JP2011048973A - 有機el表示装置 - Google Patents
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- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 159
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 157
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 156
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 135
- 239000010408 film Substances 0.000 description 119
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 28
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 20
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 18
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 14
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 13
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 8
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 6
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 5
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- -1 aromatic tertiary amine Chemical class 0.000 description 3
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 3
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FQJQNLKWTRGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-(4-tert-butylphenyl)-5-[3-[5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol-2-yl]phenyl]-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=C(C=CC=2)C=2OC(=NN=2)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)O1 FQJQNLKWTRGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFNMUZCFSDMZPQ-GHXNOFRVSA-N 7-[(z)-3-methyl-4-(4-methyl-5-oxo-2h-furan-2-yl)but-2-enoxy]chromen-2-one Chemical compound C=1C=C2C=CC(=O)OC2=CC=1OC/C=C(/C)CC1OC(=O)C(C)=C1 CFNMUZCFSDMZPQ-GHXNOFRVSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910018137 Al-Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910016943 AlZn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018573 Al—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical class 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- XZCJVWCMJYNSQO-UHFFFAOYSA-N butyl pbd Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)O1 XZCJVWCMJYNSQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical class [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical class O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- QEPMORHSGFRDLW-UHFFFAOYSA-L zinc;2-(2-hydroxyphenyl)-3h-1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound [Zn+2].OC1=CC=CC=C1C1(C([O-])=O)OC2=CC=CC=C2N1.OC1=CC=CC=C1C1(C([O-])=O)OC2=CC=CC=C2N1 QEPMORHSGFRDLW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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Abstract
【課題】輝度が高く、かつ、長時間動作中にも輝度むらが生じない、信頼性の高い有機EL表示装置を実現する。
【解決手段】ITOによって形成された下部電極112の上に有機EL層114が形成されている。有機EL層114の上には島状銀電極1151とInZnO膜1152によって形成された上部電極115が配置されている。個々の島状銀電極1151の間はInZnO膜1152によって導通している。銀電極を島状とすることによって、銀の堆積量から換算した換算膜厚を小さく出来るので、光の透過率を高く維持することが出来る。また、島状銀電極1151が存在している部分は、銀の中を電子が流れるので、上部電極115の電気抵抗を小さくすることが出来る。これによって、輝度の大きい、かつ、長時間動作中における輝度むらの発生の少ない有機EL表示装置を実現することが出来る。
【選択図】図1
【解決手段】ITOによって形成された下部電極112の上に有機EL層114が形成されている。有機EL層114の上には島状銀電極1151とInZnO膜1152によって形成された上部電極115が配置されている。個々の島状銀電極1151の間はInZnO膜1152によって導通している。銀電極を島状とすることによって、銀の堆積量から換算した換算膜厚を小さく出来るので、光の透過率を高く維持することが出来る。また、島状銀電極1151が存在している部分は、銀の中を電子が流れるので、上部電極115の電気抵抗を小さくすることが出来る。これによって、輝度の大きい、かつ、長時間動作中における輝度むらの発生の少ない有機EL表示装置を実現することが出来る。
【選択図】図1
Description
本発明は表示装置に係り、特に輝度が高く、かつ、信頼性の高いトップエミッション型有機EL表示装置に関する。
有機EL表示装置では下部電極と上部電極との間に有機EL層を挟持し、上部電極に一定電圧を印加し、下部電極にデータ信号電圧を印加して有機EL層の発光を制御する。下部電極へのデータ信号電圧の供給は薄膜トランジスタ(TFT)を介して行われる。有機EL層は、発光層の材料によって赤、緑、青の発光を行う。このような有機EL層とTFTを有する画素をマトリクス状に配置し、各画素の発光を制御することによって画像を形成する。
有機EL表示装置には、有機EL層から発光した光を、有機EL層等が形成されたガラス基板方向に取り出すボトムエミッション型と、有機EL層等が形成されたガラス基板と逆の方向に取り出すトップエミッション型とがある。トップエミッション型はTFTが形成された領域の上にも発光領域を形成できるので、画面輝度を大きくすることが出来るという利点がある。
しかし、トップエミッション型有機EL表示装置は、上部電極を通して光を取り出す必要があり、上部電極の光の透過率によって画面の輝度が大きく影響を受ける。上部電極に透明電極を用いることによって、透過率を稼ぐことが出来るが、透明電極は金属酸化膜で形成されており、電気抵抗が高い。上部電極は表示領域前面にベタ膜で形成され、画面周辺に形成されたカソード線からカソードコンタクトを介して電流の供給を受ける。上部電極の抵抗が高いと周辺のカソード線から画面中央付近までの間で電圧降下が生ずる。そうすると、画面の周辺と画面の中央とで輝度に差がついてしまう。
上部電極を電気抵抗の小さい、銀等の金属の蒸着膜で形成すると、中央部と周辺部の輝度むらは軽減させることが出来る。しかし、金属の蒸着膜は透明ではないので、透過率を大きくすると金属膜を薄くしなければならず、そうすると、上部電極の抵抗が大きくなってしまう。
「特許文献1」には、上部電極をITO(Indium Tin Oxide)あるいはInZnO(Indium Zinc Oxide)等の透明導電膜によって形成し、上部電極と有機EL層との間に透明材料層と金属材料層を多数繰り返した構成のバッファー膜を形成することを特徴とする有機EL表示装置が記載されている。なお、透明材料層が有機EL層と接触する第1層となり、その上に金属材料層が第2層として形成されている。ここで、上部電極としてのITOまたはInZnOはスパッタリングで形成され、バッファー層は有機EL層がスパッタリングによってダメージを受けることを防止する役割を有している。
また、「特許文献1」に記載の透明材料層および金属材料層はいずれも薄く、各膜は「不連続な膜」すなわち、島状粒子から形成されていることが記載されている。透明材料層としては、LiF、MgF2、CaF、NaF、SiO2、Sb2O3等が例示されている。また、金属材料層としては、Al、Ag、Mg、Mn、あるいは合金として、AlLi、MgAg、AgLi、AlZn等が例示されている。そして、各膜の厚さは1〜5nm、より好ましくは1〜2nm、バッファー層全体の厚さは20nm以下、より好ましくは10nm以下であることが記載されている。
「特許文献1」に記載の技術は、厚さが1〜5nm、より好ましくは1〜2nmというような極薄い透明材料層と、同様に極薄い金属材料層の積層膜を多数蒸着によって重ねて形成する構成となっている。このような、極薄い多層膜を多く形成することはプロセスの制御が難しい。
また、「特許文献1」の構成は、各画素における有機EL層への電流の供給は、ITOまたはInZnOによる上部電極にたよっている。ITOまたはInZnOは金属酸化膜であるので、抵抗が大きく、画面に輝度傾斜が生じてしまうことは従来例と同様である。
銀は光の透過率をある程度確保できるほど膜厚を薄くしても所定の光透過率を確保することが出来る。しかし、薄膜としての銀は、流動性が大きく、長時間銀薄膜を電流が流れることによって、銀薄膜に亀裂が入り、銀薄膜を電流が流れなくなる。これは、上部電極の抵抗の経時変化が生ずることになり、したがって、画面の輝度むらが時間とともに増大する現象を生ずる。
このような、銀薄膜を用いた場合の、上部電極の経時変化と画面の輝度むらが生ずることを防止するために、例えば、銀にMg等の不純物を添加して銀合金を上部電極に用いる技術が開発されている。しかし、銀へのMg等の不純物の添加は電気抵抗の増大をもたらす。また、薄膜の透過率は、Mg等の不純物の添加量によって大きく影響される。したがって、個々の有機EL表示装置毎の画面輝度の安定性に問題を生ずる。
本発明の課題は以上のような問題点を解決するものであり、画面の輝度むらが小さく、かつ、画面の輝度、および輝度むらの経時変化が小さい有機EL表示装置を実現することである。
本発明は上記課題を解決するものであり、有機EL層の上部電極を銀と透明導電膜の2層構造とし、特に、銀を島状に形成することによって、銀を安定して形成し、上部電極を所定の抵抗値以下に保ち、かつ、上部電極の経時変化を軽減するものである。具体的な手段は次のとおりである。
(1)下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置であって、前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、堆積された銀の原子の重量から換算した前記島状銀電極の換算膜厚は、16nm以下であり、前記透明導電膜の膜厚は、前記銀電極の換算膜厚の2倍以上であることを特徴とする有機EL表示装置。
(2)前記島状銀電極の換算膜厚は10nm以上であることを特徴とする(1)に記載の有機EL表示装置。
(3)下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置であって、前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、前記島状銀電極の径は200nm以下であり、前記透明導電膜の膜厚は、堆積された銀の原子の重量から換算した前記島状銀電極の換算膜厚の2倍以上であることを特徴とする有機EL表示装置。
(4)前記島状銀電極の径は20nm以上であることを特徴とする(3)に記載の有機EL表示装置。
(5)下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法であって、前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、前記銀電極は真空蒸着法によって形成されており、前記透明導電膜はスパッタリングによって形成されていることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
(6)下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法であって、前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、前記銀電極はガス蒸着法によって形成されており、前記透明導電膜はスパッタリングによって形成されていることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
(7)下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法であって、前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、前記銀電極はガスデポジション法によって形成されており、前記透明導電膜はスパッタリングによって形成されていることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
本発明によれば、電気抵抗の低い、かつ、光の透過率の高い上部電極を形成することが出来るので、輝度の高い有機EL表示装置を実現することが出来る。また、輝度を所定の値に保てば、消費電力の小さい有機EL表示装置を実現することが出来る。また、本発明によれば、上部電極の断線あるいは、抵抗変化を防止することが出来るので、信頼性の高い有機EL表示装置を実現することが出来る。
さらに、本発明によれば、銀合金ではなく、純銀を用いることができるので、銀合金とした場合の、添加物の量による特性変化が無く、性能の安定した上部電極とすることが出来る。また、純銀を用いるので、プロセス制御が容易になる。また、純銀を用いるので、蒸着チャンバーにおける防着板や蒸着マスク等からの銀の回収が容易となる。したがって、環境負荷を軽減させることが出来る。なお、純銀とは、意図的に銀を合金としないと言う意味であり、銀に通常含まれる不純物まで排除するという意味ではない。
以下、実施例によって本発明の内容を詳細に説明する。
図1は本発明による有機EL表示装置の断面図であり、図2は図1の有機EL層の断面模式図であり、図3は有機EL表示装置の平面図である。また、図4は、上部電極における銀の膜厚と光透過率の関係を示すグラフである。
図3において、ガラスで形成された素子基板100の上に表示領域20と端子部25が形成されている。表示領域20には上部電極が形成されている。本発明における上部電極115は後で詳しく述べるように、島状の銀電極とInZnOの2層構造となっている。上部電極115は、表示領域20全体にベタ膜として形成されている。
本実施例においては、上部電極115は有機EL層に対してはカソードとなる。上部電極115には、表示領域の両側に形成されたカソードコンタクト領域31からカソード電流が供給される。カソードコンタクト領域31には、端子部25からカソード線32がカソードコンタクト領域31に延在し、電流を供給する。図3において、上部電極115は表示領域20よりもわずかに大きく形成され、カソードコンタクト領域31を覆うことによってカソードコンタクトから上部電極115に電流が供給される。
図3において、上部電極115に対する電流は、表示領域20の両側から供給される。したがって、上部電極115の抵抗が大きいと上部電極115内で電圧降下が生じ、表示領域20の両側と表示領域20の中央部とで、輝度差を生ずる。この場合は、表示領域20の中央付近が表示領域20の両側よりも輝度が小さくなる。画面の中央において、輝度が小さいと不自然な画像となる。
この対策として、本発明においては、島状の銀電極とInZnO膜を積層して用いることによって上部電極115の電気抵抗を小さくし、表示領域20の両側と表示領域20の中央部における輝度差を軽減している。また、本発明においては、個々の島状の銀電極は所定の厚さとすることができるので、特性が安定しており、寿命中に銀電極に亀裂が生じて上部電極の電気抵抗を変化させるような現象を防止することが出来る。
図3では、表示領域20の両側にカソードコンタクト領域31を形成している。場合によっては、表示領域20から有機EL表示装置10の外形までの寸法、いわゆる額縁の寸法を小さくしたい場合がある。このような場合は、表示領域20の両側にカソードコンタクト領域31を形成せず、表示領域20と端子部25との間にカソードコンタクト領域31を形成する場合もある。このような構成であっても本発明を適用することが出来る。
図3では省略されているが、端子部25からは、表示領域20の例えば、横方向に延在する走査線に走査信号を供給する走査信号引き出し線が表示領域20に延在している。また、表示領域20の例えば、縦方向に延在する映像信号線に映像信号を供給する映像信号引出し線が表示領域20に延在している。
有機EL層は水分が存在すると発光特性が劣化する。したがって、上部電極115の上には、ガラスによる封止基板、あるいは、無機パッシベーション膜と有機平坦化膜等による封止構造が形成される。ガラスによる封止基板を用いる場合、封止基板と素子基板に形成された上部電極115との間が空間となっている構造を中空封止方式という。また、ガラスによる封止基板と素子基板に形成された上部電極115との間に有機樹脂等によるクッション構造が形成されている場合もある。一方、ガラスによる封止基板を使用せず、平坦化膜を兼ねた有機パッシベーション膜と無機パッシベーション膜によって水分を遮断する構造も開発されている。この構成を固体封止という。図3においては、これらの封止構造は省略されているが、本発明はこれらのいずれの封止構造についても適用することが出来る。
図1は、本発明を示す表示領域の断面図およびカソードコンタクト領域31の断面図である。図1の表示領域20において、ガラスで形成された素子基板100の上に、SiNで形成された第1下地膜101が形成され、その上にSiO2で形成された第2下地膜102が形成されている。第1下地膜101と第2下地膜102の役割は、ガラス基板から析出する不純物が半導体層103を汚染して特性を劣化させることを防止することである。
第2下地膜102の上には、半導体層103が形成されている。本実施例では、半導体層103はpoly−Siによって形成され、厚さは50nm程度である。poly−Si半導体層103の形成方法は、まず、a−Si層を形成し、これを、エキシマレーザ等によってアニールすることによってpoly−Si層に変換する。
半導体層103の上にはゲート電極105が形成される。ゲート電極105はゲート配線と同層で形成される。半導体層103には、チャンネル部とソース領域、ドレイン領域が形成されるが、このソース領域およびドレイン領域は、ゲート電極105をマスクとして半導体層103にイオンインプランテーションによって不純物を添加することによって形成される。
ゲート電極105を覆って層間絶縁膜106がSiN等によって形成される。層間絶縁膜106の上には、ソース配線108、ドレイン配線107が形成される。本実施例では、映像信号線はドレイン配線107と同義である。ソース配線108、ドレイン配線107には有機EL層114を発光させるための電流が流れるので、抵抗が低い金属であるAlが用いられ、厚さも700nm程度と、厚く形成される。なお、Al配線の下層には、Alによる半導体等への汚染を防止するためのバリアメタルがMoあるいはTi等の高融点金属で形成され、Al配線の上方には、Alのヒロックを防止するためのキャップメタルがMoあるいはTi等の高融点金属で形成される。
ソース配線108およびドレイン配線107は、ゲート絶縁膜104および層間絶縁膜106に形成されたスルーホールを介して、それぞれ、半導体層103のソース領域、ドレイン領域と接続する。また、ソース配線108は、図示しないシール部を通って、端子部25に延在している。一方、ドレイン配線107は有機EL層114の下部電極112と接続する。
ソース配線108、ドレイン配線107を覆って、無機パッシベーション膜109がSiN等で形成される。無機パッシベーション膜の役割は、主として、TFTを外部からの不純物から保護することである。無機パッシベーション膜109の上には、有機パッシベーション膜110が形成される。有機パッシベーション膜の役割は、TFTを保護するとともに、表面を平坦化することである。これによって、有機EL層114を平坦化された面に形成することが可能となり、有機EL層114が断切れを生じたりすることを防止することが出来る。
有機パッシベーション膜110の上には、反射膜111がAl−Zn合金によって形成される。反射膜にはAgが使用されることもある。反射膜は反射率の高い金属であれば良い。本実施例における有機EL表示装置10は、トップエミッション型なので、反射膜111によって有機EL層114で発生した光を図1の上方に反射して光の利用効率を高める。反射膜111は有機パッシベーション膜110による平坦化膜の上に形成されるので、高い反射率を維持することが出来る。
反射膜111の上には、有機EL層114のアノードとなる透明導電膜であるITO(Indium Tin Oxide)で形成された下部電極112を被着する。ITOは仕事関数が大きいので、アノードとして好適である。下部電極112となるITOは、無機パッシベーション膜109および有機パッシベーション膜110に形成されたスルーホールを介してドレイン配線107と接続する。
本実施例は下部電極112が有機EL層114に対するアノードとなり、上部電極115が有機EL層114に対するカソードとなる、いわゆるトップカソード型の有機EL表示装置である。有機EL層はカソード側において、外部環境、特に水分の影響を受けやすい。トップカソード型はデリケートなカソード付近を最後に形成するので、プロセスの安定性に優れている。
下部電極112の上には有機EL層114が形成される。図2において、有機EL層は、色別有機EL層1145と共通有機EL層1146とに分かれている。色別有機EL層1145は、ホール輸送層と発光層から形成され、色別に精密蒸着マスクを用いて蒸着される。共通有機EL層1146は、電子輸送層と電子注入層から形成され、精密蒸着マスクを用いず、各色共通に蒸着される。
なお、後で述べるように、有機EL層114は各膜厚が薄いので、下部電極112等の段差によって容易に断線を生じたり、短絡を生じたりする。これを防止するために、各色画素の境界にバンク113を形成し、有機EL層が下部電極112の段差等によって破壊することを防止している。本実施例では、バンク113はアクリル樹脂によって形成されているが、これに限らず、他の有機膜、あるいは、無機膜で形成しても良い。
図2は有機EL層114の構造を示す模式図である。図2において、下側すなわちアノード側からホール輸送層1141、発光層1142、電子輸送層1143、電子注入層1144が形成されている。ホール輸送層1141と発光層1142は色別有機EL層1145であり、各色画素毎に形成され、電子輸送層1143と電子注入層1144は各色共通に形成される。
図2において、ホール輸送層1141および発光層1142の膜厚は、各色で異なっている。各層の形成方法は、蒸着マスクを用いて各色毎に蒸着によって形成する。青色部分はホール輸送層1141を120nm、発光層1142を40nm、緑色部分はホール輸送層1141を180nm、発光層1142を40nm、赤色部分はホール輸送層1141を250nm、発光層1142を30nm形成する。このように、各色において、ホール輸送層1141の膜厚を異ならせるのは、ホール輸送層1141の膜厚を各色の波長の整数倍近辺とすることによって、最も効率よく光を取り出すためである。
図2において、有機EL層1145の上には、電子輸送層1143、および電子注入層1144が形成されている。電子輸送層1143の膜厚は例えば、30nm、電子注入層1144の膜厚は例えば、10nmである。電子輸送層1143および電子注入層1144は各色とも共通に形成することが出来るので、精密蒸着マスクを使用せずに、全面ベタで蒸着する。
有機EL層114は複数の層から成っているが、構成は次のとおりである。ホール輸送層1141は、例えば、テトラアリールベンジシン化合物(トリフェニルジアミン:TPD)、芳香族三級アミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体、銅フタロシアニン誘導体等を用いることができる。
発光層1142材料としては電子、ホールの輸送能力を有するホスト材料に、それらの再結合により蛍光もしくはりん光を発するドーパントを添加したもので共蒸着により発光層1142として形成できるものであれば特に限定は無く、例えば、ホストとしてはトリス(8−キノリノラト)アルミニウム、ビス(8−キノリノラト)マグネシウム、ビス(ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウムオキシド、トリス(8−キノリノラト)インジウム、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム、8−キノリノラトリチウム、トリス(5−クロロ−8−キノリノラト)ガリウム、ビス(5−クロロ−8−キノリノラト)カルシウム、5,7−ジクロル−8−キノリノラトアルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−ヒドロキシキノリノラト)アルミニウム、ポリ[亜鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−キノリニル)メタン]のような錯体、アントラセン誘導体、カルバゾール誘導体、等であっても良い。
また、ドーパントとしてはホスト中で電子とホールを捉えて再結合させ発光するものであって、例えば赤ではピラン誘導体、緑ではクマリン誘導体、青ではアントラセン誘導体などの蛍光を発光する物質やもしくはイリジウム錯体、ピリジナート誘導体などりん光を発する物質であっても良い。
電子輸送層1143としては、電子輸送性を示し、アルカリ金属と共蒸着することにより電荷移動錯体化しやすいものであれば特に限定は無く、例えばトリス(8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(4-メチル-8-キノリノラート)アルミニウム、ビス(2-メチル−8−キノリノラート)−4−フェニルフェノラート−アルミニウム、ビス[2-[2-ヒドロキシフェニル]ベンゾオキサゾラート]亜鉛などの金属錯体や2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン等を用いることができる。
電子注入層1144は電子輸送層1143に用いた物質に対して電子供与性を示す材料を共蒸着して形成した、例えば、リチウム、セシウム、カリウムなどのアルカリ金属、マグネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属、さらには希土類金属等の金属類、あるいはそれらの酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物等から選択して電子供与性を示す物質として用いてもかまわない。
有機EL層114を覆って上部電極115が形成される。上部電極115は、有機EL層114に電流を供給するので、電気抵抗が小さい必要がある。同時に、有機EL層114からの光を外部に取り出す必要があるので、光透過率が高い必要がある。本発明においては、有機EL層114の上にまず、銀を蒸着する。純銀は薄膜とすると、光の透過率をある程度確保することが出来、また、電気抵抗も比較的小さく保つことが出来る。
しかし、純銀は凝集性が高く、薄膜にして上部電極115として使用した場合に、長時間の動作中に、銀が移動して、銀薄膜に亀裂を生ずる場合がある。このような現象が生ずると、上部電極115の抵抗が変化したり、あるいは、上部電極115が断線する現象も生ずる。この結果、画面輝度の変化や画面に輝度むらを生ずる。
このような純銀を用いた場合の問題点を対策するために、上部電極115として、銀にMg等を加えた合金を用いる手段も開発されている。しかし、このような銀合金は、電気抵抗が高くなる。また、このような銀合金においては、銀に対するMg等の添加量によって、電気的特性、光学的な特性が敏感に変化する。したがって、銀合金成膜におけるプロセスの管理が困難であるという問題も有している。
本発明は、上部電極115として、まず、銀を島状に蒸着によって形成し、その上にInZnOをスパッタリングによって形成することによる2層構造とすることによって上部電極115の低抵抗化と高光透過率化を実現している。本発明は、特に、銀を一様な薄膜とするのではなく、島状とすることによって、形成した銀電極の経時変化を防止している。島状の銀電極の形状は不連続な複数の膜で構成されており、長時間動作時の純銀薄膜の亀裂現象を防止する観点から、予め各々の不連続膜は非導通状態であることが好ましい。この非導通状態の島状となった銀と銀の間の導通をInZnOによっておこなっている。
InZnOは、銀と銀の間を接続する役割をしているだけであり、上部電極115の電気抵抗は主として銀によって決められるので、上部電極115の電気抵抗を小さく保つことが出来る。また、銀は島状に形成しているので、一様な膜を形成するように厚く蒸着する必要は無い。したがって、銀電極の光透過率を高く保つことが出来る。
銀電極は島状に形成されるが、膜厚は、単位面積当たりの島状に形成された銀の質量を膜厚に換算すれば良い。言い換えると、単位面積当たりの平均膜厚と同様である。銀電極は蒸着によって形成されるが、蒸着によって堆積された銀の質量を測定することによって膜厚を求める。具体的には、蒸着チャンバー内に、例えば、水晶振動子を設置しておき、この水晶振動子の振動数の変化によって、基板に堆積された銀の質量をモニターすることが出来る。
図4は、銀電極の換算膜厚と透過率の関係を示すグラフである。図4において、横軸THは銀の堆積質量から換算した銀電極の膜厚であり、縦軸TRは光の透過率である。図4に示すように、銀の膜厚が14nmから12nm程度に変化するだけで、光透過率は35%程度から50%程度と大幅に変化する。銀電極の膜厚が12nmで光透過率は50%となる。
本発明は、銀を島状に形成し、換算膜厚を16nm以下とすることによって光透過率を所定の量以上としている。また、この換算膜厚16nmの場合における画面への視野角依存性において、色度座標の変化量を0.1以下に抑えることができ、画像の視認性を保つことができる。更に、換算膜厚を12nm以下とすると、光透過率50%以上を確保できるとともに、色度座標の変化量を0.01以下まで抑えることができるので、画像の視認性が更に向上し、明るい画像で鮮やかな色が再現できる。銀電極の電気抵抗を考慮すると、銀電極の換算膜厚は10nm以上とすることが好ましい。したがって、島状銀電極1151の好ましい膜厚の範囲は10nm〜16nm、更により好ましい膜厚は10nm〜12nmである。
一方、島状に形成した銀電極の径が大きいと有機EL層114からの光が散乱される可能性がある。光の散乱を防止するためには、島状銀電極1151の径は200nm以下とするのが良い。島状銀電極1151の外形が円形ではない場合、上記径は、長径を測定すれば良い。一方、島状に銀電極を形成するには、蒸着条件の制御が必要になるが、この蒸着条件によって制御出来る島状銀電極1151の大きさは20nm程度であるので、安定して銀電極を形成するには、島状銀電極1151の大きさは20nm〜200nm程度とするのが良い。
このような島状の銀電極を形成するために、銀の蒸着条件を制御する必要がある。島状銀電極1151の径は、真空蒸着時の基板温度によって影響を受ける。基板温度を高く設定すると膜の被着強度は強くなるが、島状銀電極1151の径が大きくなる。本実施例においては、銀を真空蒸着によって被着するが、蒸着されるTFT基板の基板温度は20℃〜60℃とする。これによって、島状銀電極1151の径を20nm〜200nm程度に制御することが出来る。
また、銀の蒸着速度が速いと、島状の銀電極を形成しづらくなる。また、蒸着速度が早いと、島状の蒸着膜を形成したとしても、均一な島状の銀電極を形成しづらくなる。本実施例においては、銀の堆積速度を1nm/sec以下とすることによって均一な径の島状銀電極1151を形成している。なお、1nmは先に説明した、銀の質量からの換算膜厚である。
銀電極は島状に形成されるので、銀電極だけでは導通をとることが出来ない。本発明では、銀電極の上にInZnO(Indium Zinc Oxide)膜を形成することによって上部電極115を形成している。InZnO膜1152によって、島状銀電極1151を導通させているが、島状銀電極1151の部分では、電子は銀を通過するので、上部電極115全体としては、電気抵抗を小さくすることが出来る。
InZnOは連続膜である必要があるので、膜厚は、銀電極の換算膜厚の倍以上の膜厚で形成される。本実施例においては、InZnO膜1152は50nm程度被着している。InZnOは透明導電膜なので、50nm程度の膜厚で形成しても光の透過率に対しては大きな影響は無い。また、InZnOは銀と異なり、流動性が小さいので、経時的に原子が移動して膜に亀裂が生ずるという問題も無い。
InZnO膜1152が形成される下地は島状の銀電極である。蒸着によってInZnOを形成する場合は、島状銀電極1151の影にInZnOが堆積されない場合がある。そうすると、上部電極115の電気抵抗の制御が難しくなる。本発明では、InZnOをスパッタリングによって形成することによって島状銀電極1151の影の影響を軽減して、均一なInZnO膜1152を形成している。
本実施例においては、上部電極115では、ITOではなくInZnOを使用している。ITOはアニール後はInZnOよりも電気抵抗は小さい。しかし、上部電極115を形成するときは、すでに有機EL層114が形成されている。有機EL層114はITOのアニール温度まで、温度を上昇させると、大きなダメージが与えられるので、ITOのアニールを行うことが出来ない。一方、InZnOはアニール前はITOよりも電気抵抗は小さい。したがって、本実施例においては、上部電極115にはInZnOを使用している。
しかし、携帯電話等の小型ディスプレイ用の有機EL表示装置は、画面寸法が小さいので、上部電極の電気抵抗が多少大きくても輝度むらは目立ち難い。従って、ディスプレイの用途によっては、上部電極としてアニールを行わない状態のITO、或いは有機ELに影響を与えない程度の低温でアニールを行った状態のITOを使用することも可能である。
図1において、左側は、カソードコンタクト領域31の断面図である。カソードコンタクト領域31には、端子部25からカソード線32が延在している。カソード線32はソース配線あるいはドレイン配線と同層で形成される。カソード線32の上には無機パッシベーション膜109、有機パッシベーション膜110が形成されている。無機パッシベーション膜109および有機パッシベーション膜110にスルーホールを形成し、このスルーホール部にITOを形成してカソード線32と上部電極115の導通を取るためのカソードコンタクト30が形成される。スルーホール部のITOは表示領域20における下部電極112のITOと同層で形成される。
表示領域20からは、島状銀電極1151とInZnO膜1152とで形成された上部電極115がカソードコンタクト領域31に延在し、カソードコンタクト領域31に形成されたITOと導通をとる。カソード線32から、表示領域20の全画素へのカソード電流が供給される。なお、島状銀電極1151はカソードコンタクト領域31にまで形成されている。上部電極115の電気抵抗を出来るだけ小さくするためである。
このようにして素子基板100が形成される。素子基板100に形成されている有機EL層114は水分に弱く、水分が存在すると反応して、発光しなくなる。これを防止するために、素子基板100に対してガラスによる封止基板によって封止したり、無機パッシベーション膜と有機パッシベーション膜の積層膜によって素子基板100を封止したりする技術等が存在する。本発明は、このようないずれの封止方法を用いた有機EL表示装置についても適用することが出来る。
本実施例は、上部電極115の形成方法が実施例1と異なるのみで、有機EL表示装置の他の構成は実施例1と同様である。本発明は、上部電極115における銀電極を島状に形成することに特徴を有している。本実施例は、より確実に島状銀電極1151を形成する方法に関する。
有機EL層114を形成した後の素子基板100に対して実施例1においては、真空蒸着によって銀を蒸着する。これに対して、本実施例の第1の形態においては、銀電極をより制御された島状銀電極1151とするために、ガス中蒸着法を用いる。本実施例で用いるガス中蒸着法は、真空チャンバー内にHeあるいはAr等の不活性ガスを10Torrほど導入しておく。この状態で、蒸着を行うことによって、島状電極の大きさをより正確に制御することが出来る。ガス中蒸着法を用いる場合も、基板温度は低く保ち、銀の堆積速度も所定の値以下に保つことは実施例1と同様である。
本実施例における第2の形態による島状銀電極1151の形成方法は、ガスデポジション法を用いることによって島状銀電極1151を形成する方法である。図5はガスデポジションによる島状銀電極1151を形成する模式図である。図5において、第1チャンバー201には銀の蒸着源210が配置されている。また、第1チャンバー201にはHeガスが導入される。
第2チャンバー202は高真空チャンバーとなっており、有機EL層114まで形成された素子基板100が配置されている。第1チャンバー201における蒸着源210を加熱すると、銀が蒸発する。蒸発した銀は、第1チャンバー201に導入されたHeに載って第2チャンバー202に配置されている素子基板100の表面に堆積する。Heは、第2チャンバー202に形成されたノズルからチャンバー外に放出され、第2チャンバー202内は高真空に保たれている。このような、ガスデポジションを用いる方法は、素子基板100に形成される島状銀電極1151の形状の制御を容易におこなうことが出来る。
以上のように、本発明によれば、電気抵抗の低い、かつ、光の透過率の高い上部電極115を形成することが出来るので、輝度の高い有機EL表示装置を実現することが出来る。また、輝度を所定の値に保てば、消費電力の小さい有機EL表示装置を実現することが出来る。また、本発明によれば、上部電極115の断線あるいは、抵抗変化を防止することが出来るので、信頼性の高い有機EL表示装置を実現することが出来る。
また、本発明によれば、銀合金ではなく、純銀を用いることができるので、銀合金とした場合の、添加物の量による特性変化が無く、性能の安定した上部電極115とすることが出来る。また、純銀を用いるので、プロセス制御が容易になる。また、純銀を用いるので、蒸着チャンバーにおける防着板や蒸着マスク等からの銀の回収が容易となる。したがって、環境負荷を軽減させることが出来る。なお、本発明における純銀とは、意図的に銀を合金としないと言う意味であり、銀に通常含まれる不純物まで排除するという意味ではない。
10…有機EL表示装置、 20…表示領域、 25…端子部、 30…カソードコンタクト、 31…カソードコンタクト領域、 32…カソード引出し線、 100…素子基板、 101…第1下地膜、 102…第2下地膜、 103…半導体層、 104…ゲート絶縁膜、 105…ゲート電極、 106…層間絶縁膜、 107…ドレイン配線、 108…ソース配線、 109…無機パッシベーション膜、 110…有機パッシベーション膜、 111…反射膜、 112…下部電極、 113…バンク、 114…有機EL層、 115…上部電極、 201…第1チャンバー、 202…第2チャンバー、 210…蒸着源、 1141…ホール輸送層、 1142…発光層、 1143…電子輸送層、 1144…電子注入層、 1145…色別有機EL層、 1146…共通有機EL層、 1151…銀電極、 1152…InZnO層。
Claims (7)
- 下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置であって、
前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、
堆積された銀の原子の重量から換算した前記島状銀電極の換算膜厚は、16nm以下であり、前記透明導電膜の膜厚は、前記銀電極の換算膜厚の2倍以上であることを特徴とする有機EL表示装置。 - 前記島状銀電極の換算膜厚は10nm以上であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。
- 下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置であって、
前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、
前記島状銀電極の径は200nm以下であり、前記透明導電膜の膜厚は、堆積された銀の原子の重量から換算した前記島状銀電極の換算膜厚の2倍以上であることを特徴とする有機EL表示装置。 - 前記島状銀電極の径は20nm以上であることを特徴とする請求項3に記載の有機EL表示装置。
- 下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法であって、
前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、
前記銀電極は真空蒸着法によって形成されており、
前記透明導電膜はスパッタリングによって形成されていることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法であって、
前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、
前記銀電極はガス蒸着法によって形成されており、
前記透明導電膜はスパッタリングによって形成されていることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 下部電極と上部電極に挟持された有機EL層とTFTを有する画素がマトリクス状に配置された表示領域と、前記上部電極に電流を供給するコンタクト領域を有するトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法であって、
前記上部電極は、前記有機EL層の上に形成された島状銀電極と前記島状銀電極の上に形成された透明導電膜の積層構造によって構成され、
前記銀電極はガスデポジション法によって形成されており、
前記透明導電膜はスパッタリングによって形成されていることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009195252A JP2011048973A (ja) | 2009-08-26 | 2009-08-26 | 有機el表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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JP2011048973A true JP2011048973A (ja) | 2011-03-10 |
Family
ID=43835120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009195252A Pending JP2011048973A (ja) | 2009-08-26 | 2009-08-26 | 有機el表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011048973A (ja) |
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WO2013137234A1 (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-19 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極、電子デバイス、および透明電極の製造方法 |
WO2013172225A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極の製造方法 |
JP2014103104A (ja) * | 2012-10-22 | 2014-06-05 | Konica Minolta Inc | 透明電極、電子デバイスおよび有機エレクトロルミネッセンス素子 |
WO2014103573A1 (ja) * | 2012-12-26 | 2014-07-03 | コニカミノルタ株式会社 | タッチパネル用透明電極、タッチパネル、表示装置、およびタッチパネル用透明電極の製造方法 |
JP2014142456A (ja) * | 2013-01-23 | 2014-08-07 | Japan Display Inc | 表示装置 |
-
2009
- 2009-08-26 JP JP2009195252A patent/JP2011048973A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013137234A1 (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-19 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極、電子デバイス、および透明電極の製造方法 |
WO2013172225A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極の製造方法 |
JP2014103104A (ja) * | 2012-10-22 | 2014-06-05 | Konica Minolta Inc | 透明電極、電子デバイスおよび有機エレクトロルミネッセンス素子 |
WO2014103573A1 (ja) * | 2012-12-26 | 2014-07-03 | コニカミノルタ株式会社 | タッチパネル用透明電極、タッチパネル、表示装置、およびタッチパネル用透明電極の製造方法 |
JPWO2014103573A1 (ja) * | 2012-12-26 | 2017-01-12 | コニカミノルタ株式会社 | タッチパネル用透明電極、タッチパネル、表示装置、およびタッチパネル用透明電極の製造方法 |
JP2014142456A (ja) * | 2013-01-23 | 2014-08-07 | Japan Display Inc | 表示装置 |
US9634080B2 (en) | 2013-01-23 | 2017-04-25 | Japan Display Inc. | Display device |
US9871092B2 (en) | 2013-01-23 | 2018-01-16 | Japan Display Inc. | Display device with reduced frame size |
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