JP2011003259A

JP2011003259A - 光ディスク装置及び収差補正方法並びに収差検出装置及び収差検出方法

Info

Publication number: JP2011003259A
Application number: JP2009147837A
Authority: JP
Inventors: Kimihiro Saito; 公博齊藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2009-06-22
Filing date: 2009-06-22
Publication date: 2011-01-06

Abstract

【課題】収差の状態を精度良く検出して補正できるようにする。
【解決手段】光ピックアップ７は、収差補正部１８を介してサーボ光ビームＬＳを基準面１０３に照射し、反射部１０３Ｆの平坦領域ＡＦから得られる平坦反射光ビームＬＳＲＦを分布受光部２２により受光して平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）を生成すると共に、反射部１０３Ｆのマーク領域ＡＭから得られるマーク反射光ビームＬＳＲＭを分布受光部２２により受光してマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）を生成する。信号処理部４は、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）及びマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）、ずれ量（ｘ_０，ｙ_０）並びに係数αを用いて、（２）式により差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出し、これを収差信号ＳＡとする。駆動制御部３は、収差信号ＳＡを基に収差補正部１８を制御することにより、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を収束させるよう補正することができる。
【選択図】図４

Description

本発明は光ディスク装置及び収差補正方法並びに収差検出装置及び収差検出方法に関し、例えば光ディスクに情報を記録し、また当該光ディスクから情報を再生する光ディスク装置に適用して好適なものである。

従来、光ディスク装置においては、例えばＢｌｕ−ｒａｙＤｉｓｃ（登録商標、以下ＢＤと呼ぶ）等の光ディスクに映像、音楽、各種データ等の情報を記録し、また当該光ディスクから当該情報を再生するようになされたものが広く普及している。

特に近年では、映像の高精細化や音楽の高音質化等により情報量が増大し、また１枚の光ディスクに記録するコンテンツ数の増加等も望まれており、当該光ディスクの記録容量をさらに大容量化することが要求されている。

そこで光ディスクのなかには、ＢＤ方式等のように予め複数の記録層が設けられ、当該記録層の数に応じた容量だけ情報を記録し得るようになされた、いわゆる多層光ディスクが提案されている。

また光ディスクの記録容量を大容量化する光ディスク装置の一つとして、光ディスクに比較的厚い１層の記録層を設け、当該記録層の厚さ方向に記録マークの層を複数形成することにより、複数層に相当する情報を記録するものも提案されている（例えば、特許文献１参照）。因みにこのような光ディスク及び記録方式は、それぞれ体積型光ディスク及び体積型光記録方式とも呼ばれている。

特開２００８−１３５１４４公報（第１２図）

ところで、例えばＢＤ方式のように光ビームの波長が比較的短く対物レンズの開口数が比較的大きいような場合、光ディスク装置では、光ディスクに照射される光ビームについて、球面収差や波面収差等の各種の収差を補正する必要がある。

そこで、例えばＢＤ方式に対応した光ディスク装置では、例えば液晶素子やエキスパンダレンズ等を用いた収差補正素子等により、各種収差を補正するようになされている。

一方、体積型光記録方式では、光ディスクの表面から記録マークまでの距離が、ＢＤ方式（例えば０．１［ｍｍ］程度）等よりも大きいため、（例えば０．３〜０．５［ｍｍ］程度）、各種収差が発生しやすくなり、またその収差量も大きくなる。

このため体積型光記録方式に対応した光ディスク装置では、このような収差の状態を正しく検出できなければ、収差補正素子等による補正幅を適切に設定できず、各種収差を適切に補正できない、という問題があった。

本発明は以上の点を考慮してなされたもので、収差の状態を精度良く検出して補正できる光ディスク装置及び収差補正方法並びに収差の状態を高精度に検出できる収差検出装置及び収差検出方法を提案しようとするものである。

かかる課題を解決するため本発明の光ディスク装置及び収差補正方法においては、所定の光源から光ビームを出射し、所定の補正値に基づき所定の収差補正部により光ビームの収差を補正し、光ディスクにおける、所定範囲が略平坦に形成されると共にその略中央の微小範囲が周囲よりも突出又は陥没してなる微小マークが形成された基準面に対し、所定の対物レンズにより光ビームを集光し、光ビームが基準面により反射されてなる反射光ビームを、対物レンズ及び収差補正部を介して所定の受光部に設けられた複数の受光領域により受光し、当該反射光ビームにおける光強度分布を生成し、基準面の微小マークを中心とした所定範囲でなる微小マーク領域に光ビームが照射されたときに受光部から得られる光強度分布であるマーク反射光分布を基に、所定の収差分布生成部により反射光ビームの収差分布を生成し、生成した収差分布を基に所定の補正値生成部により補正値を生成し収差補正部へ供給するようにした。

本発明では、微小マーク領域の平坦部分による反射光成分と微小マークによる反射光成分とが合成されることにより、収差状態に応じた分布が現れる反射光ビームを受光することができる。このため本発明では、反射光ビームのマーク反射光分布を基に収差分布を生成することができ、当該収差分布を打ち消すような補正値を生成することができる。

また本発明の収差検出装置及び収差検出方法においては、所定の光源から光ビームを出射し、光ディスクにおける、所定範囲が略平坦に形成されると共にその略中央の微小範囲が周囲よりも突出又は陥没してなる微小マークが形成された基準面に対し、所定の対物レンズにより光ビームを集光し、光ビームが基準面により反射されてなる反射光ビームを、対物レンズを介して所定の受光部に設けられた複数の受光領域により受光し、当該反射光ビームにおける光強度分布を生成し、基準面の微小マークを中心とした微小マーク領域に光ビームが照射されたときに受光部から得られる光強度分布であるマーク反射光分布を基に、所定の収差分布生成部により反射光ビームの収差分布を生成するようにした。

本発明では、微小マーク領域の平坦部分による反射光成分と微小マークによる反射光成分とが合成されることにより、収差状態に応じた分布が現れる反射光ビームを受光することができ、当該反射光ビームのマーク反射光分布を基に収差分布を生成することができる。

本発明によれば、微小マーク領域の平坦部分による反射光成分と微小マークによる反射光成分とが合成されることにより収差状態に応じた分布が現れる反射光ビームを受光することができる。このため本発明では、反射光ビームのマーク反射光分布を基に収差分布を生成することができ、当該収差分布を打ち消すような補正値を生成することができる。かくして本発明は、収差の状態を精度良く検出して補正できる光ディスク装置及び収差補正方法を実現できる。

また本発明によれば、微小マーク領域の平坦部分による反射光成分と微小マークによる反射光成分とが合成されることにより収差状態に応じた分布が現れる反射光ビームを受光することができ、当該反射光ビームのマーク反射光分布を基に収差分布を生成することができる。かくして本発明は、収差の状態を高精度に検出できる収差検出装置及び収差検出方法を実現できる。

光ディスクの構成を示す略線図である。第１の実施の形態による基準面の構成を示す略線図である。光ディスク装置の構成を示す略線図である。光ピックアップの構成を示す略線図である。光ピックアップにおけるサーボ光学系の構成を示す略線図である。収差補正部の構成を示す略線図である。分布受光部の構成を示す略線図である。光ピックアップにおける情報光学系の構成を示す略線図である。第１の実施の形態による光ディスク装置の機能構成を示す略線図である。光強度分布特性を示す略線図である。第２の実施の形態による基準面の構成を示す略線図である。第２の実施の形態による光ディスク装置の機能構成を示す略線図である。他の実施の形態による位相差マークの構成を示す略線図である。他の実施の形態による光ディスクの構成を示す略線図である。

以下、発明を実施するための形態（以下実施の形態とする）について、図面を用いて説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（１種類のマーク反射光分布を用いる例）
２．第２の実施の形態（２種類のマーク反射光分布を用いる例）
３．他の実施の形態

＜１．第１の実施の形態＞
［１−１．光ディスクの構成］
図１（Ａ）に外観図を示すように、光ディスク１００は、全体として直径約１２０［ｍｍ］の略円盤状に構成されており、中央部分に孔部１００Ｈが形成されている。

光ディスク１００は、図１（Ｂ）に断面図を示すように、情報を記録する記録層１０１と基板１０２とが接合されたような形状となっており、その接合部分に基準面１０３が形成されている。

因みに光ディスク１００は、全体の厚さｔ０が約１．２［ｍｍ］、記録層１０１の厚さｔ１及び基板１０２の厚さｔ２がそれぞれ約０．６［ｍｍ］となるように形成されている。

記録層１０１は、例えば照射された光強度により屈折率が局所的に変化するフォトポリマー等でなる。この記録層１０１は、例えば波長４０５［ｎｍ］でなる情報光ビームＬＭが比較的強い強度で照射されると、熱反応又は光反応等により、その焦点ＦＭ近傍に気泡でなる記録マークＲＭを形成するようになされている。

また記録層１０１は、情報光ビームＬＭが比較的弱い強度で照射されると、その焦点ＦＭの位置に記録マークＲＭが形成されていれば、その一部を反射して情報反射光ビームＬＭＲを生成する。

基板１０２は、例えばポリカーボネイトやガラス等の高透過率でなる硬質の材料により構成され、光ディスク１００の物理的強度を維持するようになされている。

基準面１０３は、例えば誘電体多層膜等でなり、光ビームを反射するようになされている。また基準面１０３は、トラッキングサーボ用の案内溝を形成しており、ランド及びグルーブにより螺旋状のトラックを形成している。

このトラックには、所定の記録単位ごとに一連の番号でなるアドレスが付されており、情報を記録又は再生するトラックを当該アドレスにより特定し得るようになされている。

基準面１０３は、記録層１０１側から例えば波長６６０［ｎｍ］でなるサーボ光ビームＬＳが照射された場合、これを反射してサーボ反射光ビームＬＳＲとし、当該記録層１０１側へ進行させる。

このサーボ反射光ビームＬＳＲは、例えば光ディスク装置において、対物レンズ８により集光されたサーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳを、目標とするトラックに追従させるべく、当該対物レンズ８の位置制御（すなわちフォーカス制御及びトラッキング制御）に用いられることが想定されている。

実際上、光ディスク１００に情報が記録されるとき、位置制御された対物レンズ８によりサーボ光ビームＬＳが集光され、基準面１０３の目標とするトラック（以下これを目標トラックと呼ぶ）に合焦される。

またこのとき、サーボ光ビームＬＳと光軸Ｘを共有し対物レンズ８により集光された情報光ビームＬＭが、記録層１０１内における当該目標トラックに相当する位置に合焦される。このとき情報光ビームＬＭの焦点ＦＭは、対物レンズ８を基準として、共通の光軸Ｘ上における焦点ＦＳよりも手前に位置することになる。

この結果、光ディスク１００の記録層１０１には、基準面１０３における目標とするトラックよりも手前側（対物レンズ８側）に相当する焦点ＦＭの位置に、比較的小さい気泡でなる記録マークＲＭが形成される。

さらに光ディスク１００は、対物レンズ８へ入射される情報光ビームＬＭが調整されることにより、焦点ＦＭの記録層１０１内における基準面１０３からの距離（以下、これを深さと呼ぶ）が変更され、記録マークＲＭの形成位置も変更される。

実際上光ディスク１００は、深さが固定されて記録マークＲＭが基準面１０３と略平行な平面方向に（図１（Ｂ）における横方向に）配列されることにより、記録マークＲＭの層（以下これをマーク記録層と呼ぶ）が形成される。

また光ディスク１００は、これと異なる深さについて同様にマーク記録層が形成されることにより、記録層１０１内で複数のマーク記録層が深さ方向に積層された多層記録がなされる。

ところで光ディスク１００の基準面１０３は、図２（Ａ）に示すように、上面から見て、半径方向に延長された複数の反射部１０３Ｆが、略放射状に配置されている。

この反射部１０３Ｆは、図２（Ｂ）に拡大図を示すように、全体がほぼ平坦に形成されており、また各トラックＴＲと対応するように平坦領域ＡＦ及びマーク領域ＡＭがそれぞれ配置されている。

平坦領域ＡＦは、サーボ光ビームＬＳにより形成されるビームスポットＢＳよりも大きい範囲となっており、一様に平坦に形成されている。このため平坦領域ＡＦは、比較的高い反射率でサーボ光ビームＬＳを反射し、サーボ反射光ビームＬＳＲを生成するようになされている。因みにビームスポットＢＳの半径は、サーボ光ビームＬＳの波長をλとし、対物レンズ８の開口数をＮＡとすると、λ／ＮＡとなる。

一方、マーク領域ＡＭは、平坦領域ＡＦとほぼ同等の大きさの範囲、すなわちビームスポットＢＳよりも大きい範囲に渡って平坦に形成されると共に、その中央位置付近に、比較的小さい位相差マークＰＭが形成されている。

位相差マークＰＭは、図２（Ｃ）に拡大断面図を示すように、周囲の平坦な部分から記録層１０１側に突出した略円柱状となっている。また位相差マークＰＭは、その上面を形成する円の半径がビームスポットＢＳの半径のおよそ半分以下となっており、サーボ光ビームＬＳの波長をλとすると、その高さが約λ／８となっている。

またマーク領域ＡＭは、図２（Ｂ）に示したように、その中心（すなわち位相差マークＰＭの中心）が、トラックＴＲの仮想的な中心線ＣＴ上に位置するように配置されている。

このように光ディスク１００の基準面１０３には、トラックＴＲごとに平坦領域ＡＦ及びマーク領域ＡＭが形成された反射部１０３Ｆが複数設けられている。

［１−２．光ディスク装置の構成］
次に、光ディスク１００に対応した光ディスク装置１の構成について説明する。光ディスク装置１は、図３に示すように、制御部２により全体を統括制御するようになされている。

制御部２は、図示しないＣＰＵ（Central Processing Unit）を中心に構成されており、図示しないＲＯＭ（Read Only Memory）から各種プログラムを読み出し、これらを図示しないＲＡＭ（Random Access Memory）に展開することにより、情報記録処理及び情報再生処理等の各種処理を実行するようになされている。

例えば制御部２は、光ディスク１００が装填された状態で、図示しない外部機器等から情報記録命令、記録情報及び記録アドレス情報を受け付けると、記録アドレス情報及び駆動命令を駆動制御部３へ供給すると共に、記録情報を信号処理部４へ供給する。因みに記録アドレス情報は、記録情報を記録すべきアドレスを示す情報である。

駆動制御部３は、駆動命令に従い、スピンドルモータ５Ｍを駆動制御することにより光ディスク１００を所定の回転速度で回転させると共に、スレッドモータ６を駆動制御する。これにより駆動制御部３は、光ピックアップ７を移動軸６Ｇに沿って光ディスク１００の径方向（すなわち内周方向又は外周方向）における記録アドレス情報に対応した位置へ移動させる。

信号処理部４は、供給された記録情報に対して所定の符号化処理や変調処理等の各種信号処理を施すことにより記録信号を生成し、これを光ピックアップ７へ供給する。

光ピックアップ７は、駆動制御部３の制御に基づいて対物レンズ８のフォーカス制御及びトラッキング制御を行うことにより、光ディスク１００の基準面１０３における記録アドレス情報により示されるトラックにサーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳを合わせる。

さらに光ピックアップ７は、光ディスク１００の記録層１０１に対し、信号処理部４からの記録信号に応じた情報光ビームＬＭを照射することにより、記録情報に応じた記録マークＲＭを形成するようになされている（詳しくは後述する）。

また制御部２は、例えば外部機器（図示せず）から情報再生命令及び当該記録情報のアドレスを示す再生アドレス情報を受け付けると、駆動制御部３に対して駆動命令を供給すると共に、再生処理命令を信号処理部４へ供給する。

駆動制御部３は、情報を記録する場合と同様、光ディスク１００を所定の回転速度で回転させ、光ピックアップ７を再生アドレス情報に対応した位置へ移動させる。

光ピックアップ７は、駆動制御部３の制御に基づいて対物レンズ８のフォーカス制御及びトラッキング制御を行うことにより、光ディスク１００の基準面１０３における再生アドレス情報により示されるトラックにサーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳを合わせる。

このとき光ピックアップ７は、所定光量の情報光ビームＬＭを照射し、光ディスク１００から得られる情報反射光ビームＬＭＲを検出し、その光量に応じた受光信号を信号処理部４へ供給する（詳しくは後述する）。

信号処理部４は、供給された受光信号に対して所定の復調処理や復号化処理等の各種信号処理を施すことにより再生情報を生成し、この再生情報を制御部２へ供給する。これに応じて制御部２は、この再生情報を外部機器（図示せず）へ送出するようになされている。

このように光ディスク装置１は、制御部２によって光ピックアップ７を制御することにより、光ディスク１００に情報を記録し、また当該目標マーク位置から情報を再生するようになされている。

［１−３．光ピックアップの構成］
次に、光ピックアップ７の構成について説明する。光ピックアップ７は、図４に示すように、多くの光学部品が組み合わされおり、大きく分けてサーボ光学系１０及び情報光学系３０により構成されている。

［１−３−１．サーボ光学系の構成］
図４と対応する図５に示すように、光ピックアップ７のサーボ光学系１０は、サーボ光ビームＬＳを出射すると共にサーボ反射光ビームＬＳＲを受光するようになされている。

サーボ光学系１０のレーザダイオード１１は、駆動制御部３（図３）の制御に基づき波長約６６０［ｎｍ］でなるサーボ光ビームＬＳを出射し、グレーティング１２に入射させる。

因みにレーザダイオード１１は、サーボ光ビームＬＳにおけるＰ偏光成分とＳ偏光成分とが所定の割合となるように取付位置や取付角度等が調整されている。またサーボ光ビームＬＳの光強度分布は、いわゆるガウシアン分布となる。

グレーティング１２は、サーボ光ビームＬＳを複数に分光し、偏光ビームスプリッタ１３に入射させる。なお説明の都合上、以下では複数のサーボ光ビームＬＳをまとめて単にサーボ光ビームＬＳと呼ぶ。

偏光ビームスプリッタ１３は、光ビームの偏光方向に応じて当該光ビームを異なる割合で反射又は透過させるようになされている。実際上偏光ビームスプリッタ１３は、入射されたサーボ光ビームＬＳのうちＰ偏光の成分を透過させ、ＡＰＣ（Auto Power Control）用受光部１４に照射させる。

ＡＰＣ用受光部１４は、照射されたサーボ光ビームＬＳを受光し、その光強度に応じた受光信号ＳＰＳを生成して駆動制御部３へ供給する。この受光信号ＳＰＳは、レーザダイオード１１から実際に出射されたサーボ光ビームＬＳの光強度に応じた値を表している。

駆動制御部３は、取得した受光信号ＳＰＳの値に基づき、当該受光信号ＳＰＳの値が所望の光強度に応じた目標値になるよう、レーザダイオード１１に供給する駆動電流を増減する。これにより駆動制御部３は、サーボ光ビームＬＳを所望の光強度に制御するようになされている。

また偏光ビームスプリッタ１３は、入射されたサーボ光ビームＬＳのうちＳ偏光の成分を反射し、コリメータレンズ１５へ入射させる。コリメータレンズ１５は、発散光として入射されたサーボ光ビームＬＳを平行光に変換し、ビームスプリッタ１６へ入射させる。

ビームスプリッタ１６は、反射透過面１６Ｓによりサーボ光ビームＬＳの一部を透過させ、ダイクロイックプリズム１７へ入射させる。

ダイクロイックプリズム１７は、光ビームの波長に応じて当該光ビームを透過又は反射させる反射透過面１７Ｓを有している。この反射透過面１７Ｓは、波長が約６６０［ｎｍ］の光ビームを透過し、波長が約４０５［ｎｍ］の光ビームを反射させる、波長選択性（ダイクロイック性）を有している。

実際上ダイクロイックプリズム１７は、反射透過面１７Ｓにおいてサーボ光ビームＬＳを透過し、収差補正部１８に入射させる。

収差補正部１８は、例えば液晶パネルにより構成されている。収差補正部１８においてサーボ光ビームＬＳが照射されるビーム照射範囲には、図６に示すように、複数の補正領域１８Ａ〜１８Ｊに分割されて透明な電極が配置されている。

収差補正部１８におけるビーム照射範囲は、サーボ光ビームＬＳの光軸とほぼ一致する中心点１８Ｕを中心として同心円状に大きく３つの領域に分割されており、最内周及び最外周がそれぞれ補正領域１８Ｉ及び１８Ｊとなっている。

さらにこのビーム照射範囲のうち補正領域１８Ｉ及び１８Ｊを除いた中間の部分は、略放射状に８分割されており、それぞれ補正領域１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ、１８Ｅ、１８Ｆ、１８Ｇ及び１８Ｈとなっている。また説明の都合上、図中右向きの方向及び上向きの方向をそれぞれ方向ｐ及び方向ｑとして定義している。

実際上収差補正部１８（図５）は、駆動制御部３の制御に基づいて各補正領域１８Ａ〜１８Ｊにそれぞれ電圧を印加し、サーボ光ビームＬＳの空間位相を変調させた上で、１／４波長板１９へ入射させる。

これにより収差補正部１８は、サーボ光ビームＬＳが光ディスク１００の基準面１０３に到達するときに収差が抑制されるよう（詳しくは後述する）、当該サーボ光ビームＬＳに対し予め逆特性の収差を与えるようになされている。

１／４波長板１９は、光ビームを直線偏光と円偏光との間で相互変換させるようになされており、Ｓ偏光でなるサーボ光ビームＬＳを例えば左円偏光に変換し、対物レンズ８へ入射させる。

対物レンズ８は、サーボ光ビームＬＳを集光し、光ディスク１００に照射する。このときサーボ光ビームＬＳは、光ディスク１００の基準面１０３において反射され、右円偏光のサーボ反射光ビームＬＳＲとなる。

サーボ反射光ビームＬＳＲは、対物レンズ８により発散光から平行光に変換され、１／４波長板１９に入射する。１／４波長板１９は、右円偏光でなるサーボ反射光ビームＬＳＲをＰ偏光に変換し、収差補正部１８へ入射させる。

収差補正部１８は、光ディスク１００の基準面１０３により反射された後対物レンズ８から出射されるまでの間にサーボ反射光ビームＬＳＲに与えられた収差を補正し、ダイクロイックプリズム１７へ入射させる。

ダイクロイックプリズム１７は、波長約６６０［ｎｍ］でなるサーボ反射光ビームＬＳＲを透過し、ビームスプリッタ１６へ入射させる。ビームスプリッタ１６は、サーボ反射光ビームＬＳＲの一部を反射して分布受光部２２へ入射させると共に、その残りをコリメータレンズ１５へ入射させる。

コリメータレンズ１５は、サーボ反射光ビームＬＳＲを平行光から収束光に変換して偏光ビームスプリッタ１３に入射させる。

偏光ビームスプリッタ１３は、Ｐ偏光でなるサーボ反射光ビームＬＳＲを透過させ、サーボ受光部２１へ入射させる。

サーボ受光部２１は、複数の受光領域を有しており、サーボ反射光ビームＬＳＲにおけるメインビーム及びサブビームを受光して光電変換することにより、各受光領域の受光量に応じたサーボ受光信号ＳＳを生成し、これを信号処理部４（図３）へ供給する。

信号処理部４は、サーボ受光信号ＳＳに基づいた所定の演算処理により、トラッキング方向に関し、光ディスク１００の基準面１０３における目標トラックとサーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳとのずれ量を表すトラッキングエラー信号を生成し、これを駆動制御部３に供給する。

また信号処理部４は、サーボ受光信号ＳＳに基づいた所定の演算処理により、フォーカス方向に関し、目標トラックとサーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳとのずれ量を表すフォーカスエラー信号を生成し、これを駆動制御部３に供給する。

駆動制御部３は、トラッキングエラー信号及びフォーカスエラー信号に基づいてアクチュエータ８Ａを制御し、対物レンズ８を移動させことにより、サーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳを目標トラックに合焦させる、いわゆるサーボ制御を行うようになされている。

一方、分布受光部２２は、図６と対応する図７に示すように、収差補正部１８のビーム照射範囲と同様の分割パターンにより、補正領域１８Ａ〜１８Ｊとそれぞれ対応する受光領域２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄ、２２Ｅ、２２Ｆ、２２Ｇ、２２Ｈ、２２Ｉ及び２２Ｊに分割されている。

受光領域２２Ａ〜２２Ｊは、それぞれの受光量に応じた分布受光信号ＳＲＡ、ＳＲＢ、ＳＲＣ、ＳＲＤ、ＳＲＥ、ＳＲＦ、ＳＲＧ、ＳＲＨ、ＳＲＩ及びＳＲＪ（以下これらをまとめて分布受光信号ＳＲと呼ぶ）を生成し、これらを信号処理部４（図３）へ供給する。

この分布受光信号ＳＲＡ〜ＳＲＪは、サーボ反射光ビームＬＳＲにおける受光領域毎の光強度を表しており、また受光領域の一部が放射状に配置されているため（図７）、当該サーボ反射光ビームＬＳＲにおける光強度の分布を表すことになる。

信号処理部４は、分布受光信号ＳＲに基づき所定の演算処理を行うことにより、サーボ反射光ビームＬＳＲに含まれる収差の分布を表す収差信号ＳＡを生成し（詳しくは後述する）、これを駆動制御部３へ供給する。

駆動制御部３は、収差信号ＳＡを基に補正制御信号ＣＣを生成し、これを収差補正部１８へ供給することにより、当該補正制御信号ＣＣに応じた補正量だけサーボ光ビームＬＳの収差を補正させる。

この結果収差補正部１８は、収差信号ＳＡにより表される収差の状態に応じた補正幅でサーボ光ビームＬＳの収差を補正することができる。

このようにサーボ光学系２０は、サーボ反射光ビームＬＳＲの受光結果を基に対物レンズ８をサーボ制御することにより、サーボ光ビームＬＳの焦点ＦＳを基準面１０３の目標トラックに合焦させるようになされている。

これと共にサーボ光学系２０は、サーボ反射光ビームＬＳＲの受光結果を基に収差信号ＳＡを生成し、これに基づき収差補正部１８によりサーボ光ビームＬＳの収差を補正するようになされている。

［１−３−２．情報光学系の構成］
図４と対応する図８に示すように、光ピックアップ７の情報光学系３０は、情報光ビームＬＭを出射すると共に情報反射光ビームＬＭＲを受光するようになされている。

情報光学系３０のレーザダイオード３１は、駆動制御部３（図３）の制御に基づき波長約４０５［ｎｍ］でなる情報光ビームＬＭを出射し、偏光ビームスプリッタ３２へ入射させる。

偏光ビームスプリッタ３２は、偏光ビームスプリッタ１３と同様、光ビームの偏光方向に応じて当該光ビームを異なる割合で反射又は透過させるようになされている。実際上偏光ビームスプリッタ３２は、入射されたサーボ光ビームＬＳのうちＰ偏光の成分を透過させ、ＡＰＣ用受光部３３に照射させる。

ＡＰＣ用受光部３３は、照射された情報光ビームＬＭを受光し、その光強度に応じた受光信号ＳＰＭを生成して駆動制御部３へ供給する。この受光信号ＳＰＭは、レーザダイオード３１から実際に出射された情報光ビームＬＭの光強度に応じた値を表している。

駆動制御部３は、サーボ光学系１０の場合と同様、取得した受光信号ＳＰＭの値に基づき、当該受光信号ＳＰＭの値が所望の光強度に応じた目標値になるよう、レーザダイオード３１に供給する駆動電流を増減する。これにより駆動制御部３は、情報光ビームＬＭを所望の光強度に制御するようになされている。

また偏光ビームスプリッタ３２は、入射された情報光ビームＬＭのうちＳ偏光の成分を反射し、可動レンズ３４へ入射させる。

可動レンズ３４は、発散光として入射された情報光ビームＬＭの発散角を変更し、ビームスプリッタ１７へ入射させる。また可動レンズ３４は、駆動制御部３の制御の下で、アクチュエータ３４Ａにより、情報光ビームＬＭの光軸方向に移動されるようになされている。

ダイクロイックプリズム１７は、反射透過面１７Ｓにおいて、波長が約４０５［ｎｍ］でなる情報光ビームＬＭを反射し、収差補正部１８に入射させる。

収差補正部１８は、サーボ光ビームＬＳの場合と同様、情報光ビームＬＭの空間位相を変調させた上で、１／４波長板１９へ入射させる。１／４波長板１９は、Ｓ偏光でなる情報光ビームＬＭを例えば左円偏光に変換し、対物レンズ８へ入射させる。

対物レンズ８は、情報光ビームＬＭを集光し、光ディスク１００に照射する。このとき情報光ビームＬＭは、記録層１０１内における所定の深さとなる箇所に焦点ＦＭを形成する（図１）。

記録層１０１内における基準面１０３から焦点ＦＭまでの距離（深さ）は、情報光ビームＬＭが可動レンズ３４により変更された発散角に応じて、すなわち当該可動レンズ３４の位置に応じて定まることになる。

情報光ビームＬＭの強度が比較的強い場合、焦点ＦＭの箇所には記録マークＲＭが形成される（図１（Ｂ））。また情報光ビームＬＭの強度が比較的弱く、焦点ＦＭの箇所に記録マークＲＭが形成されていれば、情報光ビームＬＭの一部が反射されて右円偏光の情報反射光ビームＬＭＲが生成される。

情報反射光ビームＬＭＲは、対物レンズ８により発散角が変換され、１／４波長板１９により右円偏光からＰ偏光（直線偏光）に変換され、収差補正部１８により収差が補正され、ダイクロイックプリズム１７に入射される。

さらに情報反射光ビームＬＭＲは、ダイクロイックプリズム１７の反射透過面１７Ｓにより反射され、可動レンズ３４により発散角が変換され、偏光ビームスプリッタ３２を透過し、受光部３６に照射される。

受光部３６は、情報反射光ビームＬＭＲの受光量に応じた情報受光信号ＳＭを生成し、これを信号処理部４へ供給する。

信号処理部４は、情報受光信号ＳＭに対し所定の復調処理や復号化処理を施すことにより再生情報を生成し、制御部２を介して図示しない外部機器へ送出するようになされている。

このように情報光学系３０は、サーボ光学系１０により位置調整された対物レンズ８を介して、情報光ビームＬＭを光ディスク１００の記録層１０１内に集光し、その焦点ＦＭの箇所に記録マークＲＭがある場合に生成される情報反射光ビームＬＭＲを受光して再生情報を生成するようになされている。

［１−４．収差分布の算出］
［１−４−１．収差分布の算出処理］
まず、信号処理部４が収差信号ＳＡを生成する際の算出処理について説明する。図９は、光ピックアップ７の一部の光学部品と、信号処理部４及び駆動制御部３の内部における機能とを模式的に表したものである。

上述したように、信号処理部４は、サーボ受光部２１からサーボ受光信号ＳＳを取得すると共に、分布受光部２２から分布受光信号ＳＲを取得するようになされている。

信号処理部４は、サーボ受光信号ＳＳを基に、サーボ光ビームＬＳが光ディスク１００の基準面１０３におけるトラックＴＲ、反射部１０３Ｆの平坦領域ＡＦ又はマーク領域ＡＭ（図２（Ｂ））のいずれに照射されているかを判別する。

続いて信号処理部４は、平坦分布生成部４２（図９）により、サーボ光ビームＬＳが平坦領域ＡＦに照射されたときに生成されたサーボ反射光ビームＬＳＲ（以下、これを平坦反射光ビームＬＳＲＦと呼ぶ）の光強度分布を、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）とする。

因みに座標（ｐ，ｑ）は、サーボ光ビームＬＳの中心（すなわち光軸）を原点とし、その外周で値「１」となるような２次元座標平面を表す（図６）。

この平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）は、分布受光部２２において平坦反射光ビームＬＳＲＦを受光したときに生成される分布受光信号ＳＲＡ〜ＳＲＪに相当するものである。

上述したようにサーボ光ビームＬＳは、レーザダイオードでなるレーザダイオード１１の特性により、いわゆるガウシアン分布となる。このため平坦反射光ビームＬＳＲＦにおける光強度分布である平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）は、図１０（Ａ）に示すように、同様のガウシアン分布となる。

また信号処理部４は、マーク分布生成部４１（図９）により、サーボ光ビームＬＳがマーク領域ＡＭに照射されたときに生成されたサーボ反射光ビームＬＳＲ（以下、これをマーク反射光ビームＬＳＲＭと呼ぶ）の光強度分布を、マーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）とする。

このマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）は、分布受光部２２においてマーク反射光ビームＬＳＲＭを受光したときに生成される分布受光信号ＳＲＡ〜ＳＲＪに相当するものである。

上述したように、マーク領域ＡＭには高さが約λ／８でなる位相差マークＰＭが形成されている。このため、位相差マークＰＭの上面で反射された光成分（以下これをマーク反射成分と呼ぶ）と周囲の平坦部で反射された光成分（以下これを平坦反射成分と呼ぶ）との光路長差は、往復でλ／４となる。

マーク反射成分は、位相差マークＰＭの上面がサーボ光ビームＬＳのビームスポットＢＳよりも十分に小さい（例えば半径が１／２以下となっている）ことから、実質的に平面波と見なすことができる。すなわちマーク反射光ビームＬＳＲＭは、平坦反射成分に対し、λ／４だけ位相がずれた平面波が合成されたものとなる。

このためマーク反射光ビームＬＳＲＭのマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）は、サーボ光ビームＬＳに収差が含まれていた場合、図１０（Ｂ）に示すように、その収差に応じて分布特性がガウシアン分布（図１０（Ａ））から変化することになる。

また信号処理部４は、サーボ受光信号ＳＳを基に生成したトラッキングエラー信号等を基に、サーボ光ビームＬＳによるビームスポットＢＳの中心点とマーク領域ＡＭにおける位相差マークＰＭの中心点とのずれ量を検出することができる。

そこで信号処理部４のずれ量算出部４３は、サーボ光ビームＬＳがマーク領域ＡＭに照射されたときのずれ量を、座標軸ｐ及びｑに対応したずれ量（Δｘ，Δｙ）とする。

さらにずれ量算出部４３は、ビームスポットＢＳの半径を用いてずれ量（Δｘ，Δｙ）を正規化することにより、次に示す（１）式のようにずれ量（ｘ_０，ｙ_０）を生成する。因みに（１）式では、サーボ光ビームＬＳの波長をλとし、また対物レンズ８の開口数をＮＡとすることにより、ビームスポットＢＳの半径をλ／ＮＡとしている。

ここで、次の（２）式に示すように、マーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）と平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）との差分を、ずれ量（ｘ_０，ｙ_０）に所定の係数αを乗じた値により補正した差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を定義する。

因みに係数αは、サーボ光ビームＬＳが基準面１０３に形成するビームスポットＢＳの大きさに依存する値であり、１よりも小さい値となっている。光ディスク装置１は、光ピックアップ７の初期調整時等に、係数αを所定の不揮発性メモリ（図示せず）に予め記憶させている。

実際上信号処理部４の収差分布生成部４４は、係数αを不揮発性メモリから読み出し、マーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）及びずれ量（ｘ_０，ｙ_０）を用いて、（２）式を算出することにより差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出する。

この差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）は、係数αが適切に設定されることにより、サーボ光ビームＬＳに含まれる収差を表すことになる（詳しくは後述する）。

収差分布生成部４４は、この差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を収差信号ＳＡとして駆動制御部３へ供給する。

駆動制御部３の補正値生成部４５は、収差信号ＳＡを基に補正制御信号ＣＣを生成し、これを光ピックアップ７の収差補正部１８へ供給する。この補正制御信号ＣＣは、収差信号ＳＡを正負反転させた値を基に生成され、当該収差信号ＳＡを値「０」に近づけるような、すなわち差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）の値も「０」に近づけるような信号となる。

このため収差補正部１８は、分布受光部２２の各受光領域２２Ａ〜２２Ｊに現れるマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）を平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）に近づけるよう、サーボ光ビームＬＳを補正することになる。

これにより収差補正部１８は、サーボ反射光ビームＬＳＲに差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）として現れる収差の分布を相殺することができ、サーボ光ビームＬＳが基準面１０３に到達するときの収差をなくすように補正することができる。

［１−４−２．収差分布の算出原理］
次に、（２）式により算出される差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）が、分布受光部２２に照射される反射光ビームＬＳＲにおける収差を表すものであることを説明する。

まず、サーボ光ビームＬＳの強度分布は、いわゆるガウシアン分布となり、次の（３）式のように表すことができる。

ここでサーボ光ビームＬＳの収差分布をＷ（ｐ，ｑ）とし、サーボ光ビームＬＳが集光される前、すなわち対物レンズ８に入射される前における電場振幅分布をｕ（ｐ，ｑ）とすると、この電場振幅分布ｕ（ｐ，ｑ）は、次の（４）式のように表すことができる。

この（４）式において、指数部分の前半である−Ｇ（ｐ，ｑ）はガウシアン分布を表しており、後半のｉＷ（ｐ，ｑ）は位相を表している。

さらに、光ディスク１００の基準面１０３における反射率をｒ（ｘ，ｙ）とすると、この反射率ｒ（ｘ，ｙ）は次の（５）式のように表すことができる。

（５）式において、第１項は反射部１０３Ｆ（図２（Ａ））における平坦部の反射率を表しており、第２項は位相差マークＰＭ（図２（Ｂ）、（Ｃ））の反射率を表している。また第２項は、マーク領域ＡＭにおける位相差マークＰＭの高さがλ／８であり、マーク反射光ビームＬＳＲＭのうち平坦反射成分とマーク反射成分との光路長差がλ／４であり、且つ上面の面積が相対的に小さいため、デルタ関数により表されている。

さらに、マーク領域ＡＭ（図２（Ｂ））における平坦な部分は、上述したようにビームスポットＢＳよりも大きくなっており、その半径は当該ビームスポットＢＳの半径であるλ／ＮＡよりも大きな値となる。

ここで反射光における電場振幅分布をｖ（ｐ，ｑ）とすると、この電場振幅分布ｖ（ｐ，ｑ）は次の（６）式のように表すことができる。

因みに（６）式では、サーボ光ビームＬＳが集光される前における電場の振幅分布をフーリエ変換すると、基準面１０３上で集光されビームスポットＢＳを形成した時における電場の振幅分布が得られることを利用している。

（６）式の電場振幅分布ｖ（ｐ，ｑ）を用いると、分布受光部２２に照射されるサーボ反射光ビームＬＳＲの光強度分布Ｉ（ｐ，ｑ）は、次の（７）式のように表すことができる。

また平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）は、ガウシアン分布となることから、次の（８）式のように表すことができる。

ここで（２）式に（７）式及び（８）式を代入すると、次に示す（９）式が得られる。

（９）式において、αが１よりも小さいことから第１項を無視すると、第２項の２αＷ（ｘ，ｙ）が残る。このＷ（ｘ，ｙ）は、上述したように、サーボ光ビームＬＳの収差分布として定義した値である。

かくして、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）が、サーボ光ビームＬＳの収差分布を表すものであることが示された。

［１−５．動作及び効果］
以上の構成において、光ディスク装置１の光ピックアップ７は、収差補正部１８及び対物レンズ８を介してサーボ光ビームＬＳを光ディスク１００の基準面１０３に照射する。また光ピックアップ７は、サーボ光ビームＬＳが基準面１０３により反射されてなるサーボ反射光ビームＬＳＲを、対物レンズ８及び収差補正部１８を介してサーボ受光部２１及び分布受光部２２により受光する。

サーボ光学系１０は、基準面１０３に設けられた反射部１０３Ｆのマーク領域ＡＭにサーボ光ビームＬＳを照射し、当該サーボ光ビームＬＳが反射されてなるマーク反射光ビームＬＳＲＭを分布受光部２２により受光して分布受光信号ＳＲを生成する。信号処理部４は、このとき得られた分布受光信号ＳＲをマーク分布生成部４１（図９）によりマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）とする。

またサーボ光学系１０は、反射部１０３Ｆの平坦領域ＡＦにサーボ光ビームＬＳを照射し、当該サーボ光ビームＬＳが反射されてなる平坦反射光ビームＬＳＲＦを分布受光部２２により受光して分布受光信号ＳＲを生成する。信号処理部４は、このとき得られた分布受光信号ＳＲを平坦分布生成部４２（図９）により平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）とする。

さらに信号処理部４は、サーボ受光部２１から供給されるサーボ受光信号ＳＳを基にフォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号を生成し、さらにずれ量算出部４３によりずれ量（ｘ_０，ｙ_０）を算出する。

信号処理部４の収差分布生成部４４は、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）及びマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）、ずれ量（ｘ_０，ｙ_０）並びに係数αを用いて、（２）式により収差分布として差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出し、これを収差信号ＳＡとして駆動制御部３へ供給する。

駆動制御部３は、収差信号ＳＡを基に生成した補正制御信号ＣＣを収差補正部１８へ供給することにより、分布受光部２２に照射されるサーボ反射光ビームＬＳＲに含まれる収差分布である差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を値「０」に収束させる。

この結果、光ディスク装置１は、収差補正部１８により、サーボ光ビームＬＳ及びサーボ反射光ビームＬＳＲに含まれる収差を適切に補正することができる。

特に本発明では、反射部１０３Ｆ（図２（Ｂ））のマーク領域ＡＭに形成された位相差マークＰＭが、サーボ光ビームＬＳのビームスポットＢＳよりも小さく、周囲の平坦部よりもλ／８だけ突出している。このためマーク領域ＡＭは、周囲の平坦部により反射されてなる平坦反射成分に対し、位相差マークＰＭによりλ／４だけ位相がずれた平面波を合成することになる。

従って、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）は、ほぼガウシアン分布となるが、マーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）は、サーボ反射光ビームＬＳＲに含まれる収差に応じて、ガウシアン分布から変化したような分布特性となる（図１０）。

そこで信号処理部４は、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）及びマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）の差分を用いることにより、簡易な演算処理によって差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出することができる。

また信号処理部４は、分布受光信号ＳＲから得られる平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）及びマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）に加えて、トラッキングエラー信号等を基に算出されるずれ量（ｘ_０，ｙ_０）並びに係数αといった、簡易な手法により得られる値から差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出することができる。

さらに光ディスク装置１は、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）から、非点収差やコマ収差に加え、球面収差やデフォーカスの状態、さらには光ディスク１００の基準面１０３に対する光ビームの入射角度のずれ（スキュー）も判別することが可能となる。

特に分布受光部２２は、受光領域２２Ａ〜２２Ｈが（ｐ，ｑ）座標平面における８方向に分割されている（図７）。このため分布受光信号ＳＲには、光ディスク１００における半径方向（ラジアル方向）及びトラックの接線方向（タンジェンシャル方向）のいずれの方向に関しても、収差の分布が現れる。

このため光ディスク装置１は、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）から、従来の光ディスク装置では検出が困難とされていたタンジェンシャル方向に関するスキューも認識することが可能となる。

さらに光ピックアップ７は、サーボ反射光ビームＬＳＲをビームスプリッタ１６により分離してその一部を分布受光部２２により受光することにより、分布受光信号ＳＲを生成することができる。このため光ピックアップ７は、当該分布受光信号ＳＲを生成するための他の光源を別途設ける必要がなく、必要最小限の構成により当該分布受光信号ＳＲを生成することができる。

また光ディスク１００に関しても、図２（Ａ）に示したように、基準面１０３に反射部１０３Ｆを設けるだけで良い。このため光ディスク１００の製造に関して、基準面１０３を形成するための原盤等を予め加工しておけば良く、光ディスク１００の層構造や材料、又は製造工程等を従来から変更する必要がない。

以上の構成によれば、光ピックアップ７は、収差補正部１８を介してサーボ光ビームＬＳを基準面１０３に照射し、反射部１０３Ｆの平坦領域ＡＦから得られる平坦反射光ビームＬＳＲＦを分布受光部２２により受光して平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）を生成する。また光ピックアップ７は、反射部１０３Ｆのマーク領域ＡＭから得られるマーク反射光ビームＬＳＲＭを分布受光部２２により受光してマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）を生成する。信号処理部４は、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）及びマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）、ずれ量（ｘ_０，ｙ_０）並びに係数αを用いて、（２）式により差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出し、これを収差信号ＳＡとする。駆動制御部３は、収差信号ＳＡを基に収差補正部１８を制御することにより、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を収束させるよう補正することができる。

＜２．第２の実施の形態＞
［２−１．光ディスクの構成］
第２の実施の形態では、第１の実施の形態における光ディスク１００と一部異なる構成を有する光ディスク１２０（図１）に情報を記録し、また当該光ディスク１２０から情報を再生するようになされている。

光ディスク１２０は、基準面１０３に代わる基準面１２３を有している。基準面１２３は、図２（Ａ）と対応する図１１（Ａ）に示すように、反射部１０３Ｆに代わる反射部１２３Ｆを有している。

反射部１２３Ｆは、図２（Ｂ）と対応する図１１（Ｂ）に示すように、反射部１０３Ｆと比較して、各トラックＴＲと対応するマーク領域ＡＭに代えて、第１マーク領域ＡＭ１及び第２マーク領域ＡＭ２が設けられている点が相違している。

第１マーク領域ＡＭ１及び第２マーク領域ＡＭ２の中心にそれぞれ位置する第１位相差マークＰＭ１及び第２位相差マークＰＭ２は、トラックＴＲの仮想的な中心線Ｃから内周側及び外周側にそれぞれずれ量Δｘずつ離れた箇所に配置されている。因みに第２位相差マークＰＭ２のずれ量Δｘについては、光ディスク１２０の内周側から外周側へ向かう方向（図の上方向）に沿ってｘ軸を設定した場合、−Δｘと表すことができる。

なお光ディスク１２０は、他の部分については光ディスク１００と同様に構成されている。

［２−２．光ディスク装置の構成及び収差分布の算出］
第２の実施の形態による光ディスク装置６０は、第１の実施の形態による光ディスク装置１と比較して、信号処理部４に代わる信号処理部６４が設けられている点が相違するものの、光ピックアップ７等の他の部分については同様に構成されている。

信号処理部６４は、図９と対応する図１２に示すように、マーク分布生成部４１に代えて第１マーク分布生成部７１及び第２マーク分布生成部７２が設けられている。また信号処理部６４は、平坦分布生成部４２、ずれ量算出部４３及び収差分布生成部４４に代えて、平坦分布生成部７３、ずれ量算出部７４及び収差分布生成部７５がそれぞれ設けられている。

信号処理部６４は、第１の実施の形態における信号処理部４と同様、サーボ受光部２１からサーボ受光信号ＳＳを取得すると共に、分布受光部２２から分布受光信号ＳＲを取得するようになされている。

まず信号処理部６４は、サーボ受光信号ＳＳを基に、サーボ光ビームＬＳが光ディスク１２０の基準面１２３におけるトラックＴＲ、反射部１２３Ｆの第１マーク領域ＡＭ１、第２マーク領域ＡＭ２又は平坦領域ＡＦ（図１１（Ｂ））のいずれに照射されているかを判別する。

続いて信号処理部６４は、第１マーク分布生成部７１（図９）により、サーボ光ビームＬＳが第１マーク領域ＡＭ１に照射されたときに生成されたサーボ反射光ビームＬＳＲ（以下、これを第１マーク反射光ビームＬＳＲＭ１と呼ぶ）の光強度分布を、第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）とする。

因みに第１マーク分布生成部７１は、ビームスポットＢＳの中心点ＣＢが第１位相差マークＰＭ１に最も近接したとき（すなわち図中の真上又は真下に位置したとき）に第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）を生成する。

この第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）は、分布受光部２２において第１マーク反射光ビームＬＳＲＭ１を受光したときに生成される分布受光信号ＳＲＡ〜ＳＲＪに相当するものである。また第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）は、中心線ＣＴからの第１位相差マークＰＭ１のずれ量Δｘに応じ、且つサーボ光ビームＬＳに含まれている収差に応じた分布特性となる。

ここで、ビームスポットＢＳの中心点ＣＢが第１位相差マークＰＭ１の中心と一致する場合に得られる光強度分布をマーク中心分布Ｉ_Ｃ（ｐ，ｑ）とすると、第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）は次に示す（１０）式のように表すことができる。

因みに係数βは所定の係数であり、予め設定された値である。またずれ量Δｘは、光ディスク１２０の製造時に予め定めた値である。光ディスク装置６０は、このように既知の値である係数β及びずれ量Δｘを所定の不揮発性メモリ（図示せず）に予め記憶させている。

また信号処理部６４は、第２マーク分布生成部７２（図９）により、サーボ光ビームＬＳが第２マーク領域ＡＭ２に照射されたときに生成されたサーボ反射光ビームＬＳＲ（以下、これを第２マーク反射光ビームＬＳＲＭ２と呼ぶ）の光強度分布を、第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）とする。

因みに第２マーク分布生成部７２は、第１マーク分布生成部７１と同様、ビームスポットＢＳの中心点ＣＢが第２位相差マークＰＭ２に最も近接したとき（すなわち図中の真上又は真下に位置したとき）に第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）を生成する。

この第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）は、分布受光部２２において第２マーク反射光ビームＬＳＲＭ２を受光したときに生成される分布受光信号ＳＲＡ〜ＳＲＪに相当するものである。また第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）は、中心線ＣＴからの第２位相差マークＰＭ２のずれ量Δｘ（すなわち−Δｘ）に応じ、且つサーボ光ビームＬＳに含まれている収差に応じた分布特性となる。

ここで第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）は、マーク中心分布Ｉ_Ｃ（ｐ，ｑ）、係数β及びずれ量Δｘを用いると、第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）と同様に、次に示す（１１）式のように表すことができる。

また信号処理部６４の平坦分布生成部７３は、信号処理部４の平坦分布生成部４２と同様に、サーボ光ビームＬＳが平坦領域ＡＦに照射されたときに生成されたサーボ反射光ビームＬＳＲ（平坦反射光ビームＬＳＲＦ）の光強度分布を平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）とする。

さらに信号処理部６４のずれ量算出部７４は、サーボ受光信号ＳＳを基に生成したトラッキングエラー信号等を基に、サーボ光ビームＬＳによるビームスポットＢＳの中心点ＣＢとトラックＴＲの中心線ＣＴとのずれ量ｘ_０を検出する（図１１（Ｂ））。

ところで反射部１２３Ｆでは、上述したように、各トラックＴＲの仮想的な中心線ＣＴから互いに反対方向へずれ量Δｘだけ離れた箇所に、第１位相差マークＰＭ１及び第２位相差マークＰＭ２がそれぞれ配置されている。

一方、トラックＴＲを追従してきたビームスポットＢＳは、その仮想的な中心点ＣＢとトラックＴＲの中心線ＣＴとの距離ｘ_０をほぼ維持したまま、第１マーク領域ＡＭ１及び第２マーク領域ＡＭ２に照射される。

すなわちビームスポットＢＳ内における位相差マークＰＭ（第１位相差マークＰＭ１又は第２位相差マークＰＭ２）の相対的な位置は、第１マーク領域ＡＭ１への照射時と第２マーク領域ＡＭ２への照射時とで互いに相違する。

このためサーボ光ビームＬＳに収差が含まれている場合、第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）に現れる収差の成分と第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）に現れる収差の成分とは、当該収差の発生状態に応じて互いに相違することになる。

これを換言すれば、第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）及び第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）それぞれに現れる収差の成分同士の差異は、ビームスポットＢＳの中心点ＣＢに対する位相差マークＰＭの相対的な位置及びサーボ光ビームＬＳに含まれる収差の状態に応じたものとなる。

ここで、（１０）式及び（１１）式を係数βについて整理すると、次の（１２）式のように表すことができる。

（１２）式において、座標ｐ、ずれ量Δｘ及びずれ量ｘ_０はいずれも既知の値となる。すると、マーク中心分布Ｉ_Ｃ（ｐ，ｑ）は、（１０）〜（１２）式を用いることにより、次の（１３）式のように表すことができる。

この（１３）式は、マーク中心分布Ｉ_Ｃ（ｐ，ｑ）が、第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）及び第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）、ずれ量ｘ_０及びΔｘを用いて表せることを示している。

因みに、ビームスポットＢＳの中心点ＣＢがトラックＴＲの中心線ＣＴ上にあるとき、すなわちずれ量ｘ_０が値「０」のとき、（１３）式は次の（１４）式のように表すことができる。

そこで光ディスク装置６０では、サーボ光ビームＬＳに含まれる収差の光強度分布を差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）とし、当該差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）をマーク中心分布Ｉ_Ｃ（ｐ，ｑ）と平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）との差分として算出するようになされている。

ここで差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）は、（１３）式を用いることにより、次の（１５）式のように表すことができる。

実際上信号処理部６４の収差分布生成部７５は、（１５）式に従った演算を行うことにより、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出し、これを収差信号ＳＡとして駆動制御部３へ供給する。

駆動制御部３の補正値生成部４５は、第１の実施の形態と同様、収差信号ＳＡを基に補正制御信号ＣＣを生成し、これを光ピックアップ７の収差補正部１８へ供給する。このとき収差補正部１８は、分布受光部２２の各受光領域２２Ａ〜２２Ｊに現れる第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）及び第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）から得られるマーク中心分布Ｉ_Ｃ（ｐ，ｑ）を平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）に近づけるよう、サーボ光ビームＬＳを補正することになる。

これにより収差補正部１８は、サーボ反射光ビームＬＳＲに差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）として現れる収差の分布を相殺することができ、サーボ光ビームＬＳが基準面１２３に到達するときの収差をなくすように補正することができる。

［２−３．動作及び効果］
以上の構成において、光ディスク装置６０の光ピックアップ７は、収差補正部１８及び対物レンズ８を介してサーボ光ビームＬＳを光ディスク１２０の基準面１２３に照射する。また光ピックアップ７は、サーボ光ビームＬＳが基準面１２３により反射されてなるサーボ反射光ビームＬＳＲを、対物レンズ８及び収差補正部１８を介してサーボ受光部２１及び分布受光部２２により受光する。

サーボ光学系１０は、基準面１２３に設けられた反射部１２３Ｆの第１マーク領域ＡＭ１にサーボ光ビームＬＳを照射し、当該サーボ光ビームＬＳが反射されてなるマーク反射光ビームＬＳＲＭを分布受光部２２により受光して分布受光信号ＳＲを生成する。信号処理部６４は、このとき得られた分布受光信号ＳＲを第１マーク分布生成部７１（図１２）によりマーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）とする。

またサーボ光学系１０は、反射部１２３Ｆの第２マーク領域ＡＭ２にサーボ光ビームＬＳを照射し、当該サーボ光ビームＬＳが反射されてなる第２マーク反射光ビームＬＳＲＭ２を分布受光部２２により受光して分布受光信号ＳＲを生成する。信号処理部６４は、このとき得られた分布受光信号ＳＲを第２マーク分布生成部７２（図１２）によりマーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）とする。

さらにサーボ光学系１０は、反射部１２３Ｆの平坦領域ＡＦにサーボ光ビームＬＳを照射し、当該サーボ光ビームＬＳが反射されてなる平坦反射光ビームＬＳＲＦを分布受光部２２により受光して分布受光信号ＳＲを生成する。信号処理部６４は、このとき得られた分布受光信号ＳＲを平坦分布生成部７３（図１２）により平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）とする。

また信号処理部６４は、サーボ受光部２１から供給されるサーボ受光信号ＳＳを基にフォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号等を生成し、さらにずれ量算出部７４によりずれ量ｘ_０を算出する。

信号処理部６４の収差分布生成部７５は、第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）、第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）、ずれ量ｘ_０並びに係数βを用いて、（１５）式により収差分布として差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出し、これを収差信号ＳＡとして駆動制御部３へ供給する。

この結果、光ディスク装置６０は、第１の実施の形態と同様、収差補正部１８により、サーボ光ビームＬＳ及びサーボ反射光ビームＬＳＲに含まれる収差を適切に補正することができる。

特に第２の実施の形態では、反射部１２３Ｆの第１マーク領域ＡＭ１又は第２マーク領域ＡＭ２において、各トラックＴＲの仮想的な中心線ＣＴに対し、第１位相差マークＰＭ１及び第２位相差マークＰＭ２の相対的な位置が相違している。

このため第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）及び第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）は、この相対的な位置の相違とサーボ反射光ビームＬＳＲにおける収差の発生状態とに応じて、それぞれに含まれる収差の成分が互いに相違する。

信号処理部６４の収差分布生成部７５は、このような収差の成分における相違を積極的に利用することにより、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を（１５）式に従った比較的簡易な演算によって精度良く算出することができる。

さらに光ディスク装置６０は、光ディスク装置１と同様、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）から、非点収差やコマ収差に加え、球面収差やデフォーカスの状態、さらには光ディスク１２０の基準面１２３に対する光ビームの入射角度のずれ（スキュー）も判別することが可能となる。

以上の構成によれば、光ピックアップ７は、収差補正部１８及び対物レンズ８を介してサーボ光ビームＬＳを基準面１２３に照射する。分布受光部２２は、反射部１２３Ｆの第１マーク領域ＡＭ１、第２マーク領域ＡＭ２及び平坦領域ＡＦから得られるサーボ反射光ビームＬＳＲを受光して第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）、第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）及び平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）を生成する。信号処理部４は、第１マーク分布Ｉ_１（ｐ，ｑ）、第２マーク分布Ｉ_２（ｐ，ｑ）、平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）及びずれ量ｘ_０並びに係数βを用いて、（１５）式により差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出し、これを収差信号ＳＡとする。駆動制御部３は、収差信号ＳＡを基に収差補正部１８を制御することにより、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を収束させるよう補正することができる。

＜３．他の実施の形態＞
なお上述した第１の実施の形態においては、レーザダイオード１１から出射されるサーボ光ビームＬＳの光強度分布がガウシアン分布である場合に、（２）式に従い、マーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）と平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）との差分を基に差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出する場合について述べた。

本発明はこれに限らず、例えばレーザダイオード１１に代わる所定の光源から出射された光強度分布がほぼ一様な場合に、（２）式における平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）を値「０」又は所定の定数に置き換えて差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出するようにしても良い。またこの場合、光ディスク１００の反射部１０３Ｆについては、平坦領域ＡＦを省略しマーク領域ＡＭのみを設ければ良い。第２の実施の形態についても同様である。

また上述した第１の実施の形態においては、（２）式において、ビームスポットＢＳの中心点と位相差マークＰＭの中心点とのずれ量を正規化したずれ量（ｘ_０，ｙ_０）を用いて差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出する場合について述べた。

本発明はこれに限らず、例えばトラッキング制御の精度が高くずれ量（ｘ_０，ｙ_０）を無視できるような場合に、ずれ量（ｘ_０，ｙ_０）を値「０」と見なすようにしても良い。第２の実施の形態おけるずれ量ｘ_０についても同様である。

さらに上述した第１の実施の形態においては、信号処理部４により、マーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）と平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）との差分を基に差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出し、これを基に駆動制御部３により収差補正部１８を制御する場合について述べた。

本発明はこれに限らず、例えばマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）と平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）との差分に対し、情報光ビームＬＭの焦点ＦＭの位置に応じた係数を乗じる等して分布Ｉ”（ｐ，ｑ）を算出し、これを基に駆動制御部３により収差補正部１８を制御するようにしても良い。これにより光ディスク装置１は、情報光ビームＬＭに生じる収差を適切に補正することが可能となる。

またこの場合、収差補正部１８を構成する液晶素子については、情報光ビームＬＭの波長に作用しサーボ光ビームＬＳの波長に作用しないような波長選択性を持たせても良い。第２の実施の形態についても同様である。

さらに上述した第１の実施の形態においては、反射部１０３Ｆのマーク領域ＡＭにおける位相差マークＰＭの中心を、トラックＴＲの仮想的な中心線上に位置するよう配置する場合について述べた（図２（Ｂ））。

本発明はこれに限らず、例えば第２の実施の形態のように、位相差マークＰＭの中心を、トラックＴＲの仮想的な中心線から所定距離（例えば距離Δｘ）だけずらして配置するようにしても良い。この場合、信号処理部４は、ずれ量（ｘ_０，ｙ_０）を算出する際に、当該距離Δｘに応じて補正すれば良い。また信号処理部４は、トラッキングエラー信号以外の種々の受光信号等からずれ量（ｘ_０，ｙ_０）を算出するようにしても良い。

さらに上述した第１の実施の形態においては、分布受光部２２におけるサーボ反射光ビームＬＳＲの照射範囲を、中心点２２Ｕを中心として同心円状に大きく３つの領域に分割し、さらに中間の部分を略放射状に８分割するようにした場合について述べた。また収差補正部１８についても、分布受光部２２と同様に分割するようにした場合について述べた。

本発明はこれに限らず、種々の分割パターンとしても良い。要は、サーボ光ビームＬＳ及びサーボ反射光ビームＬＳＲに生じ得る収差の分布パターンに応じて適宜分割されていれば良い。また分布受光部２２と収差補正部１８とは、同一又は互いに対応する分割パターンであることが望ましい。第２の実施の形態についても同様である。

さらに上述した第１の実施の形態においては、収差補正部１８を液晶素子により構成する場合について述べた。

本発明はこれに限らず、収差補正部１８に代えて他の種々の光学素子を用いるようにしても良い。この場合、補正領域１８Ａ〜１８Ｊのような補正領域ごとに収差の補正量を制御できれば良い。第２の実施の形態についても同様である。

さらに上述した第１の実施の形態においては、光ピックアップ７のサーボ受光部２１及び分布受光部２２をそれぞれ独立して設けるようにした場合について述べた。

本発明はこれに限らず、サーボ受光部２１及び分布受光部２２の機能を一体化した受光部によりサーボ反射光ビームＬＳＲを受光するようにしても良い。この場合、当該受光部は、サーボ受光信号ＳＳ及び分布受光信号ＳＲをそれぞれ生成し得るような分割パターンにより複数の受光領域に分割されていれば良い。この場合、ビームスプリッタ１６を省略することができる。第２の実施の形態についても同様である。

さらに上述した第１の実施の形態においては、サーボ光ビームＬＳ及び情報光ビームＬＭの波長をそれぞれ約６６０［ｎｍ］及び約４０５［ｎｍ］とするようにした場合について述べた。

本発明はこれに限らず、サーボ光ビームＬＳ及び情報光ビームＬＭの波長をそれぞれ任意の波長とするようにしても良い。この場合、ダイクロイックプリズム１７の反射透過面１７Ｓにより、サーボ光ビームＬＳの波長の光を透過し、情報光ビームＬＭの波長を反射するようにすれば良い。

さらには、サーボ光ビームＬＳ及び情報光ビームＬＭを同一の波長とし、光源を共通化するようにしても良い。この場合、各受光部等において、例えばピンホール板を用いる等してサーボ反射光ビームＬＳＲ及び情報反射光ビームＬＭＲのうち所望の光ビームのみを選択的に受光するようにすれば良い。またサーボ光ビームＬＳ及び情報光ビームＬＭの偏光方向を相違させ、偏光ビームスプリッタ等を用いてサーボ反射光ビームＬＳＲ及び情報反射光ビームＬＭＲを分離するようにしても良い。第２の実施の形態についても同様である。

さらに上述した第１の実施の形態においては、光ディスク１００の基準面１０３において位相差マークＰＭ（図２（Ｃ））を周囲の平坦部よりも記録層１０１側に突出させるようにした場合について述べた。

本発明はこれに限らず、図２（Ｃ）と対応する図１３に示すように、位相差マークＰＭを周囲の平坦部よりも基板１０２側に陥没させるようにしても良い。この場合、位相差マークＰＭの上面（又は底面）と平坦部との距離がλ／８、３λ／８や５λ／８等の所定距離だけ離れていることにより、マーク反射成分と平坦反射成分との位相差が±（１／４＋ｎ／２）λとなれば良い（但しｎは０以上の整数）。また位相差マークＰＭの上面（又は底面）の形状としては、円状に限らず、楕円状や矩形状等種々の形状であっても良い。第２の実施の形態についても同様である。

さらに上述した第１の実施の形態においては、光ディスク１００の基準面１０３に複数の反射部１０３Ｆを放射状に配置し、各反射部１０３Ｆにマーク領域ＡＭと平坦領域ＡＦとを対応付けて配置する場合について述べた（図２（Ａ）、（Ｂ））。

本発明はこれに限らず、例えば図２（Ａ）と対応する図１４に示すように、光ディスク２００の基準面２０３に、マーク領域ＡＭのみが多数配列されたマーク反射部２０３Ｋを放射状に多数配置すると共に、平坦領域ＡＦのみが設けられた（すなわち一様に平坦な）平坦反射部２０３Ｒが１個のみ設けられていても良い。

この場合、信号処理部４は、平坦反射部２０３Ｒの平坦領域ＡＦにより反射された平坦反射光ビームＬＳＲＦを基に得た平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）を図示しない記憶部等に記憶しておく。その後信号処理部４は、マーク反射部２０３Ｋの各マーク領域ＡＭにより反射されたマーク反射光ビームＬＳＲＭを基に得たマーク分布Ｉ（ｐ，ｑ）と記憶部している平坦分布Ｉ_０（ｐ，ｑ）とを基に差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出すれば良い。

また平坦領域ＡＦについては、平坦反射部２０３Ｒのように放射状に配列する以外にも、例えば基準面１０３上に当該平坦領域ＡＦを１箇所〜数カ所程度設けるようにしても良い。

さらにマーク領域ＡＭについては、必ずしも反射部１０３Ｆ（図２（Ａ））やマーク反射部２０３Ｋ（図１１）のように放射状に配列されている必要はなく、基準面１０３における任意の箇所に設けられていても良い。第２の実施の形態についても同様である。

さらに上述した第２の実施の形態においては、光ディスク１２０の反射部１２３ＦにおけるトラックＴＲの仮想的な中心線Ｃから内周側及び外周側にそれぞれずれ量Δｘずつ離れた箇所に第１位相差マークＰＭ１及び第２位相差マークＰＭ２を配置する場合について述べた。

本発明はこれに限らず、中心線Ｃから第１位相差マークＰＭ１及び第２位相差マークＰＭ２の中心までの距離をそれぞれ相違させても良い。この場合、信号処理部６４の収差分布生成部７５において、当該距離に応じた計算式に従い差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）を算出すれば良い。

さらに上述した第１の実施の形態においては、サーボ光ビームＬＳ及び情報光ビームＬＭが入射する面１００Ａ側から見て、光ディスク１００の基準面１０３を記録層１０１の奥に配置するようにした場合について述べた（図１（Ｂ））。

本発明はこれに限らず、基準面１０３を記録層１０１の手前や中間等の任意の箇所に配置するようにしても良い。この場合、基準面１０３が波長選択性等を有することによりサーボ光ビームＬＳを反射し情報光ビームＬＭをある程度の割合で透過すれば良い。第２の実施の形態についても同様である。

因みに、図１（Ｂ）に示したように、光ディスク１００の面１００Ａから基準面１０３までの距離が０．６［ｍｍ］のようにある程度大きいと、サーボ反射光ビームＬＳＲに収差が現れやすく、差分分布Ｉ′（ｐ，ｑ）による当該収差の検出が容易となる。

さらに上述した第１の実施の形態においては、光ディスク１００に情報を記録し、また当該光ディスク１００から情報を再生する光ディスク装置１に本発明を適用する場合について述べた。

本発明はこれに限らず、例えば光ディスク１００から情報を再生する光ディスク再生装置に本発明を適用しても良い。さらには、収差補正部１８が省略され、光ディスク１００にサーボ光ビームＬＳを照射したときに生じる収差の状態を検出する収差検出装置に本発明を適用しても良い。第２の実施の形態についても同様である。

さらに上述した実施の形態においては、光源としてのレーザダイオード１１と、収差補正部としての収差補正部１８と、対物レンズとしての対物レンズ８と、受光部としての分布受光部２２と、収差分布生成部としての信号処理部４と、補正値生成部としての駆動制御部３とによって光ディスク装置としての光ディスク装置１を構成する場合について述べた。

しかしながら本発明はこれに限らず、その他種々の構成でなる光源と、収差補正部と、対物レンズと、受光部と、収差分布生成部と、補正値生成部とによって光ディスク装置を構成するようにしても良い。

さらに上述した実施の形態においては、光源としてのレーザダイオード１１と、対物レンズとしての対物レンズ８と、受光部としての分布受光部２２と、収差分布生成部としての信号処理部４とによって収差検出装置としての光ディスク装置１を構成する場合について述べた。

しかしながら本発明はこれに限らず、その他種々の構成でなる光源と、対物レンズと、受光部と、収差分布生成部とによって収差検出装置を構成するようにしても良い。

本発明は、種々の光ディスクに映像や音声或いは種々のデータ等の情報を記録し、また当該光ディスクから当該情報を再生する光ディスク装置でも利用できる。

１、６０……光ディスク装置、２……制御部、３……駆動制御部、４、６４……信号処理部、８……対物レンズ、１０……サーボ光学系、１１……レーザダイオード、１６……ビームスプリッタ、１８……収差補正部、２２……分布受光部、４１……マーク分布生成部、４２、７３……平坦分布生成部、４３、７４……ずれ量算出部、４４、７５……収差分布生成部、４５……補正値生成部、７１……第１マーク分布生成部、７２……第２マーク分布生成部、１００、１２０……光ディスク、１０１……記録層、１０３、１２３……基準面、１０３Ｆ、１２３Ｆ……反射部、ＴＲ……トラック、ＣＴ……中心線、ＡＦ……平坦領域、ＡＭ……マーク領域、ＡＭ１……第１マーク領域、ＡＭ２……第２マーク領域、ＰＭ……位相差マーク、ＰＭ１……第１位相差マーク、ＰＭ２……第２位相差マーク、ＢＳ……ビームスポット、ＣＢ……中心点、ＬＳ……サーボ光ビーム、ＬＳＲ……サーボ反射光ビーム、ＬＳＲＦ……平坦反射光ビーム、ＬＳＲＭ……マーク反射光ビーム、Ｉ（ｐ，ｑ）……マーク分布、Ｉ_１（ｐ，ｑ）……第１マーク分布、Ｉ_２（ｐ，ｑ）……第２マーク分布、Ｉ_０（ｐ，ｑ）……平坦分布、Ｉ′（ｐ，ｑ）……差分分布、ｘ_０、ｙ_０……ずれ量、ＳＲ……分布受光信号、ＳＳ……サーボ受光信号、ＳＡ……収差信号、ＣＣ……補正制御信号。

Claims

光ビームを出射する光源と、
所定の補正値に基づき上記光ビームの収差を補正する収差補正部と、
光ディスクにおける、所定範囲が略平坦に形成されると共にその略中央の微小範囲が周囲よりも突出又は陥没してなる微小マークが形成された基準面に対し、上記光ビームを集光する対物レンズと、
上記光ビームが上記基準面により反射されてなる反射光ビームを、上記対物レンズ及び上記収差補正部を介して複数の受光領域により受光し、当該反射光ビームにおける光強度分布を生成する受光部と、
上記基準面の上記微小マークを中心とした上記所定範囲でなる微小マーク領域に上記光ビームが照射されたときに上記受光部から得られる上記光強度分布であるマーク反射光分布を基に、上記反射光ビームの収差分布を生成する収差分布生成部と、
上記生成した収差分布を基に上記補正値を生成し上記収差補正部へ供給する補正値生成部と
を有する光ディスク装置。
上記光源は、
所定の光強度分布を有する上記光ビームを出射し、
上記光ディスクは、
上記所定範囲と同等の大きさでなる範囲が略平坦に形成された平坦領域をさらに有し、
上記収差分布生成部は、
上記光ビームが上記基準面の上記平坦領域に照射されたときに上記受光部から得られる上記光強度分布である平坦反射光分布と上記マーク反射光分布との差分を基に上記反射光ビームの収差分布を生成する
請求項１に記載の光ディスク装置。
上記受光信号を基に、上記光ビームにおけるスポットの中心と上記微小マークの中心とのずれ量を算出するずれ量算出部
をさらに有し、
上記収差分布生成部は、
上記マーク反射光分布と上記平坦反射光分布との差分に対し、上記ずれ量に基づいた補正値を加算して上記収差分布を生成する
請求項２に記載の光ディスク装置。
上記反射光ビームの一部を受光しサーボ用受光信号を生成するサーボ受光部と、
上記サーボ用受光信号を基に上記対物レンズを駆動するレンズ駆動部と
をさらに有し、
上記光ディスクは、上記基準面における上記平坦領域及び上記微小マーク領域以外の箇所に螺旋状又は同心円状でなるトラックが形成されると共に、当該トラックの仮想的な中心線の延長線上に上記微小領域の中心がほぼ重なるよう形成され、
上記レンズ駆動部は、
上記受光信号を基に算出され上記スポットの中心と上記トラックの中心とのずれ量を表すトラッキングエラー信号を基に、上記スポットの中心を上記トラックの中心に合わせるよう上記対物レンズを駆動し、
上記ずれ量算出部は、
上記トラッキングエラー信号を基に上記ずれ量を算出する
請求項３に記載の光ディスク装置。
上記光ディスクは、
上記微小マーク領域における上記略平坦に形成された範囲により反射される上記反射光ビームと上記微小範囲により反射される上記反射光ビームとの位相差を、上記光ビームの波長の約（１／４＋ｎ／２）倍（但しｎは０以上の整数）とするよう、上記微小範囲の突出量又は陥没量が設定されている
請求項１に記載の光ディスク装置。
上記光ディスクは、
上記光ビームの波長をλ、上記対物レンズの開口数をＮＡとしたとき、上記微小マーク領域の半径が（λ／ＮＡ）以上である
請求項１に記載の光ディスク装置。
上記光ディスクは、
上記光ビームの波長をλ、上記対物レンズの開口数をＮＡとしたとき、上記微小マークにおける上記微小範囲の半径がλ／２ＮＡ以下である
請求項１に記載の光ディスク装置。
上記光ディスクは、
上記基準面における上記平坦領域及び上記微小マーク領域以外の箇所に螺旋状又は同心円状でなるトラックが形成されると共に、当該トラックの仮想的な中心線の延長線上から内周側及び外周側にそれぞれ所定距離だけ離れて複数の上記微小マークが位置するよう形成され、
上記収差分布生成部は、
上記複数の微小マークそれぞれから得られる上記マーク反射光分布を基に上記収差分布を生成する
請求項１に記載の光ディスク装置。
上記収差分布生成部は、
上記複数の微小マークそれぞれから得られる上記マーク反射光分布の加算平均を基に上記収差分布を生成する
請求項８に記載の光ディスク装置。
上記受光信号を基に、上記光ビームにおけるスポットの中心と上記複数の微小マークのそれぞれ中心とのずれ量を算出するずれ量算出部
をさらに有し、
上記収差分布生成部は、
上記複数の微小マークそれぞれから得られる上記マーク反射光分布を上記ずれ量に基づいて補正した値の加算平均を基に上記収差分布を生成する
請求項９に記載の光ディスク装置。
所定の光源から光ビームを出射する出射ステップと、
所定の補正値に基づき所定の収差補正部により上記光ビームの収差を補正する収差補正ステップと、
光ディスクにおける、所定範囲が略平坦に形成されると共にその略中央の微小範囲が周囲よりも突出又は陥没してなる微小マークが形成された基準面に対し、所定の対物レンズにより上記光ビームを集光する集光ステップと、
上記光ビームが上記基準面により反射されてなる反射光ビームを、上記対物レンズ及び上記収差補正部を介して所定の受光部に設けられた複数の受光領域により受光し、当該反射光ビームにおける光強度分布を生成する受光ステップと、
上記基準面の上記微小マークを中心とした上記所定範囲でなる微小マーク領域に上記光ビームが照射されたときに上記受光部から得られる上記光強度分布であるマーク反射光分布を基に、所定の収差分布生成部により上記反射光ビームの収差分布を生成する収差分布生成ステップと、
上記生成した収差分布を基に所定の補正値生成部により上記補正値を生成し上記収差補正部へ供給する補正値生成ステップと
を有する収差補正方法。
所定の光強度分布を有する光ビームを出射する光源と、
光ディスクにおける、所定範囲が略平坦に形成されると共にその略中央の微小範囲が周囲よりも突出又は陥没してなる微小マークが形成された基準面に対し、上記光ビームを集光する対物レンズと、
上記光ビームが上記基準面により反射されてなる反射光ビームを複数の受光領域により受光し、当該反射光ビームにおける上記光強度分布を生成する受光部と、
上記基準面の上記微小マークを中心とした上記所定範囲でなる微小マーク領域に上記光ビームが照射されたときに上記受光部から得られる光強度分布であるマーク反射光分布を基に、上記反射光ビームの収差分布を生成する収差分布生成部と
を有する収差検出装置。
所定の光源から光ビームを出射する出射ステップと、
光ディスクにおける、所定範囲が略平坦に形成されると共にその略中央の微小範囲が周囲よりも突出又は陥没してなる微小マークが形成された基準面に対し、所定の対物レンズにより上記光ビームを集光する集光ステップと、
上記光ビームが上記基準面により反射されてなる反射光ビームを、上記対物レンズを介して所定の受光部に設けられた複数の受光領域により受光し、当該反射光ビームにおける光強度分布を生成する受光ステップと、
上記基準面の上記微小マークを中心とした上記所定範囲でなる微小マーク領域に上記光ビームが照射されたときに上記受光部から得られる上記光強度分布であるマーク反射光分布を基に、所定の収差分布生成部により上記反射光ビームの収差分布を生成する収差分布生成ステップと
を有する収差検出方法。