JP2010540212A - 電子デバイス製造廃液を周囲空気により除害するための装置及び方法 - Google Patents

電子デバイス製造廃液を周囲空気により除害するための装置及び方法 Download PDF

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Abstract

(1)廃液を除害するように構成された除害ユニットと、(2)空気移動装置を含む周囲空気供給システムとを含み、周囲空気供給システムは、酸化剤として使用するために周囲空気を除害ユニットに供給するように構成される除害システムが提供される。多数のその他の態様が提供される。

Description

関連出願
本出願は、2008年3月21日に出願された米国特許出願第12/053480号「APPARATUS AND METHODS FOR AMBIENT AIR ABATEMENT OF ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING EFFLUENT」(代理人整理番号12779)に基づく優先権を主張する。この米国特許出願は、2007年9月20日に出願された米国特許仮出願第60/973977号「METHODS AND APPARATUS FOR USING AMBIENT AIR DURING ABATEMENT OF SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING EFFLUENTS」(代理人整理番号12779/L)に基づく優先権を主張する。各特許出願は、本願において、引用により、全ての目的のため全体として本出願に組み込まれる。
発明の分野
本発明は電子デバイスの製造に係り、より具体的には周囲空気を酸化剤として使用する有害な及び/又は望ましくない化合物の除害システムに関する。
発明の背景
慣用の電子デバイス製造廃液除害システムでは、典型的には、酸化剤として清浄で乾燥した空気(clean dry air:CDA)を使用する。CDAは、その名称が示唆しているように、乾燥させられ且つ高度に濾過された空気であり、CDAの準備に関連したコストがかかる。電子デバイス製造施設において、一般に、CDAは施設全体に比較的高圧で供給され、その圧力は約90psi前後となる。電子デバイス製造施設の特定のシステム(除害システム等)においての使用する場合、施設用CDAの圧力はその特定のシステムで必要とされる圧力にまで下げられる。CDAの加圧には装置とエネルギーが必要とされる。CDAの圧力を下げるには、少なくとも装置が必要である。
従って、除害ユニットにおけるCDAの使用に関連したコストを削減するための方法及び装置が望ましい。
一態様において、(1)廃液を除害するように構成された除害ユニットと(2)空気移動装置を含む周囲空気供給システムとを含み、周囲空気供給システムは、酸化剤として使用するために周囲空気を除害ユニットに供給するように構成される除害システムが提供される。
別の態様において、酸化剤として使用するために周囲空気を除害ユニットに供給するためのシステムが提供され、本システムは(1)空気移動装置と(2)空気移動装置に連結され且つ除害ユニットに空気を供給するように構成されたマニホルドとを含み、空気移動装置及びマニホルドは、周囲空気の供給源から空気を受け取るように構成される。
更に別の態様において、酸化剤として周囲空気を使用して廃液を除害するための方法が提供され、本方法は、(1)電子デバイス製造処理ツールからの廃液を除害するように構成された除害ユニットを提供し、(2)空気移動装置を含む、除害ユニットに周囲空気を供給するように構成された周囲空気供給システムを提供し、(3)周囲空気供給システムによって供給された周囲空気を使用して除害ユニット内で廃液を除害することを含む。多数のその他の態様が、本発明のこれら及びその他の態様に従って提供される。本発明のその他の構成及び態様は、以下の詳細な説明、付随する本件請求の範囲及び添付の図面からより十分に明らかとなる。
本発明の除害システムの概略図である。 図1の除害システムの第2の実施形態の概略図である。 本発明の周囲空気供給システムの概略図である。 本発明の周囲空気供給システムの代替実施形態の概略図である。 本発明において有用な空気増量手段の側部断面図である。 本発明による除害ユニットの運転方法を表すフローチャートである。
詳細な説明
電子デバイス製造処理では様々な試薬を使用し、一部の試薬は使用されないまま処理ツールを通過する。これら未使用の試薬が施設の排出システムをそのまま通過してしまうと環境に有害となったり、火災又は爆発のリスクが生じる。加えて、電子デバイス製造処理により、同様の害又はリスクをもたらす副生成物が発生する。説明の便宜上、有害な、毒性の、可燃性の及び/又は爆発性の未使用試薬及び副生成物を本願では「望ましくない廃液」又は単に「廃液」と称する。
環境への悪影響や従業員、公衆へのリスクを回避するために、電子デバイス製造業では望ましくない廃液を除害する。望ましくない廃液の除害は多くの形態をとり得るが、最終的には、除害により望ましくない廃液は無害若しくは有害性の低い又はリスクのない若しくはリスクの低い物質に変換される。望ましくない廃液を除害するための1つの方法が、廃液を除害リアクタ又はユニット内で酸素等の酸化剤を使用して酸化することである。除害ユニットで使用されている酸化剤のすぐに使える供給源はCDAであり、通常、施設のCDA供給源から得られる。
しかしながらその費用ゆえに、CDAの使用は多くの施設において配分が決まっている、すなわち使用が限られている。例えば、一部の施設では慣用の除害システムによるCDAの使用を約360標準リットル/分(slm)しか割り当てていない又は許していない。しかしながら、一部の慣用の除害システムでは廃液の除害に1000slm以上のCDAを必要とする。例えば、太陽電池パネルを製造するための処理では大量の未使用の水素及びシラン試薬を排出する。これらの大量の可燃性及び/又は爆発性ガスは、除害用に大量の酸化剤を必要とする。従って、慣用の除害システムは一部の施設のCDA配分要件に合わず、顧客は購入を避ける。
上述したように、施設用のCDAは加圧下、典型的には施設の全システム中で最も高い圧力要件を有するシステムのニーズを満たすのに十分な高さの圧力でもって施設内を流れる。この圧力は約90psi前後である。その他の施設内システムの全てにおいて(施設で生成されるCDA全体の約45%〜80%を消費し得る除害システムを含む)、CDAの圧力はそれほど高い必要がない。輸送のためにCDAを加圧すると除害ユニットの運転コストが無駄に高くなるが、これは除害ユニットはそのような高い圧力の空気を必要としないからである。同様に、酸化剤が乾燥している必要のない除害ユニットで使用するためにCDAを乾燥させると運転コストが無駄に高くなる。従って、乾燥、高度な濾過及び空気の圧縮に関係するコストを回避しながら除害ユニットを運転することが望ましい。
一部の実施形態において、本発明は、周囲空気供給システムを介して周囲空気を除害ユニットに供給することにより、CDAの使用を削減する又は回避する。周囲空気は、除害ユニットを格納している部屋の内部又は施設内の別の空間から得られる。その他の供給源の適切な周囲空気、例えばプラント外部からの空気又は施設の再生空気等を利用してもよい。
本発明の一部の実施形態において、空気は、自然吸気システム(naturally aspirated air system:NAAS)等により除害ユニットに供給される。NAASは、除害ユニットによるその内部への周囲空気の引き込みを可能にするシステムであるが、能動的に空気を移動させない。NAASには、ほぼ大気圧の周囲空気に開放された流入口及び除害システム(及び/又は除害システムのサブシステム)に連結される流出口が含まれる。これらの実施形態において、除害システムは大気圧より低い圧力で運転される。例えば、リアクタ内部の圧力は、大気圧に対して水柱圧約−1.2インチ〜−5インチである(又は別の適切な圧力)。このようなケースにおいて、空気は、周囲空気と除害ユニット内のガスとの間の圧力差により除害システム及び/又はサブシステム内に自然に引き込まれる。このようにして、酸素が周囲空気からリアクタに供給される。周囲空気はその他の圧力であってもよく、大気圧より低いもの及び高いものが含まれる。NAASを有効にするためには圧力差が十分に大きくなくてはならず、除害ユニットを流れる廃液を所望の除害レベルにまで除害するのに十分な酸素が供給される流量でもって空気が除害ユニットに引き込まれるようなものである。
その他の実施形態において、NAASが、所望の度合いにまで廃液を除害するのに必要な空気の全てを供給できない場合がある。廃液を所望の度合いにまで除害する1つの方法が、最低量の空気を除害ユニットに流すことである。この最低量の空気は、除害対象である廃液の性質及び除害対象である廃液の質量流量を評価することにより簡単に求められる。周囲空気の圧力と除害ユニットの動作圧力との差が小さすぎると、廃液を効果的に除害するのに十分な空気が除害ユニットに引き込まれない。このようなケースでは、より多くの空気を除害ユニット内に押し込む又は引き込まなくてはならない。これらのその他の実施形態において、周囲空気供給システムには、十分な空気を除害システム及び/又はそのサブシステムに押し込む及び/又は引き込むための送風機又は増量手段等の空気移動装置が組み込まれる。
更に別の実施形態においては、十分な圧力差が周囲空気と除害ユニットとの間に存在するにも関わらず(すなわち、廃液を効果的に除害するのに十分な量の空気を除害ユニットに引き込むのに十分な圧力差)、周囲空気供給システムに、除害ユニットに空気を押し込む及び/又は引き込むための送風機又は増量手段等の空気移動装置が依然として組み込まれる。このような空気移動装置を周囲空気供給システムに組み込むことにより、除害ユニットの動作圧力又は周囲空気の圧力における一時的な変化によって生じる周囲空気の一時的な欠乏が緩和される。
図1は、本発明の例示的な周囲空気除害システム100の概略図である。除害システム100は、1つ以上の処理ツール104から排出された廃液を除害するように構成された除害ユニット102を含む。廃液は、導管106を通って処理ツール104から除害ユニット102へと流れる。除害ユニット102は、廃液を酸素とを反応させることにより廃液を除害するように構成される。酸素は、除害ユニット102に、除害ユニット102に供給される周囲空気の一成分として、周囲空気供給システム108により導管107を介して供給される。周囲空気供給システム108は周囲空気流入口110を介して周囲空気供給源112に接続されており、この周囲空気供給源112から周囲空気供給システム108は周囲空気を引き込む。周囲空気供給システム108は1つしか描かれていないが、2つ以上、例えば2、3、4つ以上を利用してもよい。一部の実施形態において、除害ユニット102は燃料を燃やすことにより廃液が酸素と反応する温度を作り出す。従って、除害ユニット102を、導管116を介して燃料供給源114に連結してもよい。除害された廃液は流出口118を通って除害ユニット102から排出され、使用場所又は屋内スクラバ等の大気中又は追加の除害装置に向かって流れる。
除害ユニット102は、廃液を処理するように構成されたリアクタであってもよい。このようなリアクタは、例えば、カリフォルニア州サンタクララのアプライドマテリアルズ社製のマラソン・アベートメント・システム等の燃焼式熱除害ユニットである。或いは、除害ユニットは電気的に加熱される又はいずれの適切な方法で加熱される。廃液それ自体が可燃性である等、場合によっては、廃液を除害するために除害ユニットを加熱する必要性がない。
処理ツール104は、除害ユニット102の除害対象である廃液が発生する処理チャンバ(図示せず)を含むシステムであってもよい。例えば、処理ツール104は、除害ユニット102によって除害される廃液を排出する堆積チャンバ又はその他の処理チャンバである。太陽電池パネル製造施設において、処理チャンバは、大量の水素及び/又はシランを排出する。
上述したように、周囲空気供給システム108は、周囲空気を周囲空気供給源112から除害ユニット102へと供給する。周囲空気供給システム108の構造及び運転は、図3及び4を参照しながら以下でより詳細に説明される。
周囲空気供給源112は、除害システム100を取り巻く周囲空気であってもよいが、いずれの適切な空気供給源を使用することもできる。例えば、空気は製造施設で一般的に見られるHEPAフィルタにより濾過される周囲空気である。このような空気を、除害ユニット102に運ぶ前に再度濾過する必要がある場合もない場合もある。このような実施形態において、周囲空気供給システム108は、その流入口が除害システム100を取り巻く周囲空気に開放されるように周囲空気除害システム100のフレームに連結される。或いは、周囲空気供給源112は、施設外部から供給される空気である。このような実施形態において、周囲空気供給システム108には、廃液を効果的に除害するのに十分な量の空気を施設外部から除害ユニット102へと運ぶように構成されたチューブ又はその他の導管の系が含まれる。本願において、用語「空気」は、周囲空気供給源112によって供給される気体化合物の温度、圧力、組成等を限定するものではないことを理解されたい。例えば、用語「空気」には大気中で一般的に見られるいずれの組成の酸素、窒素等も含まれるが、いずれの適切な気体化合物供給源も使用できると理解すべきである。
燃料供給源114は燃料だけ又は燃料と空気との混合物を除害ユニット102に供給する。いずれの適切な燃料を使用してもよいが、燃料は水素、メタン、天然ガス、メタン又はLPGであってもよい。いずれの適切な圧力を採用してもよいが、除害ユニット102に供給される燃料の圧力は約0.2psi〜約10psiであってもよい。燃料供給源114は、いずれの適切な燃料輸送手段を使用してもよいが、例えば、流体を運ぶように構成されたステンレススチール製のチューブを使用して除害ユニット102に連結される。本発明に従って提供される実施形態は、必ずしも燃料供給源114に連結されるわけではないことを理解されたい。例えば、除害ユニット102は無燃料リアクタ(例えば、廃液が可燃性であり、点火源及び空気供給源しか必要としない場合)である。
一部の実施形態においては、除害ユニット102及び/又は周囲空気除害システム100のいずれかの部位(燃料供給源114を除く)を周囲空気供給源112の圧力より低い圧力で運転して圧力差すなわちデルタを作り出す。図1では処理ツール104が描かれているが、除害システム100の一部を形成してはいないことに留意すべきである。この圧力差により周囲空気が自然と周囲空気供給システム108を通って除害ユニット102内に流れ込む。圧力差が十分に大きければ、十分な周囲空気が周囲空気供給システム108を通って除害ユニット102に引き込まれる。周囲空気供給システム108の運転は、以下でより詳細に説明される。
その他の実施形態において、除害ユニット102及び/又は除害システム100のいずれかの部位が、上述したように、周囲空気供給源112から周囲空気供給システム108を通して除害ユニット102へと十分な量の空気を動かす圧力差を作りだすには高すぎる圧力で運転される場合がある。このような実施形態において、周囲空気システム108は、図4及び5を参照しながら以下でより詳細に説明されるように、送風機又は空気増量手段等の空気移動装置を含む。
更に別の実施形態において、除害ユニット102を周囲空気供給源112内の周囲空気の圧力より低い圧力で運転しても、十分な量の空気が周囲空気供給源112から周囲空気供給システム108を通って除害ユニット102に移動しない場合がある。これは除害ユニット102に流れる廃液の性質及び体積によるものである。このようなケースにおいて、周囲空気供給システム108は送風機又は空気増量手段等の空気移動装置を含む。
更に別の実施形態において、除害ユニット102が、十分な量の周囲空気を周囲空気供給システム108を通して除害ユニット102に移動させるための周囲空気供給源112の圧力より平均的に十分に低い圧力で運転されるものの、除害ユニット102の動作圧力の変動により、一時的に十分な空気が除害ユニット102に流れないことがある。これにより許容範囲を超えた量の除害されていない廃液が除害ユニット102から流出する。これらの実施形態において、周囲空気供給システム108は、空気流を除害ユニット102に均等に送るための送風機又は空気増量手段等の空気移動装置も含む。
図2に図示の除害システム200は、図1の除害システム100の代替実施形態である。図1及び2における参照番号は、参照の便宜上、互いに対応している。例えば、図1の除害ユニットは参照番号102を有し、図2の除害ユニットは参照番号202を有する。
周囲空気除害システム200は除害システム100に似ているが、以下の違いを有する。除害システム100の周囲空気供給システム108は1本の導管107を介して除害ユニット102に接続されているのに対し、除害システム200の周囲空気供給システム208は、5本の導管207を介して除害ユニット202に接続されている。更に、導管207は5つの周囲空気流入口220を介して除害ユニット202に接続される。5本の導管207及び周囲空気流入口220を図示しているが、使用される導管207及び周囲空気流入口220の数は5より少なくても多くてもよい。図2のように空気流入口を除害ユニットの両側に又は対称的に配置することにより、除害ユニット202内の燃焼領域がより均一となる。
加えて、除害システム100の単一の周囲空気供給システム108及び単一の周囲空気供給源とは対照的に、図2において除害システム200は3つの分離した周囲空気供給システム208及び3つの分離した周囲空気供給源212を有している。本発明の実践においては、所望の数の周囲空気供給システム208及び周囲空気供給源212を使用し得ることに留意すべきである。従って、空気流入口220はn個あり、これらの流入口にはn個又はn個より少ない数の周囲空気供給システム208から周囲空気が供給される。反対に、n個の空気流入口220にn個より多い数の周囲空気供給システム208から周囲空気が供給される場合もある。空気流入口220は、周囲空気供給システム208によって周囲空気を選択された圧力でもって供給する際に、単位時間あたりに所望の質量の空気が流れるように選択された内側オリフィス直径をそれぞれが有するように設計されている。或いは、各空気流入口220は互いに同じサイズを有する。
このようなケースにおいて所望の質量流量を得るためには、以下でより詳細に説明されるように、周囲空気供給システム208を、個別に選択された質量流量の空気が各空気流入口220に供給されるように又は個別に選択された圧力で空気が各空気流入口220に供給されるように設計する。
運転中、除害ユニット202は除害ユニット202上部の廃液流入口222を介して廃液を受け取る。除害ユニット202内部では、複数のバーナー噴流(図示せず)が各廃液流入口222を取り囲む。バーナー噴流により、除害ユニット202内で熱及び火炎が下方向に供給され、廃液は、除害ユニット202を下に流れる間に除害(例えば、酸化)される。一部の実施形態において、除害ユニット202は、空気が除害ユニット202内へと複数の位置で1つ以上の場所によって異なる選択された圧力又は質量流量で導入されるように設計される。例えば、一部の実施形態においては、酸化反応を除害ユニット202の上部では燃料リッチ(すなわち、酸素量が少ない)の状態で行い、除害ユニット202の下部では除害されていない残った廃液を効果的に除害するのに十分な酸素リッチの環境を作り出すのに十分な量の空気で行うのが望ましい。このような設計は、窒素酸化物及び硫黄酸化物の生成の削減に役立つ。図3及び4を参照しながら以下で説明するように、空気流入口220の圧力又は質量流量は、いずれの適切なやり方で個別に変えることができる。
図3に図示の周囲空気供給システム300は、図1及び2の周囲空気供給システム108及び周囲空気供給システム208にそれぞれ対応する。
周囲空気供給システム300は、周囲空気を周囲空気供給源304から引き込む空気吸入口302を含んでいてもよい。周囲空気は空気吸入口302を通過し、遮断弁306を通ってエアボックス308に流れ込む。次に周囲空気はエアボックス308から導管310及び流量制御弁312を通ってマニホルド314に流れ込む。マニホルド314により、周囲空気は周囲空気流出口316を介して導管(図示せず)へと分配され、導管は周囲空気を除害ユニット(図示せず)に運ぶ。コントローラ318は、遮断弁306及び流量制御弁312の開閉を通信リンク320及び322を介して制御するのに適したマイクロコンピュータ、マイクロプロセッサ、論理回路、ハードウェアとソフトウェアとの組み合わせ等のいずれであってもよい。
周囲空気供給源304は、上述されたように、いずれの適切な周囲空気供給源であってもよい。適切な形状の適切な導管のいずれを使用してもよいが、空気吸入口302は3インチのステンレススチール製又はPVC製の真空チューブであってもよい。
遮断弁306は、ゲート弁又は空気吸入口302を通る周囲空気経路を開閉するのに適したいずれの弁であってもよい。いずれの適切な弁を使用してもよいが、図示したように、遮断弁306はHVH、LLCによって提供されるソレノイド又は空気圧によって駆動されるゲート弁であってもよい。遮断弁306は開閉可能に構成されており、この開閉により周囲空気供給源304からの空気を調節する。例えば、周囲空気供給源304から除害システムへの空気の流れを完全に遮断するのが望ましいこともある。その場合は、遮断弁306を閉鎖することにより(例えば、平坦な円盤を拡張して空気経路を閉鎖する)、空気吸入口302からエアボックス308へと空気が運ばれるのを防止する。この閉鎖状態で、エアボックス308は空気を周囲空気供給源304から除害システムへと運ぶことができない。遮断弁306は、廃液が周囲空気供給源304に向かって流れるのを防止するように構成することもできる。例えば、除害ユニット内の圧力が上昇して望ましくない圧力となった場合に(例えば、周囲空気圧より高い圧力の雰囲気)閉鎖されるように遮断弁306は構成される。
いずれの適切な格納容器を使用してもよいが、エアボックス308はエアボックスである。図示されるように、エアボックス308は、空気圧の変動を抑制することにより周囲空気供給システム300による周囲空気流の制御能を改善する空気貯蔵槽となる。図3ではエアボックス308が描かれているが、実施形態によっては、エアボックス308を使用しないことも可能である。また、図示されるように、エアボックス308は長方形の箱であるが、いずれの適切な形状(例えば、円筒形、六角形等)を採用してもよい。エアボックス308のサイズは、周囲空気供給システム300を流れるように設計された周囲空気の体積及び速度等の要素に応じて選択される。
いずれの適切な弁を使用してもよいが、流量制御弁312はバタフライ弁であってもよい。図示されるように、流量制御弁312はコントローラ318によって制御される、ソレノイド又は空気圧によって駆動される弁であってもよい。流量制御弁312はその本体にフラップを有し、このフラップが回転することにより、周囲空気供給源304から除害システムへと運ばれる空気が通過する開口部が広げられたり狭められたりする。従って、高流量又は低流量で流れるように空気を制御することにより(例えば、標準リットル/毎分)、周囲空気供給源304から除害システムへの空気の流れを調節する。
遮断弁306及び流量制御弁312の機能を単一の弁(絞りゲート弁又は絞り遮断弁等。図示せず)に行わせてもよいことに留意すべきである。しかしながら、このような多機能弁は高価であり、その使用はこのような機能を果たすにあたってより高価なやり方となってしまう。
マニホルド314は、流量制御弁312によって調節された空気を分配するために使用される箱である。図示されるように、マニホルド314は6つの周囲空気流出口316を備えた箱である。図3では6つの周囲空気流出口316が描かれているが、流出口の数はそれより多くても少なくてもよい。また、各周囲空気流出口316は除害システムの1つ以上の流入口(図示せず)に連結される。各周囲空気流出口316を互いに独立したサイズ設計とすることにより、周囲空気流出口316から除害ユニットの特定の位置へと選択された量の空気が流れるようにしてもよい。
運転中、周囲空気供給システム300の実施形態は、上述されたように、周囲空気供給システム300から除害ユニットへと十分な量の空気を移動させて廃液を効果的に除害するのに十分な圧力差を作り出すのに十分なだけ周囲空気供給源304の圧力から低い圧力で運転される除害システムにおいて有用である。このようなケースにおいて、除害ユニットの動作圧力と周囲空気供給源304との間の圧力差によって、十分な量の空気が周囲空気供給システム300から除害ユニットへと流れる。流量制御弁312を使用することにより、周囲空気供給システム300から除害ユニットへと供給される空気の総量を選択することができる。
図4に図示の周囲空気供給システム400は図3に図示の周囲空気供給システム300と似ているが、以下の違いがある。周囲空気供給システム400は空気移動装置424を含み、この空気移動装置は送風機、空気増量手段又は空気を移動させるためのその他の適切な装置である。コントローラ418は、空気移動装置424により周囲空気を周囲空気供給システム400内を移動させる速度を制御する。
空気移動装置424は、特定の除害計画が必要とする単位時間あたりの十分な質量の空気を移動させることが可能ないずれの送風機であってもよい。例えば、空気移動装置424はカゴ型ファン、羽根型ファン、ターボファン、ルーツブロワ等であるが、いずれの適切な送風機又はファンを使用してもよい。
運転において、周囲空気供給システム400は、十分な空気が周囲空気供給システム400を通って除害ユニットへと移動して廃液を効果的に除害するには高すぎる(すなわち、周囲空気供給源404の圧力を十分に下回らない)圧力でもって運転される本発明の除害システムで有用である。その他の実施形態において、たとえ除害システムが、十分な空気が受動的に周囲空気供給システム400を通って除害ユニットへと移動して廃液を除害する周囲空気供給源404の圧力を十分に下回る圧力で運転されるとしても、空気移動装置424を使用することにより、除害ユニットの動作圧力に生じ得る圧力変動に関わらず一定の流量で周囲空気が流れるようにしてもよい。このような圧力変動は、除害ユニットに廃液を引き込む原動力となる屋内排出システムの圧力の変動によって生じる。
図5A及び5Bを参照するが、周囲空気供給源512から除害ユニット502に空気を押し出す及び/又は引き込むいずれの適切な手段を使用してもよいが、空気増量手段500は空気増量手段である。図示されるように、いずれの適切な形状を採用してもよいが、空気増量手段500は円筒形である。空気増量手段500は、周囲空気供給源512である空気の供給源に開放された流入口を含むものとして描かれている。また、空気増量手段500は、除害ユニット502に開放された流出口を含むものとして描かれている。いずれの適切な材料を使用してもよいが、空気増量手段500はステンレススチールから構成してもよい。
周囲空気供給源512によって供給される空気の流れは、空気増量手段500内部の複数の矢印528によって示されており、周囲空気供給源512から除害ユニット502に向かう方向を指している。空気増量手段500は、周囲空気供給源512によって供給された空気を引き込む及び/又は押し出すように構成されている。図示されるように、周囲空気供給源512によって供給された空気はCDA供給源530から供給されるCDAによって空気増量手段500に引き込まれる。本発明の周囲空気供給システムのこの実施形態ではCDAを使用しているが、CDAの使用は少ない。これは比較的少量のCDAを使用して大量の空気を周囲空気供給源512から移動させるからである。
本発明による廃液を除害するための方法600が図6に示される。本方法は工程602から始まり工程604へと進んで、電子デバイス製造処理ツールからの廃液を除害するように構成された除害ユニットが提供される。本方法は、空気移動装置を含む周囲空気供給システムが提供され、また周囲空気供給システムが周囲空気を除害ユニットに供給するように構成されている工程606を含む。工程604及び606はどの順番で行ってもよい。本方法は工程608も含み、この工程において廃液は、周囲空気供給システムによって提供された周囲空気によって酸化される。本方法は工程610で終了する。
以上の説明は、本発明の例示的な実施形態しか開示していない。本発明の範囲に含まれる上記で開示の装置及び方法の改変は当業者に明白である。
従って、本発明をその例示的な実施形態に関連させて開示してきたが、以下の特許請求の範囲に基づいて定められるように、その他の実施形態も本発明の精神及び範囲に含まれることを理解すべきである。

Claims (15)

  1. 廃液を除害するように構成された除害ユニットと、
    空気移動装置を含む周囲空気供給システムとを備え、
    周囲空気供給システムが、酸化剤として使用するために周囲空気を除害ユニットに供給するように構成される除害システム。
  2. 空気移動装置が送風機を含む請求項1記載の除害システム。
  3. 周囲空気供給システムが、周囲空気を除害ユニットへと選択された質量流量で供給するように構成される請求項1記載の除害システム。
  4. 周囲空気供給システムが、周囲空気を除害ユニットへと選択された圧力で供給するように構成される請求項1記載の除害システム。
  5. 空気供給システムが、除害ユニットに供給される空気の圧力変動を低減するように構成される請求項4記載の除害システム。
  6. 除害ユニットが、2つ以上の空気流入口を介して周囲空気供給システムから周囲空気を受け入れるように構成され、
    周囲空気供給システムが、周囲空気を選択された質量流量で各空気流入口に流すように構成され、
    各空気流入口について選択された質量流量が、その他の空気流入口について選択された質量流量と同一である又は異なる請求項1記載の除害システム。
  7. 除害ユニットが、2つ以上の空気流入口を介して周囲空気供給システムから周囲空気を受け入れるように構成され、
    各空気流入口がオリフィスを含み、オリフィスの直径が、選択された質量流量で空気が除害ユニットに流れ込むのを許容するように選択され、
    各空気流入口について選択された質量流量が、その他の空気流入口について選択された質量流量と同一である又は異なる請求項1記載の除害システム。
  8. 空気移動装置と、
    空気移動装置に連結され且つ除害ユニットに空気を供給するように構成されたマニホルドとを備え、
    空気移動装置及びマニホルドが、周囲空気供給源から空気を受け取るように構成される、酸化剤として使用するために周囲空気を除害ユニットに供給するためのシステム。
  9. 空気移動装置が送風機を含む請求項8記載のシステム。
  10. 周囲空気供給システムが、周囲空気を選択された質量流量で除害ユニットに供給するように更に構成される請求項8記載のシステム。
  11. 空気供給システムが、周囲空気を選択された圧力で除害ユニットに供給するように更に構成される請求項8記載のシステム。
  12. 除害ユニットに供給される周囲空気の圧力変動が低減されるように更に構成される請求項11記載のシステム。
  13. 周囲空気供給システムが、2つ以上の空気流入口を介して周囲空気を除害ユニットに供給するように更に構成される請求項8記載のシステム。
  14. 周囲空気供給システムが、周囲空気を選択された質量流量で各空気流入口に流すように構成され、
    周囲空気供給システムが、その他の空気流入口の質量流量と同一である又は異なる質量流量で周囲空気を各空気流入口に流すように構成される請求項13記載のシステム。
  15. 電子デバイス製造処理ツールからの廃液を除害するように構成された除害ユニットを提供し、
    空気移動装置を含む、除害ユニットに周囲空気を供給するように構成された周囲空気供給システムを提供し、
    周囲空気供給システムによって供給された周囲空気を使用して除害ユニット内で廃液を除害することを含む、酸化剤として周囲空気を使用して廃液を除害するための方法。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005291675A (ja) * 2004-04-05 2005-10-20 Taiyo Nippon Sanso Corp 燃焼式排ガス処理装置
JP2006200885A (ja) * 2005-01-21 2006-08-03 Snecma 液化ガスタンカー船または液化ガスターミナルに設置されるガス焼却炉
WO2006123092A1 (en) * 2005-05-16 2006-11-23 Edwards Limited Gas combustion apparatus
JP2007519878A (ja) * 2003-12-19 2007-07-19 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ガス状汚染物質を制御可能に燃焼させるための装置および方法
JP2007232308A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd ガス処理装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100481256B1 (ko) * 1998-12-15 2005-04-11 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 유출 기체류의 사용점 처리 장치 및 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007519878A (ja) * 2003-12-19 2007-07-19 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ガス状汚染物質を制御可能に燃焼させるための装置および方法
JP2005291675A (ja) * 2004-04-05 2005-10-20 Taiyo Nippon Sanso Corp 燃焼式排ガス処理装置
JP2006200885A (ja) * 2005-01-21 2006-08-03 Snecma 液化ガスタンカー船または液化ガスターミナルに設置されるガス焼却炉
WO2006123092A1 (en) * 2005-05-16 2006-11-23 Edwards Limited Gas combustion apparatus
JP2007232308A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd ガス処理装置

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