JP2011049028A - Manufacturing method of organic el device and manufacturing method of color filter - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve uniformity of layer thickness of a function layer formed in an inkjet method. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the organic EL device, provided with organic EL elements 29 each equipped with a first electrode 45, a second electrode 47, and a light-emitting function layer 44 containing at least an organic EL layer 42 pinched by the first electrode 45 and the second electrode 47, comprises a first process of forming a plurality of first electrodes 45 on a substrate 10, a second process of forming barrier ribs 77 surrounding each of the first electrodes 45, a third process of forming a first ink layer 11 by discharging first ink containing a light-emitting function-layer forming material as a solute or a dispersoid in an area 75 surrounded by the barrier ribs 77, a fourth process of forming a second ink layer 12 covering the first ink layer 11 by discharging second ink with a specific gravity smaller than that of the first ink in the area 75 surrounded by the barrier ribs 77, and a fifth process of drying the first ink and the second ink. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL装置の製造方法、及びカラーフィルターの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL device and a method for manufacturing a color filter.

近年、大画面のFPD(フラットパネルディスプレイ)に用いる表示装置として、有機EL(エレクトロルミネッセンス)装置が注目されている。有機EL装置は、一般的に陽極と少なくとも有機EL材料層を含む発光機能層と陰極とを積層してなる有機EL素子を、基板上に規則的に配置して形成されている。   In recent years, organic EL (electroluminescence) devices have attracted attention as display devices used for large-screen FPDs (flat panel displays). In general, an organic EL device is formed by regularly arranging organic EL elements, which are formed by laminating an anode, a light emitting functional layer including at least an organic EL material layer, and a cathode on a substrate.

有機EL装置をカラー化する手法としては、白色光を射出する有機EL素子とカラーフィルターとを組み合わせる手法と、3原色光(赤色光と緑色光と青色光)に対応する3種類の有機EL素子を規則的に配置する手法がある。後者の手法では、3種類の有機EL素子毎に異なる材料を含む有機EL層(有機EL材料層)を形成することが必要となる。上述の有機EL材料が低分子型である場合、蒸着法等の真空成膜法による形成が可能である。そのため、基板に各々の有機EL素子の画素領域に対応する開口部を有するマスクを被せて、該マスク越しに有機EL材料を堆積させるマスク蒸着法(あるいはマスクスパッタ法)が研究されている。一方、高分子型の有機EL材料を用いる場合は、真空成膜法の適用が不可能である。そのため、有機EL材料を含むインク(すなわち液体材料)の液滴を上述の有機EL素子の画素領域を囲むように形成された隔壁内に吐出し、該インクを乾燥させることにより有機EL素子毎に個別に有機EL層を形成するインクジェット法が研究されている。インクジェット法は、直径がμmオーダーの液滴を高解像度で吐出できるため、有機EL材料の高精細パターニングが可能である。そのため、上述のカラーフィルターの形成にも用いられている。   As a method for colorizing an organic EL device, a method combining an organic EL element that emits white light and a color filter, and three kinds of organic EL elements corresponding to three primary color lights (red light, green light, and blue light) There is a method of regularly arranging. In the latter method, it is necessary to form an organic EL layer (organic EL material layer) containing different materials for each of the three types of organic EL elements. When the above-mentioned organic EL material is a low molecular type, it can be formed by a vacuum film forming method such as an evaporation method. Therefore, a mask vapor deposition method (or mask sputtering method) in which a mask having openings corresponding to the pixel regions of the respective organic EL elements is placed on the substrate and an organic EL material is deposited over the mask has been studied. On the other hand, when a polymer type organic EL material is used, it is impossible to apply the vacuum film forming method. Therefore, a droplet of ink containing an organic EL material (that is, a liquid material) is ejected into a partition formed so as to surround the pixel region of the organic EL element, and the ink is dried for each organic EL element. An inkjet method for individually forming an organic EL layer has been studied. The ink jet method can eject droplets having a diameter of the order of μm with high resolution, and thus enables high-definition patterning of organic EL materials. Therefore, it is also used for forming the color filter described above.

インクジェット法の問題点のひとつとして、層厚の均一性がある。有機EL層及び該有機EL層を含む発光機能層の特性は層厚に左右される。したがって、該層厚は有機EL素子間、及び有機EL素子内における均一性が高いことが求められる。しかし、基板上の塗布領域すなわち後述する表示領域100(図1参照)における外縁部では、吐出された液滴から蒸発した溶媒(または分散媒)の分子分圧が低いため、一般的に早く乾きはじめる。かかる乾燥時間の差は、有機EL素子間(及び有機EL素子内)における層厚の均一性の低下をもたらし得る。上述したように発光機能層の特性は層厚に左右されるため、かかる均一性の低下は、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示品質の低下をもたらし得る。そこで、かかる均一性の低下を抑制するために、表示領域100の周辺領域にも上述の隔壁を形成して、該周辺領域にも液滴を吐出する手法が紹介されている(特許文献1)。かかる手法によれば、表示領域100内の分子分圧のばらつきを低減できるため、乾燥時間のばらつきに起因する発光機能層の層厚の均一性を向上できる。   One problem with the inkjet method is the uniformity of the layer thickness. The characteristics of the organic EL layer and the light emitting functional layer including the organic EL layer depend on the layer thickness. Therefore, the layer thickness is required to be highly uniform between the organic EL elements and within the organic EL element. However, since the molecular partial pressure of the solvent (or dispersion medium) evaporated from the ejected droplets is low at the outer edge portion in the coating region on the substrate, that is, the display region 100 (see FIG. 1) described later, it generally dries quickly. Start. Such a difference in drying time may cause a decrease in the uniformity of the layer thickness between the organic EL elements (and within the organic EL element). As described above, since the characteristics of the light emitting functional layer depend on the layer thickness, such a decrease in uniformity can cause a decrease in display quality such as luminance unevenness and light emission color unevenness. Therefore, in order to suppress such a decrease in uniformity, a technique has been introduced in which the above-mentioned partition is formed in the peripheral region of the display region 100 and droplets are ejected to the peripheral region (Patent Document 1). . According to this method, since the variation in the molecular partial pressure in the display region 100 can be reduced, the uniformity of the thickness of the light emitting functional layer due to the variation in the drying time can be improved.

特開2002−222695号公報JP 2002-222695 A

しかし、かかる手法は表示装置領域の周辺にも隔壁を形成するため大画面化への妨げとなり得る。また、インクの揮発性が高い場合には効果を得にくいという課題がある。   However, since this method forms a partition also around the display device region, it can hinder the enlargement of the screen. Further, there is a problem that it is difficult to obtain an effect when the volatility of the ink is high.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]第1電極と第2電極と上記第1電極及び上記第2電極とに挟持される、少なくとも有機EL層を含む発光機能層とを備える有機EL素子を複数備えてなる有機EL装置の製造方法であって、基板の一方の面に複数の上記第1電極を形成する第1の工程と、平面視で上記複数の第1電極の各々を囲む隔壁を形成する第2の工程と、上記隔壁で囲まれた領域内に、溶質または分散質として発光機能層形成材料を含む第1のインクを吐出して第1のインク層を形成する第3の工程と、上記隔壁で囲まれた領域内に上記第1のインクよりも比重が小さい第2のインクを吐出して、上記第1のインク層を覆う第2のインク層を形成する第4の工程と、上記第1のインクと上記第2のインクとを乾燥させる第5の工程と、を含むことを特徴とする有機EL装置の製造方法。   Application Example 1 An organic EL device including a plurality of organic EL elements each including a light emitting functional layer including at least an organic EL layer sandwiched between the first electrode, the second electrode, the first electrode, and the second electrode. A method for manufacturing an apparatus, comprising: a first step of forming a plurality of first electrodes on one surface of a substrate; and a second step of forming a partition surrounding each of the plurality of first electrodes in plan view. And a third step of forming a first ink layer by ejecting a first ink containing a light emitting functional layer forming material as a solute or dispersoid in a region surrounded by the partition, and surrounded by the partition A second step of forming a second ink layer covering the first ink layer by discharging a second ink having a specific gravity smaller than that of the first ink in the region; And a fifth step of drying the ink and the second ink. A method of manufacturing an organic EL device that.

このような製造方法であれば、第1電極上に発光機能層形成材料を含む第1のインク層と発光機能層形成材料を含まない第2のインク層との積層体を形成できる。そして、かかる第2のインク層により、複数の上記第1電極上に順次第1のインク層を形成した後、第5の工程すなわち第1のインクの乾燥工程にいたる間に、該第1のインク層の乾燥が自然に進行することを抑制できる。したがって、複数の上記第1のインク層の乾燥を同条件で実施できる。そのため、基板面内における発光機能層々厚の均一性を向上でき、表示品質の向上した大画面の有機EL装置を得ることができる。   With such a manufacturing method, it is possible to form a laminate of the first ink layer containing the light emitting functional layer forming material and the second ink layer not containing the light emitting functional layer forming material on the first electrode. Then, after the first ink layer is sequentially formed on the plurality of first electrodes by the second ink layer, the first step is performed during the fifth step, that is, the first ink drying step. The drying of the ink layer can be prevented from proceeding naturally. Therefore, the plurality of first ink layers can be dried under the same conditions. Therefore, the uniformity of the thickness of the light emitting functional layers in the substrate surface can be improved, and a large-screen organic EL device with improved display quality can be obtained.

[適用例2]上述の有機EL装置の製造方法であって、上記第4の工程は上記隔壁で囲まれた領域内に上記第1のインクよりも比重が小さく、かつ、上記第1のインクよりも沸点が高い上記第2のインクを吐出して、上記第1のインク層を覆う上記第2のインク層を形成する工程であることを特徴とする有機EL装置の製造方法。   Application Example 2 In the above-described organic EL device manufacturing method, the fourth step has a specific gravity smaller than that of the first ink in the region surrounded by the partition walls, and the first ink. A method for producing an organic EL device, comprising the step of discharging the second ink having a higher boiling point to form the second ink layer covering the first ink layer.

このような製造方法であれば、第4の工程が終了した後、第5の工程が開始されるまでの間に、第2のインク層が蒸発して第1のインク層が露出することをより一層抑制できる。したがって、複数の上記第1のインク層の乾燥をより一層好ましい条件で実施でき、より一層表示品質の向上した有機EL装置を得ることができる。   With such a manufacturing method, the second ink layer evaporates and the first ink layer is exposed after the fourth step is completed and before the fifth step is started. It can be further suppressed. Therefore, the plurality of first ink layers can be dried under more preferable conditions, and an organic EL device with further improved display quality can be obtained.

[適用例3]上述の有機EL装置の製造方法であって、上記第1のインクと上記第2のインクとは共に有機系液体を主成分としていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。   [Application Example 3] A method for manufacturing an organic EL device as described above, wherein both the first ink and the second ink are mainly composed of an organic liquid. .

有機系液体はさまざまな種類があり、比重や沸点を広い範囲から選択できる。したがって、このような製造方法であれば第1のインクと第2のインクの双方についてそれぞれ好適な液体を用いることができる。その結果、複数の上記第1のインク層の乾燥をより一層好ましい条件で実施でき、より一層表示品質の向上した有機EL装置を得ることができる。   There are various types of organic liquids, and the specific gravity and boiling point can be selected from a wide range. Therefore, with such a manufacturing method, it is possible to use suitable liquids for both the first ink and the second ink. As a result, the plurality of first ink layers can be dried under more preferable conditions, and an organic EL device with further improved display quality can be obtained.

[適用例4]上述の有機EL装置の製造方法であって、上記第1のインクは水を分散媒としており、上記第2のインクは有機系液体であることを特徴とする有機EL装置の製造方法。   Application Example 4 In the above-described organic EL device manufacturing method, the first ink uses water as a dispersion medium, and the second ink is an organic liquid. Production method.

このような製造方法であれば、発光機能層形成材料が水に分散しやすい材料である場合において、層厚の均一性が高い発光機能層を形成できる。   With such a manufacturing method, when the light emitting functional layer forming material is a material that is easily dispersed in water, a light emitting functional layer with high uniformity in layer thickness can be formed.

[適用例5]上述の有機EL装置の製造方法であって、上記第1のインクは有機系液体を溶媒としており、上記第2のインクは水を主成分としていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。   Application Example 5 In the above-described organic EL device manufacturing method, the first ink has an organic liquid as a solvent, and the second ink has water as a main component. Device manufacturing method.

水は自然乾燥が進みにくいため、このような製造方法であれば、第1のインク層の乾燥をより一層好ましい条件で実施でき、より一層表示品質の向上した有機EL装置を得ることができる。   Since water is unlikely to be naturally dried, such a manufacturing method allows the first ink layer to be dried under more favorable conditions, and an organic EL device with further improved display quality can be obtained.

[適用例6]第1電極と第2電極と上記第1電極及び上記第2電極とに挟持される、少なくとも有機EL層を含む発光機能層とを備える有機EL素子を複数備えてなる有機EL装置の製造方法であって、基板の一方の面に複数の上記第1電極を形成する第1の工程と、平面視で上記複数の第1電極の各々を囲む隔壁を形成する第2の工程と、上記隔壁で囲まれた領域内に、溶質または分散質として発光機能層形成材料を含む第1のインクと上記第1のインクよりも比重が小さい第2のインクとを混合してなる第3のインクを吐出する第3の工程と、上記第1のインクと上記第2のインクとを乾燥させる第4の工程と、を含むことを特徴とする有機EL装置の製造方法。   Application Example 6 An organic EL device including a plurality of organic EL elements each including a light emitting functional layer including at least an organic EL layer sandwiched between the first electrode, the second electrode, the first electrode, and the second electrode. A method for manufacturing an apparatus, comprising: a first step of forming a plurality of first electrodes on one surface of a substrate; and a second step of forming a partition surrounding each of the plurality of first electrodes in plan view. And a first ink containing a light emitting functional layer forming material as a solute or a dispersoid and a second ink having a specific gravity smaller than that of the first ink in a region surrounded by the partition walls. 3. A method for manufacturing an organic EL device, comprising: a third step of ejecting three inks; and a fourth step of drying the first ink and the second ink.

比重の異なる2種類のインクを混合してなるインクは時間の経過と共に比重の差で分離する。したがって、一回の吐出で上記第1電極上に発光機能層形成材料を含む第1のインク層と発光機能層形成材料を含まない第2のインク層との積層体を形成できる。そして、かかる第2のインク層により、該第1のインク層の乾燥が自然に進行することを抑制して、複数の上記第1のインク層の乾燥を同条件で実施できる。したがって、このような製造方法であれば、吐出工程を増加させることなく、すなわち1回の描画工程(吐出工程)で基板面内における発光機能層々厚の均一性を向上でき、表示品質の向上した大画面の有機EL装置を得ることができる。   Inks formed by mixing two types of inks having different specific gravity are separated by the difference in specific gravity as time passes. Therefore, it is possible to form a laminate of the first ink layer containing the light emitting functional layer forming material and the second ink layer not containing the light emitting functional layer forming material on the first electrode by one ejection. Then, the second ink layer can suppress the drying of the first ink layer, and can dry the plurality of first ink layers under the same conditions. Therefore, with such a manufacturing method, it is possible to improve the uniformity of the thickness of the light emitting functional layers in the substrate surface without increasing the number of discharge processes, that is, in one drawing process (discharge process), and display quality is improved. A large-screen organic EL device can be obtained.

[適用例7]上述の製造方法であって、上記第3の工程は、上記隔壁で囲まれた領域内に、溶質または分散質として発光機能層形成材料を含む第1のインクと、上記第1のインクよりも比重が小さく、かつ、上記第1のインクよりも沸点が高い第2のインクと、を混合してなるインクを吐出する工程であることを特徴とする有機EL装置の製造方法。   Application Example 7 In the manufacturing method described above, in the third step, the first ink containing a light emitting functional layer forming material as a solute or a dispersoid in a region surrounded by the partition walls, A method for producing an organic EL device, comprising: ejecting an ink obtained by mixing a second ink having a specific gravity smaller than that of the first ink and a boiling point higher than that of the first ink. .

このような製造方法であれば、上述の吐出工程が終了するまでの間に、第2のインク層が蒸発して第1のインク層が露出することをより一層抑制できる。したがって、複数の上記第1のインク層の乾燥をより一層好ましい条件で実施でき、より一層表示品質の向上した有機EL装置を得ることができる。   With such a manufacturing method, it is possible to further suppress the evaporation of the second ink layer and the exposure of the first ink layer before the above-described ejection step is completed. Therefore, the plurality of first ink layers can be dried under more preferable conditions, and an organic EL device with further improved display quality can be obtained.

[適用例8]上述の有機EL装置の製造方法であって、上記第1のインクは水を分散媒としており、上記第2のインクは有機系液体であることを特徴とする有機EL装置の製造方法。   Application Example 8 In the above-described organic EL device manufacturing method, the first ink uses water as a dispersion medium, and the second ink is an organic liquid. Production method.

水と有機系液体はあまり溶け合わないため、吐出された後の分離が速やかに進行する。したがって、このような製造方法であれば上記第1のインク層の乾燥をより一層好ましい条件で実施でき、より一層表示品質の向上した有機EL装置を得ることができる。   Since the water and the organic liquid do not dissolve so much, separation after the discharge proceeds rapidly. Therefore, with such a manufacturing method, the first ink layer can be dried under more preferable conditions, and an organic EL device with further improved display quality can be obtained.

[適用例9]透明性基板の一方の面に隔壁を形成して、上記一方の面を底部とし上記隔壁を側壁とする複数の凹部を形成する第1の工程と、上記凹部内に溶質または分散質としての着色材料を含む第1のインクを吐出して第1のインク層を形成する第2の工程と、上記凹部内に上記第1のインクよりも比重が小さい第2のインクを吐出して、上記第1のインク層を覆う第2のインク層を形成する第3の工程と、上記第1のインク層と上記第2のインク層とを乾燥させる第4の工程と、を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。   [Application Example 9] A first step of forming a plurality of recesses having one side as a bottom and the partition as a side wall on one surface of a transparent substrate, and a solute or a solute in the recess A second step of ejecting a first ink containing a coloring material as a dispersoid to form a first ink layer; and a second ink having a specific gravity smaller than that of the first ink in the recess. And a third step of forming a second ink layer covering the first ink layer, and a fourth step of drying the first ink layer and the second ink layer. A method for producing a color filter, comprising:

このような製造方法であれば、凹部内に着色材料を含む第1のインク層と着色材料を含まない第2のインク層との積層体を形成できる。そして、かかる第2のインク層により、複数の上記凹部内に順次第1のインク層を形成した後、第4の工程すなわち第1のインクの乾燥工程にいたる間に、該第1のインク層の乾燥が進行することを抑制できる。したがって、複数の上記第1のインク層の乾燥を同条件で実施できる。そのため、面内における着色材料の層厚の均一性を向上でき、着色性の向上したカラーフィルターを得ることができる。   With such a manufacturing method, a laminate of a first ink layer containing a coloring material and a second ink layer not containing a coloring material can be formed in the recess. Then, after the first ink layer is sequentially formed in the plurality of concave portions by the second ink layer, the first ink layer is formed during the fourth step, that is, the first ink drying step. It is possible to suppress the progress of drying. Therefore, the plurality of first ink layers can be dried under the same conditions. Therefore, the uniformity of the layer thickness of the coloring material in the surface can be improved, and a color filter with improved coloring properties can be obtained.

有機EL装置の全体構成を示す回路構成図。The circuit block diagram which shows the whole structure of an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置の模式断面図。The schematic cross section of an organic electroluminescent apparatus. 第1の実施形態の製造方法を示す工程断面図。Process sectional drawing which shows the manufacturing method of 1st Embodiment. 第1の実施形態の製造方法を示す工程断面図。Process sectional drawing which shows the manufacturing method of 1st Embodiment. 第2の実施形態の製造方法を示す工程断面図。Process sectional drawing which shows the manufacturing method of 2nd Embodiment. 第3の実施形態の製造方法を示す工程断面図。Process sectional drawing which shows the manufacturing method of 3rd Embodiment. カラーフィルターの概要を模式的に示す斜視図。The perspective view which shows the outline | summary of a color filter typically. 第5の実施形態の製造方法を示す工程断面図。Process sectional drawing which shows the manufacturing method of 5th Embodiment. 第4の実施形態の製造方法を示す工程断面図。Process sectional drawing which shows the manufacturing method of 4th Embodiment.

以下、本発明にかかる有機EL装置の製造方法の実施形態について、図面を参照しつつ述べる。なお、以下の各図においては、各層や各部位を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部位の縮尺を実際とは異ならしめてある。   Embodiments of an organic EL device manufacturing method according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each layer and each part is different from the actual scale so that each layer and each part can be recognized on the drawing.

(第1の実施形態)
本実施形態にかかる製造方法を述べる前に、本実施形態にかかる製造方法の対象となる有機EL装置について、図1及び図2を用いて説明する。
(First embodiment)
Before describing the manufacturing method according to this embodiment, an organic EL device that is a target of the manufacturing method according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

図1は、本実施形態の製造方法の対象となる有機EL装置の全体構成を示す回路構成図である。有機EL装置は、表示領域100と該表示領域の周辺部に形成された周辺領域(符号無し)とを備えている。表示領域100には、X方向に延在する複数の走査線103と、Y方向に延在する複数の信号線104と、同じくY方向に延在する複数の容量線106と、が形成されている。   FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing the overall configuration of an organic EL device that is a target of the manufacturing method of the present embodiment. The organic EL device includes a display area 100 and a peripheral area (no symbol) formed in the periphery of the display area. In the display region 100, a plurality of scanning lines 103 extending in the X direction, a plurality of signal lines 104 extending in the Y direction, and a plurality of capacitance lines 106 also extending in the Y direction are formed. Yes.

X方向が信号線104と容量線106とで規定され、Y方向が走査線103の中心線で規定される方形の区画毎に3種類の有機EL画素30(赤色有機EL画素30R、緑色有機EL画素30G、青色有機EL画素30B、)が規則的に形成されている。なお、該アルファベットは各有機EL画素30が射出する光の色を表わしている。図示するように、X方向には該3種類の画素がR,G,Bの順に規則的に形成され、Y方向には同一の色の画素が配置されている。なお、以下の記載において、対応する色を区別しない場合には、単に「有機EL画素30」と称する。   Three types of organic EL pixels 30 (a red organic EL pixel 30R and a green organic EL) are defined for each rectangular section in which the X direction is defined by the signal line 104 and the capacitor line 106 and the Y direction is defined by the center line of the scanning line 103. Pixels 30G and blue organic EL pixels 30B) are regularly formed. The alphabet represents the color of light emitted from each organic EL pixel 30. As shown in the drawing, the three types of pixels are regularly formed in the order of R, G, and B in the X direction, and pixels of the same color are arranged in the Y direction. In the following description, when the corresponding colors are not distinguished, they are simply referred to as “organic EL pixels 30”.

有機EL装置はアクティブマトリクス型の表示装置である。各々の有機EL画素30は、走査線103を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT(薄膜トランジスター)108と、スイッチング用TFT108を介して信号線104から供給される画像信号を保持する保持容量110と、保持容量110によって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用TFT112と、駆動用TFT112を介して容量線106から駆動電流が流れ込む有機EL素子29等からなる。有機EL画素30とは、上述の各要素等で構成される機能的な概念である。   The organic EL device is an active matrix display device. Each organic EL pixel 30 holds a switching TFT (thin film transistor) 108 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 103 and an image signal supplied from the signal line 104 via the switching TFT 108. The storage capacitor 110, the driving TFT 112 to which the image signal held by the storage capacitor 110 is supplied to the gate electrode, the organic EL element 29 in which the driving current flows from the capacitor line 106 through the driving TFT 112, and the like. The organic EL pixel 30 is a functional concept including the above-described elements.

周辺領域には、走査線駆動回路120、及び信号線駆動回路130が形成されている。走査線駆動回路120は、図示しない外部回路より供給される各種信号に応じて、走査線103に走査信号を順次供給する。信号線駆動回路130は、信号線104に画像信号を供給する。容量線106には、図示しない外部回路から画素駆動電流が供給される。走査線駆動回路120の動作と信号線駆動回路130の動作とは、同期信号線140を介して外部回路から供給される同期信号により相互に同期が図られている。   In the peripheral region, a scanning line driving circuit 120 and a signal line driving circuit 130 are formed. The scanning line driving circuit 120 sequentially supplies scanning signals to the scanning lines 103 in accordance with various signals supplied from an external circuit (not shown). The signal line driver circuit 130 supplies an image signal to the signal line 104. A pixel driving current is supplied to the capacitor line 106 from an external circuit (not shown). The operation of the scanning line driving circuit 120 and the operation of the signal line driving circuit 130 are synchronized with each other by a synchronization signal supplied from an external circuit via the synchronization signal line 140.

走査線103が駆動されスイッチング用TFT108がオン状態になると、その時点の信号線104の電位が保持容量110に保持され、保持容量110の状態に応じて駆動用TFT112のレベルが決まる。そして、駆動用TFT112を介して容量線106から有機EL素子29に駆動電流が流れ込む。有機EL素子29は一対の電極間に少なくとも有機EL層42(図2参照)を含む発光機能層44(図2参照)を備えてなり、流れ込む駆動電流の大きさに応じて発光する。かかる発光の色は、該有機EL層の材料によって定められる。   When the scanning line 103 is driven and the switching TFT 108 is turned on, the potential of the signal line 104 at that time is held in the holding capacitor 110, and the level of the driving TFT 112 is determined according to the state of the holding capacitor 110. Then, a drive current flows from the capacitor line 106 into the organic EL element 29 via the drive TFT 112. The organic EL element 29 includes a light emitting functional layer 44 (see FIG. 2) including at least the organic EL layer 42 (see FIG. 2) between a pair of electrodes, and emits light according to the magnitude of the drive current flowing in. The color of the light emission is determined by the material of the organic EL layer.

図2は、形成中の有機EL装置、具体的には有機EL素子29が形成された段階の有機EL装置のY方向における断面を模式的に示す図である。上述の3種類の有機EL画素30の各々が備える、有機EL素子29と駆動用TFT(以下、「TFT」と称する。)112の断面を示している。本図では、スイッチング用TFT108と保持容量110については図示を省略している。また、第2電極としての陰極(共通電極)47のZ(−)方向に形成されるパシベーション層等の各層、及び、素子基板10とともに有機EL素子を挟持する対向基板についても図示を省略している。以下、素子基板10側から順に説明する。なお、以下の記述において上記の方向を「上方」、「上」あるいは「上層」と称する。   FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section in the Y direction of the organic EL device being formed, specifically, the organic EL device at the stage where the organic EL element 29 is formed. A cross section of an organic EL element 29 and a driving TFT (hereinafter referred to as “TFT”) 112 provided in each of the three types of organic EL pixels 30 is shown. In this figure, the switching TFT 108 and the storage capacitor 110 are not shown. Also, the illustration of the respective layers such as the passivation layer formed in the Z (−) direction of the cathode (common electrode) 47 as the second electrode and the counter substrate sandwiching the organic EL element together with the element substrate 10 is omitted. Yes. Hereinafter, description will be made in order from the element substrate 10 side. In the following description, the above direction is referred to as “upward”, “upper”, or “upper layer”.

TFT112は素子基板10上に形成されている。なお、素子基板10との界面に別途保護層を形成してもよい。TFT112は、半導体層31、ゲート電極33、及び、半導体層31とゲート電極33との間に形成されたゲート絶縁層70等からなる。半導体層31のうちゲート電極33と重なる領域がチャネル領域38であり、該チャネル領域の両側にソース領域35とドレイン領域36とが形成されている。   The TFT 112 is formed on the element substrate 10. A separate protective layer may be formed at the interface with the element substrate 10. The TFT 112 includes a semiconductor layer 31, a gate electrode 33, and a gate insulating layer 70 formed between the semiconductor layer 31 and the gate electrode 33. A region of the semiconductor layer 31 that overlaps with the gate electrode 33 is a channel region 38, and a source region 35 and a drain region 36 are formed on both sides of the channel region.

TFT112の上層には、窒化シリコン、又は酸化シリコンからなる層間絶縁層71が形成されている。ソース領域35は、層間絶縁層71を局所的にエッチングして形成されたコンタクトホール(符号無し)を介してソース電極53と電気的に接続されており、同様にドレイン領域36は層間絶縁層71を局所的にエッチングして形成されたコンタクトホール(符号無し)を介してドレイン電極54と電気的に接続されている。ソース電極53とドレイン電極54との上層には、窒化シリコンからなる平坦化層72が配置されている。そして、平坦化層72の上層における所定の領域には、反射層48と保護層74とが形成され、さらに該反射層と該保護層の積層体を覆うように第1電極としての画素電極(陽極)45が形成されている。   An interlayer insulating layer 71 made of silicon nitride or silicon oxide is formed on the TFT 112. The source region 35 is electrically connected to the source electrode 53 through a contact hole (without reference numeral) formed by locally etching the interlayer insulating layer 71. Similarly, the drain region 36 is connected to the interlayer insulating layer 71. Is electrically connected to the drain electrode 54 through a contact hole (not shown) formed by locally etching the electrode. A planarizing layer 72 made of silicon nitride is disposed on the source electrode 53 and the drain electrode 54. A reflective layer 48 and a protective layer 74 are formed in a predetermined region in the upper layer of the planarizing layer 72, and further, a pixel electrode (first electrode) is formed so as to cover the laminate of the reflective layer and the protective layer. Anode) 45 is formed.

画素電極45は、陰極47よりも仕事関数が高く、かつ、導電性を有していることが必要である。本実施形態にかかる有機EL装置では、画素電極45を透明導電材料であるITO(酸化インジウム・錫合金)で形成されている。そして、本実施形態にかかる有機EL装置は上方向に光を射出するトップエミッション型であるため、該方向に向けて光を反射する反射層48が配置されている。なお、画素電極45を反射性の金属材料で形成した場合、反射層48は必要とされない。反射層48は、Al(アルミニウム)等で形成することが好ましい。保護層74は窒化シリコン等からなり、画素電極45の形成時に反射層48を保護する機能を果たしている。   The pixel electrode 45 needs to have a work function higher than that of the cathode 47 and have conductivity. In the organic EL device according to the present embodiment, the pixel electrode 45 is made of ITO (indium tin oxide alloy) which is a transparent conductive material. Since the organic EL device according to the present embodiment is a top emission type that emits light in the upward direction, a reflective layer 48 that reflects light in the direction is disposed. Note that when the pixel electrode 45 is formed of a reflective metal material, the reflective layer 48 is not required. The reflective layer 48 is preferably formed of Al (aluminum) or the like. The protective layer 74 is made of silicon nitride or the like, and functions to protect the reflective layer 48 when the pixel electrode 45 is formed.

隣り合う画素電極45間には、平面視で該画素電極を囲むように隔壁77が配置されている。該隔壁で囲まれた領域が凹部75である。隔壁77は、素子基板側の下部隔壁78と、その上層の上部隔壁79とからなる。後述するように下部隔壁78は酸化シリコンからなり、上部隔壁79はアクリル樹脂等の有機材料からなる。   A partition wall 77 is disposed between the adjacent pixel electrodes 45 so as to surround the pixel electrodes in plan view. A region surrounded by the partition wall is a recess 75. The partition wall 77 includes a lower partition wall 78 on the element substrate side and an upper partition wall 79 as an upper layer. As will be described later, the lower partition 78 is made of silicon oxide, and the upper partition 79 is made of an organic material such as acrylic resin.

凹部75内には、正孔注入輸送層43と有機EL層42とが順に形成されている。正孔注入輸送層43は、3種類の有機EL画素30間で共通である。一方、有機EL層は、3種類の有機EL画素30毎にそれぞれ異なる材料を含み、それぞれ異なる色の光を発光する層が形成されている。具体的には、赤色有機EL画素30Rには赤色光を発光する赤色有機EL層42Rが形成され、緑色有機EL画素30Gには緑色光を発光する緑色有機EL層42Gが形成され、青色有機EL画素30Bには青色光を発光する青色有機EL層42Bが形成されている。なお、以下の記載において、発光する光の色を区別しない場合は、総称として、単に「有機EL層42」と称する。また以下の記述において、他の構成要素についてもR,G,Bのいずれかの符号を付加した場合は、該色(R=赤、G=緑、B=青)に対応する構成要素であるものとする。   In the recess 75, the hole injection transport layer 43 and the organic EL layer 42 are formed in this order. The hole injection transport layer 43 is common among the three types of organic EL pixels 30. On the other hand, the organic EL layer includes different materials for each of the three types of organic EL pixels 30, and layers that emit light of different colors are formed. Specifically, a red organic EL layer 42R that emits red light is formed in the red organic EL pixel 30R, a green organic EL layer 42G that emits green light is formed in the green organic EL pixel 30G, and a blue organic EL A blue organic EL layer 42B that emits blue light is formed in the pixel 30B. In the following description, when the color of emitted light is not distinguished, it is simply referred to as “organic EL layer 42” as a general term. In addition, in the following description, when any of R, G, and B is added to other components, they are components corresponding to the color (R = red, G = green, B = blue). Shall.

正孔注入輸送層43と有機EL層42との積層体が発光機能層44である。すなわち、上述の2層は凹部内に局所的に形成されている。そして、陰極47は、該2層の上層及び隔壁77の上層を含む素子基板10の上層全面に形成されている。有機EL素子29は、画素電極45と陰極47、及び該一対の電極間に挟持される上述の発光機能層44とからなる。正孔注入輸送層43を介して供給された正孔と陰極47から供給された電子とが有機EL層内で結合する際に発光が生じている。そして該発光の一部は直接的に、一部は反射層48で反射されて陰極47の方向に射出される。なお、陰極47は、層厚数nm〜十数nmのAl(アルミニウム)あるいはMgAg(マグネシウム・銀)合金等で形成されており導電性と透明性の双方を有している。   A laminate of the hole injection transport layer 43 and the organic EL layer 42 is the light emitting functional layer 44. That is, the two layers described above are locally formed in the recess. The cathode 47 is formed on the entire upper surface of the element substrate 10 including the upper layer of the two layers and the upper layer of the partition wall 77. The organic EL element 29 includes a pixel electrode 45, a cathode 47, and the above-described light emitting functional layer 44 sandwiched between the pair of electrodes. Light emission occurs when the holes supplied through the hole injection / transport layer 43 and the electrons supplied from the cathode 47 are combined in the organic EL layer. A part of the light emission is directly reflected, and part of the light is reflected by the reflection layer 48 and emitted toward the cathode 47. The cathode 47 is made of Al (aluminum) or MgAg (magnesium / silver) alloy having a layer thickness of several nm to several tens of nm, and has both conductivity and transparency.

各有機EL画素30が射出する光の色は有機EL層42の形成材料で決まるため、該形成材料は、上記有機EL画素間で異なっている。一方、正孔注入輸送層の形成材料は、各有機EL画素30で共通である。なお、正孔注入輸送層43を正孔注入層と正孔輸送層とに分けて形成する態様もある。また、陰極47と有機EL層42との間に電子輸送層あるいは電子注入層を形成する態様もある。   Since the color of light emitted from each organic EL pixel 30 is determined by the forming material of the organic EL layer 42, the forming material differs between the organic EL pixels. On the other hand, the material for forming the hole injecting and transporting layer is common to each organic EL pixel 30. In addition, there is also an embodiment in which the hole injection / transport layer 43 is formed by being divided into a hole injection layer and a hole transport layer. There is also an aspect in which an electron transport layer or an electron injection layer is formed between the cathode 47 and the organic EL layer 42.

上述したように、正孔注入輸送層43と有機EL層42とは、凹部75内に局所的に形成されている。かかる局所的な層の形成を、本実施形態にかかる製造方法ではインクジェット法で行っている。インクジェット法とは、固形成分を溶媒または分散媒に溶解または分散させた液体材料を吐出した後、該溶媒または分散媒を乾燥除去することで、上記固形成分からなる層を形成する手法である。本実施形態、及び後述する各実施形態においては、上述の固形成分を含有する液体材料と、固形成分を含有しない液体のみの材料を、共に「インク」と称している。   As described above, the hole injection transport layer 43 and the organic EL layer 42 are locally formed in the recess 75. Such a local layer is formed by the ink jet method in the manufacturing method according to the present embodiment. The inkjet method is a method of forming a layer made of the solid component by discharging a liquid material in which a solid component is dissolved or dispersed in a solvent or a dispersion medium, and then drying and removing the solvent or the dispersion medium. In the present embodiment and each embodiment described later, the liquid material containing the above-described solid component and the liquid-only material not containing the solid component are both referred to as “ink”.

インクジェット法は、フォトリソグラフィー法等に比較して低コストで局所的な層形成(すなわちパターニング)が可能な方法である。しかし上述したように、溶媒(または分散媒)の乾燥速度(時間)の差(ばらつき)に起因する層厚の均一性の低下という問題がある。本実施形態にかかる製造方法は、以下に示すように、上述の凹部内にインクを2層形成した後に上述の乾燥除去を行うことで、層厚の均一性を向上させている。   The ink jet method is a method capable of forming a local layer (that is, patterning) at a lower cost than a photolithography method or the like. However, as described above, there is a problem that the uniformity of the layer thickness is reduced due to the difference (variation) in the drying speed (time) of the solvent (or dispersion medium). In the manufacturing method according to this embodiment, as shown below, the two layers of ink are formed in the above-described recesses, and then the above-described drying and removal are performed, thereby improving the uniformity of the layer thickness.

図3(a)〜(d)及び図4(a)〜(d)は、本発明の第1の実施形態の製造方法を示す工程断面図である。以下、工程順に述べる。   3A to 3D and FIGS. 4A to 4D are process cross-sectional views illustrating the manufacturing method of the first embodiment of the present invention. Hereinafter, it will be described in the order of steps.

まず、図3(a)に示すように、第1の工程として、素子基板10上(上層)に画素電極45を形成する。なお、本図及び図4〜図6においては、素子基板10と画素電極45の間に形成されているTFT112(図2参照)、反射層48(図2参照)等の各構成要素は図示を省略して、素子基板10上に画素電極45及び隔壁77が形成されるように図示している。画素電極45は、上述したようにITOからなり、ITOの薄膜をスパッタ法等で形成後、フォトリソグラフィー法でパターニングして形成される。   First, as shown in FIG. 3A, as a first step, the pixel electrode 45 is formed on the element substrate 10 (upper layer). In FIG. 4 and FIGS. 4 to 6, the components such as the TFT 112 (see FIG. 2) and the reflective layer 48 (see FIG. 2) formed between the element substrate 10 and the pixel electrode 45 are not shown. The illustration is such that the pixel electrode 45 and the partition wall 77 are formed on the element substrate 10 and omitted. The pixel electrode 45 is made of ITO as described above, and is formed by forming a thin ITO film by sputtering or the like and then patterning by photolithography.

次に、図3(b)に示すように、第2の工程として平面視で画素電極45を囲むように隔壁77を形成する。画素電極45は平面視で互いに所定の距離を有する島状にパターニングされている。したがって、隔壁77を形成することにより、画素電極45上に該画素電極を底部(底面)とし隔壁77を側壁(側面)とする、凹部75が形成される。上述したように、本実施形態の隔壁77は、酸化シリコンからなる下部隔壁78とアクリル樹脂からなる上部隔壁79との2層構造である。しかし、隔壁77は2層構造を必須とするものではない。単層の隔壁77を用いても、本発明の実施は可能である。   Next, as shown in FIG. 3B, a partition wall 77 is formed so as to surround the pixel electrode 45 in a plan view as a second step. The pixel electrodes 45 are patterned in an island shape having a predetermined distance from each other in plan view. Therefore, by forming the partition wall 77, a recess 75 is formed on the pixel electrode 45 with the pixel electrode as a bottom (bottom surface) and the partition wall 77 as a side wall (side surface). As described above, the partition wall 77 of this embodiment has a two-layer structure of the lower partition wall 78 made of silicon oxide and the upper partition wall 79 made of acrylic resin. However, the partition wall 77 does not necessarily have a two-layer structure. The present invention can also be implemented using a single-layer partition wall 77.

下部隔壁78は、CVD法等で形成された酸化シリコン薄膜をフォトリソグラフィー法でパターニングすることで形成される。上部隔壁79も、スピンコート等法で形成されたアクリル樹脂の薄膜を、同様にフォトリソグラフィー法でパターニングすることで形成される。ここで、アクリル樹脂に感光性のアクリル樹脂を用い場合、レジスト塗布工程を省略できる。   The lower partition 78 is formed by patterning a silicon oxide thin film formed by a CVD method or the like by a photolithography method. The upper partition wall 79 is also formed by patterning an acrylic resin thin film formed by spin coating or the like by photolithography. Here, when a photosensitive acrylic resin is used for the acrylic resin, the resist coating step can be omitted.

次に、図3(c)に示すように、素子基板10上全面にCF4プラズマ17を照射する。かかる照射により、上部隔壁79を構成するアクリル樹脂に含まれる炭素とプラズマ中のフロンとが反応して、フッ化炭素樹脂となる。その結果、上部隔壁79の表面が撥液性となる。 Next, as shown in FIG. 3C, the entire surface of the element substrate 10 is irradiated with CF 4 plasma 17. By such irradiation, carbon contained in the acrylic resin constituting the upper partition 79 reacts with chlorofluorocarbon in the plasma to become a fluorocarbon resin. As a result, the surface of the upper partition wall 79 becomes liquid repellent.

次に、図3(d)に示すように、素子基板10上全面に酸素プラズマ18を照射する。かかる照射により、画素電極45の表面及び下部隔壁78の表面に残留している有機系の残渣が除去される。その結果、該表面が親液性となる。
なお、上述の双方のプラズマ照射工程のうちの少なくとも一方を省略して、工程を簡略化することもできる。
Next, as shown in FIG. 3D, the entire surface of the element substrate 10 is irradiated with oxygen plasma 18. By such irradiation, organic residues remaining on the surface of the pixel electrode 45 and the surface of the lower partition 78 are removed. As a result, the surface becomes lyophilic.
In addition, the process can be simplified by omitting at least one of the both plasma irradiation processes described above.

次に、図4(a)に示すように、第3の工程として、インクジェットヘッド19から、凹部75内に第1のインクとしての正孔注入輸送材料液21の液滴を吐出(滴下)して、凹部75内に該第1のインクからなる液層である第1のインク層11を形成する。インクジェットヘッド19は液滴吐出面に微小なノズル孔を複数有しており、ピエゾ圧電効果により該ノズル孔から微小なインクの液滴を吐出できる。   Next, as shown in FIG. 4A, as a third step, a droplet of the hole injection transport material liquid 21 as the first ink is ejected (dropped) from the inkjet head 19 into the recess 75. Thus, the first ink layer 11 that is a liquid layer made of the first ink is formed in the recess 75. The inkjet head 19 has a plurality of minute nozzle holes on the droplet discharge surface, and can discharge a minute ink droplet from the nozzle hole by the piezoelectric effect.

正孔注入輸送材料液21は、正孔注入輸送層の形成材料であるPEDOT/PSSを、分散媒としての水に分散した液材(液体材料)である。正孔注入輸送材料液21の主成分は水であり、分散質であるPEDOT/PSSの量(濃度)はわずかである。したがって、第1のインクの比重は略1.0となる。また、第1のインクの沸点は、該インクの溶媒または分散媒の沸点と考えることができるため、水は沸点すなわち略100℃となる。   The hole injection / transport material liquid 21 is a liquid material (liquid material) in which PEDOT / PSS, which is a material for forming the hole injection / transport layer, is dispersed in water as a dispersion medium. The main component of the hole injecting and transporting material liquid 21 is water, and the amount (concentration) of PEDOT / PSS as a dispersoid is small. Therefore, the specific gravity of the first ink is approximately 1.0. In addition, since the boiling point of the first ink can be considered as the boiling point of the solvent or dispersion medium of the ink, water has a boiling point, that is, approximately 100 ° C.

後述する各実施形態において、第1のインクは正孔注入輸送材料液21と同様に溶質あるいは分散質を含んでいる。しかし、沸点及び比重は、該溶質等にかかわらず溶媒または分散媒の沸点及び比重をそのまま用いるものとする。また、インク(第1のインク及び後述する第2のインク)が2種類の液体を含む場合でも、比重は加重平均で算出できる。そして沸点は、主成分となる液体の数値を用いることができる。   In each embodiment to be described later, the first ink contains a solute or a dispersoid like the hole injection transport material liquid 21. However, the boiling point and specific gravity of the solvent or dispersion medium are used as they are regardless of the solute and the like. Further, even when the ink (the first ink and the second ink described later) contains two types of liquid, the specific gravity can be calculated by a weighted average. As the boiling point, the numerical value of the liquid as the main component can be used.

インクジェットヘッド19の液滴吐出面の面積が素子基板10の面積と同等以上である場合は、すべての凹部75内に同時に液滴を吐出できる。しかし、上述の液滴吐出面の面積が素子基板10の面積よりも小さい場合は、インクジェットヘッド19を走査させつつ液滴を吐出して、各凹部75内に順次インク層を形成する。本図は、かかる場合を示している。破線または実線の矢印に示すようにインクジェットヘッド19を走査させて、順次インク層(第1のインク層11)を形成している。   When the area of the droplet discharge surface of the inkjet head 19 is equal to or larger than the area of the element substrate 10, the droplets can be discharged into all the recesses 75 simultaneously. However, when the area of the above-described droplet discharge surface is smaller than the area of the element substrate 10, droplets are discharged while the inkjet head 19 is scanned to sequentially form ink layers in the recesses 75. This figure shows such a case. The ink-jet head 19 is scanned as indicated by broken or solid arrows to sequentially form ink layers (first ink layer 11).

次に、図4(b)に示すように、第4の工程として、凹部75内に第2のインクとしてのシクロヘキシルベンゼン22の液滴を吐出(滴下)して、凹部75内に形成されている第1のインク層11の上層に、第2のインクとしてのシクロヘキシルベンゼン22からなる第2のインク層12を形成する。第1のインクと異なり、第2のインクは溶質あるいは分散質を含んでいない。すなわち、第2のインクは液体のみからなる。なお、本工程は、上述の第3の工程を実施後に時間を空けずに即座に実施することが必要である。   Next, as shown in FIG. 4B, as a fourth step, a droplet of cyclohexylbenzene 22 as the second ink is ejected (dropped) into the recess 75 to be formed in the recess 75. A second ink layer 12 made of cyclohexylbenzene 22 as a second ink is formed on the first ink layer 11. Unlike the first ink, the second ink contains no solute or dispersoid. That is, the second ink consists only of liquid. In addition, it is necessary to implement this process immediately without leaving time after implementing the above-mentioned 3rd process.

第2のインクとしては、比重が第1のインクの比重よりも小さいことが必要である。また、沸点が第1のインクの沸点よりも高いことが好ましい。シクロヘキシルベンゼンは、沸点が略240℃で比重が略0.94である。したがって、上述の条件を双方とも満たしている。   The second ink needs to have a specific gravity smaller than that of the first ink. Moreover, it is preferable that the boiling point is higher than the boiling point of the first ink. Cyclohexylbenzene has a boiling point of approximately 240 ° C. and a specific gravity of approximately 0.94. Therefore, both the above conditions are satisfied.

また、第2のインクは上述のシクロヘキシルベンゼンに限定されることはなく、比重が水よりも小さい非水系有機溶媒(非水系有機液体)であれば使用可能である。沸点については、第2のインクの沸点が第1のインクの沸点よりも高いことは必ずしも必要ではない。したがって、比重が水の比重すなわち1.0よりも小さければ、沸点が100℃以下の非水系有機溶媒を用いることもできる。   The second ink is not limited to the above-described cyclohexylbenzene, and any nonaqueous organic solvent (nonaqueous organic liquid) having a specific gravity smaller than that of water can be used. Regarding the boiling point, it is not always necessary that the boiling point of the second ink is higher than that of the first ink. Therefore, if the specific gravity is smaller than the specific gravity of water, that is, 1.0, a non-aqueous organic solvent having a boiling point of 100 ° C. or less can be used.

第2のインクとしてのシクロヘキシルベンゼン22も、正孔注入輸送材料液21と同様に吐出される。すなわち、インクジェットヘッド19の液滴吐出面の面積が素子基板10の面積よりも小さい場合は、インクジェットヘッド19を走査させつつ液滴を吐出して、各凹部75内に順次第2のインク層12を形成する。かかる場合において、素子基板10上の全ての凹部75内に第1のインクとしての正孔注入輸送材料液21からなる第1のインク層11が形成される前に、第2のインクとしてのシクロヘキシルベンゼン22の吐出を開始しても構わない。   The cyclohexyl benzene 22 as the second ink is also ejected in the same manner as the hole injection transport material liquid 21. That is, when the area of the droplet discharge surface of the inkjet head 19 is smaller than the area of the element substrate 10, the droplets are discharged while the inkjet head 19 is scanned, and the second ink layer 12 is sequentially inserted into each recess 75. Form. In such a case, cyclohexyl as the second ink is formed before the first ink layer 11 made of the hole injection / transport material liquid 21 as the first ink is formed in all the recesses 75 on the element substrate 10. The discharge of benzene 22 may be started.

上述したように、第2のインクは、第1のインクの吐出後即座に吐出される必要がある。したがって、第1のインクを吐出するインクジェットヘッド19と第2のインクを吐出するインクジェットヘッド19とを同時に駆動して、個々の凹部75に対して第3の工程と第4の工程との2工程を連続して、すなわちできる限り時間を空けずに実施することとなる。すなわち、第3の工程の後に第4の工程を実施するということは個々の凹部75についてのことであり、素子基板10全体に関しては、第3の工程と第4の工程とが同時に実施されていてもよい。かかる場合、素子基板10上には、第1のインク層11と第2のインク層12の双方が形成された凹部75と、第1のインク層11が形成され第2のインク層12は未形成の凹部75と、第1のインク層11も未形成の凹部75の、夫々異なる段階(状態)の凹部75が混在することとなる。   As described above, the second ink needs to be ejected immediately after the first ink is ejected. Therefore, the ink jet head 19 that ejects the first ink and the ink jet head 19 that ejects the second ink are simultaneously driven to perform the two steps of the third step and the fourth step with respect to the individual recesses 75. Are carried out continuously, that is, with as little time as possible. That is, performing the fourth step after the third step is for each recess 75, and the third step and the fourth step are performed simultaneously for the entire element substrate 10. May be. In such a case, on the element substrate 10, the recess 75 in which both the first ink layer 11 and the second ink layer 12 are formed, and the first ink layer 11 is formed and the second ink layer 12 is not yet formed. The formed concave portions 75 and the concave portions 75 in which the first ink layer 11 is not formed are mixed with the concave portions 75 in different stages (states).

また、第1のインクと第2のインクは、異なるインクジェットヘッド19を用いて吐出するとは限らない。インクの供給系を2組備えたインクジェットヘッド19を用いて、第1のインクと第2のインクとを、夫々異なるノズルから連続して吐出することもできる。   Further, the first ink and the second ink are not necessarily ejected using different ink jet heads 19. Using the inkjet head 19 provided with two sets of ink supply systems, the first ink and the second ink can be successively ejected from different nozzles.

図4(c)は、第3の工程と第4の工程との双方の工程が終了した時点の態様を示す図である。凹部75内には、第1のインクとしての正孔注入輸送材料液21からなる第1のインク層11と第2のインクとしてのシクロヘキシルベンゼン22からなる第2のインク層12とが重なって形成されている。   FIG.4 (c) is a figure which shows the aspect at the time of complete | finishing both the process of a 3rd process and a 4th process. In the recess 75, the first ink layer 11 made of the hole injection / transport material liquid 21 as the first ink and the second ink layer 12 made of cyclohexylbenzene 22 as the second ink are formed to overlap each other. Has been.

かかる状態において、第2のインクは第1のインクよりも比重が小さいため、上述の2つのインク層が交じり合うことは抑制される。また、第2のインクは沸点が高いため、常温常圧時における蒸発すなわち自然乾燥は抑制されている。したがって、第2のインク層12に覆われている第1のインク層11は、沸点が比較的低い液材からなるにもかかわらず、蒸発が抑制されている。   In this state, the second ink has a specific gravity smaller than that of the first ink, so that the above-described two ink layers are prevented from intermingling. In addition, since the second ink has a high boiling point, evaporation at room temperature and normal pressure, that is, natural drying is suppressed. Therefore, although the first ink layer 11 covered with the second ink layer 12 is made of a liquid material having a relatively low boiling point, evaporation is suppressed.

次に、図4(d)に示すように、第5の工程として、第1のインクの分散媒である水、及び第2のインクとしてのシクロヘキシルベンゼン22を乾燥除去する。その結果、凹部75内、すなわち画素電極45の上層に、第1のインクの分散質であったPEDOT/PSSの層が形成される。かかる層が、正孔注入輸送層43である。上記乾燥は減圧により蒸発を促進させることで行う。具体的には、スクロールポンプで4×10-4Paの気圧を保ちつつ20分間乾燥させる。なお、上述の乾燥除去の条件は上記の数値に限定されるものではなく、また、加熱と減圧を組み合わせてもよい。 Next, as shown in FIG. 4D, as the fifth step, water that is the dispersion medium of the first ink and cyclohexylbenzene 22 that is the second ink are removed by drying. As a result, a PEDOT / PSS layer that is a dispersoid of the first ink is formed in the recess 75, that is, in the upper layer of the pixel electrode 45. Such a layer is the hole injection transport layer 43. The drying is performed by promoting evaporation by reducing the pressure. Specifically, it is dried for 20 minutes while maintaining a pressure of 4 × 10 −4 Pa with a scroll pump. The dry removal conditions described above are not limited to the above numerical values, and heating and reduced pressure may be combined.

本実施形態によれば、将来的に正孔注入輸送層43となる正孔注入輸送材料液の液層、すなわち第1のインク層11は、第5の工程すなわち乾燥除去工程に至るまでの時間、第2のインク層12で覆われることとなる。そのため、上述の時間中、該第1のインク層は自然乾燥が抑制される。そして第5の工程において、素子基板10上の全域で同時かつ略同等の条件で乾燥が開始される。個々の凹部75内においても同様であり、平面視で隔壁77に近い領域と(凹部75の)中央部との双方の領域において、第1のインク層11の乾燥は同時かつ略同等の条件で開始される。   According to the present embodiment, the liquid layer of the hole injecting and transporting material liquid that will become the hole injecting and transporting layer 43 in the future, that is, the first ink layer 11 is the time until the fifth step, that is, the dry removal step. Then, it is covered with the second ink layer 12. Therefore, natural drying of the first ink layer is suppressed during the above-described time. In the fifth step, drying is started on the entire area of the element substrate 10 at the same time and under substantially the same conditions. The same applies to the individual recesses 75, and the drying of the first ink layer 11 is performed simultaneously and substantially under the same conditions in both the region close to the partition wall 77 and the central portion (of the recess 75) in plan view. Be started.

上述したように、乾燥条件の差に伴う乾燥時間のばらつきは、該乾燥によって形成される薄膜の層厚の均一性を低下させる。そして、かかる均一性の低下は、有機EL装置の表示品質を低下させる。本実施形態の製造方法によれば、第1のインク層11を、液滴の吐出から乾燥除去工程が開始されるまでの間、第2のインク層12で覆うことにより表面を露出させず維持できるため、乾燥時間(乾燥条件)のばらつきを低減できる。したがって、本実施形態の製造方法によれば、正孔注入輸送層43の層厚の均一性が高く表示品質が向上した有機EL装置を得ることができる。   As described above, the variation in the drying time due to the difference in the drying conditions reduces the uniformity of the thickness of the thin film formed by the drying. Such a decrease in uniformity reduces the display quality of the organic EL device. According to the manufacturing method of the present embodiment, the first ink layer 11 is covered with the second ink layer 12 so as not to expose the surface until the drying and removal process is started from the discharge of the droplets. Therefore, variation in drying time (drying conditions) can be reduced. Therefore, according to the manufacturing method of the present embodiment, it is possible to obtain an organic EL device in which the thickness of the hole injection transport layer 43 is highly uniform and the display quality is improved.

なお、第2のインク層12の層厚は、素子基板10上の全面において同一である必要はなく、適宜変化をつけてもよい。上述の第5の工程、すなわち溶媒あるいは分散媒の乾燥除去工程において、第2のインク層12に覆われた状態でも第1のインク層11の乾燥は始まっているが、本格的な乾燥は第2のインク層12が除去された後に進行する。したがって、第1のインク層11の乾燥が、素子基板10の面内において同条件で行われるためには、第2のインク層12の乾燥除去が素子基板10の面内で同時に終了していることが必要となる。   The layer thickness of the second ink layer 12 does not need to be the same over the entire surface of the element substrate 10 and may be changed as appropriate. In the fifth step, that is, the solvent or dispersion medium drying and removing step, the drying of the first ink layer 11 is started even in the state of being covered with the second ink layer 12, but the full-scale drying is the first. The process proceeds after the second ink layer 12 is removed. Therefore, in order for the drying of the first ink layer 11 to be performed under the same conditions in the plane of the element substrate 10, the drying and removal of the second ink layer 12 is simultaneously completed in the plane of the element substrate 10. It will be necessary.

一方で、第2のインク層12の表面は常に露出しているため、吐出された直後から自然乾燥が生じている。したがって、インクジェットヘッド19の液滴吐出面の面積が素子基板10の面積に比べて小さい場合は、初期に形成される第2のインク層12の層厚は厚めにして、第4の工程すなわち第2のインク層12の形成工程が進行するにつれて序々に薄くすることで、第5の工程すなわち乾燥除去工程が開始される時点における第2のインク層12の層厚の面内均一性を向上できる。その結果、層厚の均一性がより一層向上した正孔注入輸送層43を形成でき、表示品質がより一層向上した有機EL装置を得ることができる。   On the other hand, since the surface of the second ink layer 12 is always exposed, natural drying occurs immediately after ejection. Therefore, when the area of the droplet discharge surface of the inkjet head 19 is smaller than the area of the element substrate 10, the thickness of the second ink layer 12 that is initially formed is increased, and the fourth step, that is, By gradually reducing the thickness of the second ink layer 12 as the formation process proceeds, the in-plane uniformity of the thickness of the second ink layer 12 at the time when the fifth process, that is, the dry removal process is started can be improved. . As a result, it is possible to form the hole injecting and transporting layer 43 with further improved layer thickness uniformity, and to obtain an organic EL device with further improved display quality.

また、素子基板10の面内において、外側に位置する凹部75に形成される第2のインク層12は層厚を厚めにして、中央部に位置する凹部75に形成される第2のインク層12は層厚を薄めにしてもよい。第2のインク層12の形成が終了後、乾燥除去工程が開始されるまでの間に、第2のインク層12は自然乾燥が進行する。その場合、第2のインク(本実施形態においてはシクロヘキシルベンゼン)の蒸気密度は中央部の方が高くなる。そのため、該自然乾燥は、該中央部においては進行速度が低下する。   Further, the second ink layer 12 formed in the concave portion 75 located outside in the plane of the element substrate 10 is thickened, and the second ink layer formed in the concave portion 75 located in the central portion. No. 12 may be made thinner. After the formation of the second ink layer 12 is completed, the second ink layer 12 is naturally dried before the drying and removal step is started. In that case, the vapor density of the second ink (in this embodiment, cyclohexylbenzene) is higher in the central portion. Therefore, the rate of progress of the natural drying decreases at the central portion.

かかる場合において、素子基板10の中央部における第2のインク層12の層厚を薄めにすることにより、自然乾燥速度の低下を相殺できる。したがって、乾燥除去工程を開始する時点の層厚を均一化できる。その結果、第1のインク層11の乾燥条件をより一層均一化でき、表示品質がより一層向上した有機EL装置を得ることができる。   In such a case, the decrease in the natural drying rate can be offset by reducing the thickness of the second ink layer 12 at the center of the element substrate 10. Therefore, the layer thickness at the time of starting the dry removal process can be made uniform. As a result, the drying conditions of the first ink layer 11 can be made more uniform, and an organic EL device with further improved display quality can be obtained.

本実施形態では、第1のインクとしての正孔注入輸送材料液21の分散媒として水と第2のインクとしての非水系有機溶媒であるシクロヘキシルベンゼン22とを組み合わせている。しかしインクに用いる液体はかかる組み合わせに限定されるものではなく、第1のインクの溶媒としての非水系有機溶媒(有機系液体)と第2のインクとしての水(あるいは水系溶媒)との組み合わせも可能である。また、双方を非水系有機溶媒とすることもできる。ただし、双方を水(あるいは水系溶媒)とすることは比重が略同一となるので用いることはできない。   In the present embodiment, water and cyclohexylbenzene 22 which is a non-aqueous organic solvent as the second ink are combined as a dispersion medium for the hole injection and transport material liquid 21 as the first ink. However, the liquid used in the ink is not limited to such a combination, and a combination of a non-aqueous organic solvent (organic liquid) as the solvent of the first ink and water (or an aqueous solvent) as the second ink is also possible. Is possible. Moreover, both can also be used as a non-aqueous organic solvent. However, it is not possible to use water (or an aqueous solvent) for both because the specific gravity is substantially the same.

本実施形態では、第1のインクの分散媒としての水に、水よりも比重が軽く沸点が高いシクロヘキシルベンゼン22を、第2のインクとして組み合わせている。しかし、第2のインクの沸点は、必ずしも第1のインクの主成分となる液体の沸点よりも高い必要はない。凹部75内において第2のインク層12が第1のインク層11を完全に覆い、かかる状態が第5の工程、すなわち乾燥除去工程が実施されている間維持されれば、第1のインク層11の乾燥を同一条件で行うことが可能である。したがって、第2のインクに水よりも沸点が低い液体を用いても、本発明の効果を得ることは可能である。   In the present embodiment, cyclohexylbenzene 22 having a specific gravity lower than that of water and having a higher boiling point is combined with water as a dispersion medium for the first ink as the second ink. However, the boiling point of the second ink is not necessarily higher than the boiling point of the liquid that is the main component of the first ink. If the second ink layer 12 completely covers the first ink layer 11 in the recess 75 and this state is maintained during the fifth step, that is, the dry removal step, the first ink layer 11 can be dried under the same conditions. Therefore, even if a liquid having a boiling point lower than that of water is used for the second ink, the effect of the present invention can be obtained.

なお、本実施形態では、画素電極45上に正孔注入輸送層43を形成しているが、該正孔注入輸送層を正孔注入層と正孔輸送層とに分けて形成する場合においても、上記実施形態の第3〜第5の工程を2回繰り返すことで可能である。   In this embodiment, the hole injecting and transporting layer 43 is formed on the pixel electrode 45, but the hole injecting and transporting layer may be divided into a hole injecting layer and a hole transporting layer. It is possible by repeating the 3rd-5th process of the said embodiment twice.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について述べる。図5(a)〜(d)は、本発明の第2の実施形態の製造方法を示す工程断面図である。本実施形態は、有機EL装置が備える有機EL素子29の、正孔注入輸送層43の上層に形成される有機EL層42、より具体的には赤色有機EL層42Rの形成に関するものである。有機EL装置自体は第1の実施形態で述べたものと共通している。そこで、本実施形態及び後述する第3の実施形態においては、有機EL装置の構成等の説明は省略する。又、有機EL装置の構成要素(たとえば素子基板10等)の符号は第1の実施形態と共通とする。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described. 5A to 5D are process cross-sectional views illustrating the manufacturing method of the second embodiment of the present invention. This embodiment relates to the formation of the organic EL layer 42 formed on the hole injection / transport layer 43 of the organic EL element 29 provided in the organic EL device, more specifically, the red organic EL layer 42R. The organic EL device itself is the same as that described in the first embodiment. Therefore, in the present embodiment and a third embodiment to be described later, description of the configuration of the organic EL device is omitted. Also, the reference numerals of the components of the organic EL device (for example, the element substrate 10) are the same as those in the first embodiment.

なお、本実施形態と上述の第1の実施形態は互いに独立している。したがって、第1の実施形態によらずに、従来の技術(製造方法)を用いて形成した正孔注入輸送層43の上層に、本実施形態にかかる製造方法を用いて有機EL層42を形成することもできる。以下、工程順に述べる。   Note that this embodiment and the first embodiment described above are independent of each other. Therefore, regardless of the first embodiment, the organic EL layer 42 is formed on the hole injection transport layer 43 formed using the conventional technique (manufacturing method) using the manufacturing method according to the present embodiment. You can also Hereinafter, it will be described in the order of steps.

まず、図5(a)に示すように、第1の工程として素子基板10上に画素電極45を形成し、さらに第2の工程として該画素電極を平面視で囲む隔壁77を形成し、さらに、画素電極45の上層に正孔注入輸送層43を形成する。上述したように、正孔注入輸送層43は上述の第1の実施形態にかかる方法で形成してもよく、また、他の方法で形成してもよい。   First, as shown in FIG. 5A, a pixel electrode 45 is formed on the element substrate 10 as a first step, and a partition wall 77 surrounding the pixel electrode in plan view is formed as a second step. Then, the hole injection transport layer 43 is formed on the upper layer of the pixel electrode 45. As described above, the hole injection / transport layer 43 may be formed by the method according to the first embodiment described above, or may be formed by another method.

次に、図5(b)に示すように第3の工程として、隔壁77を側面とし正孔注入輸送層43を底面とする凹部75内に、インクジェットヘッド19から第1のインクとしての有機EL材料液23を吐出して、該凹部内に第1のインク層11を形成する。有機EL材料液23は、赤色有機EL材料(通電により赤色光を発する有機EL材料)であるPoly[{2−methoxy−5−(2−ethylhexyloxy)−1,4−(1−cyanovinylenephenylene)}−co−{2,5−bis(N,N’−diphenylamino)-1,4-phenylene}]を溶質とし、P-クロロトルエンを溶媒とする溶液である。
P-クロロトルエンは、沸点が162℃、比重が1.07であり、溶質濃度は1.5重量%である。かかる沸点及び比重が、第1のインクの沸点及び比重となる。
Next, as shown in FIG. 5B, as a third step, an organic EL serving as the first ink from the inkjet head 19 is inserted into the recess 75 having the partition wall 77 as a side surface and the hole injection / transport layer 43 as a bottom surface. The material liquid 23 is discharged to form the first ink layer 11 in the recess. The organic EL material liquid 23 is a poly [{2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy) -1,4- (1-cyanovinylenephenylene)}-which is a red organic EL material (an organic EL material that emits red light when energized). co- {2,5-bis (N, N'-diphenylamino) -1,4-phenylene}] as a solute and P-chlorotoluene as a solvent.
P-chlorotoluene has a boiling point of 162 ° C., a specific gravity of 1.07, and a solute concentration of 1.5% by weight. Such boiling point and specific gravity become the boiling point and specific gravity of the first ink.

次に、図5(c)に示すように、第4の工程として凹部75内に第2のインクとしてのペンチルベンゼン24を吐出して、凹部75内に形成されている有機EL材料液23からなる第1のインク層11の上層に、ペンチルベンゼン24からなる第2のインク層12を形成する。   Next, as shown in FIG. 5C, as a fourth step, pentylbenzene 24 as the second ink is discharged into the recess 75, and the organic EL material liquid 23 formed in the recess 75 is discharged. A second ink layer 12 made of pentylbenzene 24 is formed on the upper layer of the first ink layer 11.

ペンチルベンゼンは、沸点が205℃、比重が0.86である。上述の第1の実施形態と同様に、第2のインクとしてのペンチルベンゼン24は溶質を含んでいない。すなわち、第2のインクとしてのペンチルベンゼン24は液体のみからなる。したがって、上述の2工程で、凹部75内に有機EL材料を含有する第1のインク層11と、該第1のインク層を覆う、第1のインク層11の溶媒よりも高沸点かつ低比重の液体からなる第2のインク層12と、が形成される。上層に形成された第2のインク層12の方が低比重の液体であるため、上述の2層は混じり合うことなく保たれる。   Pentylbenzene has a boiling point of 205 ° C. and a specific gravity of 0.86. Similar to the first embodiment described above, the pentylbenzene 24 as the second ink does not contain a solute. That is, the pentylbenzene 24 as the second ink is composed only of a liquid. Therefore, in the above-described two steps, the first ink layer 11 containing the organic EL material in the recess 75 and a higher boiling point and lower specific gravity than the solvent of the first ink layer 11 covering the first ink layer. And a second ink layer 12 made of the liquid. Since the second ink layer 12 formed in the upper layer is a liquid having a lower specific gravity, the above-mentioned two layers are maintained without being mixed.

上述の第1の実施形態と同様に、本工程は第3の工程を実施後に時間を空けずに即座に実施することが必要である。したがって、インクジェットヘッド19の液滴吐出面が小さい場合は、素子基板10の全面で第3の工程が終了する前に、第4の工程を開始してもよい。個々の凹部75において、第3の工程と第4の工程とが連続して、すなわち時間を空けず即座に実施されることが重要である。   Similar to the first embodiment described above, this step needs to be carried out immediately without taking time after the third step. Therefore, when the droplet discharge surface of the inkjet head 19 is small, the fourth step may be started before the third step is completed on the entire surface of the element substrate 10. In the individual recesses 75, it is important that the third step and the fourth step are performed continuously, that is, immediately without taking time.

次に、図5(d)に示すように、第5の工程として第1のインクとしての有機EL材料液23の溶媒であるP-クロロトルエン、及び第2のインクとしてのペンチルベンゼン24を乾燥除去する。乾燥方法は第1の実施形態と同様であり、スクロールポンプを用いて4×10-4の減圧下におくことで行う。 Next, as shown in FIG. 5D, in the fifth step, P-chlorotoluene, which is the solvent of the organic EL material liquid 23 as the first ink, and pentylbenzene 24, which is the second ink, are dried. Remove. The drying method is the same as that in the first embodiment, and the drying is performed under a reduced pressure of 4 × 10 −4 using a scroll pump.

本工程により正孔注入輸送層43の上層に、第1のインクの溶質であった有機EL材料からなる有機EL層42、詳しくは赤色有機EL層42Rが形成される。有機EL層42と正孔注入輸送層43との積層体が発光機能層44である。   By this step, an organic EL layer 42 made of an organic EL material that is a solute of the first ink, specifically a red organic EL layer 42R, is formed on the hole injection / transport layer 43. A laminate of the organic EL layer 42 and the hole injecting and transporting layer 43 is the light emitting functional layer 44.

本実施形態によれば、上述の第1の実施形態と同様に、素子基板10内、及び個々の凹部75内において、第1のインク層11の乾燥を同時かつ略同等の条件で行うことができる。その結果、有機EL層42の層厚の均一性が高く、表示品質が向上した有機EL装置を得ることができる。第2のインク層12の層厚は、素子基板10の面内において適宜変化をつけてもよい点も、第1の実施形態の製造方法と同様である。   According to the present embodiment, similarly to the first embodiment described above, the first ink layer 11 can be dried simultaneously and substantially under the same conditions in the element substrate 10 and in the individual recesses 75. it can. As a result, it is possible to obtain an organic EL device with high uniformity of the layer thickness of the organic EL layer 42 and improved display quality. The layer thickness of the second ink layer 12 is the same as that of the manufacturing method of the first embodiment in that the thickness of the second ink layer 12 may be appropriately changed in the plane of the element substrate 10.

なお、本実施形態では、赤色有機EL層42Rの形成について述べたが、他の2色に対応する有機EL層42も同様の方法で形成できる。かかる場合、一色毎に乾燥除去工程を行ってもよく、また3種類の、すなわち3色に対応する夫々の有機EL材料を含む第1のインク層11を形成後に乾燥除去工程を行って、3種類の有機EL層42(R,G,B)を同時に形成してもよい。   In the present embodiment, the formation of the red organic EL layer 42R has been described. However, the organic EL layers 42 corresponding to the other two colors can be formed by the same method. In such a case, the drying and removing step may be performed for each color, and the drying and removing step is performed after forming the first ink layer 11 containing three types of organic EL materials corresponding to three colors, that is, three colors. Different types of organic EL layers 42 (R, G, B) may be formed simultaneously.

第2のインクは、第1のインクよりも比重が低ければ、沸点は必ずしも高くなくてよい点も、第1の実施形態と同様である。また、第1のインクと第2のインクとは、水(水系溶媒)同士の組み合わせでない限り、色々な組み合わせが可能なことも第1の実施形態と同様である。   The second ink is the same as the first embodiment in that the boiling point does not necessarily have to be higher if the specific gravity is lower than that of the first ink. Further, the first ink and the second ink are the same as in the first embodiment in that various combinations are possible as long as they are not combinations of water (aqueous solvents).

(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態について述べる。図6(a)〜(d)は、本発明の第3の実施形態の製造方法を示す工程断面図である。本実施形態は、正孔注入輸送層43の上層に、R,G,Bの3色に対応する3種類の有機EL層42を同時に形成する場合を示している。以下、工程順に述べる。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described. 6A to 6D are process cross-sectional views illustrating the manufacturing method of the third embodiment of the present invention. This embodiment shows a case where three types of organic EL layers 42 corresponding to three colors of R, G, and B are simultaneously formed on the hole injection transport layer 43. Hereinafter, the steps will be described in the order of steps.

まず、図6(a)に示すように、素子基板10上に画素電極45と該画素電極を平面視で囲む隔壁77を形成し、さらに、画素電極45の上層に正孔注入輸送層43を形成する。正孔注入輸送層43は第1の実施形態にかかる方法を用いて形成してもよく、従来の方法で形成してもよい。   First, as shown in FIG. 6A, a pixel electrode 45 and a partition wall 77 surrounding the pixel electrode in plan view are formed on the element substrate 10, and a hole injection / transport layer 43 is formed on the pixel electrode 45. Form. The hole injecting and transporting layer 43 may be formed by using the method according to the first embodiment, or may be formed by a conventional method.

次に、図6(b)に示すように、第3の工程としてインクジェットヘッド19から正孔注入輸送層43上に3種類の第1のインクとしての有機EL材料液23を吐出して第1のインク層11を形成する。付加されたアルファベットは有機EL材料液23の溶質である有機EL材料の発光色を示している。3種類の有機EL材料液23(R,G,B)の溶媒は第2の実施形態における有機EL材料液23の溶媒と共通のP-クロロトルエンである。   Next, as shown in FIG. 6B, as the third step, the organic EL material liquid 23 as the first ink of the three types is ejected from the inkjet head 19 onto the hole injection transport layer 43 to form the first step. The ink layer 11 is formed. The added alphabet indicates the emission color of the organic EL material which is the solute of the organic EL material liquid 23. The solvent of the three types of organic EL material liquid 23 (R, G, B) is P-chlorotoluene that is the same as the solvent of the organic EL material liquid 23 in the second embodiment.

有機EL材料液23Rの溶質である赤色有機EL材料は、上述の第2の実施形態で用いた材料と同一である。有機EL材料液23Gの溶質である緑色有機EL材料は、Poly[(9,9−dioctylfluorenyl−2,7−diyl)−co−(1,4−benzo−{2,1’,3}−thiadiazole)]である。有機EL材料液23Bの溶質である青色有機EL材料は、Poly[(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(9,10-anthracene)]である。   The red organic EL material that is the solute of the organic EL material liquid 23R is the same as the material used in the second embodiment described above. The green organic EL material that is the solute of the organic EL material liquid 23G is Poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (1,4-benzo- {2,1 ′, 3} -thiadiazole). ]]. The blue organic EL material which is the solute of the organic EL material liquid 23B is Poly [(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (9,10-anthracene)].

本実施形態で用いるインクジェットヘッド19は、インクの供給系を4本備えている。したがって、素子基板10上の所定の領域内において、3種類の第1のインクと(1種類の)第2のインクを同時に吐出できる。   The ink jet head 19 used in the present embodiment includes four ink supply systems. Therefore, three types of first ink and (one type) of second ink can be ejected simultaneously within a predetermined region on the element substrate 10.

次に、図6(c)に示すように、第4の工程として第1のインクとしての有機EL材料液23の上層に第2のインクとしてのペンチルベンゼン24を吐出して、ペンチルベンゼン24からなる第2のインク層12を形成する。上述したように、本実施形態で用いるインクジェットヘッド19は複数の供給系を備えているため、有機EL材料液23を吐出させたノズルに近い位置に形成されたノズルからペンチルベンゼン24を吐出できる。したがって、第1のインクとしての有機EL材料液23を吐出した後、インクジェットヘッド19を若干移動させることで、連続的に第2のインクとしてのペンチルベンゼン24を吐出できる。   Next, as shown in FIG. 6C, as a fourth step, pentylbenzene 24 as the second ink is discharged onto the upper layer of the organic EL material liquid 23 as the first ink. A second ink layer 12 is formed. As described above, since the inkjet head 19 used in this embodiment includes a plurality of supply systems, the pentylbenzene 24 can be discharged from a nozzle formed at a position close to the nozzle from which the organic EL material liquid 23 is discharged. Therefore, the pentylbenzene 24 as the second ink can be continuously discharged by slightly moving the inkjet head 19 after discharging the organic EL material liquid 23 as the first ink.

かかる工程により、将来的に3種類の有機EL素子が形成される3つの凹部75内に、3種類の有機EL材料のいずれかを含有する第1のインク層11と、該第1のインク層を覆う、第1のインク層11の溶媒よりも高沸点かつ低比重の液体からなる第2のインク層12と、が形成される。   Through this process, the first ink layer 11 containing any one of the three types of organic EL materials in the three concave portions 75 in which three types of organic EL elements will be formed in the future, and the first ink layer And a second ink layer 12 made of a liquid having a higher boiling point and a lower specific gravity than the solvent of the first ink layer 11 is formed.

次に、図6(d)に示すように、第5の工程として、第1のインクとしての有機EL材料液23の溶媒であるP-クロロトルエン、及び第2のインクとしてのペンチルベンゼン24を乾燥除去する。そして、3種類の有機EL層42のいずれかと正孔注入輸送層43との積層体である3種類の発光機能層44(符号は同一)を形成する。   Next, as shown in FIG. 6D, as the fifth step, P-chlorotoluene, which is a solvent of the organic EL material liquid 23 as the first ink, and pentylbenzene 24, which is the second ink, are added. Remove to dryness. Then, three types of light emitting functional layers 44 (the same reference numerals) that are laminates of any of the three types of organic EL layers 42 and the hole injecting and transporting layer 43 are formed.

本実施形態によれば、液材の供給系を複数備えるインクジェットヘッド19を用いて3種類の有機EL材料液23を同時に吐出し、さらに間隔をほとんど空けずにペンチルベンゼン24を吐出している。したがって、溶媒等の乾燥除去工程を1回で済ますことができ、工数低減を可能としている。また、第1のインク層11と第2のインク層12を連続して形成できるため、第1のインク層11、すなわち有機EL材料液23の溶媒の自然乾燥を低減できる。したがって、本実施形態によれば、有機EL層42の層厚の均一性がより一層高く、表示品質が向上した有機EL装置を低コストで得ることができる。   According to the present embodiment, three types of organic EL material liquids 23 are simultaneously ejected using an inkjet head 19 having a plurality of liquid material supply systems, and pentylbenzene 24 is ejected with almost no gap therebetween. Therefore, the drying and removing process of the solvent and the like can be completed only once, and the man-hour can be reduced. In addition, since the first ink layer 11 and the second ink layer 12 can be continuously formed, natural drying of the solvent of the first ink layer 11, that is, the organic EL material liquid 23 can be reduced. Therefore, according to the present embodiment, an organic EL device in which the uniformity of the layer thickness of the organic EL layer 42 is higher and the display quality is improved can be obtained at low cost.

(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態について述べる。図9(a)〜(d)は、本発明の第4の実施形態の製造方法を示す工程断面図である。本実施形態の製造方法は、第1の実施形態の製造方法と同様に、画素電極45上に正孔注入輸送層43を形成する工程に関するものである。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. 9A to 9D are process cross-sectional views illustrating the manufacturing method of the fourth embodiment of the present invention. The manufacturing method of the present embodiment relates to a process of forming the hole injection / transport layer 43 on the pixel electrode 45 as in the manufacturing method of the first embodiment.

図3(a)〜(d)に示す各工程、すなわち、素子基板10上に画素電極45を形成する工程と、画素電極45を平面視で囲むように下部隔壁78と上部隔壁79とからなる隔壁77を形成して凹部75を形成する工程と、素子基板10上全面にCF4プラズマ17を照射する工程と、素子基板10上全面に酸素プラズマ18を照射する工程、の4工程は同一である。そこで、上述の4工程が終了した後の状態から説明する。
なお、本実施形態において、上述の画素電極45を形成する工程が第1の工程であり、上述の隔壁77を形成する工程が第2の工程である。したがって、本実施形態の説明は第3の工程から始める。
3A to 3D, that is, a step of forming the pixel electrode 45 on the element substrate 10, and a lower partition 78 and an upper partition 79 so as to surround the pixel electrode 45 in plan view. The four steps of forming the partition wall 77 and forming the recess 75, the step of irradiating the entire surface of the element substrate 10 with the CF 4 plasma 17, and the step of irradiating the entire surface of the element substrate 10 with the oxygen plasma 18 are the same. is there. Therefore, the state after the above-described four steps will be described.
In the present embodiment, the step of forming the pixel electrode 45 is the first step, and the step of forming the partition wall 77 is the second step. Therefore, the description of this embodiment starts from the third step.

まず、図9(a)に示すように、第3の工程として、インクジェットヘッド19から凹部75内に、第1のインクとしての正孔注入輸送材料液21と第2のインクとしてのシクロヘキシルベンゼン22を混合してなる第3のインク33の液滴を吐出(滴下)して、凹部75内に該第3のインクの層を形成する。正孔注入輸送材料液21は第1の実施形態で用いたものと同一であり、分散質であるPEDOT/PSSを分散媒である水に分散して得られるインク(液体材料)である。   First, as shown in FIG. 9A, in the third step, the hole injection / transport material liquid 21 as the first ink and the cyclohexylbenzene 22 as the second ink are placed in the recess 75 from the inkjet head 19. The third ink 33 formed by mixing the droplets is ejected (dropped) to form the third ink layer in the recess 75. The hole injection transport material liquid 21 is the same as that used in the first embodiment, and is an ink (liquid material) obtained by dispersing PEDOT / PSS as a dispersoid in water as a dispersion medium.

図9(b)は、凹部75内に第3のインク33からなる層を形成した状態を示す図である。第1のインクの分散媒すなわち主成分である水と有機溶剤であるシクロヘキシルベンゼン22とは互いに溶け合うことがないため、吐出直後から図示するように凹部75内で互いに分離し始める。   FIG. 9B is a diagram showing a state in which a layer made of the third ink 33 is formed in the recess 75. Since the dispersion medium of the first ink, that is, water as the main component and cyclohexylbenzene 22 as the organic solvent do not dissolve each other, they start to be separated from each other in the recess 75 as shown in the drawing immediately after ejection.

図9(c)は、図9(b)に示す状態から若干の時間が経過した状態を示している。上述したようにシクロヘキシルベンゼン22の比重は略0.94と水よりも軽いため、第3のインクは下層(画素電極45側)の正孔注入輸送材料液21からなる第1のインク層11とシクロヘキシルベンゼン22からなる第2のインク層12が形成される。   FIG. 9C shows a state in which some time has elapsed from the state shown in FIG. As described above, the specific gravity of cyclohexylbenzene 22 is approximately 0.94, which is lighter than water. Therefore, the third ink is composed of the first ink layer 11 made of the hole injection / transport material liquid 21 in the lower layer (on the pixel electrode 45 side). A second ink layer 12 made of cyclohexylbenzene 22 is formed.

次に図9(d)に示すように、第4の工程として、正孔注入輸送材料液21の分散媒である水、及びシクロヘキシルベンゼン22を乾燥除去する。その結果、凹部75内、すなわち画素電極45の上層に、第1のインクの分散質であったPEDOT/PSSの層、すなわち正孔注入輸送層43が形成される。上記乾燥の条件は上述の第1の実施形態の乾燥条件と同一である。加熱と減圧を組み合わせてもよい点も同一である。   Next, as shown in FIG. 9 (d), as a fourth step, water and cyclohexylbenzene 22 which are the dispersion medium of the hole injecting and transporting material liquid 21 are removed by drying. As a result, a PEDOT / PSS layer that is the dispersoid of the first ink, that is, the hole injection transport layer 43 is formed in the recess 75, that is, in the upper layer of the pixel electrode 45. The drying conditions are the same as the drying conditions of the first embodiment. The point which may combine heating and pressure reduction is also the same.

本実施形態によれば、上述の第1の実施形態の製造方法と同様の効果を得ることができる。すなわち、凹部75内に第1のインク層11と第2のインク層12と積層体を形成して、正孔注入輸送材料を含む第1のインク層11を、乾燥除去工程が開始されるまでの間第2のインク層12で覆うことにより表面を露出させず維持できるため、乾燥時間(乾燥条件)のばらつきを低減できる。したがって、本実施形態の製造方法によれば、正孔注入輸送層43の層厚の均一性が高く表示品質が向上した有機EL装置を得ることができる。   According to this embodiment, the same effect as the manufacturing method of the first embodiment described above can be obtained. That is, the first ink layer 11 and the second ink layer 12 are formed in the concave portion 75, and the first ink layer 11 containing the hole injecting and transporting material is dried until the dry removal step is started. Since the surface can be maintained without being exposed by covering with the second ink layer 12 during this period, variations in drying time (drying conditions) can be reduced. Therefore, according to the manufacturing method of the present embodiment, it is possible to obtain an organic EL device in which the thickness of the hole injection transport layer 43 is highly uniform and the display quality is improved.

そして、上述の第1の実施形態の製造方法と同様の効果をインクの吐出(滴下)工程を増加させることなく得ることができる。すなわち、将来的に第1のインク層11となる正孔注入輸送材料液21と将来的に第2のインク層となるシクロヘキシルベンゼン22とを混合して第3のインク33とすることで、1回の吐出工程で上述の積層体を形成できる。したがって、工程数の増加に伴う製造コストの増加を抑制しつつ、表示品質が向上した有機EL装置を得ることができる。   The same effects as those of the manufacturing method of the first embodiment can be obtained without increasing the ink ejection (dropping) step. That is, the hole injection transport material liquid 21 that will be the first ink layer 11 in the future and the cyclohexylbenzene 22 that will be the second ink layer in the future are mixed to form the third ink 33. The above-described laminated body can be formed by a single discharge process. Therefore, it is possible to obtain an organic EL device with improved display quality while suppressing an increase in manufacturing cost accompanying an increase in the number of processes.

なお、本実施形態の製造方法は、正孔注入輸送層の形成工程に限定されるものではなく、上述の第2の実施形態の製造方法のように、有機EL層42の形成にも用いることもできる。また、本実施形態では第1のインクに水系のインクを用いているが、第1のインクに水よりも比重が大きい有機系溶媒を用いた正孔注入輸送材料液を用い、第2のインクとして水と組み合わせて第3のインク33とする態様も可能である。また、互いに比重が異なる2種類の有機系溶媒を組み合わせて第3のインク33とする態様も可能である。   In addition, the manufacturing method of this embodiment is not limited to the formation process of a positive hole injection transport layer, It is used also for formation of the organic EL layer 42 like the manufacturing method of the above-mentioned 2nd Embodiment. You can also. In this embodiment, the water-based ink is used as the first ink. However, the hole-injecting and transporting material liquid using an organic solvent having a specific gravity larger than that of water is used as the first ink, and the second ink is used. A mode in which the third ink 33 is combined with water is also possible. In addition, a mode in which two types of organic solvents having different specific gravities are combined to form the third ink 33 is also possible.

また、本実施形態の製造方法においては、第3のインク33が均一に混じり合ない可能性、あるいは凹部75に吐出される前に分離してしまう可能性がある。かかる可能性に対しては、吐出される前の第3のインク33に超音波等による振動を加えることで対処可能である。また、インクジェットヘッドのノズルに至るまでは第1のインクと第2のインクとに分けた状態として、吐出直前に該ノズル内において混合して第3のインク33とする態様も可能である。さらには、該2種類のインクを夫々異なるノズルから同時に凹部75内に吐出して該凹部内で第3のインク33とした後に、該凹部内で分離させて積層体とする態様も可能である。   In the manufacturing method of the present embodiment, the third ink 33 may not be mixed uniformly, or may be separated before being ejected to the recess 75. Such a possibility can be dealt with by applying vibrations such as ultrasonic waves to the third ink 33 before being ejected. Further, it is also possible to adopt a mode in which the first ink and the second ink are divided up to the nozzles of the ink jet head and mixed in the nozzles just before the discharge to form the third ink 33. Furthermore, it is also possible to adopt a mode in which the two types of ink are simultaneously discharged from different nozzles into the recess 75 to form the third ink 33 in the recess and then separated in the recess to form a laminate. .

(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態として、カラーフィルターの製造方法を示す。図7は、本実施形態の対象であるカラーフィルターの機能及び概要を模式的に示す斜視図である。図7は、光源としての白色光67を発するバックライト66と、光シャッターとして機能する液晶パネル60と白色光67を有色光68とするカラーフィルター80と、を示している。なお、実際のカラーフィルター80は液晶パネル60を構成する一方の基板に形成されていることが一般的である。しかし本図では、カラーフィルターの機能を説明するために間隔を空けて示している。
(Fifth embodiment)
Next, a color filter manufacturing method will be described as a fifth embodiment of the present invention. FIG. 7 is a perspective view schematically showing the function and outline of the color filter that is the subject of this embodiment. FIG. 7 shows a backlight 66 that emits white light 67 as a light source, a liquid crystal panel 60 that functions as an optical shutter, and a color filter 80 that uses the white light 67 as colored light 68. The actual color filter 80 is generally formed on one substrate constituting the liquid crystal panel 60. However, in this figure, in order to explain the function of the color filter, it is shown spaced apart.

液晶パネル60は、シール材63を介して貼り合された第1基板61と第2基板62、及び該一対の基板間に挟持された液晶層(不図示)等を備えており、画素64が規則的に形成されている。双方の基板は透明性を有している。そして液晶パネル60はTN型であり、第2基板62には液晶パネル60の全面を共通電位に保つ対向電極が形成され、第1基板61には画素64毎に独立した画素電極(不図示)が形成されている。該一対の電極間に電圧を印加することで、液晶分子の配向を変化させて、バックライト66から照射される光の透過量を制御している。上述の印加電圧は画素64毎に制御できるため、上述の光の透過量は画素64毎に制御できる。   The liquid crystal panel 60 includes a first substrate 61 and a second substrate 62 bonded through a sealant 63, a liquid crystal layer (not shown) sandwiched between the pair of substrates, and the like. It is regularly formed. Both substrates are transparent. The liquid crystal panel 60 is a TN type. A counter electrode is formed on the second substrate 62 to keep the entire surface of the liquid crystal panel 60 at a common potential. An independent pixel electrode (not shown) for each pixel 64 is formed on the first substrate 61. Is formed. By applying a voltage between the pair of electrodes, the orientation of liquid crystal molecules is changed, and the amount of light transmitted from the backlight 66 is controlled. Since the above-described applied voltage can be controlled for each pixel 64, the above-described light transmission amount can be controlled for each pixel 64.

カラーフィルター80は、画素64毎に配置されたカラーフィルター層81と該カラーフィルター層を囲むように網目状に形成された遮光性を有するブラックマトリクス82とを備えている。カラーフィルター層81はR,G,Bのいずれかの色に着色された透過性を有する材料層であり、照射された白色光67を3原色のいずれかの色の有色光68として射出できる。画素64毎にR,G,Bのいずれかの色の光が任意の強度で射出されるため、図示する矢印の方向に向けてカラー画像が形成される。   The color filter 80 includes a color filter layer 81 disposed for each pixel 64 and a black matrix 82 having a light shielding property formed in a mesh shape so as to surround the color filter layer. The color filter layer 81 is a transparent material layer colored in one of R, G, and B, and can emit the irradiated white light 67 as colored light 68 of any of the three primary colors. Since light of any color of R, G, and B is emitted at an arbitrary intensity for each pixel 64, a color image is formed in the direction of the arrow shown in the drawing.

カラーフィルター80の製造方法、具体的にはカラーフィルター層81のパターニング方法はフォトリソグラフィー法等を含んで種々存在するが、大面積のカラーフィルター80の場合はインクジェット法がコスト面等で有利である。しかし、インクジェット法では有機EL層42の形成時と同様の問題、すなわち層厚の均一性の低下が起こり得る。そこで本実施形態では、上述の第1〜第3の実施形態と同様に、インク層を2層形成した後に溶媒等を乾燥除去することで、カラーフィルター層81の層厚の均一性を向上させている。   There are various methods for manufacturing the color filter 80, specifically, a patterning method for the color filter layer 81 including a photolithography method, etc. In the case of the large area color filter 80, the inkjet method is advantageous in terms of cost and the like. . However, in the ink jet method, the same problem as when the organic EL layer 42 is formed, that is, the uniformity of the layer thickness may be reduced. Therefore, in the present embodiment, as in the first to third embodiments described above, the uniformity of the layer thickness of the color filter layer 81 is improved by drying and removing the solvent after forming two ink layers. ing.

図8は、(a)〜(e)は、本発明の第5の実施形態にかかるカラーフィルター80の製造方法を示す工程断面図である。将来的に液晶パネル60を構成する第2基板62の一方の面(以下、該面を「上面」と称する。)に3原色のいずれかの色のカラーフィルター層81を形成する工程を示している。   FIGS. 8A to 8E are process cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a color filter 80 according to the fifth embodiment of the present invention. A process of forming a color filter layer 81 of any of the three primary colors on one surface (hereinafter referred to as “upper surface”) of the second substrate 62 constituting the liquid crystal panel 60 in the future is shown. Yes.

まず、図8(a)に示すように、第1の工程として第2基板62の上面にブラックマトリクス82を形成する。ブラックマトリクス82は該上面にスパッタ法により形成したクロムの薄膜をフォトリソグラフィー法でパターニングして形成する。かかるブラックマトリクス82は上述の各実施形態における隔壁77のように機能する。したがって、第2基板62を底面として側面をブラックマトリクス82で囲まれた凹部75が形成される。   First, as shown in FIG. 8A, a black matrix 82 is formed on the upper surface of the second substrate 62 as a first step. The black matrix 82 is formed by patterning a chromium thin film formed on the upper surface by a sputtering method using a photolithography method. The black matrix 82 functions like the partition wall 77 in each of the embodiments described above. Therefore, a recess 75 is formed with the second substrate 62 as the bottom and the side surface surrounded by the black matrix 82.

なお図示は省略しているが、ブラックマトリクス82と平面視で重なる有機樹脂性の隔壁をさらに形成してもよい。クロムの薄膜のみでは高さが不足する場合でも、該有機樹脂性の隔壁で補うことができる。又、ブラックマトリクス82の形成後に上述の各実施形態と同様に酸素プラズマ18を照射してもよい。さらには、クロムと該有機樹脂性との2層構造の隔壁を形成後に、CF4プラズマ17と酸素プラズマ18とを連続して照射してもよい。 Although not shown, an organic resin partition that overlaps the black matrix 82 in plan view may be further formed. Even when the height of the chromium thin film is insufficient, it can be compensated by the organic resin partition. Further, after the black matrix 82 is formed, the oxygen plasma 18 may be irradiated as in the above-described embodiments. Furthermore, the CF 4 plasma 17 and the oxygen plasma 18 may be continuously irradiated after forming a two-layer partition wall of chromium and the organic resin.

次に、図8(b)に示すように、第2の工程として凹部75内に、第1のインクとしてのカラーフィルター材料液25を図示しないインクジェットヘッドから吐出して、該カラーフィルター材料液25からなる第1のインク層11を形成する。カラーフィルター材料液25は、分散媒としてのポリウレタン樹脂オリゴマーにR,G,Bのいずれかの色の無機顔料を分散させた液材に、低沸点溶剤として酢酸ブチルを加えたものである。酢酸ブチルは沸点が略126℃、比重が略0.88である。   Next, as shown in FIG. 8B, in the second step, the color filter material liquid 25 as the first ink is discharged from the ink jet head (not shown) into the recess 75 to form the color filter material liquid 25. A first ink layer 11 made of is formed. The color filter material liquid 25 is obtained by adding butyl acetate as a low boiling point solvent to a liquid material in which an inorganic pigment of any color of R, G, and B is dispersed in a polyurethane resin oligomer as a dispersion medium. Butyl acetate has a boiling point of approximately 126 ° C. and a specific gravity of approximately 0.88.

次に、図8(c)に示すように、第3の工程として凹部75内に第2のインクとしてのペンチルベンゼン26を吐出して、該ペンチルベンゼンからなる第2のインク層12を形成する。上述の各実施形態と同様に、第3の工程は第2の工程を終えた後、できる限り時間を空けずに即座に実施する。   Next, as shown in FIG. 8C, as a third step, the pentylbenzene 26 as the second ink is discharged into the recess 75 to form the second ink layer 12 made of pentylbenzene. . As in the above-described embodiments, the third step is performed immediately after leaving the second step, with as little time as possible.

かかる第2の工程と第3の工程とにより、凹部75内には第1のインク層11と第2のインク層12の積層体が形成される。第2のインク層12を構成するペンチルベンゼン26は比重が第1のインク層11の主成分である酢酸ブチルよりも軽いため、該2層は混じり合うことが抑制されている。   By the second step and the third step, a laminated body of the first ink layer 11 and the second ink layer 12 is formed in the recess 75. Since the pentylbenzene 26 constituting the second ink layer 12 has a specific gravity lighter than butyl acetate, which is the main component of the first ink layer 11, the mixing of the two layers is suppressed.

次に、図8(d)に示すように、第4の工程として、第1のインク層11に含まれるポリウレタン樹脂オリゴマーと酢酸ブチル、及び第2のインク層12を構成するペンチルベンゼン26を乾燥除去する。そして分散質であった無機顔料からなるカラーフィルター層81を形成する。   Next, as shown in FIG. 8D, as the fourth step, the polyurethane resin oligomer and butyl acetate contained in the first ink layer 11 and the pentylbenzene 26 constituting the second ink layer 12 are dried. Remove. And the color filter layer 81 which consists of an inorganic pigment which was dispersoid is formed.

次に、図8(e)に示すように、第2基板62の全面に、オーバーコート層83と共通電極(対向電極)84とを順に形成する。オーバーコート層83は透明樹脂材料からなり、共通電極84はITOからなる。以上の工程により、第2基板62上にカラーフィルター80が形成される。   Next, as shown in FIG. 8E, an overcoat layer 83 and a common electrode (counter electrode) 84 are sequentially formed on the entire surface of the second substrate 62. The overcoat layer 83 is made of a transparent resin material, and the common electrode 84 is made of ITO. Through the above steps, the color filter 80 is formed on the second substrate 62.

本実施形態によれば、上述の各実施形態と同様に、第2基板62内、及び個々の凹部75内において、第1のインク層11すなわちカラーフィルター材料液25の乾燥を同時かつ略同等の条件で行うことができる。その結果、層厚の均一性が高いカラーフィルター層81を形成できる。   According to the present embodiment, similarly to the above-described embodiments, the drying of the first ink layer 11, that is, the color filter material liquid 25 is simultaneously and substantially equivalent in the second substrate 62 and in the individual recesses 75. Can be done under conditions. As a result, the color filter layer 81 with high uniformity in layer thickness can be formed.

本実施形態では、R,G,Bの内の一色のカラーフィルター層81を形成する工程を示したが、他の2色も同様に方法で形成できる。又3色のカラーフィルター層81を同時に形成してもよい。3種類の液剤供給系を備えるインクジェットヘッドを用いることで、該3色のカラーフィルター層81を同時に形成できる。   In the present embodiment, the step of forming the color filter layer 81 of one color of R, G, and B is shown, but the other two colors can be formed by the same method. Further, the three color filter layers 81 may be formed simultaneously. By using an inkjet head equipped with three types of liquid supply systems, the three color filter layers 81 can be formed simultaneously.

上述したように、カラーフィルター層81は該カラーフィルター層を透過する白色光を有色光にしている。本実施形態の製造方法によれば、光源66から照射される白色光67を、画素64間でばらつきの少ない有色光にすることができる。したがって、本実施形態の製造方法を用いることで表示品質の向上した液晶パネルを得ることができる。   As described above, the color filter layer 81 turns white light transmitted through the color filter layer into colored light. According to the manufacturing method of the present embodiment, the white light 67 emitted from the light source 66 can be colored light with little variation between the pixels 64. Therefore, a liquid crystal panel with improved display quality can be obtained by using the manufacturing method of this embodiment.

なお、上述の各実施形態と同様に、第2のインクとしてのペンチルベンゼン26を吐出量、すなわち第2のインク層の層厚は、第2基板62の面内において適宜変化をつけてもよい。すなわち、初期に形成される第2のインク層の層厚は厚めにして、第3の工程すなわち第2のインク層の形成工程が進行するにつれて序々に薄くすることで、乾燥条件をより一層均一にでき、層厚の均一性がより一層向上したカラーフィルター層81を形成できる。
また、カラーフィルター80は液晶パネルのみではなく、有機EL層42に白色光を発光する材料を用いた有機ELパネルと組み合わせることもできる。
As in the above-described embodiments, the ejection amount of the pentylbenzene 26 as the second ink, that is, the layer thickness of the second ink layer may be appropriately changed in the plane of the second substrate 62. . That is, the layer thickness of the second ink layer that is initially formed is increased, and the thickness is gradually decreased as the third step, that is, the step of forming the second ink layer, so that the drying conditions are made more uniform. Thus, the color filter layer 81 having a further improved uniformity of layer thickness can be formed.
The color filter 80 can be combined not only with a liquid crystal panel but also with an organic EL panel using a material that emits white light for the organic EL layer 42.

10…素子基板、11…第1のインク層、12…第2のインク層、17…CF4プラズマ、18…酸素プラズマ、19…インクジェットヘッド、21…第1のインクとしての正孔注入輸送材料液、22…第2のインクとしてのシクロヘキシルベンゼン、23…第1のインクとしての有機EL材料液、24…第2のインクとしてのペンチルベンゼン、25…第1のインクとしてのカラーフィルター材料液、26…第2のインクとしてのペンチルベンゼン、29…有機EL素子、30…有機EL画素、33…第3のインク、42…有機EL層、43…正孔注入輸送層、44…発光機能層、45…第1電極としての画素電極(陽極)、47…第2電極としての陰極、48…反射層、60…液晶パネル、61…第1基板、62…第2基板、63…シール材、64…画素、66…バックライト(光源)、67…白色光、68…有色光、70…ゲート絶縁層、74…保護層、75…隔壁で囲まれた領域としての凹部、77…隔壁、78…下部隔壁、79…上部隔壁、80…カラーフィルター、81…カラーフィルター層、82…ブラックマトリクス、83…オーバーコート層、84…共通電極。 10 ... the element substrate, 11 ... first ink layer, 12 ... second ink layer, 17 ... CF 4 plasma, 18 ... oxygen plasma, 19 ... inkjet head, 21 ... hole injection transport material as the first ink Liquid, 22 ... cyclohexylbenzene as the second ink, 23 ... organic EL material liquid as the first ink, 24 ... pentylbenzene as the second ink, 25 ... color filter material liquid as the first ink, 26 ... Pentylbenzene as the second ink, 29 ... Organic EL element, 30 ... Organic EL pixel, 33 ... Third ink, 42 ... Organic EL layer, 43 ... Hole injection transport layer, 44 ... Luminescent functional layer, 45... Pixel electrode (anode) as first electrode 47. Cathode as second electrode 48. Reflection layer 60. Liquid crystal panel 61. First substrate 62. Second substrate 63. Material: 64 ... Pixel, 66 ... Backlight (light source), 67 ... White light, 68 ... Colored light, 70 ... Gate insulating layer, 74 ... Protective layer, 75 ... Recessed area surrounded by the partition, 77 ... Partition 78 ... Lower partition, 79 ... Upper partition, 80 ... Color filter, 81 ... Color filter layer, 82 ... Black matrix, 83 ... Overcoat layer, 84 ... Common electrode.

Claims (9)

第1電極と第2電極と前記第1電極及び前記第2電極とに挟持される、少なくとも有機EL層を含む発光機能層とを備える有機EL素子を複数備えてなる有機EL装置の製造方法であって、
基板の一方の面に複数の前記第1電極を形成する第1の工程と、
平面視で前記複数の第1電極の各々を囲む隔壁を形成する第2の工程と、
前記隔壁で囲まれた領域内に、溶質または分散質として発光機能層形成材料を含む第1のインクを吐出して第1のインク層を形成する第3の工程と、
前記隔壁で囲まれた領域内に前記第1のインクよりも比重が小さい第2のインクを吐出して、前記第1のインク層を覆う第2のインク層を形成する第4の工程と、
前記第1のインクと前記第2のインクとを乾燥させる第5の工程と、
を含むことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
A method for producing an organic EL device comprising a plurality of organic EL elements each including a light emitting functional layer including at least an organic EL layer sandwiched between a first electrode, a second electrode, and the first electrode and the second electrode. There,
A first step of forming a plurality of the first electrodes on one surface of the substrate;
A second step of forming a partition wall surrounding each of the plurality of first electrodes in plan view;
A third step of forming a first ink layer by discharging a first ink containing a light emitting functional layer forming material as a solute or a dispersoid in a region surrounded by the partition;
A fourth step of forming a second ink layer covering the first ink layer by discharging a second ink having a specific gravity smaller than that of the first ink in a region surrounded by the partition;
A fifth step of drying the first ink and the second ink;
The manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus characterized by the above-mentioned.
請求項1に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記第4の工程は前記隔壁で囲まれた領域内に前記第1のインクよりも比重が小さく、かつ、前記第1のインクよりも沸点が高い前記第2のインクを吐出して、前記第1のインク層を覆う前記第2のインク層を形成する工程であることを特徴とする有機EL装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the organic EL device according to claim 1,
In the fourth step, the second ink having a specific gravity smaller than that of the first ink and having a boiling point higher than that of the first ink is ejected into a region surrounded by the partition wall, A method for producing an organic EL device, comprising the step of forming the second ink layer covering one ink layer.
請求項1又は2に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記第1のインクと前記第2のインクとは共に有機系液体を主成分としていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the organic EL device according to claim 1 or 2,
The method for manufacturing an organic EL device, wherein both the first ink and the second ink contain an organic liquid as a main component.
請求項1又は2に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記第1のインクは水を分散媒としており、前記第2のインクは有機系液体であることを特徴とする有機EL装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the organic EL device according to claim 1 or 2,
The method of manufacturing an organic EL device, wherein the first ink uses water as a dispersion medium, and the second ink is an organic liquid.
請求項1又は2に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記第1のインクは有機系液体を溶媒としており、前記第2のインクは水を主成分としていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the organic EL device according to claim 1 or 2,
The method of manufacturing an organic EL device, wherein the first ink uses an organic liquid as a solvent, and the second ink contains water as a main component.
第1電極と第2電極と前記第1電極及び前記第2電極とに挟持される、少なくとも有機EL層を含む発光機能層とを備える有機EL素子を複数備えてなる有機EL装置の製造方法であって、
基板の一方の面に複数の前記第1電極を形成する第1の工程と、
平面視で前記複数の第1電極の各々を囲む隔壁を形成する第2の工程と、
前記隔壁で囲まれた領域内に、溶質または分散質として発光機能層形成材料を含む第1のインクと前記第1のインクよりも比重が小さい第2のインクとを混合してなる第3のインクを吐出する第3の工程と、
前記第1のインクと前記第2のインクとを乾燥させる第4の工程と、
を含むことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
A method for producing an organic EL device comprising a plurality of organic EL elements each including a light emitting functional layer including at least an organic EL layer sandwiched between a first electrode, a second electrode, and the first electrode and the second electrode. There,
A first step of forming a plurality of the first electrodes on one surface of the substrate;
A second step of forming a partition wall surrounding each of the plurality of first electrodes in plan view;
A third ink formed by mixing a first ink containing a light emitting functional layer forming material as a solute or a dispersoid and a second ink having a specific gravity smaller than that of the first ink in a region surrounded by the partition walls. A third step of ejecting ink;
A fourth step of drying the first ink and the second ink;
The manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus characterized by the above-mentioned.
請求項6に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記第3の工程は、前記隔壁で囲まれた領域内に、溶質または分散質として発光機能層形成材料を含む第1のインクと、前記第1のインクよりも比重が小さく、かつ、前記第1のインクよりも沸点が高い第2のインクと、を混合してなるインクを吐出する工程であることを特徴とする有機EL装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the organic EL device according to claim 6,
The third step includes a first ink containing a light emitting functional layer forming material as a solute or a dispersoid in a region surrounded by the partition walls, a specific gravity smaller than that of the first ink, and the first step. A method for producing an organic EL device, comprising: ejecting an ink obtained by mixing a second ink having a boiling point higher than that of the first ink.
請求項6又は7に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記第1のインクは水を分散媒としており、前記第2のインクは有機系液体であることを特徴とする有機EL装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the organic EL device according to claim 6 or 7,
The method of manufacturing an organic EL device, wherein the first ink uses water as a dispersion medium, and the second ink is an organic liquid.
透明性基板の一方の面に隔壁を形成して、前記一方の面を底部とし前記隔壁を側壁とする複数の凹部を形成する第1の工程と、
前記凹部内に溶質または分散質としての着色材料を含む第1のインクを吐出して第1のインク層を形成する第2の工程と、
前記凹部内に前記第1のインクよりも比重が小さい第2のインクを吐出して、前記第1のインク層を覆う第2のインク層を形成する第3の工程と、
前記第1のインク層と前記第2のインク層とを乾燥させる第4の工程と、
を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
A first step of forming a partition wall on one surface of the transparent substrate and forming a plurality of recesses having the one surface as a bottom and the partition wall as a side wall;
A second step of forming a first ink layer by discharging a first ink containing a coloring material as a solute or a dispersoid in the recess;
A third step of forming a second ink layer covering the first ink layer by discharging a second ink having a specific gravity smaller than that of the first ink into the recess;
A fourth step of drying the first ink layer and the second ink layer;
A method for producing a color filter, comprising:
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