグラフィーで分析したところ、均一反応液中の（２Ｚ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリルと（２E）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリルとの比は約４：６であった。その後、徐々に冷却し、２０時間後に２５℃にした。その後、２５℃で４８時間攪拌することによって得られたスラリー溶液を１０℃に冷却し、３０分後にろ過を行い、得られた結晶を５℃のアセトニトリル：ヘプタン＝１：１の溶液１５０ｍｌにて洗浄し、乾燥させ、９９％純度の（２Ｚ）−３−（２，２−ジメチルプロパノイルオキシ）−２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）アクリロニトリル１６６ｇを得た（融点：１４３℃）。

〔実施例８〕
精留塔と分液槽とを備えた３００ｍｌ反応フラスコ内に４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセトニトリル１１．３ｇ（６５．２ミリモル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エチル１０．８ｇ（５９．５ミリモル）、ヘプタン１００ｇ、５−エチル−２−ピコリン１０．０ｇを入れて窒素で置換した後、９０〜９５℃に加熱して１時間共沸脱水させた。そのままの温度に保持し、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１３．８ｇ（７１．５ミリモル）を３時間かけて滴下し、さらに１１時間反応させた。３０℃以下に冷却後、水１０８gを投入してヘプタン層を分液し水層を得た。得られた水層を液体クロマトグラフィーで定量分析したところ、３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルが１５．５ｇ（収率８４．５％）含まれていることが判明した。

〔実施例９〕
精留塔と分液槽とを備えた３００ｍｌ反応フラスコ内に４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセトニトリル１１．３ｇ（６５．２ミリモル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エチル１０．８ｇ（５９．５ミリモル）、ヘプタン１００ｇ、５−エチル−２−ピコリン１０．０ｇ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル３．０ｇを入れて窒素で置換した後、９０〜９５℃に加熱して１時間共沸脱水させた。そのままの温度に保持し、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１３．８ｇ（７１．５ミリモル）を５時間かけて滴下し、さらに５時間反応させた。３０℃以下に冷却後、水１０８gを投入してヘプタン層を分液し水層を得た。得られた水層を液体クロマトグラフィーで定量分析したところ、３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルが１７．０ｇ（収率９２．１％）含まれていることが判明した。

〔実施例１０〕
精留塔と分液槽とを備えた３００ｍｌ反応フラスコに４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセトニトリル１１．３ｇ（６５．２ミリモル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エチル１０．８ｇ（５９．５ミリモル）、ヘプタン１００ｇ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル１．５ｇを入れて窒素で置換した後、９０〜９５℃に加熱して１時間共沸脱水させた。そのままの温度に保持し、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１３．８ｇ（７１．５ミリモル）を３時間かけて滴下し、さらに７時間反応させた。３０℃以下に冷却後、水１０８gを投入してヘプタン層を分液し水層を得た。得られた水層を液体クロマトグラフィーで定量分析したところ、３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルが１５．７ｇ（収率８５．８％）含まれていることが判明した。

〔実施例１１〕
精留塔と分液槽とを備えた１０Ｌ反応フラスコ内に４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセトニトリル３１４ｇ（１．８１モル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エチル３００ｇ（１．６５モル）、ヘプタン３０００ｇ、ジエチレングリコールジメチルエーテル２２５ｇ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル９９ｇを入れて窒素で置換した後、９０〜９５℃に加熱して１時間共沸脱水させた。そのままの温度に保持し、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３８１ｇ（１．９８モル）を１０時間かけて滴下し、さらに７時間反応させた。３０℃以下に冷却後、水３０００gを投入してヘプタン層を分液し、水層を更にヘプタン６００ｇで洗浄し、分液した。得られた水層を液体クロマトグラフィーで定量分析したところ、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチル−５−ピラゾリル）−３−オキソプロピオニトリルが４６６ｇ（収率９１．５％）含まれていることが判明した。これにキシレン２７６０ｇを投入した後、３５％塩酸２０６ｇ（１．９８モル）を滴下して中和した。水層を分液後、水６００ｇで２度洗浄し、分液して、３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルのキシレン溶液を得た。液体クロマトグラフィーで定量分析したところ、３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルが４５６ｇ（収率８９．６％）含まれていることが判明した。

〔実施例１２〕
精留塔と分液槽とを備えた２０００ｍｌ反応フラスコ内に４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセトニトリル８３．７ｇ（４８３ミリモル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エチル８０．０ｇ（４３９ミリモル）、ヘプタン６４０ｇ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル１６０ｇを入れて窒素で置換した後、９０〜９５℃に加熱して１時間共沸脱水させた。そのままの温度に保持し、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液９３．２ｇ（４８２ミリモル）を３時間かけて滴下し、さらに１０時間反応させた。３０℃以下に冷却後、水６００gを投入してヘプタン層を分液し水層を得た。得られた水層をヘプタン１６０ｇで洗浄後、トルエン４００ｇを加えた後、３５％塩酸でｐＨを７に調整した。分液後、トルエン層を水１６０ｇで２回洗浄して３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルを１１６ｇ（収率８５．１％）含むトルエン溶液を得た。トルエンを減圧下において留去した後、ジ−ｎ−ブチルエーテル１２０ｇを加え、温度１２０℃で完全に溶解させた後、２０℃まで冷却し、析出した結晶をさらにジ−ｎ−ブチルエーテル１５０ｇで分散させ、ｎ−ヘキサン２００ｇを加えて１０℃で１時間攪拌した。得られた結晶をろ過し、ｎ−ヘキサン１５０ｇで洗浄した。３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルが９２．３ｇ（融点１７８℃）得られた。

〔実施例１３〕
精留塔を備えた２Ｌ反応フラスコ内に、２−フェニル−４−シアノメチル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール１０６ｇ（０．５モル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エチルエステル９１ｇ（０．５モル）、ヘプタン５３０ｇ、ジエチレングリコールジメチルエーテル１０６ｇを加えた後、９０〜９５℃に加熱して共沸脱水を行った。その後、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド６１．７ｇ（０．５５モル）を窒素雰囲気のまま注意して加え、その後、９５℃に加熱し、精留塔からの流出液を除きながら１５時間反応を行った。３０℃以下に冷却後、水３０００gを投入してヘプタン層を分液し、水層を更にヘプタン６００ｇで洗浄、分液した。得られた水層を液体クロマトグラフィーで定量分析したところ、２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチル−５−ピラゾリル）−３−オキソプロピオニトリルが１１８．５ｇ（収率６８％）含まれていることが判明した。この水溶液を４０℃に加温し、に３５％塩酸を攪拌しながら加えてｐＨを１に調整し、２時間かけて１５℃まで冷却し、得られた結晶をろ過した。結晶ケーキを水２００ｍｌで３回洗浄した後に乾燥させ、２−（２−フェニル−５−エチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル）−３−（１，３，４−トリメチル−５−ピラゾリル）−３−オキソプロピオニトリルを１１６ｇ（収率６６．５％）得た（融点：１１９℃）。
〔実施例１４〕
精留塔と分液槽とを備えた１０Ｌ反応フラスコに４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセトニトリル３１４ｇ（１．８１モル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エチル３００ｇ（１．６５モル）、ヘプタン３０００ｇ、ジエチレングリコールジメチルエーテル２２５ｇ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル９９ｇを入れて窒素で置換した後、９０〜９５℃に加熱して１時間共沸脱水させた。そのままの温度に保持し、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３８１ｇ（１．９８モル）を１０時間かけて滴下し、さらに１０時間反応させた。この間、分液槽中でヘプタンの下層に分離するアルコールを除去し続けた。３０℃以下に冷却後、水３０００gを投入してヘプタン層を分液し、水層を更にヘプタン６００ｇで洗浄、分液した。得られた水層を液体クロマトグラフィーで定量分析したところ、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチル−５−ピラゾリル）−３−オキソプロピオニトリルが４７８ｇ（収率９４．０％）含まれていることが判明した。これに３５％塩酸２０６ｇ（１．９８モル）を徐々に滴下して中和した。１時間攪拌した後、分離した結晶をろ過し、水３００ｇで洗浄した後に乾燥させ、３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルを４６９ｇ（収率９２．０％）得た。
〔実施例１５〕
精留塔と分液槽とを備えた１０Ｌ反応フラスコに４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセトニトリル３１４ｇ（１．８１モル）、１，３，４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸メチル２７７ｇ（１．６５モル）、ヘプタン３０００ｇ、ジエチレングリコールジメチルエーテル２２５ｇ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル９９ｇを入れて窒素で置換した後、９０〜９５℃に加熱して１時間共沸脱水させた。そのままの温度に保持し、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３８１ｇ（１．９８モル）を１３時間かけて滴下し、さらに１０時間反応させた。この間、分液槽中でヘプタンの下層に分離するメタノールを除去し続けた。３０℃以下に冷却後、水３０００gを投入してヘプタン層を分液し、水層を更にヘプタン６００ｇで洗浄、分液した。得られた水層を液体クロマトグラフィーで定量分析したところ、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチル−５−ピラゾリル）−３−オキソプロピオニトリルが４８６ｇ（収率９５．５％）含まれていることが判明した。これに３５％塩酸２０６ｇ（１．９８モル）を徐々に滴下して中和した。１時間攪拌した後、分離した結晶をろ過し、水３００ｇで洗浄した後、乾燥させ、３−オキソ−２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−（１，３，４−トリメチルピラゾール−５−イル）プロピオニトリルを４７５ｇ（収率９３．４％）得た。

本発明の製造方法は、３−アシロキシアクリロニトリル化合物と３−オキソプロピオニトリル化合物を工業的に、高い収率で製造することができ、産業上きわめて有用である。

Claims

式（３）
（式中、Ａｒ^１およびＡｒ^２はそれぞれ独立に置換されていてもよい芳香族置換基を表し、Ｒ^１は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香族置換基を表す。）
で表されるＥ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物またはそれと式（４）
（式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＲ^１はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）
で表されるＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物との混合物をアミンやピリジン等の有機塩基で異性化することを特徴とするＺ−３−アシロキシアクリロニトリル化合物の製造方法。
Ａｒ^１が置換されていてもよいフェニル基であり、Ａｒ^２が置換されていてもよいピラゾリル基である請求項１記載の製造方法。
Ａｒ^１が４−ｔｅｒｔ（ターシャリー）ブチルフェニル基であり、Ａｒ^２が１，３，４−トリメチル−５−ピラゾリル基であり、Ｒ^１がｔｅｒｔ（ターシャリー）ブチル基である請求項１記載の製造方法。