JP2011012203A5 - - Google Patents

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上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を有するものである。
(1)(A)ポリブチレンテレフタレート樹脂および(B)ポリカーボネート樹脂を少なくとも1カ所以上もしくは一時的に樹脂圧力が2.0MPa以上となる領域もしくは時間が存在する条件下で溶融混練し、スピノーダル分解による相分離を経るすることを特徴とするポリマーアロイの製造方法。
(2)超臨界流体または亜臨界液体の存在下で溶融混練することを特徴とする(1)に記載のポリマーアロイの製造方法。
(3)溶融混練を二軸押出機で行うことを特徴とする(1)または(2)に記載のポリマーアロイの製造方法。
(4)前記超臨界流体または亜臨界液体が二酸化炭素、または窒素から選ばれた1種以上を含有することを特徴とする(2)または(3)に記載のポリマーアロイの製造方法。
(5)(A)ポリブチレンテレフタレート樹脂、(B)ポリカーボネート樹脂および(C)テレフタル酸単位を主とするジカルボン酸単位とエチレングリコール単位および1,4−シクロヘキサンジメタノール単位を主とするグリコール単位からなり、そのエチレングリコール単位(I)と1,4−シクロヘキサンジメタノール単位(II)のモル比[(I)/(II)]が1より小さい非晶ポリエステル樹脂を溶融混練することを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載のポリマーアロイの製造方法。
(6)(A)ポリブチレンテレフタレート樹脂および(B)ポリカーボネート樹脂からなり、構造周期が10nm〜500nmの両相連続構造であるポリマーアロイにおいて、(A)ポリブチレンテレフタレート樹脂相と(B)ポリカーボネート樹脂相の、界面積密度が10nm −1 以上であることを特徴とするポリマーアロイ
(7)構造周期が10nm以上100nm未満の場合は小角X線散乱測定において、構造周期が100nm以上500nm以下の場合は光散乱測定において、散乱光の波数に対して散乱強度をプロットしたスペクトルにおけるピーク半値幅(a)、該ピークの極大波数(b)とするとき0<(a)/(b)≦1.2であることを特徴とする(6)記載のポリマーアロイ。
(8)前記ポリマーアロイが、少なくとも1カ所以上もしくは一時的に樹脂圧力が2.0MPa以上となる領域もしくは時間が存在する条件下での溶融混練を経、スピノーダル分解による相分離を経て得られたものである(6)または(7)に記載のポリマーアロイ。
(9)前記溶融混練を超臨界流体または亜臨界液体の存在下で行うことにより得られたものである(6)〜(8)のいずれかに記載のポリマーアロイ。
(10)前記超臨界流体または亜臨界液体が二酸化炭素、または窒素から選ばれた1種以上を含有することを特徴とする(9)に記載のポリマーアロイ。
(11)(A)ポリブチレンテレフタレート樹脂および(B)ポリカーボネート樹脂に、さらに(C)テレフタル酸単位を主とするジカルボン酸単位とエチレングリコール単位および1,4−シクロヘキサンジメタノール単位を主とするグリコール単位からなり、そのエチレングリコール単位(I)と1,4−シクロヘキサンジメタノール単位(II)のモル比[(I)/(II)]が1より小さい非晶ポリエステル樹脂を含むことを特徴とする(6)〜(10)のいずれかに記載のポリマーアロイ。
(12)(6)〜(11)のいずれかに記載のポリマーアロイからなる成形品。
(13)成形品が射出成形品、フィルムまたはシートである(12)に記載の成形品。

Claims (13)

  1. (A)ポリブチレンテレフタレート樹脂および(B)ポリカーボネート樹脂を少なくとも1カ所以上もしくは一時的に樹脂圧力が2.0MPa以上となる領域もしくは時間が存在する条件下で溶融混練し、スピノーダル分解による相分離を経ることを特徴とするポリマーアロイの製造方法。
  2. 超臨界流体または亜臨界液体の存在下で溶融混練することを特徴とする請求項1に記載のポリマーアロイの製造方法。
  3. 溶融混練を二軸押出機で行うことを特徴とする請求項1または2に記載のポリマーアロイの製造方法。
  4. 前記超臨界流体または亜臨界液体が二酸化炭素、または窒素から選ばれた1種以上を含有することを特徴とする請求項2または3に記載のポリマーアロイの製造方法。
  5. (A)ポリブチレンテレフタレート樹脂、(B)ポリカーボネート樹脂および(C)テレフタル酸単位を主とするジカルボン酸単位とエチレングリコール単位および1,4−シクロヘキサンジメタノール単位を主とするグリコール単位からなり、そのエチレングリコール単位(I)と1,4−シクロヘキサンジメタノール単位(II)のモル比[(I)/(II)]が1より小さい非晶ポリエステル樹脂を溶融混練することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリマーアロイの製造方法。
  6. (A)ポリブチレンテレフタレート樹脂および(B)ポリカーボネート樹脂からなり、構造周期が10nm〜500nmの両相連続構造であるポリマーアロイにおいて、(A)ポリブチレンテレフタレート樹脂相と(B)ポリカーボネート樹脂相の、界面積密度が10nm −1 以上であることを特徴とするポリマーアロイ。
  7. 構造周期が10nm以上100nm未満の場合は小角X線散乱測定において、構造周期が100nm以上500nm以下の場合は光散乱測定において、散乱光の波数に対して散乱強度をプロットしたスペクトルにおけるピーク半値幅(a)、該ピークの極大波数(b)とするとき0<(a)/(b)≦1.2であることを特徴とする請求項6記載のポリマーアロイ。
  8. 前記ポリマーアロイが、少なくとも1カ所以上もしくは一時的に樹脂圧力が2.0MPa以上となる領域もしくは時間が存在する条件下での溶融混練を経、スピノーダル分解による相分離を経て得られたものである請求項6または7に記載のポリマーアロイ。
  9. 前記溶融混練を超臨界流体または亜臨界液体の存在下で行うことにより得られたものである請求項6〜8のいずれか1項に記載のポリマーアロイ。
  10. 前記超臨界流体または亜臨界液体が二酸化炭素、または窒素から選ばれた1種以上を含有することを特徴とする請求項9に記載のポリマーアロイ。
  11. (A)ポリブチレンテレフタレート樹脂および(B)ポリカーボネート樹脂に、さらに(C)テレフタル酸単位を主とするジカルボン酸単位とエチレングリコール単位および1,4−シクロヘキサンジメタノール単位を主とするグリコール単位からなり、そのエチレングリコール単位(I)と1,4−シクロヘキサンジメタノール単位(II)のモル比[(I)/(II)]が1より小さい非晶ポリエステル樹脂を含むことを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項に記載のポリマーアロイ。
  12. 請求項6〜11のいずれか1項に記載のポリマーアロイからなる成形品。
  13. 成形品が射出成形品、フィルムまたはシートである請求項12に記載の成形品。
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