JP2011014887A - Repair method for paste pattern, and substrate having paste pattern repaired by the method - Google Patents

Repair method for paste pattern, and substrate having paste pattern repaired by the method Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a repair method for a paste pattern in which the line width of the paste pattern is kept constant in a repair section of the paste pattern where a defect occurs by applying paste by a dot coating system by an amount corresponding to the repair section.SOLUTION: The repair method for the paste pattern is implemented by the dot coating system which drips a paste droplet on the repair section, thereby obtaining the effect that the internal area of the paste pattern into which an accurate amount of liquid crystal is injected can be secured by keeping the line width of the paste pattern constant.

Description

本発明は、欠陥が発生したペーストパターンをリペアする方法及びその方法を適用してリペアされたペーストパターンを有する基板に関するものである。   The present invention relates to a method of repairing a paste pattern in which a defect has occurred, and a substrate having a paste pattern repaired by applying the method.

平板表示装置(FPD、Flat Panel Display)の一つである液晶表示装置(LCD)は、陰極線管(CRT)に比べて視認性に優れており、同画面サイズである場合に平均消費電力及び発熱量が少ないので、プラズマ表示パネル(PDP:Plasma Display Panel)や電界放出表示装置(FED:Field Emission Display)と共に携帯電話やコンピュータのモニター、テレビなどの次世代表示装置として最近脚光を浴びている。   A liquid crystal display (LCD), which is one of flat panel displays (FPDs), has better visibility than a cathode ray tube (CRT), and average power consumption and heat generation when the screen size is the same. Because of its small amount, it has recently attracted attention as a next-generation display device such as a mobile phone, a computer monitor, and a television together with a plasma display panel (PDP) and a field emission display (FED).

このような液晶表示装置は液晶表示パネルを包含して構成され、第1基板及び第2基板により構成される複数の基板と、それら基板間に介在される液晶層と、により構成される。第1基板と第2基板との間に液晶層を形成する方法は、液晶ディッピング注入方式と液晶滴下方式とに分けることができる。   Such a liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel, and includes a plurality of substrates including a first substrate and a second substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates. The method of forming the liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate can be divided into a liquid crystal dipping injection method and a liquid crystal dropping method.

液晶ディッピング注入方式は、真空チャンバ内で第1基板及び第2基板を液晶注入口が形成されるようにシーリング材で貼り合わせ、貼り合わされた第1基板及び第2基板を液晶が受容された容器内に位置させた後、チャンバ内の真空を解除すると、第1基板及び第2基板間の空間と外部空間との圧力差によって液晶が液晶注入口を通して第1基板と第2基板との間に注入される方式である。   In the liquid crystal dipping injection method, a first substrate and a second substrate are bonded together with a sealing material in a vacuum chamber so that a liquid crystal injection port is formed, and the bonded first substrate and second substrate are containers in which liquid crystal is received. When the vacuum in the chamber is released after being positioned inside, the liquid crystal flows between the first substrate and the second substrate through the liquid crystal inlet due to the pressure difference between the space between the first substrate and the second substrate and the external space. Injected method.

液晶滴下方式は、第1基板または第2基板に液晶を滴下させた後、第1基板及び第2基板を貼り合せる方式であって、液晶ディッピング注入方式とは相違に液晶を注入する前に液晶注入口を形成したり液晶を注入した後で液晶注入口を閉鎖したりする工程を追加的に要求せず、液晶層の形成に必要な時間を短縮することが可能で、高価な液晶が浪費されることを防止し得るという点で最近適用されている方式である。   The liquid crystal dropping method is a method in which the liquid crystal is dropped on the first substrate or the second substrate and then the first substrate and the second substrate are bonded together. Unlike the liquid crystal dipping injection method, the liquid crystal is injected before the liquid crystal is injected. No additional steps are required to form the inlet or close the liquid crystal injection port after injecting liquid crystal, reducing the time required to form the liquid crystal layer and wasting expensive liquid crystal This is a method that has recently been applied in that it can be prevented.

液晶滴下方式で最も重要な因子は、第1基板及び第2基板間に決まった液晶量を有する液晶層を形成することである。液晶滴下方式は、液晶が滴下された基板と、閉鎖されたペーストパターンが形成されるようにペーストが塗布された基板と、を相互に貼り合せる工程により進行されるので、決まった液晶量で液晶層を形成することにおいてペーストパターンの内部面積は、重要な因子となる。   The most important factor in the liquid crystal dropping method is to form a liquid crystal layer having a fixed amount of liquid crystal between the first substrate and the second substrate. The liquid crystal dropping method proceeds by a process of bonding the substrate on which the liquid crystal is dropped and the substrate on which the paste is applied so that a closed paste pattern is formed. In forming the layer, the internal area of the paste pattern is an important factor.

液晶滴下方式では、基板上にペーストパターンを形成するために基板上にペーストを塗布する装置であるペーストディスペンサーが利用される。このようなペーストディスペンサーは、基板が搭載されるステージと、ペーストが吐出されるノズルが取り付けられたヘッドユニットと、ヘッドユニットが支持されるヘッド支持台と、により構成されており、基板とノズルの相対位置を変化させながら基板上に所定形状のペーストパターンを形成する。   In the liquid crystal dropping method, a paste dispenser that is a device for applying a paste on a substrate is used to form a paste pattern on the substrate. Such a paste dispenser is composed of a stage on which a substrate is mounted, a head unit to which a nozzle for discharging paste is attached, and a head support base on which the head unit is supported. A paste pattern having a predetermined shape is formed on the substrate while changing the relative position.

一方、従来のペーストディスペンサーは、ペーストの吐出を開始する時からペーストの吐出を終了する時までペーストを連続的に吐出する線形塗布方式によりペーストを塗布する。   On the other hand, the conventional paste dispenser applies the paste by a linear application method in which the paste is continuously discharged from the start of the discharge of the paste until the end of the discharge of the paste.

線形塗布方式によるペースト塗布工程において、基板上でペーストパターンが開始する位置、即ち、ペーストが最初に塗布される基板上の位置で直径が過度に大きいペーストが塗布されることを防止するために、図1に示したように、ペーストの吐出を開始する場合、ノズル620を基板Sに向けて下側方向及び塗布方向へ移動させる途中、即ち、ノズル620が基板Sと予め設定された間隔に位置する以前に、ノズル620からペーストの吐出が開始するようにし、ノズル620が基板Sと予め設定された間隔に位置する時までペーストの吐出量を徐々に増加させる方式を取る。   In the paste application process by the linear application method, in order to prevent the paste having an excessively large diameter from being applied at the position where the paste pattern starts on the substrate, that is, the position on the substrate where the paste is first applied, As shown in FIG. 1, when the discharge of paste is started, the nozzle 620 is moved toward the substrate S in the downward direction and the application direction, that is, the nozzle 620 is positioned at a predetermined interval from the substrate S. Before starting, the discharge of paste is started from the nozzle 620, and the discharge amount of paste is gradually increased until the nozzle 620 is positioned at a predetermined interval from the substrate S.

同様に、基板上にペーストパターンが終了する位置、即ち、ペーストが最終塗布される位置で直径が過度に大きいペーストが塗布されることを防止するために、図2に示したように、ペーストの吐出を終了する場合、ノズル620を基板Sから上側方向及び塗布方向へ移動させる途中で吐出されるペーストの量を次第に減少させながらペーストの吐出を終了させる方式を取る。   Similarly, in order to prevent the paste having an excessively large diameter from being applied at the position where the paste pattern is finished on the substrate, that is, the position where the paste is finally applied, as shown in FIG. When ending the discharge, a method of ending the discharge of the paste while gradually decreasing the amount of the paste discharged while moving the nozzle 620 from the substrate S in the upward direction and the application direction is adopted.

従って、このようなペーストディスペンサーの線形塗布方式は、ペーストの塗布を開始する場合にノズル620を下側方向及び塗布方向へ移動させながらペーストの吐出量を次第に増加させるのに必要な必要距離D1を必要とし、ペーストの塗布を終了する場合にはノズル620を上側方向及び塗布方向へ移動させながらペーストの吐出量を次第に減少させるのに必要な必要距離D2を必要としている。   Therefore, in the linear application method of the paste dispenser, when the paste application is started, the necessary distance D1 necessary for gradually increasing the discharge amount of the paste while moving the nozzle 620 in the downward direction and the application direction is set. When it is necessary to finish the application of the paste, the necessary distance D2 is required to gradually reduce the discharge amount of the paste while moving the nozzle 620 in the upward direction and the application direction.

このように従来のペースト塗布方法は、このような各々の必要距離D1,D2を必要とするので、基板上にペーストを塗布する過程が複雑で、特に、ペーストパターンPを形成するとき、吐出開始点と吐出終了点が接する部分でペーストパターンPの線幅を均一に処理することが困難であるという不都合な点があった。このような問題により各必要距離D1,D2の設定に誤差が発生した場合には、ペーストパターンPの線幅の不良が発生し,そのためペーストパターンPの内部面積の不良が発生するという不都合な点があった。   As described above, the conventional paste application method requires the respective required distances D1 and D2, so that the process of applying the paste on the substrate is complicated. In particular, when the paste pattern P is formed, the ejection starts. There is an inconvenience that it is difficult to uniformly process the line width of the paste pattern P at the portion where the point and the discharge end point are in contact. If an error occurs in the setting of the necessary distances D1 and D2 due to such a problem, a defect in the line width of the paste pattern P occurs, so that a defect in the internal area of the paste pattern P occurs. was there.

一方、ペーストディスペンサーを利用して基板上にペーストを塗布する過程でペーストパターンの線が断線になったりペーストパターンの線幅が基準値以下となったりするペーストパターンの欠陥が発生することがある。従来、このようなペーストパターンの欠陥が発生したリペア区間をリペアするために、リペア区間にペーストを再び塗布する再塗布工程を行っていた。   On the other hand, in the process of applying a paste on a substrate using a paste dispenser, a paste pattern defect may occur in which the paste pattern line is broken or the line width of the paste pattern is below a reference value. Conventionally, in order to repair a repair section where such a paste pattern defect has occurred, a re-coating step of applying the paste again to the repair section has been performed.

然し、従来の場合、リペア区間にペーストを再塗布する過程で上述したような線形塗布方式だけをそのまま適用するが、そうすると、リペア区間の開始点及び終了点に関するデータから上述したような各必要距離D1、D2を予め設定した後リペア区間に対してペーストを再塗布するべきであるので、リペア過程が非常に複雑であるという問題があった。特に、このような問題は、ペーストパターンの線が曲線状に形成される曲線部及びペーストパターンの形成時に吐出開始点と吐出終了点が接する連結部で大きく発生するという問題があった。従って、リペア区間に関するデータから各必要距離D1、D2を設定する過程で誤差が発生した場合は却って適切に塗布されたペースト上にペーストが再塗布されて、その結果、ペーストパターンの線幅が大きく増加してペーストパターンの内部面積の不良を招くことがあった。   However, in the conventional case, only the linear application method as described above is applied as it is in the process of re-applying the paste to the repair section. Then, the necessary distances as described above from the data regarding the start point and end point of the repair section are applied. Since the paste should be re-applied to the repair section after D1 and D2 are set in advance, there is a problem that the repair process is very complicated. In particular, such a problem occurs that a large portion occurs in a curved portion where a paste pattern line is formed in a curved shape and a connecting portion where a discharge start point and a discharge end point are in contact with each other when the paste pattern is formed. Therefore, if an error occurs in the process of setting the required distances D1 and D2 from the data related to the repair section, the paste is reapplied on the appropriately applied paste, and as a result, the line width of the paste pattern is increased. This may increase the internal area of the paste pattern.

一方、ペーストパターンの線幅が基準値以下となったペーストパターンの欠陥を有するリペア区間に対しても一定量のペーストを線形塗布方式で再塗布するため、既にある程度の線幅にペーストが塗布された状態で一定量のペーストを更に塗布するようになって、リペアされた後のペーストパターンの線幅が基準値以上に増加するという問題が発生して、同じくペーストパターンの内部面積の不良を招くことになった。   On the other hand, since a certain amount of paste is reapplied by a linear application method even in a repair section having a paste pattern defect whose paste pattern line width is below the reference value, the paste has already been applied to a certain line width. In this state, a certain amount of paste is further applied, causing a problem that the line width of the paste pattern after repair is increased to a reference value or more, which also causes a defective internal area of the paste pattern. is what happened.

上述したように液晶滴下方式では第1基板と第2基板との間に決まった液晶量を有する液晶層を形成することが非常に重要で、決まった液晶量を有する液晶層の形成はペーストパターンの内部面積により左右されるものであるのに、線形塗布方式だけを適用したペーストパターンのリペア方法は、ペーストパターンの内部面積の不良を招いて決まった液晶量を有する液晶層を形成することを困難にし、そのため製品の品質が低下するなど致命的な問題が発生するという短所があった。   As described above, in the liquid crystal dropping method, it is very important to form a liquid crystal layer having a fixed amount of liquid crystal between the first substrate and the second substrate, and the formation of the liquid crystal layer having the fixed amount of liquid crystal is a paste pattern. However, the paste pattern repair method using only the linear coating method forms a liquid crystal layer having a fixed liquid crystal amount resulting in a defective internal area of the paste pattern. It has the disadvantage that it makes it difficult, resulting in a fatal problem such as a decrease in product quality.

本発明は、上記した従来技術の問題点を解決するためのものであり、本発明の目的は、ペーストパターンの欠陥が発生したリペア区間に対して、リペア区間に対応する量のペーストを点形塗布方式により塗布することで、リペア区間でペーストパターンの線幅を一定に維持し得るペーストパターンのリペア方法を提供することである。   The present invention is for solving the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to form a dotted amount of paste corresponding to a repair section with respect to a repair section where a paste pattern defect has occurred. An object of the present invention is to provide a method for repairing a paste pattern that can maintain the line width of the paste pattern constant in a repair section by applying by a coating method.

本発明の他の目的は、点形塗布方式によるペーストパターンのリペア方法によってリペアされたペーストパターンを有する基板を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a substrate having a paste pattern repaired by a paste pattern repair method using a dot coating method.

上記した目的を達成するため本発明に係るペーストパターンのリペア方法は、基板上に形成されたペーストパターンの欠陥可否を測定する段階と、ペーストパターンの欠陥が測定されると、欠陥が発生した区間をリペア区間に設定する段階と、設定されたリペア区間に点形塗布方式によりペースト液滴を滴下する段階と、を順次行う。   In order to achieve the above-described object, the paste pattern repair method according to the present invention includes a step of measuring whether or not a paste pattern formed on a substrate is defective, and a section where a defect occurs when the paste pattern defect is measured. Is set in the repair section, and the step of dropping the paste droplets in the set repair section by the dot coating method is sequentially performed.

ここで、ペースト液滴を滴下する段階は、リペア区間に存在するペーストの量に対応するように、ペーストパターンの線の長手方向及び/又はペーストパターンの線幅方向に、ペースト液滴の滴下量を調節することが好ましい。   Here, in the step of dropping the paste droplets, the amount of the paste droplets dropped in the longitudinal direction of the paste pattern line and / or the line width direction of the paste pattern so as to correspond to the paste amount existing in the repair section. Is preferably adjusted.

このとき、ペースト液滴の滴下量の調節は、滴下されるペースト液滴の大きさを変化させる過程で行われ、または、同一大きさのペースト液滴の滴下回数を変化させる過程で行われる。   At this time, the drop amount of the paste droplets is adjusted in the process of changing the size of the dropped paste droplets or in the process of changing the number of times of dropping the same size paste droplets.

且つ、ペースト液滴を滴下する段階は、リペア区間に存在するペーストの位置に対応するように、ペーストパターンの線の長手方向及び/又はペーストパターンの線幅方向に、滴下されるペースト液滴の滴下位置を調節することが好ましい。   In addition, in the step of dropping the paste droplet, the paste droplet dropped in the longitudinal direction of the paste pattern line and / or the line width direction of the paste pattern so as to correspond to the position of the paste existing in the repair section. It is preferable to adjust the dropping position.

一方、ペースト液滴を滴下する段階は、ペーストパターンの線幅方向に一つ以上の列でペースト液滴を滴下することで行われ、ペーストパターンの線幅方向に複数列にペースト液滴を滴下する場合は、複数列中ペーストパターンの内側ラインを形成する列に沿って滴下されるペースト液滴の滴下量とペーストパターンの外側ラインを形成する列に沿って滴下されるペースト液滴の滴下量とは相違する。   Meanwhile, the step of dropping the paste droplets is performed by dropping the paste droplets in one or more rows in the line width direction of the paste pattern, and the paste droplets are dropped in a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern. If so, drop amount of paste droplets dropped along the rows forming the inner line of the paste pattern in multiple rows and drop amount of paste droplets dropped along the rows forming the outer line of the paste pattern Is different.

このような場合、ペーストパターンの内側ラインを形成する列に沿って滴下されるペースト液滴の直径は、形成されるペーストパターンの線幅の1/2以下であることが好ましい。   In such a case, it is preferable that the diameter of the paste droplet dropped along the line forming the inner line of the paste pattern is ½ or less of the line width of the paste pattern to be formed.

一方、本発明に係るペーストパターンのリペア方法は、点形塗布方式にペーストを連続吐出してペーストを塗布する線形塗布方式を並行する。   On the other hand, the paste pattern repair method according to the present invention is parallel to the linear coating method in which the paste is applied by continuously discharging the paste to the dot coating method.

また、本発明に係るペーストパターンのリペア方法によりリペアされたペーストパターンを有する基板は、基板上に形成されたペーストパターンの欠陥可否を測定する段階と、ペーストパターンの欠陥が測定されると欠陥が発生した区間をリペア区間として設定する段階と、設定されたリペア区間に点形塗布方式によりペースト液滴を滴下する段階と、を順次行うペーストパターンのリペア方法によりリペアされたペーストパターンを有する。   In addition, the substrate having the paste pattern repaired by the paste pattern repair method according to the present invention includes a step of measuring whether or not the paste pattern formed on the substrate is defective, and a defect when the paste pattern defect is measured. There is a paste pattern repaired by a paste pattern repairing method in which a stage in which the generated section is set as a repair section and a stage in which paste droplets are dropped onto the set repair section by a dot coating method.

ここで、ペーストパターンの内側ライン及び/又は外側ラインは所定のピッチを有するウェーブ形状に形成され、ペーストパターンの内側ラインまたは外側ラインのウェーブ形状のピッチは、上記ペーストパターンの線の長手方向に沿って相互相違し、上記ペーストパターンの内側ラインのウェーブ形状のピッチと上記ペーストパターンの外側ラインのウェーブ形状のピッチとは相互相違する。   Here, the inner line and / or the outer line of the paste pattern are formed in a wave shape having a predetermined pitch, and the wave shape pitch of the inner line or the outer line of the paste pattern is along the longitudinal direction of the line of the paste pattern. The wave shape pitch of the inner line of the paste pattern is different from the wave shape pitch of the outer line of the paste pattern.

本発明に係るペーストパターンのリペア方法は、リペア区間に対応する量のペーストを点形塗布方式により塗布し、リペア区間でペーストパターンの線幅を一定に維持して、決まった液晶量に対応するペーストパターンの内部面積を確保することができるという効果がある。   In the repair method of the paste pattern according to the present invention, an amount of paste corresponding to the repair section is applied by a dot application method, and the line width of the paste pattern is maintained constant in the repair section to correspond to a fixed amount of liquid crystal. There is an effect that the internal area of the paste pattern can be secured.

従来のペースト塗布方法により基板上にペーストの塗布が開始する状態を順次示した状態図である。It is the state figure which showed sequentially the state which starts application | coating of a paste on a board | substrate by the conventional paste application | coating method. 従来のペースト塗布方法により基板上にペーストの塗布が終了する状態を順次示した状態図である。It is the state figure which showed the state where the application | coating of a paste is complete | finished on a board | substrate by the conventional paste application | coating method sequentially. 基板上に形成されたペーストパターンを示した平面図である。It is the top view which showed the paste pattern formed on the board | substrate. 図3のIV−IV線を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the IV-IV line | wire of FIG. 基板上にペーストパターンを形成するためにペーストの塗布が進行する方向の一例を示した概略図である。It is the schematic which showed an example of the direction which paste application | coating advances in order to form a paste pattern on a board | substrate. 本発明に係るペーストディスペンサーを示した斜視図である。It is the perspective view which showed the paste dispenser which concerns on this invention. 図6のペーストディスペンサーのヘッドユニットを示した斜視図である。It is the perspective view which showed the head unit of the paste dispenser of FIG. 本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法を順次示したフローチャートである。3 is a flowchart sequentially illustrating a paste pattern repair method according to a first embodiment of the present invention; 本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法を示したもので、ペーストディスペンサーのノズルから点形塗布方式によりペースト液滴がリペア区間に滴下される状態を示した概略図である。1 is a schematic diagram illustrating a paste pattern repair method according to a first embodiment of the present invention, in which paste droplets are dropped from a nozzle of a paste dispenser into a repair section by a dot coating method. 本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法において、リペア区間に存在するペーストの量に対応してペースト液滴の大きさを調節して滴下する例を示した概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example in which a paste droplet size is adjusted and dropped in accordance with the amount of paste existing in a repair section in the paste pattern repair method according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法において、ペーストパターンの線幅を一定に調節するために、ペースト液滴の大きさを調節する方法及び同一大きさのペースト液滴の滴下回数を調節する方法を示した概略図である。In the paste pattern repair method according to the first embodiment of the present invention, in order to adjust the line width of the paste pattern to be constant, the method of adjusting the size of the paste droplet and the dropping of paste droplets of the same size It is the schematic which showed the method of adjusting the frequency | count. 本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法において、ペーストパターンの線幅を一定に調節するために、ペースト液滴の大きさを調節する方法及び同一大きさのペースト液滴の滴下回数を調節する方法を示した概略図である。In the paste pattern repair method according to the first embodiment of the present invention, in order to adjust the line width of the paste pattern to be constant, the method of adjusting the size of the paste droplet and the dropping of paste droplets of the same size It is the schematic which showed the method of adjusting the frequency | count. 本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法によってリペアされたペーストパターンの一部を示した拡大図である。It is the enlarged view which showed a part of paste pattern repaired with the repair method of the paste pattern which concerns on 1st Example of this invention. 本発明の第2の実施例に係るペーストパターンのリペア方法を示したもので、リペア区間に存在するペーストの位置に対応するようにペースト液滴の滴下位置を調節する例を示した概略図である。FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of adjusting a paste droplet dropping position so as to correspond to a paste position existing in a repair section, illustrating a paste pattern repair method according to a second embodiment of the present invention; is there. 本発明の第2の実施例に係るペーストパターンのリペア方法によってリペアされたペーストパターンの一部を示した拡大図である。It is the enlarged view which showed a part of paste pattern repaired with the repair method of the paste pattern which concerns on 2nd Example of this invention. 本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法を示したもので、ペーストパターンの線幅方向に複数列にペースト液滴が滴下される例を示した概略図である。FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a paste pattern repair method according to a third embodiment of the present invention, in which paste droplets are dropped in a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern. 本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法を示したもので、ペーストパターンの線幅方向に複数列にペースト液滴が滴下される例を示した概略図である。FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a paste pattern repair method according to a third embodiment of the present invention, in which paste droplets are dropped in a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern. 本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法によってリペアされたペーストパターンの一部を示した拡大図である。It is the enlarged view which showed a part of paste pattern repaired with the repair method of the paste pattern which concerns on the 3rd Example of this invention. 本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法によってリペアされたペーストパターンの一部を示した拡大図である。It is the enlarged view which showed a part of paste pattern repaired with the repair method of the paste pattern which concerns on the 3rd Example of this invention. 本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法において、ペーストパターンの線の長手方向及び線幅方向にペースト液滴を滴下する方法の例を示した概略図である。It is the schematic which showed the example of the method of dripping a paste droplet in the longitudinal direction and line width direction of the line of a paste pattern in the repair method of the paste pattern which concerns on 3rd Example of this invention. 本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法において、ペーストパターンの線の長手方向及び線幅方向にペースト液滴を滴下する方法の例を示した概略図である。It is the schematic which showed the example of the method of dripping a paste droplet in the longitudinal direction and line width direction of the line of a paste pattern in the repair method of the paste pattern which concerns on 3rd Example of this invention. 本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法において、ペーストパターンの線の長手方向及び線幅方向にペースト液滴を滴下する方法の例を示した概略図である。It is the schematic which showed the example of the method of dripping a paste droplet in the longitudinal direction and line width direction of the line of a paste pattern in the repair method of the paste pattern which concerns on 3rd Example of this invention. 本発明の第4の実施例に係るペーストパターンのリペア方法を示したもので、点形塗布方式と線形塗布方式を並行してペーストパターンをリペアする例を示した概略図である。FIG. 10 is a schematic diagram illustrating an example of repairing a paste pattern in parallel with a dot coating method and a linear coating method, showing a paste pattern repair method according to a fourth embodiment of the present invention; 本発明の第4の実施例に係るペーストパターンのリペア方法によってリペアされたペーストパターンの一部を示した拡大図である。It is the enlarged view which showed a part of paste pattern repaired with the repair method of the paste pattern which concerns on the 4th Example of this invention. 本発明の第4の実施例に係るペーストパターンのリペア方法の他の例を示した概略図である。It is the schematic which showed the other example of the repair method of the paste pattern which concerns on the 4th Example of this invention. 本発明の第4の実施例に係るペーストパターンのリペア方法の他の例によってリペアされたペーストパターンの一部を示した拡大図である。It is the enlarged view which showed a part of paste pattern repaired with the other example of the repair method of the paste pattern which concerns on the 4th Example of this invention.

以下、添付された図面を参照して本発明に係るペーストパターンのリペア方法及びその方法によってリペアされたペーストパターンを有する基板に関する好ましい実施例について説明する。   Hereinafter, a preferred embodiment of a method for repairing a paste pattern according to the present invention and a substrate having a paste pattern repaired by the method will be described with reference to the accompanying drawings.

上述したように、液晶表示装置は液晶表示パネルを含んで構成され、液晶表示パネルは第1基板と、第2基板と、それら基板間に介在される液晶層と、により構成される。即ち、液晶表示パネルは、第1基板及び第2基板を用意し、それら基板中少なくとも一つにペーストを塗布し、それら基板中少なくとも一つに液晶を滴下した後、それら基板を相互に貼り合せる工程により製造される。ここで、第1基板及び第2基板の一方は薄膜トランジスタアレイ基板(Thin Film Transistor Array substrate)で、他方はカラーフィルター基板(Color Filter substrate)である。   As described above, the liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel, and the liquid crystal display panel includes a first substrate, a second substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates. That is, the liquid crystal display panel prepares a first substrate and a second substrate, applies paste to at least one of the substrates, drops liquid crystal onto at least one of the substrates, and then bonds the substrates together. Manufactured by a process. Here, one of the first substrate and the second substrate is a thin film transistor array substrate, and the other is a color filter substrate.

本発明は、液晶表示パネルの製造において、ペーストが塗布された基板上にペーストパターンの欠陥が発生した場合、ペーストパターンをリペアする方法及びその方法によってリペアされたペーストパターンを有する基板に関するものであり、本発明の好ましい実施例を説明する前に、図3〜図5を参照して本発明の説明に用いられる用語を定義する。   The present invention relates to a method of repairing a paste pattern when a paste pattern defect occurs on a substrate coated with a paste in the manufacture of a liquid crystal display panel, and a substrate having a paste pattern repaired by the method. Before describing the preferred embodiment of the present invention, the terms used to describe the present invention will be defined with reference to FIGS.

図3に示したように、基板S上に形成されるペーストパターンPは閉鎖された略四角形状(勿論、他の形状もできる)を有するので、このようなペーストパターンPの形状を有する線をペーストパターンPの線Lと定義し、この線Lの幅をペーストパターンPの線幅Wと定義する。そして、ペーストパターンPの線Lが延長する方向をペーストパターンPの線Lの長手方向と定義し、ペーストパターンPの線幅Wを決定する方向をペーストパターンPの線幅方向と定義する。また、ペーストパターンPは所定の線幅Wを維持するように形成されるので、ペーストパターンPの内側形状を決定する線をペーストパターンPの内側ラインL1と定義し、ペーストパターンPの外側形状を決定する線をペーストパターンPの外側ラインL2と定義する。従って、ペーストパターンPの線幅Wは内側ラインL1と外側ラインL2との間隔により決定される。そして、内側ラインL1により決定される面積をペーストパターンPの内部面積Aと定義する。また、ペーストパターンPの線幅Wの中心を通過してペーストパターンPの線Lの長手方向と平行する線をペーストパターンPの中心線CLと定義する。更に、ペーストパターンPの全体的な形状において、ペーストパターンPの線Lが直線形態に形成される区間を直線部SLと定義し、ペーストパターンPの線Lが所定曲率を有する曲線状に形成される区間を曲線部RLと定義する。且つ、図4に示したように、ペーストパターンPの線Lを垂直切断した時、ペーストが占める面積をペーストパターンPの断面積A1と定義する。また、図5に示したように、基板S上にペーストパターンPを形成するために、ペーストの塗布が塗布開始点SPから開始し所定の形状に進行して塗布終了点EPで終了するようになるので、ここで、塗布開始点SPと塗布終了点EPとが接する部位をペーストパターンPの連結部CPと定義する。   As shown in FIG. 3, since the paste pattern P formed on the substrate S has a closed substantially square shape (of course, other shapes are possible), lines having the shape of the paste pattern P are formed. The line L of the paste pattern P is defined, and the width of the line L is defined as the line width W of the paste pattern P. The direction in which the line L of the paste pattern P extends is defined as the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P, and the direction in which the line width W of the paste pattern P is determined is defined as the line width direction of the paste pattern P. Further, since the paste pattern P is formed so as to maintain a predetermined line width W, a line that determines the inner shape of the paste pattern P is defined as an inner line L1 of the paste pattern P, and the outer shape of the paste pattern P is defined as The line to be determined is defined as the outer line L2 of the paste pattern P. Accordingly, the line width W of the paste pattern P is determined by the distance between the inner line L1 and the outer line L2. The area determined by the inner line L1 is defined as the internal area A of the paste pattern P. A line passing through the center of the line width W of the paste pattern P and parallel to the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P is defined as a center line CL of the paste pattern P. Further, in the overall shape of the paste pattern P, a section where the line L of the paste pattern P is formed in a straight line shape is defined as a straight line portion SL, and the line L of the paste pattern P is formed in a curved shape having a predetermined curvature. Is defined as a curve portion RL. Further, as shown in FIG. 4, when the line L of the paste pattern P is vertically cut, an area occupied by the paste is defined as a cross-sectional area A1 of the paste pattern P. Further, as shown in FIG. 5, in order to form the paste pattern P on the substrate S, the application of the paste starts from the application start point SP, proceeds to a predetermined shape, and ends at the application end point EP. Therefore, a part where the application start point SP and the application end point EP are in contact with each other is defined as a connecting portion CP of the paste pattern P.

以下、図6及び図7を参照して、本発明に係るペーストディスペンサーに関して説明する。   Hereinafter, the paste dispenser according to the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7.

図6に示したように、本発明に係るペーストディスペンサーは、ベースフレーム10と、ベースフレーム10に固定されて基板Sが安着されるステージ30と、ステージ30の両側にY軸方向に設けられる1対のLMガイド40と、一対のLMガイド40にそれぞれ支持されるように設けられてX軸方向に延長されるヘッド支持台50と、ヘッド支持台50に設けられる複数のヘッドユニット60と、ヘッドユニット60をヘッド支持台50に設けると共にヘッドユニット60をX軸方向へ水平移動させるX軸駆動部70と、ヘッドユニット60及びX軸駆動部70の動作を制御する制御部(未図示)と、を含んで構成される。   As shown in FIG. 6, the paste dispenser according to the present invention is provided in the Y direction along the base frame 10, the stage 30 fixed to the base frame 10 on which the substrate S is seated, and on both sides of the stage 30. A pair of LM guides 40, a head support 50 provided to be supported by the pair of LM guides 40 and extending in the X-axis direction, a plurality of head units 60 provided on the head support 50, The head unit 60 is provided on the head support base 50 and the head unit 60 is horizontally moved in the X-axis direction, and a control unit (not shown) that controls operations of the head unit 60 and the X-axis drive unit 70. , Including.

ベースフレーム10には、ステージ30をベースフレーム10の前後方向(Y軸方向)へ移動させる第1駆動装置(未図示)が具備されており、ヘッド支持台50には、ヘッド支持台50をLMガイド40に沿って移動させる第2駆動装置59が具備される。ヘッド支持台50は、基板Sが大面積に形成される場合にペーストパターンPを形成する工程の効率を向上させるために複数設けられることができる。   The base frame 10 includes a first driving device (not shown) that moves the stage 30 in the front-rear direction (Y-axis direction) of the base frame 10. The head support base 50 includes the head support base 50 LM. A second driving device 59 that moves along the guide 40 is provided. A plurality of head supports 50 may be provided in order to improve the efficiency of the process of forming the paste pattern P when the substrate S is formed in a large area.

図7に示したように、ヘッドユニット60は、ペーストが充填されるシリンジ61と、シリンジ61と連通されてペーストが吐出されるノズル62と、ノズル62に隣接して配置されてノズル62と基板S間のギャップデータを測定するレーザー変位センサー63と、ノズル62及びレーザー変位センサー63をY軸方向へ移動させるY軸駆動部64と、ノズル62及びレーザー変位センサー63をZ軸方向へ移動させるZ軸駆動部65と、を含んで構成される。   As shown in FIG. 7, the head unit 60 includes a syringe 61 that is filled with a paste, a nozzle 62 that communicates with the syringe 61 and discharges the paste, and is disposed adjacent to the nozzle 62 so that the nozzle 62 and the substrate are disposed. Laser displacement sensor 63 for measuring gap data between S, Y-axis drive unit 64 for moving nozzle 62 and laser displacement sensor 63 in the Y-axis direction, and Z for moving nozzle 62 and laser displacement sensor 63 in the Z-axis direction A shaft drive unit 65.

レーザー変位センサー63は、レーザーを発光する発光部631と、発光部631と所定間隔に離隔されて基板Sから反射されたレーザーが受光される受光部632と、により構成されており、発光部631から発光されて基板Sにより反射されたレーザーの結像位置に対応する電気信号を制御部に出力して基板Sとノズル62間のギャップデータを計測する役割を行う。   The laser displacement sensor 63 includes a light emitting unit 631 that emits a laser, and a light receiving unit 632 that receives a laser beam reflected from the substrate S and spaced from the light emitting unit 631 at a predetermined interval. The electrical signal corresponding to the imaging position of the laser emitted from and reflected by the substrate S is output to the control unit to measure the gap data between the substrate S and the nozzle 62.

また、ヘッドユニット60には、基板に塗布されたペーストパターンPの断面積A1を測定する断面積センサー66が設けられる。このような断面積センサー66は、基板Sにレーザーを連続的に放出してペーストパターンPをスキャンすることによってペーストパターンPの断面積A1を測定する。断面積センサー66により測定されたペーストパターンPの断面積A1に関するデータは、ペーストパターンPの不良可否を判断するために利用される。   The head unit 60 is provided with a cross-sectional area sensor 66 that measures the cross-sectional area A1 of the paste pattern P applied to the substrate. Such a cross-sectional area sensor 66 measures the cross-sectional area A1 of the paste pattern P by continuously emitting laser to the substrate S and scanning the paste pattern P. Data relating to the cross-sectional area A1 of the paste pattern P measured by the cross-sectional area sensor 66 is used to determine whether or not the paste pattern P is defective.

以下、図8〜図13を参照して、上述したように構成されるペーストディスペンサーを利用して、ペーストパターンの欠陥が発生したリペア区間をリペアするための本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法に関して説明する。   Hereinafter, referring to FIGS. 8 to 13, according to the first embodiment of the present invention for repairing a repair section where a paste pattern defect has occurred using a paste dispenser configured as described above. The paste pattern repair method will be described.

図8に示したように、本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法は、基板上に形成されたペーストパターンPの欠陥可否を測定する段階(S10)と、ペーストパターンPの欠陥が測定されると、欠陥が発生した区間をリペア区間に設定する段階(S20)と、設定されたリペア区間に点形塗布方式によりペースト液滴を滴下する段階(S30)と、を順次行って構成される。   As shown in FIG. 8, the repair method of the paste pattern according to the first embodiment of the present invention includes a step (S10) of measuring whether or not the paste pattern P formed on the substrate is defective, When the defect is measured, a step of setting a section where the defect has occurred as a repair section (S20) and a step of dropping a paste droplet into the set repair section by a dot coating method (S30) are sequentially performed. Configured.

先ず、ペーストパターンPの欠陥可否を測定する段階(S10)は、基板Sの全体面をレーザーセンサーでスキャンして形成されたペーストパターンPの断面積A1を測定したり、ペーストパターンPをカメラで撮影したりしてペーストパターンPの断線可否を判断する過程により進行される。ペーストパターンPの断面積A1を測定するために上述した断面積センサー66を利用することができる。   First, in the step of measuring whether or not the paste pattern P is defective (S10), the cross-sectional area A1 of the paste pattern P formed by scanning the entire surface of the substrate S with a laser sensor is measured, or the paste pattern P is measured with a camera. The process proceeds in the process of taking a picture and determining whether or not the paste pattern P is disconnected. In order to measure the cross-sectional area A1 of the paste pattern P, the cross-sectional area sensor 66 described above can be used.

次いで、上述した過程を行ってペーストパターンPの欠陥が測定された場合は、ペーストパターンの欠陥が発生した区間をリペア区間に設定する(S20)。   Next, when a defect of the paste pattern P is measured by performing the above-described process, a section where the paste pattern defect has occurred is set as a repair section (S20).

次いで、リペア区間に対して点形塗布方式でリペアを行い(S30)、このようなペーストパターンのリペア方法は、図9に示したように、リペア区間に点形塗布方式でペースト液滴PDを滴下する過程により行われる。このようなペースト液滴PDを滴下するために、ノズル62から吐出されるペーストの圧力を調節する手段を備える構成が適用され、ノズル62に圧電素子のような開閉手段を備える構成も適用される。   Next, a repair is performed on the repair section by the dot application method (S30). As shown in FIG. 9, the paste pattern repair method applies the paste droplet PD to the repair section by the dot application method. This is done by the dropping process. In order to drop such paste droplet PD, a configuration including means for adjusting the pressure of the paste discharged from the nozzle 62 is applied, and a configuration including opening / closing means such as a piezoelectric element is also applied to the nozzle 62. .

このように、リペア区間で点形塗布方式によって滴下されたペースト液滴PD、はそれ自体の粘性及び表面張力によって基板S上に既に滴下された他のペースト液滴PDや基板Sに塗布されたペーストと合わせられ、その結果、基板S上には、連続形状のペーストパターンPが形成される。   As described above, the paste droplet PD dropped by the dot application method in the repair section is applied to the other paste droplet PD or the substrate S already dropped on the substrate S by its own viscosity and surface tension. As a result, a continuous paste pattern P is formed on the substrate S.

一方、ペースト液滴PDの滴下間隔は、複数のペースト液滴PDの外周が相互に接する程度の滴下間隔が可能で、複数のペースト液滴PDが相互に重畳する滴下間隔も可能で、複数のペースト液滴PDが相互に所定の幅に離隔する滴下間隔も可能である。このようなペースト液滴PDの滴下間隔は、基板Sとノズル62との間の距離、ペースト液滴PDが基板S上に衝突する力の大きさ、ペースト液滴PDの粘性または表面張力、基板Sが貼り合わされる場合の貼合力または貼り合わされる各基板S間の間隔などの設計要件に応じて多様に設定される。   On the other hand, the dropping interval of the paste droplets PD can be a dropping interval such that the outer circumferences of the plurality of paste droplets PD are in contact with each other, and the dropping interval where the plurality of paste droplets PD overlap each other is also possible. A dropping interval in which the paste droplets PD are separated from each other by a predetermined width is also possible. Such a drop interval of the paste droplet PD includes the distance between the substrate S and the nozzle 62, the magnitude of the force that the paste droplet PD collides with the substrate S, the viscosity or surface tension of the paste droplet PD, the substrate Various settings are made according to design requirements such as a bonding force when S is bonded or a distance between the substrates S to be bonded.

一方、リペア区間には、所定の量を有するペーストが存在するので、図10に示したように、ペーストパターンPのリペア方法は、リペア区間に存在するペースト量に対応するように、ペーストパターンPの線Lの長手方向及び/又はペーストパターンPの線幅方向に、ペースト液滴PDの滴下量を調節する方式であることが好ましい。即ち、リペア区間でペーストが一部存在する部分には、少量のペースト液滴PD4を滴下する代わりにペーストが存在しない部分、即ち、断線部位に大量のペースト液滴PD4を滴下することによってペーストパターンPの線幅Wを一定に維持することができる。このようなペースト液滴PDの滴下量の調節は、図11に示したように、滴下されるペースト液滴PDの大きさを変化させる方法を適用することが可能で、図12に示したように、同一位置で同一サイズを有するペースト液滴PDが滴下される滴下回数を調節する方法を適用することもできる。同一位置で同一サイズのペースト液滴PDの滴下回数を調節する方法は、ペースト液滴PDのサイズ調節を要求せずノズル62の位置調節だけを必要とするので、ペーストパターンPの線幅Wの調節をより簡単に遂行し得る効果がある。   On the other hand, since there is a paste having a predetermined amount in the repair section, as shown in FIG. 10, the repair method of the paste pattern P is performed so that the paste pattern P corresponds to the paste amount existing in the repair section. It is preferable that the amount of the paste droplet PD be adjusted in the longitudinal direction of the line L and / or the line width direction of the paste pattern P. That is, instead of dropping a small amount of paste droplet PD4 in a portion where the paste is present in the repair section, a paste pattern is obtained by dropping a large amount of paste droplet PD4 in a portion where there is no paste, that is, a broken portion. The line width W of P can be kept constant. As shown in FIG. 11, the adjustment of the dropping amount of the paste droplet PD can be performed by applying a method of changing the size of the dropped paste droplet PD as shown in FIG. In addition, a method of adjusting the number of times the paste droplet PD having the same size is dropped at the same position can be applied. Since the method of adjusting the number of drops of the paste droplet PD of the same size at the same position does not require the size adjustment of the paste droplet PD and only the position adjustment of the nozzle 62 is required, the line width W of the paste pattern P There is an effect that adjustment can be carried out more easily.

図13に示したように、本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法によってリペアされたペーストパターンPにおいて、リペア区間でのペーストパターンPの内側ラインL1または外側ラインL2は、ペーストパターンPの線Lの長手方向に沿って所定のピッチPTを有するウェーブ形状に形成される。この時、リペア区間でペーストパターンPの内側ラインL1または外側ラインL2が有する各ウェーブ形状のピッチPTは、ペーストパターンPの線Lの長手方向に沿って一定になる。また、リペア区間においてペーストパターンPの内側ラインL1または外側ラインL2が有する各ウェーブ形状は、ペーストパターンPの中心線CLを基準に対称になる。   As shown in FIG. 13, in the paste pattern P repaired by the paste pattern repair method according to the first embodiment of the present invention, the inner line L1 or the outer line L2 of the paste pattern P in the repair section is a paste. A wave shape having a predetermined pitch PT is formed along the longitudinal direction of the line L of the pattern P. At this time, the pitch PT of each wave shape that the inner line L1 or the outer line L2 of the paste pattern P has in the repair section is constant along the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P. In addition, each wave shape of the inner line L1 or the outer line L2 of the paste pattern P in the repair section is symmetric with respect to the center line CL of the paste pattern P.

以上のような本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法は、ノズル62からペースト液滴PDをリペア区間に滴下する点形塗布方式で行われるので、従来の線形塗布方式とは異なり各必要距離D1、D2を必要とせず、従来の線形塗布方式だけを適用した場合に発生するペーストパターンPの線幅Wの不良を防止することが可能であり、その結果、決まった液晶量に対応するペーストパターンPの内部面積Aを確保することができるという効果がある。   Since the paste pattern repairing method according to the first embodiment of the present invention as described above is performed by the dot coating method in which the paste droplet PD is dropped from the nozzle 62 into the repair section, what is the conventional linear coating method? Unlikely, the required distances D1 and D2 are not required, and it is possible to prevent the defect of the line width W of the paste pattern P that occurs when only the conventional linear coating method is applied. There is an effect that the internal area A of the paste pattern P corresponding to can be secured.

また、本発明の第1の実施例に係るペーストパターンのリペア方法は、リペア区間に存在するペースト量に対応するように、ペーストパターンPの線Lの長手方向及び/又はペーストパターンPの線幅方向に、ペースト液滴PDの滴下量を調節することによって、ペーストパターンPの線幅Wを一定に維持することができる。   In addition, the paste pattern repair method according to the first embodiment of the present invention can be applied to the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P and / or the line width of the paste pattern P so as to correspond to the paste amount existing in the repair section. The line width W of the paste pattern P can be kept constant by adjusting the amount of paste droplet PD dropped in the direction.

以下、図14及び図15を参照して、本発明の第2の実施例に係るペーストパターンのリペア方法に関して説明する。上述した第1の実施例で説明した部分と同一部分については同一符号を付して、説明を省略する。   Hereinafter, a paste pattern repair method according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図14に示したように、本発明の第2の実施例に係るペーストパターンのリペア方法は、リペア区間に存在するペーストの位置に対応するように、ペーストパターンの線の長手方向及び/又はペーストパターンの線幅方向に、ペースト液滴PDの滴下位置を調節する方法によりリペアを行う。   As shown in FIG. 14, in the paste pattern repair method according to the second embodiment of the present invention, the longitudinal direction of the paste pattern line and / or the paste so as to correspond to the position of the paste existing in the repair section. Repair is performed by adjusting the dropping position of the paste droplet PD in the line width direction of the pattern.

即ち、ペーストパターンPの線幅Wが基準値以下に形成された場合は、既にある程度のペーストがリペア区間に存在し、このようにリペア区間に存在するペーストの位置は、ペーストパターンPの線Lの長手方向及び/又はペーストパターンPの線幅方向に不規則である。従って、リペア区間内に不規則的に存在するペーストの位置に対応するように、即ち、ペーストパターンPの線幅Wが欠陥を有するリペア区間内でペーストが存在しない部位にペースト液滴PDが滴下されるように、滴下位置を調節することによって、ペーストパターンPの線幅Wを一定にするリペアが遂行される。   That is, when the line width W of the paste pattern P is formed below the reference value, a certain amount of paste already exists in the repair section. Thus, the position of the paste existing in the repair section is the line L of the paste pattern P. In the longitudinal direction and / or the line width direction of the paste pattern P. Accordingly, the paste droplet PD drops so as to correspond to the position of the paste irregularly present in the repair section, that is, to the portion where the paste does not exist in the repair section where the line width W of the paste pattern P is defective. As described above, the repair for making the line width W of the paste pattern P constant is performed by adjusting the dropping position.

一方、リペア区間に存在するペーストの位置によってペースト液滴PDの滴下位置を調節する方法と共に、リペア区間でペーストが存在しない空間の大きさによってペースト液滴PDの滴下量を調節する方法が並行される。即ち、リペア区間にペーストが存在しない空間がある場合であって、ペーストが存在しない空間の大きさが相対的に小さい位置には、少量のペースト液滴PD4を滴下し、ペーストが存在しない空間の大きさが相対的に大きい位置には、大量のペースト液滴PD3を滴下することができる。このように、リペア区間でペーストが存在しない空間を基準にペースト液滴PDの滴下量及び/又は滴下位置を調節することができる。このような場合、ペースト液滴PDの滴下量を調節する方法としては、上述したように、滴下されるペースト液滴PDの大きさを調節する方法(図11参照)または同一大きさを有するペースト液滴PDを滴下回数を調節しながら滴下する方法(図12参照)が適用される。   On the other hand, a method of adjusting the dropping position of the paste droplet PD according to the position of the paste existing in the repair section and a method of adjusting the dropping amount of the paste droplet PD according to the size of the space where the paste does not exist in the repair section are paralleled. The That is, when there is a space where no paste exists in the repair section, a small amount of paste droplet PD4 is dropped at a position where the size of the space where the paste does not exist is relatively small, A large amount of paste droplet PD3 can be dropped at a position where the size is relatively large. Thus, the dropping amount and / or dropping position of the paste droplet PD can be adjusted based on the space where the paste does not exist in the repair section. In such a case, as described above, as a method of adjusting the dropping amount of the paste droplet PD, as described above, a method of adjusting the size of the dropped paste droplet PD (see FIG. 11) or a paste having the same size. A method (see FIG. 12) of applying the droplet PD while adjusting the number of times of dropping is applied.

図15に示したように、本発明の第2の実施例に係るペーストパターンのリペア方法によってリペアされたペーストパターンPは、リペア区間でペーストパターンPの内側ラインL1及び外側ラインL2が有する各ウェーブ形状がペーストパターンPの中心線CLを基準として対称にならず、ペーストパターンPの内側ラインL1または外側ラインL2が有する各ウェーブ形状のピッチPT3、PT4がペーストパターンPの線Lの長手方向に沿って一定でないことがある。   As shown in FIG. 15, the paste pattern P repaired by the paste pattern repair method according to the second embodiment of the present invention includes each wave included in the inner line L1 and the outer line L2 of the paste pattern P in the repair section. The shape is not symmetric with respect to the center line CL of the paste pattern P, and the pitches PT3 and PT4 of the wave shapes of the inner line L1 or the outer line L2 of the paste pattern P are along the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P. May not be constant.

以上のような本発明の第2の実施例に係るペーストパターンのリペア方法は、リペア区間に存在するペーストの位置及び/又は量に対応して、ペーストパターンPの線Lの長手方向及び/又はペーストパターンPの線幅方向に、ペースト液滴PDの滴下位置及び/又は滴下量を調節する方式によりペーストパターンのリペアを遂行することができるので、リペア後のペーストパターンPの線幅Wを更に一定に維持することが可能で、その結果、決まった液晶量に対応するペーストパターンPの内部面積Aを一層正確に確保することができるという効果がある。   In the paste pattern repair method according to the second embodiment of the present invention as described above, the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P and / or the paste pattern P corresponds to the position and / or amount of the paste existing in the repair section. Since the paste pattern can be repaired by adjusting the dropping position and / or the dropping amount of the paste droplet PD in the line width direction of the paste pattern P, the line width W of the paste pattern P after repair is further increased. As a result, the internal area A of the paste pattern P corresponding to a predetermined amount of liquid crystal can be more accurately ensured.

以下、図16〜図22を参照して、本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法に関して説明する。上述した第1の実施例及び第2の実施例で説明した部分と同一部分については同一符号を付して、説明を省略する。   Hereinafter, a paste pattern repair method according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those described in the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図16及び図17に示したように、本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法は、リペア区間でペーストパターンPの線幅方向に複数列にペースト液滴PDを滴下する方法によりリペアを行うことができる。このような場合、リペア区間に所定量を有するペーストが存在することがあるので、リペア区間に存在するペーストの位置及び/又は量に対応するように、ペーストパターンPの線Lの長手方向及び/又はペーストパターンPの線幅方向に、ペースト液滴PDの滴下位置及び/又は滴下量を調節する方式であることが好ましい。   As shown in FIGS. 16 and 17, the paste pattern repair method according to the third embodiment of the present invention is a method of dropping paste droplets PD in a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern P in the repair section. Can be repaired. In such a case, since a paste having a predetermined amount may exist in the repair section, the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P and / or the amount and / or amount of the paste existing in the repair section Or it is preferable that it is a system which adjusts the dropping position and / or dropping amount of paste droplet PD in the line width direction of paste pattern P.

リペア区間でペーストパターンPの線幅方向に二つ以上の列にペースト液滴PDを滴下する方法を適用するために、ノズル62または基板SがペーストパターンPの線幅方向へ移動できるように構成する。   In order to apply the method of dropping the paste droplets PD in two or more rows in the line width direction of the paste pattern P in the repair section, the nozzle 62 or the substrate S can be moved in the line width direction of the paste pattern P. To do.

ペーストパターンPの線幅方向に複数列にペースト液滴PDを滴下する場合、図16に示したように、それぞれの列に同一滴下量でペースト液滴PDを滴下することが可能であり、図17に示したように、それぞれの列に相互に異なる滴下量でペースト液滴PDを滴下することもできる。図16に示したペースト液滴PDの滴下方式により形成されたペーストパターンPは、図18に示したように、ペーストパターンPの内側ラインL1及び外側ラインL2が有する各ウェーブ形状がペーストパターンPの中心線CLを基準に対称になるか、図17に示したペースト液滴PDの滴下方式により形成されたペーストパターンPは、図19に示したように、ペーストパターンPの内側ラインL1及び外側ラインL2が有する各ウェーブ形状がペーストパターンPの中心線CLを基準に非対称になる。このような滴下方式は設計条件によって適切に選択される。   When the paste droplets PD are dropped in a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern P, as shown in FIG. 16, it is possible to drop the paste droplets PD in the same drop amount in each row. As shown in FIG. 17, the paste droplets PD can be dropped into the respective rows with different drop amounts. The paste pattern P formed by the dropping method of the paste droplet PD shown in FIG. 16 has the wave shapes of the inner line L1 and the outer line L2 of the paste pattern P of the paste pattern P as shown in FIG. The paste pattern P which is symmetric with respect to the center line CL or formed by the dropping method of the paste droplet PD shown in FIG. 17 is an inner line L1 and an outer line of the paste pattern P as shown in FIG. Each wave shape of L2 is asymmetric with respect to the center line CL of the paste pattern P. Such a dripping method is appropriately selected depending on design conditions.

一方、図17に示したように、ペーストパターンPの線幅方向のそれぞれの列に相互に異なる滴下量でペースト液滴PDを滴下する場合は、ペーストパターンPの内側ラインL1が有するウェーブ形状のピッチPT4が小さくなるように、複数列中ペーストパターンPの外側ラインL2を形成する列に滴下されるペースト液滴PD3の滴下量に比べてペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列に滴下されるペースト液滴PD4の滴下量を小さくすることが好ましい。このような場合、図19に示したように、ペーストパターンPの内側ラインL1が有するウェーブ形状のピッチPT4を外側ラインL2が有するウェーブ形状のピッチPT3に比べて狭く形成することができる。また、ペーストパターンPの線幅方向に一つ列にペースト液滴PDを滴下する場合に比べて、ペーストパターンPの内側ラインL1が有するウェーブ形状のピッチPT4をさらに狭くすることが可能であり、その結果、ペーストパターンPの内部面積Aを更に精密に調節することができる。一方、ペーストパターンPの内側ラインL1に沿って滴下されるペースト液滴PD4の直径は、形成されるペーストパターンPの線幅Wの1/2以下になることが好ましく、1/4以下になることがさらに好ましい。   On the other hand, as shown in FIG. 17, in the case where the paste droplet PD is dropped on each column in the line width direction of the paste pattern P with a different drop amount, the wave shape of the inner line L1 of the paste pattern P In order to reduce the pitch PT4, it is dropped on the column forming the inner line L1 of the paste pattern P compared to the dropping amount of the paste droplet PD3 dropped on the column forming the outer line L2 of the paste pattern P in the plurality of columns. It is preferable to reduce the dropping amount of the paste droplet PD4. In such a case, as shown in FIG. 19, the wave-shaped pitch PT4 of the inner line L1 of the paste pattern P can be formed narrower than the wave-shaped pitch PT3 of the outer line L2. Further, compared to the case where the paste droplets PD are dropped in one line in the line width direction of the paste pattern P, the wave-shaped pitch PT4 of the inner line L1 of the paste pattern P can be further reduced. As a result, the internal area A of the paste pattern P can be adjusted more precisely. On the other hand, the diameter of the paste droplet PD4 dropped along the inner line L1 of the paste pattern P is preferably ½ or less of the line width W of the paste pattern P to be formed, and is ¼ or less. More preferably.

ただし、本発明は上記したような方法に限定されず、設計条件によって、複数列中ペーストパターンPの外側ラインL2を形成する列に滴下されるペースト液滴PD3の滴下量をペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列に滴下されるペースト液滴PD4の滴下量よりも少量にする方法が適用される。一方、滴下されたペースト液滴PDの滴下量を調節する方法としては、上述したように、滴下されるペースト液滴PDの大きさを調節する方法(図11参照)または同一大きさのペースト液滴PDを滴下回数を調節しながら滴下する方法(図12参照)が適用される。   However, the present invention is not limited to the above-described method, and the amount of the paste droplet PD3 dropped on the row forming the outer line L2 of the paste pattern P in the plurality of rows is set on the inner side of the paste pattern P depending on the design conditions. A method is applied in which the amount is smaller than the amount of paste droplets PD4 that are dropped onto the row forming the line L1. On the other hand, as a method for adjusting the dropping amount of the dropped paste droplet PD, as described above, the method of adjusting the size of the dropped paste droplet PD (see FIG. 11) or a paste liquid of the same size is used. A method of dropping the droplet PD while adjusting the number of times of dropping (see FIG. 12) is applied.

リペア区間でペーストパターンPの線幅方向に複数列にペースト液滴PDを滴下する方法としては、図20に示したように、ペーストパターンPの線Lの長手方向へのペースト液滴PDの滴下とペーストパターンPの線幅方向へのペースト液滴PDの滴下とを交互に、即ち、ジグザグ形状に遂行する方法91を適用することが可能であり、図21及び図22に示したように、ペーストパターンPの線Lの長手方向にペースト液滴PDを滴下し、滴下されたペースト液滴PDからペーストパターンPの線幅方向に所定間隔を維持しながら再びペーストパターンPの線Lの長手方向にペースト液滴PDを滴下する方法92、93など様々な方法を適用することができる。   As a method of dropping the paste droplets PD in a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern P in the repair section, as shown in FIG. 20, the paste droplets PD are dropped in the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P. It is possible to apply a method 91 that alternately performs the dropping of the paste droplet PD in the line width direction of the paste pattern P, that is, in a zigzag shape, as shown in FIGS. The paste droplet PD is dropped in the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P, and the longitudinal direction of the line L of the paste pattern P is again maintained while maintaining a predetermined interval from the dropped paste droplet PD in the line width direction of the paste pattern P. Various methods such as methods 92 and 93 for dropping the paste droplet PD on the surface can be applied.

図21及び図22に提示されたリペア区間でペースト液滴PDを滴下する方法において、先ず、図21に示したように、ペーストパターンPの外側ラインL2を形成する列に沿ってペースト液滴PDを滴下した後、ペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列に沿ってペースト液滴PDを滴下する方法を適用することができる。ただし、ペーストパターンPの内側ラインL1はペーストパターンPの内部面積Aを決定するための重要因子であるので、ペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列に沿ってペースト液滴PDを先に滴下してペーストパターンPの内側ラインL1を一つの基準として決定した後、ペーストパターンPの外側ラインL2を形成する列に沿ってペースト液滴PDを形成することが好ましい。特に、図22に示したように、ペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列に沿って滴下されるペースト液滴PD4の滴下量がペーストパターンPの外側ラインL2を形成する列に沿って滴下されるペースト液滴PD3の滴下量に比べて少ない場合には、ペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列に沿って滴下されるペースト液滴PDは、ペーストパターンPの内側ラインL1を優先的に決定するだけでなくペーストパターンPの外側ラインL2を形成する列に沿ってペースト液滴PDが滴下することを案内する役割を行うので、優先的にペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列に沿ってペースト液滴PDを滴下することが好ましい。   In the method of dropping the paste droplet PD in the repair section presented in FIGS. 21 and 22, first, as shown in FIG. 21, the paste droplet PD along the column forming the outer line L2 of the paste pattern P. A method of dropping the paste droplet PD along the row forming the inner line L1 of the paste pattern P can be applied. However, since the inner line L1 of the paste pattern P is an important factor for determining the inner area A of the paste pattern P, the paste droplet PD is first dropped along the column forming the inner line L1 of the paste pattern P. Then, after determining the inner line L1 of the paste pattern P as one reference, it is preferable to form the paste droplet PD along the column forming the outer line L2 of the paste pattern P. In particular, as shown in FIG. 22, the drop amount of the paste droplet PD4 dropped along the column forming the inner line L1 of the paste pattern P drops along the column forming the outer line L2 of the paste pattern P. When the amount of the paste droplet PD3 to be dropped is small, the paste droplet PD dropped along the column forming the inner line L1 of the paste pattern P preferentially uses the inner line L1 of the paste pattern P. Not only to determine, but also to guide the drop of the paste droplet PD along the column forming the outer line L2 of the paste pattern P, so that the column forming the inner line L1 of the paste pattern P preferentially It is preferable to drop the paste droplet PD along the line.

上述したような本発明の第3の実施例に係るペーストパターンのリペア方法によれば、ペーストパターンPの線幅方向に複数列にペースト液滴PDが滴下されるので、ペーストパターンPの線幅方向に一列にペースト液滴PDを滴下する方式に比べて一度に滴下されるペースト液滴PDのサイズが小さくて(ペースト液滴PDの滴下量が少なくて)ペーストパターンPの内側ラインL1または外側ラインL2が有する各ウェーブ形状のピッチPTをさらに微細に調節することが可能であり、その結果、ペーストパターンPの内部面積Aをより精密に調節することができる。   According to the paste pattern repair method according to the third embodiment of the present invention as described above, the paste droplets PD are dropped in a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern P. Compared to the method of dropping the paste droplets PD in a line in the direction, the size of the paste droplets PD dropped at a time is small (the amount of paste droplets PD dropped is small), or the inner line L1 or the outside of the paste pattern P It is possible to finely adjust the pitch PT of each wave shape included in the line L2, and as a result, it is possible to adjust the internal area A of the paste pattern P more precisely.

以下、図23〜図26を参照して、本発明の第4の実施例に係るペーストパターンのリペア方法に関して説明する。上述した第1の実施例〜第3の実施例で説明した部分と同一部分については同一符号を付して、説明を省略する。   Hereinafter, a paste pattern repair method according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those described in the first to third embodiments are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図23に示したように、本発明の第4の実施例に係るペーストパターンのリペア方法は、基板上にペースト液滴PDを滴下する点形塗布方式だけでなく基板Sとノズル62との相対位置を変化させながら、ノズル62からペーストが連続的に吐出される線形塗布方式PLを並行してリペアを行うことができる。   As shown in FIG. 23, the paste pattern repairing method according to the fourth embodiment of the present invention is not only a dot coating method in which paste droplets PD are dropped on the substrate, but also the relative relationship between the substrate S and the nozzle 62. While changing the position, the linear coating method PL in which the paste is continuously discharged from the nozzle 62 can be repaired in parallel.

例えば、図23に示したように、リペア区間で断線が比較的長い場合には、断線部分のほとんどでは線形塗布方式を適用してペーストパターンPLを形成するが、リペア区間の開始点や終了点の付近では点形塗布方式を適用してペースト液滴PDを滴下することができる。このように、点形塗布方式に線形塗布方式を並行することによって、ペーストパターンPの形成に必要な時間を短縮することができる。この場合、線形塗布方式でリペア区間の断線部位に対して先にリペアを遂行し残り部位に対して点形塗布方式でリペアを遂行したり、リペア区間の開始点や終了点の付近において点形塗布方式でリペアを遂行し断線部位に対しては線形塗布方式でリペアを遂行したり、リペア区間の開始点付近から点形塗布方式でリペアを遂行し断線部位では線形塗布方式でリペアを遂行した後リペア区間の終了点付近では点形塗布方式でリペアを遂行したりするなど、点形塗布方式によるリペアと線形塗布方式によるリペアの順序は場合によって変化することができる。   For example, as shown in FIG. 23, when the disconnection is relatively long in the repair section, the paste pattern PL is formed by applying the linear coating method in most of the disconnection portions, but the start point and end point of the repair section In the vicinity of, paste droplets PD can be dropped by applying a dot coating method. Thus, the time required for forming the paste pattern P can be shortened by making the linear coating method parallel to the dot coating method. In this case, repair is first performed on the broken part of the repair section by the linear application method, and repair is performed on the remaining part by the point application method, or a point shape is formed near the start point or end point of the repair section. Repair was performed with the application method and repair was performed with the linear application method for the disconnected part, or repair was performed with the dot application method from the vicinity of the start point of the repair section, and repair was performed with the linear application method at the disconnected part. The order of repair by the dot application method and the repair by the linear application method can be changed depending on circumstances, such as performing repair by the dot application method near the end point of the rear repair section.

このような方法によってリペアされたペーストパターンPは、図24に示したように、ペーストパターンPのリペア区間の一部でペーストパターンPの内側ラインL1または外側ラインL2が所定のピッチPTを有するウェーブ形状に形成される。   As shown in FIG. 24, the paste pattern P repaired by such a method is a wave in which the inner line L1 or the outer line L2 of the paste pattern P has a predetermined pitch PT in a part of the repair section of the paste pattern P. It is formed into a shape.

他の例として、図25に示したように、ペーストパターンPの線幅方向に複数列にペーストが塗布される場合、複数列のうちの一列は、点形塗布方式でペースト液滴PDを滴下し、複数列のうちの他の列は、線形塗布方式でペーストを塗布する方法によりリペアを遂行することができる。   As another example, as shown in FIG. 25, when the paste is applied to a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern P, one of the plurality of rows drops the paste droplet PD by the dot coating method. In addition, the other columns of the plurality of columns can be repaired by a method of applying paste by a linear application method.

ここで、ペーストパターンPの内部面積Aの正確度を向上し得るように、ペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列は点形塗布方式を適用し、ペーストパターンPの外側ラインL2を形成する列は線形塗布方式を適用する。このような場合、図26に示したように、ペーストパターンPの内側ラインL1は所定のピッチPTを有するウェーブ形状に形成され、ペーストパターンPの外側ラインL2は直線状に形成される。ただし、本発明は上述したものに限定されず、ペーストパターンPの内側ラインL1を形成する列には、線形塗布方式を適用し、ペーストパターンPの外側ラインL2を形成する列には、点形塗布方式を適用することも可能であり、この場合、ペーストパターンPの外側ラインL2が所定のピッチPTを有するウェーブ形状に形成され、ペーストパターンPの内側ラインL1は直線状に形成される。   Here, in order to improve the accuracy of the internal area A of the paste pattern P, the column forming the inner line L1 of the paste pattern P is applied with the dot coating method to form the outer line L2 of the paste pattern P. The row applies a linear application method. In such a case, as shown in FIG. 26, the inner line L1 of the paste pattern P is formed in a wave shape having a predetermined pitch PT, and the outer line L2 of the paste pattern P is formed in a straight line. However, the present invention is not limited to the above, and the linear application method is applied to the column forming the inner line L1 of the paste pattern P, and the dot pattern is applied to the column forming the outer line L2 of the paste pattern P. An application method can also be applied. In this case, the outer line L2 of the paste pattern P is formed in a wave shape having a predetermined pitch PT, and the inner line L1 of the paste pattern P is formed in a straight line.

一方、点形塗布方式の場合は、リペア区間に存在するペーストの位置及び/又は量に対応するように、ペーストパターンの線の長手方向及び/又はペーストパターンの線幅方向に、ペースト液滴PDの滴下位置及び/又は滴下量を調節する方式であることが好ましい。   On the other hand, in the case of the dot application method, the paste droplet PD is disposed in the longitudinal direction of the paste pattern line and / or in the line width direction of the paste pattern so as to correspond to the position and / or amount of the paste existing in the repair section. It is preferable that the dropping position and / or the dropping amount be adjusted.

以上のような本発明の第4の実施例に係るペーストパターンのリペア方法は、点形塗布方式と線形塗布方式とを並行することによって、点形塗布方式の長所を利用することが可能であり、リペア区間についてはリペアを遂行するために掛かる時間を短縮することができるという効果がある。   The paste pattern repair method according to the fourth embodiment of the present invention as described above can use the advantages of the dot coating method by paralleling the dot coating method and the linear coating method. In the repair section, there is an effect that the time required for performing the repair can be shortened.

以上、本発明に係るペーストパターンのリペア方法は、ペースト液滴PDをリペア区間に滴下する点形塗布方式により行われるので、従来のように線形塗布方式だけを適用してリペアを遂行したときに発生したリペア後のペーストパターンPの線幅Wが基準値以上に増加する問題を防止することが可能で、ペーストパターンPの線幅Wが一定になるようにリペアして決まった液晶量に対応するペーストパターンPの内部面積Aを確保することができるという効果がある。   As described above, since the paste pattern repair method according to the present invention is performed by the dot coating method of dropping the paste droplet PD into the repair section, when the repair is performed by applying only the linear coating method as in the prior art. It is possible to prevent a problem that the line width W of the generated paste pattern P after repair increases beyond the reference value, and it is possible to cope with the liquid crystal amount determined by repairing the paste pattern P so that the line width W is constant. There is an effect that the internal area A of the paste pattern P to be secured can be secured.

本発明の各実施例で説明した技術的思想はそれぞれ独立的に実施することが可能で、相互に組み合わせて実施することができる。且つ、本発明は図面及び発明の詳細な説明に記載された実施例に基づいて説明したが、これは例示的なものに過ぎず、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であればそれから多様な変形及び均等な他の実施例が可能である。従って、本発明の技術的保護範囲は添付の特許請求の範囲により決めるべきである。   The technical ideas described in the embodiments of the present invention can be implemented independently and can be implemented in combination with each other. In addition, the present invention has been described based on the embodiments described in the drawings and the detailed description of the invention. However, this is only an example and a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs. Various modifications and other equivalent embodiments are then possible. Therefore, the technical protection scope of the present invention should be determined by the appended claims.

S:基板
P:ペーストパターン
PD:ペースト液滴
S: Substrate P: Paste pattern PD: Paste droplet

Claims (15)

(a) 基板上に形成されたペーストパターンの欠陥可否を測定する段階と、
(b) 上記(a)段階でペーストパターンの欠陥が測定されると、欠陥が発生した区間をリペア区間に設定する段階と、
(c) 上記(b)段階で設定されたリペア区間に点形塗布方式によりペースト液滴を滴下する段階と、
を順次行うことを特徴とするペーストパターンのリペア方法。
(A) measuring the defect possibility of the paste pattern formed on the substrate;
(B) When the defect of the paste pattern is measured in the step (a), a stage in which the defect occurs is set as a repair section;
(C) dropping the paste droplets by the dot coating method in the repair section set in the step (b) above;
A paste pattern repairing method characterized by sequentially performing steps.
上記(c)段階は、上記リペア区間に存在するペーストの量に対応するように、ペーストパターンの線の長手方向及び/又はペーストパターンの線幅方向に、ペースト液滴の滴下量を調節することを特徴とする請求項1に記載のペーストパターンのリペア方法。   In the step (c), the drop amount of the paste droplet is adjusted in the longitudinal direction of the paste pattern line and / or the line width direction of the paste pattern so as to correspond to the paste amount existing in the repair section. The method for repairing a paste pattern according to claim 1. 上記ペースト液滴の滴下量の調節は、滴下されるペースト液滴の大きさを変化させる過程で行われることを特徴とする請求項2に記載のペーストパターンのリペア方法。   3. The paste pattern repair method according to claim 2, wherein the amount of paste droplets dropped is adjusted in a process of changing the size of the dropped paste droplets. 上記ペースト液滴の滴下量の調節は、同一大きさのペースト液滴の滴下回数を変化させる過程で行われることを特徴とする請求項2に記載のペーストパターンのリペア方法。   3. The paste pattern repair method according to claim 2, wherein the amount of paste droplets dropped is adjusted in a process of changing the number of paste droplets having the same size. 上記(c)段階は、上記リペア区間に存在するペーストの位置に対応するように、ペーストパターンの線の長手方向及び/又はペーストパターンの線幅方向に、滴下されるペースト液滴の滴下位置を調節することを特徴とする請求項1に記載のペーストパターンのリペア方法。   In the step (c), the dropping position of the paste droplet to be dropped is set in the longitudinal direction of the paste pattern line and / or in the line width direction of the paste pattern so as to correspond to the position of the paste existing in the repair section. The paste pattern repair method according to claim 1, wherein adjustment is performed. 上記(c)段階は、ペーストパターンの線幅方向に一つ以上の列でペースト液滴を滴下することを特徴とする請求項1に記載のペーストパターンのリペア方法。   The method of claim 1, wherein the step (c) includes dropping the paste droplets in one or more rows in the line width direction of the paste pattern. 上記(c)段階は、ペーストパターンの線幅方向に複数列にペースト液滴を滴下し、
上記複数列のうちペーストパターンの内側ラインを形成する列に沿って滴下されるペースト液滴の滴下量とペーストパターンの外側ラインを形成する列に沿って滴下されるペースト液滴の滴下量とは、異なることを特徴とする請求項6に記載のペーストパターンのリペア方法。
In step (c), paste droplets are dropped in a plurality of rows in the line width direction of the paste pattern,
What is the drop amount of the paste droplets dropped along the row forming the inner line of the paste pattern and the drop amount of the paste droplets dropped along the row forming the outer line of the paste pattern among the plurality of rows? The paste pattern repair method according to claim 6, wherein the paste patterns are different.
上記ペーストパターンの内側ラインを形成する列に沿って滴下されるペースト液滴の直径は、形成されるペーストパターンの線幅の1/2以下であることを特徴とする請求項6に記載のペーストパターンのリペア方法。   The paste according to claim 6, wherein a diameter of the paste droplet dropped along a line forming an inner line of the paste pattern is ½ or less of a line width of the paste pattern to be formed. Pattern repair method. (d) 上記リペア区間の一部に対して、線形塗布方式によりペーストを連続吐出してペーストを塗布する段階を更に行うことを特徴とする請求項1に記載のペーストパターンのリペア方法。 (D) The paste pattern repairing method according to claim 1, further comprising the step of applying the paste by continuously discharging the paste by a linear coating method to a part of the repair section. 第1基板及び第2基板を用意する段階と、
上記第1基板及び上記第2基板のうちの少なくとも一方にペーストを塗布し、請求項1〜9中何れか一つの項に記載のペーストパターンのリペア方法を利用してペーストパターンのリペアを遂行する段階と、
上記第1基板及び上記第2基板のうちの少なくとも一方に液晶を滴下する段階と、
上記第1基板及び上記第2基板を相互に貼り合せる段階と、
を順次行うことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
Providing a first substrate and a second substrate;
A paste is applied to at least one of the first substrate and the second substrate, and the paste pattern is repaired using the paste pattern repair method according to claim 1. Stages,
Dropping liquid crystal on at least one of the first substrate and the second substrate;
Bonding the first substrate and the second substrate to each other;
A method of manufacturing a liquid crystal display panel, characterized in that the steps are sequentially performed.
基板上に形成されたペーストパターンの欠陥可否を測定する段階と、ペーストパターンの欠陥が測定されると欠陥が発生した区間をリペア区間として設定する段階と、設定されたリペア区間に点形塗布方式によりペースト液滴を滴下する段階と、を順次行うペーストパターンのリペア方法によりリペアされたペーストパターンを有する基板。   A step of measuring whether or not the paste pattern formed on the substrate is defective, a step of setting a section where the defect occurs when the defect of the paste pattern is measured, and a dot coating method in the set repair section A substrate having a paste pattern repaired by a paste pattern repair method that sequentially performs the step of dropping paste droplets by the step of: リペアされたリペア区間で、上記ペーストパターンの内側ライン及び/又は外側ラインは所定のピッチを有するウェーブ形状に形成されることを特徴とする請求項11に記載のペーストパターンを有する基板。   The substrate having a paste pattern according to claim 11, wherein the inner line and / or the outer line of the paste pattern is formed in a wave shape having a predetermined pitch in the repaired section. リペアされたリペア区間で、上記ペーストパターンの内側ラインまたは外側ラインのウェーブ形状のピッチは、上記ペーストパターンの線の長手方向に沿って相互に異なることを特徴とする請求項12に記載のペーストパターンを有する基板。   The paste pattern according to claim 12, wherein in the repaired repaired section, the pitch of the wave shape of the inner line or the outer line of the paste pattern is different from each other along the longitudinal direction of the line of the paste pattern. Having a substrate. リペアされたリペア区間において、上記ペーストパターンの内側ラインのウェーブ形状のピッチと上記ペーストパターンの外側ラインのウェーブ形状のピッチとは、相互に異なることを特徴とする請求項12に記載のペーストパターンを有する基板。   The paste pattern according to claim 12, wherein the wave pattern pitch of the inner line of the paste pattern and the wave shape pitch of the outer line of the paste pattern are different from each other in the repaired repair section. Having a substrate. 第1基板及び第2基板を包含し、
上記第1基板及び上記第2基板中少なくとも一つは請求項11〜14中何れか一つの項に係るペーストパターンを有する基板であって、
上記第1基板及び上記第2基板中少なくとも一つには液晶が滴下され、
上記第1基板及び上記第2基板の相互に貼り合せることにより製造されることを特徴とする液晶表示パネル。
Including a first substrate and a second substrate;
At least one of the first substrate and the second substrate is a substrate having a paste pattern according to any one of claims 11 to 14,
Liquid crystal is dropped on at least one of the first substrate and the second substrate,
A liquid crystal display panel manufactured by bonding the first substrate and the second substrate to each other.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012050968A (en) * 2010-09-03 2012-03-15 Shibaura Mechatronics Corp Device for applying paste and method of applying the same
JP2022526211A (en) * 2019-02-01 2022-05-24 エックスティーピーエル エス.アー. How to print fluid

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11329221A (en) * 1998-05-15 1999-11-30 Canon Inc Coating method of paste material and image display device using same
JP2001252606A (en) * 2000-03-10 2001-09-18 Hyper Photon Systens Inc Fine pattern forming device and fine pattern repairing device
KR100905794B1 (en) * 2003-01-20 2009-07-02 엘지전자 주식회사 A paste spread unit of repair system for Flat Panel Display
JP4675611B2 (en) * 2004-11-15 2011-04-27 株式会社ブイ・テクノロジー Liquid material supply device
KR20060083770A (en) * 2005-01-18 2006-07-21 엘지전자 주식회사 Dam for semiconductor package and forming method thereof
KR20090049869A (en) * 2007-11-14 2009-05-19 엘지디스플레이 주식회사 Method of fabricating liquid crystal display device
KR100992903B1 (en) * 2008-08-08 2010-11-09 주식회사 탑 엔지니어링 Method for repairing substrate

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012050968A (en) * 2010-09-03 2012-03-15 Shibaura Mechatronics Corp Device for applying paste and method of applying the same
JP2022526211A (en) * 2019-02-01 2022-05-24 エックスティーピーエル エス.アー. How to print fluid
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