JP2011023305A - Substrate for organic el element, method of manufacturing organic el layer, organic el element, and plate member - Google Patents

Substrate for organic el element, method of manufacturing organic el layer, organic el element, and plate member Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for organic EL elements capable of forming flat and high-performance organic EL layers having a small amount of unevenness in a film thicknesses. <P>SOLUTION: The substrate 1 for organic EL elements includes: a plurality of partitions 43 disposed on a support substrate in parallel; a plurality of plate members 44 for prevention of an ink flow disposed in a direction crossing the plurality of partitions; and at least one pixel electrode 41 disposed inside a partitioned area 41b partitioned by the partitions and the plate members. The plate members 44 are disposed while both ends abut on the partitions 43, and include a constriction 44a caused by a decrease in a thickness from both ends toward the center. A flow of ink supplied to the partitioned area 41b to the adjacent partitioned area 41b in a direction parallel to the partitions 43 is suppressed, and further the ink is uniformly separated on the plate members 44 including the constriction for falling into the partitioned area, thus forming the flat and high-performance organic EL layer having a small amount of unevenness in film thickness. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(organic electroluminescence、以下、「有機EL」と称す。)素子の製造に使用される基板、該基板を使用する有機EL層の製造方法、有機EL素子および該基板に使用される板状部材に関する。   The present invention relates to a substrate used for manufacturing an organic electroluminescence (hereinafter referred to as “organic EL”) element, a method for manufacturing an organic EL layer using the substrate, an organic EL element, and the substrate. It is related with the plate-shaped member made.

有機EL素子およびこれを搭載した有機EL表示装置は、携帯電話用などとして既に実用に供されている。有機EL素子は、陽極および陰極と、これら電極に挟まれた発光層を含む1層以上の有機EL層とを有する積層体である。発光層は電圧が印加されて電流が流れると発光する有機化合物で形成される。有機EL素子は様々な特性を有するが、薄膜を積層して形成できるため、これを実装する表示装置などの装置を極めて薄型にし得る点が一つの大きな特徴となっている。   An organic EL element and an organic EL display device on which the organic EL element is mounted have already been put into practical use for mobile phones and the like. An organic EL element is a laminate having an anode and a cathode, and one or more organic EL layers including a light emitting layer sandwiched between these electrodes. The light emitting layer is formed of an organic compound that emits light when a voltage is applied and a current flows. An organic EL element has various characteristics, but since it can be formed by laminating thin films, one major feature is that a device such as a display device on which the organic EL element is mounted can be made extremely thin.

有機EL素子は、通常、支持基板上に、電極と発光層を含む1層以上の有機EL層とを所定の順序で積層させて作製され、有機EL素子を多数配列して表示素子が製造される。 既に実用化されている有機EL素子を用いた表示素子においては、各有機EL素子の有機EL層はマスクを用いた真空蒸着法を用いて形成されている。しかしマスクのたわみによるパターニング精度の問題や大型真空装置の必要性による成膜コストの問題などから、大画面化が困難とされている。
一方で、有機EL層形成手法として、塗布法の検討もなされている。塗布法は、有機EL層を構成する成分、すなわち有機EL材料を含むインクを塗布し、これを乾燥等により硬化させて層を形成する方法である。塗布法としては、例えば、インクジェット法(液滴塗布法)が挙げられる。インクジェット法は、有機EL材料の塗布量を精密に制御でき、また数ミクロン単位での精密な位置制御が可能であり、大画面化の技術として、開発が進められている。しかしながら、インクジェット法(液滴塗布法)は、インクがノズルから液滴として噴射されるため、ノズル孔が閉塞しやすいという課題がある。
An organic EL element is usually produced by laminating an electrode and one or more organic EL layers including a light emitting layer on a supporting substrate in a predetermined order, and a display element is manufactured by arranging a large number of organic EL elements. The In a display element using an organic EL element that has already been put into practical use, the organic EL layer of each organic EL element is formed using a vacuum evaporation method using a mask. However, due to the problem of patterning accuracy due to the deflection of the mask and the problem of film formation cost due to the necessity of a large vacuum apparatus, it is difficult to increase the screen.
On the other hand, as a method for forming an organic EL layer, a coating method has been studied. The coating method is a method for forming a layer by applying a component constituting an organic EL layer, that is, an ink containing an organic EL material, and curing the ink by drying or the like. Examples of the coating method include an inkjet method (droplet coating method). The inkjet method is capable of precisely controlling the coating amount of the organic EL material and is capable of precise position control in units of several microns, and is being developed as a technology for increasing the screen size. However, the ink jet method (droplet application method) has a problem that the nozzle holes are easily blocked because the ink is ejected as droplets from the nozzles.

そこで、インクジェット法に代わる技術として、ノズルプリンティング法(液柱塗布法)が研究、開発されている(例えば、特許文献1〜3)。
ノズルプリンティング法は、吐出ノズルからインクを連続的に液柱として吐出させて、基板上にインクを塗布する方法であり、上述のインクジェット法と同様の利点に加えて、ノズル孔の閉塞が起こりづらいという利点がある。
Therefore, a nozzle printing method (liquid column coating method) has been researched and developed as a technique replacing the ink jet method (for example, Patent Documents 1 to 3).
The nozzle printing method is a method in which ink is continuously ejected from a discharge nozzle as a liquid column and applied onto a substrate. In addition to the same advantages as the ink jet method described above, nozzle holes are not easily blocked. There is an advantage.

特開2002−75640号公報JP 2002-75640 A 特開2009−43499号公報JP 2009-43499 A 特開2007−188862号公報JP 2007-188862 A

ところで、インクジェット法やノズルプリンティング法などの湿式プロセスを用いた成膜では、基板に多数の有機EL素子を形成するための塗布パターンに応じた隔壁を設け、塗布領域を制御する方法が一般的に採用されている。
通常、ノズルプリンティング法などの連続液柱塗布で用いられる隔壁形状としては、特許文献1で開示されているような塗布方向(ノズルのスキャン方向)に平行なストライプ形状の隔壁が用いられている。インクはノズルから吐出された後、徐々に乾燥していくが、乾燥する前に隔壁内で隔壁の長手方向(以下、「ストライプ方向」ともいう。)にインクが流動してしまい、乾燥後の有機EL層の膜厚むらの一因となる。インク流動の原因としては主に次の2点、すなわち、1点目として、インクは液状であり表面張力を持つため、インク自体の表面張力により球状にまとまろうとする力が働き、インクの流動が生じること、二点目として、ストライプ形状の隔壁の端部では隔壁が無い領域があるため、この端部からのインクの流出が起こることなどを挙げることができ、これらが原因となり、隔壁内でインクの流動がおこり、乾燥後の有機EL層の膜厚むらの一因となっているものと考えられる。
また、特許文献2で開示された基板は、ストライプ形状の隔壁の間に設けられた領域と領域との間に突起物を設けたものであるが、依然としてストライプ方向の領域間はつながっており、結局インクの流動が生じてしまい、それぞれの領域間のインク流動を抑制することができない。また、突起形状に起因して、画素内の膜厚にむらが生じてしまい、有機EL素子の発光特性低下の原因となってしまう。
さらに、インクジェット法で用いられるようなボックス形状の隔壁に対して、液柱塗布する場合には、隔壁によって区画された領域のそれぞれが分離した構造となるため、その領域内に供給されたインクが、隣の領域に流れ込むことを回避することができ、ストライプ形状の隔壁で生じていたような、ストライプ方向のインクの流動を回避することができる。しかしながら、液柱塗布では、スキャン方向に交差する方向に設けられた、厚みを有する隔壁上にも塗布されるため、隔壁上に乗ったインクが隔壁によって区画された領域(以下、「隔壁区画領域」ともいう。)に落ち込む際に、隔壁のどちら側に落ち込むかの制御をすることができず、隔壁区画領域に供給されるインクの量が各領域により異なり、隔壁区画領域間で有機EL層の膜厚むらが生じていた。
By the way, in film formation using a wet process such as an ink jet method or a nozzle printing method, a method of providing a partition wall corresponding to a coating pattern for forming a large number of organic EL elements on a substrate and controlling a coating region is generally used. It has been adopted.
Usually, as a partition shape used in continuous liquid column coating such as a nozzle printing method, a stripe-shaped partition parallel to the coating direction (nozzle scan direction) as disclosed in Patent Document 1 is used. The ink is gradually dried after being ejected from the nozzle. Before the ink is dried, the ink flows in the longitudinal direction of the partition (hereinafter, also referred to as “stripe direction”) in the partition. This contributes to uneven thickness of the organic EL layer. The main causes of ink flow are the following two points, that is, as the first point, since the ink is liquid and has surface tension, the force to gather into a spherical shape works due to the surface tension of the ink itself, and the ink flow As a second point, there is a region where there is no partition wall at the end of the stripe-shaped partition wall, and the outflow of ink from this end portion can be cited as a cause. It is considered that the ink flows and contributes to uneven thickness of the organic EL layer after drying.
Further, the substrate disclosed in Patent Document 2 is provided with protrusions between regions provided between stripe-shaped partition walls, but the regions in the stripe direction are still connected, Eventually, the ink flows, and the ink flow between the respective regions cannot be suppressed. Further, due to the shape of the protrusion, the film thickness in the pixel becomes uneven, which causes a decrease in the light emission characteristics of the organic EL element.
Furthermore, when applying a liquid column to a box-shaped partition wall used in the ink jet method, each of the regions partitioned by the partition wall has a separated structure, so that the ink supplied in the region is separated. Thus, it is possible to avoid flowing into the adjacent region, and it is possible to avoid the flow of ink in the stripe direction, which has occurred in the stripe-shaped partition wall. However, in the liquid column application, since the coating is applied also on the partition wall having a thickness provided in the direction intersecting the scanning direction, the ink on the partition wall is partitioned by the partition wall (hereinafter referred to as “partition partition region”). It is impossible to control which side of the partition wall falls when falling into the partition wall, and the amount of ink supplied to the partition wall partition region varies depending on each region, and the organic EL layer is separated between the partition wall partition regions. The film thickness was uneven.

これに対し、特許文献3には、ノズルのスキャン方向に平行な方向にストライプ形状の隔壁を設け、スキャン方向に交差する方向に前記ストライプ形状の隔壁より高さが低い山型形状の隔壁部を設けた基板が開示されている。この山形形状の隔壁は、上述のボックス状の隔壁と同様に隔壁区画領域のそれぞれを分離でき、画素同士のつながりを通して電流が流れることに起因するクロストーク現象を抑制できるとしている。さらに上部に平坦な部分を有さないため、隔壁区画領域にインクが落ち込むのを促進し、また、隔壁上にインクが残存するのを防げるとしている。
しかしながら、山型形状、すなわち隔壁の断面形状の規定しかなされていないので、スキャン方向に交差する隔壁上のどこでインクが分離するのかという分離点を制御することができず、各隔壁毎にインクの分離点が異なってしまい、インクの分離が不均一に起こりつつ上記の隔壁区画領域に落ち込んでしまう。このため隔壁の両側でインクの液量が異なってしまい、乾燥後の膜厚むらの原因となっていた。
In contrast, in Patent Document 3, a stripe-shaped partition wall is provided in a direction parallel to the scan direction of the nozzle, and a mountain-shaped partition wall portion having a height lower than that of the stripe-shaped partition wall in a direction intersecting the scan direction. A provided substrate is disclosed. This chevron-shaped partition wall can separate each partition wall partition region similarly to the box-shaped partition wall described above, and can suppress a crosstalk phenomenon caused by a current flowing through a connection between pixels. Further, since there is no flat portion at the top, it is promoted that the ink falls into the partition wall region, and the ink can be prevented from remaining on the partition wall.
However, since only the mountain shape, that is, the cross-sectional shape of the partition wall, is defined, the separation point where the ink is separated on the partition wall that intersects the scanning direction cannot be controlled, and the ink for each partition wall cannot be controlled. Separation points differ, and ink separation occurs in a non-uniform manner and falls into the partition wall partition region. For this reason, the amount of ink liquid is different on both sides of the partition wall, which causes uneven film thickness after drying.

かかる状況下、本発明は、画素電極上へのインクの供給むらが少なく、平坦で高品質な有機EL層を容易に形成可能な有機EL素子用基板を提供することを目的とする。   Under such circumstances, an object of the present invention is to provide a substrate for an organic EL element that can easily form a flat and high-quality organic EL layer with less unevenness of ink supply onto the pixel electrode.

本発明の有機EL素子用基板は、支持基板上に、平行に配置された複数の隔壁と、前記複数の隔壁に交差する方向に配置された複数のインク流れ防止用板状部材と、前記隔壁と前記板状部材によって区画された領域に配置された少なくとも1以上の画素電極と、を有する有機EL素子用基板であって、前記板状部材は、その両端部が前記隔壁に接して配置され、かつ、両端部から中央部に向けた厚みの減少によるくびれを有することを特徴とする。   The organic EL element substrate of the present invention includes a plurality of partition walls arranged in parallel on a support substrate, a plurality of ink flow preventing plate-like members disposed in a direction intersecting the plurality of partition walls, and the partition walls. And at least one or more pixel electrodes arranged in a region partitioned by the plate-like member, wherein the plate-like member is arranged so that both ends thereof are in contact with the partition wall. And it has the constriction by the reduction | decrease in the thickness toward the center part from both ends, It is characterized by the above-mentioned.

支持基板上に、平行に配置された複数の隔壁(以下、「ストライプ形状の隔壁」と表現することがある)に交差する方向にインク流れ防止用板状部材(以下、単に「板状部材」と呼ぶ場合がある。)が、隣接する隔壁と隔壁の間に、複数配置されており、その両端部が隔壁に密着するように配置されているため、隔壁と板状部材によって区画された領域(以下、「区画領域」と呼ぶ場合がある。)に連続して液柱状に塗布されたインクが、乾燥前にストライプ方向に流動することを抑制できる。さらに、板状部材は、その両端部から中央部に向けたストライプ方向の厚みの減少によるくびれを有する構造であるため、基板との密着性を維持しながら、板状部材の両側の区画領域に均一にインクを分離することができる。その結果、ストライプ方向の膜厚むらが抑制された良好な成膜が可能となる。なお、本発明において、板状部材のくびれは、板状部材の両端部から中央部に向けて厚みが減少することによるものであり、基板の垂直方向からみてくびれの有無を判断することができる。   A plate-like member for preventing ink flow (hereinafter simply referred to as “plate-like member”) in a direction intersecting with a plurality of parallel partitions (hereinafter sometimes referred to as “stripe-shaped partition walls”) arranged on the support substrate. Are arranged between adjacent partition walls, and both ends thereof are disposed in close contact with the partition wall, so that the region is defined by the partition wall and the plate-like member. It is possible to suppress ink applied continuously in a liquid column shape (hereinafter sometimes referred to as “partition region”) from flowing in the stripe direction before drying. Furthermore, since the plate-like member has a constriction due to a decrease in thickness in the stripe direction from both end portions to the center portion, the plate-like member maintains a close contact with the substrate while maintaining a close area on both sides of the plate-like member. Ink can be separated uniformly. As a result, it is possible to perform good film formation in which unevenness in film thickness in the stripe direction is suppressed. In the present invention, the constriction of the plate-like member is due to a decrease in thickness from both end portions to the central portion of the plate-like member, and it is possible to determine the presence or absence of constriction as seen from the vertical direction of the substrate. .

インクの分離という観点からは、板状部材は、その厚みが薄いことが効果的ではある。
ノズルから供給されたインクは板状部材上にも塗布され、板状部材上のインクは重力と表面張力により板状部材の両側の区画領域に分離して流下する。インクの分離は板状部材上のいずれかの場所で起こるが、板厚が厚い場合、インク分離点を制御することができないため、インクの分離点のばらつきが大きくなり、膜厚むらの原因となるためである。また、上記特許文献3のように山型形状にすることにより、インクの画素内への落ち込みを促進することは可能であるが、ストライプ方向の分離点を制御することはできない。また、分離点を制御するに十分な程度にまで板状部材の厚みを薄くすると、板状部材が基板から
剥離してしまうという問題が生じる。さらに、前記の山形形状や板厚を薄くする方法では、ストライプに交差する方向、すなわち、板状部材に平行な方向の分離点を制御するまでには至らない。そこで、本発明では、板状部材が、前記くびれを有することで、インク分離点を完全に制御することができるのである。加えて、本発明では、板状部材は、中央部がくびれてさえいれば、両端部の厚みを厚くすることもできることから、障壁との密着性、ひいては基板との密着性を高め、基板からの剥離を防ぐことも可能である。
From the viewpoint of ink separation, it is effective that the plate-like member is thin.
The ink supplied from the nozzles is also applied to the plate-like member, and the ink on the plate-like member is separated and flows down into the partitioned areas on both sides of the plate-like member by gravity and surface tension. Ink separation occurs anywhere on the plate-like member, but if the plate is thick, the ink separation point cannot be controlled, resulting in large variations in the ink separation point, which causes uneven film thickness. It is to become. Further, by forming a mountain shape as in Patent Document 3, it is possible to promote the drop of ink into the pixels, but the separation point in the stripe direction cannot be controlled. Further, if the thickness of the plate member is reduced to a level sufficient to control the separation point, there arises a problem that the plate member is peeled off from the substrate. Further, the method of reducing the chevron shape and the plate thickness does not lead to controlling the separation point in the direction intersecting the stripe, that is, the direction parallel to the plate member. Therefore, in the present invention, the plate-like member has the constriction, whereby the ink separation point can be completely controlled. In addition, in the present invention, since the plate-like member can be thickened at both ends as long as the center portion is constricted, the adhesion to the barrier, and hence the adhesion to the substrate, is improved. It is also possible to prevent peeling.

また、本発明の有機EL素子用基板において、前記画素電極は、隔壁の長手方向に一定間隔で配置されていることが望ましく、この場合、インクの流動の抑制効果を維持できる範囲でできるだけ少数の板状部材が配置されることがより望ましい。特に前記板状部材の隔壁の長手方向の配置間隔Dが、前記画素電極の配置間隔Lの2倍以上10倍以下、好ましくは2倍以上5倍以下であると、より均一性の高い膜を形成することができる。   In the organic EL element substrate of the present invention, it is desirable that the pixel electrodes are arranged at regular intervals in the longitudinal direction of the partition wall, and in this case, as few as possible within a range in which the effect of suppressing ink flow can be maintained. More desirably, a plate-like member is disposed. In particular, when the arrangement interval D in the longitudinal direction of the partition walls of the plate-like member is 2 to 10 times, preferably 2 to 5 times the arrangement interval L of the pixel electrodes, a more uniform film is formed. Can be formed.

また、区画領域の膜厚均一性と、板状部材の剥離耐性の観点から、前記板状部材におけるくびれの最小板厚tと、前記画素電極が隔壁の長手方向に配置される間隔Lが、以下の式(1)を満たすことが望ましい。ここで、くびれの最小板厚tは、基板の垂直方向から投影したときの厚みで判断する。

L/60≦t≦L/15 (1)

前述のとおり、板状部材の両側の区画領域に均一にインクを分離するためには、くびれの最小板厚が薄いことが望ましいが、薄すぎると板状部材の剥離の原因となる。また、基板に配置される画素電極が大きい場合、隣り合う隔壁と隔壁の間が大きくなる場合があり、それに従い板状部材の長さも長くなるため、同じ板厚でも板状部材の剥離がおきやすくなる。加えて、画素電極が大きくなると区画領域も大きくなるため、供給されるインク量のばらつきの影響を受けにくくなり、そのため、区画領域が大きくするにつれ、相対的にくびれ部の最適板厚を厚くすることができる。
我々は鋭意検討の結果、画素電極の配置間隔Lと最適なくびれ部の板厚tとの間に上記式(1)の相関関係があることを見出した。
例えば、間隔Lが180μmであるとき、式(1)から最適板厚tは、3μm以上12μm以下の範囲である。
なお、tが、L/60より小さい場合には、板状部材が剥離しやすくなるため好ましくなく、L/15より大きい場合には、区画領域のインクの量がばらつきやすくなり区画領域の膜厚均一性が低下するため好ましくない。
In addition, from the viewpoint of the film thickness uniformity of the partition region and the peeling resistance of the plate-like member, the minimum plate thickness t of the constriction in the plate-like member, and the interval L at which the pixel electrodes are arranged in the longitudinal direction of the partition wall, It is desirable to satisfy the following formula (1). Here, the minimum thickness t of the constriction is determined by the thickness when projected from the vertical direction of the substrate.

L / 60 ≦ t ≦ L / 15 (1)

As described above, in order to uniformly separate the ink into the divided areas on both sides of the plate-like member, it is desirable that the minimum plate thickness of the constriction is thin, but if it is too thin, the plate-like member may be peeled off. In addition, when the pixel electrode arranged on the substrate is large, the distance between adjacent partition walls may be large, and the length of the plate member is accordingly increased. It becomes easy. In addition, the larger the pixel electrode, the larger the partition area, so that it is less affected by variations in the amount of ink supplied. Therefore, as the partition area increases, the optimum thickness of the constricted portion is relatively increased. be able to.
As a result of intensive studies, we have found that there is a correlation of the above formula (1) between the arrangement interval L of the pixel electrodes and the plate thickness t of the optimum neck portion.
For example, when the distance L is 180 μm, the optimum thickness t is from 3 μm to 12 μm from the equation (1).
When t is smaller than L / 60, the plate-like member is easily peeled off, which is not preferable. When it is larger than L / 15, the amount of ink in the partitioned area is likely to vary, and the film thickness of the partitioned area. This is not preferable because the uniformity is lowered.

本発明の有機EL層の製造方法は、上述の有機EL素子用基板上に平行に配置された2つの隔壁の間に、隔壁の長手方向に沿って、有機EL材料を含有するインクを液柱塗布により塗布し、乾燥して有機EL層を得ることを特徴とする。   In the method for producing an organic EL layer of the present invention, an ink containing an organic EL material is disposed between two partition walls arranged in parallel on the above-described organic EL element substrate along the longitudinal direction of the partition wall. The organic EL layer is obtained by coating and drying.

本発明の方法で製造した有機EL層は、平坦で膜厚むらが抑制され高品質である。そのため、この製造方法により得られる有機EL層を有する有機EL素子は、これを有機EL装置に用いた場合には、表示むらが抑制され、品位が良好であり、発光特性も良好で耐久性が高い。   The organic EL layer produced by the method of the present invention is flat and has high quality with reduced film thickness unevenness. Therefore, when the organic EL element having an organic EL layer obtained by this production method is used in an organic EL device, display unevenness is suppressed, the quality is good, the light emission characteristics are good, and the durability is high. high.

また、本発明のインク流れ防止用板状部材は、両端部から中央部に向けた厚みの減少によるくびれを有することを特徴とし、基板上に配置された互いに平行な2つの隔壁の間に、該両端部を2つの隔壁に接して配置させて用いられる。上述のようにこの板状部材を配置させることによって、膜厚むらの抑制された良好な成膜が可能である有機EL素子用基板を得ることができる。   Further, the plate member for ink flow prevention according to the present invention is characterized by having a constriction due to a decrease in thickness from both ends toward the center, and between two parallel partitions arranged on the substrate, The both end portions are used in contact with two partition walls. By disposing this plate-like member as described above, it is possible to obtain an organic EL element substrate capable of good film formation with suppressed film thickness unevenness.

本発明によれば、平坦で膜厚むらのない高品質な有機EL層を形成することができる。   According to the present invention, it is possible to form a high-quality organic EL layer that is flat and has no film thickness unevenness.

本発明の実施形態に係る有機EL素子用基板の平面図である。It is a top view of the substrate for organic EL elements concerning the embodiment of the present invention. 図1の基板の一部拡大平面図である。FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the substrate of FIG. 1. 図2におけるA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA in FIG. 本発明の実施形態に係る板状基材の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the plate-shaped base material which concerns on embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る板状基材の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the plate-shaped base material which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る板状基材の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the plate-shaped base material which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る板状基材の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the plate-shaped base material which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る板状基材の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the plate-shaped base material which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る板状基材の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the plate-shaped base material which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の実施形態の塗布工程におけるノズルとパネル(基板)の移動を示す図である。It is a figure which shows the movement of the nozzle and panel (board | substrate) in the application | coating process of embodiment of this invention. 塗布工程におけるノズルの軌道を示す図である。It is a figure which shows the track | orbit of the nozzle in an application | coating process. 本発明の実施形態に係る有機EL素子用基板のインク塗布直後(乾燥前)の断面図である。It is sectional drawing just after ink application of the organic EL element substrate which concerns on embodiment of this invention (before drying). 本発明の実施形態に係る有機EL素子用基板のインク乾燥後の断面図である。It is sectional drawing after the ink drying of the board | substrate for organic EL elements which concerns on embodiment of this invention. 複数色インクの塗布工程におけるノズルの軌道を示す図である。It is a figure which shows the track | orbit of the nozzle in the application | coating process of multi-color ink. 比較例1の有機EL素子用基板のインク塗布直後(乾燥前)の断面図である。It is sectional drawing just after the ink application of the organic EL element substrate of Comparative Example 1 (before drying). 比較例1の有機EL素子用基板のインク乾燥後の断面図である。It is sectional drawing after the ink drying of the organic EL element substrate of Comparative Example 1. 比較例2の有機EL素子用基板のインク塗布直後(乾燥前)の断面図である。It is sectional drawing just after ink application of the organic EL element substrate of Comparative Example 2 (before drying). 比較例2の有機EL素子用基板のインク乾燥後の断面図である。It is sectional drawing after the ink drying of the organic EL element substrate of Comparative Example 2.

本発明は、支持基板上に、平行に配置された複数の隔壁と、前記複数の隔壁に交差する方向に配置された複数のインク流れ防止用板状部材と、前記隔壁と前記板状部材によって区画された領域(区画領域)に配置された少なくとも1以上の画素電極と、を有する有機EL素子用基板であって、前記板状部材は、その両端部が2つの前記隔壁に密着するように配置され、かつ、両端部から中央部に向けた厚みの減少によるくびれを有する有機EL素子用基板(以下、「本発明の基板」と呼ぶ場合がある。)に係るものである。   The present invention includes a plurality of partition walls arranged in parallel on a support substrate, a plurality of plate members for preventing ink flow arranged in a direction intersecting the plurality of partition walls, and the partition walls and the plate members. An organic EL element substrate having at least one or more pixel electrodes arranged in a partitioned region (partition region), wherein the plate-like member has both end portions in close contact with the two partition walls. The present invention relates to an organic EL element substrate (hereinafter also referred to as “substrate of the present invention”) that is disposed and has a constriction due to a decrease in thickness from both ends toward the center.

以下に、本発明の基板の好適な実施形態を、図面を参照しながら説明する。
なお、理解の容易のため、本実施形態における基板の画素配列として、列状に設けられる単色の有機EL素子が配列したものを例示するが、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。例えば、図8に示されるように、複数色のインクを塗布して、複数色の有機EL素子が周期的に配列した画素配列を有する有機EL装置を得るための基板としても適用可能である。また、図面における各部材の縮尺は実際とは異なる場合がある。
Hereinafter, preferred embodiments of the substrate of the present invention will be described with reference to the drawings.
For ease of understanding, the pixel arrangement of the substrate in this embodiment is exemplified by an array of monochromatic organic EL elements provided in a row, but is not limited to this, and the gist of the present invention As long as it does not deviate from the above, it can be appropriately changed. For example, as shown in FIG. 8, the present invention can be applied as a substrate for obtaining an organic EL device having a pixel array in which a plurality of colors of organic EL elements are periodically arranged by applying a plurality of colors of ink. Further, the scale of each member in the drawing may be different from the actual scale.

図1は、本発明の実施形態の有機EL素子用基板を示す平面図であり、図2は、本発明の実施形態の基板の一部拡大平面図であり、図3は図2におけるA−A線における断面図である。
本発明の実施形態における有機EL素子用基板1は、支持基板30上に4つのマトリクス部(表示エリア部)40が設けられたパネルである。マトリクス部40において、41は画素電極、41aは画素電極の列、41bは区画領域、42は画素規制層、43は隔壁、44はインク流れ防止用板状部材である。なお、画素とは、画素規制層で規定された発光領域のことをいう。
FIG. 1 is a plan view showing an organic EL element substrate according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the substrate according to the embodiment of the present invention, and FIG. It is sectional drawing in A line.
The organic EL element substrate 1 in the embodiment of the present invention is a panel in which four matrix portions (display area portions) 40 are provided on a support substrate 30. In the matrix section 40, 41 is a pixel electrode, 41a is a row of pixel electrodes, 41b is a partition region, 42 is a pixel regulating layer, 43 is a partition wall, and 44 is a plate member for preventing ink flow. Note that a pixel refers to a light emitting region defined by a pixel regulation layer.

支持基板30は、それを構成する材料が電極や有機EL層を形成する際に化学的に安定なものであればよく、例えばガラス、プラスチック、高分子フィルム、シリコン基板、金属板、これらを積層したものなどが用いられる。   The support substrate 30 may be any material as long as it is chemically stable when forming an electrode or an organic EL layer. For example, glass, plastic, polymer film, silicon substrate, metal plate, and the like are laminated. Used.

マトリクス部40において、画素電極41は、直列状に数列規則的に並べられており、それぞれが画素電極を囲む画素規制層42によって区画されている。詳しくは後述するが、画素電極41上に、発光層を含む各種の層を順次積層させることにより、有機EL層が形成される。前記有機EL層を構成する層のうちの少なくとも一層は、発光層であり、その他の有機EL層としては、後述の正孔輸送層、電子ブロック層等が挙げられる。有機EL層は、これら発光層等の有機EL層を構成する材料(以下、「有機EL材料」と称す。)およびインク溶媒を含む溶液、懸濁液またはコロイド分散液であるインクを使用して作製される。なお、本明細書においては、「溶媒」の用語は、特に断らない限り、有機EL材料を溶解させる液体および有機EL材料を分散させる液体の双方を含む概念として用いる。   In the matrix section 40, the pixel electrodes 41 are regularly arranged in a series of several rows, and each is partitioned by a pixel regulating layer 42 surrounding the pixel electrodes. Although described in detail later, an organic EL layer is formed by sequentially laminating various layers including a light emitting layer on the pixel electrode 41. At least one of the layers constituting the organic EL layer is a light emitting layer, and examples of the other organic EL layers include a hole transport layer and an electron block layer described later. The organic EL layer uses an ink that is a solution, a suspension, or a colloidal dispersion containing a material (hereinafter referred to as “organic EL material”) such as a light emitting layer (hereinafter referred to as “organic EL material”) and an ink solvent. Produced. In this specification, the term “solvent” is used as a concept including both a liquid for dissolving the organic EL material and a liquid for dispersing the organic EL material, unless otherwise specified.

画素規制層42は、発光領域を規定するとともに、基板上に配置された電極配線との絶縁性を確保する目的で設けられ、画素規制層42で区画されることにより、画素電極41は、一定間隔に配列している。
画素規制層42の材質としては絶縁体であることが望ましく、SiO2などの無機酸化物、SiNなどの無機窒化物や、ポリイミド、ノボラック樹脂などの耐熱性樹脂材料などが挙げられる。
The pixel regulating layer 42 is provided for the purpose of defining a light emitting region and ensuring insulation from the electrode wiring arranged on the substrate, and is partitioned by the pixel regulating layer 42 so that the pixel electrode 41 is fixed. Arranged at intervals.
The material of the pixel regulation layer 42 is preferably an insulator, and examples thereof include inorganic oxides such as SiO 2 , inorganic nitrides such as SiN, and heat resistant resin materials such as polyimide and novolac resin.

隔壁43は、画素電極41からなる画素電極の列41aを一列ずつ区切るように一定間隔に各画素電極の列41aの間に平行に配置されたストライプ形状の隔壁である。なお、隔壁43は、後述するノズルプリンティングにおいてインクを連続塗布する方向(ノズルスキャン方向)に対して平行となる。
この隔壁43は、各画素電極の列41aに塗布されるインクが、各列間で混ざり合うことを回避するために配置される。そのため、隔壁43の高さは、塗布されたインクを保持するために十分な高さとなるように設計される。
隔壁43は、電気絶縁性の材料であれば良く、例えば、ポリイミド、ノボラック樹脂等の絶縁性樹脂材料が挙げられる。また、塗布されたインクの保持性能を高めるため、隔壁の表面に、インクを弾く撥液性を付与しても良い。例えば、隔壁をCF4プラズマ処理することで、隔壁を撥液性とすることができる。
The barrier ribs 43 are stripe-shaped barrier ribs arranged in parallel between the pixel electrode columns 41 a at regular intervals so as to divide the pixel electrode columns 41 a including the pixel electrodes 41 one by one. The partition wall 43 is parallel to the direction in which ink is continuously applied (nozzle scan direction) in nozzle printing described later.
The partition walls 43 are arranged to prevent the ink applied to the pixel electrode columns 41 a from being mixed between the columns. Therefore, the height of the partition wall 43 is designed to be high enough to hold the applied ink.
The partition wall 43 may be an electrically insulating material, and examples thereof include an insulating resin material such as polyimide and novolac resin. Moreover, in order to improve the holding | maintenance performance of the apply | coated ink, you may provide the liquid repellency which repels an ink on the surface of a partition. For example, the partition walls can be made liquid repellent by CF 4 plasma treatment.

インク流れ防止用板状部材44(以下、単に「板状部材44」ともいう。)は、隔壁43と交差する方向に、画素電極41の列41aを区切るように配置されている。すなわち、画素電極41は、前記隔壁43と前記板状部材44によって区画された領域41bに配置されている。なお、本実施形態では、隔壁43と板状部材44とは垂直に交差しているが、必ずしも垂直に交差する必要はない。   The ink flow preventing plate-like member 44 (hereinafter also simply referred to as “plate-like member 44”) is arranged so as to divide the column 41a of the pixel electrodes 41 in a direction intersecting with the partition walls 43. That is, the pixel electrode 41 is disposed in a region 41 b defined by the partition wall 43 and the plate-like member 44. In the present embodiment, the partition wall 43 and the plate-like member 44 intersect perpendicularly, but do not necessarily intersect perpendicularly.

板状部材44は、隙間を通ってインクが各画素電極の列41a内で流動することがないように、その両端部が2つの前記隔壁に密着するように配置されている。
また、図4−1にその拡大図を示すように、板状部材44は、両端部から中央部に向けた厚みの減少によるくびれを有した、山型形状であり、膜厚方向の中心線付近に頂点を有す。詳しくは製造工程に併せて後述するが、このようにくびれを有する構造であるため、板状部材の基板からの剥がれを防ぎつつ、インクを画素内に均一に分離させることが可能となる。
The plate-like member 44 is arranged so that both end portions thereof are in close contact with the two partition walls so that the ink does not flow in the pixel electrode rows 41a through the gaps.
Further, as shown in the enlarged view in FIG. 4-1, the plate-like member 44 has a chevron shape with a constriction due to a decrease in thickness from both ends toward the center, and the center line in the film thickness direction. It has a vertex in the vicinity. Although details will be described later in conjunction with the manufacturing process, since the structure has such a constriction, it is possible to uniformly separate the ink into the pixels while preventing the plate-like member from peeling off from the substrate.

ここで、前記板状部材におけるくびれの最小板厚t(図4−1参照)と前記電極の配置間隔Lが、以下の式(1)を満たすことが好ましい。
L/60≦t≦L/15 (1)

この関係を満たすことにより、板状部材の基板からの剥がれを防ぎつつ、効果的にインクむらの発生を抑制することができる。
なお、本実施形態の板状部材44では、t=5μm、L=180μmであり、t=L/36である。
Here, it is preferable that the minimum thickness t (see FIG. 4-1) of the constriction in the plate-like member and the arrangement interval L of the electrodes satisfy the following formula (1).
L / 60 ≦ t ≦ L / 15 (1)

By satisfying this relationship, it is possible to effectively suppress the occurrence of ink unevenness while preventing peeling of the plate-like member from the substrate.
In the plate member 44 of the present embodiment, t = 5 μm, L = 180 μm, and t = L / 36.

なお、板状部材44の形状としては、図4−1の形状に限定されず、両端部から中央部に向けた厚みの減少によるくびれを有する構造であればよい。例えば、図4−2に示す端面に平行な断面が長方形である板状部材45、図4−3に示す端面に平行な断面が台形である板状部材46などを例示することができる。また、図4−4(板状部材47)、図4−5(板状部材48)、図4−6(板状部材49)のそれぞれに示すように、エッジがとれた形状、すなわち、端面に平行な断面がそれぞれ略山形形状、略長方形、略台形の形状になっていてもよい。   Note that the shape of the plate-like member 44 is not limited to the shape of FIG. 4A, and may be any structure that has a constriction due to a decrease in thickness from both ends toward the center. For example, a plate-like member 45 having a rectangular cross section parallel to the end face shown in FIG. 4B, a plate-like member 46 having a trapezoidal cross section parallel to the end face shown in FIG. Further, as shown in FIG. 4-4 (plate member 47), FIG. 4-5 (plate member 48), and FIG. The cross sections parallel to each other may have a substantially chevron shape, a substantially rectangular shape, or a substantially trapezoidal shape.

本実施形態の基板において、隔壁43が一定間隔で配置され、板状部材44が2画素電極41ごとに一定間隔に配置されている。詳しくは後述の膜形成工程において説明するが、板状部材44が2画素電極41ごとに配置されているので、インク量が、前記隔壁43と前記板状部材44によって、2画素電極41を囲う区画領域41bで平均化されるため、形成される膜の膜厚むらが少なくなる。また、板状部材44上へのインクの付着による影響も緩和される。
板状部材44は、インク流動に起因した膜厚むらが生じない範囲でなるべく広い間隔で配置される。
ここで、図2に示すように画素電極41の配置間隔Lは、長手方向における画素電極41の中心と中心の間隔と定義すると、むら抑制の観点からは、前記板状部材の配置間隔Dが、画素電極の配置間隔Lの2倍以上10倍以下(より好ましくは、2倍以上5倍以下)であることが好ましい。
2倍未満であると、板状部材44上にインクが乗りあがって膜厚むらが生じてしまった場合に、この膜厚むらが表示品位や発光特性の観点から許容量を越えてしまう場合があり、10倍を超えると板状部材44を形成した効果が得られない場合がある。
このような範囲であると、むら要因をバランスよく抑制できるため、より均一性の高い膜を形成することができる。
本実施形態では、画素電極41の2つごとに、板状部材44を配置していることから、D=2Lの関係にある。
In the substrate of the present embodiment, the partition walls 43 are arranged at regular intervals, and the plate-like members 44 are arranged at regular intervals for every two pixel electrodes 41. Although details will be described later in the film forming step, since the plate-like member 44 is disposed for each two-pixel electrode 41, the ink amount surrounds the two-pixel electrode 41 by the partition wall 43 and the plate-like member 44. Since averaging is performed in the partition region 41b, the film thickness unevenness of the formed film is reduced. In addition, the influence of ink adhesion on the plate-like member 44 is alleviated.
The plate-like members 44 are arranged at as wide intervals as possible within a range in which the film thickness unevenness due to ink flow does not occur.
Here, as shown in FIG. 2, if the arrangement interval L of the pixel electrodes 41 is defined as the center-to-center interval of the pixel electrodes 41 in the longitudinal direction, the arrangement interval D of the plate-like members is from the viewpoint of suppressing unevenness. The pixel electrode arrangement interval L is preferably 2 to 10 times (more preferably 2 to 5 times).
If it is less than twice, when the ink is deposited on the plate-like member 44 and the film thickness unevenness occurs, the film thickness unevenness may exceed the allowable amount from the viewpoint of display quality and light emission characteristics. Yes, if it exceeds 10 times, the effect of forming the plate-like member 44 may not be obtained.
Within such a range, the unevenness factor can be suppressed in a balanced manner, so that a film with higher uniformity can be formed.
In the present embodiment, since the plate-like member 44 is arranged for every two pixel electrodes 41, there is a relationship of D = 2L.

次に本発明の有機EL素子用基板1を用いた、本発明の実施形態に係る有機EL素子の製造方法を図面を参照して説明する。なお、本発明において、少なくとも一対の電極と当該電極間に挟まれた発光層を含む1層以上の有機EL層との積層体を「有機EL素子」と定義し、有機EL素子を2次元配置してなる平板状の表示装置を「有機EL装置」と定義する。また、「有機EL層」は、有機EL材料からなる層を意味する。
また、理解の容易のため、図面における各部材の縮尺は実際とは異なる場合がある。また、本発明は以下の記述によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
さらに、有機EL装置においては電極のリード線等の部材も存在するが、電気的配線、電気回路等については、発光素子、表示装置などの技術分野における通常の知識に基づいて様々な態様を実施可能であり、本発明の説明として直接的には関係はないため詳細な説明は省略している。
Next, the manufacturing method of the organic EL element which concerns on embodiment of this invention using the board | substrate 1 for organic EL elements of this invention is demonstrated with reference to drawings. In the present invention, a laminate of at least a pair of electrodes and one or more organic EL layers including a light emitting layer sandwiched between the electrodes is defined as an “organic EL element”, and the organic EL elements are arranged two-dimensionally. The flat display device thus formed is defined as “organic EL device”. The “organic EL layer” means a layer made of an organic EL material.
For ease of understanding, the scale of each member in the drawings may differ from the actual scale. Further, the present invention is not limited by the following description, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention.
In addition, there are members such as electrode lead wires in organic EL devices, but various aspects of electrical wiring, electrical circuits, etc. are implemented based on ordinary knowledge in the technical field of light emitting elements, display devices, etc. Since it is possible and is not directly related to the description of the present invention, a detailed description is omitted.

図5および図6に、ノズルプリンティングによるインク塗布工程の様子を示す。なお、図5、図6および図8において、板状部材の表記は省略している。
支持基板30上に4つのマトリクス部(表示エリア部)40が設けられた有機EL素子用基板1が、Dd方向へと搬送される。ノズルプリンティング装置(本体不図示)のノズル20から、積層体の層を形成するためのインクが吐出される。ノズル20は、有機EL素子用基板の搬送方向Ddに対し、直交する方向Nmに反復移動する。
5 and 6 show the state of the ink application process by nozzle printing. In addition, in FIG.5, FIG6 and FIG.8, the description of a plate-shaped member is abbreviate | omitted.
The organic EL element substrate 1 in which four matrix portions (display area portions) 40 are provided on the support substrate 30 is transported in the Dd direction. Ink for forming the layer of the laminate is ejected from the nozzle 20 of the nozzle printing apparatus (main body not shown). The nozzle 20 repeatedly moves in a direction Nm orthogonal to the transport direction Dd of the organic EL element substrate.

インクは、非断続的に液柱として連続して吐出される。ノズルプリンティング装置は、微小なノズルからインクを連続的に吐出することができる装置である。ノズルプリンティング装置は、微細な線幅に安定して非断続的な連続線状に塗布するのに好適である。   Ink is ejected continuously as a liquid column intermittently. The nozzle printing apparatus is an apparatus that can continuously eject ink from minute nozzles. The nozzle printing apparatus is suitable for coating in a non-intermittent continuous line stably with a fine line width.

使用されるインクは、有機EL素子を構成する正孔輸送層、電子ブロック層、発光層等の材料(以下、「有機EL材料」と称す。)およびインク溶媒を含む溶液、懸濁液またはコロイド溶液である。なお、本明細書においては、「溶媒」の用語は、特に断らない限り、有機EL材料を溶解させる液体および有機EL材料を分散させる液体の双方を含む概念として用いる。   The ink used is a solution, suspension, or colloid containing a material such as a hole transport layer, an electron blocking layer, a light emitting layer, etc. (hereinafter referred to as “organic EL material”) and an ink solvent constituting the organic EL element. It is a solution. In this specification, the term “solvent” is used as a concept including both a liquid for dissolving the organic EL material and a liquid for dispersing the organic EL material, unless otherwise specified.

インク溶媒は、有機EL材料の溶解性や基板との親和性等の条件によって適宜選択してよい。インク溶媒として、好ましくは、揮発性、層形成成分の溶解性または分散性などに関し、インク溶媒としての好ましい諸要件を満たすことが好適である。インク溶媒として好ましくは、例えば、水、アルコール溶媒、グリコール溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、含塩素溶媒および芳香族炭化水素溶媒からなる群より選ばれる1種またはこれらの2種以上の混合物が挙げられる。アルコール溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどが挙げられる。グリコール溶媒としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げられる。エーテル溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、メトキシベンゼン等が挙げられる。エステル溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。含塩素溶媒としては、クロロホルム、クロロベンゼン、塩化メチレン等が挙げられる。芳香族炭化水素溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等が挙げられる。   The ink solvent may be appropriately selected depending on conditions such as solubility of the organic EL material and affinity with the substrate. As the ink solvent, it is preferable to satisfy various requirements as an ink solvent in terms of volatility, solubility or dispersibility of the layer forming component, and the like. The ink solvent is preferably, for example, one or a mixture of two or more selected from the group consisting of water, alcohol solvents, glycol solvents, ether solvents, ester solvents, chlorine-containing solvents and aromatic hydrocarbon solvents. . Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol and the like. Examples of the glycol solvent include ethylene glycol and propylene glycol. Examples of the ether solvent include tetrahydrofuran, methoxybenzene and the like. Examples of the ester solvent include ethyl acetate and butyl acetate. Examples of the chlorine-containing solvent include chloroform, chlorobenzene, and methylene chloride. Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include toluene, xylene, trimethylbenzene, tetramethylbenzene and the like.

図5に示すように、ノズル20の下に有機EL素子用基板1が搬送され、ノズルがNm方向に反復移動することにより、相対的にノズル20は図6に示す軌道Ipを描くように、パネル上を移動することになる。ノズル20の軌道Ipは、画素電極の列41aを長手方向に一列移動した後、次の列へと移動し、新たな画素電極の列41aを長手方向に移動する。パネル1が、ノズル20の下方を通過する際にノズル20からインクが吐出され、図6に示すような軌跡を描きつつ、次々に区画領域41bにインクが塗布されていく。   As shown in FIG. 5, the organic EL element substrate 1 is transported under the nozzle 20, and when the nozzle repeatedly moves in the Nm direction, the nozzle 20 relatively draws a trajectory Ip shown in FIG. 6. Will move on the panel. The trajectory Ip of the nozzle 20 moves the pixel electrode column 41a by one column in the longitudinal direction, then moves to the next column, and moves a new pixel electrode column 41a in the longitudinal direction. When the panel 1 passes below the nozzle 20, ink is ejected from the nozzle 20, and ink is applied to the partition area 41b one after another while drawing a locus as shown in FIG.

インクは、ノズル20から非断続的に液柱の状態で連続して吐出されていくため、軌道Ipが示すように、インクは区画領域41bおよび区画領域41bの長手方向にある板状部材44の上にも非断続的に連続して塗布される。したがって、インクは、区画領域41bの長手方向に並ぶ複数の区画領域41bおよび板状部材44の上に非断続的な線状に塗布されていく。区画領域41bは隔壁43および板状部材44によって区画されており、区画領域41b内に塗布されたインクは、領域内に広がる。   Since the ink is continuously ejected from the nozzle 20 in a liquid column state intermittently, as shown by the track Ip, the ink is separated from the partition region 41b and the plate-like member 44 in the longitudinal direction of the partition region 41b. It is also applied intermittently and continuously. Therefore, the ink is applied in a non-intermittent linear manner on the plurality of partition regions 41b and the plate-like member 44 arranged in the longitudinal direction of the partition region 41b. The partition area 41b is partitioned by the partition wall 43 and the plate member 44, and the ink applied in the partition area 41b spreads in the area.

図7−1、7−2に、インクが塗布後から乾燥する過程における区画領域41bの様子を模式的に示した図を示す。図7−1は、本発明の実施形態に係る有機EL素子用基板のインク塗布直後(乾燥前)の断面図であり、図7−2は、そのインク乾燥後の断面図である。   FIGS. 7A and 7B are diagrams schematically showing a state of the partition region 41b in the process of drying after the ink is applied. FIG. 7-1 is a cross-sectional view immediately after ink application (before drying) of the organic EL element substrate according to the embodiment of the present invention, and FIG. 7-2 is a cross-sectional view after the ink drying.

本発明の実施形態では、インクを非断続的に液柱として連続して吐出し、区画領域41bおよび区画領域41bの長手方向にある板状部材44上に非断続的に連続してインクを塗布しながら、区画領域41bの長手方向に並ぶ複数の区画領域41bおよび板状部材44の上に線状にインクを塗布していく。   In the embodiment of the present invention, ink is intermittently ejected continuously as a liquid column, and the ink is continuously and intermittently applied onto the partition region 41b and the plate-like member 44 in the longitudinal direction of the partition region 41b. Meanwhile, the ink is applied linearly on the plurality of partition regions 41b and the plate-like member 44 arranged in the longitudinal direction of the partition region 41b.

隔壁は十分な高さを有するため、塗布されたインクは隔壁を越えて隣接する区画領域41bに混入することはない。また、より混入を防ぐため、隔壁43はインクを弾く撥液処理が施されていてもよい。板状部材44の上に塗布されたインク51は均一に分離され、乾燥する間に板状部材44の上から区画領域41b内へ流れ落ち、最終的には区画領域41b内で層の一部を構成する。インクの塗布が完了後、乾燥工程において基板30は所定の雰囲気下に置かれ、インクから溶媒が蒸発し硬化して層が形成される。   Since the partition wall has a sufficient height, the applied ink does not enter the adjacent partition region 41b beyond the partition wall. Moreover, in order to prevent further mixing, the partition wall 43 may be subjected to a liquid repellent treatment for repelling ink. The ink 51 applied on the plate-like member 44 is uniformly separated and flows down from the plate-like member 44 into the partition region 41b during drying, and finally a part of the layer is formed in the partition region 41b. Constitute. After the ink application is completed, the substrate 30 is placed in a predetermined atmosphere in the drying process, and the solvent evaporates from the ink and hardens to form a layer.

上述のように本発明では、両端部から中央部に向けて厚みが減少するくびれを有した板状部材44が配置されている。したがって、隔壁と板状部材によって区画された複数の区画領域41bに連続して液柱状に塗布されたインクが、乾燥前にストライプ方向に流動することを抑制できる。また、板状部材44の上に塗布されたインクは板状部材44の両側で均一に分離され、区画領域41bに流れ落ちることができる。その結果、それぞれの区画領域41b内に供給されるインクの量が均一化され、インクを乾燥させて得られる有機EL層の膜厚を均一化できる。   As described above, in the present invention, the plate-like member 44 having a constriction whose thickness decreases from both ends toward the center is disposed. Therefore, it is possible to suppress the ink applied in a liquid column shape continuously to the plurality of partitioned regions 41b partitioned by the partition walls and the plate-like member from flowing in the stripe direction before drying. Further, the ink applied on the plate-like member 44 is uniformly separated on both sides of the plate-like member 44, and can flow down to the partition region 41b. As a result, the amount of ink supplied into each partition region 41b is made uniform, and the film thickness of the organic EL layer obtained by drying the ink can be made uniform.

また、隔壁43および板状部材44の表面は、インクを良好に保持するため、インクを弾く撥水性を有しても良い。撥液性を付与する方法としては、隔壁あるいは板状部材を構成する成分に撥液性の成分を混合させておいても良いし、あるいは、隔壁あるいは板状部材表面に撥液性の被膜を設けてもよい。塗布されたインクのストライプ方向への流動をより良好に防ぐためには、少なくとも板状部材44が撥液性を備えることが好ましく、インクが隔壁を越えて隣接する区画領域41bに混入することをより良好に防ぐためには、隔壁43および板状部材44の表面全体が撥液性を備えることがより好ましい。   Further, the surfaces of the partition wall 43 and the plate-like member 44 may have water repellency to repel ink in order to hold the ink well. As a method for imparting liquid repellency, a liquid repellent component may be mixed with a component constituting the partition wall or plate member, or a liquid repellent film may be formed on the surface of the partition wall or plate member. It may be provided. In order to better prevent the flow of the applied ink in the stripe direction, at least the plate-like member 44 is preferably provided with liquid repellency, and it is more possible for the ink to enter the adjacent partition region 41b beyond the partition wall. In order to prevent it well, it is more preferable that the entire surfaces of the partition wall 43 and the plate-like member 44 have liquid repellency.

板状部材の支持基板上からの剥がれを防止しつつ、インクの分離を効果的に行うという観点から、板状部材はくびれを持つことが重要である。くびれが無く板厚が厚い場合は、インクが板の上面のどこで分離するかの制御ができず、インクが分離する位置のばらつきが大きくなり、膜厚むらの原因となる。また、くびれが無く板厚が薄い場合は、基板との密着性が低下し板状部材が基板から剥離してしまう。くびれを設けることにより、板状部材の基板との密着性を保って剥離を抑制しつつ、くびれ部分の板厚の薄い部分からインクが分離するため、インクが分離する位置のばらつきが良好に抑えられ、膜厚むらが抑制される。   From the viewpoint of effectively separating the ink while preventing the peeling of the plate member from the support substrate, it is important that the plate member has a constriction. When there is no constriction and the plate is thick, it is impossible to control where the ink is separated on the upper surface of the plate, and the variation in the position where the ink is separated becomes large, resulting in uneven thickness. Moreover, when there is no constriction and a plate | board thickness is thin, adhesiveness with a board | substrate will fall and a plate-shaped member will peel from a board | substrate. By providing the constriction, the separation of the ink from the thin part of the constricted portion is suppressed while maintaining the adhesion of the plate-like member to the substrate and suppressing the separation, and the variation in the position where the ink is separated is suppressed satisfactorily. Therefore, the film thickness unevenness is suppressed.

インクの塗布工程に続く、インクの乾燥工程では、インクから溶媒が留去し、区画領域41bに有機EL材料が固定される。インクの乾燥温度は使用した溶媒などに応じて適宜選択すればよい。また、上記のような乾燥後、インクを焼成する工程を設けてもよい。   In the ink drying process following the ink application process, the solvent is distilled off from the ink, and the organic EL material is fixed to the partition region 41b. What is necessary is just to select the drying temperature of an ink suitably according to the solvent etc. which were used. Moreover, you may provide the process of baking an ink after the above drying.

以上、画素配列として列状に設けられる単色の有機EL素子が配列した有機EL素子用基板を例示したが、複数色の有機EL素子が周期的に配列した画素配列を有する有機EL素子用基板にも適用可能である。
このような複数色のインクの塗布工程を図8を参照しつつ説明する。図8中、上述の単色インクの塗布工程で既に説明した事項については、同じ符号を付け、その説明を省略する。
図8に示すように、インクの供給には、3つのノズル(3連ノズル)21が備えられた装置が用いられる。3連ノズルの各ノズルはそれぞれ、赤色発光材料を含むインクを吐出するノズルNR、緑色発光材料を含むインクを吐出するノズルNG、青色発光材料を含むインクを吐出するノズルNBである。3連ノズル21は、当初位置(P1)に待機する。所定の位置あわせ完了後、3つのノズルからそれぞれのインクを非断続的に連続して吐出しながら、移動方向Nm1に移動する。3連ノズル21が位置(P2)に到達すると、パネル1を搬送方向Ddに移動し、3連ノズル21が位置(P3)に達した時点でパネルの移動を停止する。3連ノズル21は、移動方向Nm3に移動し、位置(P4)に達した時点で停止する。このような稼働を繰り返し、順次パネル上の区画領域内の画素電極にインクが塗布される。
また、複数色の有機EL素子が周期的に配列した画素配列(例えば、有機ELカラーディスプレイの画素配列など)の場合には、複数色の発光領域をまとめて画素と呼び、その中の単色の発光領域について副画素と呼ぶ場合もあるが、この場合、副画素についても同様に、本願発明を適用することができる。
As described above, the organic EL element substrate in which the monochromatic organic EL elements arranged in a row as the pixel array is illustrated, but the organic EL element substrate having the pixel array in which the organic EL elements of a plurality of colors are periodically arrayed. Is also applicable.
Such an application process of a plurality of colors of ink will be described with reference to FIG. In FIG. 8, the matters already described in the above-described single color ink application step are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
As shown in FIG. 8, a device provided with three nozzles (triple nozzles) 21 is used for supplying ink. Each nozzle of the triple nozzle is a nozzle N B to the discharge nozzle N R for ejecting ink containing a red light-emitting material, a nozzle N G for ejecting ink containing a green light-emitting material, an ink containing a blue luminescent material. The triple nozzle 21 stands by at the initial position (P 1 ). After completion of the predetermined alignment, the ink moves in the moving direction Nm 1 while ejecting the respective inks intermittently and continuously from the three nozzles. When the triple nozzle 21 reaches the position (P 2 ), the panel 1 is moved in the transport direction Dd, and the movement of the panel is stopped when the triple nozzle 21 reaches the position (P 3 ). The triple nozzle 21 moves in the moving direction Nm 3 and stops when reaching the position (P 4 ). Such operation is repeated, and ink is sequentially applied to the pixel electrodes in the partition area on the panel.
In the case of a pixel array in which organic EL elements of a plurality of colors are periodically arranged (for example, a pixel array of an organic EL color display), the light emitting areas of the plurality of colors are collectively referred to as pixels, In some cases, the light emitting region is referred to as a sub-pixel. In this case, the present invention can be applied to the sub-pixel as well.

次に、本発明の製造方法により製造し得る有機EL装置に実装される有機EL素子の構造について、より具体的に説明する。
有機EL素子は、少なくとも一対の電極と、当該電極間に挟まれた発光層を含む有機EL層とで形成される積層体である。有機EL素子は、下記に説明するように、発光層以外にも、様々な種類の有機EL層を設けてよい。また、層の積層順序等も様々な変形例をとり得る。
Next, the structure of the organic EL element mounted on the organic EL device that can be manufactured by the manufacturing method of the present invention will be described more specifically.
The organic EL element is a laminate formed of at least a pair of electrodes and an organic EL layer including a light emitting layer sandwiched between the electrodes. As will be described below, the organic EL element may be provided with various types of organic EL layers in addition to the light emitting layer. In addition, the layer stacking order and the like can be variously modified.

本発明によって製造される有機EL素子は、下記の有機EL素子に限定されるわけではない。また、本発明の製造方法においては、有機EL素子を構成する有機EL層のうちの少なくとも一層は、インクを使用して、上記に説明した実施形態などに示されるように所定の塗布工程と乾燥工程とを含む工程によって形成された層である。したがって、他の層の形成においては、他の方法により層を形成させてもよい。
また、一般に、有機EL素子を構成する各有機EL層は極めて薄いものであり、その層形成には各種の成膜方法を採用し得る。そのため以下の説明においては、層形成のことを成膜という場合がある。
The organic EL device produced according to the present invention is not limited to the following organic EL device. Further, in the manufacturing method of the present invention, at least one of the organic EL layers constituting the organic EL element uses ink, and a predetermined coating process and drying as shown in the above-described embodiment and the like. A layer formed by a process including a process. Therefore, in forming other layers, the layers may be formed by other methods.
In general, each organic EL layer constituting the organic EL element is extremely thin, and various film forming methods can be employed for forming the layer. Therefore, in the following description, the layer formation may be referred to as film formation.

有機EL素子は、陽極、発光層及び陰極を必須に有するのに加えて、前記陽極と前記発光層との間、及び/又は前記発光層と前記陰極との間にさらに他の層を有することができる。   In addition to having an anode, a light emitting layer and a cathode as essential, the organic EL device has another layer between the anode and the light emitting layer and / or between the light emitting layer and the cathode. Can do.

有機EL素子の陽極としては、光を透過可能な透明電極を用いることが、陽極を通して発光する素子を構成しうるため好ましい。かかる透明電極としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物や金属の薄膜を用いることができ、透過率の高いものが好適に利用でき、用いる有機層により適宜、選択して用いる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ITO、インジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:略称IZO)から成る薄膜や、金、白金、銀、銅、アルミニウム、またはこれらの金属を少なくとも1種類以上含む合金等が用いられる。   As the anode of the organic EL element, it is preferable to use a transparent electrode that can transmit light because an element that emits light through the anode can be configured. As such a transparent electrode, a metal oxide, metal sulfide or metal thin film having high electrical conductivity can be used, and a material having a high transmittance can be suitably used, which is appropriately selected depending on the organic layer to be used. Specifically, at least one of a thin film made of indium oxide, zinc oxide, tin oxide, ITO, indium zinc oxide (abbreviated as IZO), gold, platinum, silver, copper, aluminum, or a metal thereof is used. An alloy containing more than one type is used.

陰極の材料としては、仕事関数の小さく発光層への電子注入が容易な材料及び/又は電
気伝導度が高い材料及び/又は可視光反射率の高い材料が好ましい。金属では、アルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属やIII−B族金属を用いることができる。
As a material for the cathode, a material having a small work function and easily injecting electrons into the light emitting layer and / or a material having a high electric conductivity and / or a material having a high visible light reflectance are preferable. As the metal, an alkali metal, an alkaline earth metal, a transition metal, or a group III-B metal can be used.

発光層は、有機化合物を含む。通常、主として蛍光またはりん光を発光する有機物(低分子化合物および高分子化合物)が含まれる。なお、さらにドーパント材料を含んでいてもよい。本発明において用いることができる発光層を形成する材料としては、例えば、以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、およびドーパント材料などが挙げられる。   The light emitting layer contains an organic compound. Usually, organic substances (low molecular compounds and high molecular compounds) that mainly emit fluorescence or phosphorescence are included. Further, a dopant material may be further included. Examples of the material for forming the light emitting layer that can be used in the present invention include the following dye-based materials, metal complex-based materials, polymer-based materials, and dopant materials.

色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマーなどが挙げられる。   Examples of dye-based materials include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivative compounds, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, pyrrole derivatives, thiophene ring compounds. Pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, pyrazoline dimers, and the like.

金属錯体系材料としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体など、中心金属に、Al、Zn、BeなどまたはTb、Eu、Dyなどの希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを有する金属錯体などを挙げることができる。   Examples of the metal complex material include metal complexes that emit light from triplet excited states such as iridium complexes and platinum complexes, aluminum quinolinol complexes, benzoquinolinol beryllium complexes, benzoxazolyl zinc complexes, benzothiazole zinc complexes, azomethyls. Zinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex, etc., which has Al, Zn, Be or the like as the central metal or rare earth metal such as Tb, Eu, or Dy, and the ligand is oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzo Examples thereof include metal complexes having an imidazole or quinoline structure.

高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどが挙げられる。   Polymeric materials include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, and polymerized chromophores and metal complex light emitting materials. Etc.

発光層中に発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的で、ドーパントを添加することができる。このようなドーパント材料としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、発光層の厚さは、通常約2nm〜2000nmである。   A dopant can be added to the light emitting layer for the purpose of improving the light emission efficiency and changing the light emission wavelength. Examples of such dopant materials include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazolone derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like. In addition, the thickness of the light emitting layer is usually about 2 nm to 2000 nm.

有機EL素子において、発光層は通常1層設けられるが、これに限らず2層以上の発光層を設けることもできる。その場合、2層以上の発光層は、直接接して積層することもでき、かかる層の間に発光層以外の層を設けることができる。   In an organic EL element, one light emitting layer is usually provided, but not limited to this, two or more light emitting layers may be provided. In that case, two or more light-emitting layers can be stacked in direct contact with each other, and a layer other than the light-emitting layer can be provided between the layers.

次に有機EL素子における陽極、発光層及び陰極以外の層について説明する。   Next, layers other than the anode, the light emitting layer, and the cathode in the organic EL element will be described.

陽極と発光層の間に設けるものとしては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層等があげられる。正孔注入層及び正孔輸送層の両方が設けられる場合、陽極に近い層が正孔注入層となり、発光層に近い層が正孔輸送層となる。また、正孔注入層、若しくは正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。   Examples of what is provided between the anode and the light emitting layer include a hole injection layer, a hole transport layer, and an electron block layer. When both the hole injection layer and the hole transport layer are provided, the layer close to the anode is the hole injection layer, and the layer close to the light emitting layer is the hole transport layer. In addition, when the hole injection layer or the hole transport layer has a function of blocking electron transport, these layers may also serve as an electron blocking layer.

正孔注入層は、陽極と正孔輸送層との間、または陽極と発光層との間に設けることができる。正孔注入層を構成する正孔注入層材料としては、特に制限はなく、公知の材料を適宜用いることができ、例えばフェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、酸化バナジウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体等が挙げられる。   The hole injection layer can be provided between the anode and the hole transport layer or between the anode and the light emitting layer. The hole injection layer material constituting the hole injection layer is not particularly limited, and a known material can be appropriately used. For example, a phenylamine-based, starburst-amine-based, phthalocyanine-based, hydrazone derivative, carbazole derivative, Examples include triazole derivatives, imidazole derivatives, oxadiazole derivatives having an amino group, oxides such as vanadium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, and aluminum oxide, amorphous carbon, polyaniline, and polythiophene derivatives.

正孔輸送層を構成する正孔輸送層材料としては特に制限はないが、例えばN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(3−メチルフェニル)4,4’−ジアミノビフェニル(TPD)、NPB(4,4’−bis[N−(1−naphthyl)−N−phenylamino]biphenyl)等の芳香族アミン誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体などが例示される。   The hole transport layer material constituting the hole transport layer is not particularly limited. For example, N, N′-diphenyl-N, N′-di (3-methylphenyl) 4,4′-diaminobiphenyl (TPD) , NPB (4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl), etc., polyvinylcarbazole or derivatives thereof, polysilane or derivatives thereof, aromatic in side chain or main chain Polysiloxane derivative having amine, pyrazoline derivative, arylamine derivative, stilbene derivative, triphenyldiamine derivative, polyaniline or derivative thereof, polythiophene or derivative thereof, polyarylamine or derivative thereof, polypyrrole or derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) Down) or a derivative thereof, or a poly (2,5-thienylene vinylene) or derivatives thereof.

陰極と発光層の間に設け得る層としては、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層等が挙げられる。電子注入層及び電子輸送層の両方が設けられる場合、陰極に近い層が電子注入層となり、発光層に近い層が電子輸送層となる。また、電子注入層、若しくは電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。   Examples of the layer that can be provided between the cathode and the light emitting layer include an electron injection layer, an electron transport layer, and a hole blocking layer. When both the electron injection layer and the electron transport layer are provided, the layer close to the cathode is the electron injection layer, and the layer close to the light emitting layer is the electron transport layer. In addition, when the electron injection layer or the electron transport layer has a function of blocking hole transport, these layers may also serve as the hole blocking layer.

電子注入層としては、発光層の種類に応じて、アルカリ金属やアルカリ土類金属、或いは前記金属を1種類以上含む合金、或いは前記金属の酸化物、ハロゲン化物及び炭酸化物、或いは前記物質の混合物などが挙げられる。   Depending on the type of the light emitting layer, the electron injection layer may be an alkali metal or alkaline earth metal, an alloy containing one or more of the above metals, or an oxide, halide and carbonate of the metal, or a mixture of the above substances. Etc.

電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、特に制限はなく公知のものが使用でき、例えば、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が例示される。   The electron transporting material constituting the electron transporting layer is not particularly limited, and known materials can be used. For example, oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or derivatives thereof, benzoquinone or derivatives thereof, naphthoquinone or derivatives thereof, anthraquinone or Derivatives thereof, tetracyanoanthraquinodimethane or derivatives thereof, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene or derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, poly Examples include fluorene or a derivative thereof.

さらに具体的には、有機EL素子は、下記の層構成のいずれかを有することができる:
a) 陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
b) 陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
c) 陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
d) 陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
e) 陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
f) 陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/陰極
g) 陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
h) 陽極/正孔注入層/発光層/陰極
i) 陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
j) 陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
k) 陽極/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
l) 陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
m) 陽極/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
n) 陽極/発光層/電子輸送層/陰極
o) 陽極/発光層/電子注入層/陰極
p) 陽極/発光層/陰極
(ここで、/は各層が隣接して積層されていることを示す。)
More specifically, the organic EL device can have any of the following layer configurations:
a) Anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode
b) Anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode
c) Anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode
d) Anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / cathode
e) Anode / hole injection layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode
f) Anode / hole injection layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode
g) Anode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode
h) Anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode
i) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode
j) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode
k) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode
l) Anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode
m) Anode / light-emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode
n) Anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode
o) Anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode
p) Anode / light-emitting layer / cathode (where / indicates that each layer is laminated adjacently)

本発明により製造し得る有機EL装置は、上記のようにして有機EL素子で構成された画素が複数実装された装置である。電気的配線、駆動手段等の設置については、通常の有機EL装置の製造における様々な態様を採用し得る。   The organic EL device that can be manufactured according to the present invention is a device in which a plurality of pixels composed of organic EL elements are mounted as described above. Regarding the installation of electrical wiring, driving means, etc., various modes in the manufacture of a normal organic EL device can be adopted.

本発明により製造し得る有機EL装置は、面状光源、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置、液晶表示装置のバックライトとして用いることができる。   The organic EL device that can be produced according to the present invention can be used as a backlight for a planar light source, a segment display device, a dot matrix display device, and a liquid crystal display device.

有機EL装置を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。また、パターン状の発光を得るためには、前記面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部の有機物層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極または陰極のいずれか一方、または両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号などを表示できるセグメントタイプの表示装置が得られる。更に、ドットマトリックス素子とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置するパッシブマトリックス用基板、あるいは薄膜トランジスタを配置した画素単位で制御を行うアクティブマトリックス用基板を用いればよい。さらに、発光色の異なる発光材料を塗り分ける方法や、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。これらの表示素子は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。   In order to obtain planar light emission using an organic EL device, the planar anode and cathode may be arranged so as to overlap each other. In addition, in order to obtain pattern-like light emission, a method of installing a mask provided with a pattern-like window on the surface of the planar light-emitting element, an organic material layer of a non-light-emitting portion is formed extremely thick and substantially non- There are a method of emitting light and a method of forming either one of the anode or the cathode or both electrodes in a pattern. By forming a pattern by any of these methods and arranging several electrodes so that they can be turned on and off independently, a segment type display device capable of displaying numbers, letters, simple symbols, and the like can be obtained. Furthermore, in order to obtain a dot matrix element, a passive matrix substrate in which anodes and cathodes are both formed in stripes and arranged so as to be orthogonal to each other, or an active matrix substrate in which thin film transistors are arranged and controlled in units of pixels is used. That's fine. Furthermore, partial color display and multi-color display can be performed by separately applying light emitting materials having different emission colors or using a color filter or a fluorescence conversion filter. These display elements can be used as display devices for computers, televisions, mobile terminals, mobile phones, car navigation systems, video camera viewfinders, and the like.

さらに、前記面状の発光装置は、自発光薄型であり、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、あるいは面状の照明用光源として好適に用いることができる。また、フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源や表示装置としても使用できる。   Furthermore, the planar light-emitting device is self-luminous and thin, and can be suitably used as a planar light source for a backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source. If a flexible substrate is used, it can be used as a curved light source or display device.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明の要旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, unless it exceeds the summary of this invention, it is not limited to a following example.

(実施例1)
上述の本発明の実施形態に示した、有機EL素子用基板1を用意した。以下の説明における符番は、上述の実施形態と同一である。

板状部材:ポリイミド樹脂製
板状部材の形状(図4−1参照)
くびれあり(くびれの最小板厚t:6μm)
断面の形状:膜厚方向の中心線付近に頂点をもつ山形形状
板状部材の配置間隔D:360μm
画素電極の配置間隔L:180μm
隔壁の配置間隔:60μm
Example 1
The organic EL element substrate 1 shown in the above-described embodiment of the present invention was prepared. The reference numerals in the following description are the same as those in the above-described embodiment.

Plate member: Made of polyimide resin
Shape of plate member (see Fig. 4-1)
Constriction (minimum thickness t of the constriction t: 6 μm)
Cross-sectional shape: Arrangement interval D of angle-shaped plate members having apexes near the center line in the film thickness direction D: 360 μm
Pixel electrode arrangement interval L: 180 μm
Partition spacing: 60 μm

画素電極41として、ITO電極により、陽極が形成されている。この基板を、RIE装置(SAMCO社製、RIE−200L)を用いて酸素プラズマ処理(3Pa、30W、30SCCM、3分)およびCF4プラズマ処理(20Pa、20W、20SCCM、2分)を行ったところ、隔壁43および板状部材44に対して選択的に撥液処理が施された。また、画素電極41および画素規制層42上は親液状態となった。 As the pixel electrode 41, an anode is formed by an ITO electrode. When this substrate was subjected to oxygen plasma treatment (3 Pa, 30 W, 30 SCCM, 3 minutes) and CF 4 plasma treatment (20 Pa, 20 W, 20 SCCM, 2 minutes) using an RIE apparatus (SAMCO, RIE-200L). The partition wall 43 and the plate-like member 44 were selectively subjected to a liquid repellent treatment. In addition, the pixel electrode 41 and the pixel regulation layer 42 are in a lyophilic state.

区画領域41bの画素電極41(陽極)上に、ノズルプリンティング装置(大日本スクリーン社製、NP−300G)を用い、H.C.Starck社製CLEVIOSTM.P CH8000 を50%、水を40%、エチレングリコールを10%添加して作製したインクを液柱にて塗布した。ノズルプリンティング装置のノズルから、途絶えることなく連続してインクを吐出させつつ、画素電極41上を通り、隔壁43に平行な方向にノズルを移動させ、基板上の一列をなす複数の画素電極41上にインクを塗布した。
視認に基づく、インク塗布直後(乾燥前)の断面図を図7−1に示す。また、視認および触診式段差計の測定結果に基づくインク乾燥後の断面図を図7−2に示す。
図7−1に示すようにインク塗布直後には、インクが画素電極41上および板状部材44上に非断続的に連続して塗布されていたが、この基板を大気中に放置したところ、隔壁上に塗布されたインクが均一に区画領域内に落ち込んだ。その後、溶媒が蒸発し、乾燥することにより、図7−2に示すような、画素間むらおよび画素内むらが小さい均一な層を形成することが出来た。
上面からマトリクス部を拡大視認したところ、各画素電極41上において塗り残し部位は見られず、画素電極41上に良好に膜形成されていることが確認された。
また、触針式段差計(KLA−Tencor Corporation社製P−16+)にて、形成された層の断面形状を評価したところ、良好な平坦性をもつ層が形成されていることが確認できた。
A nozzle printing device (NP-300G, manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.) is used on the pixel electrode 41 (anode) in the partition area 41b. C. An ink prepared by adding 50% of CLEVIOS P CH8000 manufactured by Starck, 40% of water, and 10% of ethylene glycol was applied in a liquid column. While continuously ejecting ink from the nozzles of the nozzle printing apparatus, the nozzles are moved in the direction parallel to the partition walls 43 through the pixel electrodes 41, and the plurality of pixel electrodes 41 forming a line on the substrate Ink was applied to the surface.
A cross-sectional view immediately after ink application (before drying) based on visual recognition is shown in FIG. In addition, FIG. 7-2 shows a cross-sectional view after drying the ink based on the measurement results of the visual and palpation type step meters.
As shown in FIG. 7A, immediately after ink application, the ink was applied intermittently and continuously on the pixel electrode 41 and the plate-like member 44, but when this substrate was left in the atmosphere, The ink applied on the partition walls uniformly dropped into the partition area. Thereafter, the solvent was evaporated and dried, so that a uniform layer with small unevenness between pixels and unevenness within pixels could be formed as shown in FIG.
When the matrix portion was enlarged and visually confirmed from the upper surface, no unpainted portion was seen on each pixel electrode 41, and it was confirmed that the film was satisfactorily formed on the pixel electrode 41.
Moreover, when the cross-sectional shape of the formed layer was evaluated with a stylus step meter (P-16 + manufactured by KLA-Tencor Corporation), it was confirmed that a layer having good flatness was formed. .

このように、ノズルプリンティング装置にてインクを塗布し、乾燥、焼成することにより、塗り残しがなく、良好な平坦性をもつ正孔注入層を形成することができた。この正孔注入層上に、同様にして発光層を形成し、発光層上に、真空蒸着法などを用いて陰極を形成することで、有機EL素子を製造できる。   Thus, by applying ink with a nozzle printing apparatus, drying and baking, it was possible to form a hole injection layer having no flatness and good flatness. An organic EL element can be manufactured by forming a light emitting layer on the hole injection layer in the same manner, and forming a cathode on the light emitting layer using a vacuum deposition method or the like.

(比較例1)
有機EL素子用基板1の代わりに、板状部材44を設けていない有機EL素子用基板2を使用し、その他の条件は、上記実施例1と同様のプロセスにより、基板上にインクの塗布を行った。なお、有機EL素子用基板2は、板状部材44を設けていない点以外の構成は、有機EL素子用基板1と同じである。
視認に基づくインク塗布直後(乾燥前)の断面図を図9−1に示す。また、視認および触診式段差計の測定結果に基づくインク乾燥後の断面図を図9−2に示す。
インク塗布直後の基板について、上面からマトリクス部を拡大視認したところ、インクが表面張力によりまとまろうとする力が働き、インクの量が、隔壁43に平行な方向に明らかな偏りを生じていることが確認された。また、触針式段差計(KLA−Tencor Corporation社製P−16+)にて、インク乾燥後に形成された層の断面形状を測定した結果からも、膜厚に明らかな偏りが確認された。
(Comparative Example 1)
Instead of the organic EL element substrate 1, the organic EL element substrate 2 not provided with the plate-like member 44 is used. The other conditions are the same as in Example 1 described above. went. The organic EL element substrate 2 is the same as the organic EL element substrate 1 except that the plate member 44 is not provided.
A cross-sectional view immediately after ink application based on visual recognition (before drying) is shown in FIG. Further, FIG. 9-2 shows a cross-sectional view after drying the ink based on the measurement results of the visual and palpation type step gauge.
When the matrix portion is enlarged and visually confirmed from the upper surface of the substrate immediately after the ink application, the force that the ink tries to gather due to the surface tension works, and the amount of the ink is clearly biased in the direction parallel to the partition wall 43. confirmed. Also, a clear bias in the film thickness was confirmed from the result of measuring the cross-sectional shape of the layer formed after drying the ink with a stylus type step gauge (P-16 + manufactured by KLA-Tencor Corporation).

(比較例2)
ストライプ形状の隔壁をもつ基板に代わり、インクジェット法などで一般的に用いられる、ボックス形状の隔壁を持つ有機EL素子用基板3を使用し、その他の条件は、上記実施例1と同様のプロセスにより、基板上にインクの塗布を行った。
視認に基づくインク塗布直後(乾燥前)の断面模式図を図10−1に示す。また、視認および触診式段差計の測定結果に基づくインク乾燥後の断面模式図を図10−2に示す。
インク塗布直後の基板について、上面からマトリクス部を拡大視認したところ、ボックス形状の隔壁のうち、スキャン方向に存在する隔壁上に連続塗布されたインクが隔壁上で不均一に分離したことが確認された。
また、触針式段差計(KLA−Tencor Corporation社製P−16+)にて、インク乾燥後に形成された層の断面形状を測定したところ、区画領域内の膜厚に明らかな膜厚分布があることが確認された。また、目視によっても、各区画領域間のむらがあることが確認された。
(Comparative Example 2)
Instead of the substrate having the stripe-shaped partition wall, the organic EL element substrate 3 having the box-shaped partition wall, which is generally used in an ink jet method, is used. Ink was applied on the substrate.
A schematic cross-sectional view immediately after ink application based on visual recognition (before drying) is shown in FIG. In addition, FIG. 10-2 shows a schematic cross-sectional view after ink drying based on the measurement results of the visual and palpation type step meters.
When the matrix portion was enlarged and visually confirmed from the upper surface of the substrate immediately after the ink application, it was confirmed that the ink continuously applied on the partition walls existing in the scanning direction among the box-shaped partition walls was unevenly separated on the partition walls. It was.
Moreover, when the cross-sectional shape of the layer formed after ink drying was measured with a stylus type step gauge (P-16 + manufactured by KLA-Tencor Corporation), there was a clear film thickness distribution in the film thickness in the partitioned region. It was confirmed. Also, it was confirmed by visual observation that there was unevenness between the divided areas.

本発明の有機EL素子用基板は、有機EL素子をノズルプリンティング法などの液柱塗布によって作製するのに好適である。該基板を使用することにより、塗りむらが小さく、高品質な有機EL素子および該有機EL素子を有する有機EL装置を得ることができるため、工業的に極めて有用である。   The organic EL element substrate of the present invention is suitable for producing an organic EL element by applying a liquid column such as a nozzle printing method. By using the substrate, it is possible to obtain a high-quality organic EL element and an organic EL device having the organic EL element with small coating unevenness, which is extremely useful industrially.

1 有機EL素子用基板
20 ノズル
21 3連ノズル
30 支持基板
40 マトリクス部
41 画素電極
41a 画素電極の列
41b 区画領域
42 画素規制層
43 隔壁
44,45,46,47,48,49 (インク流れ防止用)板状部材
44a,45a,46a,47a,48a,49a くびれ
44b,45b,46b,47b,48b,49b 断面
51 インク(乾燥前)
52 インク(乾燥後)
D 板状部材の配置間隔
L 画素電極の配置間隔
t 板状部材におけるくびれの最小板厚
Dd 有機EL素子用基板の搬送方向
Ip ノズルの軌道
R ノズル(赤色インク吐出用)
G ノズル(緑色インク吐出用)
B ノズル(青色インク吐出用)
Nm ノズルの移動方向
Nm1〜Nm3 ノズルの移動方向
1〜P4 位置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL element substrate 20 Nozzle 21 Triple nozzle 30 Support substrate 40 Matrix part 41 Pixel electrode 41a Pixel electrode row 41b Partition area 42 Pixel regulation layer 43 Partition 44, 45, 46, 47, 48, 49 (Ink flow prevention For plate) 44a, 45a, 46a, 47a, 48a, 49a Constriction 44b, 45b, 46b, 47b, 48b, 49b Cross section 51 Ink (before drying)
52 Ink (after drying)
D arrangement interval of plate-like member L arrangement interval of pixel electrode t minimum plate thickness of constriction in plate-like member Dd transport direction of substrate for organic EL element Ip nozzle trajectory N R nozzle (for red ink ejection)
NG nozzle (for discharging green ink)
N B nozzle (for blue ink ejection)
Nm Nozzle movement direction Nm 1 to Nm 3 Nozzle movement direction P 1 to P 4 positions

Claims (7)

支持基板上に、平行に配置された複数の隔壁と、
前記複数の隔壁に交差する方向に配置された複数のインク流れ防止用板状部材と、
前記隔壁と前記板状部材によって区画された領域に配置された少なくとも1以上の画素電極と、を有する有機EL素子用基板であって、
前記板状部材は、その両端部が前記隔壁に接して配置され、かつ、両端部から中央部に向けた厚みの減少によるくびれを有することを特徴とする有機EL素子用基板。
A plurality of partition walls arranged in parallel on the support substrate;
A plurality of ink flow preventing plate-like members arranged in a direction intersecting the plurality of partition walls;
An organic EL element substrate having the partition and at least one or more pixel electrodes arranged in a region partitioned by the plate-like member,
The plate-like member is an organic EL element substrate characterized in that both end portions thereof are arranged in contact with the partition wall and have a constriction due to a decrease in thickness from both end portions toward the central portion.
前記画素電極が、隔壁の長手方向に一定間隔に配置されている請求項1記載の有機EL素子用基板。   The organic EL element substrate according to claim 1, wherein the pixel electrodes are arranged at regular intervals in a longitudinal direction of the partition wall. 前記板状部材の隔壁の長手方向の配置間隔Dが、前記画素電極の配置間隔Lの2倍以上10倍以下である請求項2記載の有機EL素子用基板。   The organic EL element substrate according to claim 2, wherein an arrangement interval D in the longitudinal direction of the partition walls of the plate-like member is 2 to 10 times the arrangement interval L of the pixel electrodes. 前記板状部材におけるくびれの最小板厚tと、前記画素電極の配置間隔Lが、以下の式(1)を満たす請求項2または3のいずれかに記載の有機EL素子用基板。

L/60≦t≦L/15 (1)
4. The organic EL element substrate according to claim 2, wherein the minimum thickness t of the constriction in the plate-like member and the arrangement interval L of the pixel electrodes satisfy the following formula (1). 5.

L / 60 ≦ t ≦ L / 15 (1)
請求項1から4のいずれかに記載の有機EL素子用基板における2つの隔壁の間に、隔壁の長手方向に沿って、有機EL材料を含有するインクを液柱塗布により塗布し、乾燥して有機EL層を得ることを特徴とする有機EL層の製造方法。   An ink containing an organic EL material is applied between the two partition walls of the organic EL element substrate according to any one of claims 1 to 4 along the longitudinal direction of the partition walls by liquid column application, and dried. A method for producing an organic EL layer, comprising obtaining an organic EL layer. 請求項5記載の製造方法により得られる有機EL層を有する有機EL素子。   The organic EL element which has an organic EL layer obtained by the manufacturing method of Claim 5. 基板上に配置された互いに平行な2つの隔壁の間に、両端部を2つの隔壁に接して配置させて用いられるインク流れ防止用板状部材であって、該両端部から中央部に向けた厚みの減少によるくびれを有することを特徴とするインク流れ防止用板状部材。   An ink flow prevention plate-like member used by placing both end portions in contact with two partition walls between two parallel partition walls arranged on a substrate, and directed from the both end portions toward the central portion. A plate-like member for preventing ink flow, which has a constriction due to a decrease in thickness.
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