JP2011019113A - Solid-state imaging element - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solid-state imaging element without generating a lateral smear characteristic when imaging a high-luminance object, in a solid-state imaging element equipped with a buffer amplifier at the output of a column amplifier.SOLUTION: In this solid-state imaging element 101 including: pixels arranged in a two-dimensional shape, and each having a photoelectric conversion part for converting light to an electric signal; a plurality of vertical signal lines VLINE each used for receiving electric signals read from the pixels arranged in a column direction; column amplifiers CAMP each having a first constant current source for amplifying the electric signals read to the vertical signal line; buffer amplifiers BF arranged in series to the column amplifiers and each having a second constant current source; and horizontal output circuits for horizontally outputting electric signals output by the buffer amplifiers, a first grounding line 105 for grounding the first constant current sources of the column amplifiers and a second grounding line 107 for grounding the second constant current sources of the buffer amplifiers are arranged, and the first grounding line and the second grounding line are arranged independently of each other and grounded at both mutual ends.

Description

本発明は、被写体像を撮像するための固体撮像素子に関する。   The present invention relates to a solid-state image sensor for capturing a subject image.

近年、CCD型やCMOS型の固体撮像素子が使用された電子カメラが広く普及している。例えばCMOS型の固体撮像素子は、2次元行列状に配置された画素の光電変換部で入射光量に応じた電気信号に変換して行単位で各列に配置された垂直信号線に読み出し、カラムアンプで増幅後、行単位で読み出した信号を水平出力回路で列順に固体撮像素子の外部に出力する構成になっている。   In recent years, electronic cameras using a CCD type or CMOS type solid-state imaging device have been widely used. For example, a CMOS-type solid-state imaging device is converted into an electrical signal corresponding to the amount of incident light by a photoelectric conversion unit of pixels arranged in a two-dimensional matrix and is read out to a vertical signal line arranged in each column by column. After amplification by the amplifier, a signal read in units of rows is output to the outside of the solid-state imaging device in a column order by a horizontal output circuit.

一方、高感度化のためにカラムアンプのゲインを高くすると、負帰還量が低下して帯域幅が狭くなるのでカラムアンプの出力が安定するまでの時間が長くなり、読み出し時間が大幅に増加するという問題がある。そこで、この間題を解決するために、カラムアンプの出力にバッファアンプを設ける方法が考えられている(例えば、特許文献1参照)。   On the other hand, if the gain of the column amplifier is increased for higher sensitivity, the amount of negative feedback is reduced and the bandwidth is narrowed, so the time until the output of the column amplifier stabilizes increases and the readout time increases significantly. There is a problem. Therefore, in order to solve this problem, a method of providing a buffer amplifier at the output of the column amplifier is considered (for example, see Patent Document 1).

特開2008−034974号公報JP 2008-034974 A

ところが、カラムアンプの出力にバッファアンプを設けた場合、読み出し時間は改善するが、高輝度被写体が撮影画面内にある時の横スミア特性が大幅に悪化するという問題が生じる。   However, when the buffer amplifier is provided at the output of the column amplifier, the readout time is improved, but there is a problem that the lateral smear characteristic when the high-luminance subject is in the shooting screen is greatly deteriorated.

本発明の目的は、カラムアンプの出力にバッファアンプを設けた固体撮像素子において高輝度被写体を撮像する場合に横スミアのない高画質な画像を得ることができる固体撮像素子を提供することである。   An object of the present invention is to provide a solid-state imaging device capable of obtaining a high-quality image without lateral smear when imaging a high-luminance subject in a solid-state imaging device provided with a buffer amplifier at the output of a column amplifier. .

本発明者は、上記問題点の解析を行い、原因を突き止めた。即ち、上記問題は、MOSトランジスタのドレイン電流(Id)とドレインソース間電圧(Vds)のId/Vds特性に起因し、バッファアンプのコモン電流源のMOSトランジスタのVdsがカラムアンプの出力信号のレベルに応じて変化するために、高輝度画素の出力信号に対応するIdが低輝度画素のIdに対して相対的に増加し、このIdの差が行方向の接地線のレベル差となって現れていたのである。   The inventor has analyzed the above problems and found the cause. That is, the above problem is caused by the Id / Vds characteristics of the drain current (Id) and the drain-source voltage (Vds) of the MOS transistor, and the Vds of the MOS transistor of the common current source of the buffer amplifier is the level of the output signal of the column amplifier. Therefore, the Id corresponding to the output signal of the high-luminance pixel increases relative to the Id of the low-luminance pixel, and this Id difference appears as the level difference of the ground line in the row direction. It was.

本発明に係る固体撮像素子は、2次元状に配置され、光を電気信号に変換する光電変換部を有する画素と、列方向に配置された前記画素と列方向に接続され、前記画素から読み出される電気信号を受け取る複数の垂直信号線と、前記垂直信号線に読み出された前記電気信号を増幅する第1の定電流源を有するカラムアンプと、前記カラムアンプに直列に配置され、第2の定電流源を有するバッファアンプと、前記バッファアンプが出力する電気信号を水平方向に出力する水平出力回路とを有する固体撮像素子において、行方向に配置され、前記カラムアンプの第1の定電流源を接地する第1の接地線と、行方向に配置され、前記バッファアンプの第2の定電流源を接地する第2の接地線とを設け、前記第1の接地線と前記第2の接地線は独立して配置され、且つ前記第1の接地線と前記第2の接地線とは互いの両端部分で接地されたことを特徴とする。   A solid-state imaging device according to the present invention is arranged in a two-dimensional form, has a pixel having a photoelectric conversion unit that converts light into an electrical signal, and is connected to the pixel arranged in the column direction in the column direction, and read from the pixel. A plurality of vertical signal lines that receive electrical signals to be transmitted; a column amplifier that includes a first constant current source that amplifies the electrical signals read to the vertical signal lines; In a solid-state imaging device having a buffer amplifier having a constant current source and a horizontal output circuit for outputting an electric signal output from the buffer amplifier in the horizontal direction, the first constant current of the column amplifier is arranged in the row direction. A first ground line for grounding the source, and a second ground line arranged in the row direction and grounding the second constant current source of the buffer amplifier, and the first ground line and the second ground line are provided. Ground wire is independent Disposed Te, and said first ground line and the second ground line, characterized in that it is grounded at both ends of each other.

また、本発明に係る固体撮像素子は、2次元状に配置され、光を電気信号に変換する光電変換部を有する画素と、列方向に配置された前記画素と列方向に接続され、前記画素から読み出される電気信号を受け取る複数の垂直信号線と、前記垂直信号線に読み出された前記電気信号を増幅する第1の定電流源を有するカラムアンプと、前記カラムアンプに直列に配置され、第2の定電流源を有するバッファアンプと、前記バッファアンプが出力する電気信号を水平方向に出力する水平出力回路とを有する固体撮像素子において、前記バッファアンプの第2の定電流源をカスコード構成にしたことを特徴とする。   In addition, the solid-state imaging device according to the present invention is two-dimensionally arranged and includes a pixel having a photoelectric conversion unit that converts light into an electric signal, the pixel arranged in a column direction, and the pixel connected in the column direction. A plurality of vertical signal lines for receiving an electrical signal read from the column amplifier, a column amplifier having a first constant current source for amplifying the electrical signal read to the vertical signal line, and the column amplifier. In a solid-state imaging device having a buffer amplifier having a second constant current source and a horizontal output circuit for outputting an electric signal output from the buffer amplifier in a horizontal direction, the second constant current source of the buffer amplifier has a cascode configuration It is characterized by that.

本発明では、撮影画像に高輝度被写体がある場合でも横スミアの原因となる接地電位の変動を少なくできるので、横スミアのない高画質な画像を得ることができる。   In the present invention, even when there is a high-luminance subject in the photographed image, fluctuations in the ground potential that cause lateral smear can be reduced, so that a high-quality image without lateral smear can be obtained.

第1の実施形態に係る固体撮像素子101のブロック図である。1 is a block diagram of a solid-state image sensor 101 according to a first embodiment. 画素P(m,n)の回路図である。It is a circuit diagram of pixel P (m, n). タイミングチャートである。It is a timing chart. カラムアンプCAMP(n)とバッファBF(n)の接地部分を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the grounding part of column amplifier CAMP (n) and buffer BF (n). バッファBF(y)の接地GNDを分離しない時の行方向の電圧分布を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the voltage distribution of the row direction when not isolate | separating the ground GND of buffer BF (y). バッファBF(y)の接地GNDを分離した時の行方向の電圧分布を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the voltage distribution of the row direction when isolate | separating the ground GND of buffer BF (y). 第2の実施形態に係る固体撮像素子101bのブロック図である。It is a block diagram of the solid-state image sensor 101b which concerns on 2nd Embodiment. カラムアンプCAMP(n)とバッファBF’(n)の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of a column amplifier CAMP (n) and a buffer BF ′ (n). コモン電流源のカスコード接続の効果を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the effect of the cascode connection of a common current source.

以下、本発明に係る固体撮像素子の各実施形態について図面を用いて詳しく説明する。
(第1の実施形態)
図1は第1の実施形態に係る固体撮像素子101を示すブロック図である。固体撮像素子101は、M×N個の画素P(x,y)と、垂直信号線VLINE(y)と、定電流源PW(y)と、カラムアンプCAMP(y)と、垂直走査回路102と、水平出力回路103と、バッファBF(y)とで構成される。ここで、xは1〜Mの自然数で行番号を表し、yは1〜Nの自然数で列番号を表す。M×N個の画素P(x,y)は、固体撮像素子101の撮像部を構成し、M行N列のマトリクス状に配置されている。以降、特定の回路を例に挙げて説明する場合以外は、同様の回路を代表する形で(x),(y)および(x,y)のように表記するものとする。
Hereinafter, embodiments of the solid-state imaging device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing a solid-state imaging device 101 according to the first embodiment. The solid-state imaging device 101 includes M × N pixels P (x, y), a vertical signal line VLINE (y), a constant current source PW (y), a column amplifier CAMP (y), and a vertical scanning circuit 102. And a horizontal output circuit 103 and a buffer BF (y). Here, x represents a row number with a natural number of 1 to M, and y represents a column number with a natural number of 1 to N. The M × N pixels P (x, y) constitute the imaging unit of the solid-state imaging device 101 and are arranged in a matrix of M rows and N columns. Hereinafter, except for the case where a specific circuit is described as an example, the same circuit is represented as (x), (y) and (x, y).

各画素P(x,y)から読み出される信号は、それぞれの列に対応する垂直信号線VLINE(y)に読み出される。また、各列の垂直信号線VLINE(y)には、ソースフォロワ回路を構成する定電流源PW(y)が列毎に配置される。尚、各画素P(x,y)の接地は、各列毎に列方向に配置された画素接地線PGND(y)に接続される。さらに、画素接地線PGND(y)は、行方向に配置された少なくとも行の長さに相当する長さの第1の接地線105の各列位置a(y)で接続される。   A signal read from each pixel P (x, y) is read to the vertical signal line VLINE (y) corresponding to each column. Further, a constant current source PW (y) constituting a source follower circuit is arranged for each column on the vertical signal line VLINE (y) of each column. The ground of each pixel P (x, y) is connected to the pixel ground line PGND (y) arranged in the column direction for each column. Further, the pixel ground line PGND (y) is connected at each column position a (y) of the first ground line 105 having a length corresponding to at least the length of the row arranged in the row direction.

各画素P(x,y)から読み出される信号を増幅するカラムアンプCAMP(y)の正入力端子には、レファレンス電圧線106によってリファレンス電圧VREFが与えられる。また、バッファBF(y)は、行方向に配置された少なくとも行の長さに相当する長さの第2の接地線107の各列位置b(y)で接地される。そして、第1の接地線105と第2の接地線107は、行の両端位置(図1の場合では、左端の接続点G1および右端の接続点G2)で外部の接地GNDに接続される。   A reference voltage VREF is applied by a reference voltage line 106 to a positive input terminal of a column amplifier CAMP (y) that amplifies a signal read from each pixel P (x, y). Further, the buffer BF (y) is grounded at each column position b (y) of the second ground line 107 having a length corresponding to at least the length of the row arranged in the row direction. The first ground line 105 and the second ground line 107 are connected to the external ground GND at both end positions of the row (in the case of FIG. 1, the leftmost connection point G1 and the rightmost connection point G2).

ここで、本実施形態に係る固体撮像素子101は、カラムアンプCAMP(y)の後段にバッファBF(y)を配置する回路構成になっている。尚、バッファBF(y)をカラムアンプCAMP(y)の後段に配置する理由は以下の通りである。固体撮像素子101の高感度化を図るためにカラムアンプCAMP(y)のゲインを高く(例えば10倍以上)設定した場合、負帰還量が低下してアンプの帯域幅が減少し、特に負荷容量が大きい場合は出力が静定するまでに時間がかかるため、読み出し時間が大幅に増加するという問題が生じる。例えば図1のn列目において、バッファBF(n)がない場合且つカラムアンプCAMP(n)のゲインを高くした場合は、水平出力回路103のドライブのために比較的容量が大きいコンデンサCdまたはコンデンサCsが負荷容量となるので、上述の問題が顕著となる。そこで、この間題を解決するために、各列のカラムアンプCAMP(y)の後段にバッファBF(y)を配置する技術が知られている。   Here, the solid-state imaging device 101 according to the present embodiment has a circuit configuration in which the buffer BF (y) is disposed in the subsequent stage of the column amplifier CAMP (y). The reason why the buffer BF (y) is arranged at the subsequent stage of the column amplifier CAMP (y) is as follows. When the gain of the column amplifier CAMP (y) is set high (for example, 10 times or more) in order to increase the sensitivity of the solid-state imaging device 101, the negative feedback amount is reduced and the bandwidth of the amplifier is reduced. When the value is large, it takes time until the output is settled, resulting in a problem that the readout time is greatly increased. For example, in the n-th column of FIG. 1, when there is no buffer BF (n) and the gain of the column amplifier CAMP (n) is increased, a capacitor Cd or a capacitor having a relatively large capacity for driving the horizontal output circuit 103 is used. Since Cs becomes a load capacity, the above-mentioned problem becomes remarkable. In order to solve this problem, a technique is known in which a buffer BF (y) is arranged after the column amplifier CAMP (y) of each column.

ところが、カラムアンプCAMP(y)の後段にバッファBF(y)を設けた場合、上記の問題が解決されて読み出し時間を短縮できるものの高輝度被写体撮影時における横スミア特性が大幅に悪化するという問題が新たに生じる。尚、バッファBF(y)を設けた場合に、高輝度被写体撮影時における横スミア特性が大幅に悪化する理由は以下の通りである。従来技術ではバッファBF(y)の接地GNDと、カラムアンプCAMP(y)および画素接地線PGND(y)とが行方向に配置された同じ接地線に接続されていたため、高輝度被写体によってバッファBF(y)の接地電位が大きく変動した場合に、カラムアンプCAMP(y)および画素接地線PGND(y)の接地電位も変動し、その結果、横スミアとなって撮影画像に現れていた。尚、接地電位の変動メカニズムについては後で詳しく説明する。   However, when the buffer BF (y) is provided after the column amplifier CAMP (y), the above problem can be solved and the readout time can be shortened, but the lateral smear characteristic at the time of photographing a high-luminance subject is greatly deteriorated. Newly occurs. Incidentally, when the buffer BF (y) is provided, the reason why the lateral smear characteristic at the time of photographing a high brightness subject is greatly deteriorated is as follows. In the prior art, since the ground GND of the buffer BF (y), the column amplifier CAMP (y), and the pixel ground line PGND (y) are connected to the same ground line arranged in the row direction, the buffer BF When the ground potential of (y) greatly fluctuated, the ground potential of the column amplifier CAMP (y) and the pixel ground line PGND (y) also fluctuated, and as a result, a lateral smear appeared in the captured image. The ground potential variation mechanism will be described in detail later.

本実施形態に係る固体撮像素子101は、バッファBF(y)の接地GNDを接続する接地線と、カラムアンプCAMP(y)および画素接地線PGND(y)の接地GNDを接続する接地線とを分けることにより、カラムアンプCAMP(y)の後段にバッファBF(y)を配置した回路構成でも横スミアの発生を防止できる回路構成になっている。   The solid-state imaging device 101 according to the present embodiment includes a ground line that connects the ground GND of the buffer BF (y) and a ground line that connects the ground GND of the column amplifier CAMP (y) and the pixel ground line PGND (y). By dividing, even in a circuit configuration in which the buffer BF (y) is arranged at the subsequent stage of the column amplifier CAMP (y), the circuit configuration can prevent the occurrence of lateral smear.

次に、図1に示す固体撮像素子101の各部の回路について詳しく説明する。垂直走査回路102は、画素P(x,y)の信号を行単位で各列毎に配置された垂直信号線VLINE(y)に読み出すためのタイミング信号を出力する。例えば、m行目においては、画素P(m,1)から画素P(m,N)までのN列全ての画素に、タイミング信号φSEL(m),タイミング信号φRES(m),タイミング信号φTX(m)を与える。   Next, the circuit of each part of the solid-state image sensor 101 shown in FIG. 1 will be described in detail. The vertical scanning circuit 102 outputs a timing signal for reading the signal of the pixel P (x, y) to the vertical signal line VLINE (y) arranged for each column in a row unit. For example, in the m-th row, the timing signal φSEL (m), the timing signal φRES (m), and the timing signal φTX () are applied to all the N columns of pixels from the pixel P (m, 1) to the pixel P (m, N). m).

ここで、画素P(x,y)の構成について図2を用いて説明する。図2はm行n列目の画素P(m,n)の回路図を示している。尚、M×N個の各画素P(x,y)も同じ回路構成である。図2において、画素P(m,n)は、フォトダイオードPDと、転送用トランジスタTr1と、増幅用トランジスタTr2と、選択用トランジスタTr3と、リセット用トランジスタTr4とで構成される。尚、VDDは電源、GNDは接地、FDはフローティングデフュージョン部(浮遊拡散領域)を示している。また、タイミング信号φSEL(m),タイミング信号φRES(m),タイミング信号φTX(m),垂直信号線VLINE(n)は図1と同じものを示す。画素P(m,n)の接地GNDは画素接地線PGND(n)に接続され、さらに画素接地線PGND(n)は各列位置a(n)で第1の接地線105に接続される。   Here, the configuration of the pixel P (x, y) will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows a circuit diagram of the pixel P (m, n) in the m-th row and the n-th column. The M × N pixels P (x, y) have the same circuit configuration. In FIG. 2, a pixel P (m, n) includes a photodiode PD, a transfer transistor Tr1, an amplification transistor Tr2, a selection transistor Tr3, and a reset transistor Tr4. Note that VDD indicates a power source, GND indicates ground, and FD indicates a floating diffusion portion (floating diffusion region). The timing signal φSEL (m), the timing signal φRES (m), the timing signal φTX (m), and the vertical signal line VLINE (n) are the same as those in FIG. The ground GND of the pixel P (m, n) is connected to the pixel ground line PGND (n), and the pixel ground line PGND (n) is connected to the first ground line 105 at each column position a (n).

図2において、フォトダイオードPDに入射した光は光電変換され電荷として蓄積される。フォトダイオードPDに蓄積された電荷は、タイミング信号φTX(m)が転送用トランジスタTr1のゲートに入力されるとFD部に転送され、増幅用トランジスタTr2によって増幅される。増幅用トランジスタTr2によって増幅された信号は、タイミング信号φSEL(m)が選択用トランジスタTr3のゲートに入力されると垂直信号線VLINE(n)に読み出される。尚、リセット用トランジスタTr4のゲートにタイミング信号φRES(m)が入力されると、FD部をリセット電圧(VDD−Vt−ΔVt)にリセットする。ここで、Vtはしきい値電圧、ΔVtはバックゲート効果による変動分である。尚、各タイミング信号の動作については後で詳しく説明する。   In FIG. 2, light incident on the photodiode PD is photoelectrically converted and accumulated as electric charges. The charge accumulated in the photodiode PD is transferred to the FD section when the timing signal φTX (m) is input to the gate of the transfer transistor Tr1, and is amplified by the amplification transistor Tr2. The signal amplified by the amplification transistor Tr2 is read out to the vertical signal line VLINE (n) when the timing signal φSEL (m) is input to the gate of the selection transistor Tr3. When the timing signal φRES (m) is input to the gate of the reset transistor Tr4, the FD section is reset to the reset voltage (VDD−Vt−ΔVt). Here, Vt is a threshold voltage, and ΔVt is a fluctuation due to the back gate effect. The operation of each timing signal will be described in detail later.

このようにして、画素P(x,y)の信号は、対応するそれぞれの垂直信号線VLINE(y)に読み出された後、各列毎に配置されたカラムアンプCAMP(y)に入力される。   In this manner, the signal of the pixel P (x, y) is read out to the corresponding vertical signal line VLINE (y) and then input to the column amplifier CAMP (y) arranged for each column. The

ここで、図2において、垂直信号線VLINE(n)に読み出される信号について説明する。垂直信号線VLINE(n)に読み出される信号は、各画素P(m,n)から撮影画像の光情報を含む画像信号、または画像信号蓄積前のノイズ成分を含むダーク信号である。フォトダイオードPDに入射した被写体光は、フォトダイオードPDで電荷に光電変換される。電荷は、転送トランジスタTr1によってFD部に転送され、電荷に応じた電位が増幅トランジスタTr2のゲート電極に印加される。画像信号は、この時に選択トランジスタTr3を介して垂直信号線VLINE(n)に読み出された信号である。一方、ダーク信号は、リセットトランジスタTr4によってFD部に保持されている電荷をリセットした時にFD部の電位を増幅トランジスタTr2および選択トランジスタTr3を介して垂直信号線VLINE(n)に読み出された信号である。ここで、FD部の電位は、画素接地線PGND(n)に接続された画素の接地GNDに対する値である。   Here, a signal read to the vertical signal line VLINE (n) in FIG. 2 will be described. The signal read out to the vertical signal line VLINE (n) is an image signal including optical information of a captured image from each pixel P (m, n) or a dark signal including a noise component before image signal accumulation. Subject light incident on the photodiode PD is photoelectrically converted into electric charge by the photodiode PD. The charge is transferred to the FD portion by the transfer transistor Tr1, and a potential corresponding to the charge is applied to the gate electrode of the amplification transistor Tr2. The image signal is a signal read to the vertical signal line VLINE (n) through the selection transistor Tr3 at this time. On the other hand, the dark signal is a signal obtained by reading the potential of the FD portion to the vertical signal line VLINE (n) through the amplification transistor Tr2 and the selection transistor Tr3 when the charge held in the FD portion is reset by the reset transistor Tr4. It is. Here, the potential of the FD portion is a value with respect to the ground GND of the pixel connected to the pixel ground line PGND (n).

このようにして、画素P(m,n)から垂直信号線VLINE(n)に画像信号またはダーク信号が読み出され、カラムアンプCAMP(n)に入力される。尚、ここでは、画素P(m,n)について説明したが、他の画素P(x,y)についても同様である。   In this way, an image signal or a dark signal is read from the pixel P (m, n) to the vertical signal line VLINE (n) and input to the column amplifier CAMP (n). Although the pixel P (m, n) has been described here, the same applies to the other pixels P (x, y).

次に、n列目のカラムアンプCAMP(n)について説明する。尚、他のカラムアンプCAMP(1)からCAMP(N)までについてもn列目のカラムアンプCAMP(n)と同様に動作する。   Next, the column amplifier CAMP (n) in the nth column will be described. The other column amplifiers CAMP (1) to CAMP (N) operate in the same manner as the column amplifier CAMP (n) in the nth column.

図1のカラムアンプCAMP(n)は、コンデンサCfとコンデンサCinを含み、これらのコンデンサの容量値の比で決まる増幅率の反転増幅器である。また、カラムアンプCAMP(n)の帰還回路のコンデンサCfの両端には、アンプリセット用トランジスタTr5のソースとドレインが接続されている。タイミング信号φCARSTをトランジスタTr5のゲートに与えると、コンデンサCfに蓄積された電荷は放電してリセットされる。尚、本固体撮像素子101は、リセット後に画素から読み出したダーク信号をコンデンサCinに蓄積し、次いで画像信号を読み出す。これにより、カラムアンプCAMP(n)は、読み出す際に画像信号からダーク信号を減算し、画素間のばらつきを除去する。   The column amplifier CAMP (n) in FIG. 1 is an inverting amplifier having an amplification factor that includes a capacitor Cf and a capacitor Cin and is determined by a ratio of capacitance values of these capacitors. The source and drain of the amplifier reset transistor Tr5 are connected to both ends of the capacitor Cf of the feedback circuit of the column amplifier CAMP (n). When the timing signal φCARST is applied to the gate of the transistor Tr5, the charge accumulated in the capacitor Cf is discharged and reset. Note that the solid-state imaging device 101 accumulates the dark signal read from the pixel after reset in the capacitor Cin, and then reads the image signal. Thereby, the column amplifier CAMP (n) subtracts the dark signal from the image signal when reading, and removes the variation between the pixels.

カラムアンプCAMP(n)の出力側は、画像信号蓄積用トランジスタTr6およびダーク信号蓄積用トランジスタTr7のドレインに接続される。カラムアンプCAMP(n)がリセットされた後、タイミング信号φTDがダーク信号蓄積用トランジスタTr7のゲートに入力されるとダーク信号蓄積用トランジスタTr7がオンして、コンデンサCdがカラムアンプCAMP(n)の出力電圧になるまで充電される。画素から画像信号が読み出された後、タイミング信号φTSが画像信号蓄積用トランジスタTr6のゲートに入力されると、画像信号蓄積用トランジスタTr6がオンして、コンデンサCsがカラムアンプCAMP(n)の出力電圧になるまで充電される。コンデンサCsの電圧は画像信号として、コンデンサCdの電圧はダーク信号(カラムアンプCAMPのオフセット信号)として、それぞれ水平出力回路103に入力される。   The output side of the column amplifier CAMP (n) is connected to the drains of the image signal storage transistor Tr6 and the dark signal storage transistor Tr7. After the column amplifier CAMP (n) is reset, when the timing signal φTD is input to the gate of the dark signal storage transistor Tr7, the dark signal storage transistor Tr7 is turned on and the capacitor Cd is connected to the column amplifier CAMP (n). It is charged until the output voltage is reached. After the image signal is read from the pixel, when the timing signal φTS is input to the gate of the image signal storage transistor Tr6, the image signal storage transistor Tr6 is turned on, and the capacitor Cs is connected to the column amplifier CAMP (n). It is charged until the output voltage is reached. The voltage of the capacitor Cs is input to the horizontal output circuit 103 as an image signal, and the voltage of the capacitor Cd is input as a dark signal (offset signal of the column amplifier CAMP).

水平出力回路103は、各列毎のコンデンサCsに蓄積された画像信号と、コンデンサCdに蓄積されたダーク信号とをそれぞれ入力して、行単位で列順に外部に出力する。この時、カラムアンプCAMP(y)の列間のばらつきを少なくするために、水平出力回路103の出力用差動アンプ(非図示)でコンデンサCsに蓄積された画像信号からコンデンサCdに蓄積されたダーク信号を引き算し、カラムアンプCAMP(y)の列間ばらつきを除去した信号を固体撮像素子101の外部に出力する。尚、画像信号からダーク信号を引き算する処理は、固体撮像素子101内で行っても構わないし、固体撮像素子101から画像信号とダーク信号とを別々に出力して外部で画像信号からダーク信号を引き算するようにしても構わない。   The horizontal output circuit 103 receives the image signal accumulated in the capacitor Cs for each column and the dark signal accumulated in the capacitor Cd, and outputs them to the outside in the column order in units of rows. At this time, in order to reduce the variation between the columns of the column amplifier CAMP (y), the image signal stored in the capacitor Cs by the output differential amplifier (not shown) of the horizontal output circuit 103 is stored in the capacitor Cd. The dark signal is subtracted, and a signal from which the inter-column variation of the column amplifier CAMP (y) is removed is output to the outside of the solid-state imaging device 101. The process of subtracting the dark signal from the image signal may be performed in the solid-state image sensor 101. The image signal and the dark signal are separately output from the solid-state image sensor 101, and the dark signal is externally generated from the image signal. You may make it subtract.

ここで、各画素P(x,y)からダーク信号および画像信号を読み出して、各列のコンデンサCdおよびコンデンサCsに各信号が保持されるまでの一連の動作について、図3のタイミングチャートを用いて説明する。   Here, a series of operations from reading out the dark signal and the image signal from each pixel P (x, y) until each signal is held in the capacitor Cd and the capacitor Cs in each column will be described with reference to the timing chart of FIG. I will explain.

図3は、m行目と(m+1)行目から信号を読み出す時のタイミングを示している。図3において、期間T1は(m−1)行目のN個の画素P(m−1,y)から読み出した1行分の信号を列順に水平出力回路103から読み出して固体撮像素子101の外部に出力する期間を示している。   FIG. 3 shows the timing when signals are read from the m-th row and the (m + 1) -th row. In FIG. 3, during a period T <b> 1, signals for one row read from N pixels P (m−1, y) in the (m−1) th row are read from the horizontal output circuit 103 in the column order, and It shows the period of output to the outside.

次の期間T2は、m行目の各画素P(m,y)から1行分のダーク信号および画像信号を読み出して、各列のコンデンサCdおよびコンデンサCsに各信号が保持されるまでの期間を示している。期間T2の開始時、先ず、タイミング信号φSEL(m)が期間T5でオンになると同時に、タイミング信号φRES(m)が期間T5でオフになる。タイミング信号φSEL(m)がオン,タイミング信号φTX(m)がオフ,タイミング信号φRES(m)がオフなので、図2で説明したように、リセット時のFD部の電荷、つまりダーク信号が増幅トランジスタTr2および選択トランジスタTr3を介して垂直信号線VLINE(y)に読み出される。   The next period T2 is a period from when the dark signal and the image signal for one row are read from each pixel P (m, y) in the m-th row until each signal is held in the capacitor Cd and the capacitor Cs in each column. Is shown. At the start of the period T2, first, the timing signal φSEL (m) is turned on in the period T5, and at the same time, the timing signal φRES (m) is turned off in the period T5. Since the timing signal φSEL (m) is on, the timing signal φTX (m) is off, and the timing signal φRES (m) is off, as described with reference to FIG. Data is read out to the vertical signal line VLINE (y) via Tr2 and the selection transistor Tr3.

次に、期間T6でタイミング信号φTD(m)がオンになるので、期間T6の間、垂直信号線VLINE(y)に読み出されたダーク信号は、カラムアンプCAMP(y)およびトランジスタTr7を介してタイミング信号φTD(m)がオフするまで各列のコンデンサCdに蓄積される。   Next, since the timing signal φTD (m) is turned on in the period T6, the dark signal read out to the vertical signal line VLINE (y) during the period T6 passes through the column amplifier CAMP (y) and the transistor Tr7. Until the timing signal φTD (m) is turned off.

次に、タイミング信号φTD(m)がオフした後、タイミング信号φTX(m)が期間T7でオンになる。期間T7では、被写体光を入射するフォトダイオードPDに蓄積された電荷は、転送トランジスタTr1を介してFD部に転送される。FD部に転送された電荷に対応する電位が増幅トランジスタTr2のゲートに印加され、画像信号が増幅トランジスタTr2から出力されて、選択トランジスタTr3を介して垂直信号線VLINE(y)に読み出される。   Next, after the timing signal φTD (m) is turned off, the timing signal φTX (m) is turned on in the period T7. In the period T7, the electric charge accumulated in the photodiode PD that enters the subject light is transferred to the FD portion via the transfer transistor Tr1. A potential corresponding to the charge transferred to the FD unit is applied to the gate of the amplification transistor Tr2, and an image signal is output from the amplification transistor Tr2 and read out to the vertical signal line VLINE (y) via the selection transistor Tr3.

次に、期間T8でタイミング信号φTSがオンになるので、垂直信号線VLINE(y)に読み出された画像信号は、カラムアンプCAMP(y)およびトランジスタTr6を介してタイミング信号φTSがオフするまで各列のコンデンサCsに蓄積される。   Next, since the timing signal φTS is turned on in the period T8, the image signal read to the vertical signal line VLINE (y) is turned off until the timing signal φTS is turned off via the column amplifier CAMP (y) and the transistor Tr6. Accumulated in the capacitor Cs of each column.

ダーク信号と画像信号とがそれぞれ各列のコンデンサCdとコンデンサCsとに蓄積されると、m行目の各画素P(m,y)から1行分のダーク信号および画像信号の読み出しは終了し、タイミング信号φSEL(m)はオフに、タイミング信号φRES(m)はオンに戻る。   When the dark signal and the image signal are respectively stored in the capacitor Cd and the capacitor Cs in each column, reading of the dark signal and the image signal for one row from each pixel P (m, y) in the m-th row is completed. The timing signal φSEL (m) is turned off and the timing signal φRES (m) is turned on.

次の期間T3では、水平出力回路103は、各列のコンデンサCdとコンデンサCsとにそれぞれ蓄積されたm行目のN列分のダーク信号と画像信号とを列順に読み出して固体撮像素子101の外部に出力する。   In the next period T3, the horizontal output circuit 103 reads the dark signals and image signals for the N columns of the m-th row stored in the capacitors Cd and Cs of each column in order of the columns, and Output to the outside.

次の期間T4では、期間T2の各タイミング信号φSEL(m),φRES(m),φTX(m)と同様に、(m+1)行目の各タイミング信号φSEL(m+1),φRES(m+1),φTX(m+1)によって、(m+1)行目の各画素P(m+1,y)からダーク信号と画像信号とを読み出して、それぞれ各列のコンデンサCdとコンデンサCsとに蓄積する。各列のコンデンサCdとコンデンサCsとにそれぞれ蓄積された(m+1)行目のN列分のダーク信号と画像信号は、水平出力回路103によって列順に読み出され、固体撮像素子101の外部に出力される。   In the next period T4, the timing signals φSEL (m + 1), φRES (m + 1), φTX in the (m + 1) th row are the same as the timing signals φSEL (m), φRES (m), φTX (m) in the period T2. By (m + 1), the dark signal and the image signal are read from each pixel P (m + 1, y) in the (m + 1) th row and stored in the capacitor Cd and the capacitor Cs in each column, respectively. The dark signal and the image signal for the N columns of the (m + 1) th row respectively stored in the capacitor Cd and the capacitor Cs of each column are read in the column order by the horizontal output circuit 103 and output to the outside of the solid-state imaging device 101. Is done.

次に、本実施形態に係る固体撮像素子101の特徴とする部分について詳しく説明する。本実施形態に係る固体撮像素子101は、カラムアンプCAMP(y)の後段に配置されたバッファBF(y)の接地GNDが接続される第2の接地線105と、カラムアンプCAMP(n)の接地GNDおよび画素接地線PGND(n)が接続される第1の接地線105とが独立して別に配線されていることである。   Next, the characteristic part of the solid-state imaging device 101 according to the present embodiment will be described in detail. The solid-state imaging device 101 according to the present embodiment includes a second ground line 105 connected to the ground GND of the buffer BF (y) arranged at the subsequent stage of the column amplifier CAMP (y), and the column amplifier CAMP (n). That is, the ground GND and the first ground line 105 to which the pixel ground line PGND (n) is connected are independently wired separately.

ここで、本実施形態の特徴が分かり易いように、n列目のカラムアンプCAMP(n)およびバッファBF(n)の回路部分を抜き出した図4を用いて詳しく説明する。尚、図1と同符号のものは同じものを示す。図4において、バッファBF(n)の接地GNDが接続される第2の接地線107と、カラムアンプCAMP(n)の接地GNDおよび画素接地線PGND(n)が接続される第1の接地線105とは、それぞれ行の両端の接続点G1および接続点G2の位置で互いに接続される以外は別系統の独立した接地配線として固体撮像素子101の行方向に並列に配置されている。   Here, in order to make the features of the present embodiment easy to understand, a detailed description will be given with reference to FIG. 4 in which circuit portions of the n-th column amplifier CAMP (n) and the buffer BF (n) are extracted. 1 denote the same components as those in FIG. 4, the second ground line 107 to which the ground GND of the buffer BF (n) is connected, and the first ground line to which the ground GND of the column amplifier CAMP (n) and the pixel ground line PGND (n) are connected. 105 are arranged in parallel in the row direction of the solid-state imaging device 101 as independent ground wires of different systems except that they are connected to each other at the positions of the connection points G1 and G2 at both ends of the row.

図4に示したように、バッファBF(n)の接地GNDを接続する第2の接地線107と、カラムアンプCAMP(n)の接地GNDおよび画素接地線PGND(n)を接続する第1の接地線105とを分離して行方向に配置することにより、カラムアンプCAMP(n)の後段にバッファBF(n)を配置した回路構成においてバッファBF(n)の接地電位が変動した場合でもカラムアンプCAMP(n)および画素接地線PGND(n)の接地電位の変動を抑えることができ、この結果、高輝度被写体が撮影画面内にある場合でも横スミアの発生を防止することができる。   As shown in FIG. 4, the second ground line 107 that connects the ground GND of the buffer BF (n), and the first ground that connects the ground GND of the column amplifier CAMP (n) and the pixel ground line PGND (n). Even if the ground potential of the buffer BF (n) fluctuates in the circuit configuration in which the buffer BF (n) is arranged at the subsequent stage of the column amplifier CAMP (n) by separating the ground line 105 from the column line CAMP (n). Variations in the ground potential of the amplifier CAMP (n) and the pixel ground line PGND (n) can be suppressed. As a result, occurrence of lateral smear can be prevented even when a high-luminance subject is in the shooting screen.

ここで、バッファBF(n)の接地GNDと、カラムアンプCAMP(n)の接地GNDおよび画素接地線PGND(n)とを共通の接地線に接続する場合の接地線の電位変動について、図5を用いて説明する。尚、図5において、図1および図4と同符号のものは同じものを示す。図5は、共通の接地線201の各列に、定電流源PW(y)とカラムアンプCAMP(y)とバッファBF(y)の3つの電流源が接続点p(y)で接続されている。尚、接地点p(y)は、各列の画素接地線PGND(y)の接続点でもある。また、図5では接地点p(y)の一点に接続されているように描いてあるが、実際の回路パターンでは、定電流源PW(y)とカラムアンプCAMP(y)とバッファBF(y)の接続点は接地線201上で完全に同一であるとは限らず、互いに近傍位置に接続されている場合を含むが、図5では分かり易いように各列毎にほぼ同一点と見なして描いてある。   Here, the potential variation of the ground line when the ground GND of the buffer BF (n) and the ground GND of the column amplifier CAMP (n) and the pixel ground line PGND (n) are connected to a common ground line is shown in FIG. Will be described. In FIG. 5, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 4 denote the same components. In FIG. 5, three current sources of a constant current source PW (y), a column amplifier CAMP (y), and a buffer BF (y) are connected to each column of the common ground line 201 at a connection point p (y). Yes. The ground point p (y) is also a connection point of the pixel ground line PGND (y) in each column. Further, in FIG. 5, it is depicted as being connected to one point of the ground point p (y), but in an actual circuit pattern, the constant current source PW (y), the column amplifier CAMP (y), and the buffer BF (y ) Are not necessarily the same on the ground line 201, and include cases where they are connected to positions close to each other. However, in FIG. It is drawn.

図5において、電流I1(y)は定電流源PW(y)の負荷電流、電流I2(y)はカラムアンプCAMP(y)のコモン電流源の負荷電流、電流I3(y)はバッファBF(y)のコモン電流源の負荷電流をそれぞれ示している。ここで、特に画素数の多い固体撮像素子の場合、接地線201には数千個の定電流源PW(y)とカラムアンプCAMP(y)とバッファBF(y)が各列毎の接地点p(y)で共通の接地線201に接続される。そして、マスク・パターンの構成上、接地線201の左右端(チップの左右端)で外部GNDに接地される。   In FIG. 5, a current I1 (y) is a load current of a constant current source PW (y), a current I2 (y) is a load current of a common current source of a column amplifier CAMP (y), and a current I3 (y) is a buffer BF ( The load current of the common current source of y) is shown respectively. Here, particularly in the case of a solid-state imaging device having a large number of pixels, the ground line 201 includes thousands of constant current sources PW (y), a column amplifier CAMP (y), and a buffer BF (y). The common ground line 201 is connected at p (y). In view of the mask pattern configuration, the ground line 201 is grounded to the external GND at the left and right ends (left and right ends of the chip).

ところが、比較的大型の固体撮像素子では、接地線201の全長が数十ミリオーダーにもなるため、そのライン上に並列配置された数千個の各列の回路から動作電流が接地線201に流れ込む。この結果、この電流と分布抵抗rによって生じる電位差が列間で積算されるので、行の中心付近の接地線201の電位が高くなり、行の両端の外部GNDに向けて低くなるように接地線201の各列位置によって電位が変化する。また、各列の画素接地線PGND(y)も接地線201を基点として垂直方向に配線されているため、各画素P(x,y)の接地電位も水平方向に同様に分布する。図5のグラフ(a)は、接地線201が列間の抵抗rで分布した配線路であると仮定した場合の接地線201の行方向の電位変化の様子を示した図で、紙面上方に描いた接地線201の行方向の位置に対応させて描いてある。従って、横軸は上図に対応する接地線201の行方向の位置を示し、縦軸は外部GNDに対する電位を示す。   However, in a relatively large solid-state imaging device, the total length of the ground line 201 is on the order of several tens of millimeters, so that an operating current is supplied to the ground line 201 from several thousands of circuits arranged in parallel on the line. Flows in. As a result, the potential difference caused by this current and the distributed resistance r is integrated between the columns, so that the potential of the ground line 201 near the center of the row increases and decreases toward the external GND at both ends of the row. The potential changes depending on the position of each column 201. Further, since the pixel ground line PGND (y) of each column is wired in the vertical direction with the ground line 201 as a base point, the ground potential of each pixel P (x, y) is similarly distributed in the horizontal direction. A graph (a) in FIG. 5 is a diagram showing a state of potential change in the row direction of the ground line 201 when it is assumed that the ground line 201 is a wiring path distributed by the resistance r between the columns. It is drawn corresponding to the position of the drawn ground line 201 in the row direction. Therefore, the horizontal axis indicates the position in the row direction of the ground line 201 corresponding to the above figure, and the vertical axis indicates the potential with respect to the external GND.

図5のグラフ(a)において、先に説明したように、接地線201の行の両端は外部GNDに接地されているので電位は0(外部接地電位)であるが、特性301のように行の中央に向かって接地線201の電位が高くなっていく。理想的には、特性303のように、各列の接地点p(y)によらず一定の電位にならなければならないが、各画素P(x,y)のFD部は、VDDを基準としてリセットされ、ダーク信号や画像信号もそのリセット電位を基準として発生するので、画素間の接地電位に差が生じても、時間的な変化がなく一定であれば、読み出し時に相殺されるので信号出力に影響を与えることはない。   In the graph (a) in FIG. 5, as described above, both ends of the row of the ground line 201 are grounded to the external GND, so the potential is 0 (external ground potential). The potential of the ground line 201 becomes higher toward the center of the line. Ideally, as in the characteristic 303, the potential must be constant regardless of the ground point p (y) of each column, but the FD portion of each pixel P (x, y) is based on VDD. Reset and dark signals and image signals are generated based on the reset potential, so even if there is a difference in ground potential between pixels, if there is no temporal change and it is constant, it will be canceled at the time of readout, so signal output Will not be affected.

ところが、2次元マトリクス状に配置された有効画素領域に、照明などの高輝度被写体が含まれる場合、バッファBF(y)のコモン電流源から接地線201の接地点p(y)に流れ込む電流も大きく変動し、列間抵抗rで分布した接地線201の当該行の電位が全体的に高くなってしまう。尚、各列の個々のバッファBF(y)のコモン電流源の電流変化が数μA程度の僅かであっても、高輝度被写体の大きさが数百から数千列分にもなると、総合的な電流変動は数mAから数十mAにもなることがある。このため、このような高輝度被写体が含まれる行が選択された場合、リセット時の接地線201の電位に対して、各画素P(x,y)から信号を読み出した時のの接地線201の電位が数十から数百μVのオーダーで変化する。そして、高輝度被写体がある行のダーク信号を読み出す際の接地線電位が隣接する高輝度被写体がない行の接地線電位と比べて僅かなレベル差が生じ、このレベル差は画素のFDの接地電位の差となるため、ダーク信号の出力電圧にも僅かなレベル差が生じる。この結果、撮影画像の高輝度被写体部分の両側に白スミアが発生することになる。実際の画像では、夜間の街灯のように照明が極端に明るく、背景が極端に暗い画像において、微小なレベル差であっても知覚できる程度の横方向スミアとなって現れてしまう。尚、バッファBF(y)のコモン電流源の電流が大きく変動する理由については第2の実施形態の等価回路図で詳しく説明する。   However, when a high-luminance subject such as illumination is included in the effective pixel area arranged in a two-dimensional matrix, the current flowing from the common current source of the buffer BF (y) to the ground point p (y) of the ground line 201 is also present. The potential of the corresponding row of the ground line 201 distributed greatly due to the inter-column resistance r increases as a whole. Even if the current change of the common current source of each buffer BF (y) in each column is as small as several μA, if the size of the high-brightness object is several hundred to several thousand columns, A small current fluctuation may be several mA to several tens of mA. Therefore, when a row including such a high brightness subject is selected, the ground line 201 when a signal is read from each pixel P (x, y) with respect to the potential of the ground line 201 at the time of resetting. Changes in the order of several tens to several hundreds μV. Then, a slight difference in level occurs between the ground line potential when reading a dark signal of a row with a high-luminance subject and the ground line potential of a row without an adjacent high-luminance subject, and this level difference is caused by the grounding of the FD of the pixel. Because of the potential difference, a slight level difference also occurs in the dark signal output voltage. As a result, white smear occurs on both sides of the high brightness subject portion of the photographed image. In an actual image, in an image where the illumination is extremely bright like a night street lamp and the background is extremely dark, a lateral smear that can be perceived even with a slight level difference appears. The reason why the current of the common current source of the buffer BF (y) largely fluctuates will be described in detail with reference to an equivalent circuit diagram of the second embodiment.

上記の現象により、例えばグラフ(a)において、高輝度被写体がない行のダーク信号の接地線201の電位変化を特性302、高輝度被写体がある行のダーク信号の接地線201の電位変化を特性301とすると、特性301の電位は特性302の電位に比べて高くなり、実際には僅かな電位差が生じる。この電位差は各画素P(x,y)のFD部の接地電位の差となって増幅トランジスタTr2に伝わるため、ダーク信号の出力に僅かの差が生じ、最終的に出力される画像の高輝度部分がある行に横スミアが現れることになる。尚、従来は、接地線のインピーダンスをできるだけ低くなるように、GND配線幅を太くする対策などが行われていたが、太さにもチップ面積の増大など設計上の限界があり、残留抵抗分があるため本質的な問題は解決されていなかった。   Due to the above phenomenon, for example, in the graph (a), the potential change of the dark signal ground line 201 in the row where there is no high-luminance subject is characteristic 302, and the potential change of the dark signal ground line 201 in the row where there is a high-luminance subject is characteristic. If 301, the potential of the characteristic 301 is higher than the potential of the characteristic 302, and a slight potential difference actually occurs. Since this potential difference is transmitted to the amplification transistor Tr2 as a difference in ground potential of the FD portion of each pixel P (x, y), a slight difference occurs in the output of the dark signal, and the high luminance of the image finally output A horizontal smear will appear on the line where the part is located. Conventionally, measures have been taken to increase the GND wiring width so as to make the impedance of the ground line as low as possible. However, there is a design limit such as an increase in the chip area in the thickness, and the residual resistance component is reduced. Therefore, the essential problem was not solved.

本実施形態に係る固体撮像素子101は、図1に示したように、バッファBF(y)の接地GNDが接続される第2の接地線107と、カラムアンプCAMP(y)の接地GNDおよび画素接地線PGND(y)が接続される第1の接地線105とが、それぞれ行の両端の接続点G1および接続点G2を除いて別系統の接地配線として並列に配置されている。これにより、図6に示すように、バッファBF(y)の接地GNDが接続される第2の接地線107と、カラムアンプCAMP(y)の接地GNDおよび画素接地線PGND(y)とに別々に負荷電流が流れることになり、カラムアンプCAMP(y)の接地GNDおよび画素接地線PGND(y)に対するバッファBF(y)のコモン電流源の負荷電流の変動の影響がなくなる。   As shown in FIG. 1, the solid-state imaging device 101 according to the present embodiment includes the second ground line 107 to which the ground GND of the buffer BF (y) is connected, the ground GND of the column amplifier CAMP (y), and the pixel. The first ground line 105 to which the ground line PGND (y) is connected is arranged in parallel as a separate line of ground wiring except for the connection points G1 and G2 at both ends of the row. Accordingly, as shown in FIG. 6, the second ground line 107 to which the ground GND of the buffer BF (y) is connected, the ground GND of the column amplifier CAMP (y), and the pixel ground line PGND (y) are separately provided. Thus, the influence of the fluctuation of the load current of the common current source of the buffer BF (y) on the ground GND of the column amplifier CAMP (y) and the pixel ground line PGND (y) is eliminated.

このように、本実施形態に係る固体撮像素子101は、撮影画像に高輝度被写体がある場合でも横スミアの原因となるバッファBF(y)の接地電位の変動の影響を排除できるので、横スミアのない高画質な画像を得ることができる。   As described above, the solid-state imaging device 101 according to the present embodiment can eliminate the influence of the fluctuation of the ground potential of the buffer BF (y) that causes the lateral smear even when the captured image includes a high-luminance subject. A high-quality image with no image can be obtained.

(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態に係る固体撮像素子101bについて説明する。本実施形態に係る固体撮像素子101bが第1の実施形態に係る固体撮像素子101と異なる点は、第2の接地線107がなく、カラムアンプCAMP(y)の接地GNDと画素接地線PGND(y)とバッファBF’(y)の接地GNDが全て第1の接地線105に接続されていることと、バッファBF’(y)の回路構成が異なることである。尚、図7において、図1の固体撮像素子101と同符号のものは同じものを示す。また、固体撮像素子101bの各画素の構成および動作タイミングは、図2および図3で説明した画素の構成および動作タイミングと全く同じなので重複する説明は省略する。
(Second Embodiment)
Next, the solid-state imaging device 101b according to the second embodiment will be described. The solid-state imaging device 101b according to the present embodiment is different from the solid-state imaging device 101 according to the first embodiment in that there is no second ground line 107, the ground GND of the column amplifier CAMP (y) and the pixel ground line PGND ( y) and the ground GND of the buffer BF ′ (y) are all connected to the first ground line 105, and the circuit configuration of the buffer BF ′ (y) is different. In FIG. 7, the same reference numerals as those of the solid-state imaging device 101 in FIG. The configuration and operation timing of each pixel of the solid-state imaging device 101b are exactly the same as the pixel configuration and operation timing described with reference to FIGS.

本実施形態に係る固体撮像素子101bは、カラムアンプCAMP(y)の接地GNDと画素接地線PGND(y)とバッファBF’(y)の接地GNDが全て第1の接地線105に接続されるので、第1の実施形態で説明した図5の接地線201が第1の接地線105に対応することになる。しかし、本実施形態では、バッファBF’(y)の回路構成を工夫して、横スミアの問題を回避できるようになっている。   In the solid-state imaging device 101 b according to the present embodiment, the ground GND of the column amplifier CAMP (y), the pixel ground line PGND (y), and the ground GND of the buffer BF ′ (y) are all connected to the first ground line 105. Therefore, the ground line 201 in FIG. 5 described in the first embodiment corresponds to the first ground line 105. However, in the present embodiment, the problem of lateral smear can be avoided by devising the circuit configuration of the buffer BF ′ (y).

次に、本実施形態の特徴であるバッファBF’(y)の回路構成について説明する。図8は、n行目のカラムアンプCAMP(n)とバッファBF’(n)とを等価回路例を示した図である。図8において、カラムアンプCAMP(n)は、ダブルカスコード差動アンプの回路で、トランジスタTr21とトランジスタTr22のカスコードペアと、トランジスタTr25とトランジスタTr26のカスコードペアとで負荷側の低電圧カレントミラー回路が構成される。同様に、トランジスタTr23とトランジスタTr24のカスコードペアと、トランジスタTr27とトランジスタTr28のカスコードペアとで差動入力側の低電圧カレントミラー回路が構成される。差動入力側のトランジスタTr24とトランジスタTr28のそれぞれのソースは、電流源のトランジスタTr29を介して接地GNDに接続される。また、トランジスタTr22とトランジスタTr26のゲートにはバイアスBIAS1が、トランジスタTr23とトランジスタTr27のゲートにはバイアスBIAS2が、トランジスタTr29のゲートにはバイアスBIAS3がそれぞれ与えられる。ダブルカスコード差動アンプ型のカラムアンプCAMP(n)のコモン電流源を構成するトランジスタTr29には一定電流が流れるようになっているので、カラムアンプCAMP(n)の負入力(VLINE(n))と正入力(VREF)との差電圧がバッファBF’(n)に出力される。   Next, the circuit configuration of the buffer BF ′ (y), which is a feature of this embodiment, will be described. FIG. 8 is a diagram showing an equivalent circuit example of the column amplifier CAMP (n) and the buffer BF ′ (n) in the nth row. In FIG. 8, a column amplifier CAMP (n) is a circuit of a double cascode differential amplifier. A low-voltage current mirror circuit on the load side includes a cascode pair of a transistor Tr21 and a transistor Tr22 and a cascode pair of a transistor Tr25 and a transistor Tr26. Composed. Similarly, the cascode pair of the transistor Tr23 and the transistor Tr24 and the cascode pair of the transistor Tr27 and the transistor Tr28 constitute a low-voltage current mirror circuit on the differential input side. The sources of the transistors Tr24 and Tr28 on the differential input side are connected to the ground GND via a transistor Tr29 which is a current source. Further, the bias BIAS1 is applied to the gates of the transistors Tr22 and Tr26, the bias BIAS2 is applied to the gates of the transistors Tr23 and Tr27, and the bias BIAS3 is applied to the gate of the transistor Tr29. Since a constant current flows through the transistor Tr29 constituting the common current source of the double cascode differential amplifier type column amplifier CAMP (n), the negative input (VLINE (n)) of the column amplifier CAMP (n) And the positive voltage (VREF) is output to the buffer BF ′ (n).

一方、図8において、バッファBF’(n)は、シングル差動アンプの回路であるが、コモン電流源の回路構成に特徴があり、通常1つのトランジスタTr35で構成されるコモン電流源をトランジスタTr35とトランジスタTr36のカスコード回路で構成している。バッファBF’(n)は、トランジスタTr31とトランジスタTr33のペアと、トランジスタTr32とトランジスタTr34のペアとで構成される。差動入力側のトランジスタTr32とトランジスタTr34のそれぞれのソースは、コモン電流源のトランジスタTr36およびTr35を介して接地GNDに接続される。また、トランジスタTr36のゲートにはバイアスBIAS4が、トランジスタTr35のゲートにはバイアスBIAS5がそれぞれ与えられる。   On the other hand, in FIG. 8, the buffer BF ′ (n) is a circuit of a single differential amplifier, but is characterized by a circuit configuration of a common current source, and a common current source normally composed of one transistor Tr35 is designated as a transistor Tr35. And a cascode circuit of the transistor Tr36. The buffer BF ′ (n) includes a pair of a transistor Tr31 and a transistor Tr33, and a pair of a transistor Tr32 and a transistor Tr34. The sources of the transistors Tr32 and Tr34 on the differential input side are connected to the ground GND via the transistors Tr36 and Tr35 which are common current sources. A bias BIAS4 is applied to the gate of the transistor Tr36, and a bias BIAS5 is applied to the gate of the transistor Tr35.

ここで、バッファBF’(n)のコモン電流源を構成するトランジスタTr35およびTr36はカスコード構成になっているので、点B1の出力インピーダンスを高めることができ、トランジスタTr35のドレイン電圧が上昇した場合でもコモン電流源の電流の増加を接地線105の電位の変動の影響を無視できる程度に抑制することができる。この原理を図9に示す。図9はバッファBF’(n)のコモン電流源の等価回路を示した図で、カスコード化していない従来のコモン電流源の等価回路は図9(a)に示したようにトランジスタTr35が1つで構成され、図9(a)の点B1の出力インピーダンスは、トランジスタTr35のソース・ドレイン間の出力インピーダンスr01に相当する。   Here, since the transistors Tr35 and Tr36 constituting the common current source of the buffer BF ′ (n) have a cascode configuration, the output impedance at the point B1 can be increased, and even when the drain voltage of the transistor Tr35 increases. The increase in the current of the common current source can be suppressed to such an extent that the influence of the fluctuation of the potential of the ground line 105 can be ignored. This principle is shown in FIG. FIG. 9 is a diagram showing an equivalent circuit of the common current source of the buffer BF ′ (n). The equivalent circuit of the conventional common current source which is not cascoded is one transistor Tr35 as shown in FIG. 9A. The output impedance at point B1 in FIG. 9A corresponds to the output impedance r01 between the source and drain of the transistor Tr35.

図8において、バッファBF’(n)が図9(a)に示したような1つのトランジスタTr35のみで構成される場合、高輝度被写体がある時にカラムアンプCAMP(n)の出力が過大となり、カラムアンプCAMP(n)の出力レベルにフォローしてバッファBF’(n)のコモン電流源のB点の電位も大きく変化する。一般に、MOSトランジスタの飽和特性はチャンネル長変調効果により数十kΩから数百kΩの抵抗カーブ特性を示すため、高輝度画素に対応するバッファBF’(n)のコモン電流源のドレイン電流Idの値は低輝度画素のドレイン電流Idに対して相対的に増加する。   In FIG. 8, when the buffer BF ′ (n) is composed of only one transistor Tr35 as shown in FIG. 9A, the output of the column amplifier CAMP (n) becomes excessive when there is a high brightness subject, Following the output level of the column amplifier CAMP (n), the potential at the point B of the common current source of the buffer BF ′ (n) also changes greatly. In general, the saturation characteristic of a MOS transistor exhibits a resistance curve characteristic of several tens of kΩ to several hundreds of kΩ due to the channel length modulation effect, and therefore the value of the drain current Id of the common current source of the buffer BF ′ (n) corresponding to the high luminance pixel. Increases relatively with respect to the drain current Id of the low luminance pixel.

これに対して、本実施形態に係る固体撮像素子101bのバッファBF’(n)のコモン電流源は、図9(b)に示したように、トランジスタTr35とTr36とでカスコード化した回路構成になっているので、点B1の出力インピーダンスは、r02・gm2・r01となり、トランジスタTr35が1つで構成される場合の点B1の出力インピーダンスより大幅に高くなる。この結果、ドレイン電流Idの変化を低く抑えることができる。   In contrast, the common current source of the buffer BF ′ (n) of the solid-state imaging device 101b according to the present embodiment has a circuit configuration in which the transistors Tr35 and Tr36 are cascoded as shown in FIG. 9B. Therefore, the output impedance of the point B1 is r02 · gm2 · r01, which is significantly higher than the output impedance of the point B1 when the transistor Tr35 is constituted by one. As a result, the change in the drain current Id can be suppressed low.

ここで、コモン電流源のトランジスタTr35のドレイン・ソース間電圧特性(Vds特性)について、図9(c)を用いて説明する。図9(c)において、横軸はドレイン(D)とソース(S)間の電圧Vdsを示し、縦軸はドレイン電流Idを示している。理想的には、ドレイン・ソース間電圧Vdsが高くなってもドレイン電流Idは一定にならなければいけないが、トランジスタTr35によって構成されるコモン電流源の出力インピーダンスが無限大ではないので、ドレイン・ソース間電圧Vdsが高くなるとドレイン電流Idも増加する。このため、高輝度被写体がある場合に、例えば図8のバッファBF’(n)の点B1の電位が大きく変動するので、コモン電流源がトランジスタTr35のみで構成される場合、ドレイン電流Idが増加することになる。これに対して、本実施形態に係る固体撮像素子101bのバッファBF’(n)は、図8に示すようにトランジスタTr35とトランジスタTr36のカスコード接続で構成されるので、図9(b)に示すようにコモン電流源の出力インピーダンスがr02・gm2・r01のように高くなり、高輝度被写体がある場合に、ドレイン・ソース間電圧Vdsが高くなってもドレイン電流Idの増加を抑えることができる。   Here, the drain-source voltage characteristic (Vds characteristic) of the transistor Tr35 of the common current source will be described with reference to FIG. In FIG. 9C, the horizontal axis represents the voltage Vds between the drain (D) and the source (S), and the vertical axis represents the drain current Id. Ideally, the drain current Id should be constant even when the drain-source voltage Vds increases. However, since the output impedance of the common current source constituted by the transistor Tr35 is not infinite, the drain-source As the inter-voltage Vds increases, the drain current Id also increases. For this reason, when there is a high-luminance subject, for example, the potential at the point B1 of the buffer BF ′ (n) in FIG. 8 greatly fluctuates, so that the drain current Id increases when the common current source is composed only of the transistor Tr35. Will do. On the other hand, the buffer BF ′ (n) of the solid-state imaging device 101b according to the present embodiment is configured by the cascode connection of the transistor Tr35 and the transistor Tr36 as shown in FIG. As described above, when the output impedance of the common current source is as high as r02 · gm2 · r01, and there is a high-luminance object, an increase in the drain current Id can be suppressed even if the drain-source voltage Vds increases.

このように、本実施形態に係る固体撮像素子101bは、バッファBF’(y)のコモン電流源をカスコード構成にし、コモン電流源の出力インピーダンスを高めることによって、ドレイン・ソース間電圧(Vds)上昇によるコモン電流源のドレイン電流(Id)の増加を無視できる程度に抑制でき、撮影画像に高輝度被写体がある場合でも横スミアのない高画質な画像を得ることができる。また、本実施形態では、第1の実施形態のように接地線を分離する必要がないため、パターン設計の自由度が上がり且つチップ寸法が小さくなり、コスト低減を図ることができる。   As described above, in the solid-state imaging device 101b according to this embodiment, the common current source of the buffer BF ′ (y) has a cascode configuration, and the drain-source voltage (Vds) increases by increasing the output impedance of the common current source. The increase in the drain current (Id) of the common current source due to can be suppressed to a negligible level, and a high-quality image free from lateral smear can be obtained even when there is a high-luminance subject in the captured image. Further, in the present embodiment, it is not necessary to separate the ground line as in the first embodiment, so that the degree of freedom in pattern design is increased, the chip size is reduced, and the cost can be reduced.

上記の各実施形態において、第1の実施形態では、撮影画像に高輝度被写体がある場合に、横スミアの原因となるバッファBF(y)の接地電位の変動の影響を少なくする解決手段として、バッファBF(y)の接地線を別にした固体撮像素子101について説明し、第2の実施形態では、同様の横スミアの原因となるバッファBF’(y)の接地電位の変動の抑える解決手段として、バッファBF’(y)のコモン電流源をカスコード回路にした固体撮像素子101bについて説明したが、第1の実施形態と第2の実施形態を併用する回路構成にしても構わない。即ち、図1の固体撮像素子101の回路のバッファBF(y)を図8のバッファBF’(y)と同じようにコモン電流源をカスコード回路にしても構わない。   In each of the above-described embodiments, in the first embodiment, when there is a high-luminance subject in the captured image, as a solving means that reduces the influence of the ground potential fluctuation of the buffer BF (y) that causes lateral smear, The solid-state imaging device 101 in which the ground line of the buffer BF (y) is separated will be described. In the second embodiment, as a solution for suppressing the fluctuation of the ground potential of the buffer BF ′ (y) that causes the same lateral smear. The solid-state imaging device 101b in which the common current source of the buffer BF ′ (y) is a cascode circuit has been described. However, a circuit configuration in which the first embodiment and the second embodiment are used together may be employed. That is, the buffer BF (y) of the circuit of the solid-state imaging device 101 in FIG. 1 may be a cascode circuit as in the case of the buffer BF ′ (y) in FIG.

以上、本発明に係る固体撮像素子について、各実施形態で例を挙げて説明してきたが、その精神またはその主要な特徴から逸脱することなく他の多様な形で実施することができる。そのため、上述した実施形態はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。本発明は、特許請求の範囲によって示されるものであって、本発明は明細書本文にはなんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内である。   As described above, the solid-state image pickup device according to the present invention has been described by way of example in each embodiment, but can be implemented in various other forms without departing from the spirit or main features thereof. Therefore, the above-described embodiment is merely an example in all respects and should not be interpreted in a limited manner. The present invention is defined by the claims, and the present invention is not limited to the text of the specification. Further, all modifications and changes belonging to the equivalent scope of the claims are within the scope of the present invention.

101,101b・・・固体撮像素子 102・・・垂直走査回路
103・・・水平出力回路 105・・・第1の接地線
106・・・VREF線 107・・・第2の接地線
201・・・接地線
P(1,1)〜P(M,N)・・・画素
VLINE(1)〜VLINE(N)・・・垂直信号線
CAMP(1)〜CAMP(N)・・・カラムアンプ
BF(1)〜BF(N),BF’(1)〜BF’(N)・・・バッファ
PW(1)〜PW(N)・・・定電流源
PGND(1)〜PGND(N)・・・画素GND
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101,101b ... Solid-state image sensor 102 ... Vertical scanning circuit 103 ... Horizontal output circuit 105 ... First ground line 106 ... VREF line 107 ... Second ground line 201 ... Ground lines P (1, 1) to P (M, N)... Pixels VLINE (1) to VLINE (N)... Vertical signal lines CAMP (1) to CAMP (N). (1) to BF (N), BF ′ (1) to BF ′ (N)... Buffer PW (1) to PW (N)... Constant current source PGND (1) to PGND (N).・ Pixel GND

Claims (2)

2次元状に配置され、光を電気信号に変換する光電変換部を有する画素と、
列方向に配置された前記画素と列方向に接続され、前記画素から読み出される電気信号を受け取る複数の垂直信号線と、
前記垂直信号線に読み出された前記電気信号を増幅する第1の定電流源を有するカラムアンプと、
前記カラムアンプに直列に配置され、第2の定電流源を有するバッファアンプと、
前記バッファアンプが出力する電気信号を水平方向に出力する水平出力回路と
を有する固体撮像素子において、
行方向に配置され、前記カラムアンプの第1の定電流源を接地する第1の接地線と、
行方向に配置され、前記バッファアンプの第2の定電流源を接地する第2の接地線と
を設け、
前記第1の接地線と前記第2の接地線は独立して配置され、且つ前記第1の接地線と前記第2の接地線とは互いの両端部分で接地されたことを特徴とする固体撮像素子。
A pixel having a two-dimensionally arranged photoelectric conversion unit that converts light into an electrical signal;
A plurality of vertical signal lines connected in the column direction with the pixels arranged in the column direction and receiving electrical signals read from the pixels;
A column amplifier having a first constant current source for amplifying the electric signal read to the vertical signal line;
A buffer amplifier disposed in series with the column amplifier and having a second constant current source;
In a solid-state imaging device having a horizontal output circuit for horizontally outputting an electrical signal output by the buffer amplifier,
A first ground line arranged in a row direction and grounding a first constant current source of the column amplifier;
A second ground line arranged in the row direction and grounding the second constant current source of the buffer amplifier;
The first ground line and the second ground line are disposed independently, and the first ground line and the second ground line are grounded at both ends. Image sensor.
2次元状に配置され、光を電気信号に変換する光電変換部を有する画素と、
列方向に配置された前記画素と列方向に接続され、前記画素から読み出される電気信号を受け取る複数の垂直信号線と、
前記垂直信号線に読み出された前記電気信号を増幅する第1の定電流源を有するカラムアンプと、
前記カラムアンプに直列に配置され、第2の定電流源を有するバッファアンプと、
前記バッファアンプが出力する電気信号を水平方向に出力する水平出力回路と
を有する固体撮像素子において、
前記バッファアンプの第2の定電流源をカスコード構成にしたことを特徴とする固体撮像素子。
A pixel having a two-dimensionally arranged photoelectric conversion unit that converts light into an electrical signal;
A plurality of vertical signal lines connected in the column direction with the pixels arranged in the column direction and receiving electrical signals read from the pixels;
A column amplifier having a first constant current source for amplifying the electric signal read to the vertical signal line;
A buffer amplifier disposed in series with the column amplifier and having a second constant current source;
In a solid-state imaging device having a horizontal output circuit for horizontally outputting an electrical signal output by the buffer amplifier,
A solid-state imaging device, wherein the second constant current source of the buffer amplifier has a cascode configuration.
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