JP2011040360A - Photosensitive paste for forming plasma display panel electrode - Google Patents

Photosensitive paste for forming plasma display panel electrode Download PDF

Info

Publication number
JP2011040360A
JP2011040360A JP2009211568A JP2009211568A JP2011040360A JP 2011040360 A JP2011040360 A JP 2011040360A JP 2009211568 A JP2009211568 A JP 2009211568A JP 2009211568 A JP2009211568 A JP 2009211568A JP 2011040360 A JP2011040360 A JP 2011040360A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
forming
photosensitive paste
display panel
plasma display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009211568A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5438443B2 (en
Inventor
Chan Seok Park
贊碩 朴
Tokan Kin
東完 金
Seikun Lee
成勳 李
Eikan Lee
英煥 李
Jeong Hoon Park
廷▲薫▼ 朴
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dongjin Semichem Co Ltd
Original Assignee
Dongjin Semichem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongjin Semichem Co Ltd filed Critical Dongjin Semichem Co Ltd
Publication of JP2011040360A publication Critical patent/JP2011040360A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5438443B2 publication Critical patent/JP5438443B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20Constructional details
    • H01J11/22Electrodes, e.g. special shape, material or configuration
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0042Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode, wherein the photosensitive paste can form a bus electrode of a plasma display panel where a black layer and a conductive layer are integrated, can reduce manufacturing cost and bake at low temperature by reducing usage of a black pigment, can form a high resolution electrode pattern, and can improve degree of blackness of the plasma display panel without increasing resistance. <P>SOLUTION: The photosensitive paste for forming the plasma display panel electrode includes: (a) 40-80 pts.wt. of metal powder for electrode; (b) 1-10 pts.wt. of V<SB>2</SB>O<SB>5</SB>-P<SB>2</SB>O<SB>5</SB>based, or V<SB>2</SB>O<SB>5</SB>-P<SB>2</SB>O<SB>5</SB>based and Bi<SB>2</SB>O<SB>3</SB>-ZnO-B<SB>2</SB>O<SB>3</SB>based-mixed black glass frit; (c) 1-7 pts.wt. of Cu-Co-Mn based black pigment; and (d) 7-40 pts.wt. of photosensitive organic component. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明はプラズマディスプレイパネル(以下、‘PDP’という)において黒色層と導電層が一体化したバス電極形成用感光性ペーストに関するものであって、黒色顔料の使用量を減少させて製造費用節減と共に低温焼成が可能であり、高解像度電極パターン形成が可能であり、抵抗の増加なしに黒色度を改善させることができる。   The present invention relates to a photosensitive paste for forming a bus electrode in which a black layer and a conductive layer are integrated in a plasma display panel (hereinafter referred to as 'PDP'), which reduces the amount of black pigment used and reduces manufacturing costs. Low-temperature firing is possible, high-resolution electrode patterns can be formed, and blackness can be improved without increasing resistance.

最近、ディスプレイ装置において、大型化、高密度化、高精密化、及び高信頼性の要求が高まることによって、色々なパターン加工技術の開発が行われており、またこのような多様なパターン加工技術に適した各種の微細電極形成用ペーストに関する研究と生産費を減らせる方法に関する研究が活発に行われている。   Recently, various pattern processing technologies have been developed due to increasing demands for larger, higher density, higher precision, and higher reliability in display devices, and such a variety of pattern processing technologies. Research on various fine electrode forming pastes suitable for use and methods for reducing production costs are being actively conducted.

PDPは、液晶パネルと比較するとき応答速度が速く、大型化が容易であって、現在多様な分野に利用されており、図1に示したように、透明基板110の下面にスキャン電極120及び維持電極130が形成された上部基板100と、アドレス電極210及び隔壁220が形成された下部基板200とを含む構造を有している。従来このようなPDPを形成する方法では、上部基板をなすガラスなどの透明基板上にITO等からなる透明電極(層)を形成させ、その上に2回の印刷工程を通して、コントラスト向上及びバス電極をなす金属ラインの反射光を除去するためにガラスフリット及び黒色顔料を含むペーストで形成させた黒色層、及びその上に別途に電気伝導性に優れた金属粉末及びガラスフリットを含むペーストで形成させた導電層を形成することによって2層構造のバス電極を形成させてPDP上部基板を製造した。   The PDP has a high response speed when compared with a liquid crystal panel and is easily increased in size, and is currently used in various fields. As shown in FIG. The structure includes an upper substrate 100 on which the sustain electrodes 130 are formed, and a lower substrate 200 on which the address electrodes 210 and the barrier ribs 220 are formed. Conventionally, in such a method of forming a PDP, a transparent electrode (layer) made of ITO or the like is formed on a transparent substrate such as glass forming an upper substrate, and contrast improvement and bus electrodes are performed on the transparent electrode (layer) through two printing processes. In order to remove the reflected light of the metal line forming the black line, a black layer formed of a paste containing glass frit and black pigment, and a paste containing a metal powder and glass frit excellent in electrical conductivity on the black layer. A bus electrode having a two-layer structure was formed by forming a conductive layer, thereby manufacturing a PDP upper substrate.

しかし、このようなバス電極の形成方法は、黒色層と導電層の2層構造の形成のためにそれぞれのペーストを使用するため工程費用が高く、黒色層と導電層の結合による問題のため製品物性に悪影響を及ぼして不良率が高く、570℃以上の高温で焼成が行われるため工程費消耗が大きいという問題点があり、これを解決するために多様な研究を行っているのが実情であった。   However, such a bus electrode formation method is expensive because each paste is used to form a two-layer structure of a black layer and a conductive layer, and the product due to a problem due to the combination of the black layer and the conductive layer. There is a problem that the defect rate is high due to adverse effects on physical properties and the process cost is high because firing is performed at a high temperature of 570 ° C. or higher, and various studies are being conducted to solve this problem. there were.

従って、本発明は、製造費用節減と共に低温焼成が可能であり、高解像度電極パターン形成が可能であり、抵抗の増加なしに黒色度を改善させることができる、黒色層と導電層が一体化したPDPバス電極形成用感光性ペーストを提供することを目的とする。
また、本発明は、前記電極形成用感光性ペーストを使用したPDPの製造方法及びこれを含むPDPを提供することを目的とする。
Therefore, according to the present invention, the black layer and the conductive layer are integrated so that the manufacturing cost can be reduced and the low temperature firing is possible, the high resolution electrode pattern can be formed, and the blackness can be improved without increasing the resistance. An object of the present invention is to provide a photosensitive paste for forming a PDP bus electrode.
It is another object of the present invention to provide a method for producing a PDP using the electrode forming photosensitive paste and a PDP including the same.

前記目的を達成するために本発明は、a)電極用金属粉末40〜80重量部と、b)V25−P25系、又はV25−P25系とBi23−ZnO−B23系混合の黒色ガラスフリット1〜10重量部と、c)Cu−Co−Mn系黒色顔料1〜7重量部;及び、d)感光性有機成分7〜40重量部とを含む、PDP電極形成用感光性ペーストを提供する。 In order to achieve the above object, the present invention comprises: a) 40 to 80 parts by weight of metal powder for electrode; b) V 2 O 5 —P 2 O 5 system, or V 2 O 5 —P 2 O 5 system and Bi. 1 to 10 parts by weight of a black glass frit mixed with 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 , c) 1 to 7 parts by weight of a Cu—Co—Mn black pigment; and d) a photosensitive organic component 7 to 40 Provided is a photosensitive paste for forming a PDP electrode, including a weight part.

本発明はまた、a)前記電極形成用感光性ペーストを透明基板上に塗布する工程と、b)前記電極形成用感光性ペーストが塗布された透明基板を露光し、現像して電極パターンを形成する工程と、c)前記電極パターンが形成された透明基板を焼成して電極を形成する工程とを含むPDPの製造方法を提供する。
また本発明は、前記方法で製造されたPDPを提供する。
好ましくは、前記PDP電極は黒色層と導電層が一体化したバス電極である。
The present invention also includes: a) a step of applying the electrode forming photosensitive paste on a transparent substrate; and b) exposing and developing the transparent substrate on which the electrode forming photosensitive paste is applied to form an electrode pattern. And a step of c) baking the transparent substrate on which the electrode pattern is formed to form an electrode.
The present invention also provides a PDP manufactured by the above method.
Preferably, the PDP electrode is a bus electrode in which a black layer and a conductive layer are integrated.

本発明によるPDP電極形成用感光性ペーストは、黒色顔料の使用量を減少させて低温焼成が可能であり、高解像度電極パターン形成が可能であり、抵抗の増加なしにPDPでの黒色度を改善させることができる。
また、本発明によって、黒色層と導電層が一体化したバス電極を製造することによって、従来2段階のバス電極形成工程を1段階に減らしてPDP製造工程を単純化し、黒色顔料の使用量を減少させて製造費用を顕著に節減でき、PDP電極製造による不良を著しく減少させることができる。だけでなく、前記ペーストは自体感光性であるため、電極形成時のドライフィルムレジスト又はフォトレジストが必要なくて、電極製造時の費用を節減することができる。
The photosensitive paste for forming a PDP electrode according to the present invention can be fired at a low temperature by reducing the amount of black pigment used, can form a high resolution electrode pattern, and improves the blackness in the PDP without increasing the resistance. Can be made.
In addition, according to the present invention, by manufacturing a bus electrode in which a black layer and a conductive layer are integrated, the conventional two-stage bus electrode formation process is reduced to one stage, thereby simplifying the PDP manufacturing process and reducing the amount of black pigment used. Therefore, the manufacturing cost can be significantly reduced, and the defects due to the manufacturing of the PDP electrode can be significantly reduced. In addition, since the paste is photosensitive per se, a dry film resist or a photoresist is not necessary when forming the electrode, and the cost for manufacturing the electrode can be reduced.

一般的なプラズマディスプレイパネルの構造を概略的に示した図面である。1 is a diagram schematically illustrating a structure of a general plasma display panel. 本発明のプラズマディスプレイパネルの一実施例に係る上部基板構造一部の断面を示した図面である。1 is a cross-sectional view of a part of an upper substrate structure according to an embodiment of a plasma display panel of the present invention. 本発明のプラズマディスプレイパネルの他の実施例に係る上部基板構造一部の断面を示した図面である。6 is a cross-sectional view of a part of an upper substrate structure according to another embodiment of the plasma display panel of the present invention.

以下、本発明を詳しく説明する。
本発明はPDP電極形成時にV25−P25系黒色ガラスフリットを使用して黒色顔料の含量を減少させ、低温焼成が可能であり、抵抗の増加なしに黒色度を改善させることができる、黒色層と導電層が一体化したバス電極形成用感光性ペーストを提供することを特徴とする。
The present invention will be described in detail below.
The present invention uses a V 2 O 5 —P 2 O 5 black glass frit at the time of forming a PDP electrode to reduce the black pigment content, enable low-temperature firing, and improve blackness without increasing resistance. It is possible to provide a photosensitive paste for forming a bus electrode in which a black layer and a conductive layer are integrated.

つまり、本発明の一実現例による電極形成用感光性ペーストは、a)電極用金属粉末と、b)V25−P25系、又はV25−P25系とBi23−ZnO−B23系混合の黒色ガラスフリットと、c)黒色顔料と、d)感光性有機成分とを含み、好ましくは、a)電極用金属粉末40〜80重量部と、b)V25−P25系、又はV25−P25系とBi23−ZnO−B23系混合の黒色ガラスフリット1〜10重量部と、c)Cu−Co−Mn系黒色顔料1〜7重量部と、d)感光性有機成分7〜40重量部とを含む。 That is, the electrode-forming photosensitive paste according to an embodiment of the present invention includes: a) a metal powder for an electrode; and b) a V 2 O 5 —P 2 O 5 system or a V 2 O 5 —P 2 O 5 system. A black glass frit mixed with Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 , c) a black pigment, and d) a photosensitive organic component, preferably a) 40 to 80 parts by weight of metal powder for an electrode; B) 1 to 10 parts by weight of a black glass frit of a V 2 O 5 —P 2 O 5 system, or a V 2 O 5 —P 2 O 5 system and a Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 system, c) 1 to 7 parts by weight of a Cu-Co-Mn black pigment, and d) 7 to 40 parts by weight of a photosensitive organic component.

以下、各構成成分についてより詳しく説明する。   Hereinafter, each component will be described in more detail.

a)電極用金属粉末
本発明に適用される前記PDP電極形成用感光性ペーストにおいて前記a)金属粉末は、従来PDPバス電極の製造に使用される金属成分を用いることができるのはもちろんであり、具体的な例としては金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)などが挙げられる。これら金属粉末は単独で使用されたり2種以上混合して使用することができる。好ましくは、銀粉末、又は銀とアルミニウムの混合粉末を使用することができる。
a) Metal powder for electrode In the photosensitive paste for forming a PDP electrode applied to the present invention, the metal powder used in the production of a PDP bus electrode can be used as the a) metal powder. Specific examples include gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), palladium (Pd), platinum (Pt), aluminum (Al), and the like. These metal powders can be used alone or in combination of two or more. Preferably, silver powder or mixed powder of silver and aluminum can be used.

前記金属粉末は0.1〜3μmの粒径を有することがペーストの分散性及び作業性面で好ましい。金属粉末の粒径が0.1μm未満であれば露光特性が低下し、粉末自体の凝集力が強いためペースト製造時に分散が難しくて好ましくなく、3μmを超えれば感光パターンの直進性が低下し低温焼成温度領域で適切な緻密度を実現するのが難しいこともある。より好ましくは、前記粒径範囲内で多様な粒径を有する金属粉末を混合して使用するのが、タップ密度を増加させることによって低温焼成を容易なようにするため良い。
また、前記金属粉末はD10=0.1〜0.7μm、D50=0.5〜2.0μm、D90=1.4〜5μmの粒度分布を有するのが良く、好ましくは、D10=0.2、D50=0.95、D90=1.4μmである。
The metal powder preferably has a particle size of 0.1 to 3 μm from the viewpoint of dispersibility and workability of the paste. If the particle size of the metal powder is less than 0.1 μm, the exposure characteristics deteriorate, and the powder itself has a strong cohesive force, which makes it difficult to disperse during paste production. It may be difficult to achieve an appropriate density in the firing temperature range. More preferably, a mixture of metal powders having various particle sizes within the above particle size range is used in order to facilitate low-temperature firing by increasing the tap density.
The metal powder may have a particle size distribution of D 10 = 0.1 to 0.7 μm, D 50 = 0.5 to 2.0 μm, D 90 = 1.4 to 5 μm, preferably D 10 = 0.2, D 50 = 0.95, a D 90 = 1.4 [mu] m.

前記金属粉末は4〜5g/cm3のタップ密度(tap density)を有するのが好ましく、より好ましくは、4.2g/cm3であるのが良い。前記範囲内である場合、PDP電極の焼結性及び電気抵抗をさらによくする長所がある。
また、前記金属粉末は0.5〜1.5m2/gの表面積を有するのが好ましく、より好ましくは、0.9m2/gの表面積を有するのが良い。前記範囲内である場合、焼結性に影響を与えるタップ密度を向上させる長所がある。
The metal powder preferably has a tap density of 4~5g / cm 3 (tap density) , and more preferably, and even better at 4.2 g / cm 3. When it is within the above range, there is an advantage that the sinterability and electric resistance of the PDP electrode are further improved.
The metal powder preferably has a surface area of 0.5 to 1.5 m 2 / g, more preferably, it may have a surface area of 0.9 m 2 / g. When it is within the above range, there is an advantage of improving the tap density which affects the sinterability.

本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストにおいて金属粉末は全体ペーストに対して40〜80重量部で含むのが良く、前記範囲内である場合、電極の電気抵抗、基板との密着性、焼結性及び電極パターン現像性において全て良い。   In the PDP electrode forming photosensitive paste applicable to the present invention, the metal powder may be contained in an amount of 40 to 80 parts by weight with respect to the entire paste. The sintering property and the electrode pattern developability are all good.

b)黒色ガラスフリット
本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストに使用されるb)黒色ガラスフリットは基材との密着性及び焼成強度を強化させる作用を果たし、黒色度を増加させる作用を果たすことによって前述のように黒色層と導電層(金属層)が一体化したPDP電極を形成することができるようにする。
b) Black glass frit used in the PDP electrode-forming photosensitive paste applicable to the present invention b) Black glass frit has an effect of enhancing the adhesion to the base material and the firing strength, and an effect of increasing the blackness. As described above, a PDP electrode in which the black layer and the conductive layer (metal layer) are integrated can be formed.

前記黒色ガラスフリットは、1)V25−P25系、又は2)V25−P25系とBi23−ZnO−B23系混合の黒色ガラスフリットを使用することができる。
好ましくは、前記1)V25−P25系黒色ガラスフリットとしてはV25−P25−ZnO−BaOガラスフリットを使用することができ、さらに好ましくは、V2535〜50モル%、P2525〜35モル%、ZnO5〜15モル%、及びBaO5〜15モル%を含むのが良く、ここにLi2O、又はR23(ここで、Rは金属性元素である)0〜15モル%を選択的にさらに含むことができる。より好ましくは、V25が黒色ガラスフリットの40モル%含まれるのが黒色度面で有利であり、また、V25とP25の合計がガラスフリットの少なくとも70モル%を含むのが良い。
The black glass frit is 1) V 2 O 5 -P 2 O 5 series, or 2) Black glass frit mixed with V 2 O 5 -P 2 O 5 series and Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 series. Can be used.
Preferably, V 2 O 5 —P 2 O 5 —ZnO—BaO glass frit can be used as the 1) V 2 O 5 —P 2 O 5 black glass frit, and more preferably V 2 O. 5 35-50 mol%, P 2 O 5 25 to 35 mol%, ZnO5~15 mol%, and better contain the BaO5~15 mol%, wherein the Li 2 O, or R 2 O 3 (where, R is a metallic element) and can optionally further comprise 0-15 mol%. More preferably, it is advantageous in terms of blackness that V 2 O 5 is contained in 40 mol% of the black glass frit, and the total of V 2 O 5 and P 2 O 5 constitutes at least 70 mol% of the glass frit. It is good to include.

また、前記2)Bi23−ZnO−B23系黒色ガラスフリットとしてはBi23−ZnO−B23−SiOガラスフリットを用いることができ、好ましくは、Bi231〜15モル%、ZnO1〜15モル%、Bi2340〜80モル%、SiO1〜10モル%を含むのが良く、ここにR230〜15モル%(ここで、RはAlなどの金属性元素である。)を選択的にさらに含むことができる。 Further, as the 2) Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 black glass frit, Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 —SiO glass frit can be used, and preferably Bi 2 O 3. 1 to 15 mol%, ZnO 1 to 15 mol%, Bi 2 O 3 40 to 80 mol%, SiO 1 to 10 mol% may be included, where R 2 O 3 0 to 15 mol% (where R is A metal element such as Al).

25−P25系とBi23−ZnO−B23系の混合使用時、V25−P25系は重量比で少なくとも33%以上であるのが良い。 When the V 2 O 5 —P 2 O 5 system and Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 system are mixed and used, the V 2 O 5 —P 2 O 5 system is at least 33% by weight or more. good.

また、前記黒色ガラスフリットはガラス転移温度(Tg)が340〜370℃であるのが好ましい。前記範囲内のガラス転移温度を有する時、450〜500℃での低温焼成が可能である。   The black glass frit preferably has a glass transition temperature (Tg) of 340 to 370 ° C. When it has a glass transition temperature within the above range, low-temperature firing at 450 to 500 ° C. is possible.

また、前記黒色ガラスフリットの平均粒度は0.05〜3μmであるものを使用するのが良い。この場合、ペーストの分散性と精密な構造のPDP電極形成にさらに良いという長所がある。   The black glass frit having an average particle size of 0.05 to 3 μm is preferably used. In this case, there are advantages that the dispersibility of the paste and the formation of a PDP electrode having a precise structure are further improved.

好ましくは、前記黒色ガラスフリットは黒色度(色L*)が標準白色プレートを使用して補正した色彩計(ミノルタ(Minolta)CR300)を使用して測定する時に数値が30以下であるのが良く、さらに好ましくは数値が20以下であるのが良い。前記L*は純粋黒色を0とし、純粋白色を100とした場合を示すものであって、0に近いほど純粋な黒色を示す。この場合、一体化したPDP電極の黒色度を40以下になるようにし、ペーストの電気的特性を同時に満足させることができる。   Preferably, the black glass frit has a numerical value of 30 or less when measured using a colorimeter (Minolta CR300) whose blackness (color L *) is corrected using a standard white plate. More preferably, the numerical value is 20 or less. The L * indicates a case where pure black is 0 and pure white is 100, and the closer to 0, the more pure black is shown. In this case, the blackness of the integrated PDP electrode can be made 40 or less, and the electrical characteristics of the paste can be satisfied at the same time.

本発明によって前記PDP電極形成用感光性ペーストに使用されるb)黒色ガラスフリットは1〜10重量部で含まれるのが良い。前記範囲内である場合、基材との密着性及び良好な電気抵抗を得ることができる。   The black glass frit used in the PDP electrode forming photosensitive paste according to the present invention may be included in an amount of 1 to 10 parts by weight. When it is within the above range, adhesion to the substrate and good electrical resistance can be obtained.

c)黒色顔料
本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストに使用されるc)黒色顔料はコントラストを向上させる作用を果たす。
c) Black pigment The c) black pigment used in the PDP electrode-forming photosensitive paste applicable to the present invention functions to improve contrast.

前記黒色顔料としてはCu−Co−Mn系黒色顔料を用いることができ、選択的に従来PDP電極の黒色層の形成に使用された黒色顔料、例えばCu−Cr系又はコバルト系黒色顔料を追加的にさらに含むことができる。   As the black pigment, a Cu-Co-Mn black pigment can be used, and a black pigment selectively used for forming a black layer of a conventional PDP electrode, for example, a Cu-Cr black pigment or a cobalt black pigment is additionally provided. Can further be included.

また、前記黒色顔料の平均粒度は0.05〜0.1μmであるものを使用するのが良い。この場合、ペーストの分散性と精密な構造のPDP電極形成にさらに良いという長所がある。   The black pigment preferably has an average particle size of 0.05 to 0.1 μm. In this case, there are advantages that the dispersibility of the paste and the formation of a PDP electrode having a precise structure are further improved.

本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストに使用されるc)黒色顔料は1〜7重量部で含まれるのが良い。前記範囲内である場合、黒色度及び電気抵抗を良好に示すことができる。   The black pigment used in the PDP electrode-forming photosensitive paste applicable to the present invention may be contained in an amount of 1 to 7 parts by weight. When it is within the above range, blackness and electrical resistance can be satisfactorily shown.

好ましくは、本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストにおいて、前記b)黒色ガラスフリットとc)黒色顔料は1.5:1〜1:2の重量比で含まれるのが良い。前記範囲内である場合、40以下の黒色度及び15uΩcm以下の比抵抗を有する電極を製造することができ、これによって、一体化したPDP電極の黒色度、基材との密着性及び電気抵抗を同時に良好なようにし、ペーストの単価を低廉にする効果がある。   Preferably, in the photosensitive paste for forming a PDP electrode applicable to the present invention, the b) black glass frit and c) black pigment are included in a weight ratio of 1.5: 1 to 1: 2. When it is within the above range, an electrode having a blackness of 40 or less and a specific resistance of 15 uΩcm or less can be produced, whereby the blackness of the integrated PDP electrode, the adhesion to the substrate, and the electrical resistance can be reduced. At the same time, it has the effect of reducing the unit price of the paste.

d)感光性有機成分
本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストに使用されるd)感光性有機成分はフォトリソグラフィ工程を適用できる感光性樹脂組成物を用いることができ、好ましくは、i)有機バインダー;ii)架橋性モノマー;及びiii)光開始剤を含むことができる。
d) Photosensitive organic component d) The photosensitive organic component used in the PDP electrode forming photosensitive paste applicable to the present invention can be a photosensitive resin composition to which a photolithography process can be applied, preferably, i) an organic binder; ii) a crosslinkable monomer; and iii) a photoinitiator.

i)有機バインダー
前記i)有機バインダーは焼成前ペースト成分の結合及び現像性を付与する作用を果たし、好ましくは、アクリレート系樹脂が良く、前記アクリレート系樹脂は不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、及びアクリル単量体を重合して製造することができる。
i) Organic Binder The above-mentioned i) organic binder functions to impart bondability and developability of the paste component before firing, and preferably an acrylate resin, which is an unsaturated carboxylic acid monomer, aromatic It can be produced by polymerizing monomers and acrylic monomers.

前記不飽和カルボン酸単量体は高分子内の水素結合を通して高分子の弾性を増加させる作用を果たし、具体的にアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、又はこれらの酸無水物形態などを使用することができる。   The unsaturated carboxylic acid monomer serves to increase the elasticity of the polymer through hydrogen bonding in the polymer, specifically acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, or these The acid anhydride form of can be used.

前記不飽和カルボン酸単量体はアクリレート系樹脂製造時使用される総単量体に20〜70重量%で含まれるのが好ましく、含量が前記範囲内である場合には高分子の弾性特性、重合時ゲル化の防止、及び重合度調節を全て満足させることができるため良い。   The unsaturated carboxylic acid monomer is preferably included in the total monomer used in the production of the acrylate resin in an amount of 20 to 70% by weight. When the content is within the above range, the elastic properties of the polymer, This is good because it can satisfy the prevention of gelation during polymerization and the adjustment of the degree of polymerization.

前記芳香族単量体は基材との密着性と安定的なパターンを形成させる作用を果たし、具体的に、スチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、2−ニトロフェニルアクリレート、4−ニトロフェニルアクリレート、2−ニトロフェニルメタクリレート、4−ニトロフェニルメタクリレート、2−ニトロベンジルメタクリレート、4−ニトロベンジルメタクリレート、2−クロロフェニルアクリレート、4−クロロフェニルアクリレート、2−クロロフェニルメタクリレート、又は4−クロロフェニルメタクリレートなどを使用することができる。   The aromatic monomer functions to form adhesion and a stable pattern with the base material, specifically, styrene, benzyl methacrylate, benzyl acrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-nitrophenyl acrylate, 4 -Nitrophenyl acrylate, 2-nitrophenyl methacrylate, 4-nitrophenyl methacrylate, 2-nitrobenzyl methacrylate, 4-nitrobenzyl methacrylate, 2-chlorophenyl acrylate, 4-chlorophenyl acrylate, 2-chlorophenyl methacrylate, 4-chlorophenyl methacrylate, etc. Can be used.

前記芳香族単量体はアクリレート系樹脂製造時使用される総単量体に10〜40重量%で含まれるのが好ましく、さらに好ましくは、15〜25重量%で含まれるのが良い。含量が前記範囲内である場合、基材との密着性、パターンの接着力、形成されたパターンの直進性、安定的なパターン実現、焼成工程時容易な除去を全て満足させることができるため良い。   The aromatic monomer is preferably contained at 10 to 40% by weight, more preferably 15 to 25% by weight, based on the total monomer used in the production of the acrylate resin. When the content is within the above range, the adhesiveness to the base material, the adhesive force of the pattern, the straightness of the formed pattern, the realization of a stable pattern, and easy removal during the firing process can all be satisfied. .

前記不飽和カルボン酸単量体と芳香族単量体以外に、アクリレート系樹脂製造時使用されるアクリル単量体は高分子のガラス転移温度と極性を調節する作用を果たす。   In addition to the unsaturated carboxylic acid monomer and aromatic monomer, the acrylic monomer used in the production of the acrylate resin functions to adjust the glass transition temperature and polarity of the polymer.

前記アクリル単量体は2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、又はn−ブチルアクリレートなどを用いることができ、その含量は高分子のガラス転移温度、耐熱性、基材との親密性などを考慮して、アクリレート系樹脂製造時使用される総単量体に20〜60重量%で含まれるのが良い。   As the acrylic monomer, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyoctyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl acrylate, or the like can be used. In consideration of the glass transition temperature of the polymer, heat resistance, intimacy with the base material, etc., it is preferable to be contained in the total monomer used in the production of the acrylate resin at 20 to 60% by weight.

このような単量体を重合して製造されるアクリレート系樹脂は、不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、及びアクリル単量体のゲル化を防止し適切な揮発性を制御することができるように溶媒下で重合して製造することができる。   The acrylate resin produced by polymerizing such monomers prevents gelation of unsaturated carboxylic acid monomers, aromatic monomers, and acrylic monomers and controls proper volatility. Can be produced by polymerization in a solvent.

前記溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチルエーテルプロピオネート、テルピネオール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアミノフォルムアルデヒド、メチルエチルケトン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、ガンマブチロラクトン、又はエチルラクテートなどを単独又は2種以上混合して使用することができる。   Examples of the solvent include propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether propionate, ethyl ether propionate, terpineol, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethylaminoformaldehyde, methyl ethyl ketone, butyl carbitol, butyl Carbitol acetate, gamma butyrolactone, ethyl lactate or the like can be used alone or in admixture of two or more.

このような単量体を溶媒の存在下で重合して得られた前記アクリレート系樹脂は重量平均分子量が10,000〜100,000であるのが好ましく、さらに好ましくは、20,000〜50,000であるのが良い。前記範囲内である場合には現像性が良くなるという長所がある。   The acrylate resin obtained by polymerizing such a monomer in the presence of a solvent preferably has a weight average molecular weight of 10,000 to 100,000, more preferably 20,000 to 50,000. 000 is good. When it is within the above range, there is an advantage that developability is improved.

本発明で前記有機バインダーは感光性有機成分の5〜30重量部で含まれるのが好ましく、前記範囲内である場合には微細電極パターンの形成に適し、作業性が良くなり、焼成時パターンのもつれなどが発生しない。   In the present invention, the organic binder is preferably contained in an amount of 5 to 30 parts by weight of the photosensitive organic component. If the organic binder is within the above range, it is suitable for forming a fine electrode pattern, and the workability is improved. Tangles do not occur.

ii)架橋性モノマー
また、前記ii)架橋性モノマーはペーストに光硬化性を付与し現像性を促進する作用を果たし、具体的な例として、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチルアクリレートなどを単独又は混合して使用したり、又はフタル酸、イタコン酸、マレイン酸、コハク酸などの多塩基酸とヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとのポリエステルを使用することができる。
ii) Crosslinkable monomer The ii) crosslinkable monomer functions to impart photocurability to the paste and promote developability. As a specific example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyoctyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl acrylate, etc. can be used alone or in combination, or phthalic acid, itaconic acid, maleic acid, succinic acid, etc. Polyesters of polybasic acids and hydroxyethyl (meth) acrylates can be used.

前記架橋性モノマーは感光性有機成分に1〜10重量部で含まれるのが良く、前記範囲内である場合には微細電極パターンの形成に適合する。   The crosslinkable monomer is preferably contained in the photosensitive organic component in an amount of 1 to 10 parts by weight, and is suitable for forming a fine electrode pattern if it is within the above range.

iii)光開始剤
また、前記iii)光開始剤は光反応を開示させる成分であって、具体的な例として、2,4−ビストリクロロメチル−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2−p−メトキシスチリル−4,6−ビストリクロロメチル−s−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−4−メチルナフチル−6−トリアジンなどのトリアジン系化合物;ベンゾフェノン、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどのベンゾイン系化合物;2,2−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジブトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルトリクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン系化合物;キサントン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソブチルチオキサントン、2−ドデシルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントンなどのキサントン系化合物;又は2,2−ビス−2−クロロフェニル−4,5,4,5−テトラフェニル−2−1,2−ビスイミダゾール、2,2−ビス(2,4,6−トリシアノフェニル)−4,4,5,5−テトラフェニル−1,2−ビスイミダゾールなどのイミダゾール系化合物などを使用することができる。
iii) Photoinitiator The iii) photoinitiator is a component that discloses a photoreaction, and specific examples thereof include 2,4-bistrichloromethyl-6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2 -Triazine compounds such as p-methoxystyryl-4,6-bistrichloromethyl-s-triazine, 2,4-trichloromethyl-6-triazine, 2,4-trichloromethyl-4-methylnaphthyl-6-triazine; Benzoin compounds such as benzophenone and p- (diethylamino) benzophenone; 2,2-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropio Acetophenone compounds such as phenone and pt-butyltrichloroacetophenone; Xanthone compounds such as n-tone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isobutylthioxanthone, 2-dodecylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone; or 2,2-bis-2-chlorophenyl-4 , 5,4,5-tetraphenyl-1,2-bisimidazole, 2,2-bis (2,4,6-tricyanophenyl) -4,4,5,5-tetraphenyl-1,2, An imidazole compound such as bisimidazole can be used.

前記iii)光開始剤は感光性有機成分の1〜10重量部で含まれるのが好ましい。その含量が1重量部未満である場合には硬化度が低下し、低い感度によって正常的なパターン形状の実現が難しくなり、パターンの直進性にも良くないという問題点があり、10重量部を超える場合には保存安定性に問題が発生することがあり、高い硬化度によって解像度が低くなることがあり、形成されたパターン外の部分に残膜が発生しやすいという問題点がある。   The iii) photoinitiator is preferably contained in 1 to 10 parts by weight of the photosensitive organic component. When the content is less than 1 part by weight, the degree of cure is lowered, and it is difficult to realize a normal pattern shape due to low sensitivity, and there is a problem that the straightness of the pattern is not good, and 10 parts by weight If it exceeds the upper limit, there may be a problem in storage stability, the resolution may be lowered due to a high degree of curing, and there is a problem that a residual film is likely to occur in a portion outside the formed pattern.

また、前記感光性有機成分は基板との接着力を増大させ、現像マージン(margin)を増大させるために重量平均分子量が300〜1000である架橋性オリゴマーをさらに含むことができる。好ましくは、前記架橋性オリゴマーはグリセリンプロポキシレイテッドトリアクリレート(GPTA)であるのが良く、使用量は感光性有機成分の0.1〜10重量部を使用するのが良い。
また、感光性有機成分はその他通常使用される添加剤をさらに含むことができる。
In addition, the photosensitive organic component may further include a crosslinkable oligomer having a weight average molecular weight of 300 to 1000 in order to increase adhesion with the substrate and increase a development margin. Preferably, the crosslinkable oligomer is glycerin propoxylated triacrylate (GPTA), and the amount used is 0.1 to 10 parts by weight of the photosensitive organic component.
The photosensitive organic component may further contain other commonly used additives.

本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストにd)感光性有機成分は7〜40重量部で含まれるのが良い。前記範囲内である場合にはペーストの安定性、現像性及び作業性を同時に満足させることができる。   The photosensitive paste for forming a PDP electrode applicable to the present invention may contain d) a photosensitive organic component in an amount of 7 to 40 parts by weight. When it is within the above range, the stability, developability and workability of the paste can be satisfied at the same time.

e)添加剤
また、本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストはペースト成分の焼結を助けるために焼結助剤を選択的にさらに含むことができる。前記焼結助剤としては従来電極形成用ペーストに使用される焼結助剤を用いることができるのはもちろんで、具体的な一例としてはシルバーアセテート(silveracetate)とニトロセルロースなどを用いることができ、特にシルバー成分を含む焼結助剤を使用するのが良い。前記焼結助剤は本発明のペーストに0.1〜5重量部で含まれるのが良い。前記範囲内である場合、付着力改善、焼結性改善及び良好な電気抵抗を示すようになる。また、有機焼結助剤としてニトロセルロースを使用する場合、ニトロセルロースの急激な発熱によって有機物の完全燃焼を助け、金属粉末の焼結を助ける。
e) Additives The PDP electrode-forming photosensitive paste applicable to the present invention may further optionally include a sintering aid to assist the sintering of the paste components. As the sintering aid, it is possible to use a sintering aid conventionally used for electrode forming pastes, and specific examples include silver acetate and nitrocellulose. In particular, a sintering aid containing a silver component is preferably used. The sintering aid may be included in the paste of the present invention in an amount of 0.1 to 5 parts by weight. When it is within the above range, adhesion strength improvement, sinterability improvement and good electrical resistance are exhibited. Also, when nitrocellulose is used as an organic sintering aid, the nitrocellulose suddenly generates heat to help complete combustion of the organic matter and to help sinter the metal powder.

また、このような成分を含む電極形成用ペーストは必要によって通常の添加剤である着色剤、染料、分散剤、擦痕防止剤、可塑剤、接着促進剤、速度増進剤、又は界面活性剤などを通常添加剤として使用される含量である0.01〜10重量部の範囲で追加的に含むことによって個別工程の特性による性能向上を図ることができるのはもちろんである。   In addition, the electrode forming paste containing such components is a colorant, a dye, a dispersant, an anti-scratch agent, a plasticizer, an adhesion promoter, a speed enhancer, or a surfactant, which are usual additives as necessary. Of course, it is possible to improve the performance due to the characteristics of the individual process by additionally containing in a range of 0.01 to 10 parts by weight, which is a content usually used as an additive.

本発明に適用できる前記PDP電極形成用感光性ペーストは、前記記載した必須成分と任意の成分を所定の比率によって配合し、これをブレンダー、3軸ロール、ミキサー、ホモミキサー、ボールミル、ビードミルなどの混練機で均一に分散して得ることができる。   The PDP electrode forming photosensitive paste that can be applied to the present invention is formulated by blending the above-described essential components and optional components at a predetermined ratio, such as a blender, a triaxial roll, a mixer, a homomixer, a ball mill, and a bead mill. It can be obtained by uniformly dispersing with a kneader.

本発明はまた、前記PDP電極形成用感光性ペーストを利用してPDP電極を製造する方法、及び前記方法を含むPDP製造方法を提供する。   The present invention also provides a method for manufacturing a PDP electrode using the photosensitive paste for forming a PDP electrode, and a PDP manufacturing method including the method.

図2は透明電極のないPDPにおける上部基板構造一部の断面を示した図面である。
図2を参照して説明すれば、本発明によるPDP電極及びPDP製造方法は、a)前記PDP電極形成用感光性ペーストを透明基板上に塗布する工程と、b)前記PDP電極形成用感光性ペーストが塗布された透明基板を露光し現像して電極パターンを形成する工程と、c)前記電極パターンが形成された透明基板を焼成する工程とを含むことを特徴とする。これによって、PDP電極の黒色層と導電層が一体化したPDP電極として1回の印刷又はコーティング工程でPDPバス電極を製造することができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a part of an upper substrate structure in a PDP without a transparent electrode.
Referring to FIG. 2, the PDP electrode and the PDP manufacturing method according to the present invention includes a) a step of applying the PDP electrode forming photosensitive paste on a transparent substrate, and b) the PDP electrode forming photosensitive. A step of exposing and developing the transparent substrate coated with the paste to form an electrode pattern; and c) a step of firing the transparent substrate on which the electrode pattern is formed. Accordingly, a PDP bus electrode can be manufactured by a single printing or coating process as a PDP electrode in which the black layer and the conductive layer of the PDP electrode are integrated.

前記透明基板はPDP上板であって、公知のPDP電極製造に適用されるガラスを含む多様な透明材がこれに該当できる。   The transparent substrate is a PDP upper plate, and various transparent materials including glass that are applied to manufacturing a known PDP electrode can correspond to this.

前記ペーストの塗布は通常のペースト印刷方法又はコーティング方法を用いることができる。好ましくは、スクリーン印刷及びテーブルコーティング法が好ましい。   The paste can be applied by using a normal paste printing method or coating method. Preferably, screen printing and table coating methods are preferred.

また、基板上にペーストが塗布された後乾燥、露光、現像及び焼成の一連の電極形成はPDP電極形成時使用される公知の工程を適用することができる。本発明による感光性ペーストは黒色顔料の含量が低いため、450〜500℃の低温での焼成が可能であり、焼成膜の厚さ3〜10μm、線幅30〜100μmの高解像度パターンの形成が可能である。   In addition, a known process used at the time of forming the PDP electrode can be applied to a series of electrode formation of drying, exposure, development and baking after the paste is applied on the substrate. Since the photosensitive paste according to the present invention has a low content of black pigment, it can be fired at a low temperature of 450 to 500 ° C., and can form a high resolution pattern having a fired film thickness of 3 to 10 μm and a line width of 30 to 100 μm. Is possible.

図3は透明電極を含むPDPにおける上部基板構造一部の断面を示した図面である。
図3を参照して説明すれば、本発明によるPDP電極及びPDP製造方法は、a)透明基板にスキャン電極又は維持電極形成のための透明電極を形成する工程と、b)前記透明電極が形成された透明基板に前記記載のPDP電極形成用感光性ペーストを塗布する工程と、c)前記PDP電極形成用感光性ペーストが塗布された透明基板を露光し現像して電極パターンを形成する工程と、d)前記電極パターンが形成された透明基板を焼成して電極を形成する工程とを含む。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a part of an upper substrate structure in a PDP including a transparent electrode.
Referring to FIG. 3, the PDP electrode and the PDP manufacturing method according to the present invention includes: a) forming a transparent electrode for forming a scan electrode or a sustain electrode on a transparent substrate; and b) forming the transparent electrode. Applying the PDP electrode forming photosensitive paste to the transparent substrate, and c) exposing and developing the transparent substrate coated with the PDP electrode forming photosensitive paste to form an electrode pattern; D) firing the transparent substrate on which the electrode pattern is formed to form electrodes.

これによって、前述のような効果を得ることができ、この場合も前記透明基板は公知のPDP電極製造に適用されるガラスを含む多様な透明材がこれに該当でき、前記透明電極はITOを含む多様な透明電極用材質がこれに適用されるのはもちろんである。
前記印刷及び印刷後の乾燥、露光、現像及び焼成工程は先に説明したものと同一である。
As a result, the above-described effects can be obtained, and in this case, the transparent substrate can correspond to various transparent materials including glass applied to the manufacture of known PDP electrodes, and the transparent electrode includes ITO. Of course, various transparent electrode materials can be applied to this.
The printing, drying after printing, exposure, development, and baking steps are the same as described above.

このような本発明のPDP製造方法によれば、従来黒色層と導電層を形成させるために別途の2つのペーストを印刷して2回の工程を経てPDP電極を形成することに照らして、フォトリソグラフィ設備を使用して別途の設備増加なしに黒色層と導電層の一体化したPDPバス電極を形成することができ、工程を単純化し、黒色顔料の使用量を減少させてPDP製造費用を顕著に節減することができ、PDP電極製造による不良を著しく減少させることができる。   According to the PDP manufacturing method of the present invention, in light of the fact that two separate pastes are printed and a PDP electrode is formed through two processes in order to form a black layer and a conductive layer. A PDP bus electrode in which a black layer and a conductive layer are integrated can be formed by using a lithography equipment without additional equipment, simplifying the process and reducing the amount of black pigment used, leading to significant PDP manufacturing costs. Therefore, defects caused by manufacturing the PDP electrode can be significantly reduced.

また、本発明の製造方法によって、バス電極を構成する黒色層の機能は反射防止及び蛍光体から発散された光の透過を防止することであり、白色層の機能は電気信号の伝達にあるので、これを同時に満足する条件である黒色度が最大に40であり、比抵抗が最大に15uΩcmである伝導性黒色系物質層の1層構造としてバス電極を得ることができる。好ましくは、黒色度が40以下であり、比抵抗が10μΩcm以下である伝導性黒色系物質層でバス電極を構成するのがコントラスト及び電気伝導度側面で良い。   Further, according to the manufacturing method of the present invention, the function of the black layer constituting the bus electrode is to prevent reflection and transmission of light emitted from the phosphor, and the function of the white layer is to transmit electric signals. The bus electrode can be obtained as a one-layer structure of a conductive black material layer having a maximum blackness of 40 and a specific resistance of 15 uΩcm at the maximum. Preferably, the contrast and electric conductivity may be formed by forming the bus electrode with a conductive black material layer having a blackness of 40 or less and a specific resistance of 10 μΩcm or less.

本発明はまた、このような製造方法によって製造されたプラズマディスプレイパネルを提供する。   The present invention also provides a plasma display panel manufactured by such a manufacturing method.

以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示するが、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるのではない。   Hereinafter, preferred examples will be presented for the understanding of the present invention. However, the following examples are merely illustrative of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

実施例1−1:PDP電極形成用感光性ペーストの製造
プロピレングリコールモノメチルエーテルを溶媒として、メタクリル酸(MA):ベンジルアクリレート(BA):2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート(2−HEMA):メチル(メタ)アクリレート(MMA)=30:20:10:40の重量比率で重合して製造されたアクリレート系樹脂(重量平均分子量:25,000)17重量部、架橋性モノマーとして2−ヒドロキシエチルアクリレート7重量部、光開始剤としてベンゾフェノン5重量部、球形の銀(Ag)粉末61重量部(平均粒径:1μm、タップ密度:4.2g/cm3、表面積:0.9m2/g)、Cu−Co−Mn系黒色顔料5.2重量部、V25−P25系黒色ガラスフリット(V25−P25−ZnO−BaO系としてV2545モル%、P2530モル%、ZnO12.5モル%、及びBaO12.5モル%)3重量部、及び添加剤として界面活性剤0.5重量部を混合し、これを混練機で分散させてPDP電極形成用感光性ペーストを製造した。
Example 1-1: Production of Photosensitive Paste for PDP Electrode Formation Using propylene glycol monomethyl ether as a solvent, methacrylic acid (MA): benzyl acrylate (BA): 2-hydroxyethyl (meth) acrylate (2-HEMA): methyl 17 parts by weight of an acrylate resin (weight average molecular weight: 25,000) produced by polymerization at a weight ratio of (meth) acrylate (MMA) = 30: 20: 10: 40, 2-hydroxyethyl acrylate as a crosslinkable monomer 7 parts by weight, 5 parts by weight of benzophenone as a photoinitiator, 61 parts by weight of spherical silver (Ag) powder (average particle diameter: 1 μm, tap density: 4.2 g / cm 3 , surface area: 0.9 m 2 / g), Cu-Co-Mn-based black pigment 5.2 parts by weight, V 2 O 5 -P 2 O 5 based black glass frit (V 2 O 5 -P 2 O 5 V 2 O 5 45 mole% As -ZnO-BaO-based, P 2 O 5 30 mole%, ZnO12.5 mol%, and BaO12.5 mol%) 3 parts by weight, and a surfactant 0.5 weight as an additive Parts were mixed and dispersed with a kneader to produce a PDP electrode forming photosensitive paste.

実施例1−2乃至1−6:PDP電極形成用感光性ペーストの製造
下記表1に提示された含量で使用することを除いては、前記実施例1と同様な方法で実施してPDP電極形成用感光性ペーストを製造した。
Examples 1-2 to 1-6: Production of photosensitive paste for forming PDP electrodes PDP electrodes were prepared in the same manner as in Example 1 except that they were used in the contents shown in Table 1 below. A forming photosensitive paste was produced.

Figure 2011040360
Figure 2011040360

試験例1:物性評価
前記実施例1−1乃至1−6で製造したPDP電極形成用感光性ペーストに対して下記のような方法で電気抵抗、焼結性、黒色度を測定した。その結果を下記表2に示した。
1)試片の製造
前記実施例1−1乃至1−6で製造した電極形成用ペーストをガラス基板上に10μmの厚さでスクリーンプリンティング法を利用して全面印刷した後、ボックス型乾燥炉で140℃で10分間乾燥させて、溶媒成分を完全に揮発させた。乾燥された試験片に対して200mJ/cm2及び400mJ/cm2の露光量でそれぞれUV照射した後、0.2重量%のNa2CO3水溶液で現像し、純水(DI water)で洗浄した後、前記過程でパターンが形成された基板を10℃/分で500℃まで昇温させ、10分間維持させて焼成して試験片を製造した。
2)比抵抗
前記製造された試験片に対してパターンの膜の厚さと抵抗値から比抵抗を計算した。
3)焼結性
焼成後試片の表面及び断面をSEM測定によって組織観察し、下記のような評価基準によって評価した。
<評価基準>
不良:気泡が発生し表面と断面状態が緻密でない場合
不十分:気泡は発生しなかったが、表面と断面状態が緻密でない場合
良好:気泡が発生せず、表面と断面状態が緻密な場合
4)黒色度(色L*)
標準白色プレートを使用して補正した色彩計(ミノルタ(Minolta)CR300)を利用して試験片に対する黒色度を測定した。
5)焼成線収縮率(%)
露光及び現像工程後パターン幅を測定し、焼成した以後パターン幅を測定して、パターン幅の減少比率を定量化した。
Test Example 1: Evaluation of Physical Properties The electrical resistance, sinterability, and blackness of the PDP electrode forming photosensitive pastes produced in Examples 1-1 to 1-6 were measured by the following methods. The results are shown in Table 2 below.
1) Manufacture of specimens The electrode forming paste manufactured in Examples 1-1 to 1-6 was printed on a glass substrate with a thickness of 10 μm using a screen printing method, and then in a box-type drying furnace. The solvent component was completely volatilized by drying at 140 ° C. for 10 minutes. The dried test piece was irradiated with UV at an exposure amount of 200 mJ / cm 2 and 400 mJ / cm 2 , developed with 0.2 wt% Na 2 CO 3 aqueous solution, and washed with DI water. After that, the substrate on which the pattern was formed in the above process was heated to 500 ° C. at 10 ° C./min, maintained for 10 minutes, and baked to produce a test piece.
2) Specific resistance The specific resistance was calculated from the thickness of the pattern film and the resistance value of the manufactured test piece.
3) After sinterability firing, the surface and cross section of the specimen were observed by SEM measurement and evaluated according to the following evaluation criteria.
<Evaluation criteria>
Bad: When bubbles are generated and the surface and cross-sectional state are not dense Insufficient: Bubbles are not generated, but the surface and cross-sectional states are not dense Good: When bubbles are not generated and the surface and cross-sectional states are dense
4) Blackness (color L *)
The blackness of the test piece was measured using a colorimeter (Minolta CR300) corrected using a standard white plate.
5) Firing shrinkage rate (%)
After the exposure and development steps, the pattern width was measured, and after baking, the pattern width was measured to quantify the reduction ratio of the pattern width.

Figure 2011040360
Figure 2011040360

前記表2に示したように、本発明による実施例1−1乃至1−6のPDP電極形成用感光性ペーストは焼結性が良好であり、比抵抗が15μΩcm以下であり、黒色度が40以下であって、PDPバス電極の黒色層と導電層の役割を同時に遂行できるのを確認することができた。また、0.5μm乃至1μm範囲内の平均粒径を有する銀粉末を用いた実施例1−1、1−3及び1−6は実施例1−2、1−4、及び1−5より低い焼成線収縮率を示した。   As shown in Table 2, the PDP electrode-forming photosensitive pastes of Examples 1-1 to 1-6 according to the present invention have good sinterability, specific resistance of 15 μΩcm or less, and blackness of 40. In the following, it was confirmed that the roles of the black layer and the conductive layer of the PDP bus electrode can be performed simultaneously. Examples 1-1, 1-3, and 1-6 using silver powder having an average particle size in the range of 0.5 μm to 1 μm are lower than Examples 1-2, 1-4, and 1-5. The firing linear shrinkage was shown.

実施例2−1乃至2−3、及び比較例1乃至3:PDP電極形成用感光性ペーストの製造
下記表3に提示された含量で使用することを除いては、前記実施例1と同様な方法で実施してPDP電極形成用感光性ペーストを製造した。
Examples 2-1 to 2-3, and Comparative Examples 1 to 3: Production of photosensitive paste for forming PDP electrode The same as Example 1 except that it is used in the content shown in Table 3 below. The method was carried out to produce a PDP electrode forming photosensitive paste.

Figure 2011040360
Figure 2011040360

試験例2:物性評価
前記実施例2−1乃至2−3、及び比較例1乃至3で製造したPDP電極形成用感光性ペーストに対して前記試験例1と同じ方法で電気抵抗、焼結性、黒色度を測定した。その結果を下記表4に示した。
Test Example 2: Evaluation of physical properties Electric resistance and sinterability in the same manner as in Test Example 1 for the PDP electrode forming photosensitive pastes produced in Examples 2-1 to 2-3 and Comparative Examples 1 to 3 The blackness was measured. The results are shown in Table 4 below.

Figure 2011040360
Figure 2011040360

前記表4に示されているように、本発明による実施例2−1乃至2−3のPDP電極形成用感光性ペーストは全て優れた焼結性、比抵抗、黒色度及び焼成線収縮率を示した。
しかし、黒色顔料の含量の高い比較例1乃至3は実施例2−1乃至2−3に比べて高い比抵抗と焼成線収縮率を示し、焼結性面では顕著に劣化した特性を示した。
As shown in Table 4, the PDP electrode forming photosensitive pastes of Examples 2-1 to 2-3 according to the present invention all have excellent sinterability, specific resistance, blackness, and firing linear shrinkage. Indicated.
However, Comparative Examples 1 to 3 having a high black pigment content showed higher specific resistance and firing linear shrinkage than Examples 2-1 to 2-3, and showed significantly deteriorated characteristics in terms of sinterability. .

実施例3−1乃至3−5、及び比較例4:PDP電極形成用感光性ペーストの製造
下記表5に提示された含量で使用することを除いては、前記実施例1と同様な方法で実施してPDP電極形成用感光性ペーストを製造した。下記Bi23−ZnO−B23系は日本山村硝子株式会社のガラスフリットを使用した。
Examples 3-1 to 3-5, and Comparative Example 4: Production of photosensitive paste for forming PDP electrode In the same manner as in Example 1 except that it is used in the content shown in Table 5 below. It carried out and manufactured the photosensitive paste for PDP electrode formation. The following Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 system used a glass frit manufactured by Nippon Yamamura Glass Co., Ltd.

Figure 2011040360
Figure 2011040360

試験例3:物性評価
前記実施例3−1乃至3−5、及び比較例4で製造したPDP電極形成用感光性ペーストに対して前記試験例1と同じ方法で電気抵抗、焼結性、黒色度を測定した。その結果を下記表6に示した。
Test Example 3: Evaluation of physical properties Electric resistance, sinterability, and black color of the PDP electrode forming photosensitive pastes produced in Examples 3-1 to 3-5 and Comparative Example 4 in the same manner as in Test Example 1 The degree was measured. The results are shown in Table 6 below.

Figure 2011040360
Figure 2011040360

前記表6に示されているように、本発明による実施例3−1乃至3−5のPDP電極形成用感光性ペーストは全て優れた焼結性、比抵抗、黒色度及び焼成線収縮率を示した。これに反し、黒色ガラスフリットとしてBi23−ZnO−B23系の黒色ガラスフリット単独で使用した比較例4の場合は比抵抗、焼結性、焼成線収縮率は実施例3−1乃至3−5と同等水準であったが、黒色度で劣る特性を示した。 As shown in Table 6, the PDP electrode forming photosensitive pastes of Examples 3-1 to 3-5 according to the present invention all have excellent sinterability, specific resistance, blackness, and firing linear shrinkage. Indicated. On the other hand, in the case of Comparative Example 4 in which Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 black glass frit alone was used as the black glass frit, the specific resistance, sinterability, and firing line shrinkage ratio were as in Example 3- Although it was the same level as 1 thru | or 3-5, the characteristic inferior in blackness was shown.

10 蛍光層
20 誘電体層
30 保護層
40 ブラック帯状
100 上部基板
110 透明基板
120 スキャン電極
121 透明電極(スキャン電極側)
124 一体型バス電極(スキャン電極側)
130 維持電極
131 透明電極(維持電極側)
134 一体型バス電極(維持電極側)
200 下部基板
210 アドレス電極
220 隔壁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Fluorescent layer 20 Dielectric layer 30 Protective layer 40 Black belt shape 100 Upper substrate 110 Transparent substrate 120 Scan electrode 121 Transparent electrode (scan electrode side)
124 Integrated bus electrode (scan electrode side)
130 sustain electrode 131 transparent electrode (sustain electrode side)
134 Integrated bus electrode (sustain electrode side)
200 Lower substrate 210 Address electrode 220 Bulkhead

Claims (16)

a)電極用金属粉末40〜80重量部と、b)V25−P25系、又はV25−P25系とBi23−ZnO−B23系混合の黒色ガラスフリット1〜10重量部と、c)Cu−Co−Mn系黒色顔料1〜7重量部と、d)感光性有機成分7〜40重量部とを含む、プラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。 a) 40-80 parts by weight of metal powder for electrodes, b) V 2 O 5 —P 2 O 5 system, or V 2 O 5 —P 2 O 5 system and Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 system For forming a plasma display panel electrode, comprising 1 to 10 parts by weight of a mixed black glass frit, c) 1 to 7 parts by weight of a Cu—Co—Mn black pigment, and d) 7 to 40 parts by weight of a photosensitive organic component Photosensitive paste. 前記V25−P25系黒色ガラスフリットが、V2535〜50モル%、P2525〜35モル%、ZnO5〜15モル%、及びBaO5〜15モル%を含むV25−P25−ZnO−BaO系黒色ガラスフリットであることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。 The V 2 O 5 -P 2 O 5 based black glass frit includes V 2 O 5 35 to 50 mol%, P 2 O 5 25 to 35 mol%, ZnO5~15 mol%, and BaO5~15 mol% The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, wherein the photosensitive paste is a V 2 O 5 —P 2 O 5 —ZnO—BaO black glass frit. 前記黒色ガラスフリットが340〜370℃のガラス転移温度(Tg)を有することを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。   The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, wherein the black glass frit has a glass transition temperature (Tg) of 340 to 370 ° C. 前記金属粉末が0.1〜3μmの粒径を有することを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。   The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, wherein the metal powder has a particle size of 0.1 to 3 μm. 前記金属粉末が4〜5g/cm3のタップ密度を有することを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。 The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, wherein the metal powder has a tap density of 4 to 5 g / cm 3 . 前記金属粉末が0.5〜1.5m2/gの表面積を有することを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。 The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, wherein the metal powder has a surface area of 0.5 to 1.5 m 2 / g. 前記黒色顔料が0.05〜0.1μmの平均粒度を有することを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。   The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, wherein the black pigment has an average particle size of 0.05 to 0.1 μm. 前記黒色ガラスフリットと黒色顔料が1.5:1〜1:2の重量比で含まれることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。   The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, wherein the black glass frit and the black pigment are contained in a weight ratio of 1.5: 1 to 1: 2. 前記感光性有機成分が、i)有機バインダー5〜30重量部と、ii)光重合性単量体1〜10重量部と、iii)光開始剤1〜10重量部とを含むことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。   The photosensitive organic component contains i) 5 to 30 parts by weight of an organic binder, ii) 1 to 10 parts by weight of a photopolymerizable monomer, and iii) 1 to 10 parts by weight of a photoinitiator. The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1. 前記有機バインダーが、不飽和カルボン酸20〜70重量%と、芳香族単量体10〜40重量%と、アクリル単量体20〜60重量%とを重合して製造されることを特徴とする、請求項9に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。   The organic binder is produced by polymerizing 20 to 70% by weight of an unsaturated carboxylic acid, 10 to 40% by weight of an aromatic monomer, and 20 to 60% by weight of an acrylic monomer. The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 9. 前記感光性ペーストが、焼結助剤、着色剤、染料、分散剤、擦痕防止剤、可塑剤、接着促進剤、速度増進剤、界面活性剤及びこれらの混合物からなる群より1種以上選択される添加剤を追加的に含むことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。   The photosensitive paste is at least one selected from the group consisting of sintering aids, colorants, dyes, dispersants, anti-scratch agents, plasticizers, adhesion promoters, speed enhancers, surfactants, and mixtures thereof. The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, further comprising an additive to be added. 前記電極が、黒色層と導電層が一体化したバス電極であることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペースト。   The photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode according to claim 1, wherein the electrode is a bus electrode in which a black layer and a conductive layer are integrated. 請求項1による電極形成用感光性ペーストを透明基板上に塗布する工程と、前記電極形成用感光性ペーストが塗布された透明基板を露光し、現像して電極パターンを形成する工程と、前記電極パターンが形成された透明基板を焼成して電極を形成する工程とを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。   Applying the electrode forming photosensitive paste according to claim 1 on a transparent substrate; exposing the transparent substrate coated with the electrode forming photosensitive paste; developing the electrode substrate; and forming the electrode pattern; And baking the transparent substrate on which the pattern is formed to form an electrode. 前記電極形成用感光性ペーストの塗布に先立ち、透明基板上に透明電極を形成する段階を追加的に含むことを特徴とする、請求項13に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 13, further comprising a step of forming a transparent electrode on a transparent substrate prior to application of the electrode forming photosensitive paste. 前記電極が、黒色層と導電層が一体化したバス電極であることを特徴とする、請求項13に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   The method according to claim 13, wherein the electrode is a bus electrode in which a black layer and a conductive layer are integrated. 請求項13乃至15のいずれか一つの請求項による製造方法で製造されたプラズマディスプレイパネル。   A plasma display panel manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 13 to 15.
JP2009211568A 2009-08-06 2009-09-14 Photosensitive paste for plasma display panel electrode formation Expired - Fee Related JP5438443B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090072331A KR20110014798A (en) 2009-08-06 2009-08-06 Photosensitive paste for elextrode of plasma display pannel
KR10-2009-0072331 2009-08-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011040360A true JP2011040360A (en) 2011-02-24
JP5438443B2 JP5438443B2 (en) 2014-03-12

Family

ID=43746002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009211568A Expired - Fee Related JP5438443B2 (en) 2009-08-06 2009-09-14 Photosensitive paste for plasma display panel electrode formation

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5438443B2 (en)
KR (1) KR20110014798A (en)
CN (1) CN101989521A (en)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11224531A (en) * 1998-02-06 1999-08-17 Taiyo Ink Mfg Ltd Alkali developing type photo-curing conductive paste composition and plasma display panel having electrode formed by using therewith
JP2001006435A (en) * 1999-06-21 2001-01-12 Noritake Co Ltd Black conductive paste composition, and black conductive thick film and forming method therefor
JP2002373592A (en) * 2001-06-14 2002-12-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electrode for plasma display panel and its manufacturing method
JP2006008496A (en) * 2004-06-29 2006-01-12 Samsung Sdi Co Ltd Lead-free glass composition for plasma display panel barrier and plasma display panel
JP2006342044A (en) * 2005-05-09 2006-12-21 Nippon Electric Glass Co Ltd Vanadium phosphate base glass
WO2007063816A1 (en) * 2005-11-30 2007-06-07 Toray Industries, Inc. Glass paste, method for producing display by using same, and display
JP2008176312A (en) * 2006-12-22 2008-07-31 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive resin composition and method for producing baked product pattern obtained using the same
JP2008251319A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Hitachi Ltd Plasma display panel
JP2008274221A (en) * 2006-12-07 2008-11-13 Jsr Corp Inorganic powder-containing resin composition, transfer film and method for producing flat panel display
JP2009042732A (en) * 2007-07-18 2009-02-26 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive composition and pattern made of its baked product
JP2009076460A (en) * 2007-09-21 2009-04-09 Dongjin Semichem Co Ltd Slurry composition for forming plasma display-panel electrode

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11224531A (en) * 1998-02-06 1999-08-17 Taiyo Ink Mfg Ltd Alkali developing type photo-curing conductive paste composition and plasma display panel having electrode formed by using therewith
JP2001006435A (en) * 1999-06-21 2001-01-12 Noritake Co Ltd Black conductive paste composition, and black conductive thick film and forming method therefor
JP2002373592A (en) * 2001-06-14 2002-12-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electrode for plasma display panel and its manufacturing method
JP2006008496A (en) * 2004-06-29 2006-01-12 Samsung Sdi Co Ltd Lead-free glass composition for plasma display panel barrier and plasma display panel
JP2006342044A (en) * 2005-05-09 2006-12-21 Nippon Electric Glass Co Ltd Vanadium phosphate base glass
WO2007063816A1 (en) * 2005-11-30 2007-06-07 Toray Industries, Inc. Glass paste, method for producing display by using same, and display
JP2008274221A (en) * 2006-12-07 2008-11-13 Jsr Corp Inorganic powder-containing resin composition, transfer film and method for producing flat panel display
JP2008176312A (en) * 2006-12-22 2008-07-31 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive resin composition and method for producing baked product pattern obtained using the same
JP2008251319A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Hitachi Ltd Plasma display panel
JP2009042732A (en) * 2007-07-18 2009-02-26 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive composition and pattern made of its baked product
JP2009076460A (en) * 2007-09-21 2009-04-09 Dongjin Semichem Co Ltd Slurry composition for forming plasma display-panel electrode

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110014798A (en) 2011-02-14
CN101989521A (en) 2011-03-23
JP5438443B2 (en) 2014-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100931139B1 (en) Heat resistant black pigment slurry and method for preparing photocurable composition using thereof
JP2008176312A (en) Photosensitive resin composition and method for producing baked product pattern obtained using the same
JP2010153366A (en) Paste composition for electrode formation containing magnetic black pigment, electrode formation method using this, and plasma display panel including electrode manufactured by this
KR100927611B1 (en) Photosensitive paste composition, PD electrodes manufactured using the same, and PDs containing the same
JP2010153362A (en) Photosensitive conductive paste, electrode formed using it, plasma display panel, and method for manufacturing photosensitive conductive paste
JP3538408B2 (en) Photocurable composition and plasma display panel formed with electrodes using the same
JP3986312B2 (en) Black paste composition and plasma display panel using the black paste composition
JP2004127529A (en) Photosensitive conductive paste and plasma display panel having electrode formed by using same
KR20100040675A (en) Photo sensitive paste composition and pattern forming method
JP5143683B2 (en) Slurry composition for forming plasma display panel electrode
KR101311098B1 (en) Conductive paste and conductive pattern
JP3239759B2 (en) Photosensitive paste
JP5438443B2 (en) Photosensitive paste for plasma display panel electrode formation
JP4954647B2 (en) Plasma display panel having photosensitive paste and fired product pattern formed from the photosensitive paste
JP2009086280A (en) Photosensitive silver paste, method for producing electrode pattern, electrode pattern, and plasma display panel
JP2007326987A (en) Photocurable composition and burned product pattern formed by using the same
JP2006278221A (en) Photosensitive black paste for all together calcination, and manufacturing method of pdp front substrate using this paste
JP5246808B2 (en) Conductive paste and conductive pattern
KR20090031170A (en) A slurry for producing pdp electrode
JP2005011584A (en) Photo-curing resin composition, and front substrate for plasma display panel
KR100412293B1 (en) Photo-Sensitive Paste, Plasma Display and a Process for Preparing it
KR101318952B1 (en) A paste for producing PDP electrode
JP2004190037A (en) Photocurable resin composition
JP3858005B2 (en) Photocurable resin composition and front substrate for plasma display panel
JP2010276703A (en) Photosensitive paste composition and pattern forming method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120912

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130730

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131024

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131115

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131213

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees