JP2010540212A - 電子デバイス製造廃液を周囲空気により除害するための装置及び方法 - Google Patents
電子デバイス製造廃液を周囲空気により除害するための装置及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010540212A JP2010540212A JP2010526014A JP2010526014A JP2010540212A JP 2010540212 A JP2010540212 A JP 2010540212A JP 2010526014 A JP2010526014 A JP 2010526014A JP 2010526014 A JP2010526014 A JP 2010526014A JP 2010540212 A JP2010540212 A JP 2010540212A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ambient air
- air
- abatement
- abatement unit
- supply system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/54—Nitrogen compounds
- B01D53/56—Nitrogen oxides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/40—Nitrogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2258/00—Sources of waste gases
- B01D2258/02—Other waste gases
- B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
Description
Claims (15)
- 廃液を除害するように構成された除害ユニットと、
空気移動装置を含む周囲空気供給システムとを備え、
周囲空気供給システムが、酸化剤として使用するために周囲空気を除害ユニットに供給するように構成される除害システム。 - 空気移動装置が送風機を含む請求項1記載の除害システム。
- 周囲空気供給システムが、周囲空気を除害ユニットへと選択された質量流量で供給するように構成される請求項1記載の除害システム。
- 周囲空気供給システムが、周囲空気を除害ユニットへと選択された圧力で供給するように構成される請求項1記載の除害システム。
- 空気供給システムが、除害ユニットに供給される空気の圧力変動を低減するように構成される請求項4記載の除害システム。
- 除害ユニットが、2つ以上の空気流入口を介して周囲空気供給システムから周囲空気を受け入れるように構成され、
周囲空気供給システムが、周囲空気を選択された質量流量で各空気流入口に流すように構成され、
各空気流入口について選択された質量流量が、その他の空気流入口について選択された質量流量と同一である又は異なる請求項1記載の除害システム。 - 除害ユニットが、2つ以上の空気流入口を介して周囲空気供給システムから周囲空気を受け入れるように構成され、
各空気流入口がオリフィスを含み、オリフィスの直径が、選択された質量流量で空気が除害ユニットに流れ込むのを許容するように選択され、
各空気流入口について選択された質量流量が、その他の空気流入口について選択された質量流量と同一である又は異なる請求項1記載の除害システム。 - 空気移動装置と、
空気移動装置に連結され且つ除害ユニットに空気を供給するように構成されたマニホルドとを備え、
空気移動装置及びマニホルドが、周囲空気供給源から空気を受け取るように構成される、酸化剤として使用するために周囲空気を除害ユニットに供給するためのシステム。 - 空気移動装置が送風機を含む請求項8記載のシステム。
- 周囲空気供給システムが、周囲空気を選択された質量流量で除害ユニットに供給するように更に構成される請求項8記載のシステム。
- 空気供給システムが、周囲空気を選択された圧力で除害ユニットに供給するように更に構成される請求項8記載のシステム。
- 除害ユニットに供給される周囲空気の圧力変動が低減されるように更に構成される請求項11記載のシステム。
- 周囲空気供給システムが、2つ以上の空気流入口を介して周囲空気を除害ユニットに供給するように更に構成される請求項8記載のシステム。
- 周囲空気供給システムが、周囲空気を選択された質量流量で各空気流入口に流すように構成され、
周囲空気供給システムが、その他の空気流入口の質量流量と同一である又は異なる質量流量で周囲空気を各空気流入口に流すように構成される請求項13記載のシステム。 - 電子デバイス製造処理ツールからの廃液を除害するように構成された除害ユニットを提供し、
空気移動装置を含む、除害ユニットに周囲空気を供給するように構成された周囲空気供給システムを提供し、
周囲空気供給システムによって供給された周囲空気を使用して除害ユニット内で廃液を除害することを含む、酸化剤として周囲空気を使用して廃液を除害するための方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US97397707P | 2007-09-20 | 2007-09-20 | |
US12/053,480 US8003067B2 (en) | 2007-09-20 | 2008-03-21 | Apparatus and methods for ambient air abatement of electronic manufacturing effluent |
PCT/US2008/077082 WO2009039416A1 (en) | 2007-09-20 | 2008-09-19 | Apparatus and methods for ambient air abatement of electronic device manufacturing effluent |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010540212A true JP2010540212A (ja) | 2010-12-24 |
JP2010540212A5 JP2010540212A5 (ja) | 2012-08-30 |
Family
ID=42369384
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010526014A Pending JP2010540212A (ja) | 2007-09-20 | 2008-09-19 | 電子デバイス製造廃液を周囲空気により除害するための装置及び方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010540212A (ja) |
KR (1) | KR20100072274A (ja) |
CN (1) | CN101801505B (ja) |
TW (1) | TWI366482B (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005291675A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 燃焼式排ガス処理装置 |
JP2006200885A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Snecma | 液化ガスタンカー船または液化ガスターミナルに設置されるガス焼却炉 |
WO2006123092A1 (en) * | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Edwards Limited | Gas combustion apparatus |
JP2007519878A (ja) * | 2003-12-19 | 2007-07-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ガス状汚染物質を制御可能に燃焼させるための装置および方法 |
JP2007232308A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | ガス処理装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100481256B1 (ko) * | 1998-12-15 | 2005-04-11 | 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 | 유출 기체류의 사용점 처리 장치 및 방법 |
-
2008
- 2008-09-19 CN CN2008801087537A patent/CN101801505B/zh active Active
- 2008-09-19 TW TW097136109A patent/TWI366482B/zh active
- 2008-09-19 KR KR1020107008634A patent/KR20100072274A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-09-19 JP JP2010526014A patent/JP2010540212A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007519878A (ja) * | 2003-12-19 | 2007-07-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ガス状汚染物質を制御可能に燃焼させるための装置および方法 |
JP2005291675A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 燃焼式排ガス処理装置 |
JP2006200885A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Snecma | 液化ガスタンカー船または液化ガスターミナルに設置されるガス焼却炉 |
WO2006123092A1 (en) * | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Edwards Limited | Gas combustion apparatus |
JP2007232308A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | ガス処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100072274A (ko) | 2010-06-30 |
TWI366482B (en) | 2012-06-21 |
TW200932341A (en) | 2009-08-01 |
CN101801505A (zh) | 2010-08-11 |
CN101801505B (zh) | 2013-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI499450B (zh) | 用於處理來自製程之可燃性廢氣的系統及方法 | |
TWI482932B (zh) | Regenerative combustion exhaust gas purification system and its operation method | |
KR101283264B1 (ko) | 배기 가스 연소 장치 및 방법 | |
CN101024145B (zh) | 用气涡轮处理挥发性有机化合物的方法及其处理系统 | |
JP3948486B1 (ja) | 揮発性有機化合物の処理方法、吸着・脱着装置及び揮発性有機化合物の処理システム | |
JP7181220B2 (ja) | 真空ポンプシステム | |
HK1055216A1 (en) | Fumigation apparatus | |
KR101933678B1 (ko) | 연속식 고형 흡착제 재생 탈착시스템 | |
US8003067B2 (en) | Apparatus and methods for ambient air abatement of electronic manufacturing effluent | |
JP2010540212A (ja) | 電子デバイス製造廃液を周囲空気により除害するための装置及び方法 | |
US20090148339A1 (en) | Apparatus and methods for reducing restrictions to air flow in an abatement system | |
JP2010540212A5 (ja) | 電子デバイス製造廃物を周囲空気により除害するための装置及び方法 | |
WO2009039416A1 (en) | Apparatus and methods for ambient air abatement of electronic device manufacturing effluent | |
JP6209786B2 (ja) | 排気ガス処理システム | |
JP4463315B2 (ja) | 揮発性有機化合物処理用コージェネレーションシステム | |
US20180347812A1 (en) | Device and Method for Treating Flue Gases | |
KR20220049549A (ko) | 휘발성 유기 화합물 저감 장치 | |
JP4463314B2 (ja) | 揮発性有機化合物処理用コージェネレーションシステム | |
CN211384430U (zh) | 一种VOCs废气净化处理设备 | |
US8591823B2 (en) | Systems and methods for treating air streams exhausted from firing kilns | |
KR20240038553A (ko) | 반도체 공정 시스템 및 가스 처리 방법 | |
JP2004138358A (ja) | 蓄熱燃焼式排ガス浄化装置に対する排ガス給排方法およびその装置 | |
US20090028781A1 (en) | Catalytic reactor method for generating high purity water vapor | |
CN115210502A (zh) | 用于热清除工艺气体中的有害物质的方法和燃烧器 | |
CN114588747A (zh) | 双转轮高效率有机废气处理系统及其方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110916 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111014 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20111014 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20111215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120110 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120410 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120417 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120510 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120517 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120609 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120618 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under section 19 (pct) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20120710 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120903 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121204 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121212 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20121212 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121227 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20121212 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130107 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130201 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130204 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130208 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130312 |