JP2011061036A - Iii族窒化物半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発光素子100は、支持体101と、支持体101上に低融点金属層102を介して接合されたp電極103と、p電極103上に順に積層されたIII 族窒化物半導体からなるp型層104、活性層105、n型層106と、n型層106表面に形成された凹部108と、凹部108の底面108a上に形成されたn電極107と、によって構成されている。凹部108は、配線状の平面パターンに形成されている。凹部108によって、n電極107直下の領域に光が入り込みにくい構造となっており、n電極107による光の反射、吸収が低減されるため、光取り出し効率が向上している。
【選択図】図1
Description
102:低融点金属層
103:p電極
104:p型層
105:活性層
106:n型層
107、207:n電極
108、208:凹部
109:高抵抗領域
113:微細な凹凸
Claims (4)
- 導電性の支持体と、前記支持体上に位置するp電極と、前記p電極上に順に位置する、III 族窒化物半導体からなるp型層、活性層、n型層と、前記n型層上に位置するn電極と、を有するIII 族窒化物半導体発光素子において、
前記n型層の前記n電極形成側の表面に、配線状のパターンの凹部を有し、
前記n電極は、前記凹部底面に露出した前記n型層上に、前記凹部側面から離間して設けられている、
ことを特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子。 - 導電性の支持体と、前記支持体上に位置するp電極と、前記p電極上に順に位置する、III 族窒化物半導体からなるp型層、活性層、n型層と、前記n型層上に位置するn電極と、を有するIII 族窒化物半導体発光素子において、
前記n電極は配線状のパターンであり、
前記n型層の前記n電極形成側の表面に、前記n電極の外周に沿ったパターンの凹部を有している、
ことを特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子。 - 前記p型層の前記p電極形成側の表面であって、前記n電極と素子面に垂直な方向において対向する領域は、高抵抗領域である、
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のIII 族窒化物半導体発光素子。 - 前記凹部の深さは、前記n型層の厚さの10〜90%である、ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子。
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