JP2011075484A - 半導体物理量センサ - Google Patents
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Abstract
【課題】物理量センサチップに加わる外部応力を台座によってより効率的に吸収することのできる半導体物理量センサを得る。
【解決手段】半導体を用いた物理量センサチップ2と、当該物理量センサチップ2の出力信号を信号処理する信号処理チップ3と、物理量センサチップ2を第1の内底部4aに実装するとともに信号処理チップ3を第2の内底部4bに実装するパッケージ4と、当該パッケージ4を封止するリッド5と、を備える半導体物理量センサ1において、物理量センサチップ2を、熱膨張係数が、物理量センサチップ2の熱膨張係数もしくはパッケージ4の熱膨張係数と同等の材料、または、物理量センサチップ2の熱膨張係数とパッケージ4の熱膨張係数との間の材料で形成された台座7を介してパッケージ4に実装した。
【選択図】図3
【解決手段】半導体を用いた物理量センサチップ2と、当該物理量センサチップ2の出力信号を信号処理する信号処理チップ3と、物理量センサチップ2を第1の内底部4aに実装するとともに信号処理チップ3を第2の内底部4bに実装するパッケージ4と、当該パッケージ4を封止するリッド5と、を備える半導体物理量センサ1において、物理量センサチップ2を、熱膨張係数が、物理量センサチップ2の熱膨張係数もしくはパッケージ4の熱膨張係数と同等の材料、または、物理量センサチップ2の熱膨張係数とパッケージ4の熱膨張係数との間の材料で形成された台座7を介してパッケージ4に実装した。
【選択図】図3
Description
本発明は、半導体物理量センサに関する。
従来、半導体物理量センサとして、加速度等の物理量を検出するセンサチップをインターポーザ(台座)を介して基板に実装したものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
この特許文献1では、インターポーザに凸部を設け、当該凸部を接着剤で基板に接着することでインターポーザを基板に実装している。
このように、特許文献1では、インターポーザと基板との接着面積を減少させることで、基板の変形がセンサチップに与える影響を小さくし、センサチップの検出精度の向上を図っている。
さらに、センサチップと基板との間にインターポーザを介在させることで、当該インターポーザによって基板の変形が直接センサチップに影響するのを抑制している。
しかしながら、かかる従来の技術のようにセンサチップと基板との間に台座を介在させる場合には、この台座によって、センサチップに加わる外部応力をより効率的に吸収できるようにするのが好ましい。
そこで、本発明は、物理量センサチップに加わる外部応力を台座によってより効率的に吸収することのできる半導体物理量センサを得ることを目的とする。
請求項1の発明にあっては、半導体を用いた物理量センサチップと、前記物理量センサチップの出力信号を信号処理する信号処理チップと、前記物理量センサチップを第1の内底部に実装するとともに前記信号処理チップを第2の内底部に実装するパッケージと、当該パッケージを封止するリッドと、を備える半導体物理量センサにおいて、前記物理量センサチップを、熱膨張係数が、前記物理量センサチップの熱膨張係数もしくは前記パッケージの熱膨張係数と同等の材料、または、前記物理量センサチップの熱膨張係数と前記パッケージの熱膨張係数との間の材料で形成された台座を介して前記パッケージに実装したことを特徴とする。
請求項2の発明にあっては、請求項1に記載の半導体物理量センサにおいて、前記台座と前記パッケージとの実装部分および前記台座と前記物理量センサチップとの実装部分のうち少なくともいずれか一方の実装部分に接着剤逃げ部を設けたことを特徴とする。
請求項3の発明にあっては、請求項2に記載の半導体物理量センサにおいて、前記接着剤逃げ部が、前記実装部分の外周に開口していることを特徴とする。
請求項4の発明にあっては、請求項2または請求項3に記載の半導体物理量センサにおいて、前記接着剤逃げ部が、滑らかな湾曲断面に形成されていることを特徴とする。
請求項5の発明にあっては、請求項1〜4のうちいずれか1項に記載の半導体物理量センサにおいて、前記台座が、厚さ方向に貫通する透孔が形成された多孔板であることを特徴とする。
請求項1の発明によれば、物理量センサチップは台座を介してパッケージに実装されているため、パッケージの熱膨張等による変形の影響が物理量センサチップに作用するのを台座によって緩和することができる。このように、台座が熱膨張のクッション材としての役目を果たすことで、パッケージの熱膨張による変形が物理量センサチップに影響するのを積極的に抑制できるようになる。
また、熱膨張係数が物理量センサチップの熱膨張係数とパッケージの熱膨張係数との間となる材料で形成した台座を、物理量センサチップとパッケージとの間に介在させることで、各部材間の温度変化による熱膨張の差が小さくなる。このように、各部材間の温度変化による熱膨張の差を小さくすることで、熱膨張などにより部材同士の接着部分にかかる応力を小さくすることができる。すなわち、請求項1の発明によれば、物理量センサチップに加わる外部応力を台座によってより効率的に吸収することができるようになり、物理量センサチップの検出精度の向上を図ることができる。
請求項2の発明によれば、台座とパッケージとの実装部分および台座と物理量センサチップとの実装部分のうち少なくともいずれか一方の実装部分に接着剤逃げ部を設けている。そのため、台座とパッケージもしくは台座と物理量センサチップの接着面積を減らすことが可能となり、当該接着剤やパッケージの熱膨張などによる変形が物理量センサチップに与える影響をより小さくすることができる。
また、接着剤逃げ部を設けることで、それぞれの実装部分における接触面積を減少させることができるため、接着剤やパッケージの熱膨張などによる変形が物理量センサチップに与える影響をより一層小さくすることができる。
請求項3の発明によれば、接着剤逃げ部を、上記実装部分の外周に開口するように形成したため、接着剤逃げ部内に漏れ出た接着剤を開口から外方に排出することができる。その結果、接着剤逃げ部内に接着剤が満たされてしまうのを抑制することができ、接着剤による押圧で、物理量センサチップもしくは台座が浮き上がってしまうのを抑制することができるようになる。
また、接着剤逃げ部内の空気を開口から外方に排出することができるため、接着剤逃げ部内に空気溜まりが形成されてしまうのを抑制することができ、熱変化等により膨張した空気溜まり内の空気による押圧で、物理量センサチップもしくは台座が浮き上がってしまうのを抑制することができるようになる。
請求項4の発明によれば、接着剤逃げ部を滑らかな湾曲断面に形成しているため、接着剤逃げ部内に満たされた接着剤が接着剤逃げ部に及ぼす応力をより均等に分散させることができる。したがって、接着剤逃げ部内に接着剤が満たされた場合に、当該接着剤による押圧で、物理量センサチップもしくは台座が浮き上がってしまうのをより一層抑制することができるようになる。
また、接着剤逃げ部を滑らかな湾曲断面に形成することで、接着剤の接着剤逃げ部への流れをスムーズにすることができる上、接着剤逃げ部に角部が形成されなくなるので、接着剤逃げ部内に空気溜まりが形成されてしまうのを抑制することができるようになる。
請求項5の発明によれば、厚さ方向に貫通する透孔が形成された多孔板で台座を形成したため、各透孔によってパッケージや物理量センサチップの熱膨張などによる変形を吸収することができるようになる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。以下では、半導体物理量センサとして、静電容量式の加速度センサを例示する。なお、以下の複数の実施形態には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素には共通の符号を付与するとともに、重複する説明を省略する。また、図4〜図17では、(a)の側面図において、便宜上センサチップを2点鎖線で示している。
(第1実施形態)
本実施形態にかかる加速度センサ1は、図1に示すように、半導体を用いて形成され、加速度(物理量)を検知するセンサチップ(物理量センサチップ)2と、センサチップ2の出力信号を信号処理するICチップ(信号処理チップ)3と、センサチップ2を台座7を介して後述する下段面(第1の内底部)4aに実装するとともにICチップ3を後述する上段面(第2の内底部)4bに実装するパッケージ4と、当該パッケージ4を封止するリッド5と、を備えている。
本実施形態にかかる加速度センサ1は、図1に示すように、半導体を用いて形成され、加速度(物理量)を検知するセンサチップ(物理量センサチップ)2と、センサチップ2の出力信号を信号処理するICチップ(信号処理チップ)3と、センサチップ2を台座7を介して後述する下段面(第1の内底部)4aに実装するとともにICチップ3を後述する上段面(第2の内底部)4bに実装するパッケージ4と、当該パッケージ4を封止するリッド5と、を備えている。
センサチップ2は、図2(a)に示すように、平面視で正方形状に形成されている。このセンサチップ2は、本実施形態では、図3(a)に示すように、半導体素子ディバイスを形成したシリコン基板2Aの両面を、保護層となるガラス基板2B、2Cで挟み込み、それらシリコン基板2Aとガラス基板2B、2Cとを例えば陽極接合等により一体に結合することで形成されている。
シリコン基板2Aには、図3(b)に示すように、シリコン基板2Aに公知の半導体プロセスにより間隙を形成することで、周縁部に形成される略矩形状の枠部20、固定電極体21、可動電極体となる錘部22、ばね部23および当該ばね部23を介して錘部22を支持する支持部24が形成されている。そして、シリコン基板2Aとガラス基板2Bおよびガラス基板2Cとの接合面には比較的浅いギャップがそれぞれ形成されており、シリコン基板2A各部の絶縁性や錘部22の動作性の確保が図られている。
本実施形態では、ばね部23を錘部22と支持部24に連結することで、ばね部23に支持部24に対して錘部22を弾性的に可動支持するバネ要素としての機能を与えている。さらに、錘部22に対し、バネ要素としてのばね部23に接続された支持部24により支持される質量要素(マス)としての機能を与え、これらバネ要素と質量要素とによってバネ−マス系を構成している。そして、質量要素としての錘部22の位置変位による錘部22、固定電極体21間の静電容量値の変化を検出し、検出された静電容量値の変化に基づきセンサチップ2に加えられた加速度を検知するようになっている。
具体的には、この静電容量値の変化は、錘部22、固定電極体21にそれぞれ形成された複数の櫛歯状可動電極25、櫛歯状固定電極26からなる検出部27、28によって検出される。
例えば、図3(b)に示すX方向に加速度が与えられると、櫛歯状可動電極25がX方向に変位し、検出部27の櫛歯状可動電極25、櫛歯状固定電極26で検出される静電容量値と、検出部28の櫛歯状可動電極25、櫛歯状固定電極26で検出される静電容量値に差が生じる。そして、このようにして生じた静電容量値の差からX方向の加速度を検出している。
ICチップ3は、シリコン基板を用いて形成されており、図1および図2(a)に示すように、平面視で正方形状に形成されている。このICチップ3には、センサチップ2の出力信号を増幅する増幅回路、センサの感度やオフセット電圧およびそれらの温度特性を補正する温度補償回路、ノイズを除去するノイズ除去回路などが集積化されている。そして、これらの回路を動作させることでセンサチップ2の出力信号がICチップ3によって信号処理される。このICチップ3としては、例えば、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)などを用ることができる。
パッケージ4は、本実施形態では、セラミック基板を積層することにより形成されており、上方に開口部4cを有する箱状をしている。そして、パッケージ4の内部底面にはセンサチップ2を実装する下段面(第1の内底部)4aと、ICチップ3を実装する上段面(第2の内底部)4bと、が形成されている。なお、実装されたセンサチップ2とICチップ3とがリード線L2を介して電気的に接続されるとともに、ICチップ3がパッケージ4の内壁に設けられた端子台部4dとリード線L1を介して電気的に接続されている。
台座7は、図3(b)に示すように、平面視で正方形状に形成されており、台座7の上面中央部に、図3(a)に示すように、正方形状のセンサチップ2が実装されている。なお、本実施形態では、センサチップ2の面積よりも台座7の面積の方が大きくなっており、台座7の周縁部にはセンサチップ2の周囲を取り囲むように余剰部7aが巡らされている。
リッド5は、パッケージ4を封止するものであり、センサチップ2を台座7を介してパッケージ4に実装するとともに、ICチップ3をパッケージ4に実装した後に、パッケージ4の開口部4cをリッド5によって封止することで、加速度センサ1が形成される。このようにして形成された加速度センサ1は、パッケージ4に形成された図示せぬ端子を介してプリント基板(図示せず)に実装される。
ここで、本実施形態では、センサチップ2の熱膨張係数K2とパッケージ4の熱膨張係数K3との間となる材料で形成された台座7を用い、この台座7を介してセンサチップ2をパッケージ4に実装している。また、台座7は、接着剤を介してパッケージ4に実装されるとともに、接着剤を介してセンサチップ2を実装させている。この接着剤としては、シリコン系接着剤や銀ペーストなどを用いることができる。なお、センサチップ2やパッケージ4、および台座7の材料は、特に限定されるものではないが、例えば、上述したように、センサチップ2の台座7へ接着させる部位(実装面)の材料がガラスで、パッケージ4の台座7との接着部位(実装面)の材料がセラミックの場合、台座7の材料として、熱膨張係数K1がセンサチップ2の熱膨張係数K2とパッケージ4の熱膨張係数K3との間となるシリコンなどを用いることができる。
なお、台座7は、熱膨張係数K1が、センサチップ2の熱膨張係数K2と同等の材料(本実施形態ではガラス)もしくはパッケージ4の熱膨張係数K3と同等の材料(本実施形態ではセラミック)を用いて形成してもよい。
以上説明したように、本実施形態によれば、センサチップ(物理量センサチップ)2は台座7を介してパッケージ4に実装されているため、パッケージ4の熱膨張等による変形の影響がセンサチップ2に作用するのを台座7によって緩和することができる。このように、台座7が熱膨張のクッション材としての役目を果たすことで、パッケージ4の熱膨張による変形がセンサチップ2に影響するのを積極的に抑制できるようになる。
また、本実施形態によれば、熱膨張係数K1がセンサチップ(物理量センサチップ)2の熱膨張係数K2とパッケージ4の熱膨張係数K3との間となる材料で形成した台座7を、センサチップ2とパッケージ4との間に介在させている。そのため、センサチップ2とパッケージ4とを直接接着させた場合に比べて、各部材間の温度変化による熱膨張の差(本実施形態では、センサチップ2と台座7との間の熱膨張の差、および、台座7とパッケージ4との間の熱膨張の差)が小さくなる。このように、各部材間の温度変化による熱膨張の差を小さくすることで、熱膨張などにより部材同士の接着部分にかかる応力を小さくすることができる。すなわち、本実施形態によれば、センサチップ2に加わる外部応力を台座7によってより効率的に吸収することができるようになり、センサチップ2の検出精度の向上を図ることができる。
(第2実施形態)
本実施形態にかかる加速度センサ1は、基本的に上記第1実施形態と同様に構成されており、台座7は平面視で正方形状に形成されている。
本実施形態にかかる加速度センサ1は、基本的に上記第1実施形態と同様に構成されており、台座7は平面視で正方形状に形成されている。
ここで、本実施形態が上記第1実施形態と主に異なる点は、台座7とパッケージ4との実装部分および台座7とセンサチップ2との実装部分のうち少なくともいずれか一方の実装部分である台座7とパッケージ4との実装部分に、接着剤逃げ部を設けたことにある。
本実施形態では、図4に示すように、接着剤逃げ部として、台座7とパッケージ4との接触面積を減少させつつ、台座7とパッケージ4との実装部分の外周に開口する溝10を設けている。この溝10は、台座7がパッケージ4の下段面4aに対向する下面7bに設けられており、下面7bの中央部に、1組の対向辺7S1、7S2に亘って連続するとともに、一定の深さdおよび一定の幅wを有する幅広溝として形成されている。したがって、台座7の下面7bに溝10を形成したことにより、残りの対向辺7S3、7S4に沿った両側領域が、パッケージ4の下段面4aに接着される部分となる。また、溝10が対向片7S1、7S2と交差する部分には対向片7S1、7S2に直交する方向に開口(台座7とパッケージ4との実装部分の外周に開口)する開口Mが形成されている。
以上の本実施形態によっても、上記第1実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。
また、本実施形態によれば、台座7とパッケージ4との実装部分および台座7とセンサチップ(物理量センサチップ)2との実装部分のうち少なくともいずれか一方の実装部分である台座7とパッケージ4との実装部分に、溝(接着剤逃げ部)10を設けている。そのため、台座7とパッケージ4の接着面積を減らすことが可能となり、当該接着剤やパッケージ4の熱膨張などによる変形がセンサチップ2に与える影響をより小さくすることができる。
また、溝(接着剤逃げ部)10を設けることで、台座7とパッケージ4との実装部分における接触面積を減少させることができるため、接着剤やパッケージ4の熱膨張などによる変形がセンサチップ2に与える影響をより一層小さくすることができる。
また、本実施形態によれば、溝(接着剤逃げ部)10に、対向片7S1、7S2に直交する方向に開口(台座7とパッケージ4との実装部分の外周に開口)する開口Mが形成されるようにしたため、溝(接着剤逃げ部)10内に漏れ出た接着剤を開口Mから外方に排出することができる。その結果、溝(接着剤逃げ部)10内に接着剤が満たされてしまうのを抑制することができ、接着剤による押圧で、台座7が浮き上がってしまうのを抑制することができるようになる。
また、溝(接着剤逃げ部)10内の空気を開口Mから外方に排出することができるため、溝(接着剤逃げ部)10内に空気溜まりが形成されてしまうのを抑制することができ、熱変化等により膨張した空気溜まり内の空気による押圧で、台座7が浮き上がってしまうのを抑制することができるようになる。
図5から図9は、上記第2実施形態の第1から第5変形例をそれぞれ示しており、これら各変形例は、第2の実施形態と同様に台座7の下面7bに接着剤逃げ部が設けられたものである。
図5に示す第1変形例は、接着剤逃げ部としての幅狭の溝10Aが、対向辺7S1、7S2に亘って連続して平行に複数(本実施形態では2条)形成されている。これら溝10Aは、それぞれが一定の深さd1および一定の幅w1をもって形成されており、溝10Aの両端は開口Mを介して外側に開口されている。
図6に示す第2変形例は、接着剤逃げ部が、下面7bの中央部に形成された円形の窪み11と、その窪み11から連続して対向辺7S1、7S2に延びる溝10Bと、の合体形状によって形成されている。窪み11は一定の直径φ1に形成されるとともに、溝10Bは一定の幅w2(w2<φ1)に形成されており、かつ、窪み11および溝10Bはそれぞれが深さd2に形成されている。また、溝10Bが対向辺7S1、7S2と交差する部分には開口Mが形成されている。
図7に示す第3変形例は、第2変形例に示した円形の窪み11を矩形に形成したものである。具体的には、接着剤逃げ部が、下面7bの中央部に形成された矩形の窪み11Aと、その窪み11Aから連続して対向辺7S1、7S2に延びる溝10Cと、の合体形状によって形成されている。窪み11Aは、一定の幅W1および一定の深さd3に形成されるとともに、溝10Cは、一定の深さd3および一定の幅w3(w3<W1)に形成される。また、溝10Cが対向辺7S1、7S2と交差する部分には開口Mが形成されている。
図8に示す第4変形例は、第2変形例(図5参照)に示した円形の窪みから十字状に溝を延設したものである。すなわち、接着剤逃げ部が、下面7bの中央部に形成された円形の窪み11Bと、その窪み11Bから連続して1組の対向辺7S1、7S2および他の対向辺7S3、7S4に延びる溝10D、10Eと、の合体形状によって形成されている。窪み11Bは、一定の直径φ2および一定の深さd4に形成されるとともに、溝10D、10Eは、一定の深さd4および一定の幅w4、w5(w4、w5<φ2)、に形成されている。また、溝10D、10Eが対向辺7S1、7S2および7S3、7S4と交差する部分にはそれぞれ開口Mが形成されている。
図9に示す第5変形例は、第3変形例(図6参照)に示した矩形の窪みから十字状に溝を延設させたものである。すなわち、接着剤逃げ部が、下面7bの中央部に形成された矩形の窪み11Cと、その窪み11Cから連続して1組の対向辺7S1、7S2および他の対向辺7S3、7S4に延びる溝10F、10Gと、の合体形状によって形成されている。窪み11Cは、一定の幅W2および一定の深さd5に形成されるとともに、溝10F、10Gは、一定の深さd5および一定の幅w6、w7(w6、w7<W2)、に形成されている。また、溝10F、10Gが対向辺7S1、7S2および7S3、7S4と交差する部分にはそれぞれ開口Mが形成されている。
したがって、上述した第2実施形態の第1から第5変形例では、台座7とパッケージ4との実装部分に、溝10A、10B、10C、10D、10E、10F、10Gや窪み11、11A、11B、11Cなどによる接着剤逃げ部が設けられるので、上記第2実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。また、それぞれの溝10A、10B、10C、10D、10E、10F、10Gは開口Mを介して外側に開口するため、接着剤逃げ部内に漏れ出た接着剤や接着剤逃げ部内の空気を開口Mから外方に排出できる。このとき、第2および第4変形例の窪み11,11Bのように、窪みの形状を円形にすれば、接着剤逃げ部内に漏れ出た接着剤や接着剤逃げ部内の空気を開口Mから外方にスムーズに排出させることができるという利点がある。
図10から図12は、上記第2実施形態の第6から第8変形例をそれぞれ示しており、各変形例は、第2実施形態と同様に台座7の下面7bに接着剤逃げ部が設けられたものであるが、これら変形例の接着剤逃げ部は外側に開口しないものである。
図10示す第6変形例は、接着剤逃げ部が、下面7bの中央部に形成された円形の窪み11Dのみによって形成されたものであり、また、図11に示す第7変形例は、接着剤逃げ部が、下面7bの中央部に形成された矩形の窪み11Eのみによって形成されたものである。また、図12に示す第8変形例は、接着剤逃げ部が、台座7の全面に亘って配置されたものであり、厚さ方向に貫通する多数の透孔12によって、台座7は所定の厚みtをもった多孔板7Hとして形成されている。
このような第2実施形態の第6から第8変形例によっても、上記第2実施形態と同様に、窪み11D、11Eおよび多数の透孔12などによる接着剤逃げ部によって、台座7とパッケージ4の接着面積を減らすことが可能となり、当該接着剤やパッケージ4の熱膨張などによる変形がセンサチップ2に与える影響をより小さくすることができる。
また、第8変形例のように、厚さ方向に貫通する透孔12が形成された多孔板7Hで台座7を形成することで、パッケージ4やセンサチップ2の熱膨張などによる変形を各透孔12によって吸収することができるようになるという利点がある。なお、多孔板7Hは多孔質材量を用いて形成することも可能である。
(第3実施形態)
本実施形態にかかる加速度センサ1は、基本的に上記第1実施形態と同様に構成されており、台座7は平面視で正方形状に形成されている。
本実施形態にかかる加速度センサ1は、基本的に上記第1実施形態と同様に構成されており、台座7は平面視で正方形状に形成されている。
ここで、本実施形態が上記第1実施形態と主に異なる点は、台座7とパッケージ4との実装部分および台座7とセンサチップ2との実装部分のうち少なくともいずれか一方の実装部分である台座7とセンサチップ2との実装部分に、接着剤逃げ部を設けたことにある。
本実施形態では、図13に示すように、接着剤逃げ部として、台座7とセンサチップ2との接触面積を減少させつつ、台座7とセンサチップ2との実装部分の外周に開口する溝13を設けている。この溝13は、台座7がセンサチップ2の下面に対向する上面7cに設けられており、上面7cの中央部に、1組の対向辺7S1、7S2に亘って連続するとともに、一定の深さd6および一定の幅w8を有する幅広溝として形成されている。したがって、台座7の上面7cに溝13を形成したことにより、残りの対向辺7S3、7S4に沿った両側領域が、センサチップ2の下面に接着される平坦面Fとなる。また、溝13が対向片7S1、7S2と交差する部分には対向片7S1、7S2に直交する方向に開口(台座7とセンサチップ2との実装部分の外周に開口)する開口Mが形成されている。
以上の本実施形態によっても、上記第1実施形態および第2実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。
また、本実施形態によれば、台座7の上端面に、センサチップ2の下面に接着される平坦面Fを設けたため、台座7にセンサチップ2を安定的に実装できるとともに、それら両者の結合強度を十分に確保することができる。
図14および図15は、上記第3実施形態の第1および第2変形例を示しており、それら各変形例は、上記第3実施形態と同様に台座7の上面7cに接着剤逃げ部が設けられたものである。
図14に示す第1変形例は、接着剤逃げ部としての幅狭の凸条14が、対向辺7S1、7S2に亘って連続して平行に複数(本実施形態では2条)形成されている。これら凸条14は、それぞれが一定の高さhおよび一定の幅w9をもって形成されており、複数の凸条14の間の両端は開口Mを介して外側に開口されるとともに、各凸条14の上端面は平坦面Fとなっている。
図15に示す第2変形例は、接着剤逃げ部としての矩形(矩形に限ることはない)の窪み15が、台座7の各隅部に対応して4箇所形成されている。窪み15は、一定の深さd7をもって正方形状に形成されるとともに、窪み15の周縁部が平坦面Fとなっている。
このような第3実施形態の第1および第2変形例によっても、上記第3実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。
ところで、図13から図15に示す各変形例では、接着剤逃げ部を、溝13または凸条14若しくは窪み15としたので、台座7とセンサチップ2との接触面積の減少を達成しつつ、センサチップ2と接触する平坦面Fを容易に形成することができる。
(第4実施形態)
本実施形態にかかる加速度センサ1は、基本的に上記第1実施形態と同様に構成されており、台座7は平面視で正方形状に形成されている。
本実施形態にかかる加速度センサ1は、基本的に上記第1実施形態と同様に構成されており、台座7は平面視で正方形状に形成されている。
ここで、本実施形態が上記第1実施形態と主に異なる点は、台座7とパッケージ4との実装部分および台座7とセンサチップ2との実装部分の両方の実装部分に、接着剤逃げ部を設けたことにある。
すなわち、本実施形態では、台座7とパッケージ4との実装部分に、台座7とパッケージ4との接触面積を減少させつつ、外側に開口する接着剤逃げ部が設けられるとともに、台座7とセンサチップ2との実装部分に、台座7とセンサチップ2との接触面積を減少させつつ、センサチップ2との接触部に平坦面Fを確保した接着剤逃げ部が設けられている。
具体的には、台座7の下面7bに接着剤逃げ部としての複数の溝16を設けるとともに、台座7の上面7cの中央部に接着剤逃げ部としての矩形(矩形に限ることはない)の窪み17を設けている。下面7bに形成した複数の溝16は、それぞれが一定の深さd8および一定の幅w10をもって形成されており、溝16の両端は開口Mを介して外側に開口されている。また、上面7cに形成した窪み17は、一定の深さd9をもって形成されており、窪み17の周縁部が平坦面Fとなっている。
以上の本実施形態によっても、上記第2および第3実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。
また、本実施形態によれば、台座7の下面7bに溝16を設けるとともに、台座7の上面7cに窪み17を設けることで、パッケージ4の熱膨張などによる変形がセンサチップ2に影響するのをより一層抑制することができる。
図17は、第4実施形態の変形例を示し、台座7の下面7bに接着剤逃げ部が設けられるとともに、台座7の上面7cに接着剤逃げ部が設けられている。
具体的には、本変形例では、下面7bに接着剤逃げ部としての複数の溝16Aが設けられることは上記第4実施形態と同様であるが、上面7cに接着剤逃げ部としての複数の溝18を設けた点が上記第4実施形態と異なっている。なお、下面7bに形成した複数の溝16Aは、それぞれが一定の深さd10および一定の幅w11をもって形成されており、溝16Aの両端は開口Mを介して外側に開口されている。また、上面7cに形成した複数の溝18は、それぞれが一定の深さd11および一定の幅w12をもって形成されており、溝18の周縁部が平坦面Fとなっている。
このような変形例においても、上記第4実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。
ところで、上述の各実施形態およびその変形例においては、図18に示すように、接着剤逃げ部を滑らかな湾曲断面19に形成するのが好適である。この湾曲形状は、エッチングやブラッシングによって加工することができる。
このように、接着剤逃げ部を滑らかな湾曲断面19に形成することで、接着剤逃げ部内に満たされた接着剤が接着剤逃げ部に及ぼす応力をより均等に分散させることができる。したがって、接着剤逃げ部内に接着剤が満たされた場合に、当該接着剤による押圧で、センサチップ2もしくは台座7が浮き上がってしまうのをより一層抑制することができるようになる。
また、接着剤逃げ部を滑らかな湾曲断面19に形成することで、接着剤を湾曲断面19を伝って接着剤逃げ部内にスムーズに流すことができるようになる。さらに、接着剤逃げ部を滑らかな湾曲断面19に形成することで、接着剤逃げ部に角部が形成されなくなるので、接着剤逃げ部内に空気溜まりが形成されてしまうのを抑制することができるという利点もある。
なお、図12に示す第2実施形態の第8変形例では、台座7が所定の厚みtをもった多孔板7Hとして形成されたものを示したが、この多孔板7Hは、上述した接着剤逃げ部を設けた全ての実施形態およびその変形例の台座7に適用することができる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。
例えば、上記各実施形態では、物理量センサチップとして、水平方向の加速度を検知する1軸加速度センサを例示したが、これに限らず、垂直方向(センサチップの厚さ方向)の加速度を検知する加速度センサや、2軸加速度センサや3軸加速度センサを用いることも可能である。
また、物理量センサチップとして3層構造のものを例示したが、単層のものや2層、4層以上の多層構造のものを用いることも可能である。
さらに、物理量センサチップに形成される枠部、固定電極体、可動電極体、ばね部および支持部の形状や配置も適宜に設計することが可能である。
また、上記各実施形態では、物理量センサチップとして加速度センサを例示したが、物理量センサチップは、これに限らず、加速度以外の物理量を検出するものであってもよい。
また、上記各実施形態では、半導体物理量センサとして、静電容量式の加速度センサを例示したが、ピエゾ抵抗型やガス温度分布型の半導体物理量センサを用いても本発明を実施することができる。
また、上記各実施形態では、接着剤逃げ部を台座を加工することにより形成したが、パッケージや物理量センサチップを加工することにより形成してもよい。
また、台座やパッケージ、その他細部のスペック(形状、大きさ、レイアウト等)も適宜に変更可能である。
1 加速度センサ(半導体物理量センサ)
2 センサチップ(物理量センサチップ)
3 ICチップ(信号処理チップ)
4 パッケージ
4a 下段面(第1の内底部)
4b 上段面(第2の内底部)
5 リッド
7 台座
7H 多孔板
10、10A、10B、10C、10D、10E、10F、10G 溝(接着剤逃げ部)
11、11A、11B、11C 窪み(接着剤逃げ部)
12 透孔
13 溝(接着剤逃げ部)
14 凸条(接着剤逃げ部)
15 窪み(接着剤逃げ部)
16、16A 溝(接着剤逃げ部)
17 窪み(接着剤逃げ部)
18 溝(接着剤逃げ部)
19 湾曲断面
M 開口
2 センサチップ(物理量センサチップ)
3 ICチップ(信号処理チップ)
4 パッケージ
4a 下段面(第1の内底部)
4b 上段面(第2の内底部)
5 リッド
7 台座
7H 多孔板
10、10A、10B、10C、10D、10E、10F、10G 溝(接着剤逃げ部)
11、11A、11B、11C 窪み(接着剤逃げ部)
12 透孔
13 溝(接着剤逃げ部)
14 凸条(接着剤逃げ部)
15 窪み(接着剤逃げ部)
16、16A 溝(接着剤逃げ部)
17 窪み(接着剤逃げ部)
18 溝(接着剤逃げ部)
19 湾曲断面
M 開口
Claims (5)
- 半導体を用いた物理量センサチップと、前記物理量センサチップの出力信号を信号処理する信号処理チップと、前記物理量センサチップを第1の内底部に実装するとともに前記信号処理チップを第2の内底部に実装するパッケージと、当該パッケージを封止するリッドと、を備える半導体物理量センサにおいて、
前記物理量センサチップを、熱膨張係数が、前記物理量センサチップの熱膨張係数もしくは前記パッケージの熱膨張係数と同等の材料、または、前記物理量センサチップの熱膨張係数と前記パッケージの熱膨張係数との間の材料で形成された台座を介して前記パッケージに実装したことを特徴とする半導体物理量センサ。 - 前記台座と前記パッケージとの実装部分および前記台座と前記物理量センサチップとの実装部分のうち少なくともいずれか一方の実装部分に接着剤逃げ部を設けたことを特徴とする請求項1に記載の半導体物理量センサ。
- 前記接着剤逃げ部が、前記実装部分の外周に開口していることを特徴とする請求項2に記載の半導体物理量センサ。
- 前記接着剤逃げ部が、滑らかな湾曲断面に形成されていることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の半導体物理量センサ。
- 前記台座が、厚さ方向に貫通する透孔が形成された多孔板であることを特徴とする請求項1〜4のうちいずれか1項に記載の半導体物理量センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009229399A JP2011075484A (ja) | 2009-10-01 | 2009-10-01 | 半導体物理量センサ |
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JP2009229399A JP2011075484A (ja) | 2009-10-01 | 2009-10-01 | 半導体物理量センサ |
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JP2009229399A Pending JP2011075484A (ja) | 2009-10-01 | 2009-10-01 | 半導体物理量センサ |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016134340A (ja) * | 2015-01-21 | 2016-07-25 | コニカミノルタ株式会社 | 面発光モジュールの固定構造 |
JP2018132311A (ja) * | 2017-02-13 | 2018-08-23 | セイコーエプソン株式会社 | 物理量検出装置および電子機器 |
-
2009
- 2009-10-01 JP JP2009229399A patent/JP2011075484A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2016134340A (ja) * | 2015-01-21 | 2016-07-25 | コニカミノルタ株式会社 | 面発光モジュールの固定構造 |
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