JP2011007804A - 高いスループットを有する結晶形スクリーニングワークステーションおよびその使用方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】自動化された結晶形スクリーニングワークステーションと接続して操作可能な濾過アッセンブリの提供。
【解決手段】濾過アッセンブリは流体移動制御器とサンプリングニードルとの間に介在し、第1バルブと第2バルブとを備え、各バルブが内側通路と第1ポート、第2ポート、第3ポートを有する。濾過ラインが第1バルブと第2バルブとの間に介在して第1バルブの第2ポートと第2バルブの第2ポートとを流体連通し、濾過材は流体圧の方向よらず流体を濾過できる。迂回ラインが、第1バルブと第2バルブとの間に介在して、第1バルブの第3ポートと第2バルブの第3ポートとを流体連通している。アクチュエーターが第1バルブの内側通路を、第1位置と第2位置との間で切り替える。ここで第1位置は第1ポートと第2ポートとの間の内側通路を通る流体経路を提供し、一方、第2位置は第1ポートと第3ポートとの間の内側通路を通る流体経路を提供する。
【選択図】図3

Description

本発明は、液体物質を調製および分析するための方法および装置に関し、より詳しくは、結晶形の成長およびスクリーニングを自動化するための方法および装置に関する。
薬剤研究の分野で、化学者は、最高純度の材料に結びつくような最適な実験条件(たとえば試薬、温度)を探求している。このなかで最もよく選択されるルートでは、薬剤物質の結晶形を発生させて同物質の精製を行う。薬剤は多様な形で結晶する可能性を有することがよく知られている。これらの形の違いは、結晶格子の単位格子中で薬剤分子が有する空間方向性にあり、さらに場合によっては、格子構造内への溶剤分子の混入とその位置にある。薬剤物質の結晶化方法を評価するための研究活動が盛んに行われている。なぜならば、薬剤の結晶形は、i)薬剤がいかに急速に溶解するか、ii)薬剤がどれほど安定するか、iii)薬剤がいかに簡単に調合物として製造されるかということに、重要な影響を及ぼしうるからである。つまり、薬剤が身体の適切な領域で溶解しなければ、身体はこの薬剤を適切に吸収することができず、薬剤が目標を達成する見込みがたたなくなる。また、薬剤が安定していなければ、この生成物の保存寿命が短くなるおそれがある。そしてこの薬剤が簡単に調合物に製造されなければ、開発費が大幅に膨らむ場合も生じてくる。
結晶形をスクリーニングするプロトコルには一般的に、(1)薬剤を溶剤媒体に溶解すること、(2)溶剤を蒸発させ、薬剤/溶剤の混合物を冷却し、あるいは逆溶剤を添加してこの溶剤媒体中での薬剤の過飽和度を高めること、(3)できあがった生成物を、偏光顕微鏡検査法、熱分析、ラマン分光法、およびX線粉末回析などの手法を用いて、特性を知ることが、含まれる。溶剤に溶解する薬剤量を測定することによって、この溶剤の溶媒和力の程度を判断する手段が提供される。溶剤の溶媒和力の程度は、引き続いて行われる結晶化において、有用な情報となる。最適な結晶形を製造するために、行われなければならない個々の実験は、数百、あるいは数千にものぼるかもしれない。さらに残念なことに、スクリーニングはほとんどの場合、手作業で行わなければならない。したがってこのスクリーニングプロセスは、非常に時間をかけて労働集約型で行われているのが現状である。
したがって当業者であれば認識しているように、結晶形のスクリーニングプロセスに必要とされる人手の介入の程度を減らしたうえでこのプロセスの精密度、効率、信頼性および再現性を高めるために、このプロセスの自動化を高めていくことが必要である。さらにまた、結晶形の調製、成長およびその場での分析を組み込むような単一装置に対する必要性も、認められている。本発明は、以下に好適な実施の形態および方法に関して述べるように、これらの必要性を満たすように提供されたものである。
本発明によれば、第1の実施形態として流体ハンドリングシステムで使用する濾過アッセンブリが提供されている。この濾過アッセンブリは、吸引、正方向への変位、ぜん動、あるいは他の流体移動方法などのいずれの影響を受けたときにも、流体を移送するようになっている。この濾過アッセンブリは、第1バルブと第2バルブとを備え、それぞれのバルブが、内側通路と、第1ポート、第2ポートおよび第3ポートとを有する。濾過ラインが、第1バルブと第2バルブとの間に介在して、第1バルブの第2ポートと第2バルブの第2ポートとを流体的に連通している。濾過材がこの濾過ラインに配置されており、濾過ラインを通って流れる薬剤含有懸濁液を濾過するようになっている。この濾過材は、流体圧が正負のいずれの方向にかかっても、流体を濾過することができる。迂回ラインが、第1バルブと第2バルブとの間に介在して、第1バルブの第3ポートと第2バルブの第3ポートとを流体的に連通している。アクチュエーターが、第1バルブの内側通路を、第1位置と第2位置との間で切り替える。ここで第1位置は第1ポートと第2ポートとの間の内側通路を通る流体経路を提供し、一方、第2位置は第1ポートと第3ポートとの間の内側通路を通る流体経路を提供するものである。
濾過アッセンブリは、液体ハンドリングシステム内に一体化されて、結晶形スクリーニングワークステーションを構成している。ここで、ダイリューションアッセンブリが提供され、このアッセンブリの有するバルブまたはマニホールドは、シリンジ、溶剤送込みラインおよび移送ラインと連通している。この移送ラインは、濾過アッセンブリの第1バルブの第1ポートに接続している。サンプリングニードルは第3バルブと連通していて、支持部材上に配設されている。この支持部材は、プログラムされた命令に対応して三次元空間で可動である。ワークステーションはまたサンプル収容アッセンブリを含み、これは流体容器の列を保持するようになっている。そしてこの流体容器には、サンプリングニードルが出入りすることができるようになっている。
本発明の別の実施の形態では、結晶形スクリーニングワークステーションは、第1ラックホルダーに可動的に配設された複数個のラックを備えており、それぞれのラックが、複数個のベッセルを保持するようになっている。サンプリングニードルは可動的に、自動化された第1アームアッセンブリに配設されている。自動化された第1アームアッセンブリは、ラック全体のベッセル内で延びる経路に沿って、サンプリングニードルのプログラム可能なマニピュレーションを実行するようになっている。流体移動制御器を設けて、サンプリングニードルを通って、流体を、ラックのベッセルから抜き出し、またそこに送る。第1バルブは、移送ラインを介して、流体移動制御器と流体的に連通しており、流体移動制御器とサンプリングニードルとの間に介在している。一方、第2バルブは、サンプリングニードルと流体的に連通している。そして濾過ラインは、第1バルブと第2バルブとの間に介在し、濾過材と連通している。また、迂回ラインは、第1バルブと第2バルブとの間に介在している。第1バルブと第2バルブとは、移送ラインとサンプリングニードルとの間に濾過ラインを通る第1流体導管と、移送ラインとサンプリングニードルとの間に迂回ラインを通る第2流体導管とを、交互に成すように、調整可能になっている。
本発明の第2の実施形態のワークステーションは、第2ラックホルダーと、自動化された第2アームアッセンブリとを備えている。自動化された第2アームアッセンブリは、プログラム可能なマニピュレーションを、ラックに対して実行するようになっている。このマニピュレーションの実行は、ラックを、第1ラックホルダーに設置し、またそこから取り出すこと、第2ラックホルダーに設置し、またそこから取り出すこと、第1ラックホルダーに移送し、またそこから移送すること、第2ラックホルダーに移送し、またそこから移送することを含む。第1ラックホルダーおよび第2ラックホルダーは別々のユニットでも、単一のユニットのように互いに隣接しあって配置されていてもよい。異なる種類のラックが、種々のバイアルやウェルを含み、ラックホルダー内に装入されて、その結果、多様な結晶化および分析方法を、ワークステーションに提供された薬剤サンプルで行うことができるようになった。
本発明はまた、結晶形スクリーニングのための薬剤の結晶形の調製方法も提供している。提供された濾過アッセンブリは、第1バルブおよび第2バルブと、濾過材付きの濾過ラインと、迂回ラインとを有する。濾過アッセンブリの各バルブは、第1ポート、第2ポートおよび第3ポートを有する。濾過ラインは、第1バルブの第2ポートと、第2バルブの第2ポートとの間に延びる。一方、迂回ラインは、第1バルブの第3ポートと第2バルブの第3ポートとの間に延びる。そして、ある質量の薬剤が複数個の第1ベッセル内に収容されて提供される。複数個の第1ベッセルに、ある容量の溶剤が添加され、その質量の薬剤の一部を溶解し、濾過されていない溶液を生成する。第1ベッセルは攪拌され、その質量の薬剤の溶解を高める。第1バルブおよび第2バルブが、第2バルブの第1ポートから、濾過ラインを通って、そして第1バルブの第1ポートまでの流体経路を成すように、調整される。これによって、第1バルブおよび第2バルブは、濾過モードに設定される。次いで、複数種の所定量の濾過されていない溶液が、第1ベッセルから抜き出され、第2バルブの第1ポート、濾過ラインおよび濾過材を通って流されると、固体相の薬剤質量が実質的に無い濾液溶液が製造される。この濾液溶液は、濾過材から第1バルブの第1ポートを通って、この第1バルブの第1ポートと連通している流体保持容器内に流される。それから、第1バルブおよび第2バルブが、第1バルブの第1ポートから、迂回ラインを通って、そして第2バルブの第1ポートまでの流体経路を成すように、調整される。これによって、第1バルブおよび第2バルブは、迂回モードに設定される。この濾液溶液は、流体保持容器から、迂回ラインを通って、そして第2バルブの第1ポートまで、流される。最終的に、複数種の所定量の濾液溶液が、第2バルブの第1ポートから、複数個の第2ベッセルに分配される。
したがって本発明の目的は、薬剤サンプルの調製、結晶化、結晶形のスクリーニングおよび溶解度のスクリーニングに関わる処理工程のいくつかを自動化できるような装置、およびこのような装置を使用するための方法を提供することである。
本発明のさらなる目的は、濾過タスクばかりでなく液体ハンドリングタスクにも使用できるような、濾過アッセンブリを提供することである。
本発明の別の目的は、単一のサンプリング計器で、薬剤サンプルの調製、移送、結晶化、結晶形スクリーニング、および溶解度スクリーニングができるような装置を提供することである。
本発明の目的のいくつかは上記に述べたが、以下に最良の形態として説明されるように、添付図面と関連させて、この説明が進められるにしたがって、他の目的も明らかになろう。
従来の液体ハンドリング装置の斜視図である。 図1に示す従来の液体ハンドリング装置の別の斜視図である。 本発明による濾過アッセンブリの側面図である。 図3に示す濾過アッセンブリの流れを示した図である。 本発明の第1の実施の形態による結晶形スクリニーングワークステーションの側面図である。 図5に示すワークステーションの斜視図である。 本発明によるラックの構造の平面図である。 本発明で使用する超音波ラックの斜視図である。 本発明によるラックの第2の構造の平面図である。 本発明の第2の実施の形態による結晶形スクリニーングワークステーションの平面図である。 本発明の第3の実施の形態による結晶形スクリニーングワークステーションの平面図である。
本発明の第1の実施の形態は、既存の液体ハンドリング装置を変形したものである。本発明をよりよく理解することができるように、先ず、既存の装置の従来の態様および通常の適用例を説明してから、次にその変形例である、結晶形スクリーニングおよび溶解度測定の自動化に適した本願の態様について述べることとする。
図1および図2は、全体をSDとして表した、特に適切な液体ハンドリングあるいはサンプリング装置について示したもので、この装置を発展したものが、本発明の第1の実施の形態である。サンプリング装置SDは、ギルソンメディカルエレクトロニクス社(Gilson Medical Electronics, Inc.)から入手できる、GILSON 232A Automatic Sample Processor and Injector(すなわち、GILSON Autosampler)として、公知のものである。サンプリング装置SDは一般的にサンプルの調製に使用され、前もって書き込まれたソフトウエアによってプログラム可能で、その結果、広い範囲の液体取扱いタスクや調製タスクを行うものである。必要であれば、サンプリング装置SDはたとえば、電気的な入力/出力インタフェース(図示せず)を備え、適切な液体クロマトグラフィー装置と連通できるようになっていてもよい。
サンプリング装置SDの製造者の本来の意図に応じて、全体をDMとして表したダイリューションモジュールが提供される。これは、Dilutor401として知られており、サンプリング装置SDのいろいろな箇所における液体の移動を制御するのに使用されている。バルブ12がダイリューションモジュールDMに配設され、そこからシリンジ14が下がっている。本技術分野でよく知られているように、移動可能な境界面がシリンジ14内に配置され、ステップモータとそれに関連するドライブユニット(図示せず)とによって作動され、サンプリング装置SDの流体導管に対して吸引および正圧の両方を提供している。このような作動は、サンプリング装置SD内にプログラムしておいてもよい。好ましくはPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)で成形されている溶剤送込み管16は、バルブ12に接続され、サンプリング装置SDにリンス溶剤を供給するようになっている。
サンプリング装置SDは、メインフレーム30を有している。ラックホルダー32は、このメインフレーム30に取り付けられ、ラック保持バー34と一連のラックアダプタープレート36との間に延びている。図1に示されているように、ラック保持バー34とラックアダプタープレート36とを位置合わせすることによって、複数のラックRがラックホルダー32上に配設される。ラックRは、典型的にはアルミニウムかポリプロピレンのいずれかから成形されるが、所望の適用例に合わせて多種類のラックRが利用できる。それぞれのラックRは、様々なサイズのバイアル、試験管あるいはその他の管を保持するための、ウェルまたは孔39の列を有し、試薬および液体物質のサンプル等を収容するようになっている。
メインフレーム30にはまた、全体をLHとして表した液体ハンドリングサブアッセンブリも、取り付けられている。この液体ハンドリングサブアッセンブリLHは、水平方向のアーム42と、垂直方向のアーム44とを有する。水平方向のアーム42は、メインフレーム30内に配設されたトラック46上に、滑動可能に設けられている。別のトラック48が水平方向のアーム42上に形成されており、このトラック48上に、垂直方向のアーム44が滑動可能に設けられている。全体を50として表したニードルサブアッセンブリが、垂直方向のアーム44の垂直方向に配置されたトラック49に、可動的に配設されている。ニードルサブアッセンブリ50は、ニードルホルダー52を介して垂直方向のアーム44に連結されたサンプリングニードルSNを有する。このサンプリングニードルSNを用いて、液体物質を、ラックR全体およびラックRに近接した種々の位置へ装入し、またこれらの位置から抜き出す。移送管54は、PTFEで成形されていると好ましい。この移送管54は、サンプリングニードルSNとダイリューションモジュールDMのバルブ12との間に流体連通を提供している。メインフレーム30内に配置されるステップモータとそれに関連するドライブユニット(図示せず)とが、液体ハンドリングサブアッセンブリLHを作動させる。ダイリューションモジュールDMの場合のように、この作動は、サンプリング装置SDと連動するソフトウエアにより制御される。
かくして、水平方向のアーム42、垂直方向のアーム44、およびニードルサブアッセンブリ50の動作を介して、サンプリングニードルSNの動作をプログラムすることができ、これにより、溶剤をラックRに配置されたバイアルに移送したり、液体物質を1つのバイアルから他のバイアルに移送したりといったような、種々の液体ハンドリングタスクやサンプル調製タスクを達成することができる。遠隔キーボードもしくはコンピュータ60を、リボンケーブル62を介して、サンプリング装置SDに接続しておけば、命令をメモリーに入れたり、前もって書き込まれたプログラムを呼び出したり、その他、サンプリング装置SDの操作を制御したりすることなどに、用いることができる。
サンプリング装置SDはまた、リンスステーション70も含み、このリンスステーションによって、意図された処理での作業工程の合間に、廃棄物を排除し、サンプリング装置SDの流体経路の浄化を行う。リンスステーション70は、メインフレーム30に配設されたポリプロピレン製の前方トラフ72を有する。この前方トラフ72はラックRと平行に延びており、サンプリングニードルSNが出入りすることができるようになっている。ドレイン管74が前方トラフ72から下がっている。射出バルブ78につながる注入ポート76にも、サンプリングニードルSNが出入りすることができるようになっている。必要であれば、注入ポート76と射出バルブ78とを利用して、液体クロマトグラフィー(HPLC)装置へサンプルを送ることもできる。
当業者には理解されることであろうが、上述したサンプリング装置SDは、多種類の液体ハンドリング処理および調製処理にとって、非常に有用である。しかし、潜在的な薬剤価値を有する薬剤の結晶形の場合において、その調製およびスクリーニングを行うときに必要な多くの処理工程で効果を発揮するには、上述したサンプリング装置SDは、都合が悪くまたそのようなことは意図されてもいない。したがって本出願人は、これらの処理工程の多くを自動化するために、サンプリング装置SDの種々の構成部品についてのプログラム可能性を利用しながら、装置SDを大幅に変形した。そしてこの変形が、効率的な結晶形スクリーニングワークステーションCWで期待以上の驚くべき結果をもたらしたのである。以下、この構造および操作について、特に図3から図9を参照しながら説明することとする。
結晶形スクリーニングワークステーションCWは、全体をFAとして表した、新規のデュアルバルブ式の濾過アッセンブリを組み込むことによって、実現される。この濾過アッセンブリFAは、ダイリューションモジュールDMとサンプリングニードルSNとの間に設けられ、サンプリング装置SDに一体化されている。濾過アッセンブリFAはまた、第1バルブV1と第2バルブV2とを有する。バルブV1、V2は、それぞれ三方弁で、バルブV1が第1ポート81、第2ポート82および第3ポート83を有し、バルブV2が第1ポート84、第2ポート85および第3ポート86を有するのが好ましい。ダイリューションモジュールDMからの移送管54が、第1バルブV1の第1ポートに接続されている。濾過管88が、バルブV1の第2ポート82とバルブV2の第2ポート85との間に接続されており、この濾過管88を用いて、濾過ラインFLが提供されている。同様に、迂回管89が、バルブV1の第3ポート83とバルブV2の第3ポート86との間に接続されており、この迂回管89を用いて、迂回ラインBLが提供されている。0.125インチの外径と、0.06インチまたは0.03インチの内径とを有し、必要な内側容積に応じて選択された長さを有するPTFE管が、濾過ラインFLおよび迂回ラインBLとして適切であることがわかった。濾過材Fを設置するところは、濾過管88と連通する濾過ラインFL上であれば特に限定されないが、第1バルブV1の第2ポート82に一体化されていることが好ましい。濾過材としては、ワットマン社(WHATMAN)から入手できる、最上質紙に分類されるものが、好適である。濾過材を第2ポート82に一体化させる場合は、濾過材を第2ポート82内に適合するサイズに切断しておかなければならない。
バルブV1、V2は、ジェネラルバルブ社(General Valve Corporation)からModel No.1-17-900(20psigと評価されているもの)として入手できる。この実施の形態では、バルブV1は内側通路91、バルブV2は内側通路92を有し、それぞれのバルブの方向は、濾過管88または迂回管89のどちらを液体が通ることになっているかによって、濾過モードと迂回モードとの間で切り換え可能になっている。バルブドライバー(図示せず)によって、バルブV1、V2が作動する。このバルブドライバーはメインフレーム30内に配設されていることが好ましい。ダイリューションモジュールDMとサンプリングニードルSNとの間を連通させるために、ダイリューションモジュールDMから延びる移送管54を第1バルブV1の第1ポート81に接続し、延長管93を、第2バルブV2の第1ポート84とサンプリングニードルSNとの間に接続する。バルブの固定キットとしては、アップチャーチ社(UPCHURCH)から入手できる部品番号P-307とP-307Sが好適である。
濾過アッセンブリFAが位置するところは、ダイリューションモジュールDMとサンプリングニードルSNとの間であれば特に限定されないが、図3、図5および図6に最もよく示されているように、液体ハンドリングサブアッセンブリLHの垂直方向のアーム44に、バルブV1、V2を配設するのが好適であることがわかった。この配置であれば、既存のワークステーションCWの構造にも適合し、さらにまた延長管93が短くて済む。
結晶形スクリーニングワークステーションCWの好適な運転について、以下に述べる。ワークステーションCWは、好適には、容量が1.0mLのシリンジ14と、容量が1.1mLで内径が0.8mmのPTFE製の移送管54と、容量が250mLのニードルリンスリザーバー95と、内径が0.8mmのスリーブの付いた、高さが123mmで内径が0.42mmの段状ステンレススチール製の隔膜穿孔ニードルを有するサンプリングニードルSNとを備えている。最初にラックRが、図7に示されているように設置される。ここでは2つの溶剤ラックSRが、ラックホルダー32の最も左側の位置に配設されている。これら溶剤ラックSRは、ギルソン社(GILSON)から入手できる「Code34」ラックである。超音波浴を保持することができるように変形された、もう1つのラックURがある。超音波浴の場合、実験処理では普通、手作業で渦巻きを起こさなければならないが、この場合、それが必要でない程に強力な特定の超音波浴を選択しなければならない。適切な超音波浴は、ギルソン社(GILSON)やブランソン社(BRANSON)から入手できる。残りのラックのところは、最初は空いていてもよいし、スクリーニング処理のその後の工程で必要となる追加の種類のラックを1個または2個以上含んでいてもよい。これらの残りのラックについては後述する。ここで、この実施の形態に関して用いた、特定のギルソン社(GILSON)モデルのサンプリング装置SDでは、標準サイズのラックRが5個だけということに留意すべきである。なお、ラックRおよびバイアルは、市場で入手できるユニットでも、あるいはユーザー仕様で特注したものでもよい。
溶剤ラックSRには、複数個の溶剤バイアルが設けられる。適切な溶剤バイアルは、キンブル社(KIMBLE)から部品番号60810W-1545として入手することができ、そのサイズは15×45mmで45mLである。またバイアルの栓も、キンブル社(KIMBLE)から部品番号73804B-13425として入手することができ、たとえばPTFEで表面を覆ってシリコンで裏打ちされた隔膜付きのフェノール樹脂ねじ込みキャップでよい。溶剤バイアルには、多種類の溶剤が適切な容量分まで入っている。結晶形スクリーニングに関して、実験で利用される溶剤として適切なものは多種にわたる。例を挙げれば、メタノール、エタノール、水、アセトニトリル、アセトン、イソプロパノール、ヘキサン、ジエチルエーテル、およびトルエンなどである。それぞれ個々の溶剤バイアルごとに、バイアルが収容する溶剤の種類を、ラベルおよび/または番号によって識別し、その溶剤バイアルの位置データ(例えばそれぞれの座標)が記録される。
ニードルリンスリザーバー95は、溶剤送込み管16と連通するように配され、このリザーバーには、水やアセトニトリルのような適切なリンス溶剤が適切な容量分まで入っている。超音波浴装置は、超音波ラックUR内に設置されて、水が入っている。複数のマイクロバイアルに、適切な質量(たとえばおよそ1.0から100mgで、典型的には20mg)のサンプル薬剤物質が入っており、その質量が記録されている。それぞれの薬剤サンプルバイアルは番号によって識別し、適切に表示される。適切な薬剤サンプルバイアルは、クロマコル社(CHROMACOL)で製造されてヒューレット・パッカード社(HEWLETT-PACKARD)から部品番号HP5180-0805として入手することができるものであり、サイズは700μLでネックは8mmである。バイアルの栓は、フィートン社(WHEATON)から部品番号224234-07として入手することができるものであり、たとえばブチルポリマーの隔膜付きで上面がアルミニウムでひだ付きのものである。それぞれの薬剤サンプルバイアルは、密封してから、複数個のラックRのなかの1個のラックに入れる。これらの薬剤サンプルバイアルを、超音波ラックURに入れると、これまで必要であった、薬剤サンプルバイアルを追加のラックから超音波浴に移送させる工程が不要となって好ましい。次いで、ダイリューションモジュールDMを作動させて、ニードルリンスリザーバー95から十分な容量のリンス溶剤を引き出して、すべての流体ラインを浄化する。
(1)サンプルの数および座標と、(2)それぞれのサンプルに必要な溶剤容量の変量を表す数値とを、ワークステーションCWに入力して、ダイリューションプログラムを開始する。このプログラムにより、濾過アッセンブリFAのバルブV1、V2は、迂回モードに設定され、ダイリューションモジュールDMのシリンジ14は、流体ラインに吸引および正圧を交互にかけるようにサイクル的に繰り返す。このプログラムはまた、水平方向のアーム42、垂直方向のアーム44およびサンプリングニードルSNを適切に作動させて、これらを、溶剤ラックSRの溶剤バイアルと、超音波ラックURの薬剤サンプル収容バイアルとに移動させ、またそれらから移動させる。こうして、サンプリングニードルSNを、複数個の溶剤バイアルのうちの1つのバイアルの中まで下げて、所定量(たとえば、およそ200から700μL、好ましくは400μL)の溶剤をそのバイアルから抜き出す。この溶剤は、迂回管89を通って、移送管54内で保有される。それから、サンプリングニードルSNを持ち上げ、目標とする薬剤サンプルバイアルまで移動させ、そのバイアルの隔膜を貫いて挿入させる。そして移送管54の流れを逆向きにして、薬剤サンプルバイアルに溶剤を射出させる。このプロセスを所定回数繰り返して、溶剤をそれぞれの薬剤サンプルバイアルに導入する。さらにまた、ワークステーションCWにプログラムすることにより、複数の異なる種類の溶剤を、ある1つの薬剤サンプルバイアル内で混合して、2成分、3成分、4成分などの溶剤系が得られる。
このプログラムは次いで、音波処理プロセスを開始する。これは薬剤サンプルバイアルを攪拌し、固体相薬剤の粒子が確実に十分湿潤するようにするものである。熱エネルギーが薬剤の溶解特性に逆効果を与えるので、超音波浴は通常、あるインターバル(たとえば音波処理期間30分ごとに、10分)でオンおよびオフを繰り返して、サンプルの加熱を最小限に抑えるようにしている。したがって薬剤サンプルを適切に溶解しようとすると、長い音波処理期間が必要となり、通常、24時間に至る。しかしこの音波処理期間は、超音波浴に活性冷却システムを付けることによって、大幅に短縮することができる。この冷却システムのために、十分な伝熱特性を有する金属導管を用いればよいことがわかった。図8に示されているように、超音波ドライブ96付きの超音波ラックURは、超音波浴と接触して配された銅管97が収まるようになっている。銅管97は既知の設計構造の伝熱器具(図示せず)に接続されており、水や他の適切な流体媒体がこの銅管97を通って循環し、超音波浴に向かって、また超音波浴から遠ざかるように、熱を移動させる。銅管97を加えたことによって、音波処理プロセスを一定の、実質的に等温ベースで進めることができる。
音波処理後、薬剤サンプルは結晶にできる状態になっている。各薬剤サンプルバイアルは目視で観察され、記録される。結晶工程と分析工程には、異なる種類のラックを追加しなければならないので、ラックホルダー32を組み直すことになる。組み直した構造の一例が、図9に示されている。
薬剤サンプルバイアルの大部分が懸濁液を収容することが予想される。つまりバイアルが、生成した飽和溶液に加えて、溶解しなかった固体相薬剤の残量分を収容するからである。そこで必要に応じて、クォーツのマイクロプレートを、ワークステーションCWのラックRのうちの1つ、たとえば図9のラックQRに設置する。適切なクォーツのプレートは、部品番号730.009-Qとしてヘルマ・セルズ社(Hellma Cells Inc.)より入手することができる。既知小量(たとえば25μLが典型的)の懸濁液を、超音波ラックUR内の各薬剤サンプルバイアルから抜き出して、ラックQRのクォーツのプレートのウェルに分注する。クォーツは半透明であるから、それぞれのウェル内の材料の光学特性や分光特性を検査することができる。これを目的として、濾過アッセンブリFAを迂回モードに設定し、サンプリングニードルSNを用いてクォーツのプレートのウェル内の懸濁液の適切量を測定するよう、ワークステーションCWにプログラムすることができる。
適切な結晶を得るために薬剤サンプルを完璧に調製するには、溶解した薬剤を含有する溶液を、固体相薬剤の残留分から、分離しなければならない。この分離に、濾過アッセンブリFAを利用するべく、ワークステーションCWにプログラムすることができる。さらにまた、保持ラックHRをラックホルダー32に配設する。この保持ラックHRは、超音波ラックURの薬剤サンプル列に対応する保持ベッセルもしくは保持バイアルの列を有している。適切な保持バイアルが、部品番号98148でアルテック社(Alltech)から入手することができ、その大きさは700μLでネックが8mmである。またこの保持バイアルには、前記のフィートン社(WHEATON)の栓が設けられている。
サンプリングニードルSNを始めとするワークステーションCWの流体導管は、ニードルリンスリザーバー95から供給されるアセトニトリルのような溶剤で浄化することができる。必要であれば、濾過アッセンブリFAのバルブV1、V2を、濾過モードと迂回モードとに交互に設定することによって、濾過管88および迂回管89のいずれも、浄化することができる。ただし、濾過の前には、確実に濾過モードにできるように、ワークステーションCWにプログラムする。そして、薬剤サンプルバイアルごとに、サンプリングニードルSNを用いて、残りの懸濁液(たとえばおよそ300μL)を抜き出す。この処理も、ワークステーションCWに適切にプログラムすれば、ユーザーが(1)サンプル数と、(2)サンプル容量の変量を表す値とを入力して、自動化することができる。懸濁液は、濾過管88を通って、濾過材Fを通過して、抜き出され、結果的に、濾液溶液が製造される。シリンジ14がこのシステムで未だ吸引を行っているため、この濾液溶液は、第1バルブV1を通って、移送管54に達する。一方で、固体相薬剤粒子は濾過管88内に保持されている。サンプリングニードルSNは、所定の経路沿いに、保持ラックHRの目標とされた保持ベッセルまで移動する。それから、バルブV1、V2が切り替わって、濾過ラインFLを閉じて、迂回ラインBLを開く。次いで、サンプリングニードルSNが保持ベッセルに挿入され、移送管54に保有されていた濾液がその中に分配される。この処理をそれぞれの薬剤サンプルバイアルごとに繰り返す。結局、保持ラックHR内の保持ベッセルの列には複数種の濾液溶液が含有されることになるが、これは、多様な溶剤系に、多様な量の薬剤が溶解していることを表す。
本発明の装置および方法では、濾過材Fを通って、溶液を「引きだす」のではなく、「押し出す」ことにより濾過することも、可能である。このようにすると多くの場合、濾過をより急速に進めることができる。そこでバルブV1、V2が最初は迂回モードに設定されるように、濾過アッセンブリFAにプログラムしてもよい。そして、濾過していない溶液を、薬剤サンプルバイアルの1つから抜き出して、迂回ラインBLを介して移送管54に直接、導く。サンプリングニードルSNを、目標とする保持ベッセルまで移動させ、ダイリューションモジュールDMのシリンジ14が、この流体系に正圧をかける。続いてバルブV1、V2は、濾過モードに設定される。濾過していない溶液は濾過材Fを通過して送られ、生成した濾液溶液は、目標とする保持ベッセルに射出される。この時点で、浄化工程を行って、濾過アッセンブリFAから固体相材料を浄化してもよい。
保持ベッセルに収容された濾液溶液に対して、所望の分析やテストをいくつでも行うことができる。この時点で、特定量(たとえば25μL)の濾液溶液を、サンプリングニードルSNを介して、適切な分析に応じた構造の追加のラックのベッセルもしくはバイアルまで移送することができる。たとえば上述したようなクォーツの96ウエルマイクロプレートをラックQRに設置し、そこで蒸発結晶化を行うことができる。クォーツ構造なので表面は、化学物質への耐性があり光学的に透明である。したがって、その場で光学顕微鏡法で直接分析することも容易で、生成した種々の結晶形について、それらの形状、サイズおよび結晶度を比較して区別することができる。ラマン分光も、クォーツのマイクロプレートを用いてできる。
上述したの結晶化とは別にあるいはそれに加えて、蒸発結晶化を、ポリプロピレンの96ウエルマイクロプレートを有し、アルミニウムのパンがウェル内に挿入されているラックARで、行ってもよい。このポリプロピレンのプレートは、コーニング・コスター社(Corning Costar Corp.)から入手することができ、アルミニウムのパンはTAインストゥルメント社(TA Instruments)から部品番号900794.901として入手することができる。ポリプロピレンのプレートで生成した蒸発結晶は、光学顕微鏡法、ラマン分光法および示差熱測定走査法(differential scanning calorimetry methods)DSCなどを用いて、分析することができる。この結晶に対して2種類以上の分析を行うことになった場合、ワークステーションCWに、濾液サンプルの多種類の容量および複数ラックを考慮するよう、プログラムすることが可能である。たとえば、このプログラムはサンプリングニードルに、「保持ベッセルNo.1から100μLの濾液溶液を抜き出し、光学顕微鏡法に用いられるクォーツのマイクロプレートまで移動し、このクォーツのマイクロプレートのウエルNo.1に濾液溶液を入れろ。」という命令をしてもよい。そしてたとえば、このプログラムはサンプリングニードルに、「DSCテスト法に用いられる隣のポリプロピレンのマイクロプレートのウェルNo.1まで移動し、100μLの濾液溶液をそのウェルに入れろ。」という命令をしてもよい。
この蒸発結晶化とは別にあるいはそれに加えて、冷却結晶化を行って、保持ベッセルに収容された濾液溶液から結晶形をつくることもできる。このためには、図9に示された構造を温度制御されたラックに代える。そうすると保持ベッセルからの濾液溶液が、サンプリングニードルSNを介して、このラックまで移動する。好適には、冷却プロフィールがプログラム可能な、フィッシャー社(FISHER)の Model No.9110の再循環浴を用いて、冷却結晶化を行う。
これまで説明してきた結晶化および分析処理の他に、保持ベッセルから既定小量(たとえば25μL)の濾液溶液を抜き出し、このサンプルを、液体クロマトグラフィー装置に射出させ、平衡溶解度測定を行うように、ワークステーションCWにプログラムしてもよい。
上述した説明から容易に明らかなように、本発明の第1の実施の形態は、結晶形スクリーニングプロセスのいくつかの工程を自動化している。ただし、この第1の実施の形態は既存のサンプリング装置を利用しており、特に本発明の目的に合わせて意図したものではないため、出願人は適用面でいくらかの限界に直面してきた。とりわけ、ここで述べられた処理のあらゆる工程を実行していくうえで必要とされる全種類のラックについて、それらの使用に同時に適合させるには、サンプリング装置のラックが5個という構造では、不可能である。そしてラックRを変えてからラックホルダー32を入れ直すには、人手の介入が要る。そこで出願人は、結晶形スクリーニングワークステーションCWのさらなる実施の形態を開発して、第1の実施の形態の限界を克服した。これから述べるワークステーションCWはそれぞれ独自のものである。つまり、これらの結晶形スクリニーングワークステーションCWは、調製工程、結晶化工程および分析工程の自動化を高める目的のために、特に意図されている。しかも、後に明らかになるが、この新たなワークステーションCWは、上述した第1の実施の形態の有利な実用性も維持している。
図10は、本発明の第2の実施態様を示したものである。全体をCW2として表したワークステーションのメインフレーム102には、メモリ、論理制御要素、そして他にもコンピュータ(図示せず)とのインターフェースに必要なすべての構成要素を、収容している。流量制御器FCは、ワークステーションCW2全体にわたる流体流量のすべてを制御する。流量制御器FCは、ワークステーションの流体導管に正圧および負圧のいずれをもかけることができ、かつ、移送管54とサンプリングニードルSNとを通る流体を正確に測定することができる装置あるいは装置の組み合わせであれば、特に限定されない。たとえば、空気ポンプやぜん動ポンプを、電磁式マニホールドおよび真空源と組み合わせたものなどを用いることができる。ただし、上記ダイリューションモジュールDMと組み合わせて用いるシリンジ14は、残しておくのが好ましい。さらにまたサンプリングニードルSNを操作するために、本明細書の最初の方で述べたものと同様の液体ハンドリングサブアッセンブリLHを提供することも好ましい。流量制御器FCと液体ハンドリングサブアッセンブリLHとを作動させるための、モーターやドライブのすべてが、メインフレーム102内に配設されていると好ましい。濾過アッセンブリFAは、出願人による、上述した新規なデュアルバルブ構造を備えている。濾過アッセンブリFAは、上述したように、液体ハンドリングサブアッセンブリLHに配設してもよいし、図10に示されているように別のモジュールとして提供してもよい。
上述した調製処理、結晶化処理および分析処理で必要とされるラックの全種類について、それに適合させるために、2つのラック組立部品RA、RAが提供される。ラックハンドリングサブアッセンブリRHが、所望のプロトコルに対応して、多様なラックRが、ラックアッセンブリRA、RAに移動できるように、またそれらから取り出せるように提供されている。ラックハンドリングサブアッセンブリRHは水平方向の部材104を有し、この部材のトラック106の中に、垂直方向の部材108が載っている。伸縮自在のブーム110が垂直方向の部材108に可動的に接続され、ブームヘッド112を操作している。ブームヘッド112もラックRもいずれも、ブームヘッド112が解除可能にラックRに係合できるようになっている。液体ハンドリングサブアッセンブリLHの場合のように、ラックハンドリングサブアッセンブリRHの動きも、ワークステーションCW2に設けたソフトウエアでのインターフェースを介して制御されている。製造された結晶形をスクリーニングするために用いる計器(図示せず)の位置は、メインフレーム102の上でも中でもよいし、あるいはラック組立部品RAの付近に設置してもよい。たとえば、図10では、液体クロマトグラフィー装置HPLCが、メインフレーム102の射出バルブ78と連通可能なところに配設されている。ワークステーションCW2は、他の点では、第1の実施の形態のワークステーションCWと同様である。
図11は、本発明の第3の実施の形態を示したものである。全体をCW3として表したワークステーションの長手方向に延びたメインフレーム120は、本明細書で述べたスクリニーング処理を行うために必要な、すべての計器、モーターおよび論理制御要素を、収容できるようになっている。ワークステーションCW3の顕著な特徴は、上記の処理に必要なあらゆるラックRを保持するラックアッセンブリRAが1つであるということである。この単一のラックアッセンブリRAは、メインフレーム120の全長分と平行に延びている。その結果、ワークステーションCW3のあらゆるラックRに含まれるあらゆるバイアルやウェルに、サンプリングニードルSNが出入りするようになっており、それによって、汎用性までもが高まり、またその場での操作もしやすくなっている。そうであっても、必要に応じて、長手方向に延びたラックハンドリングアッセンブリRHが、ラックをその場以外のところ(たとえば他のワークステーション)に移動できるようにすることも可能である。図11に示されているように、複数の液体リザーバーもしくは容器C−Cが、サンプリングニードルSNとニードルリンスリザーバー95のどちらにも、流体連通して配置されている。これらの容器C−Cは、必要に応じて種々の液体(たとえば、結晶化や希釈に用いられる複数種の溶剤)を一時的にためておくのにも利用することができる。ワークステーションCW3は、他の点では、上述したワークステーションCWおよびCW2と同様である。
本発明におけるいくつかの詳細部品については、本発明の範囲から逸脱することなく変形させることが可能であることは、理解できよう。さらに、これまで述べてきたことは単に、例として挙げたまでであって、本発明を限定しようというものではない。本発明は、請求の範囲によってこそ、定められるものである。

Claims (64)

  1. 流体ハンドリングシステムで用いられる、流体を移送するようになっている、アッセンブリにおいて、
    (1)それぞれが内側通路と複数個のポートとを有する、第1バルブおよび第2バルブと、
    (2)第1バルブと第2バルブとの間に介在して、第1バルブの1つのポートと第2バルブの1つのポートとを流体的に連通する濾過ラインと、
    (3)この濾過ラインに配置され、濾過ラインを通って流れる流体を濾過するようになっており、流体圧が正負のいずれの方向にかかっても流体を濾過することが可能な濾過材と、
    (4)第1バルブと第2バルブとの間に介在して、第1バルブの1つのポートと第2バルブの1つのポートとを流体的に連通する迂回ラインと、
    (5)第1バルブの内側通路を、複数個のポートどうしの間に内側通路を通る第1流体経路を提供する第1位置と、複数個のポートどうしの間に内側通路を通る第2流体経路を提供する第2位置との間で切り替えるアクチュエーター手段とを備えたアッセンブリ。
  2. 第1バルブと流体的に連通するポンプをさらに備えた、請求項1記載のアッセンブリ。
  3. ポンプがぜん動ポンプであることを特徴とする、請求項2記載のアッセンブリ。
  4. ポンプがシリンジを有することを特徴とする、請求項2記載のアッセンブリ。
  5. 第2バルブと流体的に連通するポンプをさらに備えた、請求項1記載のアッセンブリ。
  6. 第1バルブの複数個のポートが第1ポート、第2ポートおよび第3ポートを構成し、第2バルブの複数個のポートが第1ポート、第2ポートおよび第3ポートを構成することを特徴とする、請求項1記載のアッセンブリ。
  7. 第1バルブの第1ポートと流体的に連通するポンプをさらに備えた、請求項6記載のアッセンブリ。
  8. 濾過ラインが、第1バルブの第2ポートと第2バルブの第2ポートとを連通し、迂回ラインが第1バルブの第3ポートと第2バルブの第3ポートとを連通し、第1バルブの第1位置が第1バルブの第1ポートと第2ポートとの間に流体経路を提供し、第1バルブの第2位置が第1バルブの第1ポートと第3ポートとの間に流体経路を提供することを特徴とする、請求項6記載のアッセンブリ。
  9. アクチュエーターが、第2バルブの内側通路を、第1ポートと第2ポートとの間の内側通路を通る流体経路を提供する第1位置と、第1ポートと第3ポートとの間の内側通路を通る流体経路を提供する第2位置との間で切り替えることができることを特徴とする、請求項1記載のアッセンブリ。
  10. 第2アクチュエーターが、第2バルブの内側通路を、第1ポートと第2ポートとの間の内側通路を通る流体経路を提供する第1位置と、第1ポートと第3ポートとの間の内側通路を通る流体経路を提供する第2位置との間で切り替えることができることを特徴とする、請求項1記載のアッセンブリ。
  11. サンプリング部材をさらに備え、このサンプリング部材が、基端部と先端部とを有する内側導管を有し、基端部が第2バルブの1つのポートと流体的に連通し、先端部が流体容器に挿入されるようになっていて、流体を、流体容器および濾過アッセンブリに移送に移送し、またそこから移送できるようになっている、請求項1記載のアッセンブリ。
  12. 基端部が第2バルブの第1ポートと連通していることを特徴とする、請求項11記載のアッセンブリ。
  13. サンプリング部材が中空ニードルであることを特徴とする、請求項11記載のアッセンブリ。
  14. スクリーニングワークステーションにおいて、
    (1)溶剤送込みラインと移送ラインとに流体的に連通している第1バルブを有する、ダイリューションアッセンブリと、
    (2)第2バルブ、第3バルブ、第2バルブと第3バルブとの間に介在し流体的に連通している濾過ライン、第2バルブと第3バルブとの間に介在し流体的に連通している迂回ライン、および第2バルブと濾過ラインとの間に介在する濾過材を有する、濾過アッセンブリであって、第2バルブと第3バルブとが、移送ラインと濾過ラインとの間に延びる第1流体経路と、移送ラインと迂回ラインとの間に延びる第2流体経路の間で濾過アッセンブリを交互に設定する切り替えによって、調整可能となっている、濾過アッセンブリと、
    (3)第3バルブと流体的に連通し、支持部材に配設されているサンプリング手段であって、この支持部材がプログラムされた命令に対応して三次元空間で可動になっており、かつ、第1流体経路が濾過ラインとサンプリング手段との間に連通を提供し、第2流体経路が迂回ラインとサンプリング手段との間に連通を提供する、サンプリング手段と、
    (4)サンプリング手段が出入りすることができる流体容器の列を保持する、サンプル収容アッセンブリとを備えたことを特徴とするワークステーション。
  15. 第1バルブがシリンジと連通していることを特徴とする、請求項14記載のワークステーション。
  16. サンプリング手段がニードルであることを特徴とする、請求項14記載のワークステーション。
  17. 濾過アッセンブリの第2バルブと第3バルブとが、支持部材に配設されていることを特徴とする、請求項14記載のワークステーション。
  18. サンプリング手段が可動的に支持部材に配設されていて、支持部材およびサンプリング手段が、プログラムされた命令に対応して三次元空間で可動となっている、請求項14記載のワークステーション。
  19. スクリーニングワークステーションにおいて、
    (1)それぞれが複数個のベッセルを保持する、第1ラックホルダーに取り外し可能に配設された、複数個のラックと、
    (2)自動化された第1アームアッセンブリに可動的に配設されたサンプリング手段であって、この自動化された第1アームアッセンブリが、ラック全体にベッセル内部に延びる経路に沿って、サンプリング手段のプログラム可能なマニピュレーションを実行するようになっているサンプリング手段と、
    (3)このサンプリング手段を通って、ラックのベッセルから流体を抜き出し、またラックのベッセルに流体を送るようになっている流体移動制御器と、
    (4)この流体移動制御器との間に介在する移送ラインを介して流体移動制御器と流体的に連通する第1バルブと、
    (5)サンプリング手段と流体的に連通する第2バルブと、
    (6)第1バルブと第2バルブとの間に介在して濾過材と連通する濾過ラインと、
    (7)第1バルブと第2バルブとの間に介在する迂回ラインを備え、
    第1バルブおよび第2バルブが、濾過ラインを通って移送ラインとサンプリング手段との間に第1流体導管を、そして、迂回ラインを通って移送ラインとサンプリング手段との間に第2流体導管を、交互に成すように、調整可能となっていることを特徴とするワークステーション。
  20. サンプリング手段がニードルであることを特徴とする、請求項19記載のワークステーション。
  21. ラックの1つが超音波浴を保持していることを特徴とする、請求項19記載のワークステーション。
  22. 超音波浴が、所定のインターバルで超音波エネルギーを周期的に送る手段を有することを特徴とする、請求項21記載のワークステーション。
  23. 超音波エネルギー送り手段がサーモスタットを有することを特徴とする、請求項22記載のワークステーション。
  24. 超音波浴が、浴内の液体と接触して配置された冷却管を有し、この冷却管が、熱移送媒体が浴内を循環できるようにして、浴の温度を調節していることを特徴とする、請求項21記載のワークステーション。
  25. ラックの1つが、クォーツのマイクロプレートであることを特徴とする、請求項19記載のワークステーション。
  26. ラックの1つが、ウェルの列を保持していることを特徴とする、請求項19記載のワークステーション。
  27. ラックの1つが、バイアルの列を保持するブラケットを有することを特徴とする、請求項19記載のワークステーション。
  28. 自動化された第1アームアッセンブリが、
    (1)サンプリング手段と機械的にリンクして、サンプリング手段をz軸沿いに垂直移送できるようになっている垂直方向のアームと
    (2)ワークステーションのフレームに滑動可能に接続され、x軸沿いに水平移送できるようになっている水平方向のアームであって、垂直方向のアームがこの水平方向のアームに可動的に配設されて、垂直方向のアームがy軸沿いに水平移送できるようになっている水平方向のアームと、
    (3)サンプリング手段のプログラム可能なマニピュレーションを経路沿いに制御するよう、水平方向のアームと垂直方向のアームと作動係合しているモーターアッセンブリとを有することを特徴とする、請求項19記載のワークステーション。
  29. 自動化された第2アームアッセンブリをさらに備え、ラックを、第1ラックホルダーに設置し、またそこから取り出すことを含む、プログラム可能なマニピュレーションを、ラックに対して実行するようになっている、請求項19記載のワークステーション。
  30. 第2ラックホルダーと、自動化された第2アームアッセンブリとをさらに備え、ラックを、第1ラックホルダーに設置し、またそこから取り出すこと、第2ラックホルダーに設置し、またそこから取り出すこと、第1ラックホルダーに移送し、またそこから移送すること、第2ラックホルダーに移送し、またそこから移送することを含む、プログラム可能なマニピュレーションを、ラックに対して実行するようになっている、請求項19記載のワークステーション。
  31. 第1ラックホルダーと第2ラックホルダーとが、単一のユニットとして接合されていることを特徴とする、請求項30記載のワークステーション。
  32. 自動化された第2アームアッセンブリが、スロットを有するベースと、このスロットと移動係合して配置されるブーム支持部材と、このブーム支持部材から延びるブームと、ブームの端部に配置されて、ラックと解除可能に係合するようになっているブームヘッドとを有することを特徴とする、請求項30記載のワークステーション。
  33. 流体移動制御器が、
    (1)カラム、およびカラム内に配置される移動可能な境界面を有するシリンジと、
    (2)流体供給源、シリンジおよび移送ラインと流体的に連通している第3バルブとを有することを特徴とする、請求項19記載のワークステーション。
  34. 移動可能な境界面が、ステップモーターで作動されることを特徴とする、請求項33記載のワークステーション。
  35. 流体移動制御器と連通している流体リザーバーをさらに備えた、請求項19記載のワークステーション。
  36. サンプリング手段から流体を受け取り、液体クロマトグラフィー装置に流体を送るようになっている射出器をさらに備えた、請求項19記載のワークステーション。
  37. 液体、懸濁液、および乳液、そして分析のための薬剤と化学物質との溶液の調製に用いる、ワークステーションにおいて、
    (1)複数個の容器を保持する手段と、
    (2)これらの容器に収容された流体をサンプリングし、ある量の流体を容器の中の1つの容器から別の容器に移送するサンプリング手段であって、先端部を有するサンプリング手段と、
    (3)このサンプリング手段の先端部を、所定の命令に応じて、容器の中の第1容器内まで移動させ、またそこから移動させ、さらに、サンプリング手段の先端部をその第1容器から第2容器に移動させる手段と、
    (4)流体を移送ラインからサンプリング手段に移送して容器に入れ、サンプリング手段内にある流体と容器から抜いた流体とを移送ラインに移送する移送手段と、
    (5)移送手段とサンプリング手段との間に介在し、流体から固体相粒子を分離させる手段であって、濾過材と、この濾過材を迂回させる手段とを有する手段とを備えたことを特徴とするワークステーション。
  38. スクリーニングするための薬剤、化合物あるいは化学物質の結晶形を調製する方法において、
    (1)それぞれが複数個のポートを有する第1バルブおよび第2バルブ、濾過材を有するとともに第1バルブの1つのポートと第2バルブの1つのポートとの間に延びる濾過ライン、および第1バルブの1つのポートと第2バルブの1つのポートとの間に延びる迂回ラインとを有する、濾過アッセンブリを提供する工程と、
    (2)ある質量の薬剤、化合物あるいは化学物質を、複数個の第1ベッセルに収容させて提供する工程と、
    (3)ある容量の溶剤を第1ベッセルに添加し、その質量の薬剤、化合物あるいは化学物質の一部を溶解し、濾過されていないサンプルを製造する工程と、
    (4)第1ベッセルを攪拌し、その質量の薬剤、化合物あるいは化学物質の混合および/または溶解を高める工程と、
    (5)第2バルブから濾過ラインを通って第1バルブへの流体濾過経路を成すように、第1バルブおよび第2バルブを調整することによって、第1バルブおよび第2バルブを濾過モードに設定する工程と
    (6)所定量の濾過されていないサンプルを、第1ベッセルから抜き出す工程と(7)抜き出した所定量の濾過されていないサンプルを、第2バルブ、濾過ラインおよび濾過材を通って流し、固体相の質量が実質的に無い濾液サンプルを製造する工程と、
    (8)この濾液サンプルを、濾過材から第1バルブを通って第1バルブと連通している流体保持容器内に流す工程と、
    (9)第1バルブから迂回ラインを通って第2バルブへの流体迂回経路を成すように、第1バルブおよび第2バルブを調整することによって、第1バルブおよび第2バルブを迂回モードに設定する工程と
    (10)濾液サンプルを、流体保持容器から迂回ラインを通って第2バルブへ流す工程と、
    (11)所定量の濾液サンプルを、第2バルブから複数個の第2ベッセル内に置く工程とを含む方法。
  39. (1)第1バルブの複数個のポートが、第1ポート、第2ポートおよび第3ポートを有し、
    (2)第2バルブの複数個のポートが、第1ポート、第2ポートおよび第3ポートを有し、
    (3)濾過アッセンブリを提供する工程が、第1バルブの第2ポートと第2バルブの第2ポートとの間に濾過ラインを延ばすこと、および第1バルブの第3ポートと第2バルブの第3ポートとの間に迂回ラインを延ばすことを含み、
    (4)第1バルブおよび第2バルブを濾過モードに設定する工程が、第2バルブの第1ポートから、第2バルブの第2ポートおよび第1バルブの第2ポートを通って、第1バルブの第1ポートまで、流体濾過経路を成すことを含み、
    (5)濾液サンプルを製造する工程に先だって、第1ベッセルから抜き出した、所定量の濾過されていないサンプルを、第2バルブの第1ポートを通って流す工程を行い、
    (6)流体保持容器が、第1バルブの第1ポートと連通して配され、そして
    (7)第1バルブおよび第2バルブを迂回モードに設定する工程が、第1バルブの第1ポートから、第1バルブの第3ポート、第2バルブの第3ポート、および第2バルブの第1ポートを通って、流体迂回経路を成すことを含むことを特徴とする、請求項38項記載の方法。
  40. ある容量の溶剤を添加して攪拌することによって製造される濾液サンプルが、溶解された薬剤質量で、実質的に飽和されていることを特徴とする、請求項38記載の方法。
  41. 第1ベッセルを攪拌する工程が、第1ベッセルを超音波浴中に配設することを含むことを特徴とする、請求項38記載の方法。
  42. 第1ベッセルを攪拌する工程が、所定期間中、超音波浴に周期的にエネルギーを与えることをさらに含む、請求項41記載の方法。
  43. 第1ベッセルを攪拌する工程が、一定の所定期間中、超音波浴を活性的に冷却して超音波浴の温度を調節し、超音波浴にエネルギーを与える手段を提供することをさらに含む、請求項41記載の方法。
  44. 複数個のラックを取り外し可能にラックホルダーに配設させて提供する工程をさらに含み、ラックの中の第1ラックが複数個の第1ベッセルを保持し、ラックの中の第2ラックが複数個の第2ベッセルを保持することを特徴とする、請求項38記載の方法。
  45. 第1ベッセルを攪拌する工程が、ラックホルダーのラックの中の1つに超音波浴を配設し、その超音波浴中に第1ベッセルを配することを含むことを特徴とする、請求項44記載の方法。
  46. 超音波浴が、ラックの中の第1ラックに配設されていることを特徴とする、請求項45記載の方法。
  47. 複数個の第3ベッセルを保持する第3ラックをラックホルダーに提供する工程をさらに含み、複数個の第3ベッセルが異なる種類の複数の溶剤を収容し、ある容量の溶剤を第1ベッセルに添加する工程が、異なる種類の溶剤を、異なる比率と異なる組み合わせで、第3ベッセルから第1ベッセルに添加して、多様な溶剤系を有する濾過されていない溶液を、第1ベッセルで製造することを含むを特徴とする、請求項44記載の方法。
  48. 第2バルブの1つのポートと流体的に連通している基端部と、中空の先端部とを有するサンプリングニードルを提供する工程をさらに含み、異なる種類の溶剤を添加する工程が、
    (a)第1バルブおよび第2バルブを迂回モードに設定すること、
    (b)サンプリングニードルの先端部を第3ベッセルに挿入し、所定量の溶剤を、第3ベッセルから、サンプリングニードルに、そして迂回ラインを通って、流体保持容器まで流すこと、
    (c)サンプリングニードルを第1ベッセルまで移動させること、
    (d)サンプリングニードルの先端部を第1ベッセルに挿入し、溶剤を所定の比率で、流体保持容器から、迂回ラインおよびサンプリングニードルを通って、第1ベッセルまで流すことを含むことを特徴とする、請求項47記載の方法。
  49. 第2バルブの1つのポートと流体的に連通している基端部と、中空の先端部とを有するサンプリングニードルを提供する工程をさらに含み、
    (1)濾過されていないサンプルを、サンプリングニードルの先端部を第1ベッセルに挿入することによって、抜き出すこと、
    (2)サンプリングニードルを第2ベッセルまで移動し、サンプリングニードルを第2ベッセルに挿入することによって、濾液サンプルを置くことを特徴とする、請求項38記載の方法。
  50. (1)プログラムされた命令に対応して三次元空間で可動である電動式の構造部材を提供する工程と、
    (2)この構造部材がサンプリングニードルを所定の経路に沿って操作できるように、サンプリングニードルをこの構造部材に配設する工程とをさらに含む、請求項49記載の方法。
  51. 流体保持容器、第1バルブおよび第2バルブ、濾過ライン、および迂回ラインを通って流れる流体流量を制御するために、流体流量制御装置を提供する工程をさらに含む、請求項38記載の方法。
  52. 流体保持容器が、流体流量制御装置と第1バルブの1つのポートとの間に接続されている、移送ラインであることを特徴とする、請求項51記載の方法。
  53. 流体流量制御装置に、移送ラインと連通するシリンジを提供する工程をさらに含む、請求項51記載の方法。
  54. モーターにより作動される移動可能な境界面を有するシリンジを提供する工程をさらに含む、請求項53記載の方法。
  55. それぞれの第1ベッセルごとに、その第1ベッセルをシールするための隔膜を含む、栓アッセンブリを提供する工程をさらに含み、溶剤を第1ベッセルに添加する工程が、第1ベッセルのそれぞれの隔膜を突き通すことを含むことを特徴とする、請求項38記載の方法。
  56. 流体保持容器と連通するリンス溶剤リザーバーを提供する工程をさらに含み、その工程によって、流体保持容器、第1バルブおよび第2バルブ、濾過ライン、および迂回ラインを浄化する、請求項38記載の方法。
  57. 所定量の濾液サンプルにおける、結晶形を成長させる工程をさらに含む、請求項38記載の方法。
  58. 結晶形を成長させる工程が、所定量の濾液サンプルで、蒸発結晶化を行うことを特徴とする、請求項57記載の方法。
  59. 結晶形を成長させる工程が、所定量の濾液サンプルで、冷却結晶化を行うことを特徴とする、請求項57記載の方法。
  60. (1)濾過アッセンブリの第1バルブおよび第2バルブを迂回モードに設定する工程と、
    (2)濾過アッセンブリを用いて、結晶形を含有する所定量の濾液サンプルを、1枚の半透明プレートに配置された複数個のウェルまで移送する工程と、
    (3)それぞれのウェルで、結晶形に対して光学顕微鏡法分析を行う工程とをさらに含む、請求項57記載の方法。
  61. (1)濾過アッセンブリの第1バルブおよび第2バルブを迂回モードに設定する工程と、
    (2)濾過アッセンブリを用いて、結晶形を含有する所定量の濾液サンプルを、マイクロプレートに配置された複数個の第3ベッセルまで移送する工程と、
    (3)それぞれの第3ベッセルで、結晶形に対して示差熱測定走査法分析を行う固定とをさらに含む、請求項57記載の方法。
  62. (1)濾過アッセンブリの第1バルブおよび第2バルブを迂回モードに設定する工程と、
    (2)濾過アッセンブリを用いて、結晶形を含有する所定量の濾液サンプルを、マイクロプレートに配置された複数個の第3ベッセルまで移送する工程と、
    (3)それぞれの第3ベッセルで、結晶形に対してラマン分光法分析を行う工程とをさらに含む、請求項57記載の方法。
  63. 結晶形を含有する所定量の濾液サンプルに対して、平衡溶解度評価分析を行う工程をさらに含む、請求項57記載の方法。
  64. スクリーニングするための薬剤、化合物あるいは化学物質の結晶形を調製する方法において、
    (1)それぞれが複数個のポートを有する第1バルブおよび第2バルブ、濾過材を有するとともに第1バルブの1つのポートと第2バルブの1つのポートとの間に延びる濾過ライン、および第1バルブの1つのポートと第2バルブの1つのポートとの間に延びる迂回ラインとを有する、濾過アッセンブリを提供する工程と、
    (2)ある質量の薬剤、化合物あるいは化学物質を、複数個の第1ベッセルに収容させて提供する工程と、
    (3)ある容量の溶剤を第1ベッセルに添加し、その質量の薬剤、化合物あるいは化学物質の一部を溶解し、濾過されていないサンプルを製造する工程と、
    (4)第1ベッセルを攪拌し、その質量の薬剤、化合物あるいは化学物質の混合を高める工程と、
    (5)第2バルブの第1ポートから迂回ラインを通って第1バルブの第1ポートへの第1流体経路を成すように、第1バルブおよび第2バルブを調整することによって、第1バルブおよび第2バルブを迂回モードに設定する工程と、
    (6)所定量の濾過されていない混合物を、第1ベッセルから抜き出す工程と、(7)抜き出した所定量の濾過されていない混合物を、第2バルブの第1ポート、迂回ラインおよび第1バルブの第1ポートを通って、第1バルブの第1ポートと連通している流体保持容器に流す工程と、
    (8)第1バルブの第1ポートから濾過ラインおよび濾過材を通って第2バルブの第1ポートへの流体経路を成すように、第1バルブおよび第2バルブを調整することによって、第1バルブおよび第2バルブを濾過モードに設定する工程と、(9)濾過されていない混合物を、流体保持容器から、第1バルブの第1ポートおよび濾過材を通って流し、固体相の質量が実質的に無い濾液混合物を製造する工程と、
    (10)濾液混合物を、濾過ラインから第2バルブの第1ポートへ流す工程と、(11)所定量の濾液混合物を、第2バルブの第1ポートから複数個の第2ベッセル内に置く工程とを含む方法。
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