JP2010529581A - ワード線バッファ付きメモリ構造 - Google Patents

ワード線バッファ付きメモリ構造 Download PDF

Info

Publication number
JP2010529581A
JP2010529581A JP2010510482A JP2010510482A JP2010529581A JP 2010529581 A JP2010529581 A JP 2010529581A JP 2010510482 A JP2010510482 A JP 2010510482A JP 2010510482 A JP2010510482 A JP 2010510482A JP 2010529581 A JP2010529581 A JP 2010529581A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage level
memory
word line
module
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010510482A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5240627B2 (ja
JP2010529581A5 (ja
Inventor
スタルジャ、パンタス
Original Assignee
マーベル ワールド トレード リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by マーベル ワールド トレード リミテッド filed Critical マーベル ワールド トレード リミテッド
Publication of JP2010529581A publication Critical patent/JP2010529581A/ja
Publication of JP2010529581A5 publication Critical patent/JP2010529581A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5240627B2 publication Critical patent/JP5240627B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/08Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/408Address circuits
    • G11C11/4085Word line control circuits, e.g. word line drivers, - boosters, - pull-up, - pull-down, - precharge
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/10Decoders

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

メモリは複数のメモリセルを備える。行デコーダモジュールは、ワード線群を、電圧レベルを使用して駆動して、メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスする。第1再生モジュールは、ワード線群のうちの1つのワード線に現われる電圧レベルを第1及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに選択的にプルする。ワード線群のうちの1つのワード線のメモリセル群のうちの少なくとも1つのメモリセルは、第1再生モジュールと行デコーダモジュールとの間に配置される。
【選択図】図5

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2007年5月31日出願の米国仮出願第60/941,138号の利益を主張するものである。上の出願の開示内容は、本明細書において参照されることにより、当該出願の内容全体が本明細書に組み込まれる。
本開示はメモリに関し、特にワード線バッファ付きメモリに関する。
本明細書に提示される背景技術についての記述は、本開示の背景の概要を説明するために行なわれる。現在の定義で発明者とされる人の成果は、当該成果が、この背景技術の節に記載される範囲において、出願時に先行技術として扱われることがない記述における種々の態様とともに、明示的にも暗示的にも本開示に対する先行技術として認めるということはできない。
次に、図1を参照すると、メモリ構造の機能模式図が提示されている。行デコーダ102は一つ以上のワード線104を駆動する。値が、ビット線108を介して選択ワード線104のメモリセル群106から読み出される、またはメモリセル群106に書き込まれる。これらのメモリセル106はそれぞれ、トランジスタ110と、そしてキャパシタ112と、を含む。単なる一例であるが、トランジスタ110のみを、金属−酸化物−半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)とすることができ、当該トランジスタは、ゲートと、ソースと、そしてドレインと、を有する。
単なる一例であるが、トランジスタ110はn−チャネルMOSFETとすることができる。トランジスタ110のドレインは、該当するビット線108に接続され、そしてトランジスタ110のゲートは該当するワード線104に接続される。トランジスタ110のソースは、キャパシタ112の第1端子に接続される。キャパシタ112の第2端子はグランド電位に接続される。
メモリは複数のメモリセルを備える。行デコーダモジュールは、ワード線群を電圧レベルを使用して選択的に駆動して、前記メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスする。第1再生モジュールは、前記ワード線群のうちの1つのワード線に現われる前記電圧レベルを第1及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに選択的にプルする。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線の前記メモリセル群のうちの少なくとも1つのメモリセルは、前記第1再生モジュールと前記行デコーダモジュールとの間に配置される。
他の特徴では、前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高い。前記第1再生モジュールは、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を上回る場合に選択的にプルする。前記第1再生モジュールは前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合に選択的にプルする。前記第1再生モジュールは、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合にプルするのを一時停止する。前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高い。前記第1再生モジュールは前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を下回る場合に選択的にプルする。
他の特徴では、前記第1再生モジュールは、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに前記電圧レベルが前記所定の閾値を上回る場合にプルするのを一時停止する。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間に延在する。前記第1再生モジュールは前記遠位側セルに隣接して配置される。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に対応する第2再生モジュールは、前記遠位側セルと前記行デコーダモジュールとの間に配置される。
他の特徴では、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延びる。前記第1再生モジュールは前記遠位側セルと前記行デコーダモジュールとの間の中間に配置される。前記ワード線群は、Nが1よりも大きい整数である場合のN本のワード線と、そして前記第1再生モジュールを含むN個の再生モジュールと、を含む。前記N個の再生モジュールの各再生モジュールは、前記N本のワード線のうちの該当する1本のワード線に対応する。
他の特徴では、前記メモリセル群はDC電流を選択的に流す。前記メモリセル群はバイポーラ接合トランジスタを含む。前記メモリセル群は相変化メモリ素子を含む。前記第1再生制御モジュールは、アクティブ状態及び非アクティブ状態を有する制御信号を受信し、かつ前記電圧レベルをプルする動作を、前記制御信号が前記非アクティブ状態である場合に無効にする。
他の特徴では、再生制御モジュールは、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動した後の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成する。再生制御モジュールは、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動した後の第1の所定期間に亘って、かつ前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動する前の第2の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成する。
他の特徴では、前記第1再生制御モジュールは、各インバータが入力及び出力を有する第1及び第2インバータを含む。前記第1インバータの前記出力は、前記第2インバータの前記入力に通じる。前記第2インバータの前記出力、及び前記第1インバータの前記入力は、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に通じる。前記第2インバータは、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される。前記第1及び第2インバータは共に、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される。前記第1再生制御モジュールは、入力及び出力を有するインバータと、そして制御端子、及び第1及び第2端子を有するトランジスタと、を含む。
メモリを動作させる方法は、複数のメモリセルを設けるステップと、行デコーダを使用してワード線群を、電圧レベルを使用して選択的に駆動することにより、前記メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスするステップと、前記ワード線群のうちの1つのワード線に現われる前記電圧レベルを第1及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに選択的にプルする第1再生モジュールを設けるステップと、そして前記ワード線群のうちの前記1つのワード線の前記メモリセル群のうちの少なくとも1つのメモリセルを、前記第1再生モジュールと前記行デコーダモジュールとの間に配置するステップと、を含む。
他の特徴では、前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高く、そして前記方法は更に、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を上回る場合に選択的にプルするステップを含む。前記方法は、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合に選択的にプルするステップを含む。前記方法は、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合にプルするのを一時停止するステップを含む。前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高く、そして前記方法は更に、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を下回る場合に選択的にプルするステップを含む。
他の特徴では、前記方法は、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を上回る場合にプルするのを一時停止するステップを含む。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延びる。前記第1再生モジュールは前記遠位側セルに隣接して配置される。前記方法は、第2再生モジュールを、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に対応して設けて、前記第2再生モジュールが、前記遠位側セルと前記行デコーダモジュールとの間に配置されるようにするステップを含む。
他の特徴では、前記方法は、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線を、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延在させるステップと、そして前記第1再生モジュールを、前記遠位側セルと前記行デコーダモジュールとの間の中間に配置するステップと、を含む。前記ワード線群は、Nが1よりも大きい整数である場合にN本のワード線を含む。前記方法は更に、前記第1再生モジュールを含むN個の再生モジュールを設けるステップを含む。前記N個の再生モジュールの各再生モジュールは、前記N本のワード線のうちの該当する1本のワード線に対応する。
他の特徴では、前記メモリセル群はDC電流を選択的に流す。前記メモリセル群はバイポーラ接合トランジスタを含む。前記メモリセル群は相変化メモリ素子を含む。前記方法は、アクティブ状態及び非アクティブ状態を有する制御信号を受信するステップと、そして前記電圧レベルをプルする動作を、前記制御信号が非アクティブ状態である場合に無効にするステップと、を含む。前記方法は、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動した後の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成するステップを含む。前記方法は、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動した後の第1の所定期間に亘って、かつ前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動する前の第2の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成するステップを含む。
メモリは複数のメモリセルを備える。行デコーダ手段はワード線群を、電圧レベルを使用して選択的に駆動することにより、前記メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスする。第1再生手段は、前記ワード線群のうちの1つのワード線に現われる前記電圧レベルを第1及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに選択的にプルする。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線の前記メモリセル群のうちの少なくとも1つのメモリセルは、前記第1再生手段と前記行デコーダ手段との間に配置される。
他の特徴では、前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高い。前記第1再生手段は、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を上回る場合に選択的にプルする。前記第1再生手段は、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合に選択的にプルする。前記第1再生手段は、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合にプルするのを一時停止する。前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高い。前記第1再生手段は、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を下回る場合に選択的にプルする。
他の特徴では、前記第1再生手段は、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに前記電圧レベルが前記所定の閾値を上回る場合にプルするのを一時停止する。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダ手段と前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延びる。前記第1再生手段は前記遠位側セルに隣接して配置される。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に対応する第2再生手段は、前記遠位側セルと前記行デコーダ手段との間に配置される。
他の特徴では、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダ手段と前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延びる。前記第1再生手段は、前記遠位側セルと前記行デコーダ手段との間の中間に配置される。前記ワード線群は、Nが1よりも大きい整数である場合のN本のワード線と、そして前記第1再生手段を含むN個の再生手段と、を含む。前記N個の再生手段の各再生手段は、前記N本のワード線のうちの該当する1本のワード線に対応する。
他の特徴では、前記メモリセル群はDC電流を選択的に流す。前記メモリセル群はバイポーラ接合トランジスタを含む。前記メモリセル群は相変化メモリ素子を含む。前記第1再生手段は、アクティブ状態及び非アクティブ状態を有する制御信号を受信し、そして前記電圧レベルをプルする動作を、前記制御信号が非アクティブ状態である場合に無効にする。
他の特徴では、再生制御手段は、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動した後の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成する。再生制御手段は、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動した後の第1の所定期間に亘って、かつ前記行デコーダが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動する前の第2の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成する。
他の特徴では、第1再生手段は、各インバータが入力及び出力を有する第1及び第2インバータを含み、前記第1インバータの前記出力は、前記第2インバータの前記入力に通じる。前記第2インバータの前記出力、及び前記第1インバータの前記入力は、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に通じる。前記第2インバータは、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される。前記第1及び第2インバータは共に、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される。前記第1再生手段は、入力及び出力を有するインバータと、そして制御端子、及び第1及び第2端子を有するトランジスタと、を含む。
メモリは、各ワード線が複数のメモリセルを含む複数のワード線を備える。行デコーダモジュールは、電圧レベルを、前記複数のワード線のうちの駆動される1つのワード線に供給して、前記複数のワード線のうちの駆動される前記1つのワード線に接続される前記メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスする。複数の再生モジュールは、前記電圧レベルを第1の所定電圧レベル、及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに選択的にプルするように構成される。前記複数の再生モジュールのうちの一つ以上の再生モジュールは、前記複数のワード線の各ワード線に沿って配置され、かつ前記複数のワード線の各ワード線の前記複数のメモリセルのうちの2つのメモリセルの間に配置される。
他の特徴では、前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高い。前記複数の再生モジュールの各再生モジュールは更に、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を上回る場合に選択的にプルするように構成される。前記複数の再生モジュールのうちの1つの再生モジュールは更に、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合に選択的にプルするように構成される。複数の制御モジュールは、前記複数のワード線に接続される前記複数の再生モジュールから成るグループを制御するように構成され、そして前記グループの再生モジュールは、前記複数のワード線の各ワード線の前記複数の再生モジュールのうちの少なくとも1つの再生モジュールを含む。前記複数の再生モジュールの各再生モジュールは更に、前記電圧レベルを、前記第1電圧レベル及び第2電圧レベルのうちの1つの電圧レベルに、所定期間後に選択的にプルし始めるように構成される。
他の特徴では、前記所定期間は、前記電圧レベルが前記行デコーダモジュールによって印加された後に開始する。前記複数のメモリセルはDC電流を選択的に流す。前記複数のメモリセルはバイポーラ接合トランジスタを含む。前記複数のメモリセルは更に相変化メモリ素子を含む。
前記複数の再生モジュールのうちの少なくとも1つの再生モジュールは、各インバータが入力及び出力を有する第1及び第2インバータを含む。前記第1インバータの前記出力は、前記第2インバータの前記入力に通じる。前記第2インバータの前記出力、及び前記第1インバータの前記入力は、前記複数のワード線のうちの1つのワード線に通じる。前記第2インバータは、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される。前記第1及び第2インバータは共に、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される。前記複数の再生モジュールのうちの少なくとも1つの再生モジュールは、入力及び出力を有するインバータと、そして制御端子、及び第1及び第2端子を有するトランジスタと、を含む。前記インバータの前記出力は、前記トランジスタの前記制御端子に通じ、前記トランジスタの前記第1端子、及び前記インバータの前記入力は、前記複数のワード線のうちの1つのワード線に通じ、そして前記トランジスタの前記第2端子で制御信号を受信する。
メモリは、複数のメモリセルと、行デコーダモジュールと、そして第1再生モジュールと、を備える。前記行デコーダモジュールは、ワード線群を、第1及び第2の所定電圧レベルを使用して選択的に駆動することにより、前記メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスする。前記第1再生モジュールは、前記ワード線群のうちの1つのワード線の第1位置の電圧を、前記第1及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに向かって選択的にプルする。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に対応する前記メモリセル群のうちの少なくとも1つのメモリセルは、前記第1位置と前記行デコーダモジュールとの間に配置される。
他の特徴では、前記第1再生モジュールは、前記第1位置の前記電圧を、第3及び第4の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに選択的にプルする。前記第3の所定電圧レベルは、前記第1の所定電圧レベルにほぼ等しく、そして前記第4の所定電圧レベルは、前記第2の所定電圧レベルにほぼ等しい。前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高い。前記第1再生モジュールは、前記第1位置の前記電圧を前記第1の所定電圧レベルに向かって、前記第1位置の前記電圧が所定の閾値を上回る場合に選択的にプルする。
別の特徴では、前記第1再生モジュールは、前記第1位置の前記電圧を前記第2の所定電圧レベルに向かって、前記第1位置の前記電圧が前記所定の閾値を下回る場合に選択的にプルする。前記第1再生モジュールは、前記第1位置の前記電圧を前記第1の所定電圧レベルに向かって前記第1位置の前記電圧が前記所定の閾値を下回る場合にプルするのを一時停止する。前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高い。前記第1再生モジュールは、前記第1位置の前記電圧を前記第2の所定電圧レベルに向かって、前記第1位置の前記電圧が所定の閾値を下回る場合に選択的にプルする。
更に別の特徴では、前記第1再生モジュールは、前記第1位置の前記電圧を前記第2の所定電圧レベルに向かって前記第1位置の前記電圧が前記所定の閾値を上回る場合に選択的にプルするのを一時停止する。前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延びる。前記第1位置は前記遠位側セルに隣接する。前記メモリは更に、第2再生モジュールを、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に対応して備え、前記第2再生モジュールは、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線の第2位置の電圧を、前記第1及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに向かって選択的にプルする。前記第2位置は、前記第1位置と前記行デコーダモジュールとの間に在る。
他の特徴では、前記ワード線群は、Nが1よりも大きい整数である場合にN本のワード線を含み、そして前記メモリは更に、前記第1再生モジュールを含むN個の再生モジュールを備える。前記N個の再生モジュールの各再生モジュールは、前記N本のワード線のうちの該当する1本のワード線に対応する。前記メモリセル群はDC電流を選択的に流す。前記メモリセル群はバイポーラ接合トランジスタを含む。前記メモリセル群は相変化メモリ素子を含む。前記第1再生制御モジュールは、アクティブ状態及び非アクティブ状態を有する制御信号を受信し、そして前記第1位置の前記電圧をプルする動作を、前記制御信号が前記非アクティブ状態である場合に無効にする。
別の特徴では、前記メモリは更に再生制御モジュールを備え、前記再生制御モジュールは、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダが前記ワード線群を駆動した後の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成する。前記メモリは更に再生制御モジュールを備え、前記再生制御モジュールは、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダが前記ワード線群を駆動した後の第1の所定期間に亘って、かつ前記行デコーダが前記ワード線群を駆動する前の第2の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成する。
更に別の特徴では、前記第1再生制御モジュールは、各インバータが入力及び出力を有する第1及び第2インバータを含む。前記第1インバータの前記出力は、前記第2インバータの前記入力に通じる。前記第2インバータの前記出力、及び前記第1インバータの前記入力は、前記第1位置に通じる。前記第2インバータは、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される。前記第1及び第2インバータは共に、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される。前記第1再生制御モジュールは、入力及び出力を有するインバータと、そして制御端子、及び第1及び第2端子を有するトランジスタと、を含む。
本開示の別の適用可能領域は、以下に提示される詳細な記述から明らかになる。詳細な記述及び特定の例は、本開示の好適な実施形態を示しながら、例示のためにのみ提示され、本開示の範囲を制限するために提示されるのではないことを理解されたい。
本開示は、詳細な記述及び添付の図面から更に完全な形で理解される。
先行技術によるメモリ構造の機能模式図である。 本開示の原理によるワード線の寄生要素を示す例示的なメモリアレイの機能模式図である。 本開示の原理によるワード線の寄生要素を示す別の例示的なメモリアレイの機能模式図である。 本開示の原理によるDC電流を流す制御素子を含む例示的な相変化メモリの機能模式図である。 本開示の原理による再生ラッチを含む例示的なメモリアレイの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な再生ラッチの機能模式図である。 本開示の原理による例示的な複数の再生ラッチのうちの1つの再生ラッチを搭載した例示的な相変化メモリアレイの機能模式図である。 本開示の原理によるサンプルワード線データに対応する例示的な制御信号の一連のグラフ波形である。 ハードディスクドライブの機能ブロック図である。 DVDドライブの機能ブロック図である。 高精細テレビジョンの機能ブロック図である。 車両制御システムの機能ブロック図である。 携帯電話機の機能ブロック図である。 セットトップボックスの機能ブロック図である。 携帯機器の機能ブロック図である。
以下の記述は、本質的に単なる例示として行なわれるのであり、決して、本開示、本開示の適用、または使用を制限するために為されるのではない。図面を分かり易くするために、同じ参照番号を図面において使用して、同様の構成要素を指すようにしている。本明細書において使用するように、「at least one of A, B, and C(A,B,及びCのうちの少なくとも1つ)」というフレーズは、非排他的論理「or」を使用する論理(A or B or C)を意味するものとして解釈されるべきである。方法に含まれるステップ群は、本開示の原理を変えることなく異なる順番で実行することができることを理解されたい。
メモリアレイ群は複数の行8(すなわちワード線)、及び複数の列(すなわちビット線)を含む。単なる一例であるが、1つのメモリアレイは、16本のワード線及び8,192本のビット線を含むことができる。メモリセル群は、ビット線群とワード線群の交点に配置される。ワード線群は普通、メモリセル群の制御端子に接続される。
ワード線群は非ゼロ抵抗を有し、そして分布寄生容量も有する。MOSFETのゲートを図2に示すように駆動する際、寄生抵抗及び容量によって、ワード線での行デコーダから、当該行デコーダから最も遠いメモリセル群への新規の値の伝搬が遅くなる。MOSFETには通常、ほぼゼロのDCゲート電流しか流れないので、一旦、寄生容量が充電されると、寄生抵抗の両端に現われる電圧降下は無視することができる。別の表現をすると、1本のワード線に沿ったメモリセル群の全てが最終的に、ほぼ同じ電圧になる。
図3に示すメモリセルのような他のメモリセル群は、非ゼロの制御電流を有するスイッチング素子を使用することができる。例えば、メモリセル群は、非ゼロのベース電流を有するバイポーラ接合トランジスタ群(BJTs)を含むことができる。これらのBJTは、これらのBJTの電流駆動能力が高いので、これらのBJTのベース電流が非ゼロであるにも拘わらず選択される。制御電流が非ゼロであることによって、電圧降下がワード線群の寄生抵抗の両端に生じる。従って、行デコーダから遠いメモリセル群の制御端子の電圧は、行デコーダに近い位置における電圧よりも徐々に高い電圧、または低い電圧になっていく。
図4は、BJT群を使用する例示的な相変化メモリアレイを描いている。BJT群のベース電流が非ゼロであることによって、各ワード線の電圧が、当該ワード線の長さに沿って変化するようになる。図5は、再生ラッチ群を含むメモリを示し、これらの再生ラッチは、ワード線を所望電圧に、行デコーダから離れた位置でプルすることができる。所望電圧は、行デコーダにより供給される電圧にほぼ等しい値とすることができる。所望電圧は、行デコーダにより供給される電圧と同じ電源電圧から生成することができる。単なる一例であるが、所望電圧と行デコーダにより供給される電圧との差は、5%未満とすることができる。
複数の再生ラッチをワード線に沿って分布させることにより、ワード線を所望電圧に更に均一にプルすることができる。図6〜7Cは、再生ラッチの種々の実施形態を描いているのに対し、図8は、例示的な再生ラッチ群のうちの1つの再生ラッチを搭載した例示的な相変化メモリアレイを示している。図9は、再生ラッチ群を制御するために使用される種々の例示的な制御タイミングを描いている。
図2に戻ってこの図を参照すると、例示的なメモリアレイの機能模式図には、ワード線の寄生要素が描かれている。行デコーダ102に接続されるワード線群104は、非ゼロの抵抗及び寄生容量を有する可能性がある。寄生抵抗及び容量は、分布抵抗体群及びキャパシタ群としてモデル化することができる。例えば、図2では、ワード線104の寄生抵抗及び容量は、ワード線群104に沿った分布寄生素子200として示される。各寄生素子200は、直列抵抗202及び並列容量204を含む。
寄生素子200は、低域通過フィルタとして動作し、そして行デコーダ102から最も離れたメモリセル群106のワード線電圧の変化レートを制限する。メモリセル106が行デコーダ102から遠くなるにつれて、低域通過フィルタの影響が大きくなる。しかしながら、最終的には、メモリセル群106の全てが、ほぼ同じ制御電圧を、ワード線104を介して受信する。これは、無視することができるほど小さいDC電流しか寄生抵抗202を通って流れることがないので、無視できるほど小さい電圧降下しか生じないからである。
次に、図3を参照すると、汎用メモリセル群220を有し、かつ寄生要素を描いている例示的なメモリアレイの機能模式図が提示されている。メモリセル群220は、ビット線群108とワード線群104との交点に配置される。メモリセル群220は、ワード線104に接続され、かつDC電流を流す素子を含むことができる。このような場合においては、電圧降下が抵抗202の両端に生じる。
従って、行デコーダ102から最も遠いメモリセル群220は、行デコーダ102に最も近いメモリセル群220よりも弱い信号を受信する。単なる一例であるが、DC電流を流す素子は、非ゼロのベース電流を有するBJT、及び/又は無視することができないゲートリーク電流を有する短チャネルMOSFETを含むことができる。
メモリセル群220は、DC電流を間欠的に流すことができ、例えば書き込み動作、消去動作、及び/又は読み出し動作のうちの1つ、または2つの動作期間中に流すことができる。単なる一例であるが、メモリセル群220は電流を、書き込み動作または消去動作のときにのみ流すことができる。他の実施形態では、メモリセル群220はDC電流を、書き込み動作、消去動作、及び読み出し動作のときに流すことができる。
最も遠いメモリセル220の電圧は、最も近いメモリセル220の電圧よりも、電流の向きに応じて高くなり得る、または低くなり得る。ビット線群108は多数設けることができるので、抵抗群202の両端の電圧降下は、行デコーダ102から最も遠いメモリセル群220において非常に大きくなる可能性がある。単なる一例であるが、4,096本のビット線を設けるということは、4,096個のメモリセル220を各ワード線104に対応して設けることを意味する。電圧降下によって、メモリセル群220のうち、相対的に遠いメモリセル群に対する書き込み、または消去が不十分になる可能性があり、そして相対的に微弱な読み出し信号が遠いメモリセル群220から生成される可能性がある。
次に、図4を参照すると、メモリセル群240を含み、かつDC電流を流す例示的な相変化メモリの機能模式図が描かれている。メモリセル群240は、ビット線群108とワード線群104との交点に配置される。各メモリセル240は、バイポーラ接合トランジスタ(BJT)244と、そして相変化素子(PCD)248と、を含む。BJT244は、ベースと、エミッタと、そしてコレクタと、を含み、そしてpnp型BJTとすることができる。
例えば、PCD248は、カルコゲニド合金のような相変化材料、及び/又は書き込み可能な特性を有する他の適切な材料を含む一つ以上の相変化メモリセルを備えることができる。単なる一例であるが、相変化材料の抵抗をN個の値のうちの1つの値に、相変化材料を異なる加熱期間及び/又は冷却期間を使用して加熱する、そして/または冷却することにより調整することができ、この場合、Nは1よりも大きい整数である。N=2の場合、相変化メモリセル群は単一のビットバイナリ値を記憶する。Nが大きくなると、各メモリセルは1ビットよりも多くのビットを記憶することができる。加熱する、そして/または冷却する結果、相変化材料を、アモルファス状態〜結晶状態の範囲のN個の状態のうちの1つの状態に設定することができる。理解することができることであるが、N個の状態は異なる抵抗値を示すことになる。異なる抵抗値を使用してデータを記憶することができる。
メモリセル群240は別の構成として、他のタイプの記憶素子、DC電流をトランジスタの制御端子において流す他のタイプのトランジスタ、及び/又はDC電流を流す他の素子を含むことができる。BJT244のベースはワード線104に接続される。BJT244のエミッタはPCD248に接続され、PCD248が今度はビット線108に接続される。BJT244のコレクタは、グランドのような基準電位に接続される。
BJT244をオンするために、行デコーダ102はワード線104を低レベル(low)にプルする。低レベル電圧がワード線104に印加されることにより、BJT244をオンするエミッタ−ベース間電圧が生じる。行デコーダ102から最も遠いメモリセル240−1のBJT244のベース電流は、第1モデル化寄生抵抗252−1を通って流れる。従って、メモリセル240−1のワード線電圧は、メモリセル240−2の電圧よりも、(ベース電流×第1抵抗252−1)の値にほぼ等しい大きさだけ高くなる。
第1メモリセル240−1及び第2のメモリセル240−2の両方のベース電流が第2抵抗252−2を通って流れるので、2倍の電圧降下が生じる。この影響は、最後のモデル化寄生抵抗252−kに達するまで、同じワード線104に沿った残りのメモリセル群240に関して継続して現われる。最後のメモリセル240−nからのベース電流を除くベース電流の全てが、最後の抵抗252−nを通って流れる。
従って、第1メモリセル240−1のBJT244のベース電圧は、第nメモリセル240−nのBJT244の場合よりも、(n−1)個のメモリセル240の各メモリセルによって生じる電圧降下の全ての合計だけ高くなる。この合計は、(選択メモリセルのベース電流×選択メモリセルと最終メモリセル240−nとの間の合計抵抗)の値を、(n−1)個のメモリセル240に亘って合計した値に等しい。
次に、図5を参照すると、再生ラッチ群を含む例示的なメモリアレイの機能模式図が描かれている。各ワード線104は一つ以上の再生ラッチ280を含む。一旦、行デコーダ102からワード線群104の方への新規の値の伝搬が起こると、再生ラッチ群280は該当するワード線104の電圧を検出し、そして当該ワード線電圧を所望値に完全にプルする。
例えば、行デコーダ102がワード線群104のうちの1つのワード線を低レベルに駆動すると、再生ラッチ280は、ワード線104が低レベル電圧に近い電圧になっていることを検出し、そしてワード線104を全長に亘って所望の低レベル電圧にプルすることができる。再生ラッチ280は、再生制御モジュール284によって制御することができる。図9に関連して以下に更に詳細に説明するように、再生制御モジュール284は、再生ラッチ群280を特定時点に有効にすることができる。この特定時点は、行デコーダ102がワード線104電圧を新規の値に駆動した後の所定期間とすることができる。
再生制御モジュール284は、再生ラッチ群280を、行デコーダ102がワード線104電圧を新規の値に駆動する前に無効にすることができる。或いは、再生ラッチ群280は、ワード線104電圧が新規の値になることを阻止することができる。再生ラッチ280は、行デコーダ102から最も遠いワード線104の端部に配置することができ、ワード線104の中心に配置することができる、または他のいずれかの適切な位置に配置することができる。
種々の実施形態では、複数の再生ラッチ280を、各ワード線104に対応して設けることができる。再生ラッチ280の数は、メモリセル220の数、及びメモリセル220に流れる電流の大きさによって決定することができる。更に多くの再生ラッチ280を使用する場合、行デコーダ102のワード線ドライバは、少ない電力しか必要とせず、かつ小さい領域に設けることができる。
図6〜6Dは、2個のインバータリングを利用する例示的な再生ラッチを描いている。図6Bは、図6Aの例示的な回路形態を描いているのに対し、図6C及び6Dは、図6の例示的な回路表現を描いている。図7及び7Aは、ワード線を1つの方向にプルすることができる例示的な再生ラッチを描いている。図7B〜7Cは、図7の例示的な回路形態を描いている。
次に、図6を参照すると、例示的な再生ラッチ300の機能模式図が提示されている。再生ラッチ300は、第1インバータ302及び第2インバータ304を含み、各インバータは、入力と、出力と、そして制御端子と、を有する。第1インバータ302及び第2インバータ304には、VDD及びVSSのような電源電位の電源電圧が供給される。
第1インバータ302の出力は、第2インバータ304の入力に接続され、そして第2インバータ304の出力は、第1インバータ302の入力に接続される。第1インバータ302の入力はワード線に接続される。第1インバータ302及び第2インバータ304の制御端子は、図5の再生制御モジュール284から受信する制御信号のような制御信号に接続される。
第1インバータ302及び第2インバータ304は3状態(トライステート)になることができる。制御信号に基づいて、第1インバータ302及び第2インバータ304は高インピーダンス状態(または、高Z状態)になることができ、この状態では、これらのインバータの出力が高インピーダンスに見える。これにより、第1インバータ302及び第2インバータ304を、回路の残りの部分から効果的に遮断する。一旦、制御信号で第1インバータ302及び第2インバータ304に指示して、これらのインバータをインバータの高Z状態にしてしまうと、第1インバータ302は、ワード線に現われる信号を反転し、そして当該信号を第2インバータ304に渡す。次に、第2インバータ304は当該信号を再度反転し、そしてワード線を所望の高レベル状態または低レベル状態に駆動する。
次に、図6Aを参照すると、別の例示的な再生ラッチ320の機能模式図が描かれている。再生ラッチ320は、第1インバータ322及び第2インバータ324を含み、各インバータは入力及び出力を有する。第1インバータ322及び第2インバータ324には、VDD及びVSSのような電源電位の電源電圧が供給される。第2インバータ324は、制御信号に基づいて3状態になることができる。第1インバータ322の出力はワード線に供給されることがないので、第1インバータ322の出力を高Z状態に設定する必要はない。これにより、第1インバータ322を、少ないトランジスタを使用して形成することができる。
次に、図6Bを参照すると、図6Aの再生ラッチ320の例示的な実施形態の機能模式図が描かれている。再生ラッチ320は、第1インバータ322を形成する第1トランジスタ342及び第2トランジスタ344を含む。再生ラッチ320は更に、第2インバータ324を形成する第3、第4、第5、及び第6トランジスタ346、348、350、及び352を含む。
制御信号を使用して、第5トランジスタ350及び第6トランジスタ352をオフすることにより、第2インバータ324の出力を無効にする。第5トランジスタ350及び第6トランジスタ352を逆極性の制御信号によって無効にする。これらの信号を生成するために、第7トランジスタ354及び第8トランジスタ356が制御信号を反転する。
トランジスタ342、344、346、348、350、352、354、及び356は、金属酸化物半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)とすることができ、これらのトランジスタはそれぞれ、ゲートと、ドレインと、ソースと、を有する。トランジスタ342、346、350、及び354は、p−チャネルMOSFETとすることができるのに対し、トランジスタ344、348、352、及び356は、n−チャネルMOSFETとすることができる。
制御信号はトランジスタ350、354、及び356のゲートで受信する。トランジスタ342、350、及び354のソースは、VDDのような高い方の基準電位に接続される。トランジスタ344、352、及び356のソースは、VSSのような低い方の基準電位に接続される。トランジスタ354及び356のドレインは、トランジスタ352のゲートに接続される。
トランジスタ342及び344のゲートは、トランジスタ346及び348のドレインに接続され、これらのドレインはワード線に接続される。トランジスタ342及び344のドレインは、トランジスタ346及び348のゲートに接続される。トランジスタ346のソースは、トランジスタ350のドレインに接続されるのに対し、トランジスタ348のソースは、トランジスタ352のドレインに接続される。
次に、図6Cを参照すると、図6の再生ラッチ300の例示的な実施形態の機能模式図が描かれている。再生ラッチ300は、図6Bの再生ラッチ320と同様である。しかしながら、トランジスタ342及び344を含む第1インバータ302は、図6に示すように3状態になることができる。この機能を実現するために、トランジスタ402を、トランジスタ342と高い方の電源電位との間に挿入する。更に、トランジスタ404を、トランジスタ344と低い方の電源電位との間に挿入する。
トランジスタ402は非反転制御信号を受信するのに対し、トランジスタ404は反転制御信号を受信する。このようにして、第1インバータ302及び第2インバータ304を共に、高Z状態に、制御信号によって設定することができる。種々の実施形態では、制御信号は正論理(active high:アクティブハイ)として定義することができ、この場合、高レベルの制御信号によってインバータの動作を有効にする。このような場合においては、トランジスタ402及び350のゲートへの制御信号の接続と、トランジスタ404及び352のゲートへの反転制御信号の接続を入れ替えることができる。
次に、図6Dを参照すると、図6の再生ラッチ300の別の例示的な実施形態であって、2つの制御信号を受信する構成の実施形態の機能模式図が描かれている。制御信号、及び
Figure 2010529581
として表記される反転制御信号の両方を再生ラッチ300に利用することができる場合、図6Cに示され、かつトランジスタ354及び356により形成されるインバータは省略することができる。図6Bの再生ラッチ320は、
Figure 2010529581
を利用することができる場合には、同様にして変更することができる。
次に、図7を参照すると、例示的な再生ラッチ500の機能模式図が提示されている。再生ラッチ500は、スイッチング素子502及びインバータ504を含む。スイッチング素子502は、ゲートと、ドレインと、そしてソースと、を有するn−チャネルMOSFETとすることができる。スイッチング素子502のゲートは、インバータ504の出力に接続される。スイッチング素子502のドレインは、インバータ504の入力に、そして更にワード線に接続される。スイッチング素子502のソースは制御信号に接続される。
インバータ504には、VDD及びVSSのような電源電位が供給される。ワード線が高レベルの場合、インバータ504はスイッチング素子502のゲートを低レベルにプルすることにより、当該スイッチング素子をオフする。ワード線が低電圧に近付いている場合、インバータ504はスイッチング素子502のゲートを高レベルにプルする。スイッチング素子502のソースが、ゲートが高レベルにプルされている状態で低レベルにプルされる場合、スイッチング素子502には、ワード線から制御線に向かって電流が流れるので、ワード線を低レベルに駆動することができる。
次に、図7Aを参照すると、ワード線を高レベルにプルすることができる例示的な再生ラッチ540の機能模式図が描かれている。再生ラッチ540は、スイッチング素子542及びインバータ544を含む。スイッチング素子542はp−チャネルMOSFETとすることができ、このp−チャネルMOSFETのゲートは、インバータ544の出力に接続される。スイッチング素子542のドレインに接続されるワード線が高レベルの場合、インバータ544はスイッチング素子542のゲートを低レベルにプルする。制御信号が高レベルの場合、ソース−ゲート間電圧VSGが加わることによって、スイッチング素子542がオンし、そしてワード線が高レベルにプルされる。
次に、図7Bを参照すると、図7の再生ラッチ500の例示的な実施形態の機能模式図が描かれている。図7Aの再生ラッチ540は、同じようにして形成することができる。図7のインバータ504は、第1トランジスタ582及び第2トランジスタ584として形成される。トランジスタ582及び584はそれぞれp−チャネルMOSFET及びn−チャネルMOSFETとすることができ、これらのMOSFETはそれぞれ、ゲートと、ソースと、そしてドレインと、を有する。
トランジスタ582及び584のドレインは、トランジスタ502のゲートに接続される。トランジスタ582及び584のゲートは、トランジスタ502のドレインに接続され、当該ドレインはワード線に接続される。トランジスタ582のソースは、VDDのような高い方の電源電位に接続されるのに対し、トランジスタ584のソースは、VSSのような低い方の電源電位に接続される。
次に、図7Cを参照すると、再生ラッチ500の別の例示的な実施形態が描かれている。ソースのようなトランジスタ584の少なくとも1つの端子、及びソースのようなスイッチング素子502の少なくとも1つの端子は制御線(Control)に接続される。この実施形態では、補助電源電位(例えば、VSS)は必要ではない。1つの実施形態では、更に別の回路素子及び/又は制御素子(図示せず)を、図7Cに示す再生ラッチ500に取り入れて、再生ラッチ500の動作を、例えば単一の電源電位しか再生ラッチ500に供給されない場合に変更する、そして/または向上させる。
次に、図8を参照すると、図7の再生ラッチ500を搭載した例示的な相変化メモリアレイの機能模式図が描かれている。相変化メモリセル群240は、ビット線群108とワード線群104との交点に配置される。ワード線群104の各ワード線は、少なくとも1つの再生ラッチ500を含む。
再生ラッチ500の制御信号は、再生制御モジュール284によって供給される。再生制御モジュール284は、新規の値がワード線104でアサートされていることを通知する信号を行デコーダ102から受信することができる。複数の再生ラッチ500がワード線104ごとに配設される場合、再生制御モジュール284からの同じ制御信号を再生ラッチ群500の各再生ラッチに対応して使用することができる。別の構成として、遅延させた制御信号を、行デコーダ102から遠い再生ラッチ群500に使用することができる。
図を簡単にするために、再生ラッチ群500のインバータ504の電源線は図8には示していない。再生ラッチ群500のインバータ504の実際の電源線は比較的細くすることができるが、その理由は、インバータ504を切り替え、そしてトランジスタ502のゲートを駆動するためには、電力をほとんど必要としないからである。再生制御モジュール284からの制御信号は非常に強い信号とする必要があるが、その理由は、この信号が、関連するワード線104のメモリセル群240のベース電流として流れるからである。
次に、図9を参照すると、サンプルのワード線データに対応する例示的な制御信号のグラフ波形が描かれている。時刻がx軸に示され、そして4つの時刻マーカt,t,t,及びtが表示されている。第1ワード線のグラフ波形602は、ワード線が時刻tで高レベルから低レベルに、そして時刻tで低レベルから高レベルに移行する様子を示している。第2ワード線のグラフ波形604は、ワード線が時刻tで高レベルから低レベルに、そして時刻tで低レベルから高レベルに移行する様子を示している。
グラフ波形が3つの制御信号オプション:再生制御信号A606,再生制御信号B608,及び再生制御信号C610に対応して示される。例示に過ぎないが、制御信号のグラフ波形が負論理(active low:アクティブロー)信号として示される。別の表現をすると、低レベルの再生制御信号によって、再生制御モジュールをオンにし、そして低レベルのワード線信号によって、メモリセル群から成る対応するワード線を駆動する。
制御信号A606が、高レベルから低レベルに時刻tより所定期間後の時刻で移行し、そして低レベルから高レベルに時刻tで移行する様子が示される。制御信号A606は更に、高レベルから低レベルに時刻tの所定期間後の時刻で移行し、そして低レベルから高レベルに時刻tで移行する。時刻tと高レベルから低レベルへの制御信号A606の移行時刻との間の期間によって、第2ワード線電圧の新規の低レベル値のワード線の方への伝搬が可能になる。この遅延期間によって、再生ラッチが、前のワード線電圧の値を新規のワード線電圧の値が到着する前にラッチするのを防止する。時刻tでは、制御信号A606が高レベル値に戻ることにより、再生ラッチを無効にし、そして第2ワード線604を高レベルに戻すことができる。
制御信号B608が、低レベルから高レベルに時刻tより所定期間前の時刻で移行する様子が示される。これにより、再生ラッチ群への制御信号B608の伝搬が可能になり、そしてこれらの再生ラッチを、ワード線電圧が値を変えようとする前に完全に無効にすることができる。制御信号C610は、再生ラッチがワード線を高レベル及び低レベルの両方にプルすることができる場合に使用することができる。制御信号C610は、低レベルから高レベルに時刻t〜tの各時刻で移行し、そして次に、高レベルから低レベルに、時刻t〜tより指定期間後の時刻で移行する。
制御信号C610が高レベルである時刻では、ワード線電圧は新規の値に変化することができる。次に、制御信号C610によって再生ラッチに指示して、再生ラッチがワード線電圧を新規の値にラッチし、そして完全に駆動するようにする。このようなラッチはワード線を高レベルに駆動することができるので、制御信号C610は、ワード線602及び604の両方の電圧が高レベル(非アクティブ)値になっている場合でも、低レベルに移行するものとして示される。これにより、メモリの速度を速くすることができる。
次に、図10A〜10Gを参照すると、本開示による示唆を適用した種々の例示的な実施形態が示されている。次に、図10Aを参照すると、本開示による示唆は、ハードディスクドライブ(HDD)700のバッファ711または不揮発性メモリ712に適用することができる。HDD700は、ハードディスクアセンブリ(HDA)701と、そしてHDDプリント回路基板(PCB)702と、を含む。HDA701は、データを記録する一つ以上のプラッターのような磁気媒体703と、そしてリード/ライト装置704と、を含むことができる。
リード/ライト装置704は、アクチュエータアーム705に搭載することができ、かつデータを磁気媒体703に対して読み出し、そして書き込むことができる。更に、HDA701は、磁気媒体703を回転させるスピンドルモータ706と、そしてアクチュエータアーム705を作動させるボイスコイルモータ(VCM)707と、を含む。プリアンプ装置708は、リード/ライト装置704によって生成される信号を読み出し動作中に増幅し、そして信号をリード/ライト装置704に書き込み動作中に供給する。
HDD PCB702は、リード/ライトチャネルモジュール(以後、「リードチャネル」と表記する)709と、ハードディスクコントローラ(HDC)モジュール710と、バッファ711と、不揮発性メモリ712と、プロセッサ713と、そしてスピンドル/VCMドライバモジュール714と、を含む。リードチャネル709は、プリアンプ装置708から受信するデータ、及びプリアンプ装置708に送信されるデータを処理する。HDCモジュール710は、HDA701の構成部品を制御し、そして外部機器(図示せず)とI/Oインターフェース715を介して通信する。外部機器は、コンピュータ、マルチメディア機器、携帯型コンピューティングデバイスなどを含むことができる。I/Oインターフェース715は、有線通信リンク及び/又は無線通信リンクを含むことができる。
HDCモジュール710は、データをHDA701、リードチャネル709、バッファ711、不揮発性メモリ712、プロセッサ713、スピンドル/VCMドライバモジュール714、及び/又はI/Oインターフェース715から受信することができる。プロセッサ713は、データを処理することができ、例えば符号化し、復号化し、フィルタ処理し、そして/またはフォーマット化する。処理済みデータは、HDA701、リードチャネル709、バッファ711、不揮発性メモリ712、プロセッサ713、スピンドル/VCMドライバモジュール714、及び/又はI/Oインターフェース715に出力することができる。
HDCモジュール710は、バッファ711及び/又は不揮発性メモリ712を使用して、HDD700の制御及び動作に関連するデータを保存することができる。バッファ711は、DRAM,SDRAMなどを含むことができる。不揮発性メモリ712は、フラッシュメモリ(NAND及びNORフラッシュメモリを含む)、相変化メモリ、磁気RAM、及び各メモリセルが2つよりも多くの状態を有するマルチステートメモリのようないずれかの適切なタイプの半導体メモリまたは固体メモリを含むことができる。スピンドル/VCMドライバモジュール714は、スピンドルモータ706及びVCM707を制御する。及び/又はI/Oインターフェース715に出力することができる。HDD PCB702は、電源をHDD700の構成部品に供給する電源716を含む。
次に、図10Bを参照すると、本開示による示唆は、DVDドライブ718またはCDドライブ(図示せず)のバッファ722または不揮発性メモリ723に適用することができる。DVDドライブ718は、DVD PCB719と、そしてDVDアセンブリ(DVDA)720と、を含む。DVD PCB719は、DVD制御モジュール721と、バッファ722と、不揮発性メモリ723と、プロセッサ724と、スピンドル/FM(送りモータ)ドライバモジュール725と、アナログフロントエンドモジュール726と、書き込み方式モジュール727と、そしてDSPモジュール728と、を含む。
DVD制御モジュール721は、DVDAモジュール720の構成部品を制御し、そして外部機器(図示せず)とI/Oインターフェース729を介して通信する。外部機器は、コンピュータ、マルチメディア機器、携帯型コンピューティングデバイスなどを含むことができる。I/Oインターフェース729は、有線通信リンク及び/又は無線通信リンクを含むことができる。
DVD制御モジュール721は、データをバッファ722、不揮発性メモリ723、プロセッサ724、スピンドル/FMドライバモジュール725、アナログフロントエンドモジュール726、書き込み方式モジュール727、DSPモジュール728、及び/又はI/Oインターフェース729から受信することができる。プロセッサ724はデータを処理することができ、例えば符号化し、復号化し、フィルタ処理し、そして/またはフォーマット化する。DSPモジュール728は信号処理を行ない、例えばビデオ及び/又はオーディオの符号化/復号化を行なう。処理済みデータは、バッファ722、不揮発性メモリ723、プロセッサ724、スピンドル/FMドライバモジュール725、アナログフロントエンドモジュール726、書き込み方式モジュール727、DSPモジュール728、及び/又はI/Oインターフェース729に出力することができる。
DVD制御モジュール721は、バッファ722及び/又は不揮発性メモリ723を使用して、DVDドライブ718の制御及び動作に関連するデータを保存することができる。バッファ722は、DRAM,SDRAMなどを含むことができる。不揮発性メモリ723は、フラッシュメモリ(NAND及びNORフラッシュメモリを含む)、相変化メモリ、磁気RAM、及び各メモリセルが2つよりも多くの状態を有するマルチステートメモリのようないずれかの適切なタイプの半導体メモリまたは固体メモリを含むことができる。DVD PCB719は、電源をDVDドライブ718の構成部品に供給する電源730を含む。
DVDA720は、プリアンプ装置731と、レーザドライバ732と、そして光デバイス733と、を含むことができ、光デバイスは、光リード/ライト(ORW)装置、または光リードオンリー(OR)デバイスとすることができる。スピンドルモータ734は光記録媒体735を回転させ、そして送りモータ736は、光デバイス733を光記録媒体735に対して移動させる。
データを光記録媒体735から読み出す場合、レーザドライバは読み出し電力を光デバイス733に供給する。光デバイス733は、データを光記録媒体735から検出し、そして当該データをプリアンプ装置731に送信する。アナログフロントエンドモジュール726は、データをプリアンプ装置731から受信し、そしてフィルタリング及びA/D変換のような機能を実行する。光記録媒体735への書き込みを行なうために、書き込み方式モジュール727は、電力レベルデータ及びタイミングデータをレーザドライバ732に送信する。レーザドライバ732は光デバイス733を制御して、データを光記録媒体735に書き込む。
次に、図10Cを参照すると、本開示による示唆は高精細テレビジョン(HDTV)737のメモリ741に適用することができる。HDTV737は、HDTV制御モジュール738と、ディスプレイ739と、電源740と、メモリ741と、記憶装置742と、ネットワークインターフェース743と、そして外部インターフェース745と、を含む。ネットワークインターフェース743が無線ローカルエリアネットワークインターフェースを含む場合、アンテナ(図示せず)を設けることができる。
HDTV737は入力信号を、ネットワークインターフェース743及び/又は外部インターフェース745から受信することができ、これらのインターフェースはデータをケーブル、ブロードバンドインターネット、及び/又は衛星を介して送受信することができる。HDTV制御モジュール738は、入力信号を処理することができ、例えば符号化し、復号化し、フィルタ処理し、そして/またはフォーマット化し、更に出力信号を生成することができる。出力信号は、ディスプレイ739、メモリ741、記憶装置742、ネットワークインターフェース743、及び外部インターフェース745のうちの一つ以上に送信することができる。
メモリ741は、ランダムアクセスメモリ(RAM)及び/又は不揮発性メモリを含むことができる。不揮発性メモリは、フラッシュメモリ(NAND及びNORフラッシュメモリを含む)、相変化メモリ、磁気RAM、及び各メモリセルが2つよりも多くの状態を有するマルチステートメモリのようないずれかの適切なタイプの半導体メモリまたは固体メモリを含むことができる。記憶装置742は、DVDドライブ及び/又はハードディスクドライブ(HDD)のような光ストレージドライブを含むことができる。HDTV制御モジュール738は、ネットワークインターフェース743及び/又は外部インターフェース745を介して外部と通信する。電源740は、電源をHDTV737の構成部品に供給する。
次に、図10Dを参照すると、本開示による示唆は車両746のメモリ749に適用することができる。車両746は、車両制御システム747と、電源748と、メモリ749と、記憶装置750と、そしてネットワークインターフェース752と、を含むことができる。ネットワークインターフェース752が無線ローカルエリアネットワークインターフェースを含む場合、アンテナ(図示せず)を設けることができる。車両制御システム747は、パワートレイン制御システム、車体制御システム、娯楽制御システム、アンチロックブレーキシステム(ABS)、ナビゲーションシステム、テレマティックスシステム、車線逸脱システム、車間自動制御制御システムなどとすることができる。
車両制御システム747は、一つ以上のセンサ754と通信し、そして一つ以上の出力信号756を生成することができる。これらのセンサ754は、温度センサ、加速度センサ、圧力センサ、回転センサ、空気流センサなどを含むことができる。出力信号756は、エンジン運転パラメータ、トランスミッション動作パラメータ、サスペンションパラメータなどを制御することができる。
電源748は、電源を車両746の構成部品に供給する。車両制御システム747は、データをメモリ749及び/又は記憶装置750に保存することができる。メモリ749は、ランダムアクセスメモリ(RAM)及び/又は不揮発性メモリを含むことができる。不揮発性メモリは、フラッシュメモリ(NAND及びNORフラッシュメモリを含む)、相変化メモリ、磁気RAM、及び各メモリセルが2つよりも多くの状態を有するマルチステートメモリのようないずれかの適切なタイプの半導体メモリまたは固体メモリを含むことができる。記憶装置750は、DVDドライブ及び/又はハードディスクドライブ(HDD)のような光ストレージドライブを含むことができる。車体制御システム747は、ネットワークインターフェース752を使用して外部と通信することができる。
次に、図10Eを参照すると、本開示による示唆は携帯電話機758のメモリ764に適用することができる。携帯電話機758は、電話機制御モジュール760と、電源762と、メモリ764と、記憶装置766と、そしてセルラーネットワークインターフェース767と、を含む。携帯電話機758は、ネットワークインターフェース768と、マイクロホン770と、スピーカ及び/又は出力ジャックのようなオーディオ出力772と、ディスプレイ774と、そしてキーパッド及び/又はポインティングデバイスのようなユーザ入力デバイス776と、を含むことができる。ネットワークインターフェース768が無線ローカルエリアネットワークインターフェースを含む場合、アンテナ(図示せず)を設けることができる。
電話機制御モジュール760は入力信号を、セルラーネットワークインターフェース767、ネットワークインターフェース768、マイクロホン770、及び/又はユーザ入力デバイス776から受信することができる。電話機制御モジュール760は信号を処理することができ、例えば符号化し、復号化し、フィルタ処理し、そして/またはフォーマット化し、更に出力信号を生成することができる。出力信号は、メモリ764、記憶装置766、セルラーネットワークインターフェース767、ネットワークインターフェース768、及びオーディオ出力772のうちの一つ以上に送信することができる。
メモリ764は、ランダムアクセスメモリ(RAM)及び/又は不揮発性メモリを含むことができる。不揮発性メモリは、フラッシュメモリ(NAND及びNORフラッシュメモリを含む)、相変化メモリ、磁気RAM、及び各メモリセルが2つよりも多くの状態を有するマルチステートメモリのようないずれかの適切なタイプの半導体メモリまたは固体メモリを含むことができる。記憶装置766は、DVDドライブ及び/又はハードディスクドライブ(HDD)のような光ストレージドライブを含むことができる。電源762は、電源を携帯電話機758の構成部品に供給する。
次に、図10Fを参照すると、本開示による示唆はセットトップボックス778のメモリ783に適用することができる。セットトップボックス778は、セットトップ制御モジュール780と、ディスプレイ781と、電源782と、メモリ783と、記憶装置784と、そしてネットワークインターフェース785と、を含む。ネットワークインターフェース785が無線ローカルエリアネットワークインターフェースを含む場合、アンテナ(図示せず)を設けることができる。
セットトップ制御モジュール780は入力信号を、ネットワークインターフェース785及び外部インターフェース787から受信することができ、これらのインターフェースはデータをケーブル、ブロードバンドインターネット、及び/又は衛星を介して送受信することができる。セットトップ制御モジュール780は信号を処理することができ、例えば符号化し、復号化し、フィルタ処理し、そして/またはフォーマット化し、更に出力信号を生成することができる。出力信号は、標準フォーマット及び/又は高精細フォーマットのオーディオ信号及び/又はビデオ信号を含むことができる。出力信号は、ネットワークインターフェース785及び/又はディスプレイ781に送信することができる。ディスプレイ781は、テレビジョン、プロジェクター、及び/又はモニタを含むことができる。
電源782は、電源をセットトップボックス778の構成部品に供給する。メモリ783は、ランダムアクセスメモリ(RAM)及び/又は不揮発性メモリを含むことができる。不揮発性メモリは、フラッシュメモリ(NAND及びNORフラッシュメモリを含む)、相変化メモリ、磁気RAM、及び各メモリセルが2つよりも多くの状態を有するマルチステートメモリのようないずれかの適切なタイプの半導体メモリまたは固体メモリを含むことができる。記憶装置784は、DVDドライブ及び/又はハードディスクドライブ(HDD)のような光ストレージドライブを含むことができる。
次に、図10Gを参照すると、本開示による示唆は携帯機器789のメモリ792に適用することができる。携帯機器789は、携帯機器制御モジュール790と、電源791と、メモリ792と、記憶装置793と、ネットワークインターフェース794と、そして外部インターフェース799と、を含むことができる。ネットワークインターフェース794が無線ローカルエリアネットワークインターフェースを含む場合、アンテナ(図示せず)を設けることができる。
携帯機器制御モジュール790は入力信号を、ネットワークインターフェース794及び/又は外部インターフェース799から受信することができる。外部インターフェース799は、USBインターフェース、赤外線インターフェース、及び/又はイーサネット(登録商標)インターフェースを含むことができる。入力信号は、圧縮オーディオ信号及び/又はビデオ信号を含むことができ、そしてMP3フォーマットに準拠することができる。更に、携帯機器制御モジュール790は入力を、キーパッド、タッチパッド、または個々のボタンのようなユーザ入力手段796から受信することができる。携帯機器制御モジュール790は入力信号を処理することができ、例えば符号化し、復号化し、フィルタ処理し、そして/またはフォーマット化し、更に出力信号を生成することができる。
携帯機器制御モジュール790は、オーディオ信号をオーディオ出力手段797に、そしてビデオ信号をディスプレイ798に出力することができる。オーディオ出力手段797は、スピーカ及び/又は出力ジャックを含むことができる。ディスプレイ798は、グラフィカルユーザインターフェースを提示することができ、グラフィカルユーザインターフェースは、メニュー、アイコンなどを含むことができる。電源791は、電源を携帯機器789の構成部品に供給する。メモリ792は、ランダムアクセスメモリ(RAM)及び/又は不揮発性メモリを含むことができる。
不揮発性メモリは、フラッシュメモリ(NAND及びNORフラッシュメモリを含む)、相変化メモリ、磁気RAM、及び各メモリセルが2つよりも多くの状態を有するマルチステートメモリのようないずれかの適切なタイプの半導体メモリまたは固体メモリを含むことができる。記憶装置793は、DVDドライブ及び/又はハードディスクドライブ(HDD)のような光ストレージドライブを含むことができる。携帯機器は、携帯情報端末、メディアプレーヤ、ラップトップコンピュータ、ゲームコンソール、または他の携帯型コンピューティングデバイスを含むことができる。
この技術分野の当業者であれば、これまでの記述から、本開示による広い示唆を種々の形で適用することができることを理解できる。従って、本開示は特定の例を含むが、本開示の真の範囲は、他の変形が当業者には、図面、明細書、及び以下の請求項を分析することにより明らかになるので、これらの例に制限されてはならない。

Claims (45)

  1. 各メモリセルがDC電流を選択的に流す複数のメモリセルと、
    ワード線群を、電圧レベルを使用して選択的に駆動して、前記メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスする行デコーダモジュールと、
    アクティブ状態及び非アクティブ状態を有する制御信号を受信し、かつ前記ワード線群のうちの1つのワード線に現われる前記電圧レベルを第1及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに、前記制御信号が前記アクティブ状態を有する場合に選択的にプルする第1再生モジュールと、を備え、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線の前記メモリセル群のうちの少なくとも1つのメモリセルは、前記第1再生モジュールと前記行デコーダモジュールとの間に配置され、そして前記制御信号は前記アクティブ状態を、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に現われる前記電圧レベルが移行していない複数の期間に亘って有する、メモリ。
  2. 前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高く、そして前記第1再生モジュールは前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を上回る場合に選択的にプルする、請求項1に記載のメモリ。
  3. 前記第1再生モジュールは前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合に選択的にプルする、請求項2に記載のメモリ。
  4. 前記第1再生モジュールは、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合にプルするのを一時停止する、請求項2に記載のメモリ。
  5. 前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高く、そして前記第1再生モジュールは前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を下回る場合に選択的にプルする、請求項1に記載のメモリ。
  6. 前記第1再生モジュールは、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに前記電圧レベルが前記所定の閾値を上回る場合にプルするのを一時停止する、請求項5に記載のメモリ。
  7. 前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延び、そして前記第1再生モジュールは前記遠位側セルに隣接して配置される、請求項1に記載のメモリ。
  8. 更に第2再生モジュールを前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に対応して備え、前記第2再生モジュールは、前記遠位側セルと前記行デコーダモジュールとの間に配置される、請求項7に記載のメモリ。
  9. 前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延び、そして前記第1再生モジュールは前記遠位側セルと前記行デコーダモジュールとの間の中間に配置される、請求項1に記載のメモリ。
  10. 前記ワード線群は、Nが1よりも大きい整数である場合にN本のワード線を含み、そして前記メモリは更に、前記第1再生モジュールを含むN個の再生モジュールを備え、前記N個の再生モジュールの各再生モジュールは、前記N本のワード線のうちの該当する1本のワード線に対応する、請求項1に記載のメモリ。
  11. 前記メモリセル群は、バイポーラ接合トランジスタを含む、請求項1に記載のメモリ。
  12. 前記メモリセル群は、相変化メモリ素子を含む、請求項1に記載のメモリ。
  13. 更に再生制御モジュールを備え、該再生制御モジュールは、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダモジュールが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動した後の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成する、請求項1に記載のメモリ。
  14. 前記再生制御モジュールは、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダモジュールが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動する前の第2の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成する、請求項13に記載のメモリ。
  15. 前記第1再生モジュールは、各インバータが入力及び出力を有する第1及び第2インバータを含み、前記第1インバータの前記出力は、前記第2インバータの前記入力に通じ、そして前記第2インバータの前記出力及び前記第1インバータの前記入力は、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に通じる、請求項1に記載のメモリ。
  16. 前記第2インバータは、高インピーダンス状態に前記制御信号によって選択的に設定される、請求項15に記載のメモリ。
  17. 前記第2インバータは、前記高インピーダンス状態に前記制御信号によって設定される、請求項16に記載のメモリ。
  18. 前記第1再生モジュールは、入力及び出力を有するインバータと、そして制御端子、及び第1及び第2端子を有するトランジスタと、を含む、請求項1に記載のメモリ。
  19. メモリを動作させる方法であって:
    複数のメモリセルを設けるステップであって、これらのメモリセルがそれぞれ、DC電流を流す、複数のメモリセルを設けるステップと、
    行デコーダモジュールを使用してワード線群を電圧レベルを使用して選択的に駆動することにより、前記メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスするステップと、
    アクティブ状態及び非アクティブ状態を有する制御信号を生成するステップと、
    前記ワード線群のうちの1つのワード線に現われる前記電圧レベルを第1及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに、前記制御信号が前記アクティブ状態を有する場合に選択的にプルする第1再生モジュールを設けるステップであって、前記制御信号が前記アクティブ状態を、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線の前記電圧レベルが移行していない複数の期間に亘って有する、第1再生モジュールを設けるステップと、
    前記ワード線群のうちの前記1つのワード線の前記メモリセル群のうちの少なくとも1つのメモリセルを、前記第1再生モジュールと前記行デコーダモジュールとの間に配置するステップと、
    を含む、方法。
  20. 前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高く、そして前記方法は更に、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を上回る場合に選択的にプルするステップを含む、請求項19に記載の方法。
  21. 更に、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合に選択的にプルするステップを含む、請求項20に記載の方法。
  22. 更に、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合にプルするのを一時停止するステップを含む、請求項20に記載の方法。
  23. 前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高く、そして前記方法は更に、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を下回る場合に選択的にプルするステップを含む、請求項19に記載の方法。
  24. 更に、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに前記電圧レベルが前記所定の閾値を上回る場合にプルするのを一時停止するステップを含む、請求項23に記載の方法。
  25. 前記ワード線群のうちの前記1つのワード線は、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延び、そして前記第1再生モジュールは前記遠位側セルに隣接して配置される、請求項19に記載の方法。
  26. 更に、第2再生モジュールを、前記ワード線群のうちの前記1つのワード線に対応して設けて、前記第2再生モジュールが、前記遠位側セルと前記行デコーダモジュールとの間に配置されるようにするステップを含む、請求項25に記載の方法。
  27. 更に:
    前記ワード線群のうちの前記1つのワード線を、前記行デコーダモジュールと前記メモリセル群のうちの遠位側セルとの間で延在させるステップと、そして
    前記第1再生モジュールを、前記遠位側セルと前記行デコーダモジュールとの間の中間に配置するステップと、
    を含む、請求項19に記載の方法。
  28. 前記ワード線群は、Nが1よりも大きい整数である場合にN本のワード線を含み、そして前記方法は更に、前記第1再生モジュールを含むN個の再生モジュールを設けて、前記N個の再生モジュールの各再生モジュールが、前記N本のワード線のうちの該当する1本のワード線に対応するようにするステップを含む、請求項19に記載の方法。
  29. 前記メモリセル群はバイポーラ接合トランジスタを含む、請求項19に記載の方法。
  30. 前記メモリセル群は相変化メモリ素子を含む、請求項19に記載の方法。
  31. 更に、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダモジュールが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動した後の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成するステップを含む、請求項19に記載の方法。
  32. 更に、前記非アクティブ状態を、前記行デコーダモジュールが前記ワード線群の前記電圧レベルを駆動する前の第2の所定期間に亘って有する前記制御信号を生成するステップを含む、請求項31に記載の方法。
  33. 各ワード線が複数のメモリセルを含む複数のワード線であって、各メモリセルがDC電流を選択的に流す、複数のワード線と、
    電圧レベルを、前記複数のワード線のうちの駆動される1つのワード線に供給して、前記複数のワード線のうちの駆動される前記1つのワード線に接続される前記メモリセル群の中から選択されるメモリセル群にアクセスする行デコーダモジュールと、
    各再生モジュールが、前記電圧レベルを第1の所定電圧レベル及び第2の所定電圧レベルのうちの1つの所定電圧レベルに、制御信号がアクティブ状態を有する場合に選択的にプルするように構成される複数の再生モジュールであって、前記制御信号が非アクティブ状態及び前記アクティブ状態のうちの一つの状態を有する、複数の再生モジュールと、を備え、
    前記複数の再生モジュールのうちの一つ以上の再生モジュールは、前記複数のワード線の各ワード線に沿って配置され、かつ前記複数のワード線の各ワード線の前記複数のメモリセルのうちの2つのメモリセルの間に配置され、そして
    前記制御信号は前記アクティブ状態を、前記複数のワード線のうちの駆動される前記1つのワード線の前記電圧レベルが移行していない複数の期間に亘って有する、
    メモリ。
  34. 前記第1の所定電圧レベルは前記第2の所定電圧レベルよりも高く、そして前記複数の再生モジュールの各再生モジュールは更に、前記電圧レベルを前記第1の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが所定の閾値を上回る場合に選択的にプルするように構成される、請求項33に記載のメモリ。
  35. 前記複数の再生モジュールのうちの1つの再生モジュールは更に、前記電圧レベルを前記第2の所定電圧レベルに、前記電圧レベルが前記所定の閾値を下回る場合にプルするように構成される、請求項34に記載のメモリ。
  36. 更に複数の制御モジュールを備え、各制御モジュールは、前記複数のワード線に接続される前記複数の再生モジュールから成るグループに対する制御信号を生成するように構成され、そして前記グループの再生モジュールは、前記複数のワード線の各ワード線の前記複数の再生モジュールのうちの少なくとも1つの再生モジュールを含む、請求項33に記載のメモリ。
  37. 前記複数の再生モジュールの各再生モジュールに対する前記制御信号は、前記非アクティブ状態を所定期間が経過するまで有する、請求項33に記載のメモリ。
  38. 前記所定期間は、前記電圧レベルが前記行デコーダモジュールによって印加された後に開始する、請求項37に記載のメモリ。
  39. 前記複数のメモリセルはバイポーラ接合トランジスタを含む、請求項33に記載のメモリ。
  40. 前記複数のメモリセルは更に相変化メモリ素子を含む、請求項39に記載のメモリ。
  41. 前記複数の再生モジュールのうちの少なくとも1つの再生モジュールは、各インバータが入力及び出力を有する第1及び第2インバータを含み、前記第1インバータの前記出力は、前記第2インバータの前記入力に通じ、そして前記第2インバータの前記出力、及び前記第1インバータの前記入力は、前記複数のワード線のうちの1つのワード線に通じる、請求項33に記載のメモリ。
  42. 前記第2インバータは、高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される、請求項41に記載のメモリ。
  43. 前記第2インバータは、前記高インピーダンス状態に制御信号によって選択的に設定される、請求項42に記載のメモリ。
  44. 前記複数の再生モジュールのうちの少なくとも1つの再生モジュールは、入力及び出力を有するインバータと、そして制御端子、及び第1及び第2端子を有するトランジスタと、を含む、請求項33に記載のメモリ。
  45. 前記インバータの前記出力は、前記トランジスタの前記制御端子に通じ、前記トランジスタの前記第1端子、及び前記インバータの前記入力は、前記複数のワード線のうちの1つのワード線に通じ、そして前記トランジスタの前記第2端子で制御信号を受信する、請求項44に記載のメモリ。
JP2010510482A 2007-05-31 2008-05-29 ワード線バッファ付きメモリおよび当該メモリを動作させる方法 Expired - Fee Related JP5240627B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US94113807P 2007-05-31 2007-05-31
US60/941,138 2007-05-31
US12/128,122 2008-05-28
US12/128,122 US7881126B2 (en) 2007-05-31 2008-05-28 Memory structure with word line buffers
PCT/US2008/065050 WO2008150844A1 (en) 2007-05-31 2008-05-29 Memory structure with word line buffers

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010529581A true JP2010529581A (ja) 2010-08-26
JP2010529581A5 JP2010529581A5 (ja) 2011-07-14
JP5240627B2 JP5240627B2 (ja) 2013-07-17

Family

ID=40087985

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010510482A Expired - Fee Related JP5240627B2 (ja) 2007-05-31 2008-05-29 ワード線バッファ付きメモリおよび当該メモリを動作させる方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7881126B2 (ja)
JP (1) JP5240627B2 (ja)
KR (1) KR101446726B1 (ja)
WO (1) WO2008150844A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108133726A (zh) * 2016-12-01 2018-06-08 瑞萨电子株式会社 半导体器件

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MX2017007665A (es) 2014-12-15 2017-10-27 Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp Alambron.
US11205480B1 (en) * 2020-09-11 2021-12-21 Micron Technology, Inc. Ramp-based biasing in a memory device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55150189A (en) * 1979-05-10 1980-11-21 Nec Corp Memory circuit
JPS5928294A (ja) * 1982-08-06 1984-02-14 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2001167577A (ja) * 1999-10-29 2001-06-22 Infineon Technologies Ag 集積メモリ
JP2005150243A (ja) * 2003-11-12 2005-06-09 Toshiba Corp 相転移メモリ

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61237292A (ja) 1985-04-15 1986-10-22 Hitachi Micro Comput Eng Ltd 半導体記憶装置
US5128897A (en) * 1990-09-26 1992-07-07 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Semiconductor memory having improved latched repeaters for memory row line selection
US6034913A (en) * 1997-09-19 2000-03-07 Siemens Microelectronics, Inc. Apparatus and method for high-speed wordline driving with low area overhead
US6246637B1 (en) 1998-09-28 2001-06-12 Pgs Tensor, Inc. Method and system for combining three component seismic data
US6545923B2 (en) * 2001-05-04 2003-04-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Negatively biased word line scheme for a semiconductor memory device
US6580658B1 (en) * 2002-11-07 2003-06-17 Ememory Technology Inc. Method using a word line driver for driving a word line
IL154801A0 (en) 2003-03-06 2003-10-31 Karotix Internat Ltd Multi-channel and multi-dimensional system and method
JP4071680B2 (ja) * 2003-06-09 2008-04-02 松下電器産業株式会社 半導体記憶装置
TWI222647B (en) * 2003-07-17 2004-10-21 Amic Technology Corp Flash memory capable of utilizing one driving voltage output circuit to drive a plurality of word line drivers
EP1511042B1 (en) * 2003-08-27 2012-12-05 STMicroelectronics Srl Phase-change memory device with biasing of deselected bit lines
JP4962828B2 (ja) * 2004-08-25 2012-06-27 マイクロン テクノロジー, インク. ワード線ドライバ回路およびこれを利用する方法
JP5100035B2 (ja) * 2005-08-02 2012-12-19 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
JP5158624B2 (ja) * 2006-08-10 2013-03-06 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
DE102007030229A1 (de) 2007-06-29 2009-01-15 Robert Bosch Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur verdeckungsarmen Darstellung dicht benachbarter topografischer Objekte in stilisierter Form
US7515475B1 (en) * 2007-07-02 2009-04-07 Sun Microsystems, Inc. Mechanism for compensating for gate leakage in a memory

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55150189A (en) * 1979-05-10 1980-11-21 Nec Corp Memory circuit
JPS5928294A (ja) * 1982-08-06 1984-02-14 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2001167577A (ja) * 1999-10-29 2001-06-22 Infineon Technologies Ag 集積メモリ
JP2005150243A (ja) * 2003-11-12 2005-06-09 Toshiba Corp 相転移メモリ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108133726A (zh) * 2016-12-01 2018-06-08 瑞萨电子株式会社 半导体器件
JP2018092694A (ja) * 2016-12-01 2018-06-14 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
CN108133726B (zh) * 2016-12-01 2023-06-06 瑞萨电子株式会社 半导体器件

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100038327A (ko) 2010-04-14
JP5240627B2 (ja) 2013-07-17
KR101446726B1 (ko) 2014-10-06
US20080298140A1 (en) 2008-12-04
US7881126B2 (en) 2011-02-01
WO2008150844A4 (en) 2009-02-26
WO2008150844A1 (en) 2008-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102434162B1 (ko) 데이터 캐싱
US7542357B2 (en) Semiconductor device
US7791406B1 (en) Low leakage power management
US8295110B2 (en) Processor instruction cache with dual-read modes
US8064264B2 (en) Ornand flash memory and method for controlling the same
US8270234B1 (en) Positive and negative voltage level shifter circuit
US10083733B2 (en) Ferroelectric memory cell apparatuses and methods of operating ferroelectric memory cells
US8089823B2 (en) Processor instruction cache with dual-read modes
JP5240627B2 (ja) ワード線バッファ付きメモリおよび当該メモリを動作させる方法
TW594750B (en) Control method of semiconductor memory device and semiconductor memory device
JPH0430388A (ja) 半導体記憶回路
US9019788B2 (en) Techniques for accessing memory cells
JP3185875B2 (ja) センスアンプ駆動回路
JP2014078305A (ja) 半導体記憶装置
US7724067B1 (en) Enhanced transmission gate
CN116524969A (zh) 一种随机存储器及其灵敏放大及驱动电路
CN110383381B (zh) 控制电路、半导体存储器设备、信息处理设备以及控制方法
JP2000215672A (ja) 半導体記憶装置
CN118248187A (zh) 存储器、驱动方法、存储系统及电子设备
JP2007149274A (ja) 再生回路及びそれを用いた磁気ディスク装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110526

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110526

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121108

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130205

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130305

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130322

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5240627

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371