JP2010537151A5

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Publication number: JP2010537151A5
Application number: JP2010521838A
Authority: JP
Filing date: 2008-06-26
Publication date: 2011-08-18
Anticipated expiration: 2028-06-26

Claims

ガスストリームを液化するためのプロセスであって、前記プロセスは、
（ａ）供給ガスストリームとして６００ｐｓｉａ〜１，０００ｐｓｉａ（４１３７ｋＰａ〜６８９５ｋＰａ）の圧力で前記ガスストリームを供給するステップと、
（ｂ）１，０００ｐｓｉａ（６８９５ｋＰａ）未満の圧力で冷媒を供給するステップと、（ｃ）圧縮された冷媒を製造するために１５００ｐｓｉａ〜５０００ｐｓｉａ（１０３５２ｋＰａ〜３４４７４ｋＰａ）の圧力で前記冷媒を圧縮するステップと、
（ｄ）前記圧縮された冷媒を冷却液との間接熱交換によって冷却するステップと、
（ｅ）膨張され、冷却された冷媒を製造するために、前記圧縮された冷媒を冷却する（ｄ）ステップの前記圧縮された冷媒を１００ｐｓｉａ（６８９ｋＰａ）以上１，０００ｐｓｉａ（６８９５ｋＰａ）以下の圧力で膨張させるステップと、
（ｆ）前記膨張され、冷却された冷媒を第１の熱交換領域に送るステップと、
（ｇ）圧縮された供給ガスストリームを製造するために、（ａ）の供給ガスストリームを１，２００ｐｓｉａ（８，２７４ｋＰａ）以上４，５００ｐｓｉａ（３１０２６ｋＰａ）以下の圧力に圧縮するステップと、
（ｈ）前記圧縮された供給ガスストリームを外部の冷却液との間接熱交換によって冷却するステップと、
（ｉ）圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを製造するために、少なくともその一部を間接熱交換によって冷却するための、前記圧縮された供給ガスストリームを前記第１の熱交換領域に通過させるステップと、を含むプロセス。
請求項１のプロセスにおいて、追加冷却のために、ステップ（ｉ）の前記圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを第２の熱交換領域を通過させるステップ（ｊ）をさらに含むプロセス。
請求項２のプロセスにおいて、膨張され、冷却されたガスストリームを製造するために、（ｊ）の前記圧縮され、さらに冷却された供給ガスストリームを膨張させて、前記ストリームの圧力を５０ｐｓｉａ（３４５ｋＰａ）以上４５０ｐｓｉａ（３１０３ｋＰａ）以下に下げるステップ（ｋ）をさらに含むプロセス。
請求項３のプロセスにおいて、減圧されたガスストリームを製造するために、（ｋ）の前記膨張され、冷却されたガスストリームの５０％を超えない部分を引き込み、減圧バルブで約３０ｐｓｉａ〜２００ｐｓｉａ（２０７ｋＰａ〜１３７９ｋＰａ）の範囲の圧力に減圧し、前記減圧されたガスストリームを冷却ガスストリームとして（ｊ）の前記第２の熱交換領域を通過させることをさらに含むプロセス。
請求項４のプロセスにおいて、前記圧縮された供給ガスストリームの冷却を支援するために前記冷却ガスストリームを前記第１の熱交換領域に通過させることをさらに含むプロセス。
請求項５のプロセスにおいて、外部の冷却ユニットとの間接熱交換によって前記冷却ガスストリームをその後に一回以上、圧縮冷却し、請求項１のステップ（ｇ）の前記供給ガスストリームを圧縮する前に前記冷却ガスストリームを請求項１のステップ（ａ）の前記供給ガスストリームに追加することをさらにを含むプロセス。
請求項３のプロセスにおいて、前記膨張され、圧縮されたガスストリームの少なくとも一部を膨張させ、
前記膨張され、圧縮されたガスストリームを分離タンクへ送り、そこから液化天然ガスを回収し、残留ガス状蒸気をフラッシュガスとして引き込むことをさらに含み、
前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域には、窒素ガス、窒素を含むガス、または前記液化供給ガスストリームから最終的に分離された前記フラッシュガスを含む過冷却エキスパンダループ冷却ストリームが供給されるプロセス。
ガス状供給ストリームを取り扱うシステムであって、
（ａ）ガス状供給ストリームと、
（ｂ）圧縮され、冷却された冷媒ストリームを製造するように構成された、冷媒ストリーム、第一の圧縮ユニット、および第一の冷却器を含む第一の冷却ループと、
（ｃ）圧縮されたガス状供給ストリームを形成するために、前記ガス状供給ストリームを１，０００ｐｓｉａ（６８９５ｋＰａ）より大きい圧力で圧縮するように構成された第二の圧縮ユニットと、
（ｄ）圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを形成するために、前記圧縮されたガス状供給ストリームを冷却するように構成された第二の冷却器と、ここで前記第２の冷却器は外部の冷却液を利用し、
（ｅ）過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを製造するために、前記圧縮され、冷却された冷媒ストリームとの間接熱交換によって、前記圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームの少なくとも一部をさらに冷却させるように構成された第一の熱交換領域と、を含むシステム。
請求項８のシステムにおいて、
（ｆ）液体フラクションおよび残留蒸気フラクションを含む生成物ストリームを形成するために、前記過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームを膨張させるように構成された第一のエキスパンダと、
（ｇ）前記液体フラクションと前記残留蒸気フラクションとを分離するように構成された液体分離容器と、
をさらにを含むシステム。
請求項９のシステムにおいて、
少なくとも前記過冷却され、圧縮され、冷却されたガス状供給ストリームをさらに冷却するように構成された第二の熱交換領域をさらに含み、
（ｈ）窒素ガス、窒素を含むガス、および前記残留蒸気フラクションからなる群から選択されるガスを含む過冷却エキスパンダループ冷却ストリームをさらに含み、前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームは閉ループ中を流れ、
前記閉ループは、
（ｉ）圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを形成するために、前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域を通過後に、前記過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを圧縮するように構成された第３の圧縮機と、
（ｊ）さらに冷却され、圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを形成するために、前記圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームをさらに冷却するよう構成された第３の冷却器と、
（ｋ）前記第１の熱交換領域および前記第２の熱交換領域に供給する前に、前記さらに冷却され、圧縮された過冷却エキスパンダループ冷却ストリームを膨張させるように構成された第２のエキスパンダと
をさらに含むシステム。