JP2011065736A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置 Download PDF

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Abstract

【課題】メモリの大容量化が進展し、多値記憶方式が採用された場合においても、適切な動作速度を確保する。
【解決手段】
メモリセルアレイ1は、Nビットのデータを保持する第1のメモリセルを有する領域と、Mビット(MはN未満の自然数)のデータを保持する第2のメモリセルを有する領域を含む。第1のメモリセルにアクセスする場合にコントローラが受信するアドレスデータのデータ構造と、第2のメモリセルにアクセスする場合に外部から受信するアドレスデータのデータ構造とは同一である。
【選択図】図10

Description

この発明は、不揮発性半導体記憶装置に関する。
従来、電気的書き換え可能な不揮発性半導体記憶装置(EEPROM)が知られている。なかでも、複数のメモリセルを隣接セルがソース,ドレイン拡散層を共有するように直列接続してNANDセルユニット(メモリストリング)を構成するNANDセル型フラッシュメモリは、高集積化が可能であるため広く利用されている。NANDセル型フラッシュメモリのメモリセルには、半導体基板に電荷蓄積層(浮遊ゲート)と制御ゲートを積層形成したMOSトランジスタが用いられる。このメモリセルは、浮遊ゲートに蓄積された電荷量によってデータを不揮発に記憶する。浮遊ゲートの代わりに、シリコン窒化膜等で電荷蓄積層を含むMONOSセルを用いたNANDセル型フラッシュメモリも提案されている。
NANDセルユニットの一端は選択ゲートトランジスタを介してビット線に接続され、他端は選択ゲートトランジスタを介してソース線に接続される。各メモリセルの制御ゲートは、ワード線に接続される。1ワード線に沿って形成される複数のメモリセルの集合は、同時にデータ書き込み及び読み出しが行われる1ページ(1セル当たり1ビットを記憶する場合)又は複数ページ(1セル当たり多ビットを記憶する場合)を形成する。
またワード線方向に並ぶ複数のNANDセルユニットは、通常データ一括消去の単位となるブロックを構成する。更に、1つのプレーンは、ビット線の方向に複数のブロックが配置されて構成される。また、いわゆるマルチチップモジュールでは、1つのメモリカード中に複数にメモリチップを搭載することも行われている。
このようなNANDセル型フラッシュメモリでは、微細化の進展・及び大容量化の要請に伴い、1モジュール内のメモリチップの数が増加し、また1ページの大きさが大きくなっており、更に、1つのNANDセルユニット内で直列接続されるメモリセルの数も増加している。このような状況の下、データの読み出し、書き込みの際に入力されるアドレスデータのデータ容量が大きくなっている。
更に、1つのメモリセルに複数ビットのデータ(複数ページのデータ)を格納する多値記憶方式が採用される場合には、そのページのアドレスも指定しなければならない。
このように、メモリの大容量化・多値記憶方式の採用に伴い、アドレスデータのデータ容量が増大する傾向にある。このようにアドレスデータのデータ容量が増えると、その転送に時間がかかり、メモリセルの動作速度に影響する虞がある。
特開平2009−86849号公報
本発明は、メモリの大容量化が進展し、多値記憶方式が採用された場合においても、適切な動作速度を確保することができる不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る不揮発性半導体記憶装置は、電気的書き換え可能なメモリセルが配列され、1つのメモリセルにNビット(Nは2以上の自然数)のデータを格納可能に構成されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの読み出し及び書き込みの制御を行うコントローラとを備え、前記メモリセルアレイは、Nビットのデータを保持する第1のメモリセルを備えた第1領域と、Mビット(MはN未満の自然数)のデータを保持する第2のメモリセルを備えた第2領域とを含み、 前記第1のメモリセルにアクセスする場合に前記コントローラが受信するアドレスデータのデータ構造と、前記第2のメモリセルにアクセスする場合に外部から受信するアドレスデータのデータ構造とが同一であることを特徴とする。
この発明によれば、メモリの大容量化が進展し、多値記憶方式が採用された場合においても、適切な動作速度を確保することができる不揮発性半導体記憶装置を提供することができる。
本実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置を示すブロック図である。 図1AのLBA−NANDメモリ20を、メモリチップ21とコントローラ22のロジックコントロールを渾然一体として見た機能ブロック構成を示している。 図1のNANDフラッシュメモリ21の1つのプレーンPlane内のセルアレイ構成を示している。 この実施の形態のLBA−NANDメモリのメモリ領域の詳細を示す図である。 3ビット/セルの記憶方式を行う場合におけるデータの書き込み手順の一例を示している。 3ビット/セルの記憶方式を行う場合におけるデータの書き込み手順の一例を示している。 3ビット/セルの記憶方式を行う場合におけるデータの書き込み手順の一例を示している。 3ビット/セルの記憶方式を行う場合におけるデータの書き込み手順の一例を示している。 2ビット/セルの記憶方式を行う場合におけるデータの書き込み手順の一例を示している。 2ビット/セルの記憶方式を行う場合におけるデータの書き込み手順の一例を示している。 本実施の形態で用いられるアドレスデータマップのデータ構造を示している。 本実施の形態で用いられるアドレスデータマップのデータ構造を示している。 比較例に係るアドレスデータマップのデータ構造を示している。 本実施の形態で用いられるコマンドの例を示す。 本実施の形態で用いられるコマンドの例を示す。 本実施の形態で用いられるコマンドの例を示す。 本実施の形態で用いられるコマンドの例を示す。 本実施の形態で用いられるコマンドの例を示す。 本実施の形態で用いられるコマンドの例を示す。
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。
本発明の実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置を、図1Aを参照して説明する。
[不揮発性半導体記憶装置の構成]
図1Aは、本実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置を示すブロック図である。この実施の形態の不揮発性半導体記憶装置は、例えば1個または複数個のメモリチップからなるNANDフラッシュメモリ21と、その読み出し/書き込みを制御するメモリコントローラ22とにより一体にパッケージ化されたメモリモジュール20を構成する。搭載される全てのフラッシュメモリ21は、一つのメモリコントローラ22で論理メモリとしてコントロールされるので、以下このモジュール20を論理ブロックアドレス(Logic Block Address)NANDフラッシュメモリ20(以下、LBA−NANDメモリ20と略称する)という。
LBA−NANDメモリ20に搭載されるNANDフラッシュメモリ21は、複数(N個)のメモリチップchip1、・・・chipNを備えており、これらのチップは一つのメモリコントローラ22で制御される。
1つのチップchip内には、複数のプレーンPlane(この例では2個)が形成されている。1つのプレーンは、ロウデコーダ、カラムデコーダ等を共有するメモリ群の一単位である。この1つのプレーン内には、データ消去単位としてのブロックBLKが複数個形成されている。
メモリコントローラ22は、フラッシュメモリ21との間でデータ転送を行うためのNANDフラッシュインタフェース23、ホストデバイスとの間でデータ転送を行うためのホストインタフェース25、読み出し/書き込みデータ等を一時保持するバッファRAM26、データ転送制御を行うMPU24、NANDフラッシュメモリ21内の読み出し/書き込みのシーケンス制御等に用いられるハードウエアシーケンサ27を有する1チップコントローラである。
尚、NANDフラッシュメモリ21とメモリコントローラ22とが1チップであるか別チップであるかは、このLBA−NANDメモリ20にとって本質的ではない。図1Bは、図1AのLBA−NANDメモリ20を、メモリチップ21とコントローラ22のロジックコントロールを渾然一体として見た機能ブロック構成を示している。
コマンド、アドレス及びデータは、入力制御回路13を介して入力され、チップイネーブル信号/CE、書き込みイネーブル信号/WE、読み出しイネーブル信号/REその他の外部制御信号は、論理回路14に入力され、タイミング制御に用いられる。コマンドは、コマンドレジスタ8に一時保持される。
制御回路6は、データの転送制御及び書き込み/消去/読み出しのシーケンス制御を行う。ステータスレジスタ11は、Ready/Busy端子にLBA−NANDメモリ20のReady/Busy状態を出力する。これとは別に、メモリ20の状態(Pass/Fail,Ready/Busy等)をI/Oポートを介してホストに知らせるステータスレジスタ12が用意されている。
アドレスは、アドレスレジスタ5に一時保持され、ロウデコーダ(プリロウデコーダ2aとメインロウデコーダ2b)2やカラムデコーダ4に転送される。書き込みデータは、入力制御回路7、制御回路6を介してセンスアンプ回路3(センスアンプ3aとデータレジスタ3b)にロードされ、読み出しデータは制御回路6及び入力制御回路7を介して、外部に出力される。
各動作モードに応じて必要とされる高電圧を発生するために、高電圧発生回路10が設けられている。高電圧発生回路10は、制御回路6から与えられる指令に基づいて所定の高電圧を発生する。
図2は、図1のNANDフラッシュメモリ21の1つのプレーンPlane内のセルアレイ構成を示している。
メモリセルアレイ1は、複数の電気的書き換え可能な不揮発性メモリセル(図の例では64個のメモリセル)M0−M63が直列接続されたNANDセルユニット(メモリストリング)NUを配列して構成される。
NANDセルユニットNUの一端は、選択ゲートトランジスタS1を介してビット線BLに、他端は選択ゲートトランジスタS2を介して共通ソース線CELSRCに接続される。メモリセルM0−M63の制御ゲートはそれぞれワード線WL0−WL63に接続され、選択ゲートトランジスタS1、S2のゲートは選択ゲート線SGD、SGSに接続される。
ワード線方向に配列されるNANDセルユニットの集合が、データ消去の最小単位となるメモリブロックを構成し、図示のようにビット線の方向に複数のメモリブロックBLK0−BLKn−1が配置される。
ビット線BLの一端側に、セルデータの読み出し及び書き込みに供されるセンスアンプ回路3が配置され、ワード線WLの一端側にワード線及び選択ゲート線の選択駆動を行うロウデコーダ2が配置される。図2では、電流検出型センスアンプを用いるなどして寄生容量の影響を抑制することで全ビット線を同時に読み出す方式((ABL方式)を採用した場合の構成を示しており、1つのビット線BLごとにセンスアンプSAが設けられている。
なお、隣接する偶数番ビット線BLeと奇数番ビット線BLoとがビット線選択回路により選択的にセンスアンプ回路3の各センスアンプSAに接続される構成も知られている。この場合、例えば偶数番目のビット線BLoが選択された場合、非選択の奇数番目のビット線BLeはシールド線として機能し、選択ビット線BLoの寄生容量の影響を低減させることができる(ビット線シールド方式)。本発明は、このようなビット線シールド方式を採用したセルアレイにも適用可能であることは言うまでもない。
また、選択トランジスタSGDおよびSGSに隣接するメモリセルは、データの記憶に用いないダミーセルとすることも可能である。以下では、ダミーセルの無い場合を主に想定して説明を行うが、本発明はダミーセルを設けたメモリセルアレイにも適用可能である。
また、上記の実施の形態では、1つのNANDセルユニット中に64個(2個)のメモリセルMCが直列接続される例を示したが、本発明はこれに限定されるものではないことは言うまでもない。一般的に、1つのNANDセルユニット中には2のべき乗の数のメモリセルが含まれる。
ただし、1メモリセルに2のべき乗以外のビット数(例:3ビット)のデータを格納する場合には、1ブロック当たりのビット数(記憶容量)が2のべき乗となるよう、1つのNANDセルユニット中のメモリセルの数を2のべき乗以外の数に設定することが好ましい。例えば、1メモリセル当たり3ビットを記憶させる場合(3ビット/セル)、1つのNANDセルユニット中に86個のメモリセルMCを設け、そのうちの1個のみを1ビット/セルの記憶方式とし、残りの85個を3ビット/セルの記憶方式とすることにより、1ブロック当たりの容量が2のべき乗のビット数となる(1つのNANDセルユニット当たりの記憶容量は、1+85×3=256ビット)。すなわち、1ブロックに格納可能なデータが2のべき乗のビット数となるよう、NANDセルユニット中のメモリセルの数、及びNANDセルユニット中でNビット/セルの記憶方式が実行される前記メモリセルの数が選択される。
以上のように構成されるLBA−NANDメモリ20において、コマンド、アドレス(論理アドレス)及びデータ、並びにチップ・イネーブル信号/CE、書き込みイネーブル信号/WE、読み出しイネーブル信号/RE、レディ/ビジー信号RY/BY等の外部制御信号は、ホストI/F25に入力される。ホストI/F25では、コマンドや制御信号を、MPU24及びハードウエアシーケンサ27に振り分けると共に、アドレス及びデータをバッファRAM26に格納する。
外部から入力された論理アドレスデータは、NANDフラッシュI/F23で、NANDフラッシュメモリ21の物理アドレスデータに変換される。また、各種制御信号に基づくハードウエアシーケンサ27の制御の下、データの転送制御及び書き込み/消去/読み出しのシーケンス制御が実行される。変換された物理アドレスデータは、NANDフラッシュメモリ21内のアドレスレジスタを介してロウデコーダ2やカラムデコーダ(図示せず)に転送される。書き込みデータは、I/O制御回路等を介してセンスアンプ回路3にロードされ、読み出しデータはI/O制御回路等を介して、外部に出力される。
なお、論理アドレス中には、複数チップのいずれかを特定するチップアドレス、1つのチップ中のプレーンを特定するプレーンアドレス、1つのプレーンの中の複数ブロックの1つを特定するブロックアドレス、1ブロック中の1つのワード線を特定するロウアドレス、1ブロック中の1つのカラムを特定するカラムアドレスが含まれる。また、Nビット/セル(N≧2)の記憶方式を採用したメモリへのアクセスに際しては、ページを特定するページデータ(3ビット/セルの場合、上位ページUpper、中位ページMiddle、下位ページLowerのいずれか)も特定する必要がある。
しかし、本実施の形態では、このページデータを論理アドレスデータ中には含めず、コマンド内に含める。これにより、アクセス速度を向上させることができるなど、様々な効果を得ることができる。詳しくは後述する。なお、以下の説明において「ページデータ」の用語は、Nビット/セルの記憶方式を採用する場合において、Nビットを構成する各ページのいずれを示すのかを特定するデータのことを意味するものとする。
[メモリ領域]
図3は、この実施の形態のLBA−NANDメモリのメモリ領域の詳細を示す図である。
本実施形態のLBA−NANDメモリ20は、コマンドによりアクセスの切り換えが可能な複数のデータ領域(論理ブロックアクセス領域)を持つ。具体的にこの実施の形態では、用途・データの信頼性により区画される2つ又は3つのデータ記憶領域がある。
図3(a)に示すスタンダードオペレーションモードでは、それぞれが特性の異なる情報を記憶する2つのデータ記憶領域を有する。1つはSLC(Single Level Cell)を用いた2値データ記憶領域SDA(SLC Data Area)であり、もう一つはMLC(Multi Level Cell)を用いた多値データ記憶領域MDA(MLC Data Area)である。2値データ記憶領域SDAは、初期設定データ、ファイルシステム又はネットワーク通信のログデータ等を記憶するのに適し、多値データ記憶領域MDAは、音楽、画像、各種アプリケーション等を記憶するのに適している。
図3(b)に示すオプショナルパワーオンモードでは、データ記憶領域SDA,MDAに加えて、ブートコードを記憶するブートコードブロックがメモリ領域の先頭に設けられる。
これら2つのモードにおいて、2値データ記憶領域SDAと多値データ記憶領域MDAの境界は、コマンドの指示によって任意に変更可能となっている。
[動作]
次に、本実施の形態の動作を、図4〜図17を参照して説明する。
本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置は、メモリセルアレイの少なくとも一部に、1メモリセルあたりNビットを記憶する記憶領域を設ける。このNビットのデータの書き込み手順には、様々な方法があり、以下、順に説明する。
図4は、3ビット/セルの記憶方式を行う場合におけるデータの書き込み手順の一例を示している。この方法は、まず、3ビットのデータのうちの最下位ビットに対応する下位ページデータLowerを与えられ、この下位ページデータLowerに基づき、2つの閾値電圧分布0,1を形成する(第1段階:1st stage)。その後、3ビットのデータのうちの中位ビットに対応する中位ページデータMiddleを与えられ、この中位ページデータMiddleに基づき、2つの閾値分布0、1を更に2つに分け、4つの閾値電圧分布0〜3を形成する(第2段階:2nd stage)。最後に、3ビットのデータのうちの上位ビットに対応する上位ページデータUpperを与えられ、この上位ページデータUpperに基づき、8つの閾値電圧分布0〜7を形成する(第3段階:3rd stage)。
この図4の手順は、Nビットのデータを、N段階に分けて書き込むステップ・バイ・ステップ方式である(この図4では、N=3である)。しかも、図4の方式は、第1〜第3段階の全てにおいて、各閾値電圧分布が互いに重複しないように書き込みを行う「ファイン書き込み方式」を行っている。一方、閾値電圧分布の重複部分が発生するような粗い(ラフな)書き込みを最初に行い、次に重複の無い精緻な書き込みを行う方式もあり、これを以降「ラフ/ファイン書き込み方式」と記す。
図5は、図4と同様に、3ビット/セルの記憶方式を行う場合の書き込み手順を示している。第1段階の下位ページLowerの書き込みは、図4の場合と同様である。しかし、この図5では、第2段階において、中位ペーデータジMiddle、及び上位ページデータUpperを一度に与えられ、閾値電圧分布0〜7を得る点で、図4の手順と異なっている。ただし、この第2段階の書き込みは、閾値電圧分布0〜7は互いに重複部分を有するような粗い(ラフな)書き込みである(ラフ書き込み)。そして、第3段階において、再度中位ペーデータジMiddle、及び上位ページデータUpperを与えられ、閾値電圧分布0〜7を、互いに重複がなく、適当なマージンを有するように書き込みが行われる(ファイン書き込み)。すなわち、この図5は、3ビット/セルの記憶方式において、「ラフ/ファイン書き込み方式」を採用した場合の書き込み手順を示しているものである。
図6も、図5と同様に、3ビット/セルの記憶方式において、「ラフ/ファイン書き込み方式」を採用した場合の書き込み手順を示している。ただし、この例では、第1段階で下位ページデータLower、中位ページデータMiddleを与えられ、一度に4つの閾値電圧分布0〜4を得るファイン書き込みを実行し、その後、第2、第3段階において、全ページデータLower、Middle、Upperを与えられてラフ/ファイン書き込みを行う点で、図5の例と異なっている。
図7は、第1段階において全ページデータLower、Middle、Upperを与えられてラフ書き込みを行い、次の第2段階において、再度全ページデータLower、Middle、Upperを与えられてファイン書き込みを行う方法である。
図8、及び図9は、2ビット/セルの記憶方式を実行する場合の書き込み手順を示している。図8は、ステップ・バイ・ステップ方式でのファイン書き込み方式を採用した書き込み手順であり、図9はラフ・ファイン方式を採用した書き込み手順を示している。
以上説明したように、3ビット/セルの記憶方式を取る場合でも、様々な書き込み方式が適用可能であり、それぞれ各ページデータの提供のタイミングは異なっている。例えば、図7の方式では、全ページデータが一度に与えられる一方、図4の方式では、各ページのデータが1つずつ与えられる。
更に、例えば図4の方式を固定的に採用する場合であっても、1ビット/セルの書き込みを行う記憶領域と、3ビット/セルの書き込みを行う記憶領域とが1つのメモリチップ内に存在し、それぞれ提供すべきアドレスデータが異なる。1ビット/セルの書き込みを行う記憶領域の場合、ページデータ(Lower、Middle、Upper)は不要で、書き込み・読み出しを行うメモリセル(カラム)の物理アドレスを特定できれば足りる。一方、3ビット/セルの書き込みを行う記憶領域の場合、これに加えて前述のページデータが必要となる。
このとき、アドレスデータの構造を、後者に合わせたものとすると、前者において、データ構造に無駄が生じる。このため、アドレスデータのビット数が無用に増加し、アドレスデータの処理に時間を要し、データ読み出し速度が低下する虞がある。
本実施の形態では、このような問題に鑑み、次に説明するようなデータ構造を有するアドレスデータを受信し、データ書き込み・読み出しを行う。
図10、図11は、本実施の形態において、外部から提供されるアドレスデータマップのデータ構造を示している。図10は、1つのメモリストリングMSに64個のメモリセルMCが存在し、メモリセルアレイの一部の領域に2ビット/セルでの書き込みを行う場合におけるアドレスデータマップのデータ構造を示している。一方、図11は、1つのメモリストリングMSに86個のメモリセルMCが存在し、メモリセルアレイの一部の領域に3ビット/セルでの書き込みを行う場合におけるアドレスデータのデータ構造を示している。図11の場合は、ワード線WLの指定のためのアドレスデータのビット数が異なる以外は、ほぼ図10の場合と同様であるので、以下では、図10のデータ構造のみを説明する。なお、本実施例に記載のアドレスデータ割り当ては一例であり、don’t careの場所、Column address、WL、Block、BlockおよびPlaneアドレスデータの割り当て方は自由である。
図10に示すように、8ビット(1バイト)のI/O端子IO0〜7から、8ビットずつ、数サイクルに分けて、読み出し対象となるメモリセルの位置を特定するアドレスが入力される。この例では、この例では、5回の入力サイクル1〜5に亘って、順にカラムアドレス(Column Address)、ワード線WLのアドレス(WL)、ブロックアドレス(Block)、プレーンアドレス(Plane)、チップアドレス(Chip)の5種類が入力される。なお、図10の「Don’t care」はアドレスデータマップの剰余領域であり、MPU24では無視される。図10、及び図11はあくまでも図1に示すようなメモリ装置におけるアドレスデータのデータ構造の一例であり、異なる構造のメモリ装置においては、異なるアドレスデータ構造が採用され、そのような異なるアドレス構造も、本発明の範囲に含まれ得ることは言うまでもない。例えば、メモリチップが1枚のみであれば、チップアドレスは不要であり、1チップが1プレーンのみを有するのであればプレーンアドレスは不要である。その他、メモリセルアレイの構造、読み出し方式の違い等に基づいて、様々なデータがアドレスデータマップ中に含められ得る。
図10から明らかなように、このアドレスデータには、Nビット/セルの記憶方式を行う場合における、Nビットを表現する複数ページUpper、Middle、Lowerのいずれの書き込み又は読み出しを行うのかを示すページデータが含まれていない。これらページデータは、後述するようにコマンドに含めてメモリコントローラ22に供給される。
このように、Nビット/セルの記憶方式を行う場合における、Nビットのいずれかを表現するページデータをアドレスデータ中に含めず、コマンド中に含めるようにすることにより、Nビット/セルの記憶方式を採用した場合においても、アドレスデータが肥大化せず、アドレスデータの処理時間が長くなることを防止することができる。
また、前述したように、Nビット/セルの記憶方式を採用する場合であっても、メモリセルアレイ中の一部の領域には1ビット/セルの記憶方式を採用する場合も多い(図4参照)。このような場合に、図12に示す比較例のように、ページデータをアドレスデータマップ中に含めると(図12中のbit(L/M/U))、アドレスデータの構造をNビット/セルの書き込み等を行う場合に合わせなければならない。すなわち、後者の書き込み、読み出しをする場合に、ページデータ(bit(L/M/U))の格納領域が上述のような「Don’t Care」となり、アドレスデータ構造が、Nビット/セルの書き込みを行う場合と、1ビット/セルの書き込みを行う場合とで異なったものとなってしまう。これにより、全体としてアドレスデータの処理時間が長くなり、読み出し速度を低下させる虞がある。
この点、本実施の形態のアドレスデータ構造によれば、アドレスデータは、ページデータを含んでいないので、1ビット/セルの記憶方式とNビット/セルの記憶方式が混在する場合においても、アドレスデータマップに無駄な領域が生じることはない。換言すれば、1ビット/セルの記憶方式でのアドレスデータマップのデータ構造と、Nビット/セルの記憶方式でのアドレスデータマップのデータ構造とを共通化することができるので、動作を簡略化することができると共に、アドレスの処理回路も簡略化することができ、回路素子数を低減することができる。
本実施の形態の効果を具体的に検証する。まず、1つのメモリストリング中で、データ記憶に用いられるメモリセル(以下、「実効メモリセル」という)の数をC(1のメモリストリング中のメモリセルの総数から、データ記憶に用いられないダミーセルの数を引いた数)と定義する。また、その実効メモリセルの少なくとも一部においてnビット/セルの記憶方式(nは、2のべき乗の自然数)が採用されるとする。また、その実効メモリセルに接続されるワード線の指定のためのワード線アドレスのビット数をPwとし、また、そのnビットを表現するためのページデータのビット数をPpとする。更に、両者の合計のビット数をP(=Pw+Pp)とする。
この場合、比較例のように、ページデータをアドレスデータに含める場合、C、n、Pは、以下の数式を満たすように設定される。
[数1]
=2(Pw+Pp)=C×n
従って、C、nが増加すると、Pw、Ppもそれにつれて増加し、アドレスデータマップのデータ容量が肥大化する。また、1ビット/セルの記憶方式が一部で取られる場合には、2Ppビット分の剰余領域がアドレスデータマップ中に設けられることになり、アドレスデータマップが無駄に大きくなってしまう。
一方、本実施の形態では、Cが増加すれば当然にアドレスマップデータのデータ容量も増加するが、nが増加しても、アドレスデータマップのデータ容量は増大しない。すなわち、次の数式を満たすように、Pwが設定されればよい。従って、アドレスデータマップのデータ容量の増加が抑制される。
[数2]
Pw=C
なお、1つのメモリセルに、2のべき乗でないビット数であるn’ビットのデータが記憶される場合(n’ビット/セル)、上述のように、1つのメモリストリング中の実効メモリセルの数Cは、2のべき乗ではない数に設定される。その場合、ワード線アドレスのビット数をPwと、Cとの関係は、次の関係を満たすように設定される。この場合も、n’が増加しても、アドレスデータマップのデータ容量は増加しない。
[数3]
(Pw−1)<C≦2Pw
以上総合すると、Nビット/セル(Nは2以上の自然数)の記憶方式を実行する場合、[数3]の関係が満たされるように(すなわち、Nの大きさに無関係に)アドレスデータマップを構成すればよい。
図13〜図18は、本実施の形態において提供されるコマンドの例を示している。前述したように、本実施の形態では、コマンド中にページデータが含められ、このコマンドの内容に従い、Nビット/セルの記憶方式に従った書き込み動作/読み出し動作が行われる。
図13は、図4の書き込み手順が採用される場合のコマンドの例である。この場合、コマンドは、第1〜第3段階の3段階に分けて入力される。各段階の冒頭に受信されるコマンドP,Q,Rは、それぞれ、下位ページデータLowerの書き込みを指示するコマンド、中位ページデータMiddleの書き込みを指示するコマンド、上位ページデータUpperの書き込みを指示するコマンドである。また、続くコマンドCは、アドレス入力を指示するコマンドである。その後、図10のアドレスデータマップ(Address)、書き込みデータ(Data)が順に入力され、最後に、書き込み動作の開始を指示するコマンドBが入力される。このコマンドP,Q,Rは、図12のアドレスデータマップにおけるページデータ(bit(L/M/U))の代わりにページデータを特定するものである。従って、このようなコマンドが送信されることにより、アドレスデータマップを、Nビット/セルの書き込みを行うか、1ビット/セルの書き込みを行うかに関係なく、同一の構造とすることができる。
図14は、図5の書き込み手順が採用される場合のコマンドの例である。この場合も、コマンドは第1〜第3段階の3段階に分けて入力される。ただし、各段階の冒頭では、コマンドP,Q,Rに加え、コマンドX1,X2,X3が入力される。コマンドX1は、3ビット/セルの記憶方式の書き込み手順のうちの1st stage書き込みを実行することを指示するコマンドであり、コマンドX2は、2nd stage書き込み(ラフ書き込み)を実行することを指示するコマンドであり、コマンドX3は、3rd stage書き込み(ファイン書き込み)を実行することを指示するコマンドである。1st stage書き込みでは、下位ページデータの書き込みを行うため、コマンドX1に続いてコマンドPが入力される。以下図13に示すものと同様に、アドレス入力を指示するコマンドC,アドレスデータ、書き込みデータが順に入力され、最後に、書き込み動作の開始を指示するコマンドBが入力される。2nd stage書き込みでは、3bitの書き込みデータ入力が必要なため、3回のアドレスおよびデータが入力される。コマンドX2、コマンドP、コマンドC、アドレス入力に続き、下位ページデータが入力され、さらに書き込みデータ入力が継続することを指示するコマンドAが入力される、続いて、コマンドX2、コマンドQ、コマンドC、アドレス入力に続き、中位ページデータが入力され、さらに書き込みデータ入力が継続することを指示するコマンドAが入力される、最後にコマンドX2、コマンドR、コマンドC、アドレス入力に続き、上位ページデータが入力され、書き込み動作の開始を指示するコマンドBが入力される。3rd stage書き込み動作は、2nd stageに対してコマンドX2がコマンドX3に変更された形態で実施される。なお、3rd stageはファイン書き込み動作のため、コマンドX3は省略して実施することも可能である。この例の場合、コマンドX1,X2,X3が書き込み方式を指定するコマンドとして機能し、コマンドP,Q,Rが、前記Nビットを表現するNページのデータのうちのいずれかのページを指定するコマンドとして機能し、図12のページデータの代わりとして機能している。
図15は、図6の書き込み手順が採用される場合のコマンドの例である。図21に示すコマンド入力方式との違いは、1st stage書き込みが2bitの書き込みデータを用いて行われる点である. 2bitの書き込みデータ入力が必要なため、2回のアドレスおよびデータが入力される。コマンドY1、コマンドP、コマンドC、アドレス入力に続き、下位ページデータが入力され、さらに書き込みデータ入力が継続することを指示するコマンドAが入力される、続いて、コマンドY1、コマンドQ、コマンドC、アドレス入力に続き、中位ページデータが入力され、さらに、書き込み動作の開始を指示するコマンドBが入力される。ここでコマンドY1は、1st stage書き込みを2bit/cellで実行することを2bit/cell内の指示するコマンドであり、1st stage書き込みを2bit/cellで実行するコマンドX1とを区別している。
図16は、図7の書き込み手順が採用される場合のコマンドの例である。この場合、コマンドは第1〜第2段階の2段階に分けて入力される。第1段階の動作は、図14に示す2nd stageと同じである。第2段階では、この8つの閾値電圧分布0−7のファイン書き込みを実行する。
図17、図18は、それぞれ図8、図9の書き込み手順が採用される場合のコマンドの例である。2ビット/セルの書き込み方式であるため、コマンドの入力段階が少なくされているが、図18の2nd stageには2ビット/セルの書き込み方式でファイン書き込みを行うコマンドY2を、3ビット/セルの書き込み方式でファイン書き込みを行うコマンドX3と区別している。それ以外は図13〜図16と略同様である。
なお、データ読み出し動作を行う場合には、データを読み出すアドレス入力を指示するコマンドを入力し、アクセスするアドレスデータを入力し、読み出し動作を実行するコマンドを入力する。本実施例では、一例として、各読み出しの冒頭にコマンドP,Q,Rを入力することで、アクセスするページの特定・認識が可能になる。したがって、読み出し動作の場合も、書き込み動作の場合と同様に、そのコマンド中にページデータが含められる。また、1ビット/セルの書き込み、読み出しを行う場合には、言うまでもないことであるが、コマンド中にページデータは含められない。
以上、発明の実施の形態を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更、追加等が可能である。
1…メモリセルアレイ、 2(2a,2b)…ロウデコーダ、 3(3a,3b)…センスアンプ回路、 4…カラムデコーダ、 5…アドレスレジスタ、 6…制御回路、 8…コマンドレジスタ、 10…高電圧発生回路、 11,12…ステータスレジスタ、 13…IOコントロール回路、 14…ロジックコントロール回路、 20…LBA−NANDメモリ(メモリカード)、 21…フラッシュメモリ、 22…メモリコントローラ、 23…フラッシュI/F、 24…MPU、 25…ホストI/F、 26…バッファRAM、 27…ハードウエアシーケンサ。

Claims (6)

  1. 電気的書き換え可能なメモリセルが配列され、1つのメモリセルにNビット(Nは2以上の自然数)のデータを格納可能に構成されたメモリセルアレイと、
    前記メモリセルアレイの読み出し及び書き込みの制御を行うコントローラと
    を備え、
    前記メモリセルアレイは、Nビットのデータを保持する第1のメモリセルを備えた第1領域と、Mビット(MはN未満の自然数)のデータを保持する第2のメモリセルを備えた第2領域とを含み、
    前記第1のメモリセルにアクセスする場合に前記コントローラが受信するアドレスデータのデータ構造と、前記第2のメモリセルにアクセスする場合に外部から受信するアドレスデータのデータ構造とが同一である
    ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
  2. 前記コントローラは、
    前記メモリセルの位置を特定する情報を前記アドレスデータとして供給される一方、
    前記Nビットを表現するNページのデータのうちのいずれかのページを指定するデータを前記コマンドの一部に含めて供給される
    ことを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  3. 前記アドレスデータには、前記Nビットを表現するNページのデータのうちのいずれかのページを指定するデータは含まれていないことを特徴とする請求項2に記載の不揮発性半導体記憶装置。
  4. 前記メモリセルアレイは、前記メモリセルを直列接続してなるNANDセルユニットを配列して構成され、ワード線を共有する複数の前記NANDセルユニットによりデータ消去単位であるブロックが形成される
    請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  5. 前記ブロックに格納可能なデータが2のべき乗のビット数となるよう、前記NANDセルユニット中の前記メモリセルの数、及び前記NANDセルユニット中でNビット/セルの記憶方式が実行される前記メモリセルの数が選択されていることを特徴とする請求項4記載の不揮発性半導体記憶装置。
  6. 1つの前記NANDセルユニット中でデータ記憶に用いられる実効メモリセルの数をC、前記実効メモリセルに接続されるワード線の指定のためのワード線アドレスのビット数をPwとした場合、2(Pw−1)<C≦2Pwの関係が成立するようPwの値が設定されることを特徴とする請求項4記載の不揮発性半導体記憶装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140008705A (ko) * 2012-07-11 2014-01-22 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 메모리 시스템 및 그것의 메모리 블록 관리, 소거, 및 프로그램 방법들
KR101532840B1 (ko) * 2013-10-17 2015-06-30 서울대학교산학협력단 거친 쓰기 및 미세 쓰기를 이용하여 데이터 프로그램을 수행하는 방법 및 장치
JP2018041523A (ja) * 2016-09-07 2018-03-15 東芝メモリ株式会社 半導体記憶装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8462536B2 (en) * 2011-03-11 2013-06-11 Intel Corporation Method and apparatus for addressing memory arrays
US9390049B2 (en) * 2011-06-03 2016-07-12 Micron Technology, Inc. Logical unit address assignment
KR20130077401A (ko) * 2011-12-29 2013-07-09 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 그 구동 방법
KR20140132103A (ko) 2013-05-07 2014-11-17 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 시스템, 반도체 메모리 장치 및 그것들의 동작 방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008146253A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Sony Corp 記憶装置およびコンピュータシステム、並びに記憶装置のデータ処理方法
JP2009003995A (ja) * 2007-06-19 2009-01-08 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2009104729A (ja) * 2007-10-24 2009-05-14 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3983969B2 (ja) * 2000-03-08 2007-09-26 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
KR100626371B1 (ko) * 2004-03-30 2006-09-20 삼성전자주식회사 캐쉬 읽기 동작을 수행하는 비휘발성 메모리 장치, 그것을포함한 메모리 시스템, 그리고 캐쉬 읽기 방법
KR100732628B1 (ko) * 2005-07-28 2007-06-27 삼성전자주식회사 멀티-비트 데이터 및 싱글-비트 데이터를 저장하는 플래시메모리 장치
KR100823170B1 (ko) * 2007-01-31 2008-04-21 삼성전자주식회사 배드 블록을 싱글 레벨 셀 모드로 사용하는 메모리 시스템및 메모리 카드
JP4746598B2 (ja) 2007-09-28 2011-08-10 株式会社東芝 半導体記憶装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008146253A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Sony Corp 記憶装置およびコンピュータシステム、並びに記憶装置のデータ処理方法
JP2009003995A (ja) * 2007-06-19 2009-01-08 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2009104729A (ja) * 2007-10-24 2009-05-14 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140008705A (ko) * 2012-07-11 2014-01-22 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 메모리 시스템 및 그것의 메모리 블록 관리, 소거, 및 프로그램 방법들
JP2014022031A (ja) * 2012-07-11 2014-02-03 Samsung Electronics Co Ltd 不揮発性メモリ装置とそれを含むメモリシステム及びそれらのメモリブロック管理、消去、及びプログラム方法
US9818485B2 (en) 2012-07-11 2017-11-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatle memory device and memory system having the same, and related memory management, erase and programming methods
KR101975406B1 (ko) 2012-07-11 2019-05-07 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 메모리 시스템 및 그것의 메모리 블록 관리, 소거, 및 프로그램 방법들
KR101532840B1 (ko) * 2013-10-17 2015-06-30 서울대학교산학협력단 거친 쓰기 및 미세 쓰기를 이용하여 데이터 프로그램을 수행하는 방법 및 장치
JP2018041523A (ja) * 2016-09-07 2018-03-15 東芝メモリ株式会社 半導体記憶装置
US10796764B2 (en) 2016-09-07 2020-10-06 Toshiba Memory Corporation Semiconductor memory device

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