JP2011061200A - 透明有機電極形成方法 - Google Patents

透明有機電極形成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011061200A
JP2011061200A JP2010199669A JP2010199669A JP2011061200A JP 2011061200 A JP2011061200 A JP 2011061200A JP 2010199669 A JP2010199669 A JP 2010199669A JP 2010199669 A JP2010199669 A JP 2010199669A JP 2011061200 A JP2011061200 A JP 2011061200A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive
forming
transparent organic
organic electrode
electrode according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010199669A
Other languages
English (en)
Inventor
Jong Young Lee
ヤン リー、ジョン
Yongsoo Oh
オー、ヤンスー
Young Ki Baek
キ ベク、ヤン
Ho Joon Park
ジュン パク、ホ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electro Mechanics Co Ltd filed Critical Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Publication of JP2011061200A publication Critical patent/JP2011061200A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

【課題】不良率が低く、原料の消費が少ない上、優れた透明度を有する透明有機電極形成方法を提供する。
【解決手段】本透明有機電極形成方法は、導電性物質、バインダー、及び溶媒を含む有機導電性組成物を準備する段階と、セル単位で区画された切断ラインが形成された基板を準備する段階と、前記切断ラインで区画された各セルの内部に前記有機導電性組成物を利用して導電パターンをプリントすることにより導電層を形成する段階と、前記切断ラインに沿ってダイシングしてそれぞれ前記導電層が形成されたセルに分離する段階とを含む。
【選択図】図1c

Description

本発明は、透明有機電極形成方法に関し、より詳細には、不良率が低く、原料の消費が少ない上、優れた透明度を有する透明有機電極形成方法に関する。
コンピュータ、各種家電機器や通信機器がデジタル化されて急速に高性能化するにつれて、携帯可能な大画面のディスプレイの実現が切実に求められている。携帯可能かつ大画面のフレキシブルなディスプレイを実現するためには、新聞のように折ったり巻いたりすることができる材質のディスプレイ材料が要求される。
このため、ディスプレイ用電極材料は、透明かつ抵抗値が低いだけでなく、素子を曲げたり折ったりしたときも機械的に安定するように高い強度を有さなければならず、機器が過熱した場合や高温になった場合も短絡したり面抵抗の変化が大きくならないようにプラスチック基板の熱膨張係数と類似した熱膨張係数を有さなければならない。
フレキシブルなディスプレイは、任意の形状を有するディスプレイの製造を可能にするため、携帯用ディスプレイ装置だけでなく、色やパターンを変えることのできる衣服や衣類の商標、広告板、商品陳列台の価格表示板、大面積の電気照明装置などにも使用することができ、その活用度は高い。
現在、透明導電性素材を製造する方法として、基板上に化学蒸着法、マグネトンスパッタ法、反応性蒸発蒸着法などを用いてインジウム、スズ、亜鉛、チタン、セシウムなどの様々な金属酸化物を塗布することにより導電性層を形成する研究が、世界各国で盛んに行われている。しかしながら、このような方法で基板上に金属酸化物をコーティングするためには真空条件が必要であるため、工程コストが高いという欠点があった。
ここで、大面積の基板上に金属酸化物がコーティングされて形成された透明導電性素材は、使用者が要求する単位のセルに切断されて使用者に提供される。しかしながら、切断工程で機械的応力を受けた透明電極の切断面、すなわち単位セルの端部はクラックが発生する割合が非常に高いため、透明電極製造収率が非常に低い。
また、金属酸化物導電性層が形成された透明導電性素材に電極を取り付けるために電極取付予定部位の導電性層を除去する工程を伴うことにより、製造コストの上昇を招く。
本発明は、上記問題を解決するためのものであり、本発明の目的は、不良率が低く、原料の消費が少ない上、優れた透明度を有する透明有機電極形成方法を提供することにある。
上記問題を解決するために、本発明の一実施形態による透明有機電極形成方法は、導電性物質、バインダー、及び溶媒を含む有機導電性組成物を準備する段階と、セル単位で区画された切断ラインが形成された基板を準備する段階と、前記切断ラインで区画された各セルの内部に前記有機導電性組成物を利用して導電パターンをプリントすることにより導電層を形成する段階と、前記切断ラインに沿ってダイシングしてそれぞれ前記導電層が形成されたセルに分離する段階とを含む。
前記導電層を形成する段階において、前記各セルの内部に1つの導電パターンをプリントしてもよい。
前記導電層を形成する段階において、前記各セルの内部に2つ以上の導電パターンをプリントしてもよい。
前記導電パターンは、円形又は多角形のパターンにプリントしてもよい。
前記有機導電性組成物は、粘度調節剤をさらに含んでもよい。
前記導電性物質は、導電性高分子、金属ナノ物質、炭素ナノチューブ、及び導電性インクの少なくとも1つ以上の物質からなるようにしてもよい。
前記導電性高分子は、ポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(poly−3,4−ethylenedioxythiophene/polystyrenesulfonate;PEDOT/PSS)又はポリアニリン(polyaniline)であってもよい。
前記導電性物質は、全体組成物100重量部に対して3〜50重量部であることが好ましく、前記バインダーは、全体組成物100重量部に対して1〜40重量部であることが好ましい。
前記導電層を形成する段階の後に、前記導電層を熱処理する段階をさらに含んでもよい。
前記導電層を熱処理する段階は、常温〜400℃で行うことが好ましく、25〜150℃で行うことがより好ましい。
前記導電パターンは、インクジェットプリント、スクリーンプリント、グラビアプリント、又はオフセットプリントで形成してもよい。
本発明によると、不良率が低く、原料の消費が少ない上、優れた透明度を有する透明有機電極形成方法が提供される。
また、基板上にプリントされた有機導電性組成物を熱処理してダイシングすることによって、別途透明電極の形成が不要になるため、有機電極の製造工程が単純化される。
本発明の一実施形態による透明有機電極形成工程を示す工程フロー図である。 本発明の一実施形態による透明有機電極形成工程を示す工程フロー図である。 本発明の一実施形態による透明有機電極形成工程を示す工程フロー図である。 本発明の他の実施形態によるセルを示す斜視図である。 熱処理温度によるセルの抵抗変化率及びクラック発生率を示すグラフである。
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明する。
しかしながら、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形することができ、本発明の範囲が後述する実施形態に限定されるものではない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野における通常の知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。従って、図面において、構成要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張することもあり、同一の構成要素には同一の符号を付す。
以下、図1a〜図1cを参照して本発明の実施形態による透明有機電極形成工程を説明する。
図1aは、本発明の一実施形態により基板上に有機導電性組成物を利用して所定の間隔で離隔した導電パターンを形成する工程を概略的に示す斜視図であり、図1bは、本発明の一実施形態により基板上に形成された導電パターンを概略的に示す斜視図であり、図1cは、本発明の一実施形態により熱処理された導電パターンが形成された基板をセル単位で切断する工程を概略的に示す斜視図である。
本発明の一実施形態によると、パターン形態で導電パターンがプリントされて導電層が形成されたセルが製造される。前記セルとは、電気的機能を果たすことができる最小単位の電気的素子をいう。
本発明の一実施形態によると、基板をセル単位で切断して複数のセルを製造することができる。前記基板上にセル単位で区画された切断ラインを形成し、前記基板を前記切断ラインに沿ってセル単位で切断して複数のセルを製造することができる。
前記基板上に前記切断ラインで区画された各セルには、1つの導電パターンをプリントして導電層を形成してもよく、2つ以上の導電パターンをプリントして導電層を形成してもよい。また、前記導電パターンは、タッチスクリーンにおいて、抵抗膜方式に採用される単一のパターンにプリントしてもよく、静電容量方式に採用される棒形、三角形、ダイヤモンド形のような円形又は多角形のパターンにプリントしてもよい。
そして、前記セル単位で切断する切断工程の前に、前記導電パターンと電気的に接続される導電電極(以下、導電パターンといい、FPCと接続される。)を前記各セルにプリントした後、前記導電パターンが形成された基板を前記切断ラインに沿ってセル単位で切断してもよい。
前記導電パターンを構成する物質としては、導電性に優れた銀(Ag)ペーストなどの物質を使用してもよい。
まず、基板10を切断ラインCLによりセル単位で区画する。前記切断ラインCLは、基板に表示することができ、また、前記基板10のイメージ処理過程によりイメージ化することができる。導電層を形成した後、前記切断ラインCLをダイシングして複数のセルを形成することができる。
前記切断ラインCLで区画された各セルの内部に、有機導電性組成物30を利用して1つ以上の導電パターン33を形成する。前記有機導電性組成物30は、パターン形態で前記基板10上にプリントされて導電パターン33を形成する。前記導電パターン33は、所定の間隔で離隔してプリントされる。
1つのセルに1つ以上の導電パターン33が含まれるように、前記基板10を前記切断ラインCLに沿ってセル単位で切断した場合、前記各セルを構成する導電層は1つ以上の導電パターン33からなる。
好ましくは、1つのセルに1つの導電パターン33cを形成してもよく(図1cを参照)、1つのセルに2つ以上の導電パターン33d、33eを形成してもよい(図2を参照)。
このような方法で導電パターン33を備えたセルが形成され、これにより、複数のセルにそれぞれ有機導電性組成物がパターン形態でプリントされた導電層が形成される。
前記基板10としては、一面に導電パターン33を形成することが容易な材料であれば特に限定されず、樹脂、ガラスなどを使用することができる。
前記基板10としては、用途に応じて有色又は無色の材料を使用するが、前記基板10がディスプレイ装置の表示面として提供される場合は、透明材料を使用することが好ましい。前記基板10の材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、環状オレフィンコポリマー(COC)などの樹脂又はガラスもしくは強化ガラスなどを使用することができる。
本明細書において、透明は、無色透明、有色透明、半透明、有色半透明などを含む。
前記有機導電性組成物30は、導電性物質、バインダー、及び溶媒などを含んでもよい。
本発明の有機導電性組成物30に含まれる導電性物質は、導電性高分子、金属ナノ物質、炭素ナノチューブ(又は、カーボンブラック)、及び導電性インクの少なくとも1つ以上の物質からなるようにしてもよい。
特に、前記導電性高分子としては、例えばポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)又はポリアニリンなどを単独又は混合して使用することができるが、これに限定されるものではない。
前記導電性高分子の含量は、全体組成物100重量部に対して3〜50重量部であることが好ましい。前記含量が3重量部未満であると、電気伝導度が低下する恐れがあり、前記含量が50重量部を超えると、溶解度が低下したり透明度が低下する恐れがある。
本発明の有機導電性組成物30に含まれるバインダーは、有機導電性組成物の粘着力を向上させる役割を果たす。前記バインダーは、低分子量の水溶性バインダーもしくは高分子量の水溶性バインダー、又はこれらの両方を含んでもよい。前記バインダーとしては、例えば炭素数2〜8のアルキルグリシジルエーテル(メタ)アクリレート、フェニルグリシジルエーテル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリレート、及び多官能性(メタ)アクリレートなどがあり、これらを単独又は混合して使用することができる。
前記バインダーの含量は、全体組成物100重量部に対して1〜40重量部であることが好ましい。前記含量が1重量部未満であると、基板との接着力が低下する恐れがあり、前記含量が40重量部を超えると、電気伝導度が低下する恐れがある。
本発明の有機導電性組成物30に含まれる溶媒としては、ポリアルコール(poly−alcohol)、ジメチルスルホキシド(dimethyl sulfoxide;DMSO)、N,N−ジメチルホルムアミド(N,N−dimethylformamide)、エチレングリコール(ethylene glycol;EG)、メソエリトリトール(meso−erythritol)、水などを使用することができるが、これに限定されるものではない。
前記溶媒の含量は、全体組成物100重量部に対して2〜40重量部であることが好ましい。前記含量が2重量部未満であると、組成物間の均一な混合が難しくなり、前記含量が40重量部を超えると、電気伝導度が低下する恐れがある。
本発明の有機導電性組成物30は、粘度調節剤をさらに含むことにより、前記導電パターン33の形成に適用されるプリント方法によって前記有機導電性組成物30の粘度を調節することができる。前記有機導電性組成物30の粘度は、400mPas以下であることが好ましく、60〜200mPasであることがより好ましいが、これに限定されるものではない。
前記有機導電性組成物30の粘度は、プリント方法によって適切に調節することが好ましい。粘度が高すぎたり低すぎると、プリントに適用することができず、基板に導電パターンを形成することが難しくなるため、適切な粘度を有するように粘度調節剤を調節する必要がある。
本発明の有機導電性組成物30に含まれる粘度調節剤としては、有機系成分の粘度調節剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。
適切な粘度を有する有機導電性組成物を製造するために、前記粘度調節剤の含量は、全体組成物100重量部に対して0〜40重量部であることが好ましい。
前記粘度調節剤の含量が0重量部未満であると、所望の粘度に調節することが難しくなり、前記含量が40重量部を超えると、電気伝導度が低下する恐れがある。
前記有機導電性組成物30を利用した導電パターン33の形成方法においては、例えばインクジェットプリント、スクリーンプリント、グラビアプリント、又はオフセットプリント方法を用いることができるが、これに限定されるものではない。より具体的には、前記有機導電性組成物30は、適用されるプリント方法によって粘度を適切に調節することができる。
前記有機導電性組成物30を熱処理する場合、これに限定されないが、常温〜400℃で熱処理することが好ましく、25℃〜150℃で熱処理することがより好ましい。これは、前記有機導電性組成物30の熱処理温度が低いと組成物の粘度が低下し、熱処理温度が高いと有機導電性組成物30が変形することがあるからである。
前述のように粘度を調節することで、ノズル20内に提供された有機導電性組成物30をプリント法を利用して滴下して、前記基板10上に所定の間隔で離隔した複数の導電パターン33を形成することができる。
前記基板10は、前記切断ラインCLに沿ってセル単位で切断する。このとき、1つのセルには1つ以上の導電パターン33が含まれるように切断する。
前記切断ラインCLは、所望のセルの大きさ及び形状に合わせて形成され、後工程で切断されてセルの縁部を形成する。
本発明の一実施形態によると、1つのセルに1つの単一パターン形態の導電パターン33cが形成されるように切断し(図1c)、本発明の他の実施形態によると、1つのセルに4つの円形導電パターン33dが形成されるように切断し(図2の(a))、本発明のさらに他の実施形態によると、1つのセルに4つの四角形導電パターン33eが形成されるように切断する(図2の(b))。
次に、本発明の実施形態により前記基板10上に形成された導電パターン33を熱処理することにより、熱処理された導電パターン33'と基板10との接着力を向上させることができる。
また、導電パターンの接着力を向上させるために、前記基板10上にUV(紫外線)照射を行ってもよく、コロナ処理やプライマー処理などを施してもよい。
次に、大面積基板10上に形成されて熱処理された導電パターン33'を、ブレード40などを利用して前記基板10上に形成された切断ラインCLに沿ってセルC単位でダイシングすることにより、単位基板10C上に導電パターン33Cが形成された透明有機電極であるセルCが製造される。
従来のITOなどを利用した導電パターンの場合は、蒸着、露光、及び現像により基板全体にパターンを形成した後、単位セルで切断することから、原料の消費が多く、工程が複雑であるという欠点があった。
また、ITOなどを利用した導電パターンの場合は、無機物の材料的な特性により、ダイシング工程時にクラックが発生する可能性が高い。
これに対して、本実施形態では、有機導電性組成物30が単位セルを構成する導電パターンの形態で基板10上にプリントされることにより、単位セルの形成に必要とされる量だけ有機導電性組成物30を使用するため、原料の消費を減らすことができる。
さらに、従来のダイシング工程においては、導電パターンを直接切断するため、導電パターンの端部にクラックが多く発生していたが、本発明の一実施形態においては、各セルの端部を構成する切断ラインCLの内部に1つ以上の導電パターンが形成されるようにパターンをプリントし、前記切断ラインCLに沿ってセル単位で切断するため、導電パターンが直接切断されない。
すなわち、前記基板10上に形成された切断ラインCLを切断するため、導電パターンが切断されて発生していたクラックの発生を防止することができる。
従って、基板10全体に有機導電性組成物30をプリントしないことで原料の消費を減らし、導電パターンを直接切断しないことでクラック発生率を低減して透明電極製造収率を向上させるという効果がある。
また、熱処理された導電パターン33'自体が電極の役割を果たすので、既存の透明導電性素材に電極を取り付けるために電極取付予定部位の導電性層を除去する工程が不要になることにより、電極の製造工程が単純化されて製造コストを低減できるという効果がある。
実施例1
有機導電性組成物の熱処理温度による抵抗変化率を調べるために、インクジェットプリント、スクリーンプリント、グラビアプリント、又はオフセットプリント方法を用いてプリントし、30分間熱処理した後、熱処理温度別抵抗を比較した。
図3の(a)は、様々なプリント方法における熱処理温度による抵抗変化率を示すグラフである。
有機導電性組成物を様々なプリント方法でプリントした後、25℃〜150℃で熱処理した場合、有機導電性組成物を含む単位セルの抵抗は大きく上昇していないが、150℃を超えると抵抗が急激に増加することが分かる。
すなわち、本発明の一実施形態によると、25℃〜150℃の温度で熱処理した場合、一定の抵抗を有する単位セルを製造できる反面、熱処理温度が150℃を超える場合、有機物の変形により有機導電性組成物の特性が変化して抵抗が急激に増加することが分かる。
実施例2
様々なプリント方法によるプリント後の有機導電性組成物の熱処理温度によるクラック発生率を調べるために、インクジェットプリント、スクリーンプリント、グラビアプリント、及びオフセットプリント方法を用いてプリントし、30分間熱処理した後、熱処理温度別クラック発生率を比較した。
クラック発生率(A)は、単位面積にクラックが発生した場合、単位長さ当たりのクラック長さの比を基準とするもので、クラックが多くなるほどクラック発生率が大きくなる。
クラック発生率=クラック長さ/単位長さ
図3の(b)を参照すると、本発明の一実施形態により、各セルを区画する切断ラインを形成し、前記切断ラインで区画された各セル内部の導電パターンを100℃以下で熱処理した場合、どのプリント方法を適用してもクラック発生率は0.5を超えておらず、特に50℃以下で熱処理した場合、クラック発生率はプリント方法に関係なく0.3を超えていない。
また、グラビアプリント方法とインクジェットプリント方法でプリントした後、有機導電性組成物を50℃以下で熱処理した場合、クラック発生率は0.2を超えていない。
つまり、どのプリント方法を適用しても、25℃〜150℃の範囲で熱処理した場合、クラック発生率(A)は1%未満であった。これに対して、熱処理温度が150℃を超えると、クラック発生率(A)は1を超え、単位セルの不良率が増加した。
本発明の一実施形態によれば、有機導電性組成物を使用するため、高温では有機物の変形が起こって電極のクラック発生率が高くなるが、有機物の熱的変形が起こらない温度範囲内で有機導電性組成物を熱処理して単位セルを製造した場合、クラック発生率は1%を超えず、特に100℃未満の温度で熱処理した場合、どのプリント方法を適用してもクラック発生率は0.5未満であるため、電極の不良率が著しく低くなることが分かる。

Claims (13)

  1. 導電性物質、バインダー、及び溶媒を含む有機導電性組成物を準備する段階と、
    セル単位で区画された切断ラインが形成された基板を準備する段階と、
    前記切断ラインで区画された各セルの内部に前記有機導電性組成物を利用して導電パターンをプリントすることにより導電層を形成する段階と、
    前記切断ラインに沿ってダイシングしてそれぞれ前記導電層が形成されたセルに分離する段階と
    を含むことを特徴とする透明有機電極形成方法。
  2. 前記導電層を形成する段階において、
    前記各セルの内部に1つの導電パターンをプリントすることを特徴とする請求項1に記載の透明有機電極形成方法。
  3. 前記導電層を形成する段階において、
    前記各セルの内部に2つ以上の導電パターンをプリントすることを特徴とする請求項1に記載の透明有機電極形成方法。
  4. 前記導電パターンは、円形又は多角形のパターンであることを特徴とする請求項2又は3に記載の透明有機電極形成方法。
  5. 前記有機導電性組成物は、粘度調節剤をさらに含むことを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の透明有機電極形成方法。
  6. 前記導電性物質は、導電性高分子、金属ナノ物質、炭素ナノチューブ、及び導電性インクの少なくとも1つ以上の物質からなることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の透明有機電極形成方法。
  7. 前記導電性高分子は、ポリ−3,4−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)又はポリアニリンであることを特徴とする請求項6に記載の透明有機電極形成方法。
  8. 前記導電性物質は、全体組成物100重量部に対して3〜50重量部であることを特徴とする請求項1から7の何れか1項に記載の透明有機電極形成方法。
  9. 前記バインダーは、全体組成物100重量部に対して1〜40重量部であることを特徴とする請求項1から8の何れか1項に記載の透明有機電極形成方法。
  10. 前記導電層を形成する段階の後に、
    前記導電層を熱処理する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1から9の何れか1項に記載の透明有機電極形成方法。
  11. 前記導電層を熱処理する段階は、常温〜400℃で行われることを特徴とする請求項10に記載の透明有機電極形成方法。
  12. 前記導電層を熱処理する段階は、25〜150℃で行われることを特徴とする請求項10に記載の透明有機電極形成方法。
  13. 前記導電パターンは、インクジェットプリント、スクリーンプリント、グラビアプリント、又はオフセットプリントで形成されることを特徴とする請求項1から12の何れか1項に記載の透明有機電極形成方法。
JP2010199669A 2009-09-07 2010-09-07 透明有機電極形成方法 Pending JP2011061200A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20090084210 2009-09-07
KR20100082121A KR101179334B1 (ko) 2009-09-07 2010-08-24 투명 유기 전극 형성 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011061200A true JP2011061200A (ja) 2011-03-24

Family

ID=43933478

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009266860A Pending JP2011060749A (ja) 2009-09-07 2009-11-24 透明電極用有機電極の形成方法
JP2010199669A Pending JP2011061200A (ja) 2009-09-07 2010-09-07 透明有機電極形成方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009266860A Pending JP2011060749A (ja) 2009-09-07 2009-11-24 透明電極用有機電極の形成方法

Country Status (2)

Country Link
JP (2) JP2011060749A (ja)
KR (1) KR101179334B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011060749A (ja) * 2009-09-07 2011-03-24 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 透明電極用有機電極の形成方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101477340B1 (ko) 2012-05-07 2014-12-30 주식회사 엘지화학 잉크젯 프린팅법에 의해 형성된 투명 전도성 고분자 전극, 이를 포함하는 표시장치 및 그 제조방법
KR101543555B1 (ko) * 2013-11-04 2015-08-12 재단법인대구경북과학기술원 신축성 전기 소자 및 그의 제조방법

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0556928U (ja) * 1992-01-13 1993-07-30 三星ダイヤモンド工業株式会社 自動基板裁断装置における清掃兼用搬送機
JPH0616436U (ja) * 1992-07-29 1994-03-04 三星ダイヤモンド工業株式会社 自動基板裁断装置における位置決め機能を有する搬送機
WO2002104079A1 (fr) * 2001-06-14 2002-12-27 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Appareil de production permettant un affichage el organique et procede de production de cet affichage el organique
WO2002104078A1 (fr) * 2001-06-14 2002-12-27 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Dispositif et procede de fabrication d'un ecran electroluminescent organique
JP2004055363A (ja) * 2002-07-19 2004-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 透明導電膜の製造方法
JP2004311490A (ja) * 2003-04-02 2004-11-04 Seiko Epson Corp 実装部品の電極形成方法及び電極形成装置
JP2006277989A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Mitsubishi Electric Corp 表示装置の製造方法
JP2007131682A (ja) * 2005-11-08 2007-05-31 Japan Aviation Electronics Industry Ltd 導電性高分子膜及び回路基板
JP2009129732A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Konica Minolta Holdings Inc 金属ナノワイヤを用いた透明導電膜の製造方法及びそれを用いて製造された透明導電膜
JP2009146747A (ja) * 2007-12-14 2009-07-02 Konica Minolta Holdings Inc 透明補助電極フィルム及び透明補助電極フィルムの製造方法と、透明導電性フィルム及び透明導電性フィルムの製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60243280A (ja) * 1984-05-14 1985-12-03 Alps Electric Co Ltd 透明電極形成方法
JPS62297470A (ja) * 1986-06-18 1987-12-24 Nippon Soda Co Ltd 金属酸化物薄膜形成用ペ−スト
JP2002352951A (ja) * 2001-05-24 2002-12-06 Tohoku Pioneer Corp 有機el表示パネル及びその製造方法
JP2004303425A (ja) * 2003-03-28 2004-10-28 Tohoku Pioneer Corp 有機elパネル及びその形成方法
JP2009027036A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 Fujifilm Corp 表示装置及び欠陥画素のリペア方法
JP2011060749A (ja) * 2009-09-07 2011-03-24 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 透明電極用有機電極の形成方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0556928U (ja) * 1992-01-13 1993-07-30 三星ダイヤモンド工業株式会社 自動基板裁断装置における清掃兼用搬送機
JPH0616436U (ja) * 1992-07-29 1994-03-04 三星ダイヤモンド工業株式会社 自動基板裁断装置における位置決め機能を有する搬送機
WO2002104079A1 (fr) * 2001-06-14 2002-12-27 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Appareil de production permettant un affichage el organique et procede de production de cet affichage el organique
WO2002104078A1 (fr) * 2001-06-14 2002-12-27 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Dispositif et procede de fabrication d'un ecran electroluminescent organique
JP2004055363A (ja) * 2002-07-19 2004-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 透明導電膜の製造方法
JP2004311490A (ja) * 2003-04-02 2004-11-04 Seiko Epson Corp 実装部品の電極形成方法及び電極形成装置
JP2006277989A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Mitsubishi Electric Corp 表示装置の製造方法
JP2007131682A (ja) * 2005-11-08 2007-05-31 Japan Aviation Electronics Industry Ltd 導電性高分子膜及び回路基板
JP2009129732A (ja) * 2007-11-26 2009-06-11 Konica Minolta Holdings Inc 金属ナノワイヤを用いた透明導電膜の製造方法及びそれを用いて製造された透明導電膜
JP2009146747A (ja) * 2007-12-14 2009-07-02 Konica Minolta Holdings Inc 透明補助電極フィルム及び透明補助電極フィルムの製造方法と、透明導電性フィルム及び透明導電性フィルムの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011060749A (ja) * 2009-09-07 2011-03-24 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 透明電極用有機電極の形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011060749A (ja) 2011-03-24
KR101179334B1 (ko) 2012-09-03
KR20110026381A (ko) 2011-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101095097B1 (ko) 투명 전극 필름 및 이의 제조 방법
CN104134484B (zh) 基于纳米银线的柔性透明导电薄膜及制备方法
JP6577018B2 (ja) 融着ネットワークを有する透明導電性フィルムの形成のための金属ナノワイヤーインク
CN104376898B (zh) 图案化的导电薄膜、其制造方法及触控面板
JP5259675B2 (ja) 大画面タッチスクリーン
CN103872085B (zh) 用于柔性显示器的具有透明电极的基板及其制造方法
Yang et al. Robust and smooth UV-curable layer overcoated AgNW flexible transparent conductor for EMI shielding and film heater
KR102687588B1 (ko) 도전체, 도전성 구조물, 및 이를 포함하는 전자 소자
US20130126796A1 (en) Production Method for a Transparent Conductive Film and a Transparent Conductive Film Produced Thereby
TWI550463B (zh) 導電膜及其製造方法
TW201221597A (en) Coating compositions for forming nanocomposite films
CN105405492A (zh) 具备高热稳定性的柔性透明导电薄膜的制备方法及其产品
CN104991671A (zh) 一种柔性触控屏传感薄膜及其制备方法
US20120096709A1 (en) Apparatus for manufacturiing transparent electrode using print-based metal wire
JP2011029037A (ja) 透明導電膜付き基材
JP2011132527A (ja) 伝導性高分子組成物およびこれを用いた伝導性フィルム
US11708499B2 (en) Method of manufacturing highly conductive polymer thin film including plurality of conductive treatments
JP2011061200A (ja) 透明有機電極形成方法
Li et al. Facile fabrication of large-scale silver nanowire transparent conductive films by screen printing
Ohsawa et al. Bending reliability of transparent electrode of printed invisible silver-grid/PEDOT: PSS on flexible epoxy film substrate for powder electroluminescent device
JP2011138711A (ja) 透明導電性接着剤及び透明導電性接着剤から形成される透明導電性接着層を備える光電変換素子
KR20110069478A (ko) 투명 전극용 투명 기판의 제조 방법
CN105807986A (zh) 透明导电体和触摸屏
US20110059232A1 (en) Method for forming transparent organic electrode
WO2020037768A1 (zh) 一种可挠性导电膜及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120426

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120515

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120815

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130312

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130806