JP2010532628A - 画像中のアーチファクトを低減させる装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
I(x,y)=ax+by+c (1)
ここで、I(x,y)は位置(x,y)における予測された色強度であり、a、b、cは定数係数である。上記の式は3D空間内での2D平面を定義する。つまり、入力画像は二次元であり、残りの次元が色強度であり、こうしてx、y、Iが三次元軸を与える。
e=c(m,n)*E (5)
によって決定されるよう、近隣ブロックに分配される。ここで、c(m,n)は誤差拡散係数である。
wi,j=1/NM Ii,j∈Bm,n (7)
ここで、eはブロックBm,nへ分配される総誤差、N、Mはブロックの寸法、wi,jはブロックBm,nについての重み付け係数である。ある実施形態では、重み付け係数を計算するために、式(6)に示されるような一様分配が使用される。wi,jを計算するために、より複雑な関数が設計されることもできる。たとえば、wi,jはI(i,j)に比例して設定されることができる。
Claims (31)
- 画像中のバンド発生領域を検出する方法であって:
少なくとも一つの第一の画像を少なくとも一つの均一色領域にセグメント分割する段階と;
前記少なくとも一つの均一色領域について色強度の線形遷移を推定する段階と;
色強度の前記線形遷移が実質的になめらかであれば、前記少なくとも一つの均一色領域をバンド発生領域として分類する段階とを含む、
方法。 - 前記推定する段階が、セグメント分割された領域中のピクセルの強度表面を線形表面モデルを使ってモデル化することを含む、請求項1記載の方法。
- 前記分類する段階が、推定された強度表面を、前記少なくとも一つの第一の画像中の実際の強度表面に当てはめることを含む、請求項2記載の方法。
- 前記推定された強度表面と、前記少なくとも一つの第一の画像中の実際の強度表面との間の表面当てはめ誤差を決定する段階と;
前記表面当てはめ誤差が所定の閾値より小さい場合に色強度の前記線形遷移が実質的になめらかであると判定する段階とをさらに含む、
請求項3記載の方法。 - 前記セグメント分割する段階が、前記少なくとも一つの第一の画像に対して平均シフト関数を実行することを含む、請求項1記載の方法。
- 前記少なくとも一つのセグメント分割された領域のピクセル数を判別する段階と;
前記ピクセル数が所定の閾値より小さい場合に前記少なくとも一つのセグメント分割された領域を破棄する段階とをさらに含む、
請求項1記載の方法。 - 前記少なくとも一つのセグメント分割された領域のピクセルの色分布の分散を計算する段階と;
計算された分散が所定の閾値より大きい場合に前記少なくとも一つのセグメント分割された領域を破棄する段階とをさらに含む、
請求項1記載の方法。 - 前記少なくとも一つの分類されたバンド発生領域のそれぞれが共通の境界を共有するかどうかを判定する段階と;
少なくとも二つの分類されたバンド発生領域が共通の境界を共有する場合に前記少なくとも二つの分類されたバンド発生領域を単一のバンド発生領域にマージする段階とをさらに含む、
請求項1記載の方法。 - 検出されたバンド発生領域を少なくとも一つの第二の画像まで追跡する段階と;
前記少なくとも一つの第一および第二の画像におけるバンド発生アーチファクトをマスクするよう、検出されたバンド発生領域に誤差拡散関数を適用する段階とをさらに含む、
請求項1記載の方法。 - 前記適用する段階がさらに:
前記少なくとも一つの画像のピクセルのブロック・サイズを選択する段階と;
少なくとも一つのブロックが検出されたバンド発生領域内にあるかどうかを判定する段階と;
前記少なくとも一つのブロックにマスキング信号を加える段階と;
前記少なくとも一つの画像中の前記少なくとも一つのブロックについて量子化誤差を決定する段階と;
前記量子化誤差を近隣ブロックに分配する段階とをさらに含む、
請求項9記載の方法。 - 前記追跡する段階がさらに:
前記少なくとも一つの第一の画像の検出されたバンド発生領域について二値マスクを生成する段階と;
検出されたバンド発生領域を追跡するために前記少なくとも一つの第二の画像に前記二値マスクを投影する段階とを含む、
請求項9記載の方法。 - 画像中のバンド発生領域を検出する装置であって:
少なくとも一つの第一の画像を少なくとも一つの均一色領域にセグメント分割するよう構成された画像セグメント分割モジュールと;
前記少なくとも一つの均一色領域について色強度の線形遷移を推定するよう構成された線形遷移推定器と;
色強度の前記線形遷移が実質的になめらかであれば、前記少なくとも一つの均一色領域をバンド発生領域として分類するよう構成された領域検出モジュールとを有する、
装置。 - 前記線形遷移推定器がさらに、セグメント分割された領域中のピクセルの強度表面を線形表面モデルを使ってモデル化するよう構成されている、請求項12記載の装置。
- 前記領域検出モジュールがさらに、推定された強度表面を、前記少なくとも一つの第一の画像中の実際の強度表面に当てはめるよう構成されている、請求項13記載の装置。
- 前記領域検出モジュールがさらに、前記推定された強度表面と、前記少なくとも一つの第一の画像中の実際の強度表面との間の表面当てはめ誤差を決定するよう構成されており;前記表面当てはめ誤差が所定の閾値より小さい場合に色強度の前記線形遷移が実質的になめらかであると判定する、請求項14記載の装置。
- 前記画像セグメント分割モジュールがさらに、前記少なくとも一つの第一の画像に対して平均シフト関数を実行するよう構成されている、請求項12記載の装置。
- 前記領域検出モジュールがさらに、前記少なくとも一つのセグメント分割された領域のピクセル数を判別するよう構成されており;前記ピクセル数が所定の閾値より小さい場合に前記少なくとも一つのセグメント分割された領域を破棄する、請求項12記載の装置。
- 前記領域検出モジュールがさらに、前記少なくとも一つのセグメント分割された領域のピクセルの色分布の分散を計算するよう構成されており;計算された分散が所定の閾値より大きい場合に前記少なくとも一つのセグメント分割された領域を破棄する、請求項12記載の装置。
- 前記領域検出モジュールがさらに、前記少なくとも一つの分類されたバンド発生領域のそれぞれが共通の境界を共有するかどうかを判定するよう構成されており;少なくとも二つの分類されたバンド発生領域が共通の境界を共有する場合に前記少なくとも二つの分類されたバンド発生領域を単一のバンド発生領域にマージする、請求項12記載の装置。
- 前記少なくとも一つの第一の画像中の検出されたバンド発生領域を少なくとも一つの第二の画像まで追跡するよう構成された追跡モジュールと;
前記少なくとも一つの第一および第二の画像におけるバンド発生アーチファクトをマスクするよう、検出されたバンド発生領域に誤差拡散関数を適用するよう構成された誤差拡散モジュールとをさらに有する、
請求項12記載の装置。 - 前記誤差拡散モジュールがさらに、少なくとも一つの画像に適用されるべきマスキング信号を生成するよう構成された信号生成器をさらに有しており;前記誤差拡散モジュールがさらに、前記少なくとも一つの画像のピクセルのブロック・サイズを選択し;少なくとも一つのブロックが検出されたバンド発生領域内にあるかどうかを判定し;前記少なくとも一つの画像中の前記少なくとも一つのブロックについて量子化誤差を決定し;前記量子化誤差を近隣ブロックに分配するよう構成されている、請求項20記載の装置。
- 画像中のバンド発生領域を検出する装置であって:
少なくとも一つの第一の画像を少なくとも一つの均一色領域にセグメント分割する手段と;
前記少なくとも一つの均一色領域について色強度の線形遷移を推定する手段と;
色強度の前記線形遷移が実質的になめらかであれば、前記少なくとも一つの均一色領域をバンド発生領域として分類する手段とを有する、
装置。 - 前記推定する手段がさらに、セグメント分割された領域中のピクセルの強度表面を線形表面モデルを使ってモデル化する手段を有する、請求項22記載の装置。
- 前記分類する手段がさらに、推定された強度表面を、前記少なくとも一つの第一の画像中の実際の強度表面に当てはめる手段を有する、請求項23記載の装置。
- 前記分類する手段がさらに、前記推定された強度表面と、前記少なくとも一つの第一の画像中の実際の強度表面との間の表面当てはめ誤差を決定する手段と;前記表面当てはめ誤差が所定の閾値より小さい場合に色強度の前記線形遷移が実質的になめらかであると判定する手段とを有する、請求項24記載の装置。
- 前記セグメント分割する手段がさらに、前記少なくとも一つの第一の画像に対して平均シフト関数を実行する手段を有する、請求項22記載の装置。
- 前記分類する手段がさらに、前記少なくとも一つのセグメント分割された領域のピクセル数を判別する手段と;前記ピクセル数が所定の閾値より小さい場合に前記少なくとも一つのセグメント分割された領域を破棄する手段とを有する、請求項22記載の装置。
- 前記分類する手段がさらに、前記少なくとも一つのセグメント分割された領域のピクセルの色分布の分散を計算する手段と;計算された分散が所定の閾値より大きい場合に前記少なくとも一つのセグメント分割された領域を破棄する手段とをさらに有する、請求項22記載の装置。
- 前記少なくとも一つの分類されたバンド発生領域のそれぞれが共通の境界を共有するかどうかを判定する手段と;少なくとも二つの分類されたバンド発生領域が共通の境界を共有する場合に前記少なくとも二つの分類されたバンド発生領域を単一のバンド発生領域にマージする手段とをさらに有する、請求項22記載の装置。
- 前記少なくとも一つの第一の画像中の検出されたバンド発生領域を少なくとも一つの第二の画像まで追跡する手段と;
前記少なくとも一つの第一および第二の画像におけるバンド発生アーチファクトをマスクするよう、検出されたバンド発生領域に誤差拡散関数を適用する手段とをさらに有する、
請求項22記載の装置。 - 前記分類する手段がさらに、少なくとも一つの画像に適用されるべきマスキング信号を生成する手段と;前記少なくとも一つの画像のピクセルのブロック・サイズを選択する手段と;少なくとも一つのブロックが検出されたバンド発生領域内にあるかどうかを判定する手段と;前記少なくとも一つの画像中の前記少なくとも一つのブロックについて量子化誤差を決定する手段と;前記量子化誤差を近隣ブロックに分配する手段とを有する、請求項30記載の装置。
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