JP2011054286A - Charged particle beam device and its operation screen - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve such problems that, when consolidating functions dispersed on a GUI into one position to improve operability, consolidating work itself is troublesome, the consolidation to improve the operability is hardly benefited because it's not known which functions should be consolidated, troubles may occur in a device or a sample due to improper operation (including operation errors), and it is difficult for a manager to improve processes using PDCA cycles. <P>SOLUTION: To solve the problems, this charged particle beam device includes an operation screen for displaying a plurality of functions to set the device conditions of the charged particle beam device, wherein a custom window is provided on the operation screen where the functions displayed on the operation screen are displayed. The limited functions are given to the custom window. A recording device is provided for recording a time when using the functions in the custom window. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は荷電粒子線装置及びその操作画面に関し、特に荷電粒子線装置の操作画面作成方法に関する。   The present invention relates to a charged particle beam apparatus and an operation screen thereof, and more particularly to an operation screen creation method for a charged particle beam apparatus.

荷電粒子線装置は、ニーズが多様化しており、様々な顧客のニーズに対応するために非常に多くの機能を搭載している。そのため、ユーザは非常に多くの機能から目的の機能を見つけることが困難であったり、その機能を利用するための操作が複雑となっている。   The charged particle beam apparatus has diversified needs and is equipped with a great number of functions to meet the needs of various customers. For this reason, it is difficult for a user to find a target function from a large number of functions, and an operation for using the function is complicated.

操作が煩雑な装置に対し、特許文献1のような手法により、操作性向上を図ったものが存在している。   For devices that are complicated to operate, there are devices that are improved in operability by the technique described in Patent Document 1.

また、非常に高額である荷電粒子線装置は、関係部外者へリースするなど、複数のユーザで共有して使用されることが非常に多い。そして、単純な検査作業などに使用される場合、初心者が使用するといった機会が増えてきている。そのことから、装置の設定状態をユーザ毎に管理する必要があると同時に、装置管理者は、使用者に対して装置の機能制限や、使用者の使用状況を把握,使用効率を改善したいというニーズが多くある。   In addition, very expensive charged particle beam devices are often shared and used by a plurality of users, such as leasing to outside parties. And when it is used for simple inspection work etc., the opportunity that a beginner uses is increasing. Therefore, it is necessary to manage the setting status of each device for each user. At the same time, the device administrator wants to improve the usage efficiency by grasping the function restrictions of the device and the usage status of the user. There are many needs.

特開2007−328569号公報JP 2007-328569 A

GUI上に散在する機能を、一箇所に集約することで操作性向上を図った場合、非常に多くの機能を使用するユーザは、集約する作業自体が手間となってしまうことが問題である。また、観察する試料や、使用するユーザが変わった場合、使用する機能も大きく変わることから、再度機能を集約する作業が発生してしまい、操作性を向上させるための作業自体が大きな手間となってしまう。さらに、初心者が使用する場合には、どの機能を集約すればよいかが分らず、集約による操作性向上の恩恵を受けることが難しい。   When operability is improved by consolidating functions scattered on the GUI in one place, it is a problem that a user who uses a large number of functions is troublesome to perform the operation itself. In addition, when the sample to be observed or the user to be used changes, the functions to be used change greatly, so that the work of consolidating the functions occurs again, and the work itself for improving the operability is a great effort. End up. Furthermore, when a beginner uses it, it is difficult to know which functions should be aggregated, and it is difficult to receive the benefits of operability improvement by aggregation.

また、初心者が利用する場合や、関係部外者へリースする場合などは、不適切な操作(誤操作含む)による、装置や試料に対するトラブルが懸念される。装置管理者は上記問題発生を常に危惧している。   In addition, when a beginner uses it or leases it to an outsider concerned, there is a concern about troubles on the device or the sample due to inappropriate operation (including erroneous operation). The system administrator is always concerned about the above problems.

例えば、フィラメント電流を流しすぎると、フィラメント寿命が極端に低下し、部品交換が必要となったり、加速電圧や真空度の適切な設定外での使用や、長時間の観察(電子ビームの照射)を行った場合、試料がダメージを受けてしまう。また、スティグマやアライメント設定を変更すると、正常な像が取得できなくなり、再度煩雑な調整が必要となるなど、装置の使用率を低下させてしまう問題がある。   For example, if the filament current is applied too much, the filament life will be drastically reduced and parts will need to be replaced. If this is done, the sample will be damaged. In addition, when the stigma or the alignment setting is changed, there is a problem that a normal image cannot be acquired and a complicated adjustment is required again, thereby reducing the usage rate of the apparatus.

さらに、検査などのルーチンワークにおいては、操作者の熟練度の差による作業時間の違いや、作業プロセスの問題点などによるスループット低下を管理者は把握することが難しく、管理者はPDCAサイクルによる、プロセス改善を図ることが困難であった。また、検査内容や作業者の変更によって、使用方法に関する教育の経費,時間が増加することも問題であった。   Furthermore, in routine work such as inspections, it is difficult for the administrator to grasp the difference in work time due to the difference in skill level of the operator and the throughput decrease due to problems in the work process. It was difficult to improve the process. Another problem was that the cost and time of education related to usage increased due to changes in inspection contents and workers.

上記の課題を解決するために、荷電粒子線装置の装置条件を設定する機能を複数表示する操作画面を備えた荷電粒子線装置において、前記操作画面上に、カスタムウィンドウを設け、当該カスタムウィンドウ中に、前記操作画面上に表示された機能を表示することを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。   In order to solve the above problems, in the charged particle beam apparatus having an operation screen for displaying a plurality of functions for setting the apparatus conditions of the charged particle beam apparatus, a custom window is provided on the operation screen, and the custom window In addition, a charged particle beam device is provided that displays the function displayed on the operation screen.

また、カスタムウィンドウ中に設けられた機能に制限を設けた。さらに、カスタムウィンドウ中の機能を使用した時間を記録する記録装置を設けた。   In addition, restrictions were placed on the functions provided in the custom window. Furthermore, a recording device was provided for recording the time when the function in the custom window was used.

本発明によれば、複数のユーザが使用する場合、同一ユーザが毎回違った目的で使用しても、ユーザ毎に目的にあった操作性の良いGUIを作成、使用可能であり、ユーザの操作負担が軽減される。また、装置の操作や機能の管理制限によって、操作ミスによる装置や試料のトラブルを回避可能である。それによって、初心者を含めてユーザの幅を大きく広げることが可能となり、操作性向上に大きく効果がある。   According to the present invention, when a plurality of users use, even if the same user uses each time for different purposes, it is possible to create and use a GUI with good operability suitable for each user. The burden is reduced. In addition, device and sample troubles due to operational mistakes can be avoided by restricting device operation and function management. As a result, it is possible to greatly widen the user's range including beginners, which is highly effective in improving operability.

上記の効果によって、作業時間短縮,装置利用率向上を望むことができる。また、装置の操作状況を分析可能であるため、検査作業などにおいては作業プロセスの改善(作業の効率化)などに寄与する。   Due to the above effects, it is possible to reduce the working time and improve the device utilization rate. In addition, since the operation status of the apparatus can be analyzed, it contributes to improvement of work processes (work efficiency) in inspection work and the like.

走査電子顕微鏡の基本構成を説明した図。The figure explaining the basic composition of a scanning electron microscope. 本発明のシステム構成を説明した図。The figure explaining the system configuration | structure of this invention. 本発明の一例であるGUI操作画面。The GUI operation screen which is an example of this invention. 候補表示のために参照する履歴の分類例を示した図。The figure which showed the classification | category example of the log | history referred for candidate display. 本発明の一例であるGUI操作画面。The GUI operation screen which is an example of this invention. 本発明の一例であるGUI操作画面。The GUI operation screen which is an example of this invention. 本発明の一例であるGUI操作画面(操作時間詳細分析画面)。The GUI operation screen (operation time detailed analysis screen) which is an example of this invention. 使用履歴の分布図。Usage history distribution chart. クラスタリング手法であるk-means法のアルゴリズムの説明図。Explanatory drawing of the algorithm of k-means method which is a clustering method. k-means法の初期値。Initial value of k-means method.

以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。なお、荷電粒子線装置の一例として走査電子顕微鏡(以下SEMと略す)を例にとって説明するが、本発明はSEM以外にも、電子線を用いた外観検査装置,集束イオンビーム装置等、計測,検査,加工を行う荷電粒子線装置一般に対して適用することができる。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. A scanning electron microscope (hereinafter abbreviated as SEM) will be described as an example of the charged particle beam apparatus. However, the present invention is not limited to SEM. The present invention can be applied to a charged particle beam apparatus that performs inspection and processing in general.

図1は、SEMの一実施例の基本構成例を説明した図である。電子銃1より放出された一次電子線4は、アノード2により制御・加速され、コンデンサレンズ3および対物レンズ6によって試料ステージ9上に設置された試料18に収束・照射される。これらのコントロールは、主制御部15によって行われる。一次電子線4の経路には、偏向器5が設けてあり、コンピュータ部16に接続されたマウス20もしくはキーボード21,専用操作パネル23から設定された任意の設定倍率にしたがって、偏向制御部19から所定の偏向電流が供給され、これにより一次電子線4が偏向され、試料の表面を二次的に走査する。観察位置への移動は、ステージ制御部10が試料ステージ9をコントロールすることで、任意の位置への位置決めが可能な構成となっている。   FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a basic configuration of one embodiment of an SEM. The primary electron beam 4 emitted from the electron gun 1 is controlled and accelerated by the anode 2, and converges and irradiates the sample 18 placed on the sample stage 9 by the condenser lens 3 and the objective lens 6. These controls are performed by the main control unit 15. A deflector 5 is provided in the path of the primary electron beam 4, and the deflection control unit 19 follows the arbitrary setting magnification set from the mouse 20 or keyboard 21 and the dedicated operation panel 23 connected to the computer unit 16. A predetermined deflection current is supplied, whereby the primary electron beam 4 is deflected, and the surface of the sample is secondarily scanned. The movement to the observation position is configured such that the stage control unit 10 controls the sample stage 9 and can be positioned at an arbitrary position.

試料に電子線を照射することで発生した二次電子7は、二次電子検出器11によって検出され、増幅器12によって増幅され、画像記憶部13に記憶される。この時の画像信号は、表示部17に表示される。   Secondary electrons 7 generated by irradiating the sample with an electron beam are detected by the secondary electron detector 11, amplified by the amplifier 12, and stored in the image storage unit 13. The image signal at this time is displayed on the display unit 17.

上記で述べた構成において、装置全体の制御や、装置で得られたデータを解析処理するためのコンピュータ部では、制御・データ解析処理を実施するためのプログラムが動作する。プログラムはGUIを有しており、様々な装置状態を視覚的に通知したり、装置制御やデータ解析処理のための指示をユーザから受ける。   In the configuration described above, a program for executing control / data analysis processing operates in a computer unit for controlling the entire device and for analyzing data obtained by the device. The program has a GUI and visually notifies various apparatus states and receives instructions for apparatus control and data analysis processing from the user.

図2に、GUIを有した制御・データ解析処理プログラムのシステム構成及び利用形態を示す。GUI部24はGUI操作部25,GUI作成部26,操作候補表示部27から構成される。   FIG. 2 shows a system configuration and usage form of a control / data analysis processing program having a GUI. The GUI unit 24 includes a GUI operation unit 25, a GUI creation unit 26, and an operation candidate display unit 27.

GUI操作部25はユーザ28から、電子顕微鏡の制御や、データ解析処理の指示を受ける。   The GUI operation unit 25 receives instructions from the user 28 for controlling the electron microscope and for data analysis processing.

GUI作成部26はユーザ28が好みのGUI部24を作成することを実現する。作成したGUIはGUI再構成部29によって、GUI操作部25に反映される。また、作成したGUIの構成情報30を外部記憶に保持し管理することで、ユーザ28は好みのGUIを再度利用することができる。   The GUI creation unit 26 realizes that the user 28 creates a favorite GUI unit 24. The created GUI is reflected in the GUI operation unit 25 by the GUI reconfiguration unit 29. In addition, by holding and managing the created GUI configuration information 30 in the external storage, the user 28 can use the favorite GUI again.

操作候補表示部27はユーザがGUIを作成する際に、候補を列挙しGUI作成を補助する機能を提供する。操作候補表示部27は、操作予測部31によって、現状のユーザの操作情報と、操作記録部32によって記録蓄積された操作履歴33から、装置利用目的を推測し操作候補を表示する。   The operation candidate display unit 27 provides a function for enumerating candidates and assisting GUI creation when the user creates a GUI. The operation candidate display unit 27 uses the operation prediction unit 31 to estimate the purpose of use of the apparatus from the current user operation information and the operation history 33 recorded and accumulated by the operation recording unit 32 and display operation candidates.

上記構成において、図3にGUIの構成を示し、実際の動作詳細を説明する。GUI上には制御や処理を指示するボタン34,各パラメータを設定するテキストボックス35など様々な機能が存在している。   In the above configuration, FIG. 3 shows the configuration of the GUI, and actual operation details will be described. Various functions such as a button 34 for instructing control and processing and a text box 35 for setting each parameter exist on the GUI.

本発明の特徴である以下の2つのウィンドウがある。
(1)ユーザが自由に機能を集約することができるウィンドウ(以下、カスタムウィンド
ウ36と略す)
(2)ユーザの装置使用目的を過去の使用履歴から推測し、ユーザが追加したい機能の候
補を自動的に列挙するウィンドウ(以下、候補ウィンドウ47と略す)
There are the following two windows that are characteristic of the present invention.
(1) A window that allows the user to freely aggregate functions (hereinafter abbreviated as custom window 36).
(2) A window (hereinafter abbreviated as “candidate window 47”) that automatically enumerates candidates of functions that the user wants to add by inferring the user's purpose of using the device from past usage history.

ユーザは様々な位置に散在する機能に対して、カスタムウィンドウ36への追加の指示を行うと、通常のウィンドウに散在する機能と同等の機能(例ではスライダー37)がカスタムウィンドウ36に生成される。そのとき、機能毎の判断を容易に行うために、機能に対する項目名(例ではスライダー38の項目名「設定5」)も一緒に生成することができる。このカスタムウィンドウ36に生成された同等物(スライダー37)は、オリジナルの機能(スライダー38)とまったく同じ動作をする。   When the user gives an additional instruction to the custom window 36 for functions scattered in various positions, a function equivalent to the function scattered in the normal window (slider 37 in the example) is generated in the custom window 36. . At that time, an item name for the function (in the example, the item name “setting 5” of the slider 38) can be generated together in order to easily make a determination for each function. The equivalent (slider 37) generated in the custom window 36 operates exactly the same as the original function (slider 38).

次に、画面上に散在する機能を、ユーザがカスタムウィンドウへ追加するときの方法について説明する。ユーザはカスタムウィンドウ36へ追加したい機能に対して、ポインティングデバイスなどを用いて機能を特定する。そして、通常、機能を利用する操作以外の操作を行い、図3(a)のように、ポップアップメニュー39を表示し、追加指示を行う。   Next, a method when the user adds functions scattered on the screen to the custom window will be described. The user specifies a function to be added to the custom window 36 using a pointing device or the like. Then, usually, an operation other than the operation using the function is performed, and a pop-up menu 39 is displayed as shown in FIG.

また、カスタムウィンドウ36へ機能を追加する際には、ユーザの操作目的を推測し、操作候補を予測して列挙する候補ウィンドウ47からも同様に追加することができる(図3(b))。   In addition, when a function is added to the custom window 36, it can be added in the same manner from the candidate window 47 in which the operation purpose of the user is estimated and operation candidates are predicted and listed (FIG. 3B).

追加した機能は、ユーザの好みで自由に配置を変更したり、削除できる。ここで、カスタムウィンドウ36に追加できる機能とは、ボタン34,テキストボックス35,スライダ38,チェックボックス41,ラジオボタン42,コンボボックス43、など様々な操作インタフェースを意味する。また、作成されたカスタムウィンドウ36は、保存・呼び出し機能40によって、その機能や配置をファイル,データベースに保存管理する。ファイルやデータベースでカスタムウィンドウ36の構成を管理することで、ユーザ変わった場合や、同じユーザでも使用方法が異なる場合にカスタムウィンドウ36を切り替えできる。   The added function can be freely changed or deleted according to the user's preference. Here, the functions that can be added to the custom window 36 mean various operation interfaces such as a button 34, a text box 35, a slider 38, a check box 41, a radio button 42, and a combo box 43. The created custom window 36 stores and manages its function and arrangement in a file and database by a save / recall function 40. By managing the configuration of the custom window 36 using a file or a database, the custom window 36 can be switched when the user changes or when the same user uses a different method.

次に、候補ウィンドウ47の候補列挙方法について説明する。候補ウィンドウ47に表示する機能の候補48,49,50,51は、記録管理される操作履歴より推測され表示される。操作履歴は、ユーザが使用した機能名,設定したパラメータ数値,使用した順番を常に記録したものであり、1回の観察ごとに生成することができる。本発明は、1回の観察毎(試料毎)に行う操作の特徴の違いに着目したものであるため、観察目的や試料が変更された場合や、ユーザが変わった場合には、操作履歴を新たに生成することが好ましい。よって、観察試料が変更される試料交換操作をトリガとし、履歴を更新する。試料交換操作以外に観察試料を変更できる方法がある場合には、その場合も操作履歴を新たにすることが好ましい。候補の列挙を行うとき、生成された複数の操作履歴を、操作の特徴(機能の設定パラメータ範囲,機能など)をベクトルとして分類を行う。分類した履歴を参照し候補の列挙を決定する。   Next, a method for enumerating candidates in the candidate window 47 will be described. The function candidates 48, 49, 50, 51 displayed in the candidate window 47 are estimated and displayed from the operation history recorded and managed. The operation history is a record of the function name used by the user, the set parameter values, and the order of use, and can be generated for each observation. Since the present invention focuses on the difference in the characteristics of operations performed for each observation (each sample), the operation history is recorded when the observation purpose or sample is changed or when the user changes. It is preferable to newly generate. Therefore, the history is updated with a sample exchange operation for changing the observation sample as a trigger. When there is a method capable of changing the observation sample other than the sample exchange operation, it is preferable to update the operation history also in that case. When enumerating candidates, the plurality of generated operation histories are classified using the operation characteristics (function setting parameter range, function, etc.) as vectors. The list of candidates is determined with reference to the classified history.

図4に、検出器の種類55,真空度56,加速電圧57で使用履歴を分類した場合の例を示す。操作履歴53は観察における操作の履歴であり、各パラメータによって操作履歴群54に分類される。   FIG. 4 shows an example in which usage histories are classified by detector type 55, vacuum degree 56, and acceleration voltage 57. The operation history 53 is an operation history in observation, and is classified into an operation history group 54 according to each parameter.

検出器の種類55は、二次電子検出器(以下SEと略す)、反射電子検出器(以下、BSEと略す)、波長分散型検出器(以下、WDXと略す)、エネルギー分散型検出器(以下、EDXと略す)など様々なものがあり、観察したいサンプルや分析したい内容によって使い分ける。   The detector type 55 includes a secondary electron detector (hereinafter abbreviated as SE), a backscattered electron detector (hereinafter abbreviated as BSE), a wavelength dispersive detector (hereinafter abbreviated as WDX), an energy dispersive detector ( Hereafter, there are various types such as EDX).

加速電圧57は、試料のチャージアップ状態や、試料ダメージの影響,表面情報の鮮鋭さなどで調節する必要がある。   The acceleration voltage 57 needs to be adjusted according to the charge-up state of the sample, the influence of sample damage, the sharpness of surface information, and the like.

真空度56も同様である。特に水分を含有する試料を、無加工で観察したい場合には、低真空に設定する。   The same applies to the degree of vacuum 56. In particular, when it is desired to observe a sample containing moisture without processing, a low vacuum is set.

このような設定パラメータで操作履歴を分類することで、ある程度同じ試料で観察した操作履歴に分類することができる。これを使って、現在の操作状態や設定値によって分類された操作履歴を参照すると、現在の観察を行っている操作と相関の高い操作が予測できる。予測した相関の高い機能を、候補ウィンドウへ表示することで、GUI作成を補助することができる。   By classifying operation histories with such setting parameters, it is possible to classify operation histories observed to some extent with the same sample. By using this and referring to the operation history classified by the current operation state and setting value, an operation having a high correlation with the operation currently being observed can be predicted. By displaying the predicted highly correlated function in the candidate window, GUI creation can be assisted.

例えば、水分を含有した試料を無加工で観察する場合、低真空に設定する。また、電子線照射による試料ダメージを抑える必要がある場合、加速電圧を低く設定する。検出器はEDXを用いて、元素分析を行う。そして、元素分析を行うためにプローブ電流を高く設定し、フォーカスを調整を実施し、画面キャプチャを行う。それらの操作情報は一つの操作履歴に記録される。そして、別のユーザが同じような水分を含有した試料で元素分析を実施すときを、GUI作成機能を使って新たにGUIを作成すると、加速電圧,検出器,真空度を上記の設定と同じような設定とした段階で、その分類パラメータによって今まで記録された操作履歴は分類される。その分類された操作履歴群58の一部に、上記の履歴も含まれており、候補ウィンドウ47に、候補を列挙できる。上記の例だと、プローブ電流の設定機能や、画面キャプチャを行う機能を表示する。ユーザはこの候補ウィンドウに表示された機能を、新しく作成したGUIに集約することで、関連した機能を探す手間を省き、GUI作成を効率よく行うことができる。   For example, when observing a sample containing moisture without processing, a low vacuum is set. In addition, when it is necessary to suppress sample damage due to electron beam irradiation, the acceleration voltage is set low. The detector performs elemental analysis using EDX. Then, in order to perform elemental analysis, the probe current is set high, the focus is adjusted, and screen capture is performed. Such operation information is recorded in one operation history. When another user conducts elemental analysis on a sample containing similar moisture, and creates a new GUI using the GUI creation function, the acceleration voltage, detector, and vacuum are the same as the above settings. At such a setting stage, the operation history recorded so far is classified according to the classification parameter. The history is also included in a part of the classified operation history group 58, and candidates can be listed in the candidate window 47. In the above example, the probe current setting function and the screen capture function are displayed. The user aggregates the functions displayed in the candidate window into a newly created GUI, thereby saving time and labor for searching for related functions and efficiently creating a GUI.

上記で述べた分類ベクトルは様々な種類があるが、本発明は分類ベクトル数,分類ベクトルの種類を限定したものではない。   Although there are various types of classification vectors described above, the present invention does not limit the number of classification vectors and the types of classification vectors.

使用履歴の分類について簡単に説明する。分類に際し、真空度,加速電圧,プローブ電流など数値データは連続的(厳密に言えば離散数値)であり、分類が難しい。そこで、一般的なクラスタリング手法を用いて分類することとする。クラスタリング手法には、階層的手法である、最短距離法,最長距離法,群平均法,ウォード法などがあり、分割最適化手法として、k-means法がある。   The usage history classification will be briefly described. At the time of classification, numerical data such as the degree of vacuum, acceleration voltage, and probe current are continuous (strictly speaking, discrete numerical values), and classification is difficult. Therefore, classification is performed using a general clustering method. Clustering methods include hierarchical methods such as shortest distance method, longest distance method, group average method, and Ward method, and k-means method as a division optimization method.

k-means法のアルゴリズムは以下である。
過程A:K個のクラスターの中心(初期値)をランダムに設定する。
過程B:それぞれの個体をもっとも近い中心にクラスタリングする。
過程C:クラスターごとに中心(重心)を計算しなおす。
過程D:上記クラスターの中心が変化しなければ終了。それ以外は過程Bへ戻る。
The algorithm of the k-means method is as follows.
Process A: The centers (initial values) of K clusters are set at random.
Process B: Cluster each individual to the nearest center.
Process C: Recalculate the center (center of gravity) for each cluster.
Process D: End if the center of the cluster does not change. Otherwise, return to Process B.

具体例について、図8,図9を用いて説明する。実際の観察では、真空度,加速電圧,フィラメント電流,観察倍率などさまざまな設定値があるが、例として、真空度,加速電圧の2次元に絞った場合を示す。   A specific example will be described with reference to FIGS. In actual observation, there are various set values such as a degree of vacuum, an acceleration voltage, a filament current, and an observation magnification. As an example, a case where the degree of vacuum and the acceleration voltage are reduced to two dimensions is shown.

図8では、装置使用履歴のデータを、X軸に加速電圧(Vacc)、Y軸に真空(Vacuum)値をプロットした。図9は、上記k-means法の手順を説明した図である(クラスター数を5とした)。この計算を繰り返すことにより、使用履歴の分類ができる。   In FIG. 8, the device usage history data is plotted with the acceleration voltage (Vacc) on the X-axis and the vacuum value on the Y-axis. FIG. 9 is a diagram for explaining the procedure of the k-means method (the number of clusters is 5). By repeating this calculation, the usage history can be classified.

なお、上記手法においては、(1)の初期値をランダムで設定する場合、クラスタリング結果は局所解に陥る(不適切に分類される)ことが知られており、初期値の設定が大切である。電子顕微鏡における各種設定値の履歴において、k-means法で分類を行う場合、上記のような事態を回避するために、適正設定値を用いることが一案として考えられる。適正値の例を図10に示す(加速電圧,倍率,検出器の三次元分類の場合の例)。この適正値として、正しく観察することができた際に用いられたデータを使用することができる。   In the above method, when the initial value of (1) is set at random, it is known that the clustering result falls into a local solution (classified inappropriately), and the setting of the initial value is important. . When classifying by the k-means method in the history of various setting values in the electron microscope, it is conceivable to use appropriate setting values in order to avoid the above situation. An example of appropriate values is shown in FIG. 10 (example in the case of three-dimensional classification of acceleration voltage, magnification, and detector). As this appropriate value, the data used when the observation can be performed correctly can be used.

実施例1に、GUIを作成する際の補助として、操作の候補を列挙する機能を示したが、この機能はGUI作成補助だけでなく、ユーザが通常操作を行う際の補助として利用しても良い。ユーザが通常操作を行う際の補助として利用する場合には、現在行っている操作の次に行う操作の頻度を使用履歴からカウントし、頻度が高いものから列挙することで、現在行っている操作の次に行う操作を予測できる。これにより、通常の操作における操作性の向上を図ることができる。   In the first embodiment, the function of enumerating operation candidates is shown as assistance when creating a GUI. However, this function is not only used for GUI creation assistance but also used as assistance when a user performs a normal operation. good. When used as an auxiliary when the user performs normal operations, the frequency of operations to be performed next to the current operation is counted from the usage history, and the operations that are currently being performed are enumerated in descending order of frequency. The operation to be performed next can be predicted. Thereby, the operativity in normal operation can be improved.

実施例1では特に明記していないが、カスタムウィンドウ36へ機能を追加する手段として、マウスや、キーボード,タッチパッドなどのデバイスを使用したり、それらを組み合わせて指示しても良い。また、カスタムウィンドウへ機能を追加する操作は、マウスのクリック以外にもドラッグアンドドロップや、機能表の一覧から追加するものを選択して実施してもよい。機能表一覧を用いる場合には、追加する場合の条件をその表で指定しても良い。   Although not specifically described in the first embodiment, as a means for adding a function to the custom window 36, a device such as a mouse, a keyboard, or a touch pad may be used, or a combination thereof may be used. Further, the operation of adding a function to the custom window may be performed by selecting an item to be added from a list of function tables by dragging and dropping, or by clicking other than the mouse click. When a function table list is used, conditions for addition may be specified in the table.

実施例1において、カスタムウィンドウ36へ機能を追加する際に、ユーザが自由な位置へ配置できることを説明したが、自動的に配置を行っても良い。例えば、操作履歴から使用頻度を算出して、使用頻度に応じて順番を並べ替えたり、機能の特徴毎(変更すると試料に影響があるものとそうでないものなど)にタブ45へ分類してもよい。   In the first embodiment, it has been described that when a function is added to the custom window 36, the user can arrange the function at any position. However, the user window may be automatically arranged. For example, the frequency of use may be calculated from the operation history, and the order may be rearranged according to the frequency of use, or classified into tabs 45 for each feature of the function (such as one that affects the sample when it is changed, and the other that does not) Good.

ユーザがGUI作成機能を使用してGUIを作成したとき、その作成したGUI上の機能のうち、複数の操作を組み合わせて、一つの処理を実現する場合は、同時に実施可能な機能の組み合わせと判断し、同時に実施する同等の機能へと置き換えも可能とする。例えば、電子顕微鏡では、オートフォーカスを行う機能や、オートスティグマを行う機能がある。また、それらを組み合わせて同時にオートフォーカスと、オートスティグマを実施するオートスティグマフォーカス機能など、複合機能が存在する。ユーザがカスタムウィンドウ36へ機能を追加するとき、上記の様にオートフォーカス機能と、オートスティグマ機能をそれぞれ追加した場合、それらを自動的にオートフォーカススティグマ機能へと置き換える。これにより、ユーザの操作回数を減らすことができる。   When a user creates a GUI using the GUI creation function, if a single process is realized by combining a plurality of operations among the created GUI functions, it is determined that the combination of functions can be performed simultaneously. However, it is possible to replace it with an equivalent function to be executed at the same time. For example, an electron microscope has a function of performing autofocus and a function of performing autostigma. In addition, there are composite functions such as autofocus and autostigma focus function for performing autostigma at the same time by combining them. When the user adds a function to the custom window 36, if the autofocus function and the autostigma function are added as described above, they are automatically replaced with the autofocus stigma function. Thereby, the frequency | count of a user's operation can be reduced.

実施例1で使用する操作履歴のひとつとして、使用した機能の時間を保持してもよい。時間帯によって使用する機能がまったく違う場合には、時間を使用履歴の分類に用いることで、時間に合わせた候補ウィンドウ47を表示可能となる。   As one of the operation histories used in the first embodiment, the time of the used function may be held. When the function used is completely different depending on the time zone, the candidate window 47 can be displayed according to the time by using the time for classification of the use history.

実施例1において、操作履歴の分類の一つにユーザ名を示しているが、ユーザ名による分類を行うことも選択できる。例えば、ある程度操作履歴を持っているユーザであれば、ユーザ名による分類を行うことで、使用履歴に基づいた自分の操作の癖までも反映した候補ウィンドウ47を表示できるが、過去に操作履歴の無い新規のユーザが使用した場合は、候補ウィンドウ47を表示できない。そのような場合は選択的に、ユーザ名による分類を行わないことで、仕様履歴の無いユーザが観察を行う際に、他者の使用履歴から観察の候補ウィンドウ47を列挙することができる。   In the first embodiment, the user name is shown as one of the classifications of the operation history, but it is also possible to select to classify by the user name. For example, if a user has an operation history to some extent, the candidate window 47 can be displayed by reflecting the user's operation habit based on the usage history by performing classification based on the user name. If no new user uses it, the candidate window 47 cannot be displayed. In such a case, by selectively not classifying by user name, observation candidates windows 47 can be enumerated from the usage history of others when a user without a specification history performs observation.

実施例1乃至2において、候補ウィンドウ47へ、候補を表示する際に、表示する操作候補に優先順位を持たせ、優先順位の高いものだけを表示したり、表示順序や配置を動的に変更しても良い。優先順位の算出例を以下に示す。
1.操作履歴を参照して、操作回数の多いものから順に並べて表示する(操作頻度)。
2.最近行った操作を基準として、操作履歴を参照して、その操作の次に行われる操作の
回数を数え上げ、操作回数の多いものを順に並べて表示する(最近操作と相関)。
In the first and second embodiments, when candidates are displayed in the candidate window 47, priority is given to the operation candidates to be displayed, and only those with higher priority are displayed, or the display order and arrangement are dynamically changed. You may do it. An example of calculating the priority order is shown below.
1. The operation history is referred to and displayed in order from the operation having the highest number of operations (operation frequency).
2. Based on the most recent operation, the operation history is referred to, the number of operations performed next to the operation is counted, and the operations with the most operations are displayed in order (correlation with recent operations).

上記の利用形態は、カスタムウィンドウ36を作成するユーザと、実際に使用するユーザが同一であり、操作性向上のための実施例について説明した。次に、カスタムウィンドウ36を作成するユーザが管理者で、使用する一般ユーザに対して機能制限を設けたり、操作手順をウィザード形式で利用しやすい環境を提供する場合の利用形態について説明する。   In the above usage mode, the user who creates the custom window 36 is the same as the user who actually uses it, and the embodiment for improving operability has been described. Next, a description will be given of a usage form in the case where the user who creates the custom window 36 is an administrator and provides a function restriction for a general user to be used or provides an environment in which an operation procedure can be easily used in a wizard format.

カスタムウィンドウ36を作成する管理者は、一般ユーザに対して実施させたい操作を、手順を追って判りやすく進められるように、図5に示す対話形式のカスタムウィンドウ(以下ウィザードウィンドウ59と略す)を作成する。ウィザードウィンドウ59を作成できるのは管理者であり、一般ユーザは変更することはできない。また、ウィザードウィンドウ59利用時には、ウィザードウィンドウ59以外の操作を一切禁止することで実質の機能制限を行う。その際の管理者と一般ユーザの区別は、パスワードやその他の認証方式を用いて区別する。但し、機能制限の有無は管理者が選択できるものとし、ウィザードウィンドウ59以外の操作を行うことも選択できることが好ましい。   The administrator who creates the custom window 36 creates an interactive custom window (hereinafter abbreviated as a wizard window 59) shown in FIG. 5 so that operations desired to be performed by general users can be easily followed step by step. To do. The administrator can create the wizard window 59 and cannot be changed by a general user. When the wizard window 59 is used, substantial functions are restricted by prohibiting operations other than the wizard window 59. In this case, the administrator and the general user are distinguished by using a password or other authentication method. However, it is preferable that the administrator can select whether or not the function is restricted, and it is preferable that the operation other than the wizard window 59 can be selected.

ウィザードウィンドウ59の作成は、実施例1と同様に、散在している機能をウィザードウィンドウ内59に配置して行う。その際、図5に示すように、検査や観察手順の詳細な解説や、注意事項などの説明文章や、図や写真61をウィザードウィンドウ内59に配置することもできる。解説や注意事項などの説明の文章60は、追加指示を行うことで、新たにテキストエディタが表示され文章を入力することができる。また、図や写真61も同様に追加指示を行うことで編集するエディタが表示され、操作手順を示す矢印などの図を作成し配置できる。図,写真61に関してはエディタで作成することも可能であるが、ファイルなどから読み込み,貼り付けることもできる。これにより、一般ユーザに対して実際の作業結果の写真などを示すことで、正しい操作を促したり、結果が正しいかを確認することができる。その際、追加した機能(例ではスライダー64)や説明文60,図,写真61などの位置やサイズは自由にドラッグアンドドロップで変更できることが好ましい。   The creation of the wizard window 59 is performed by arranging scattered functions in the wizard window 59 as in the first embodiment. At that time, as shown in FIG. 5, detailed explanations of inspection and observation procedures, explanatory texts such as precautions, diagrams and photographs 61 can be arranged in a wizard window 59. A text editor can be newly displayed and an input text can be input by giving an additional instruction to the text 60 for explanation such as explanation and notes. Similarly, the editor for editing the figure and the photograph 61 is displayed by giving an addition instruction, and a figure such as an arrow indicating an operation procedure can be created and arranged. The figure and photograph 61 can be created by an editor, but can also be read and pasted from a file or the like. Thus, by showing a photograph of an actual work result to a general user, it is possible to prompt a correct operation or check whether the result is correct. At this time, it is preferable that the position and size of the added function (slider 64 in the example), the description 60, the figure, the photograph 61, and the like can be freely changed by drag and drop.

ウィザードウィンドウ59には進むボタン62と、戻るボタン63のボタンがあらかじめ配置されており、進むボタン62を操作する毎に、次の操作を示したウィザードウィンドウ59が現れる。逆に戻るボタン63を操作すると、一つ前のウィザードウィンドウ59に戻ることができる。このように、一つのウィンドウに対して単純な作業を指示し、手順を追って進めることで、一般ユーザが初心者でも操作が可能となる。また、管理者がウィザードウィンドウ59を作成する場合にも、進むボタン62,戻るボタン63を操作し、一つの手順ずつ作成することができる。また、作成したウィザードウィンドウ59はその構成を保存,読み出しすることができ、読み出した構成を再度編集することもできる。   The wizard window 59 has a forward button 62 and a return button 63 arranged in advance. Each time the forward button 62 is operated, a wizard window 59 showing the next operation appears. Conversely, if the return button 63 is operated, it is possible to return to the previous wizard window 59. As described above, a simple operation is instructed to one window and the procedure is followed, so that a general user can operate even a beginner. Also, when the administrator creates the wizard window 59, it is possible to create one step at a time by operating the forward button 62 and the return button 63. In addition, the created wizard window 59 can save and read the configuration, and can edit the read configuration again.

実施例9において、ウィザードウィンドウ59以外の操作を禁止することで、一般ユーザに対して機能制限できることを説明したが、それ以外にも機能の設定パラメータ範囲を管理者が自由に設定し、制限できる範囲を変更できるようにしても良い。例えば、観察試料を破壊してしまう危険性がある、試料室真空度や加速電圧設定,ステージの座標値設定値の制限である。図6(a)はパラメータを設定できる機能(例ではスライダー64)に対して、パラメータ制限設定メニュー66を表示して、パラメータ制限値67の上下限値を設定する場合の例である。ユーザがこの設定した値を逸脱したパラメータを入力するとエラーを表示する。この設定パラメータ範囲は、ウィザードウィンドウ59内に配置された機能毎に違った値を設定できる。つまり、ウィザードウィンドウ59で作業を進める中で、パラメータを変更する作業が複数回出てきた場合でも、それぞれ違った範囲を指定できることを意味する。   In the ninth embodiment, it has been described that the function can be restricted to the general user by prohibiting operations other than the wizard window 59. However, the administrator can freely set and restrict the function setting parameter range in addition to that. The range may be changed. For example, there is a risk of destroying the observation sample, such as sample chamber vacuum, acceleration voltage setting, and stage coordinate value setting value limitations. FIG. 6A shows an example in which the parameter limit setting menu 66 is displayed and the upper and lower limit values of the parameter limit value 67 are set for the function (slider 64 in the example) that can set the parameter. When the user enters a parameter that deviates from the set value, an error is displayed. This setting parameter range can be set to a different value for each function arranged in the wizard window 59. In other words, it means that different ranges can be designated even when work for changing parameters appears a plurality of times while the work is proceeding in the wizard window 59.

一般ユーザがウィザードウィンドウ59を使用して、観察もしくは作業を進めるときに、その一つのウィンドウ毎に時間制限を設けることができる。特に、電子顕微鏡で観察,検査を行う場合には、電子ビームの照射時間や、真空排気開始からの時間経過によって、検査,測定などの結果が変わってしまったり、試料にダメージを与えてしまうことがある。操作毎に管理者が時間を制限することで、時間経過の影響による問題を排除することができる。具体的には、図6(b)に示すように、時間制限設定メニュー69を表示して、その一つの手順における操作制限時間を指定する。一般ユーザが指定された時間内に次の手順へ進めなかった場合、保存した観察結果を無効としたり、作業を再度やり直しさせるといった指定を詳細設定ボタン71で設定する。   When a general user uses the wizard window 59 to proceed with observation or work, a time limit can be set for each window. In particular, when observing and inspecting with an electron microscope, the results of inspection and measurement may change or damage the sample depending on the irradiation time of the electron beam and the passage of time since the start of evacuation. There is. By limiting the time for each operation, the problem due to the influence of the passage of time can be eliminated. Specifically, as shown in FIG. 6B, a time limit setting menu 69 is displayed, and an operation time limit in one procedure is designated. If the general user does not proceed to the next procedure within the designated time, the detailed setting button 71 is used to set the designation such as invalidating the saved observation result or restarting the work.

実施例9において、管理者が作成したウィザードウィンドウは、その一つの手順毎に経過した時間を記録しても良い。記録した時間はユーザや、作業毎に記録管理され、図7に示すようにグラフ73で表示される。ウィザードウィンドウ59の一手順ごとに、グラフ73は色分け75されて表示される。よって、各手順の経過時間の傾向を視覚的に把握することができる。また、ユーザ名74毎に結果を表示し、作業時間の違いを知らしめることができる。これにより、管理者はどのプロセスを改善すればよいのか、どのユーザを教育すればよいのかを簡単に分析することができる。これはスループットが重要視される検査などのルーチンワークで重要である。また、エクスポート機能76を使用すれば、管理者は計測管理されたデータをファイル形式(EXELやCVS形式など)で出力することもできる。   In the ninth embodiment, the wizard window created by the administrator may record the elapsed time for each procedure. The recorded time is recorded and managed for each user or operation, and is displayed as a graph 73 as shown in FIG. For each step of the wizard window 59, the graph 73 is color-coded 75 and displayed. Therefore, the tendency of the elapsed time of each procedure can be grasped visually. Moreover, a result can be displayed for every user name 74, and the difference in work time can be known. Thus, the administrator can easily analyze which process should be improved and which user should be educated. This is important in routine work such as inspections where throughput is important. In addition, if the export function 76 is used, the administrator can output data subjected to measurement management in a file format (such as EXEL or CVS format).

実施例9において、ウィザードウィンドウ59をあらかじめ作成しておき、作成したウィンドウを明示的に呼び出せることを示した。明示的に呼び出す以外に、保存したウィザードウィンドウ59を、計画的に自動で表示しても良い。電子顕微鏡が検査などのルーチンワークに使用される場合、日時によって検査項目が変化することが考えられる。その日程をあらかじめ、登録しておけば、検査項目に適したウィザードウィンドウ59を日程に合わせて自動で変更する事ができる。   In the ninth embodiment, the wizard window 59 is created in advance, and the created window can be explicitly called. In addition to explicitly calling, the saved wizard window 59 may be automatically displayed in a planned manner. When an electron microscope is used for routine work such as inspection, it is conceivable that inspection items change depending on the date and time. If the schedule is registered in advance, the wizard window 59 suitable for the inspection item can be automatically changed according to the schedule.

1 電子銃
2 アノード
3 コンデンサレンズ
4 一次電子線
5 偏向器
6 対物レンズ
7 二次電子
8 寸法校正用試料
9 試料ステージ
10 ステージ制御部
11 二次電子検出器
12 増幅器
13 画像記憶部
14 測長処理部
15 主制御部
16 コンピュータ部
17 表示部
18 試料
19 偏向制御部
20 マウス
21 キーボード
22 記憶媒体(データベース格納エリア)
23 専用操作パネル
24 GUI部
25 GUI操作部
26 GUI作成部
27 操作候補表示部
28 ユーザ
29 GUI再構成部
30 GUI構成情報
31 操作予測部
32 操作記録部
33 操作履歴
34 ボタン
35 テキストボックス
36 カスタムウィンドウ
37,64 スライダー(複製)
38 スライダー
39 ポップアップメニュー
40 保存・呼び出し機能
41 チェックボックス
42 ラジオボタン
43 コンボボックス
44 既存GUI
45 タブ
46 機能名(複製)
47 候補ウィンドウ
48 スライダー(候補)
49,50 ボタン(候補)
51 ラジオボタン(候補)
52 ラジオボタン(複製)
53 1回の観察における操作履歴
54 分類された操作履歴群
55 検出器の種類
56 真空度
57 加速電圧
58 EDX検出器,低加速電圧,低真空で観察した操作履歴群
59 ウィザードウィンドウ
60 説明文
61 図,写真
62 進むボタン
63 戻るボタン
65 手順番号
66 パラメータ制限設定メニュー
67 パラメータ制限値
68 パラメータ制限有無設定
69 時間制限設定メニュー
70 時間制限設定値
71 詳細設定ボタン
72 時間制限有無設定
73 グラフ
74 ユーザ名
75 色分け(手順毎)
76 エクスポート機能
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electron gun 2 Anode 3 Condenser lens 4 Primary electron beam 5 Deflector 6 Objective lens 7 Secondary electron 8 Size calibration sample 9 Sample stage 10 Stage control part 11 Secondary electron detector 12 Amplifier 13 Image storage part 14 Length measurement process Unit 15 Main control unit 16 Computer unit 17 Display unit 18 Sample 19 Deflection control unit 20 Mouse 21 Keyboard 22 Storage medium (database storage area)
23 Dedicated operation panel 24 GUI section 25 GUI operation section 26 GUI creation section 27 Operation candidate display section 28 User 29 GUI reconstruction section 30 GUI configuration information 31 Operation prediction section 32 Operation recording section 33 Operation history 34 Button 35 Text box 36 Custom window 37, 64 Slider (Duplicate)
38 Slider 39 Pop-up menu 40 Save / recall function 41 Check box 42 Radio button 43 Combo box 44 Existing GUI
45 Tab 46 Function Name (Duplicate)
47 Candidate window 48 Slider (candidate)
49, 50 button (candidate)
51 Radio button (candidate)
52 Radio button (Duplicate)
53 Operation History in One Observation 54 Classified Operation History Group 55 Detector Type 56 Degree of Vacuum 57 Acceleration Voltage 58 EDX Detector, Operation History Group Observed at Low Acceleration Voltage and Low Vacuum 59 Wizard Window 60 Description 61 Figure, Photo 62 Forward button 63 Back button 65 Procedure number 66 Parameter limit setting menu 67 Parameter limit value 68 Parameter limit setting / non-setting 69 Time limit setting menu 70 Time limit setting value 71 Detailed setting button 72 Time limit setting / non-setting 73 Graph 74 User name 75 Color coding (per procedure)
76 Export function

Claims (9)

荷電粒子線装置の装置条件を設定する機能を複数表示する操作画面を備えた荷電粒子線装置において、
前記操作画面上に、カスタムウィンドウを設け、
当該カスタムウィンドウ中に、前記操作画面上に表示された機能を表示することを特徴とする荷電粒子線装置。
In the charged particle beam apparatus having an operation screen for displaying a plurality of functions for setting the apparatus conditions of the charged particle beam apparatus,
A custom window is provided on the operation screen,
The charged particle beam apparatus, wherein the function displayed on the operation screen is displayed in the custom window.
請求項1の荷電粒子線装置において、
前記操作画面上に、前記カスタムウィンドウに表示する機能の候補を表示する候補ウィンドウを設けることを特徴とする荷電粒子線装置。
The charged particle beam apparatus according to claim 1.
A charged particle beam apparatus characterized in that a candidate window for displaying candidate functions to be displayed in the custom window is provided on the operation screen.
請求項2の荷電粒子線装置において、
前記候補ウィンドウに表示された機能は、前記機能の使用履歴の分類に基づいて表示されることを特徴とする荷電粒子線装置。
The charged particle beam device according to claim 2,
The function displayed in the candidate window is displayed based on the classification of the use history of the function.
請求項3の荷電粒子線装置において、
前記候補ウィンドウに表示される機能の順番は、前記機能の使用履歴からしよう回数の多い順に表示されることを特徴とする荷電粒子線装置。
The charged particle beam device according to claim 3.
The charged particle beam apparatus according to claim 1, wherein the order of the functions displayed in the candidate window is displayed in descending order of the number of attempts from the function usage history.
請求項3の荷電粒子線装置において、
前記候補ウィンドウに表示される機能の順番は、前記カスタムウィンドウに表示された機能に基づいて決まることを特徴とする荷電粒子線装置。
The charged particle beam device according to claim 3.
The charged particle beam apparatus according to claim 1, wherein the order of the functions displayed in the candidate window is determined based on the functions displayed in the custom window.
請求項1の荷電粒子線装置において、
前記カスタムウィンドウ中の複数の機能を1つの機能に置換えすることを特徴とする荷電粒子線装置。
The charged particle beam apparatus according to claim 1.
A charged particle beam apparatus, wherein a plurality of functions in the custom window are replaced with one function.
請求項1の荷電粒子線装置において、
前記カスタムウィンドウ中に設けられた機能に制限を設けることを特徴とする荷電粒子線装置。
The charged particle beam apparatus according to claim 1.
A charged particle beam apparatus characterized by limiting a function provided in the custom window.
請求項1の荷電粒子線装置において、
前記カスタムウィンドウ中の機能を使用した時間を記録する記録装置を設けることを特徴とする荷電粒子線装置。
The charged particle beam apparatus according to claim 1.
A charged particle beam apparatus comprising a recording device for recording a time during which the function in the custom window is used.
請求項1の荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線装置使用時に、前記カスタムウィンドウを呼び出す呼び出し機能を設けたことを特徴とする荷電粒子線装置。
The charged particle beam apparatus according to claim 1.
A charged particle beam apparatus provided with a calling function for calling the custom window when the charged particle beam apparatus is used.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5470596B1 (en) * 2013-08-12 2014-04-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ Charged particle beam device with function release mode and function expansion mode
CN110176378A (en) * 2018-02-20 2019-08-27 日本株式会社日立高新技术科学 Charged particle beam apparatus, microscope carrier driving scope limitation method and recording medium
WO2020021649A1 (en) * 2018-07-25 2020-01-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ Charged-particle beam apparatus

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003150971A (en) * 2001-11-09 2003-05-23 Konica Corp Information processing method, information processing system, information processing device and information recording medium recording program
JP2003303567A (en) * 2002-04-11 2003-10-24 Keyence Corp Electron microscope, operating method of electron microscope, electron microscope operation program, and computer-readable recording medium
JP2004205427A (en) * 2002-12-26 2004-07-22 Hitachi Sci Syst Ltd Analysis apparatus and analysis condition setting method
JP2004319234A (en) * 2003-04-16 2004-11-11 Hitachi High-Technologies Corp Charged particle beam device
JP2006293678A (en) * 2005-04-11 2006-10-26 Olympus Imaging Corp Operational function setting system
JP2007242605A (en) * 2006-02-09 2007-09-20 Hitachi High-Technologies Corp Scanning electron microscope
JP2008293495A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Toshiba Corp Driver device, and processing control method and program

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003150971A (en) * 2001-11-09 2003-05-23 Konica Corp Information processing method, information processing system, information processing device and information recording medium recording program
JP2003303567A (en) * 2002-04-11 2003-10-24 Keyence Corp Electron microscope, operating method of electron microscope, electron microscope operation program, and computer-readable recording medium
JP2004205427A (en) * 2002-12-26 2004-07-22 Hitachi Sci Syst Ltd Analysis apparatus and analysis condition setting method
JP2004319234A (en) * 2003-04-16 2004-11-11 Hitachi High-Technologies Corp Charged particle beam device
JP2006293678A (en) * 2005-04-11 2006-10-26 Olympus Imaging Corp Operational function setting system
JP2007242605A (en) * 2006-02-09 2007-09-20 Hitachi High-Technologies Corp Scanning electron microscope
JP2008293495A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Toshiba Corp Driver device, and processing control method and program

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5470596B1 (en) * 2013-08-12 2014-04-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ Charged particle beam device with function release mode and function expansion mode
WO2015022793A1 (en) * 2013-08-12 2015-02-19 株式会社日立ハイテクノロジーズ Charged particle beam device having a function cancelling mode and a function expanding mode
CN110176378A (en) * 2018-02-20 2019-08-27 日本株式会社日立高新技术科学 Charged particle beam apparatus, microscope carrier driving scope limitation method and recording medium
JP2019145304A (en) * 2018-02-20 2019-08-29 株式会社日立ハイテクサイエンス Charged particle beam device, stage driving range limiting method for charged particle beam device, and program
TWI828652B (en) * 2018-02-20 2024-01-11 日商日立高新技術科學股份有限公司 Charged particle beam device, stage drive range limiting method and program of charged particle beam device
CN110176378B (en) * 2018-02-20 2024-06-11 日本株式会社日立高新技术科学 Charged particle beam device, method for limiting drive range of stage, and recording medium
WO2020021649A1 (en) * 2018-07-25 2020-01-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ Charged-particle beam apparatus
JPWO2020021649A1 (en) * 2018-07-25 2021-08-05 株式会社日立ハイテク Charged particle beam device
US11367588B2 (en) 2018-07-25 2022-06-21 Hitachi High-Tech Corporation Charged particle beam device

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