JP2011003766A - Substrate-processing apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate-processing apparatus for assuring space enough to perform the pulling-out operation of a processing chamber 21 in performing its maintenance, and at the same time disposing a scaffold for the maintenance, in the substrate-processing apparatus 1 equipped with the processing chamber 21 disposed to be stacked in a multi-stage structure.SOLUTION: The scaffold 31 for the operation extending in the pulling-out direction of the processing chamber 21 is disposed inside a frame 3 for the maintenance. Further, a region for the pulling-out operation is assured by disposing the staging point 31 for the operation in a vertically asymmetric manner.

Description

本発明は、基板に対して所定の処理を行う処理室を有する基板処理装置に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus having a processing chamber for performing predetermined processing on a substrate.

従来より、基板に対して所定の処理を行う処理室を有する基板処理装置が用いられている。当該基板処理装置では、フットプリントを削減するために、複数の処理室を垂直方向に積層することが行われる。例えば、特許文献1には、複数の処理室を垂直方向に積層するとともに、メンテナンスを容易にするために、筐体の外部のメンテナンス時位置へ処理室を引き出し可能とした多段式の基板処理装置が開示されている。特許文献1の基板処理装置では、メンテナンス位置へ引き出された処理室は、筐体とは別の、メンテナンス用フレームにより支持されている。
図10は、従来の基板処理装置の一例を示す斜視図である。
このような処理装置におけるメンテナンス用フレームは、強度を保つための外枠90を備えるが、引き出し作業を可能にするために内部は吹き抜け構造になっている。そのため、引き出した処理室に対して上方からメンテナンスを行う場合は、図10に示すように、作業場所を確保するために仮設の足場91を設けて作業を行うことが一般的に行われている。
Conventionally, a substrate processing apparatus having a processing chamber for performing predetermined processing on a substrate has been used. In the substrate processing apparatus, in order to reduce the footprint, a plurality of processing chambers are stacked in the vertical direction. For example, Patent Document 1 discloses a multi-stage substrate processing apparatus in which a plurality of processing chambers are stacked in the vertical direction and the processing chambers can be pulled out to a maintenance position outside the housing in order to facilitate maintenance. Is disclosed. In the substrate processing apparatus of Patent Document 1, the processing chamber pulled out to the maintenance position is supported by a maintenance frame different from the housing.
FIG. 10 is a perspective view showing an example of a conventional substrate processing apparatus.
The maintenance frame in such a processing apparatus includes an outer frame 90 for maintaining strength, but the inside has a blow-out structure to enable a drawing operation. Therefore, when maintenance is performed on the drawn processing chamber from above, it is generally performed by providing a temporary scaffold 91 in order to secure a work place as shown in FIG. .

特開2006 − 210767 号公報JP 2006-210767 A

ところが、近年では基板処理装置が処理対象とする基板が大型化する傾向にあり、それに対応すべく、基板処理装置も大型化している。基板処理装置の一辺が大きくなると、仮設で設けるための足場の長さも必然的に長くなる。近年では仮設の足場が4mにも及ぶ場合があり、足場の長さに対して強度を持たせるためには仮設の足場自体の重量も増大する結果となる。また、基板処理装置の大型化に伴い処理室が配置される高さも高くなるため、仮設の足場の設置自体が困難となる、という問題も発生している。   However, in recent years, substrates to be processed by the substrate processing apparatus tend to increase in size, and the substrate processing apparatus is also increased in size to cope with this. As one side of the substrate processing apparatus becomes larger, the length of the scaffold for provisional provision becomes inevitably longer. In recent years, the temporary scaffold may reach as much as 4 m, and in order to give strength to the length of the scaffold, the weight of the temporary scaffold itself increases. In addition, as the substrate processing apparatus is increased in size, the height at which the processing chamber is disposed is also increased, which causes a problem that it is difficult to install the temporary scaffolding itself.

本発明は、これらの問題を解決するためになされたものであり、処理室の引き出し作業が可能となる空間を確保しつつ、メンテナンス用の足場を配置可能な基板処理装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve these problems, and it is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus capable of arranging a scaffold for maintenance while ensuring a space in which a process chamber can be pulled out. And

上記課題を解決するため、請求項1の発明は、基板に対して所定の処理を行う処理室を有する基板処理装置であって、複数の前記処理室を構成する複数の部材を支持する第1支持構造と、前記第1支持構造とは独立して前記第1支持構造の外部で前記処理室または前記複数の部材のうちの少なくともひとつの所定部材を支持する第2支持構造と、当該処理室または当該所定部材を前記第1支持構造から前記第2支持構造に移動させる移動機構と、を備え、前記第2支持構造は、前記第1支持構造と前記第2支持構造との配列方向に平行な第1方向に延設された複数の作業足場をさらに備える。   In order to solve the above-mentioned problems, a first aspect of the present invention is a substrate processing apparatus having a processing chamber for performing a predetermined processing on a substrate, wherein the first member supports a plurality of members constituting the plurality of processing chambers. A support structure; a second support structure that supports at least one predetermined member of the processing chamber or the plurality of members outside the first support structure independently of the first support structure; and the processing chamber Or a moving mechanism for moving the predetermined member from the first support structure to the second support structure, wherein the second support structure is parallel to the arrangement direction of the first support structure and the second support structure. And a plurality of work scaffolds extending in the first direction.

請求項2の発明は、請求項1に記載の基板処理装置において、前記処理室は、前記第1支持構造により上下方向に積層されて配置され、前記複数の作業足場は、前記第1支持構造により支持された前記処置室の高さに対応する位置に、それぞれ配置され、かつ、上下に隣接する前記処置室に対応する作業足場に対して、平面視において重ならない領域を有するように配置される。   According to a second aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first aspect, the processing chambers are vertically stacked by the first support structure, and the plurality of work scaffolds are the first support structure. Are arranged at positions corresponding to the height of the treatment room supported by each other, and are arranged so as to have a region that does not overlap in plan view with respect to the work scaffold corresponding to the treatment room adjacent vertically. The

請求項3の発明は、 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、前記第2支持構造は、前記第1方向に対して略垂直な第2方向に延設された梁を有する第1作業領域と、前記第1作業領域以外である第2作業領域と、からなり、前記作業足場のうちの少なくともひとつは、前記第2作業領域に配置される。   According to a third aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus of the first or second aspect, the second support structure includes a beam extending in a second direction substantially perpendicular to the first direction. The work area includes a first work area and a second work area other than the first work area, and at least one of the work scaffolds is disposed in the second work area.

請求項4の発明は、基板に対して所定の処理を行う処理室を有する基板処理装置であって、前記処理室を構成する複数の部材を上下方向に積層して支持する第1支持構造と、前記第1支持構造とは独立して前記第1支持構造の外部で前記処理室または前記複数の部材のうちの少なくともひとつの所定部材を支持する第2支持構造と、当該処理室または当該所定部材を前記第1支持構造から前記第2支持構造に移動させる移動機構と、を備え、前記第2支持構造は、前記移動機構により前記処理室または前記所定部材を前記第1支持構造と前記第2支持構造との配列方向に平行な第1方向に移動させる作業を行うための、前記第1方向に延設された移動作業領域を有し、前記移動作業領域は、前記第1支持構造により支持された前記処置室の高さに対応する位置にそれぞれ配置され、かつ、上下に隣接する前記処置室に対応する移動作業領域に対して、平面視において重ならない領域を有するように配置される。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus having a processing chamber for performing a predetermined process on a substrate, wherein a plurality of members constituting the processing chamber are stacked in the vertical direction and supported. A second support structure for supporting at least one predetermined member of the processing chamber or the plurality of members outside the first support structure independently of the first support structure; the processing chamber or the predetermined A moving mechanism for moving a member from the first support structure to the second support structure, and the second support structure moves the processing chamber or the predetermined member from the first support structure to the first support structure by the moving mechanism. 2 has a moving work area extending in the first direction for performing a work of moving in a first direction parallel to the arrangement direction with the support structure, and the moving work area is formed by the first support structure. The height of the supported treatment room Respectively disposed at positions corresponding to, and for moving the work area corresponding to the treatment room adjacent to the upper and lower, are arranged to have a region which does not overlap in a plan view.

本発明では、処理室または処理室を構成する複数の部材を第1支持構造から第2支持構造へ移動させる作業に必要となる足場を簡潔な構造で配置することができる。   In the present invention, the scaffold required for the operation of moving the processing chamber or a plurality of members constituting the processing chamber from the first support structure to the second support structure can be arranged with a simple structure.

特に、請求項2の発明によれば、処理室が上下方向に積層配置されている場合においても、処理室または処理室を構成する複数の部材を移動させる作業に必要となる足場を簡潔な構造で配置することができる。   In particular, according to the invention of claim 2, even when the processing chambers are stacked in the vertical direction, the scaffold required for the operation of moving the processing chamber or a plurality of members constituting the processing chamber is simplified. Can be arranged.

特に、請求項3の発明によれば、メンテナンスなどのその他の作業に必要な梁を備える構成であっても、処理室または処理室を構成する複数の部材を移動させる作業に必要となる足場を簡潔な構造で配置することができる。   In particular, according to the invention of claim 3, even in a configuration including beams necessary for other operations such as maintenance, a scaffold required for the operation of moving the processing chamber or a plurality of members constituting the processing chamber is provided. It can be arranged with a simple structure.

特に、請求項4の発明によれば、処理室が上下方向に積層配置されている場合においても、処理室または処理室を構成する複数の部材を第1支持構造から第2支持構造へ移動させるために必要となる移動作業領域を簡潔な構造で確保することができる。   In particular, according to the invention of claim 4, even when the processing chambers are stacked in the vertical direction, the plurality of members constituting the processing chamber or the processing chamber are moved from the first support structure to the second support structure. Therefore, it is possible to secure a moving work area required for this purpose with a simple structure.

第1の実施の形態に係る基板処理装置1の斜視図である。1 is a perspective view of a substrate processing apparatus 1 according to a first embodiment. 第1の実施の形態に係る基板処理装置1の正面図である。1 is a front view of a substrate processing apparatus 1 according to a first embodiment. 第1の実施の形態に係る基板処理装置1の断面図である。It is sectional drawing of the substrate processing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment. 移動機構22を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the moving mechanism. 第2の実施の形態に係る基板処理装置1aの正面図である。It is a front view of the substrate processing apparatus 1a which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係る基板処理装置1aの断面図である。It is sectional drawing of the substrate processing apparatus 1a which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施の形態に係る基板処理装置1bの正面図である。It is a front view of the substrate processing apparatus 1b which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施の形態に係る基板処理装置1cの正面図である。It is a front view of the substrate processing apparatus 1c which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係る基板処理装置1cの断面図である。It is sectional drawing of the substrate processing apparatus 1c which concerns on 4th Embodiment. 従来の基板処理装置の斜視図である。It is a perspective view of the conventional substrate processing apparatus.

本発明の実施形態に係る基板処理装置1は、加熱処理(又は冷却処理)を基板に対して行う。ただし、これは例示であり、基板処理装置1がこれらの熱処理以外の処理を基板に対して行う場合にも本発明は適用可能である。また、基板処理装置1が処理対象とする基板は、特に制限されないが、例えば、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレイパネル)用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク用セラミック基板等である。以下では、当該基板処理装置1の構成について、図1〜図8を参照しながら説明する。   The substrate processing apparatus 1 according to the embodiment of the present invention performs a heating process (or a cooling process) on a substrate. However, this is merely an example, and the present invention can also be applied when the substrate processing apparatus 1 performs a process other than the heat treatment on the substrate. The substrate to be processed by the substrate processing apparatus 1 is not particularly limited. For example, a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a PDP (plasma display panel), a glass substrate for a magnetic disk, and a glass for an optical disk. A substrate and a ceramic substrate for a magnetic disk. Below, the structure of the said substrate processing apparatus 1 is demonstrated, referring FIGS. 1-8.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る基板処理装置1をメンテナンスエリア側から見た斜視図である。図1においては、基板処理装置1が設置される床面FLをXY平面とするXYZ直交座標系が定義されている。以降の図においても、同じXYZ直交座標系を用いる。   FIG. 1 is a perspective view of the substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention as viewed from the maintenance area side. In FIG. 1, an XYZ orthogonal coordinate system is defined in which the floor surface FL on which the substrate processing apparatus 1 is installed is the XY plane. The same XYZ rectangular coordinate system is used in the subsequent figures.

図1に示すように、基板処理装置1は、処理装置フレーム2の内部に複数の処理室21を垂直方向に積層して収容した多段式の装置であり、この実施形態では、積層配置された各段のZ方向のピッチは、約1mとなっている。なお、図1には、3個の処理室21を有する基板処理装置1が図示されているが、処理室21の数は2個以下又は4個以上であってもよい。処理装置フレーム2は、骨格となるパイプやアングル等の棒状部材を結合して形成された略直方体形状の筐体であり、処理室21を内部に支持する支持構造として機能する。処理装置フレーム2の骨格には、外装や棚板となる板状部材が必要に応じて取り付けられる。処理室21の各々は、有蓋の略直方体形状を有し、下側部材となる箱型形状の本体211と上側部材となる上蓋212とに分離可能である。
なお、処理室21には、+Y方向もしくは、+X方向および−X方向から図示しない基板搬送装置によって基板が搬送され、所定の処理が行われる。
As shown in FIG. 1, the substrate processing apparatus 1 is a multi-stage apparatus in which a plurality of processing chambers 21 are stacked in a vertical direction inside a processing apparatus frame 2 and are stacked in this embodiment. The pitch of each stage in the Z direction is about 1 m. Although FIG. 1 shows the substrate processing apparatus 1 having three processing chambers 21, the number of processing chambers 21 may be two or less or four or more. The processing apparatus frame 2 is a substantially rectangular parallelepiped casing formed by connecting rod-like members such as pipes and angles that form a skeleton, and functions as a support structure that supports the processing chamber 21 inside. A plate-like member serving as an exterior or a shelf is attached to the skeleton of the processing apparatus frame 2 as necessary. Each of the processing chambers 21 has a substantially rectangular parallelepiped shape with a lid, and can be separated into a box-shaped main body 211 serving as a lower member and an upper lid 212 serving as an upper member.
The substrate is transferred to the processing chamber 21 by a substrate transfer device (not shown) from the + Y direction or the + X direction and the −X direction, and a predetermined process is performed.

基板処理装置1には、メンテナンス用フレーム3が処理装置フレーム2の−Y側に隣接して併設される。メンテナンス用フレーム3もまた、処理装置フレーム2と同様に、骨格となるパイプやアングル等の棒状部材を結合して形成され、略直方体形状を有している。   A maintenance frame 3 is provided adjacent to the substrate processing apparatus 1 adjacent to the −Y side of the processing apparatus frame 2. Similarly to the processing apparatus frame 2, the maintenance frame 3 is also formed by connecting rod-like members such as pipes and angles serving as a skeleton, and has a substantially rectangular parallelepiped shape.

図2は、本発明の実施形態に係る基板処理装置1を、メンテナンス用フレーム3側から見た正面図である。また、図3は、図2のA−A断面で切断した断面図である。   FIG. 2 is a front view of the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment of the present invention as viewed from the maintenance frame 3 side. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

図1や図2に示すように、メンテナンス用フレーム3には、処理装置フレーム2に収容された処理室21が配置される面と、略同じ高さに作業用足場31および梁部32が配置されている。また、積層配置された各処理室21に対応し、作業用足場31および梁部32もそれぞれ配置される。この実施形態では、処理室21の積層ピッチと同様に、メンテナンス用フレーム3に配置された各段の積層ピッチも、それぞれ約1mである。   As shown in FIGS. 1 and 2, the maintenance frame 3 is provided with a working scaffold 31 and a beam portion 32 at substantially the same height as the surface on which the processing chamber 21 accommodated in the processing apparatus frame 2 is disposed. Has been. Corresponding to the processing chambers 21 arranged in a stacked manner, a working scaffold 31 and a beam portion 32 are also arranged. In this embodiment, similarly to the stacking pitch of the processing chamber 21, the stacking pitch of each stage arranged in the maintenance frame 3 is about 1 m, respectively.

作業用足場31は、例えばアルミ材などを用いて形成された略板状部材であり、メンテナンス用フレーム3の各段に対してY方向に固定配置されている。作業用足場31は主に処理装置フレーム2に配置された処理室21をメンテナンス用フレーム3まで引き出す作業に用いられる。   The work scaffold 31 is a substantially plate-like member formed using, for example, an aluminum material, and is fixedly arranged in the Y direction with respect to each stage of the maintenance frame 3. The work scaffold 31 is mainly used for pulling out the processing chamber 21 arranged in the processing apparatus frame 2 to the maintenance frame 3.

また、各作業用足場31は、上下方向に隣接する作業用足場31に対して、X方向に段違いに配置されている。換言すれば、各高さの作業用足場31は、上下方向に隣接する作業用足場31に対して、Z方向から見て互いに重ならない領域を備えて配置されている。そのため、作業員は作業用足場31上に立ってY方向に歩行しながら、処理室21を移動させることが容易となる。   In addition, each work scaffold 31 is arranged in a step difference in the X direction with respect to the work scaffold 31 adjacent in the vertical direction. In other words, the work scaffolds 31 of each height are arranged with regions that do not overlap each other when viewed from the Z direction with respect to the work scaffolds 31 adjacent in the vertical direction. Therefore, the worker can easily move the processing chamber 21 while standing on the work scaffold 31 and walking in the Y direction.

梁部32は、例えばアルミ材などを用いて形成された棒状部材である。梁部32は、Y軸方向に延びるY梁321、およびX軸方向に延びるX梁322が交差するように形成されており、作業者がその上面に乗って作業をするのに十分な強度を備えている。また、作業用足場31は梁部32のY梁321にその一部が固定されており、梁部32によって作業用足場31の強度が確保されている。   The beam portion 32 is a rod-shaped member formed using, for example, an aluminum material. The beam portion 32 is formed so that the Y beam 321 extending in the Y axis direction and the X beam 322 extending in the X axis direction intersect with each other, and has sufficient strength for an operator to work on the upper surface. I have. A part of the work scaffold 31 is fixed to the Y beam 321 of the beam portion 32, and the strength of the work scaffold 31 is secured by the beam portion 32.

図3に示すように、各々の処理室21は、基板に対して処理を行う場合には、処理装置フレーム2の内部の処理時位置(実線で示す位置)において処理装置フレーム2によって支持される。そして、メンテナンス(保全)作業を行う場合には、処理室21はメンテナンス用フレーム3の内部のメンテナンス時位置(仮想線で示す位置)において、メンテナンス用フレーム3によって支持される。本体211及び上蓋212の各々は、処理時位置とメンテナンス時位置との間で独立して移動可能となっている。   As shown in FIG. 3, each processing chamber 21 is supported by the processing apparatus frame 2 at a processing time position (indicated by a solid line) inside the processing apparatus frame 2 when processing a substrate. . When a maintenance operation is performed, the processing chamber 21 is supported by the maintenance frame 3 at a maintenance position (a position indicated by a virtual line) inside the maintenance frame 3. Each of the main body 211 and the upper lid 212 is independently movable between a processing position and a maintenance position.

メンテナンス時位置に配置された処理室21の本体211または上蓋212は、作業用足場31、および梁部32の下部に位置する。そのため、作業者は作業用足場31や梁部32の上部に乗って、作業室の本体211または上蓋212のメンテナンス作業を行うことができる。   The main body 211 or the upper lid 212 of the processing chamber 21 disposed at the maintenance position is located below the work scaffold 31 and the beam portion 32. Therefore, an operator can perform maintenance work on the main body 211 or the upper lid 212 of the work room by getting on the work scaffold 31 and the beam part 32.

また、作業用足場31、および梁部32は、メンテナンス用フレーム3に常時配置されているため、メンテナンス作業時に仮設の足場を設置する必要が無く、作業時間を短縮することができる。   Further, since the work scaffold 31 and the beam portion 32 are always arranged on the maintenance frame 3, it is not necessary to install a temporary scaffold during maintenance work, and the work time can be shortened.

なお、メンテナンス用フレーム3に配置された作業用足場31は、メンテナンス用フレーム3の内部において、X方向中央部を占める引き出し領域A1に配置されている。この引き出し領域A1は、梁部32のX梁322が無く、また上下方向に吹き抜け構造となっている領域(請求項の第2作業領域)である。そのため、引き出し領域A1では、処理部21を処理装置フレーム2からメンテナンス用フレーム3側である−Y方向に引き出す際、作業者が立った姿勢で作業を行うことが可能となる。さらに、作業用足場31はY方向に延設されているため、作業者は作業用足場31上で、処理部21を引き出しながら移動することが可能となる。   The work scaffold 31 disposed on the maintenance frame 3 is disposed in the drawer region A1 occupying the central portion in the X direction inside the maintenance frame 3. This pull-out area A1 is an area (the second work area in the claims) that does not have the X beam 322 of the beam portion 32 and has a blowout structure in the vertical direction. Therefore, in the pull-out area A1, when the processing unit 21 is pulled out from the processing device frame 2 in the −Y direction on the maintenance frame 3 side, it is possible for the worker to work in a standing posture. Furthermore, since the work scaffold 31 extends in the Y direction, the worker can move while pulling out the processing unit 21 on the work scaffold 31.

また、梁部32は、メンテナンス用フレーム3の内部の+X側および−X側に位置するメンテナンス領域A2に形成されている。メンテナンス領域A2は梁部32のX梁322を備える領域(請求項の第1作業領域)である。作業者は、梁部32のY梁321およびX梁322上に乗った状態で、梁と梁の間から処理室21に対してのメンテナンス作業を行う。また、メンテナンス時位置に移動された処理室21に対して、上下いずれの方向からでもメンテナンス作業が可能となる。   The beam portion 32 is formed in the maintenance area A2 located on the + X side and the −X side inside the maintenance frame 3. The maintenance area A2 is an area including the X beam 322 of the beam portion 32 (a first work area in the claims). The operator performs maintenance work on the processing chamber 21 from between the beams while riding on the Y beam 321 and the X beam 322 of the beam portion 32. In addition, maintenance work can be performed on the processing chamber 21 moved to the maintenance position from any direction.

また、本体211および上蓋212には、引き出し用取手23を備える。作業者は本体211および上蓋212を引き出す際、引き出し用取手23を握持しながら作業用足場31の上を−Y方向に移動することにより、本体211および上蓋212を引き出すことが可能となる。   Further, the main body 211 and the upper lid 212 are provided with a pull-out handle 23. When the operator pulls out the main body 211 and the upper lid 212, the main body 211 and the upper lid 212 can be pulled out by moving in the −Y direction on the work scaffold 31 while holding the pulling handle 23.

次に、移動機構22について、図4を用いて説明する。図2および図3に概念的に示すように、処理室21の本体211および上蓋212は、移動機構22に接続されている。図4は、基板処理装置1の内側から+X方向に移動機構22を見た断面図である。   Next, the moving mechanism 22 will be described with reference to FIG. As conceptually shown in FIGS. 2 and 3, the main body 211 and the upper lid 212 of the processing chamber 21 are connected to the moving mechanism 22. FIG. 4 is a cross-sectional view of the moving mechanism 22 viewed from the inside of the substrate processing apparatus 1 in the + X direction.

具体的には、移動機構22は本体レール221、上蓋レール222、本体ガイド部材223、上蓋ガイド部材224、上蓋上下機構225、ガイドローラ226、を備えている。   Specifically, the moving mechanism 22 includes a main body rail 221, an upper lid rail 222, a main body guide member 223, an upper lid guide member 224, an upper lid up / down mechanism 225, and a guide roller 226.

図4では、移動機構22の構造に注目し、説明を簡単にするため、本体211、および上蓋212を仮想線で示している。また、メンテナンス用フレームに配置された作業用足場31、および梁部32は、その一部のみを記載し、他は省略している。   In FIG. 4, attention is paid to the structure of the moving mechanism 22, and the main body 211 and the upper lid 212 are indicated by phantom lines for easy explanation. Further, only a part of the work scaffold 31 and the beam part 32 arranged in the maintenance frame are shown, and the others are omitted.

本体レール221は、処理装置用フレーム2の各段から、メンテナンス用フレーム3の対応する段までY方向に連通するように配置されている。本体ガイド部材223は、Y方向に延設された本体レール221に対してガイドローラ226を介して接続されている。また、本体ガイド部材223は二点鎖線で示した本体211と接続されている。これにより、本体211は本体ガイド部材223と一体となって、処理装置用フレーム2からメンテナンス用フレーム3まで移動させることができる。図4は、上蓋212を処理装置用フレーム2側に保持した状態で、本体211をメンテナンス用フレーム3側に引き出した状態を示している。   The main body rail 221 is arranged so as to communicate in the Y direction from each stage of the processing apparatus frame 2 to a corresponding stage of the maintenance frame 3. The main body guide member 223 is connected to a main body rail 221 extending in the Y direction via a guide roller 226. The main body guide member 223 is connected to the main body 211 indicated by a two-dot chain line. Thus, the main body 211 can be moved from the processing apparatus frame 2 to the maintenance frame 3 together with the main body guide member 223. FIG. 4 shows a state in which the main body 211 is pulled out to the maintenance frame 3 side while the upper lid 212 is held on the processing apparatus frame 2 side.

同様に、上蓋レール222は、処理装置用フレーム2の各段から、メンテナンス用フレーム3の対応する段までY方向に連通するように配置されている。上蓋ガイド部材224は、Y方向に延設された上蓋レール222に対してガイドローラ226を介して接続されている。また、上蓋ガイド部材224は二点鎖線で示した上蓋212との間に上下機構225を介して接続されている。これにより、上蓋212は上下機構225および上蓋ガイド部材224と一体となって、処理装置用フレーム2からメンテナンス用フレーム3まで移動させることができる。   Similarly, the upper lid rail 222 is arranged so as to communicate in the Y direction from each stage of the processing apparatus frame 2 to a corresponding stage of the maintenance frame 3. The upper lid guide member 224 is connected to an upper lid rail 222 extending in the Y direction via a guide roller 226. Further, the upper lid guide member 224 is connected to the upper lid 212 indicated by a two-dot chain line via an up / down mechanism 225. Accordingly, the upper lid 212 can be moved from the processing apparatus frame 2 to the maintenance frame 3 together with the vertical mechanism 225 and the upper lid guide member 224.

なお、上蓋ガイド部材224と上蓋212との間に間挿された上下機構225は、上蓋ガイド部材224に対して上蓋212を上下させるための駆動機構であり、具体的にはボールネジやシリンダによって構成することができる。これにより、上蓋212を本体211に対して昇降させ、図示しない基板搬送機構により基板を処理室21内に搬入することにより、基板に対して処理を行うことができる。   The vertical mechanism 225 inserted between the upper lid guide member 224 and the upper lid 212 is a drive mechanism for moving the upper lid 212 up and down with respect to the upper lid guide member 224, and specifically includes a ball screw or a cylinder. can do. Accordingly, the substrate can be processed by moving the upper lid 212 up and down relative to the main body 211 and carrying the substrate into the processing chamber 21 by a substrate transport mechanism (not shown).

第1の実施形態では、処理室21に対して作業用足場31が1箇所に設置されている例を示したが、本発明は上述の実施形態に限定されない。   In the first embodiment, an example in which the work scaffold 31 is installed at one place with respect to the processing chamber 21 is shown, but the present invention is not limited to the above-described embodiment.

図5は、本願発明の第2の実施形態に係る基板処理装置1aをメンテナンス用フレーム3側から見た正面図である。また図6は、図4のB−B断面で切断した断面図である。   FIG. 5 is a front view of the substrate processing apparatus 1a according to the second embodiment of the present invention as viewed from the maintenance frame 3 side. 6 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

図5に示すように、基板処理装置1aのメンテナンス用フレーム3には、各段に2箇所の作業用足場31が配置されている。また、図6に示すように、左右の作業用足場31の間には、仮設足場33が配置されている。第1の実施例と同じ構成に関しては、同じ符号をつける(以後同様)。   As shown in FIG. 5, two working scaffolds 31 are arranged in each stage of the maintenance frame 3 of the substrate processing apparatus 1a. Further, as shown in FIG. 6, a temporary scaffold 33 is disposed between the left and right work scaffolds 31. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals (hereinafter the same).

各段に対して作業用足場31を配置する個数は、処理室21の配置ピッチやそのメンテナンス作業によって適宜選択されてもよい。しかし、各段の少なくとも一つの作業用足場31は、前述の引き出し領域A1に配置されている必要がある。図6では、二つの作業用足場31のうち、+X側の作業用足場31が引き出し領域A1に配置されている。引き出し領域A1には、引き出す作業の妨げとなるX梁322が設置されていない。そのため、作業者は引き出し領域A1に配置された側の作業用足場31上で、処理部21を引き出す際に立って歩行しながら移動することが可能となる。   The number of work scaffolds 31 arranged for each stage may be appropriately selected depending on the arrangement pitch of the processing chambers 21 and the maintenance work thereof. However, at least one work scaffold 31 in each stage needs to be arranged in the aforementioned drawer area A1. In FIG. 6, of the two work scaffolds 31, the work scaffold 31 on the + X side is arranged in the drawer area A1. In the drawing area A1, the X beam 322 that prevents the drawing work is not installed. Therefore, the worker can move while walking while standing on the work scaffold 31 on the side arranged in the drawer area A1 when the processing unit 21 is pulled out.

また、引き出し作業が終わった後、作業用足場31間に仮設足場33を配置することにより、作業性をより向上させることが可能となる。仮設足場33は、作業用足場31と同様に例えばアルミ材などを用いて形成された略板状部材であり、仮設足場33の端部に形成された固定部材によって作業用足場31間の所定の位置に固定配置することが可能である。仮設足場33は作業用足場31に比べて軽く形成することが可能なため、メンテナンス作業を行う地点によって適宜移動させることが可能である。   Moreover, workability can be further improved by disposing the temporary scaffold 33 between the work scaffolds 31 after the drawing work is finished. The temporary scaffold 33 is a substantially plate-like member formed using, for example, an aluminum material similarly to the work scaffold 31, and a predetermined member between the work scaffolds 31 is formed by a fixing member formed at an end of the temporary scaffold 33. It is possible to fix the position. Since the temporary scaffold 33 can be formed lighter than the work scaffold 31, it can be appropriately moved depending on the point where the maintenance work is performed.

このような構成にすることにより、基板の大型化により基板処理装置1a、およびメンテナンス用フレーム3が大きくなった場合においても、必要な箇所にだけ作業用足場31を配置することが可能となる。また、仮設足場33を用いる事により、左右の作業用足場31の中間地点におけるメンテナンス性が向上する。   With such a configuration, even when the substrate processing apparatus 1a and the maintenance frame 3 are enlarged due to the increase in size of the substrate, the work scaffold 31 can be arranged only at a necessary portion. Further, by using the temporary scaffold 33, the maintainability at the intermediate point between the left and right work scaffolds 31 is improved.

また、上述の実施形態では、メンテナンス用フレーム3の各段に配置された梁部32は同一の形状である例を示したが、本発明は上述の実施形態に限定されない。   Moreover, although the beam part 32 arrange | positioned at each step | level of the maintenance frame 3 showed the same shape in the above-mentioned embodiment, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment.

図7は、本願発明の第3の実施形態に係る基板処理装置1bをメンテナンス用フレーム3側から見た正面図である。   FIG. 7 is a front view of the substrate processing apparatus 1b according to the third embodiment of the present invention as viewed from the maintenance frame 3 side.

図7に示すように、基板処理装置1bのメンテナンス用フレーム3には、梁部32と作業用足場31が各段に配置されている。基板処理装置1bの梁部32は、各段において、X方向において段違いとなっている。また、各作業用足場31も同様に、上下方向に隣接する作業用足場31に対して、X方向に段違いに配置されている。このように梁部32および作業用足場31を配置することにより、作業者は各段に配置された作業用足場31上で、処理部21を引き出しながら移動することが可能となる。   As shown in FIG. 7, in the maintenance frame 3 of the substrate processing apparatus 1b, a beam portion 32 and a work scaffold 31 are arranged at each stage. The beam portions 32 of the substrate processing apparatus 1b are stepped in the X direction at each step. Similarly, the respective work scaffolds 31 are arranged in a step difference in the X direction with respect to the work scaffolds 31 adjacent in the vertical direction. By arranging the beam portion 32 and the work scaffold 31 in this way, the operator can move while pulling out the processing unit 21 on the work scaffold 31 arranged in each stage.

なお、第3の実施形態においては、各高さの作業用足場31は、上下方向に隣接する作業用足場31に対して、Z方向から見て互いに重なる領域を一部有している。しかし、作業用足場31上には、Y方向に延びる引き出し作業通路34(図7にて仮想線にて示す)が確保されているため、引き出し作業は容易に行うことが可能である。換言すれば、処理部21を引き出しながら移動が可能となる程度の移動作業領域が確保されていれば、作業用足場31はZ方向から見て一部重なる領域があってもよい。   Note that, in the third embodiment, the working scaffolds 31 at each height partially have regions overlapping each other when viewed from the Z direction with respect to the working scaffolds 31 adjacent in the vertical direction. However, since a drawing work passage 34 (shown by a virtual line in FIG. 7) extending in the Y direction is secured on the work scaffold 31, the drawing work can be easily performed. In other words, the work scaffold 31 may have a partially overlapping area when viewed from the Z direction as long as a movable work area is secured so that the processor 21 can be moved while being pulled out.

このような構成にすることにより、メンテナンス用フレーム3の構成を簡略化しつつ、引き出し作業に必要な空間を確保することが可能となる。   By adopting such a configuration, it is possible to secure a space necessary for the drawing work while simplifying the configuration of the maintenance frame 3.

同様に、上述の第1、第2の実施形態では、メンテナンス用フレーム3の各段に配置された作業用足場31は、上下方向に隣接する作業用足場31に対して、X方向に完全に段違いに配置されていたが、第3の実施形態のように作業用足場31上に引き出し作業通路34が確保される程度に(図7中に仮想線で示すように一部重複するように)段違いであれば良い。   Similarly, in the above-described first and second embodiments, the work scaffolds 31 arranged on each stage of the maintenance frame 3 are completely in the X direction with respect to the work scaffolds 31 adjacent in the vertical direction. Although they are arranged in a stepped manner, the drawing work passage 34 is secured on the work scaffold 31 as in the third embodiment (partially overlapped as shown by the phantom line in FIG. 7). Any difference is sufficient.

また、上述の第1〜第3の実施形態では、メンテナンス用フレーム3の各段に配置された作業用足場31はメンテナンス用フレーム3に対して固定配置されている例を示したが、本発明は上述の実施形態に限定されない。   In the first to third embodiments described above, the working scaffolds 31 arranged at the respective stages of the maintenance frame 3 are fixedly arranged with respect to the maintenance frame 3. Is not limited to the above-described embodiment.

図8は、本願発明の第4の実施形態に係る基板処理装置1cをメンテナンス用フレーム3側から見た正面図である。また図9は、図8のC−C断面で切断した断面図である。   FIG. 8 is a front view of the substrate processing apparatus 1c according to the fourth embodiment of the present invention as viewed from the maintenance frame 3 side. 9 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.

図8に示すように、基板処理装置1cのメンテナンス用フレーム3には、各段に梁部32と、可動作業用足場311が配置されている。可動作業用足場311は、例えばアルミ材などを用いて形成された、Y方向に延びる略板状部材である。   As shown in FIG. 8, in the maintenance frame 3 of the substrate processing apparatus 1c, a beam portion 32 and a movable work scaffold 311 are arranged at each stage. The movable work scaffold 311 is a substantially plate-like member that is formed using, for example, an aluminum material and extends in the Y direction.

図9に示すように、可動作業用足場311の+Y側、および−Y側端部は、メンテナンス用フレーム3の各段に対応するフレームに対して、スライド機構312を介して設置されている。   As shown in FIG. 9, the + Y side and −Y side ends of the movable work scaffold 311 are installed via the slide mechanism 312 with respect to the frame corresponding to each stage of the maintenance frame 3.

スライド機構312は、メンテナンス用フレーム3に配置されたガイド部材313と、ガイド部材313上にX方向にスライド可能に設けられたベース314と、を備える。ベース314は可動作業用足場311の+Y側、およびーY側端部に固定されている。そのため、可動作業用足場311およびベース314は一体として、図の矢印の方向(X方向)に移動させることが可能となる。また、ベース314は、ガイド部材313に対して移動しないように固定することも可能となっている。   The slide mechanism 312 includes a guide member 313 disposed on the maintenance frame 3 and a base 314 provided on the guide member 313 so as to be slidable in the X direction. The base 314 is fixed to the + Y side and the −Y side end of the movable work scaffold 311. Therefore, the movable work scaffold 311 and the base 314 can be moved together in the direction of the arrow in the figure (X direction). Further, the base 314 can be fixed so as not to move with respect to the guide member 313.

メンテナンス作業において処理部21を引き出す際には、所定の段の可動作業用足場311を、梁部32の無い引き出し領域A1に移動させ、メンテナンス用フレーム3に配置されたガイド部材313に対して固定する。引き出し領域A1は梁部32のX梁322が無く、また上下方向に吹き抜け構造となっている領域である。作業者は各段に配置された可動作業用足場311上に立って移動することで、処理室21の引き出し作業を行う。
また、処理部21を引き出した後は、作業を行う地点に応じて所定の段の可動作業用足場311をスライド機構312によって移動させることが可能である。
When the processing unit 21 is pulled out in the maintenance work, the movable work scaffold 311 at a predetermined stage is moved to the pull-out area A1 without the beam part 32 and fixed to the guide member 313 disposed on the maintenance frame 3. To do. The lead-out area A1 is an area where there is no X beam 322 of the beam portion 32 and has a blowout structure in the vertical direction. The worker performs a drawing operation of the processing chamber 21 by standing and moving on the movable work scaffold 311 arranged in each stage.
In addition, after the processing unit 21 is pulled out, the movable work scaffold 311 at a predetermined stage can be moved by the slide mechanism 312 in accordance with a point where the work is performed.

このような構成にすることにより、立って移動することが可能な領域に作業用足場311を配置することが可能となる。また、メンテナンスが必要な地点に対して任意に可動作業用足場311を移動させることができるため、メンテナンス作業を行うための作業用足場の個数を少なくできる。   With such a configuration, the work scaffold 311 can be disposed in an area where it can move while standing. Further, since the movable work scaffold 311 can be arbitrarily moved with respect to a point requiring maintenance, the number of work scaffolds for performing the maintenance work can be reduced.

また、本発明は上述の実施形態には限定されず、要旨を変更しない範囲で様々な態様が考えられる。   Moreover, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, A various aspect can be considered in the range which does not change a summary.

例えば、作業用足場31、および可動作業用足場311は、図1〜図9に示したような直方体形状ではなく、枠体と板状部材とによって形成されていてもよく、また、補強用のリブなどが適宜設けられてもよい。また、作業の安全性を向上させる目的で、安全柵などが設けられても良い。安全柵が各段に常設されていると処理室21の移動の妨げになるため、必要な段に対して別途取り付ける構造になっていることが望ましい。   For example, the work scaffold 31 and the movable work scaffold 311 may not be a rectangular parallelepiped shape as shown in FIGS. 1 to 9, but may be formed by a frame body and a plate-like member. Ribs or the like may be provided as appropriate. A safety fence or the like may be provided for the purpose of improving work safety. If a safety fence is permanently installed at each stage, it will hinder the movement of the processing chamber 21, so that it is desirable to have a structure that is separately attached to the necessary stage.

また例えば移動機構22は、処理装置用フレーム2からメンテナンス用フレーム3に対して本体211および上蓋212を含む処理室21を移動させる構成であれば、前述のようなレールやガイド部材、ローラ等に限られず、当業者が適宜選択することが可能である。具体的には、リニアガイド、浮上ガイド、ボールネジによる送り機構、等が考えられる。   Further, for example, if the moving mechanism 22 is configured to move the processing chamber 21 including the main body 211 and the upper lid 212 from the processing apparatus frame 2 to the maintenance frame 3, the moving mechanism 22 may be applied to the rail, guide member, roller, or the like as described above. It is not limited and can be appropriately selected by those skilled in the art. Specifically, a linear guide, a floating guide, a feed mechanism using a ball screw, and the like can be considered.

また、処理室21は本体211および上蓋212に分離され、かつ独立して処理装置用フレーム2からメンテナンス用フレーム3に移動が可能となっていたが、これに限られるものではない。すなわち、処理室21が一体となって移動する構成や、本体211および上蓋212以外の分割方法により分割され、それぞれ独立して移動する構成であっても良い。   Further, the processing chamber 21 is separated into the main body 211 and the upper lid 212 and can be independently moved from the processing apparatus frame 2 to the maintenance frame 3, but is not limited thereto. That is, a configuration in which the processing chamber 21 moves as a unit, or a configuration in which the processing chamber 21 is divided by a division method other than the main body 211 and the upper lid 212 and moves independently from each other may be employed.

また、上述の実施形態では、引き出し領域A1はメンテナンス用フレーム3の中央部に配置されていたが、これに限定されない。すなわち、引き出し領域A1がメンテナンス用フレーム3の+X側端部、または−X側端部に配置され、中央部にメンテナンス領域A2が配置されていてもよい。   In the above-described embodiment, the drawer area A1 is arranged at the center of the maintenance frame 3. However, the present invention is not limited to this. That is, the drawer area A1 may be disposed at the + X side end or the −X side end of the maintenance frame 3, and the maintenance area A2 may be disposed at the center.

また、上述の実施形態では、メンテナンス用フレーム3は処理室21を完全に包囲する形態であったが、これに限定されない。すなわち、メンテナンス用フレーム3がY方向に短い構成であり、メンテナンス時は処理室21を半分引き出すことで処理室21の半面をメンテナンスし、その後、残りの半分を引き出して残る半面をメンテナンスするといったことも可能である。
In the above-described embodiment, the maintenance frame 3 completely surrounds the processing chamber 21, but the present invention is not limited to this. That is, the maintenance frame 3 has a short configuration in the Y direction, and during maintenance, the half of the processing chamber 21 is maintained by pulling out the half of the processing chamber 21, and then the remaining half is pulled out for maintenance. Is also possible.

1、1a、1b、1c ・・・ 基板処理装置
2 ・・・ 処理装置フレーム
21 ・・・ 処理室
22 ・・・ 移動機構
3 ・・・ メンテナンス用フレーム
31 ・・・ 作業用足場
32 ・・・ 梁部
33 ・・・ 仮設足場
34 ・・・ 引き出し作業通路
311 ・・・ 可動作業用足場
A1 ・・・ 引き出し領域
A2 ・・・ メンテナンス領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a, 1b, 1c ... Substrate processing apparatus 2 ... Processing apparatus frame 21 ... Processing chamber 22 ... Moving mechanism 3 ... Maintenance frame 31 ... Working scaffold 32 ... Beam 33 ... Temporary scaffold 34 ... Draw-out work passage 311 ... Mobile work scaffold A1 ... Draw-out area A2 ... Maintenance area

Claims (4)

基板に対して所定の処理を行う処理室を有する基板処理装置であって、
複数の前記処理室を構成する複数の部材を支持する第1支持構造と、
前記第1支持構造とは独立して前記第1支持構造の外部で前記処理室または前記複数の部材のうちの少なくともひとつの所定部材を支持する第2支持構造と、
当該処理室または当該所定部材を前記第1支持構造から前記第2支持構造に移動させる移動機構と、を備え、
前記第2支持構造は、前記第1支持構造と前記第2支持構造との配列方向に平行な第1方向に延設された複数の作業足場をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
A substrate processing apparatus having a processing chamber for performing predetermined processing on a substrate,
A first support structure for supporting a plurality of members constituting the plurality of processing chambers;
A second support structure that supports at least one predetermined member of the processing chamber or the plurality of members outside the first support structure independently of the first support structure;
A moving mechanism for moving the processing chamber or the predetermined member from the first support structure to the second support structure,
The substrate processing apparatus, wherein the second support structure further includes a plurality of work scaffolds extending in a first direction parallel to an arrangement direction of the first support structure and the second support structure.
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記処理室は、前記第1支持構造により上下方向に積層されて配置され、
前記複数の作業足場は、前記第1支持構造により支持された前記処置室の高さに対応する位置に、それぞれ配置され、かつ、上下に隣接する前記処置室に対応する作業足場に対して、平面視において重ならない領域を有するように配置されることを特徴とする基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1,
The processing chambers are arranged by being vertically stacked by the first support structure,
The plurality of work scaffolds are respectively arranged at positions corresponding to the height of the treatment room supported by the first support structure, and with respect to the work scaffolds corresponding to the treatment rooms adjacent vertically. A substrate processing apparatus, wherein the substrate processing apparatus is disposed so as to have a region that does not overlap in a plan view.
請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、
前記第2支持構造は、前記第1方向に対して略垂直な第2方向に延設された梁を有する第1作業領域と、前記第1作業領域以外である第2作業領域と、からなり、
前記作業足場のうちの少なくともひとつは、前記第2作業領域に配置されることを特徴とする基板処理装置。
In the substrate processing apparatus of Claim 1 or Claim 2,
The second support structure includes a first work area having a beam extending in a second direction substantially perpendicular to the first direction, and a second work area other than the first work area. ,
At least one of the work scaffolds is disposed in the second work area.
基板に対して所定の処理を行う処理室を有する基板処理装置であって、
前記処理室を構成する複数の部材を上下方向に積層して支持する第1支持構造と、
前記第1支持構造とは独立して前記第1支持構造の外部で前記処理室または前記複数の部材のうちの少なくともひとつの所定部材を支持する第2支持構造と、
当該処理室または当該所定部材を前記第1支持構造から前記第2支持構造に移動させる移動機構と、を備え、
前記第2支持構造は、前記移動機構により前記処理室または前記所定部材を前記第1支持構造と前記第2支持構造との配列方向に平行な第1方向に移動させる作業を行うための、前記第1方向に延設された移動作業領域を有し、
前記移動作業領域は、前記第1支持構造により支持された前記処置室の高さに対応する位置にそれぞれ配置され、かつ、上下に隣接する前記処置室に対応する移動作業領域に対して、平面視において重ならない領域を有するように配置されることを特徴とする基板処理装置。
A substrate processing apparatus having a processing chamber for performing predetermined processing on a substrate,
A first support structure for supporting a plurality of members constituting the processing chamber by stacking in a vertical direction;
A second support structure that supports at least one predetermined member of the processing chamber or the plurality of members outside the first support structure independently of the first support structure;
A moving mechanism for moving the processing chamber or the predetermined member from the first support structure to the second support structure,
The second support structure is configured to move the processing chamber or the predetermined member in a first direction parallel to an arrangement direction of the first support structure and the second support structure by the moving mechanism. A moving work area extending in the first direction;
The moving work area is disposed at a position corresponding to the height of the treatment room supported by the first support structure, and is flat with respect to the moving work area corresponding to the treatment room adjacent vertically. A substrate processing apparatus, wherein the substrate processing apparatus is arranged so as to have a region that does not overlap in view.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006210767A (en) * 2005-01-31 2006-08-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate-treating apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006210767A (en) * 2005-01-31 2006-08-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate-treating apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022086584A (en) * 2020-11-30 2022-06-09 キヤノントッキ株式会社 Film deposition device and scaffolding unit

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