JP2011031213A - ディップコーティング装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来のディッコーティング法では出来なかった、塗布対象物の全体の膜厚の変更を実現するディッコーティング装置を提供する。
【解決手段】把持部11に試料を12を把持し、把持部11が有する回転ステージで角度を調整し、吐工液面に対して垂直ではなく角度を持たせて、斜め上方に引き上げ、垂直に引き上げる場合と違い、試料12の全体に膜厚の差が発生する。また、低速で引き上げる場合には、試料12の表面に粒子配列や結晶が形成できる。
【選択図】図3
【解決手段】把持部11に試料を12を把持し、把持部11が有する回転ステージで角度を調整し、吐工液面に対して垂直ではなく角度を持たせて、斜め上方に引き上げ、垂直に引き上げる場合と違い、試料12の全体に膜厚の差が発生する。また、低速で引き上げる場合には、試料12の表面に粒子配列や結晶が形成できる。
【選択図】図3
Description
この発明は、ディップコーティング装置に関するものである。
回路基板の製造工程において、ディップコーティング装置が一般的に使用されている。たとえば、特開2003-112097号公報(特許文献1)に記載されているものがある。
この場合、特に重要視されるのは両面の膜厚が均等になることである。
一方、最近の特殊用途部品の開発では、ガラス、セラミック、シリコン、電子デバイスチップ等の表面への薄膜形成が要望されている。しかし最近の高密度、高多層化により、微細な部品や試料については、従来のディップコーティングで要求されている両面膜厚均等ではなく、部品や試料の全体の膜厚を変えたり、部分的に膜厚を変更することが要望されている。
本発明は、従来のディッコーティング法では出来なかった、塗布対象物の全体の膜厚の変更や部分膜厚の変更を実現するものである。
従来のディップコーティングでは、板状の塗布対象物や立体塗布対象物の全体の膜厚は、
均等であることが望ましい。
均等であることが望ましい。
しかし、昨今の特殊用途部品の開発では、塗布対象物の全体また部分的に、膜厚の変化を求められることが多い。
本発明は、このような要求を解決することを目的とするディップコーティング装置である。
本発明によれば、回転ステージに取り付けた把持部のクリップに試料や部品を把持し、回転ステージで試料や部品に角度を付け、斜め上方に試料を移動させ、塗布対象物に違う膜厚の薄膜を形成できるコーティングを行うことを特徴とするディップコーティング装置が提供される。
回転ステージに取り付けた把持部のクリップに試料や部品を把持し、回転ステージで把持部のクリップに把持された試料や部品に角度を付け、垂直上方に移動させる機構を有することを特徴とするディップコーティング装置である。
回転ステージに取り付けた把持部のクリップに試料や部品を把持し、回転ステージで把持部のクリップに把持された試料や部品に角度を付けずに、試料や部品を塗工面に対して垂直に保持し、斜め上方に移動させる機構を有することを特徴とするディップコーティング装置である。
回転ステージに取り付けた把持部のクリップに試料や部品を把持し、回転ステージで把持部のクリップに把持された試料や部品に角度を付けずに、試料や部品を塗工面に対して垂直に保持し、斜め上方に移動させ、さらに逆方向の斜め上方に移動させる機構を有することを特徴とするディップコーティング装置である。
横行移動機構により、試料や部品を複数の性質の異なる塗布液に連続塗布し、複数の薄膜をひとつの試料や部品に生成する機構を有することを特徴とするディップコーティング装置である。
本発明により、従来のディップコーティング法では不可能であった、塗布対象物の部分的な膜厚の変更を容易にし、多くの特殊電子デバイスや光学部品等の製造に寄与するものである。
以下、この発明の実施例を説明する。
図3はこの発明に係るディップコーティング装置の引上げ動作を示す。把持部11に試料12を把持し、把持部11が有する回転ステージで角度を調整し、塗工液面に対して垂直ではなく角度を持たせて、斜め上方に引上げる。垂直に引上げる場合と違い、試料12の全体に膜厚の差が発生する。また、低速で引上げる場合には、試料12の表面に粒子配列や結晶が形成できる。
図4は、この発明に係るディップコーティング装置の引上げ動作を示す。把持部11に試料12を把持し、把持部11が有する回転ステージで角度を調整し、試料11の角度を保ったまま、塗工液面に対して垂直に引上げる。この場合、試料の全体で違った膜厚形成が行える。
図5は、この発明に係るディップコーティング装置の引上げ動作を示す。把持部11に試料12を把持し、把持部11が有する回転ステージで塗工液面に対して試料12を垂直に保ちながら、斜め上方に引上げ試料の全体に違った膜厚形成が行える。
図6は、この発明に係るディップコーティング装置の引上げ動作を示す。把持部11に試料12を把持し、把持部11が有する回転ステージで塗工液面に対して試料12を垂直に保ちながら、斜め上方に引上げ、途中で反対方向の斜め上方に試料を引上げることにより、試料12の全体で部分的に違った膜厚形成が行える。
図7は、この発明に係るディップコーティング装置の引上げ動作を示す。把持部11に試料12を把持し、把持部11が有する回転ステージで塗工液面に対して試料12を垂直に保ちながら、垂直上方に引上げ、試料12が塗工液面13から抜け出すと、把持部11と把持部11が把持する試料12が、横行動作でスライドし、異なる塗工液面14に浸漬する。同様に、塗工液面14から引上げ完了した把持部11と把持部11が把持する試料12が、横行動作でスライドし、異なる塗工液面15に浸漬する。この動作を異なる塗工液の数量だけ繰り返す。本発明はこの動作を繰り返すことにより、試料12の全体に複数の層を形成することが実現する。
1.昇降用ステッピングモーターとボールネジの組み合わせ部
2.横行用ステッピングモーターとボールネジの組み合わせ部
3.試料回転用回転ステージ部
4.試料把持用クリップ
5.マイクロメーター
6.マイクロメーター粗動レバー
7.塗工液セットテーブル
8.上下粗動テーブル
9.電源・信号接続ケーブルコネクタ
10.本体カバー
11.把持部
12.試料
13.塗工液面A
14.塗工液面B
15.塗工液面n
2.横行用ステッピングモーターとボールネジの組み合わせ部
3.試料回転用回転ステージ部
4.試料把持用クリップ
5.マイクロメーター
6.マイクロメーター粗動レバー
7.塗工液セットテーブル
8.上下粗動テーブル
9.電源・信号接続ケーブルコネクタ
10.本体カバー
11.把持部
12.試料
13.塗工液面A
14.塗工液面B
15.塗工液面n
Claims (5)
- 回転ステージに取り付けた把持部のクリップに試料または部品を把持し、回転ステージで試料または部品に角度を付け、斜め上方に試料または部品を移動させ、塗布対象物の全面に違う膜厚の薄膜を形成できるディップコーティングを行うことを特徴とするディップコーティング装置。
- 回転ステージに取り付けた把持部のクリップに試料または部品を把持し、回転ステージで把持部のクリップに把持された試料または部品に角度を付け、垂直上方に移動させる機構を有することを特徴とする請求項1に記載のディップコーティング装置。
- 回転ステージに取り付けた把持部のクリップに試料または部品を把持し、回転ステージで把持部のクリップに把持された試料または部品に角度を付けずに、試料または部品を塗工面に対して垂直に保持し、斜め上方に移動させる機構を有することを特徴とする請求項1に記載のディップコーティング装置。
- 回転ステージに取り付けた把持部のクリップに試料または部品を把持し、回転ステージで把持部のクリップに把持された試料または部品に角度を付けずに、試料または部品を塗工面に対して垂直に保持し、斜め上方に移動させ、さらに逆方向の斜め上方に移動させる機構を有することを特徴とする請求項1に記載のディップコーティング装置。
- 横行移動機構により、試料または部品を複数の性質の異なる塗布液を連続塗布し、複数の薄膜をひとつの試料または部品の全面に形成する機構を有することを特徴とする請求項1に記載のディップコーティング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009182230A JP2011031213A (ja) | 2009-08-05 | 2009-08-05 | ディップコーティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009182230A JP2011031213A (ja) | 2009-08-05 | 2009-08-05 | ディップコーティング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011031213A true JP2011031213A (ja) | 2011-02-17 |
Family
ID=43760813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009182230A Pending JP2011031213A (ja) | 2009-08-05 | 2009-08-05 | ディップコーティング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011031213A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160133651A (ko) * | 2015-05-13 | 2016-11-23 | 한국표준과학연구원 | 나노입자 충진 시스템 |
KR20170084724A (ko) * | 2016-01-12 | 2017-07-21 | 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 | 딥핑 장치 |
CN112474215A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-12 | Oppo(重庆)智能科技有限公司 | 点胶治具 |
-
2009
- 2009-08-05 JP JP2009182230A patent/JP2011031213A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160133651A (ko) * | 2015-05-13 | 2016-11-23 | 한국표준과학연구원 | 나노입자 충진 시스템 |
KR101684258B1 (ko) * | 2015-05-13 | 2016-12-20 | 한국표준과학연구원 | 나노입자 충진 시스템 |
US9795982B2 (en) | 2015-05-13 | 2017-10-24 | Korea Research Institute Of Standards And Science | Apparatus for dipping substrate |
KR20170084724A (ko) * | 2016-01-12 | 2017-07-21 | 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 | 딥핑 장치 |
KR101999423B1 (ko) * | 2016-01-12 | 2019-07-12 | 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 | 딥핑 장치 |
CN112474215A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-12 | Oppo(重庆)智能科技有限公司 | 点胶治具 |
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