JP2011004535A - 昇圧回路 - Google Patents

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Abstract

【課題】昇圧に用いるクロック信号の電圧振幅が大きくなってもリップルが増さない昇圧回路を得る。
【解決手段】複数段を連結した単位昇圧回路から成る昇圧部と、前記昇圧部の出力端子(昇圧部出力端子)に連結したリップル制御回路から成る昇圧回路を構成し、前記リップル制御回路が、前記昇圧部出力端子とグラウンド端子の間に接続された第1のコンデンサと、前記昇圧部出力端子と電源端子の間に接続する複数段の電荷放出素子と、クロック端子に第2のコンデンサを介して制御端子が接続され前記昇圧部出力端子と外部出力端子の間に接続された第2の電荷転送素子と、前記電荷放出素子の1つの素子の制御端子と前記昇圧部出力端子の間に接続し制御端子が前記第2の電荷転送素子の制御端子に接続された定電位設定素子とを有する昇圧回路を構成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、基準となる電源電圧を昇圧する昇圧回路、および半導体集積回路の内部電源回路における昇圧回路に関するものである。
半導体集積回路装置、特にフラッシュメモリなどの半導体記憶装置は、データの書き込み、消去および読み出し動作のために、電源電圧よりも高い電位を必要とする。しかし、最近は単一電源、例えばVCCだけでプログラムや消去が行えることがユーザから要求されている。このような仕様の装置では、チャージポンプ回路により電源電圧(基準電圧)を昇圧して供給する昇圧回路を構成して半導体集積回路装置の回路が必要とする高電位を実現させて、単一電源で動作する半導体集積回路を実現するのが一般的である。
この昇圧回路は、MOSトランジスタと容量とが直列に接続され、容量の一端を基準電圧の振幅を有するクロック信号で接続され、基準の電源電圧を昇圧する。しかし、この昇圧回路の出力電圧は常には一定電位にとどまらず、設定電位近傍で振動する。この現象をリップルと呼ぶ。このリップル対策のため、特許文献1では、複数個のチャージポンプ回路が位相の異なるクロック信号に同期して昇圧動作をすることでリップルを低減する技術が提案されていた。また、特許文献2では、クロック信号の周波数を制御する(変える)ことでリップルを低減する技術が提案されていた。また、特許文献3では、昇圧回路を、第1のクロック信号と第2のクロック信号で駆動し、第2のクロック信号の振幅を制御することでリップルを低減する技術が提案されていた。
特開2000−331489号公報 特開2003−242790号公報 特開2008−054471号公報
しかし、特許文献1〜3の技術では、高電位ノードに、クロック信号のエッジの変化に対応する急峻な電圧の突出(リップル)が発生する問題があった。特に、昇圧に用いる基準電源の電圧を高くするためクロック信号の電圧振幅を大きくすると、このリップルも大きくなり、昇圧回路で種々の大きさの昇圧電圧を作成する場合に、そのリップルの大きさも変わり、昇圧電圧の大小にかかわらずリップルを一定値以内に制御することが難しい問題があった。そのため、本発明は、この問題を解決し、昇圧電圧を高くするためにクロック信号の電圧振幅を大きくしてもリップルが増さず、突出電圧(リップル)の大きさを一定値以内に制御できる昇圧回路を提供することを目的とする。
本発明は、上記の課題を解決するために、単位昇圧回路を複数段連結して成る昇圧部と、前記昇圧部の出力端子(昇圧部出力端子)に連結したリップル制御回路から成る昇圧回路であって、前記昇圧部の最終段の単位昇圧回路の第1の電荷転送素子が、クロック端子のクロック信号の立ち上がりの際に前記最終段の単位昇圧回路の入力端子から出力端子に電荷を転送する動作を行ない、
前記リップル制御回路が、
前記昇圧部出力端子とグラウンド端子の間に接続された第3のコンデンサと、
前記昇圧部出力端子と電源端子の間に接続する複数段の電荷放出素子と、
前記クロック端子に第4のコンデンサを介して制御端子が接続され前記昇圧部出力端子と外部出力端子の間に接続された第2の電荷転送素子と、
前記電荷放出素子の1つの素子の制御端子と前記昇圧部出力端子の間に接続し制御端子が前記第2の電荷転送素子の制御端子に接続された定電位設定素子とを有し、
前記クロック端子のクロック信号の立ち上げの際に前記外部出力端子が前記第2の電荷転送素子によって前記昇圧部出力端子から切り離され、
前記定電位設定素子が前記クロック端子のクロック信号の立ち上げの際にオフにされて前記前記電荷放出素子の1つの素子の制御端子の電位を一定値に維持し前記電荷放出素子をオンにすることを特徴とする昇圧回路である。
また、本発明は、上記の昇圧回路であって、上記第2の電荷転送素子がソース端子を上記昇圧部出力端子に接続しドレイン端子を上記外部出力端子に接続したpMOSトランジスタであり、上記複数段の電荷放出素子がpMOSトランジスタであり前段の電荷放出素子のドレイン端子と制御端子を後段の電荷放出素子のソース端子に接続し、第1段の電荷放出素子のソース端子を上記昇圧部出力端子に接続し、最終段の上記電荷放出素子の制御端子をpMOSトランジスタの上記定電位設定素子のドレイン端子に接続することを特徴とする昇圧回路である。
本発明は、クロック信号の立ち上がりに応じて昇圧回路の外部出力端子を昇圧部出力端子から切り離した状態で、第1の高電位ノードから昇圧部出力端子に電荷を転送し、昇圧部出力端子の余分な電荷を電荷放出素子が放出した後に、クロック信号の立ち下げに応じて第2の電荷転送素子が昇圧部出力端子を外部出力端子に接続することで、外部出力端子の電位のリップルを少なくすることができる効果がある。
本発明による昇圧回路の回路図である。 図1のクロック入力波形を示すタイミングチャートである。 図1におけるクロック入力波形と各端子およびノードの電圧変化を示すタイミングチャートである。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
<第1の実施形態>
即ち、本実施例は、図中に破線で示した単位昇圧回路の構成を1単位(一段)の単位昇圧回路として、その単位昇圧回路を多段(この例では4段)連結した回路から成る昇圧部をクロック端子ΦAとΦBとΦCとΦDに接続する。そして、4相クロック方式によって昇圧部を動作させ、その昇圧部の昇圧結果の電位を昇圧部出力端子VPPIから出力させ、その昇圧部出力端子VPPIをリップル制御回路に接続する。このリップル制御回路には、昇圧部の最終段の単位昇圧回路が接続するクロック端子ΦDに接続する。また、図1は、そのリップル制御回路を、その外部出力端子VPPに、安定化容量等C0を接続した回路として示す。なお一般に外部出力端子VPPには、接続先の回路負荷や配線の寄生容量、安定化容量等の容量がつながっており、図1ではそれらを一般化して安定化容量等C0として表現している。
本発明の昇圧回路の昇圧部を図1から図3を用いて説明する。まず、第1段目の単位昇圧回路では、電圧が1.8ボルトから5.5ボルトの電源ノードVCCをノードNA0に接続し、ノードNA0に、nMOSトランジスタの電荷転送素子Q0のドレインを接続し、nMOSトランジスタの電位安定素子S0のソースを接続し、nMOSトランジスタの電荷供給素子T0のドレインとゲート(制御端子)を接続する。電荷転送素子Q0のゲート(制御端子)はノードNB0に接続し、コンデンサE0を介してクロック端子ΦBに接続する。更に、ノードノードNB0には、電位安定素子S0のドレインとゲート(制御端子)、電荷供給素子T0のソースを夫々接続する。
次に、2段目の単位昇圧回路では、電荷転送素子Q0のソースがノードNA1に接続する。ノードNA1は、コンデンサC1を介してクロック端子ΦCに接続する。更に、ノードNA1には、nMOSトランジスタの電荷転送素子Q1のドレインに接続し、また、nMOSトランジスタの電位安定素子S1のソース、nMOSトランジスタの電荷供給素子T1のドレインとゲート(制御端子)を夫々接続する。電荷転送素子Q1のゲート(制御端子)はノードNB1に接続し、コンデンサE1を介してクロック端子ΦDに接続する。更に、ノードNB1には、電位安定素子S1のドレインとゲート(制御端子)、電荷供給素子T1のソースを夫々接続する。
そして、3段目以降の単位昇圧回路も2段目の単位昇圧回路と同様の回路構成が繰り返される。即ち、前段の電荷転送素子Q1のソースを後段のノードNA2に接続し、ノードNA2に後段の電荷転送素子Q2のドレインと、電位安定素子S2のソース、電荷供給素子T2のドレインとゲート(制御端子)を接続する。こうして、初段の単位昇圧回路の電荷転送素子Q0から4段目(最終段)の単位昇圧回路の電荷転送素子Q3まで電荷転送素子Qがソースとドレインを接続して連鎖し、最終段の単位昇圧回路の電荷転送素子Q3のソースを昇圧部出力端子VPPIに接続し、それをリップル制御回路の入力端子に接続する。そして、上述のようにして、クロック端子がΦA及びΦB及びΦC及びΦDの各組み合せによって交互に各段に接続する。
(昇圧部の動作)
次に、図1について昇圧部の回路の動作を説明する、先ず、初期状態で、第1段目の単位昇圧回路では、電源ノードVCCの電位がノードNA0の電位であり、ノードNA0から電荷供給素子T0によりノードNB0へ電荷が供給されノードNB0の電位をあげ、クロック端子ΦBの電位が立ち上がるとノードNB0の電位が更にクロック端子ΦBの電位の振幅(電圧VCC)だけ上がることで、電荷転送素子Q0のゲートが開かれ、ノードNA0からノードNA1へ電荷が転送される。また、ノードNA1からは、電荷供給素子T1によりノードNB1へも電荷が供給される動作を行う。
次に、図1に破線で示した第2段目の単位昇圧回路の回路構成の各素子の役割を以下に説明する。電荷転送素子Q1は、ノードNA1からノードNA2へ電荷を転送するものである。電荷供給素子T1は、ノードNA1からノードNB1へ電荷を供給するものである。電位安定素子S1は、ノードNB1の過剰な電荷をノードNA1へ戻すものである。クロック端子ΦCの電位が立ち上がると、コンデンサC1によって容量結合されているノードNA1の電位を上げてノードNA1へ電荷を供給し、また、ノードNA1からトランジスタT1によりノードNB1へ電荷が供給される。クロック端子ΦDの電位が立ち上がると、コンデンサE1によって容量結合されているノードNB1の電位を上げ、電荷転送素子Q1のゲート(制御端子)をオンにし、ノードNA1からノードNA2へ電荷を転送する。クロック端子ΦDが低電位になるとQ1のゲート(制御端子)をオフさせる。
次に、第2段目の単位昇圧回路が、クロック端子ΦCおよびクロック端子ΦDの電位が下がった状態において、以下の処理により、ノードNA1からノードNA2に電荷を転送する動作を説明する。
(クロックΦCによる動作)
クロック端子ΦAからクロック端子ΦDのタイミングを図2に示す。クロック端子ΦCの電位が立上がると、コンデンサC1によって容量結合されているノードNA1の電位が
、既にコンデンサC1に蓄積された電荷による電圧にクロック端子ΦCの電位が加えられた電位にまで上がり、ノードNA1へ電荷が供給される。また、ノードNA1からトランジスタT1によりノードNB1へ電荷が供給される。これによりノードNB1の電位があがるので、nMOSトランジスタの電荷転送素子Q1のゲート(制御端子)が第1段階のオン状態になり、電荷転送素子Q1がノードNA1からノードNA2へ若干の電荷を転送する。
(クロックΦDによる動作)
次に、クロック端子ΦDの電位が立上がってコンデンサE1によって容量結合されているノードNB1の電位が更にクロック端子ΦDの電位の振幅分(VCC程度)上がる。ノードNB1の電位がこれだけ上がると、nMOSトランジスタの電荷転送素子Q1のゲート(制御端子)が(第2段階のオン状態で)完全にオンしてノードNA1からノードNA2へ電荷を十分に転送する。このとき、ノードNA2から電荷供給素子T2によりノードNB2へも電荷が供給される。
(ノードNB1の電位の調整)
一方、クロック端子ΦDの電位の立ち上がりによりノードNB1の電位が上昇すると、nMOSトランジスタの電位安定素子S1がオンしてノードNB1の過剰な電荷をノードNA1に戻すことにより、ノードNB1の電位がノードNA1よりもnMOSトランジスタの電位安定素子S1のゲート(制御端子)とソース間のしきい値電圧(Vthn)だけ高い電圧に安定する。
(クロックΦDの立下りによる動作)
次に、クロック端子ΦDの電位が立ち下がると、ノードNB1の電位がクロック端子ΦDの電位の振幅(VCC)だけ下がり、それにより電荷転送素子Q1のゲート(制御端子)がオフになる。その後にクロック端子ΦCの電位が立下がる。
次に、第3段目の単位昇圧回路が、クロック端子ΦCおよびクロック端子ΦDの電位が下がった状態において、以下の処理により、ノードNA2からノードNA3に電荷を転送し、ノードNA3を高電位にする動作を行う。
(クロックΦAによる動作)
次に、クロック端子ΦAの電位が立上がり、コンデンサC2によって容量結合されているノードNA2の電位が、既にコンデンサC2に蓄積された電荷による電圧にクロック端子ΦAの電位が加えられた電位にまで上がる。
(クロックΦBによる動作)
次に、クロック端子ΦBの電位が立上がってコンデンサE2によって容量結合されているノードNB2の電位が上がり、電荷転送素子Q2のゲート(制御端子)をオンしてノードNA2からノードNA3へ電荷を転送することでノードNA3を高電位にする。また、ノードNA2からノードNA3へ電荷を転送すると、ノードNA3から電荷供給素子T3によりノードNB3へも電荷が供給される。
以上に図1と図2で説明したように、本実施例の単位昇圧回路は、電荷転送素子Qのドレイン端子側(第2段目の単位昇圧回路ではノードNA1)の電荷をソース端子側(ノードNA2)へ転送して、電荷転送素子Qのソース端子側(ノードNA2)の電圧を、電荷転送素子Qのドレイン側の電荷による電圧にクロックの電位を加えた電圧にまで上昇させる。その結果、各段の単位昇圧回路毎に電荷の転送を繰り返すことで、最終段の単位昇圧回路の高電位ノードNA3の出力電位を単位昇圧回路の段数分上昇させる。
(リップル制御回路の構成)
本実施形態の昇圧回路の昇圧部は、クロック端子ΦDの電位の立ち上がりで電荷転送素子Q3のゲート(制御端子)をONにして高電位ノードNA3の電荷を外部出力端子VP
Pに転送する。このとき、転送する電荷量はクロック端子ΦA〜Dの電位の振幅幅(電源電圧)に比例するため、例えば電源電圧5.5V時は、電源電圧1.8V時よりリップルが大きくなる。そのリップルを低減した電圧出力を得るため、昇圧回路の高電位ノードNA3と外部出力端子VPPの間にリップル制御回路を設置する。
リップル制御回路は、昇圧回路の高電位ノードNA3をリップル制御回路(昇圧部出力端子VPPI)を介して外部出力端子VPPに電荷を転送する。昇圧部出力端子VPPIから外部出力端子VPPに電荷を転送する過程で過剰な電荷を電源ノードVCCに戻し、昇圧部出力端子VPPIから外部出力端子VPPに転送する電荷を一定量に制御する回路である。回路構成を図1を参照して説明する。本実施形態のリップル制御回路は、昇圧回路の高電位ノードNA3を昇圧回路の電荷転送素子Q3を介して、リップル制御回路の内部ノードである昇圧部出力端子VPPIに接続する。
昇圧部出力端子VPPIはPMOSトランジスタの電荷転送素子P1を介して外部出力端子VPPに接続される。外部出力端子VPPには、接続先の回路負荷や配線の寄生容量や安定化容量等の容量がつながっており、図1では、まとめて安定化容量等C0としている。また、昇圧部出力端子VPPIは電位安定素子S4と電荷供給素子T4を介して、電荷転送素子P1のゲートノードVPPTGに接続されている。電位安定素子S4のゲート(制御端子)はゲートノードVPPTGに接続し、電荷供給素子T4のゲート(制御端子)は昇圧部出力端子VPPIに接続する。
また、ゲートノードVPPTGはコンデンサCGを介してクロック端子ΦDに接続される。また、昇圧部出力端子VPPIはゲート(制御端子)・ドレインを共通に接続した電荷放出素子W2(任意の数n段)を介して電荷放出素子W1に接続され、電荷放出素子W1を介して電源ノードVCCに接続される。また、昇圧部出力端子VPPIは定電位設定素子W3を介して基準ゲートノードVPPGに接続され、基準ゲートノードVPPGは電荷放出素子W1のゲート(制御端子)に接続される。また、定電位設定素子W3のゲート(制御端子)はゲートノードVPPTGに接続される。また、昇圧部出力端子VPPIには負荷コンデンサCPが接続される。
(リップル制御回路の動作)
次に、図3を参照してリップル制御回路の動作を説明する。
(クロックΦDの立ち上がる前の動作)
クロック端子ΦDの電位が立ち上がる前の各ノードVPPTG,基準ゲートノードVPPG,外部出力端子VPPの電位は昇圧部出力端子VPPIと同等(例えばαV)である。
(クロックΦDの立ち上がり時の動作)
クロック端子ΦDの電位が立ち上がると、昇圧回路Q3がONし、高電位ノードNA3から昇圧部出力端子VPPIに電荷が転送され昇圧部出力端子VPPIの電位が上昇する。同時に、クロック端子ΦDのたち上がった電位により、ゲートノードVPPTGの電位も上昇し、定電位設定素子W3と電荷転送素子P1はOFFの状態となる。このとき、昇圧部出力端子VPPIとゲートノードVPPTGは電位安定素子S4と電荷供給素子T4により昇圧部出力端子VPPI≒ゲートノードVPPTG(例えばβV)になる。
(クロックΦDの立ち上がり後の動作)
基準ゲートノードVPPGがαVでW1のゲート(制御端子)に接続されており、W1から昇圧部出力端子VPPI間にW2がn段、ゲート(制御端子)・ソース共通で接続されていて、昇圧部出力端子VPPIがβVであるため、β−α>Vthp×(n+1)の場合、β−α=Vthp×(n+1)になるまで、昇圧部出力端子VPPIの電荷が電源ノードVCCに放出され、昇圧部出力端子VPPIの電位は低くなる。
(クロックΦDの立下り時の動作)
クロック端子ΦDの電位の立下りで、ゲートノードVPPTGはクロック端子ΦDの立ち下がった電位により電位が下がり、P1、W3がONする。昇圧部出力端子VPPIの電荷は基準ゲートノードVPPG、外部出力端子VPPに転送され、基準ゲートノードVPPGと外部出力端子VPPは上昇し昇圧部出力端子VPPIと同等の電位となる。このとき、昇圧部出力端子VPPIとゲートノードVPPTGは電位安定素子S4と電荷供給素子T4により昇圧部出力端子VPPI≒ゲートノードVPPTGになる。(ゲートノードVPPTG,基準ゲートノードVPPG,外部出力端子VPPの電位は昇圧部出力端子VPPIと同等であり、クロック端子ΦDの電位の立ち上がる前の状態になる。)
(リップル制御の仕組み)
クロック端子ΦDの電位の立ち上がり後の動作で昇圧部出力端子VPPIの電位はαVからβVに上昇し(上昇する電位はVthp×(n+1)Vで電源電圧に影響されず一定値)、このときに昇圧部出力端子VPPIに残った電荷は、Vthp×(n+1)×C0である。クロック端子ΦDの電位の立下りで、昇圧部出力端子VPPIの電荷Vthp×(n+1)×CPが外部出力端子VPPに転送され、外部出力端子VPPの電位はVthp×(n+1)×CP/(C0+CP)だけ上昇する。Vthp×(n+1)は電源電圧に影響されず一定であるため、外部出力端子VPPの上昇電位はCP/(C0+CP)で制御できる。
このように、リップル制御回路を用いることで、外部出力端子VPPのリップル量をリップル制御回路の外部出力端子VPPの安定化容量等C0と昇圧部出力端子VPPIの負荷容量CPで制御することが出来る効果がある。
本実施形態の昇圧回路は、上述したように、各段の単位昇圧回路毎に電荷転送素子(第2段目の回路ではQ1)Qのドレイン端子側(第2段目の単位昇圧回路ではノードNA1)の電荷をソース端子側(ノードNA2)へ転送して、電荷転送素子Q1のソース端子側(ノードNA2)の電圧を、電荷転送素子Q1のドレイン側の電荷による電圧にクロックの電位を加えた電圧にまで上昇させる処理を行ない、各段の単位昇圧回路毎に電荷の転送を繰り返すことで、昇圧部出力端子VPPIの出力電位を単位昇圧回路の段数分上昇させることができる。そして、リップル制御回路が、クロックの立ち上げの際の昇圧回路の昇圧部出力端子VPPIのリップルを除去した出力電圧を外部出力端子VPPに出力するため、外部出力端子VPPにリップルの少ない昇圧電圧が得られる効果がある。
上述した例では、4相クロック方式や2相クロック方式を用いたが、その他にも6相クロック方式や8相クロック方式の昇圧回路にも適宜採用できる。
Q0、Q1、Q2、Q3、P1・・・電荷転送素子
S0、S1、S2、S3、S4・・・電位安定素子
T0、T1、T2、T3、T4・・・電荷供給素子
W1、W2、W2'・・・電荷放出素子
W3・・・定電位設定素子
C0・・・安定化容量等(及びその容量値)
C1、C2、C3、E0、E1、E2、E3、CG・・・コンデンサ
CP・・・コンデンサ(及びその容量値)
VCC・・・電源ノード(及びその電圧)
NA0、NA1、NA2、NB0、NB1、NB2、NB3・・・ノード
NA3・・・(高電位)ノード
VPP・・・外部出力端子
VPPG・・・基準ゲートノード
VPPI・・・昇圧部出力端子
VPPTG・・・ゲートノード
Vthp・・・電荷放出素子のしきい値電圧
n・・・電荷放出素子の段数
ΦA、ΦB、ΦC、ΦD・・・クロック端子

Claims (2)

  1. 単位昇圧回路を複数段連結して成る昇圧部と、前記昇圧部の出力端子(昇圧部出力端子)に連結したリップル制御回路から成る昇圧回路であって、前記昇圧部の最終段の単位昇圧回路の第1の電荷転送素子が、クロック端子のクロック信号の立ち上がりの際に前記最終段の単位昇圧回路の入力端子から出力端子に電荷を転送する動作を行ない、
    前記リップル制御回路が、
    前記昇圧部出力端子とグラウンド端子の間に接続された第1のコンデンサと、
    前記昇圧部出力端子と電源端子の間に接続する複数段の電荷放出素子と、
    前記クロック端子に第2のコンデンサを介して制御端子が接続され前記昇圧部出力端子と外部出力端子の間に接続された第2の電荷転送素子と、
    前記電荷放出素子の1つの素子の制御端子と前記昇圧部出力端子の間に接続し制御端子が前記第2の電荷転送素子の制御端子に接続された定電位設定素子とを有し、
    前記クロック端子のクロック信号の立ち上げの際に前記外部出力端子が前記第2の電荷転送素子によって前記昇圧部出力端子から切り離され、
    前記定電位設定素子が前記クロック端子のクロック信号の立ち上げの際にオフにされて前記前記電荷放出素子の1つの素子の制御端子の電位を一定値に維持し前記電荷放出素子をオンにすることを特徴とする昇圧回路。
  2. 請求項1記載の昇圧回路であって、前記第2の電荷転送素子がソース端子を前記昇圧部出力端子に接続しドレイン端子を前記外部出力端子に接続したpMOSトランジスタであり、前記複数段の電荷放出素子がpMOSトランジスタであり前段の電荷放出素子のドレイン端子と制御端子を後段の電荷放出素子のソース端子に接続し、第1段の電荷放出素子のソース端子を前記昇圧部出力端子に接続し、最終段の前記電荷放出素子の制御端子をpMOSトランジスタの前記定電位設定素子のドレイン端子に接続することを特徴とする昇圧回路。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112054021A (zh) * 2019-06-06 2020-12-08 英飞凌科技德累斯顿公司 半导体器件及其制造方法

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CN112054021A (zh) * 2019-06-06 2020-12-08 英飞凌科技德累斯顿公司 半导体器件及其制造方法

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