JP2010523515A - 光活性窒素塩基 - Google Patents

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Abstract

Arが、例えばフェニレン、ビフェニレン又はナフチレンであり、その全てが非置換であるか又はC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、CH2OR11、COOR12、CONR1213若しくはハロゲンで置換されており;R1、R2、R7及びR8が、互いに独立して、水素又はC1〜C6アルキルであり;R3とR5が、共に、及びR4とR6が、共に、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキルで置換されているC2〜C6アルキレン架橋を形成し;R11が、水素又はC1〜C6アルキルであり;R12及びR13が、互いに独立して、例えば水素、フェニル、C1〜C18アルキル、1つ以上のOで中断されているC1〜C18アルキルであり;nが、1〜10であり;Xが、O、S又はNR10であり;A及びA1が、適切な結合基である、式(I)、(II)及び(III)の化合物は、光潜在性塩基として適している。

Description

本発明は、光化学的にアミジン誘導体に変換されうるベンジル置換基を有するアミン及びアミジン誘導体を光化学的に製造する方法に関する。本発明は、更に、アミンを含む塩基重合性又は塩基架橋性組成物、光化学的に誘導した塩基触媒反応を実施する方法及び塩基触媒反応における光開始剤としてのアミンの使用、並びに多官能光潜在性塩基を製造する出発材料としての化合物の使用に関する。
塩基の光分解発生及びそのような光発生アミンにより引き起こされる光重合反応又は光誘導性架橋反応は既知であり、一般的な記載は、例えば、Frechet,J.Pure and Appl.Chem.(1992),64,1239及びDietlikerにより"Photoinitiators for Free Radical,Cationic and Anionic Polymerisation",Wiley/SITA Technology 1998,Chapter IV,pages 479−517において発表されている。記載された大部分の化合物を照射することによって第一級又は第二級アミンが生成され、主に光発生架橋剤として使用されることが見出されている。塩基触媒反応の触媒としては、第一級又は第二級アミンはあまり適していない。
第三級アミンを発生する幾つかの光不安定性化合物が知られている。例えば記載されているものには、例えばBartl et al, J. Am. Chem Soc. (1990), 112, 6918に記載されているベンジル−及びジ−又はトリフェニルメタン−アンモニウム塩、並びに例えばWO97/16406に示されているN−(ベンゾフェノン−メチル)トリ−N−アルキルアンモニウムトリフェニルボレートが含まれる。これらの化合物を照射することによってトリアルキルアミンが生成され、これらは、第一級又は第二級アミンよりも塩基触媒反応の触媒として使用するのに適している。
N,N−ジメチルジチオカルバメート対イオンを有するN−フェナシルアンモニウム塩も、Tachi et al.,J.Polym.Sci.Part A:Polym.Chem.(2001),39,1329による教示のように、照射により第三級アミンを放出する。これらの化合物は全て塩であり、多様な配合物におけるこれらの溶解性は限定されている。
EP898202及びWO01/92362から、α−アミノケトンも第三級アミンを放出できることが知られている。
塩基触媒反応に更に適しているものは、アミジン又はグアニジン型のアミンであり、例えば二環式アミジン、特に1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)及び1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)、また、テトラメチルグアニジン(TMG)がそのような系にとって極めて適切な触媒である。EP448154は、例えば、DBU、DBN又はTMG等のアミジン塩基をその塩の形態で使用することを開示している。これらの塩基は熱的に活性化される。
これらの反応の触媒として適切な強塩基を光への暴露によって放出することができる幾つかの光潜在性塩基が、知られている。例えば、WO94/28075は、アミン、アンモニウム化合物及びホスファン型のUV脱保護性塩基を記載する。保護剤として、記述されているものは、特に、α−ケトカルボン酸、芳香族又はN−複素環ギ酸、酢酸若しくはオキソ酢酸誘導体であり、それによりアミン塩基は非反応性塩に変換されており、照射によって脱保護される。当該の塩がイオン性塩であるので、配合物におけるそれらの溶解性は限定されている。
WO97/31033は、pKa≧12を有する塩基の光化学的放出を記載し、例として、N−ベンジルオキシカルボニルテトラメチルグアニジンが記述されている。
照射によって対応する第三級アミン塩基を放出するα−アンモニウム、α−イミニウム又はα−アミジニウムケトン若しくはアルケンのイオン性塩は、例えばWO98/38195及びWO00/10964に記載されている。WO98/32756は、アミジン塩基が照射によって放出されうるα−アミノケトンを開示し、対応するα−アミノアルケンは、WO98/41524に開示されている。この場合、塩基の放出は、分子内γ−水素脱離反応によって生じ、これはα−アミノアルケンにおける二重結合の特別な位置により可能になる。WO98/32756又はWO98/41524の光潜在性アミンから生じる強塩基は、例えばマイケル付加等の反応を触媒するのに適している。WO03/033500は、光活性1,3−ジアミン塩基の合成及び被覆系の硬化におけるそれらの使用を記載する。
それにもかかわらず、UV光線又は可視光線の照射によりアミジン塩基を効率的に放出する及び光の不在下で塩基硬化しうる配合物において、保存安定性が高い1ポット系を生成する、強力な光活性アミン塩基の必要性が引き続き存在している。
現在、驚くべきことに、幾つかの特定の置換基を有する幾つかの光活性1,3−ジアミン塩基は、異なる被覆系においてUV又は光暴露後に予想外なことに改善された安定性及びより高い反応性を示し、その硬化は、特に硬化過程の一段階でイソシアネート基を含む塩基により触媒されることが見出された。
したがって、本発明の主題は、式(I)、(II)及び(III):
Figure 2010523515
[式中、
Arは、フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アントリレン又はアントラキノニレンであり、これらは全て非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、CH2OR11、COOR12、CONR1213若しくはハロゲンで置換されており;
1、R2、R7及びR8は、互いに独立して、水素又はC1〜C6アルキルであり;
3及びR5は、共に、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキルで置換されているC2〜C6アルキレン架橋を形成し;
4及びR6は、共に、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキルで置換されているC2〜C6アルキレン架橋を形成し;
11は、水素、C1〜C6アルキル又はフェニルであり;
12及びR13は、互いに独立して水素、フェニル、C1〜C18アルキル、1つ以上のOで中断されているC1〜C18アルキルであるか;或いは
12及びR13は、下記:
Figure 2010523515
であり;
nは、1〜10であり;
Xは、直接結合、O、S又はNR10であり;
Aは、nが1である場合、水素、非中断C1〜C18アルキル又は1つ以上のO若しくはN(R′13)で中断されているC1〜C18アルキルであり、非中断又は中断C1〜C18アルキルは、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C8アルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12、OCOR14若しくはハロゲンで置換されているか;或いは
Aは、C2〜C18アルケニルであるか又は1つ以上のOで中断されているC3〜C18アルケニルであり、C2〜C18アルケニル又は中断C3〜C18アルケニルは、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C8アルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12、ハロゲン若しくはC7〜C15アラルキルで置換されているか;或いは
Aは、nが1である場合、下記:
Figure 2010523515
の基であるか;或いは
Aは、nが1である場合、下記:
Figure 2010523515
の基を意味するか;或いは
XがOである場合、追加的に、X−AはXを意味し;
Aは、nが1を超える場合、
n価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基であり、これは場合により1つ以上のO、S、N(R′13)、フェニレン、ナフチレン、下記:
Figure 2010523515
で中断されており、
非中断又は中断のn価飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基は、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C8アルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されているか;或いは
Aは、XがNR10である場合、n価ポリアルキレン−イミンであり、ここでn価ポリアルキレン−イミンは、非中断であるか又は1つ以上の(CO)、(CO)O若しくは二重結合で中断されており、非中断又は中断n価ポリアルキレン−イミンは、非置換であるか又は下記:
Figure 2010523515
で置換されているか;或いは
XがOである場合、追加的に、1つ以上のX−Aは、X n+又はX nYを意味し;
yは、1〜20の整数であり;
zは、1〜8の整数であり;
R′13は、R12及びR13で示された意味のうちの1つを有するか又は基(TX)であり;
10は、nが1であるAで示された意味のうちの1つを有し;
1は、nが1である場合、水素、C1〜C18アルカノイル又は1つ以上のO及び/若しくはCOで中断されているC2〜C18アルカノイルであり、非中断又は中断C2〜C18アルカノイルは、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、フェニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されているか;或いは
前記非中断又は中断C2〜C18アルカノイルは、非置換又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されているC6〜C10アリールにより置換されているか;或いは
1は、非置換であるか又は1つ以上の、C1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12、ハロゲンにより、若しくは非置換の若しくは1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されているC6〜C10アリールにより置換されているC3〜C18アルケノイルか;
非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されているC2〜C18アルキルアミノカルボニルか;
非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、OR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されているC6〜C20アリールアミノカルボニルか;
非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、OR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されているC7〜C20アリールアルキルアミノカルボニルか;
両方とも非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されている、C7〜C15アロイル又はC5〜C15ヘテロアロイルであるか;或いは
1は、nが1である場合、下記:
Figure 2010523515
の基を意味し;
1は、nが1を超える場合、
場合により1つ以上のOで中断されており、非中断又は中断C2〜C30アルカノイルが、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されている、n価のC2〜C30アルカノイルか;
両方とも非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されている、n価のC8〜C20アロイル又はC6〜C20ヘテロアロイルであるか;
非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されている、n価のC10〜C20アラルカノイルか;
非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されており、非置換又は置換n価C1〜C30アルキルアミノカルボニル基が、場合により、イソシアネート又はその誘導体の二量体又は三量体を介して結合している幾つかの一価C1〜C30アルキルアミノカルボニル基から構成されている、n価のC1〜C30アルキルアミノカルボニルか;
非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されている、n価のC6〜C20アリールアミノカルボニルか;或いは
1は、nが1を超える場合、下記:
Figure 2010523515
の基を意味し;
Lは、直接結合、非置換C1〜C20アルキレン、フェニル若しくは1つ以上のOHで置換されているC1〜C20アルキレン、1つ以上のO、S、O(CO)、(CO)Oで中断されているC1〜C20アルキレンか、又は
1〜C20アルキレン−O−(CO)、C1〜C20アルキレン−N(RR19)(CO)、C1〜C20アルキレン−S、C1〜C20アルキレン−O、C1〜C20アルキレン−(NRR19)若しくはC1〜C20アルキレン−(CO)−N(R19)であり、ここで基C1〜C20アルキレン−O−(CO)、C1〜C20アルキレン−N(RR19)(CO)、C1〜C20アルキレン−S、C1〜C20アルキレン−O、C1〜C20アルキレン−(NRR19)及びC1〜C20アルキレン−(CO)−N(RR19)において、ベンゾフェノン基への結合は、ヘテロ原子N、S若しくはOを介している又はCO基を介していることが意図されているか;或いは
Lは、(CO)−Qであり;
Qは、直接結合、C1〜C8アルキレン又は1つ以上のOで中断されているC1〜C8アルキレンであり;
1は、直接結合、CO、非置換C1〜C20アルキレン、フェニル若しくは1つ以上のOHで置換されているC1〜C20アルキレン、1つ以上のO、S若しくはNR24で中断されているC1〜C20アルキレン、1つ以上のO、S若しくはNR24で中断され、OHで置換されているC1〜C20アルキレンか、又は
非置換C1〜C20アルキレン−O−(CO)若しくはOHで置換されているC1〜C20アルキレン−O−(CO)か、又はアルキレンが1つ以上のOで中断されているC1〜C20アルキレン−O−(CO)、C1〜C20アルキレン−N(RR19)(CO)、C1〜C20アルキレン−S、C1〜C20アルキレン−O、C1〜C20アルキレン−(NRR19)若しくはC1〜C20アルキレン−(CO)−N(RR19)であり、ここで基C1〜C20アルキレン−O−(CO)若しくはOHで置換されているC1〜C20アルキレン−O−(CO)若しくはアルキレンが1つ以上のOで中断されているC1〜C20アルキレン−O−(CO)、C1〜C20アルキレン−N(RR19)(CO)、C1〜C20アルキレン−S、C1〜C20アルキレン−O、C1〜C20アルキレン−(NRR19)又はC1〜C20アルキレン−(CO)−N(RR19)において、チオキサントン基への結合は、ヘテロ原子N、S若しくはOを介している又はCO基を介していることが意図されているか;或いは
1は、(CO)−C1〜C20アルキレン−Oであり、ここでチオキサントン基への結合はO原子を介していることが意図されているか;或いは
1は、(CO)−Qであり;
Yは、n価のカチオン性対イオンであり;
14は、−CH=CH2又は−C(CH3)=CH2であり;
15、R16、R17及びR18は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1〜C12アルキル、OR11、SR11、NR1213又は(CO)OR11であり;
RR19は、水素又はC1〜C6アルキルであり;
20、R21、R22及びR23は、互いに独立して、R15、R16、R17及びR18で定義された意味のうちの1つを有し;
24は、水素、C1〜C10アルキル又はOHで置換されているC1〜C10アルキルであり、そして
25、R26、R27、R28及びR29は、互いに独立して、C1〜C4アルキルである]
で示される光潜在性塩基化合物である。
式(I)、(II)及び(III)の新規化合物の光活性後の安定性及び反応性は、特定の置換基の存在によって、これらの置換基を有さない類似誘導体と比較して改善されている。
更に、エステル又はアルコール基は、例えばエポキシアルコール、ペルフッ素化アルコール、トリス(アルコキシ)シリルアルコール、ω−アクリロイルアルコール、脂肪酸又はカプロラクトン等の他の官能化誘導体と容易に反応することによって、低い揮発性、高い疎水性又は更なる変換に適切な新たな官能基を有する等の特別仕様の特性を有する誘導体を得ることができる。
更に、エステル又はアルコール基は、多官能価又は高分子のアルコール、アミン、エステル、イソシアネート又はそのような官能基と反応することができる他の官能基との容易な反応によって、低揮発性及び移動性の多官能価光潜在性アミンを得ることを可能にする。
これらの本発明の化合物は、例えば、顕著に高い保存安定性を有する、塩基触媒架橋反応を受けることができるオリゴマー又はモノマーを用いて1ポット系と呼ばれるものを生成することを可能にする。光に暴露するだけで、塩基により触媒される反応、例えば有機付加及び縮合反応、例えば付加又は縮合反応による重合又は架橋を引き起こす。重合又は架橋系は、化合物をモノマー又はオリゴマーにそれらに影響を与えることなく溶解することができるので、完全に又は実質的に溶媒のない形態で配合することができる。架橋反応を引き起こす活性触媒は、光への暴露後まで生成されない。塩基触媒反応により架橋されうるオリゴマー又はモノマーを含有するこれらの系は、例えば塗料系、被覆、成形コンパウンド、光リソグラフ結像系、接着剤、ホットメルト、発泡体の形成、フレキソ版、インク等、多数の目的に使用することができる。
1〜C18アルキルは、直鎖又は分岐鎖であり、例えば、C1〜C14−、C1〜C12−、C1〜C8−、C1〜C6−又はC1〜C4アルキルである。例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、2,4,4−トリメチルペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル及びオクタデシルが挙げられる。C1〜C6アルキル及びC1〜C4アルキルは、対応するC原子の数まで、C1〜C18アルキルについて上記に示された意味と同じ意味を有する。
1〜C6ヒドロキシアルキルは、例えば、上記のC2〜C6−、C2〜C4−又はC1〜C4アルキルであるが、OHで単置換又は多置換されている。例えば、1〜6つ、例えば1〜4つ、又は1若しくは2つのOH置換基が、直鎖又は分岐鎖のアルキルに位置している。例として、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ジヒドロキシプロピル、ヒドロキシプロピル、ジヒドロキシエチル、特にヒドロキシエチルが挙げられる。
1つ以上のO又はN(R13)で中断されているC1〜C18アルキルは、例えば、O若しくはN(R13)又は両方により、1〜8回、1〜7回、1〜6回、1〜5回、1〜4回、1〜3回又は1回若しくは2回中断されている。基が2つ以上のOで中断されている場合、前記O原子は、少なくとも1つのメチレン基で互いに離れており、すなわちO原子は非連続性である。例として、次の構造単位:−CH2−O−CH3、−CH2CH2−O−CH2CH3、−[CH2CH2O]−CH3(ここで、y=1〜8)、−(CH2CH2O)7CH2CH3、−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH2CH3又は−CH2−CH(CH3)−O−CH2CH3、−CH2−N(R13)−CH3、−CH2CH2−N(R13)−CH2CH3、−[CH2CH2N(R13)]−CH3(ここで、y=1〜8)、−N(R137CH2CH3、−CH2−CH(CH3)−N(R13)−CH2−CH2CH3又は−CH2−CH(CH3)−N(R13)−CH2CH3、−CH2−N(R13)−CH2CH2−O−CH2CH3などが挙げられる。
場合により1つ以上のO又はN(R13)で中断されている前記C1〜C18アルキルは、例えばOR11で置換されており、例えば−[CH2CH2O]CH2CH2OH(ここでy=1〜8)等の構造をもたらす。
2〜C18アルケニルは、単又は多不飽和、直鎖又は分岐鎖であり、例えば、C2〜C12−、C2〜C16−、C2〜C8−、C2〜C6−又はC2〜C4アルケニルである。例として、アリル、メタリル、ビニル、1,1−ジメチルアリル、1−ブテニル、3−ブテニル、2−ブテニル、1,3−ペンタジエニル、5−ヘキセニル又は7−オクテニル、特にアリル又はビニルが挙げられる。
1つ以上のOで中断されているC3〜C18アルケニルは、例えば、Oにより1〜8回、1〜7回、1〜6回、1〜5回、1〜4回、1〜3回又は1回若しくは2回中断されている。アケニルは、上記で定義されており、単若しくは多不飽和、直鎖又は分岐鎖である。基が2つ以上のOで中断されている場合、前記O原子は、少なくとも1つのメチレン基又は二重結合で互いに離れており、すなわちO原子は非連続性であり、例えば−CH=CH−O−CH2CH3、−[CH2CH2O]−CH3(ここでy=1〜8)、−(CH2CH2O)7CH2CH3、−CH=C(CH3)−O−CH2−CH2CH3又は−CH=CH(CH3)−O−CH=CH2などである。
2〜C6アルキレンは、直鎖又は分岐鎖であり、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、1−メチルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、1,1−ジメチルプロピレン、ブチレン、1−メチルプロピレン、1−メチルブチレン、2−メチル−プロピレン、ペンチレン又はヘキシレンである。
1つ以上のO又はN(R13)で中断されているC2〜C18アルキレンは、例えば、−(CH2CH2O)−CH2CH2−(ここでy=1〜8)、−(CH2CH2CH2O)−CH2CH2CH2−(ここでz=1又は2)、−(CH2CH2NR13CH2CH2−(ここでy=1〜8)、−[CH2CH2N(CH2CH2NR13CH2CH2NH2−(CH2CH2NR13−CH2CH2−、下記:
Figure 2010523515
(ここで、y=1〜8、b=0〜7、c=0〜7、v=0〜7)などである。
2〜C6アルキレン架橋の例として、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン又はヘキシレン、好ましくはプロピレン及びペンチレン、特にプロピレンが挙げられる。これらの架橋は、例えば、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキルで置換されている。C1〜C4アルキルは、対応する炭素原子の数まで、上記のとおりである。
7〜C15アラルキルは、フェニル、ナフチル、アントリル又はフェナントリル等の芳香族基で置換されているC1〜C9アルキルを意味する。例として、フェニル−C1〜C9アルキル、ナフチル−C1〜C5アルキル、アノトリル−メチル、フェナントリル−メチルが挙げられる。アルキル基は、直鎖又は分岐鎖であり、上記に示された意味を有する。特定の例として、ベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル、フェニルペンチル、フェニルヘキシル又はα,α−ジメチルベンジル、特にベンジル及びナフチルメチル、特にベンジルが挙げられる。アルキル基は、アリール環の異なる位置、例えば、ナフトイル環の1位又は2位に存在することができる。同じことが、アントリル及びフェナントリル環の異なる位置について当てはまる。
フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アントリレン又はアントラキノニレンは、環の異なる位置を介して基に結合することができ、例として、1,4−フェニレン、1,3−フェニレン、1,2−フェニレン、1,2−ナフチレン、2,3−ナフチレンなどが挙げられる。
1〜C18アルカノイルは、C1〜C18アルキルカルボニルと同様に、直鎖又は分岐鎖であり、例えば、C1〜C16−、C1〜C14−、C1〜C12−、C1〜C8−、C1〜C6−若しくはC1〜C4アルカノイル又はC2〜C12−若しくはC2〜C8アルカノイルである。例として、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、イソブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル又はオクタノイル、好ましくはアセチルが挙げられる。
1つ以上のO及び/又はCOで中断されているC2〜C18アルカノイルは、例えば、1〜12回、例えば1〜6回、1〜4回、1〜3回、1回又は2回中断されている。中断しているO及びCOは、幾つか又は1つのメチレンで離れていることができるが、連続していることもでき、したがって、中断基(CO)O又はO(CO)を形成することができる。
3〜C6アルケノイルは、単又は多不飽和であり、例えば、COで末端がキャップされている(=「オイル」)、上記で定義されたC2〜C5アルケンである。例として、プロペノイル、2−メチル−プロペノイル、ブテノイル、ペンテノイル、1,3−ペンタジエノイル、5−ヘキセノイルが挙げられる。
1〜C30アルキルアミノカルボニルは、(C1〜C30アルキル)NH(CO)−、例えば(C1〜C8アルキル)NH(CO)−又は(C1〜C4アルキル)NH(CO)−を意味し、ここでアルキルは、対応するC原子の数まで、上記で定義されたとおりである。
イソシアネート又はその誘導体の二量体又は三量体を介して結合している幾つかの一価C1〜C30アルキルアミノカルボニルから構成されるC1〜C30アルキルアミノカルボニルは、例えば、下記:
Figure 2010523515
等の基により又は同様の基(その前駆体は、例えば下記の出発材料のリストにおいても示されている)により結合しており、例えば以下:
Figure 2010523515
等の基A1をもたらす。
6〜C20アリールアミノカルボニルは、(C6〜C20アリール)NH(CO)−、例えば(C6〜C10アリール)NH(CO)−を意味し、ここでC6〜C20アリールは、例えばフェニル、ナフチル、アントリル又はフェナントリルであり、これらは全て非置換であるか又は置換されている。置換基の例として、C1〜C4アルキル、例えばメチル及びC1〜C4アルコキシ、例えばメトキシが挙げられる。
7〜C14アリールアルキルアミノカルボニルは、(C7〜C14アラルキル)NH(CO)−、例えば(C7〜C10アラルキル)NH(CO)を意味し、ここでアラルキルは上記で定義されたとおりである。
7〜C15アロイルは、C6〜C14アリール−COである。適切なC6〜C14アリールの例として、フェニル、ナフチル、アントリル及びフェナントリルが挙げられる。ナフトイル、アントレノイル及びフェナントレノイルにおいて、COは、対応する環系の異なる位置、例えばナフチル環の1位又は2位に結合していることができる。対応する事実がアントレノイル及びフェナントレノイルにも当てはまり、例えば1−アントリル、2−アントリル、9−アントリルである。
5〜C15ヘテロアロイルは、C4〜C14ヘテロアリール−COである。適切なC4〜C14ヘテロアリールは例えば、1個以上、例えば、1又は2個、特に1個のヘテロ原子を含有する。適切なヘテロ原子は例えば、N、P、O及びS、例えばN、O又はS、好ましくはN又はOである。例として、チエニル、ベンゾ[b]チエニル、ナフト[2,3−b]チエニル、チアントレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサントレニル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プルニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イソオキサゾリル、フラザニル、フルオレニル、フェノキサジニル、アントラキノン−2−イル(=9,10−ジオキソ−9,10−ジヒドロアントラセン−2−イル)、2−キサンテニル、8−メチル−2−キサンテニル、3−キサンテニル、2−フェノキサチイニル、2,7−フェノキサチイニルなどが挙げられる。
n価基は、例えば、2〜10価、2〜8価、2〜6価、2〜5価、2〜4価、3又は2価である。
飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基は例えば、
例えばメチレン、エチレン、プロピレン、1−メチルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、ブチレン、1−メチルプロピレン、2−メチルプロピレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘキサデシレン、オクタデシレン等の直鎖若しくは分岐鎖のC1〜C50アルキレン;
例えばエチニレン、1−プロペニレン、1−ブテニレン、3−ブテニレン、2−ブテニレン、1,3−ペンタジエニレン、5−ヘキセニレン、7−オクテニレン等の単不飽和若しくは多不飽和、直鎖若しくは分岐鎖のC2〜C50アルケニレン;
例えばシクロプロピレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロオクチレン、シクロドデシレン、ビシクロデシレンなど、並びに環、例えば下記:
Figure 2010523515
など(ここでx及びyは、0から基のC原子の数を合計した数の50までの整数を意味する)の構造単位を含み、更に、例えば下記:
Figure 2010523515
等の架橋若しくは縮合環系が含まれることが意図される直鎖若しくは分岐鎖アルキレン等のC3〜C50シクロアルキレン、又は
3〜C50シクロアルケニレンである。
更なる特定の例は、本発明の化合物の製造についての記載において下記に提示されている特定の出発材料から導かれる。
三価C2〜C50炭化水素基は、例えば、アルカン部分が直鎖若しくは分岐鎖であるか又は上述のアルケン、シクロアルキル若しくはシクロアルケニル部分を含む対応する基である、C2〜C50アルカントリイルである。
同様に、四価又はそれ以上の価の基が配置されている。
特定の例は、本発明の化合物の製造についての記載において下記に提示されている特定の出発材料から導かれる。
1つ以上のO、N(R13)、フェニレン又はナフチレンで中断されているn価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基は、例えば1〜25、1〜20、1〜15、1〜10、1〜8、1〜6、1〜4、3、2又は1つのO、N(R13)、フェニレン又はナフチレンで中断されている、前述の基である。中断している原子又は基は、好ましくは非連続性である。中断している基−O−又は−N(R13)−は、好ましくは、2又は3つのメチレン基、特に好ましくは2つのメチレン基により離されている。
特定の例は、本発明の化合物の製造についての記載において下記に提示されている特定の出発材料から導かれる。
n価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基の更なる例として、フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、下記:
Figure 2010523515
が挙げられ、ここでx、y及びwは、0から基のC原子の数を合計した数の50までの整数を意味する。
n価C2〜C30アルカノイルは、式IIIにおいて下記:
Figure 2010523515
に結合することができる、「オイル」基を有する対応するアルキレンを意味する。アルキレン部分は、直鎖又は分岐鎖であり、上記に示した定義に対応する。
特定の例は、本発明の化合物の製造についての記載において下記に提示されている特定の出発材料から導かれる。
n価C2〜C30アルケノイルは、式IIIにおいて下記:
Figure 2010523515
に結合することができる、「オイル」基を有する対応するアルケニレンを意味する。アルケニレン部分は、直鎖又は分岐鎖であり、上記に示した定義に対応する。
n価C8〜C20アロイル又はC6〜C20ヘテロアロイルは、対応する一価基について上述の同様の基に対応するが、前記基の1つ以上(すなわち「n個」)の飽和を−CO−に代えている。
二価C8〜C20アロイル又はC6〜C20ヘテロアロイルの例として、CO−フェニレン−CO、CO−スチルベニレン−CO、CO−ビフェニレン−CO、o−、m−及びp−CO−テルフェニレン−CO、CO−ナフチレン−CO、CO−ビナフチレン−CO、CO−アントラセニレン−CO、CO−フェナントリレン−CO、CO−ピレニレン−CO、CO−フラニレン−CO、CO−チオフェニレン−CO、CO−ピリジニレン−CO、CO−キノリニレン−CO又はCO−イソキノリニレン−COなどが挙げられる。
同様に、四価又はそれ以上の価の基が配置されている。
n価C10〜C20−アラルカノイル、n価C1〜C30−アルキルアミノカルボニル及びn価C6〜C20アリールアミノカルボニルは、対応する一価基について上述の同様の基に対応するが、前記基の1つ以上(=「n−1個」)の飽和を−CO−に代えている。
特定の例は、本発明の化合物の製造についての記載において下記に提示されている特定の出発材料から導かれる。例えば、幾つかの一価アルキルアミノカルボニル基の結合において上記に挙げられている、イソシアネート又はその誘導体から誘導される二量体又は三量体リンカーも参照すること。
本発明の文脈において、n価C2〜C30アルカノイル、C8〜C20アロイル、C6〜C20ヘテロアロイル、C10〜C20−アラルカノイル、C1〜C30−アルキルアミノカルボニル及びC6〜C20アリールアミノカルボニルは、「オイル」基を介して分子の対応する基に結合していることが意図され、すなわち前記基は「n−オイル−価」である。
「n価のカチオン性対イオン」としてのYは、例えば、1個、2個、3個又は4個の正電荷を有するカチオンである。式I又はIIの化合物のnが4を超える場合、2つ以上の対イオンYが、分子に存在する。しかし、同じことがn=2〜4の式I及びIIの化合物に当てはまる。
Xが式I又はIIの化合物においてOであり、nが1を超える場合、1つ以上の基X−Aは、X n+又はX nYを意味する。このことは、分子の光潜在性塩基部分に結合している基の全てが塩の形態である必要がないことを意味する。一つの分子において、塩形態を介する結合、並びに通常の共有結合が可能である。XがOであるという条件は塩の形態の基だけに与えられ、光潜在性塩基部分に結合している他の基は、全て上記に示されたXの他の定義のうちの1つを有することもできる。例えば、下記:
Figure 2010523515
[式中、PLBは、下記:
Figure 2010523515
であり、R1〜R8は上記で定義されたとおりである]の分子が形成される。
したがって、Yは、例えば、アルカリ金属イオン、Li、Na、K、Csのような酸化状態+1の金属カチオン、又はアンモニウム−、ホスホニウム−、ヨードニウム−若しくはスルホニウムカチオン等の「オニウム」カチオンであるか、或いは
Yは、アルカリ土類イオン、Mg2+、Ca2+若しくはZn2+、Cu2+、例えばMg2+、Ca2+、Zn2+、好ましくはMg2+若しくはCa2+ような、酸化状態+2の金属カチオンであるか、或いは
Yは、Al3+のような酸化状態+3の金属カチオン、又は
Sn4+若しくはTi4+のような酸化状態+4の金属カチオンである。
オニウムカチオンの例として、アンモニウム、テトラ−アルキルアンモニウム、トリ−アルキル−アリール−アンモニウム、ジ−アルキル−ジ−アリール−アンモニウム、トリ−アリール−アルキル−アンモニウム、テトラ−アリール−アンモニウム、テトラ−アルキルホスホニウム、トリ−アルキル−アリール−ホスホニウム、ジ−アルキル−ジ−アリール−ホスホニウム、トリ−アリール−アルキル−ホスホニウム、テトラ−アリール−ホスホニウムが挙げられる。
例えば、N22232425又はP22232425であり、ここで、
22、R23、R24、R25は、互いに独立して、水素、フェニル、OH若しくはC1〜C4アルキルで置換されているフェニルであるか、又は場合によりOH、C1〜C4アルコキシ、NR2627、ベンゾイル、フェニル若しくはSi(OH)(OC1〜C4)アルキル)で置換されているC1〜C20アルキルであるか;或いは
22、R23、R24又はR25のうちの2つは、共に、場合により他の環系と縮合している5員又は6員の飽和又は不飽和環を形成し、5員又は6員の飽和又は不飽和環は、場合により追加のヘテロ原子、例えばS、NR15又はOを含み;
26及びR27は、互いに独立して、水素又は場合によりOHで置換されているC1〜C4アルキルであり;そして
r及びsは、互いに独立して、0〜3であるが、但しr+sの合計は3である。
また適しているものは、例えばポリエチレンイミン構造に基づいている多価アンモニウムカチオンである。
適当なアンモニウム化合物の例として、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、ベンジルトリプロピルアンモニウム及びベンジルトリブチルアンモニウムが挙げられる。トリス(C1〜C8アルキル)アンモニウムイオンも適しており、例えばトリメチルアンモニウムである。
また、カチオン性対イオンYとして敵しているものは、染料カチオンである。例として、トリアリールメタンのカチオン、例えばマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例えばメチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキサジン、アクリジン、シアニン、ローダミン、フェナジン、例えばサフラニンが挙げられる。また適しているものは、酸性基を含有する染料、例えば、メチルレッド、エチルオレンジ、メチルオレンジ、アシッドイエロー、ロゾール酸、フェノールレッド、フルオレセイン、ローズベンガル、チモールフタレインモノリン酸、オーラミンO、クレシルバイオレット、ローダミンB、ブリリアントグリーン又はバリアミンブルーである。
Yは、好ましくは、Li、Na、K、Cs、N22232425又はP22232425、例えばLi、Na、K、N22232425又はP22232425、特にLi、Na、K又はN22232425である。
Aは、XがNR10である場合、n化ポリアルキレン−イミンも意味する。前記基のアルキレン基は、上記で定義されたとおりであり、好ましくはメチレン又はエチレン、特にエチレンであり、すなわちAは、好ましくは、n価ポリメチレン−イミン又はポリエチレン−イミン、特にポリエチレン−イミンを意味する。例として、下記:
Figure 2010523515
[式中、n=2〜6及びm≧1];
Figure 2010523515
[式中、ここで、x及びy≧1];
Figure 2010523515
[式中、x、y及びz≧1];
Figure 2010523515
[式中、x、y及びz≧1、例えば6〜9]が挙げられる。
n価ポリアルキレン−イミンは、非中断であるか又は1つ以上の(CO)、(CO)O又は二重結合で中断されている:
Figure 2010523515
そして非中断又は中断n価ポリアルキレン−イミンは、非置換であるか又は下記:
Figure 2010523515
[式中、特にR25〜R29はメチルである]等のシロキサン基で置換されており、例えば下記:
Figure 2010523515
である。
更なる特定の例は、本発明の化合物の製造についての記載において下記に提示されている特定の出発材料から導かれる。
式(I)、(Ia)、(Ib)又は(Ic)の化合物において、Aが、1つ以上の下記:
Figure 2010523515
で置換されているn価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基である場合、下記の置換基:
Figure 2010523515
が好ましい。
式(II)、(IIa)、(IIb)又は(IIc)の化合物において、Aが、1つ以上の下記:
Figure 2010523515
で置換されているn価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基である場合、下記の置換基:
Figure 2010523515
が好ましい。
定義が1つ以上の置換基を参照する場合、例えば、1〜4つ、1〜3つ、1又は2つ、好ましくは1つの置換基が存在する。
ハロゲンは、Cl、F、Br又はI、特にCl、F又はBr、好ましくはClである。
本発明の文脈における用語「及び/又は」或いは「又は/及び」は、定義された代替物(置換基)のうちの1つだけでなく、定義された代替物(置換基)の幾つかが一緒に、すなわち異なる代替物(置換基)の混合物も存在することができることを表すことが意図される。
用語「少なくとも」は、1つ又は1つより多い、例えば、1又は2又は3つ、好ましくは1又は2つを定義することが意図される。
用語「場合により置換されている」は、参照される基が非置換であるか又は置換されているかのいずれかであることを意味する。
用語「場合により中断されている」は、参照される基が非中断であるか又は中断されているかのいずれかであることを意味する。
本明細書及特許請求の範囲の全体を通して、文脈から必要とされない限り、語「含む」又はその変形、例えば「含み」若しくは「含んでいる」は、記述される整数又は工程又は整数若しくは工程の群を含めることを意味するが、他のあらゆる整数又は工程又は整数若しくは工程の群を除外することを意味しないことが理解される。
本出願の文脈において用語「(メタ)アクリレート」は、アクリレート、並びに対応するメタクリレートを意味することが意図される。
本発明の主題は、上記で定義された式I、II及びIIIの化合物である。重点は、式I及びIIの化合物に置かれる必要があり、特興味深いものは、式Iの化合物である。
Xは、例えばO、S又はNR10、特にO又はNR10、とりわけ好ましくはOである。
したがって、XがO又はNR10、特にOである式(I)又は(II)の光潜在性塩基化合物が好ましい。
nは、例えば、1〜10、2〜10、1〜8、2〜8、1〜6、2〜6、1〜5、2〜5、1〜4、2〜4、1〜3、2又は1の整数である。好ましくは、nは1又は2、特に1である。
yは、例えば、1〜20、1〜10、2〜10、1〜8、2〜8、1〜6、2〜6、1〜5、2〜5、1〜4、2〜4、1〜3、2又は1の整数である。
zは、1〜8の整数、例えば1〜6、2〜6、1〜4、2〜4又は1〜2である。
Arは、例えばフェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アントリレン又はアントラキノニレン、特にフェニレン、ビフェニレン又はナフチレン、とりわけフェニレン又はビフェニレン、好ましくはフェニレンである。フェニレンとしてのAは、例えば、1,3−フェニレン又は1,4−フェニレン、好ましくは1,4−フェニレンである。
1及びR2は、例えば水素又はC1〜C6アルキル、好ましくは水素又はC1〜C4アルキルであり、例えば、R1は、水素であり、R2は、C1〜C6−又は、C1〜C4アルキルである。好ましくは、R1及びR2は両方とも水素である。
7及びR8は、例えば、互いに独立して、水素又はC1〜C6アルキル、特に水素又はC1〜C4アルキルであり、例えば、R7は、水素であり、R8は、C1〜C6−、特にC1〜C4アルキルである。好ましくは、R7及びR8は両方とも水素である。
Aは、nが1である場合、例えば、水素又はC1〜C18アルキル(これは、場合により1つ以上のO又はN(R13)で中断されており、非中断又は中断C1〜C18アルキルは、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C8アルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されている)であり、特に水素、C1〜C18アルキル、特にC1〜C4アルキルであるか、或いはC1〜C18アルキル、特に1つ以上のOで中断されているC1〜C18アルキルであり、非中断及び中断アルキル基は、両方とも、場合により、非置換であるか又は1つ以上のOR11、NR1213又はCOOR12、特にOR11又はNR1213、とりわけOR11で置換されている。
Aは、nが1を超える場合、n価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基(これは、場合により1つ以上のO、N(R13)、フェニレン又はナフチレンで中断されており、非中断又は中断のn価飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基は、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C8アルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されている)であり、好ましくはC1〜C12アルキレン(これは、場合により1つ以上のO、特に1又は2つのOで中断されており、非中断及び中断C1〜C12アルキレンは、両方とも、場合により、特にOR11、NR1213又はCOOR12、好ましくはOR11又はNR1213、とりわけOR11で置換されている)である。
1は、好ましくはC1〜C12アルカノイル、特に、場合によりCOOR12で置換されているC1〜C12アルカノイルである。
3及びR5が共に、C2〜C6アルキレン架橋を形成すると、例えば以下の構造の式(Ia)、(IIa)及び(IIIa):
Figure 2010523515
[式中、p及びqは、互いに独立して、2〜6、好ましくは3〜6、例えば3及び5、又は3及び3であり;R′及びR″は、互いに独立して、C1〜C4アルキルであり;r及びsは、互いに独立して、0〜6、好ましくは0〜4、例えば0、1又は2、特に0又は1であり;そしてR1、R2、R7、R8、Ar、X、A、A1及びnは、式(I)、(II)及び(III)の化合物について上記で定義されたとおりである]
で示されるC2〜C6アルキレン架橋を共に形成するR4及びR6が形成される。
好ましくは、R3及びR5、並びにR4及びR6は、共にプロピレンであるか、又はR3及びR5は、プロピレンであり、R4及びR6は、共にペンチレンである。特に好ましいものは、R3とR5、並びにR4とR6が、両方とも、共にプロピレンである化合物である。
したがって、特に好ましいものは、式(Ib)、(IIb)、(IIIb)、(Ic)、(IIc)及び(IIIc):
Figure 2010523515
[式中、
1、R2、R7、R8、Ar、X、A、A1及びnは、式(I)、(II)及び(III)の化合物について上記で定義されたとおりである]
で示される化合物である。
更に興味深いものは、[式中、
Arが、フェニレンであり;
1及びR2が、互いに独立して、水素であり;
3及びR5が、共に、プロピレン架橋を形成し;
4及びR6が、共に、C3〜C5アルキレン架橋を形成し;
11が、水素又はC1〜C6−アルキルであり;
12及びR13が、互いに独立して、水素又はC1〜C18−アルキルであり;
nが、式(I)の化合物では1又は2であり、式IIIの化合物では1であり;
Xが、O、S、NR10又は直接結合であり;
10が、水素であり;
Aが、nが1である場合、非中断であるか又は1つ以上のOで中断されている、C1〜C18アルキルであり、非中断又は中断C1〜C18アルキルが非置換であるか又はOR11、NR1213若しくはOCOR14で置換されているか;或いは
Aが、C2〜C8−アルケニルであるか;或いは
Aが、基(TX)又は(BP)であるか;或いは
XがOである場合、追加的に、X−AがXを意味し;
1が、C1〜C8アルキレン−Sであり;
Lが、C1〜C8アルキレン−Sであり;
14が、−CH=CH2であり;
15、R16、R17及びR18が、水素であり;
20、R21、R22及びR23が、水素であり;
Aが、nが1を超える場合、n価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基として、C2〜C18−アルキレンであり、これが場合により1つ以上のOで中断されており、非中断又は中断C2〜C18アルキレンが、非置換であるか又はOR11で置換されているか;或いは
Aが、nが1を超える場合、n価のポリアルキレンイミンであり、これが、非中断であるか又は(CO)、(CO)O若しくは二重結合で中断されており、非中断又は中断n価ポリアルキレンイミンが、非置換であるか又は下記:
Figure 2010523515
で置換されており;
1が、nが1である場合、水素又は非置換若しくはCOOR12で置換されているC2〜C18アルカノイルであり;
25、R26、R27、R28及びR29が、メチルであり;
yが、1〜12の整数であり;そして
n価カチオン性対イオンとしてのYが、アルカリ金属である]
上記式(I)又は(II)の光潜在性塩基化合物である。
興味深いものは、[式中、
Arが、フェニレンであり;
1及びR2が、互いに独立して、水素であり;
3及びR5が、共に、プロピレン架橋を形成し;
4及びR6が、共に、C3〜C5−アルキレン架橋を形成し;
11が、水素又はC1〜C6−アルキルであり;
12が、C1〜C18−アルキルであり;
nが、式(I)の化合物では1又は2であり、式IIIの化合物では1であり;
Xが、Oであり;
Aが、nが1である場合、場合により1つ以上のOで中断されているC1〜C18−アルキルであり、非中断又は中断C1〜C18アルキルが非置換であるか又はOR11で置換されており;
Aが、nが2である場合、n価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基として、C2〜C18アルキレンであり、これが場合により1つ以上のOで中断されており、非中断又は中断C2〜C18−アルキレンが、非置換であるか又はOR11で置換されており;
1が、nが1である場合、水素又は非置換若しくはCOOR12で置換されているC2〜C18アルカノイルである]
上述の式(I)又は(III)の光潜在性化合物である。
また、本発明の主題は、
Ar、R1、R2、R3、R4、R5、R6、X及びAが、上記で定義されたとおりであるが、但し、XがOである場合、Aが、水素又はC118アルキルではない
式(I)の化合物である。
更に、本発明の主題は、
Ar、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、X及びAが、上記で定義されたとおりであるが、但し、XがOである場合、Aが、水素又はC118アルキルではない
式IIの化合物である。
本発明の化合物は、当業者に既知の多様な方法により製造することができる。
例として、式(I)の化合物は、式(VI):
Figure 2010523515
[式中、
3、R4、R5、R6、R′、R″、p、q、r及びsは、上記で定義されたとおりである]
で示される化合物を、式(VII):
Figure 2010523515
[式中、
1、R2、Ar及びXは、好ましい定義を含み、上記で定義されたとおりであり、
halは、ハロゲン原子、OCOR20又はOSO220であり、そして
20は、1つ以上のC1〜C4アルキル又はフッ素で置換されている、C1〜C8アルキル、ペルフルオロアルキル又はアリールである]で示される化合物と反応させることによって、製造することができる。halは、好ましくは臭素又は塩素である。
式(VI)又は(VIa)の化合物と式(VII)の化合物との反応は、それ自体既知の方法により実施することができる。溶媒又は溶媒の混合物を使用することが有利であり、例として、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルカノール、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル、アセトン又は2−ブタノン又はジメチルスルホキシド等のケトンが挙げられる。そのような溶媒の混合物を使用することも可能である。
反応混合物に塩基を加えることが適当である。適切な塩基は、例えばトリエチルアミン、トリエタノールアミン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等の第三級アミンである。また適しているものは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化カルシウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基である。
反応は、例えば、−10℃〜+100℃の温度範囲内で実施することができる。好ましくは、+10℃〜+70℃の範囲である。
加えて、式(I)の化合物は、例えば、式(V):
Figure 2010523515
[式中、
3、R4、R5、R6、R′、R″、p、q、r及びsは、好ましい定義を含み、上記で定義されたとおりである]
で示される化合物を、式(VII):
Figure 2010523515
[式中、
1、R2、Ar及びXは、好ましい定義を含み、上記で定義されたとおりであり、
halは、ハロゲン原子、OCOR20又はOSO220であり、そして
20は、1つ以上のC1〜C4アルキル又はフッ素で置換されている、C1〜C8アルキル、ペルフルオロアルキル又はアリールである]で示される化合物と反応させ、
反応生成物を続いて還元に付すことによって、製造することもできる。
「hal」は、好ましくは臭素又は塩素である。
式(V)又は(Va)の化合物と式(VII)の化合物との反応は、それ自体既知の方法により実施することができる。溶媒又は溶媒の混合物を使用することが有利であり、例として、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルカノール、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル、アセトン又は2−ブタノン又はジメチルスルホキシド等のケトンが挙げられる。そのような溶媒の混合物を使用することも可能である。
反応は、例えば、−10℃〜+100℃の温度範囲内で実施することができる。好ましくは、0℃〜+70℃の範囲である。
上述の反応は、第四級アンモニウム塩を生成する。この塩を単離することができるか、そうでなければ適当な還元剤で直接処理して、本発明の式(I)の化合物に変換することができる。本発明の式(I)の化合物の還元は、当業者に既知の多様な方法によって実施することができる。適切な還元剤は、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム又は水素化ジブチルアルミニウム等の金属水素化物である。同様に適切なものは、適当な活性化剤と組み合わせたポリメチルヒドロシロキサン等の還元剤である(Lawrence et al.,J.Chem.Soc.Perkin Trans.I.(1999),3381)。加えて、触媒反応を、当該技術分野において慣用であり、当業者に既知の金属触媒を使用して、水素により実施することができる。
還元条件は、反応生成物における反応性の大きいインモニウム基が、反応性の小さい基−CO−X−Aに影響を与えることなく選択的に還元されるように選択される必要がある。これは、例えば正確に1モル当量の水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の金属水素化物を使用して、当業者に既知の条件下で達成することができる。
溶媒又は溶媒の混合物を使用することが適当であり、例として、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテルが挙げられる。特定の条件下では、使用される塩基に応じて、メタノール、エタノール等のアルカノールも適している。
反応は、例えば、−30℃〜+100℃の温度範囲内で実施することができる。好ましくは、−10℃〜+30℃の範囲である。
式(I)の化合物を、例えば適当なN−アルケニル−α,ω−ジアミンから出発する、ロジウム触媒ヒドロホルミル化反応によって、製造することもできる。この方法は、例えば、BergmannらによりAust.J.Chem.(1999),52,1131に記載されている。N−アルケニル−α,ω−ジアミンを、例えば圧力下でロジウム触媒を用いて、ベンゼンのような不活性溶媒中、一酸化炭素及び水素と反応させる。適切な触媒の例として、例えば酢酸ロジウム及びトリフェニルホスフィン又は6,6′−{[3,3′−ビス(1,1−ジメチルエチル)−5,5′−ジメトキシ−1,1′−ビフェニル]−2,2′−ジイル}ビス(オキシ)−ビス(ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン(BIPHEPHOS)等のホスフィンからin situ製造可能な、ロジウム錯体が挙げられる。
式(I)の化合物は、当業者に既知の更なる合成方法により製造することもできる。
nが1を超える式Iの化合物は、式(VII)の一価化合物の代わりに適当なn価出発材料を用いて、同様の方法によって製造される。すなわち、適当なnハロゲン化物のエステル又はスルホン酸エステルが用いられる。
好ましくは、上記の反応において、XはOであり、Aはメチル又はエチルを意味する。Aがメチル又はエチル以外の化合物を製造するために、換言すると、異なるエステル基を導入するために、適切な置換基Aを有する対応する化合物(VII)を使用することができる。Aがエチル若しくはメチルと別の意味を有する又はXがOではない化合物を製造するために、Aがメチル又はエチルである化合物(VII)を用いて上記反応を実施し、続いて当業者の既知の従来のエステル交換反応を実施することが有利でありうる。
エステル交換反応又はアミノ分解は、n価基を導入するために、適切な≧n官能価ポリアルコール又は≧n官能価ポリアミンにより実施される。適切には、「≧n」=「nを超える」官能価ポリアルコール又はポリアミンが使用され、一般に、全てのアルコール又はアミン基がエステル化又はアミド化反応に参加するわけではない。
一官能価アルコールをエステル交換反応に使用する場合、X=O及びn=1の式(I)又は(II)の化合物が得られる。
多官能価のアルコールが使用される場合、上述のように、全てのアルコール基が反応してエステル基を形成するわけではない。反応条件、例えば出発材料の割合に応じて、「均質化合物」、すなわち全ての又は確定された数の多官能基が反応する化合物、並びに「混合化合物」、すなわち異なる数の多官能基が反応する化合物の混合物、又は「混合化合物」のブレンドが得られる。したがって、エステル化は、「均質化合物」のみ又は「混合化合物」のみ、並びに「均質化合物」と「混合化合物」の混合物の形成をもたらしうることが、当業者には明白である。全ての生成物、「均質化合物」、「混合化合物」、並びに両方の混合物が、本発明の主題である。
化合物の混合物を、例えば蒸留、クロマトグラフィー、結晶化等の当業者に良く知られている通常の方法により分離できることが、明白である。しかし、光潜在性塩基化合物等の混合物を使用することもできる。
多官能価アミンが反応に用いられる場合、アミノ分解において同様の考慮がなされ、すなわち「均質化合物」、「混合化合物」、並びに両方の混合物を、反応条件に応じて得ることができる。
更に同様の考慮が、式(III)の化合物とポリイソシアネートとの反応生成物についてなされ、すなわち「均質化合物」、「混合化合物」、並びに両方の混合物を、反応条件に応じて得ることができる。
エステル交換反応は、当業者に既知の条件下で実施することができる。これらには、例えば、導入されるアルコールの存在下でエステル化合物を加熱することが含まれ、一方、生成された低分子量のメタノール又はエタノールは、反応混合物から留去される。低分子量アルコールの蒸留は、例えば、真空を反応容器に適用することによって促進することができる。多くの場合において、エステル交換反応を促進する及び低い温度の使用を可能にする触媒の使用は有利である。有用な触媒は、例えば、ルイス若しくはブレンステッド酸、ルイス若しくはブレンステッド塩基、求核剤、又は金属塩である(例えば、A.G.Grasa et al.,Synthesis(2004),(7),971;J.Otera et al.,Ace.Chem.Res.(2004),37,288;H.E.Hoydonckx et al.Topic in Catalysis(2004),27,O.A.Mascaretti et al.Aldrichimica Acta(1997),30,55;R.Sridharan et.al.J.Scient.&Indust.Research(1974),33,178を参照)。適切な酵素もエステル交換反応を促進するために頻繁に使用される(例えば、E.Santaniello et al.Current Org.Chem(2006),10,1059;S.Negishi,Handbook of Industrial Biocatalysis,CRC Press,(2005),12/1−12/14;H.J.Altenbach,Nachrichten aus Chemie,Technik,und Laboratorium(1988),36(10),1114を参照)。
XがN(R10)である化合物を製造するために、換言すると、アミド基を導入するために、適切なアミド基を有する対応する化合物(VII)を出発材料として使用することができる。多くの場合において、Xが酸素であり、Aがメチル又はエチルである化合物(VII)を用いる上記の反応を実施し、続いて当業者に既知の従来のアミノ分解反応を実施することが有利でありうる。
アミノ分解反応は、当業者に既知の条件下で実施することができる。これらには、例えば、導入されるアミンの存在下でエステル化合物を加熱することが含まれ、一方、生成された低分子量のメタノール又はエタノールは、反応混合物から留去される。低分子量アルコールの蒸留は、例えば、真空を反応容器に適用することによって促進することができる。多くの場合において、エステル交換反応を促進する及び低い温度の使用を可能にする触媒の使用は有利である。有用な触媒は、例えばシアニド又は安定したカルベンである(T.Hoegberg et al.J.Org.Chem.(1987),52,2033;M.Movassaghi et al.,Org.Lett.(2005),7,2453)。酵素を使用して、アミノ分解反応を促進することもできる(例えば、V.Gotor−Fernandez,Current Organic Chemistry(2006),10(10),1125−1143を参照)。
他の有用な触媒は、(IV)族の金属アルコキシド−活性化剤錯体である(C.Han et al.,J.Am.Chem.Soc.2005,127,10039)。
例えば、エステルを、アルキルアミン又はアルケニルアミン等の一官能価アミン又は例えばBASF AGから提供されるLUPASOL(登録商標)FG等のポリエチレン−イミンのような多官能価アミンと反応させることができる。
エステル交換反応の出発材料の例は、下記に示されている。
Aが追加の官能基を有する置換基を意味する場合、後者を、前記官能基との反応に適している試薬と反応させる当業者に既知の方法によって、更に変換することができる。
例えば下記:
Figure 2010523515
である。
式(II)の化合物は、例えば、式(VI):
Figure 2010523515
[式中、
3、R4、R5、R6、R′、R″、p、q、r及びsは、好ましい意味を含み、上記で定義されたとおりである]
で示される化合物を、式(IX):
Figure 2010523515
[式中、
1、R2、Ar及びXは、好ましい定義を含み、上記で定義されたとおりであり、
halは、Cl、Br、I、OCOR20又はOSO220である]
で示される化合物と反応させ、
第2手順において、式(X):
78CH−P(フェニル)3 (X)[式中、
7及びR8は、好ましい意味を含み、上記で定義されたとおりであり、そしてZは、F、Cl、Br、I又はテトラフルオロホウ酸塩である]
で示されるホスホニウム塩を使用して、得られた反応生成物とのウィッティッヒ反応を実施することによって、製造される。
適切なウィッティッヒ試薬(ホスホニウム塩)は、市販されており、例えばLancaster Chemical Catalogue,Appendix 1,pages A2−A6に記述されている。
例として、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド、メチルトリフェニルホスホニウムヨージド、エチルトリフェニルホスホニウムクロリド、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、エチルトリフェニルホスホニウムヨージド、n−プロピルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−ブチルトリフェニルホスホニウムクロリド、n−ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、イソブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−アミルトリフェニルホスホニウムブロミド、イソアミルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−ヘキシルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−ヘプチルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−オクチルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−ノニルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−デシルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−ウンデシルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−ドデシルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−テトラデシルトリフェニルホスホニウムブロミド、n−ヘキサデシルトリフェニルホスホニウムブロミド、トリメチルシリルメチルトリフェニルホスホニウムヨージド、2−ジメチルアミノエチルトリフェニルホスホニウムブロミド、2−クロロエチルトリフェニルホスホニウムブロミド、2−ヒドロキシエチルトリフェニルホスホニウムブロミド、3−ブロモプロピルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−ブロモブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、2−(1,3−ジオキサン−2−イル)エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、シクロプロピルメチルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−カルボキシブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−カルボエトキシブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−ペンテニルトリフェニルホスホニウムブロミド、5−ヘキセニルトリフェニルホスホニウムブロミド、3−フェニルプロピルトリフェニルホスホニウムブロミド、エチレンビス(トリフェニルホスホニウムブロミド)、トリメチレンビス(トリフェニルホスホニウムブロミド)、テトラメチレンビス(トリフェニルホスホニウムブロミド)、ペンタメチレンビス(トリフェニルホスホニウムブロミド)、イソプロピルトリフェニルホスホニウムヨージド、2−ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、2−アミルトリフェニルホスホニウムブロミド、シクロプロピルトリフェニルホスホニウムブロミド、シクロペンチルトリフェニルホスホニウムブロミド、シクロヘキシルトリフェニルホスホニウムブロミド、シクロヘプチルトリフェニルホスホニウムブロミド、アリルトリフェニルホスホニウムクロリド、アリルトリフェニルホスホニウムブロミド、2−メチルアリルトリフェニルホスホニウムクロリド、3−メチルアリルトリフェニルホスホニウムクロリド、3,3−ジメチルアリルトリフェニルホスホニウムブロミド、2−ブテン−1,4−ビス(トリフェニルホスホニウムクロリド)、シンナミルトリフェニルホスホニウムクロリド、シンナミルトリフェニルホスホニウムブロミド、プロパルギルトリフェニルホスホニウムブロミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、 ベンジルトリフェニルホスホニウムヨージド、2−メチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、2−メチルベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、3−メチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、4−メチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、4−メチルベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、2−ヒドロキシベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−メトキシベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、4−エトキシベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−ブトキシベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−フルオロベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、4−クロロベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、4−ブロモベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−シアノベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、4−カルボメトキシベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、2−ニトロベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド水和物、4−ニトロベンジルトリフェニルホスホニウムブロミド、o−キシリレンビス(トリフェニルホスホニウムブロミド)、p−キシリレンビス(トリフェニルホスホニウムクロリド)、p−キシリレンビス(トリフェニルホスホニウムブロミド)、1−ナフチルメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、ベンズヒドリルトリフェニルホスホニウムクロリド、ヒドロキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、クロロメチルトリフェニルホスホニウムヨージド、メチルチオメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、フェニルチオメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、1,3−ジチアン−2−イルトリフェニルホスホニウムクロリド、ホルミルメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、アセトニルトリフェニルホスホニウムクロリド、アセトニルトリフェニルホスホニウムブロミド、フェナシルトリフェニルホスホニウムブロミド、α−メチルフェナシルトリフェニルホスホニウムブロミド、カルボメトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、カルボメトキシメチルトリフェニルホスホニウムブロミド、カルボエトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、カルボエトキシメチルトリフェニルホスホニウムブロミド、1−カルボエトキシエチルトリフェニルホスホニウムブロミド、4−(トリフェニルホスホニオ)クロトネート臭化メチル、1−カルボエトキシシクロプロピルトリフェニルホスホニウムテトラフルオロボレート、シアノメチルトリフェニルホスホニウムクロリド、2−(トリフェニルホスホラニリデン)無水コハク酸、9−フルオレニルトリフェニルホスホニウムブロミド、ビニルトリフェニルホスホニウムブロミド又は1,2−ビニレンビス(トリフェニルホスホニウムブロミド)が挙げられる。
式(VI)、(VIa)の化合物と式(IX)の化合物との反応は、それ自体既知の方法で実施される。有利には、溶媒又は溶媒の混合物が使用され、例として、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルカノール、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル、及びそのような溶媒の混合物が挙げられる。
反応は、賢明には、−10℃〜100℃の温度範囲内で実施することができる。好ましくは、10℃〜50℃の反応温度である。
ウィッティッヒ反応は、例えば、従来の方法により実施される。溶媒又は溶媒の混合物を使用することが有利であり、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルカノール、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル、及びそのような溶媒の混合物である。
反応は、−10℃〜100℃の温度範囲内で実施することができる。範囲は、好ましくは、10℃〜70℃である。
式(II)の化合物は、式(VI):
Figure 2010523515
[式中、
3、R4、R5、R6、R′、R″、p、q、r及びsは、好ましい意味を含み、上記で定義されたとおりである]
で示される化合物を、式(XII):
Figure 2010523515
[式中、
1、R2、R7、R8、Ar及びXは、好ましい定義を含み、上記で定義されたとおりであり、
halは、Cl、Br、I、OCOR20又はOSO220である]
で示される化合物と、当業者に既知の反応条件下、例えば(VI)又は(VIa)と(VII)との反応について上記に記載されたような反応条件下で反応させることによって、製造することもできる。
nが1を超える化合物は、式(IX)の一価化合物の代わりに適当なn価出発材料を用いて、同様の方法によって製造される。
すなわち、適当なnハロゲン化物が用いられる。別の方法では、最初にモノエステルを製造し、エステル交換又はアミノ分解によって、適切な≧n−官能価ポリアルコール又は≧n−官能価ポリアミンを用いてn価基を導入することである。
式(III)の化合物を製造する方法は、式(I)の化合物について上記に記載された方法と同様である。しかし、式(VII)の出発材料は、下記:
Figure 2010523515
に代えられており、
ここで、
1、R2、Ar及びA1は、好ましい定義を含み、上記で定義されたとおりであり、
halは、ハロゲン原子、OCOR20又はOSO220であり、そして
20は、1つ以上のC1〜C4アルキル又はフッ素で置換されている、C1〜C8アルキル、ペルフルオロアルキル又はアリールである。halは、好ましくは臭素又は塩素である。
式IIIの化合物を製造する別の方法は、式Iの化合物のエステル成分を、例えば水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム、エタノール中のナトリウム(ブーヴォー・ブラン処理)、銅クロマイト等の適切な触媒での水素化によって、又は当業者に既知の他の方法によって、対応するアルコールに還元し、次に、それ自体既知の反応、例えば置換又は付加反応を介してA1を導入することである:
Figure 2010523515
上述の反応は、従来の化学に基づいており、当業者は、それについて良く知っており、取りうる適当な条件について知っている。
これらには、例えば、ウィリアムソンエーテル合成の条件下でのエーテル形成、適切なカルボン酸又はカルボン酸塩化物によるエステル化、適切なエステルによるエステル交換、カプロラクトン等の環状エステルの開環、イソシアネート又はエポキシドへの付加が含まれるが、これらに限定されない。nが1を超える化合物は、hal−A1等の一価化合物の代わりに適当なn価出発材料を用いて、同様の方法によって製造される。すなわち、例えば適当なn−ハロゲン化物、n−カルボン酸、n−カルボン酸塩化物、n−カルボン酸エステル、n−イソシアネート又はn−エポキシドが、アルコール基の上記に記述した反応に用いられる。
加えて、式(III)の化合物は、式(V):
Figure 2010523515
[式中、
3、R4、R5、R6、R′、R″、p、q、r及びsは、好ましい定義を含み、上記で定義されたとおりである]
で示される化合物を、式(VII):
Figure 2010523515
[式中、
1、R2、Ar及びXは、好ましい定義を含み、上記で定義されたとおりであり、
halは、ハロゲン原子、OCOR20又はOSO220であり、そして
20は、1つ以上のC1〜C4アルキル又はフッ素で置換されている、C1〜C8アルキル、ペルフルオロアルキル又はアリールである]で示される化合物と反応させ、
反応生成物を続いて還元に付すことによって、製造することもできる。
halは、好ましくは臭素又は塩素である。
n=1及びA1=Hである式(III)の化合物が、この反応シーケンスにより得られる。これらの化合物を、当業者に既知であり、前記で考察された方法により更に、n=1〜10及びA1が、好ましい定義を含む、上記で定義されたとおりであるが、Hと異なる、式(III)の化合物に変換することができる。
上記反応は、第四級アンモニウム塩を生成する。この塩を単離することができるか、そうでなければ適当な還元剤で処理して、本発明の式(I)の化合物に直接変換することができる。本発明の式(I)の化合物への還元は、当業者に既知の多様な方法によって実施することができる。適切な還元剤は、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム又は水素化ジブチルアルミニウム等の金属水素化物である。同様に、適当な活性化剤と組み合わせたポリメチルヒドロシロキサン等の還元剤も適切である(Lawrence et al.,J.Chem.Soc.Perkin Trans.I.(1999),3381)。加えて、触媒反応を、当該技術分野において慣用であり、当業者に既知の金属触媒を使用して、水素により実施することができる。
還元条件は、反応生成物における反応性の大きいインモニウム基と反応性の小さい基−CO−X−Aの両方が、平行の又は続く反応工程のいずれかにおいて、1ポット反応で還元されるように選択される必要がある。これは、例えば少なくとも3モル、好ましくはそれ以上のモル当量の水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の金属水素化物を使用して、当業者に既知の条件下で達成することができる。A1=Hである一価(n=1)化合物(III)が、これらの条件下で得られる。これらの化合物を、前記反応により、一価(n=1)又は多価(n>1)に更に変換することができる。
溶媒又は溶媒の混合物を使用することが適当であり、例として、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテルが挙げられる。特定の条件下では、使用される塩基に応じて、メタノール、エタノールのようなアルカノールも適している。
反応は、例えば、−30℃〜+100℃の温度範囲内で実施することができる。好ましくは、−10℃〜+30℃の範囲である。
1がアルカノイル、アルケノイル又はアロイルである式(III)の化合物を製造するために、換言すると、異なるエステル基を導入するために、n=1及びA1=Hである対応する化合物(III)を、当業者に既知の従来のエステル交換反応に付すことができる。
エステル交換反応は、n価基を導入するために、適切な≧n−官能価ポリエステルを用いて実施される。適切には、「≧n」=「nを超える」官能価ポリアルコール又はポリアミンが使用され、一般に、全てのアルコール又はアミン基がエステル化又はアミド化反応に参加するわけではない。
同様に、ここでも式(I)及び(II)の化合物について上記で考察したように、反応条件、例えばn=1及びA1=Hである出発化合物(III)及び多官能価エステルの割合に応じて、「均質化合物」、すなわち全ての又は確定された数の多官能基が反応する化合物、並びに「混合化合物」、すなわち異なる数の多官能基が反応する化合物の混合物、又は「混合化合物」のブレンドが得られる。
当業者に既知の条件下でエステルの代わりにラクトンが使用される場合、n=1である化合物(III)が得られ、ラクトン部分は、基A1に1回又は数回組み込まれる。
同様の考慮が対応するアミノ分解反応についてなされる。例えば、A1がアルキルアミノカルボニル又はアリールアミノカルボニルである式(III)の化合物を製造するために、n=1及びA1=Hである対応する化合物(III)を、当業者に既知の条件下でイソシアネートとの従来の反応に付すことができる。例えば、一官能価イソシアネートがウレタン形成反応に使用されるとき、n=1である式(III)の化合物が得られ、一方、多官能価アミン又は「≧n」=「nを超える」−官能価イソシアネートが反応に用いられる場合、「均質化合物」、「混合化合物」、並びに両方の混合物を、反応条件に応じて得ることができる。
上述のように、本発明の式(I)、(II)及び(III)の光潜在性塩基の製造において、異性体混合物が形成されうる。これらの混合物を、例えば当業者に既知の慣用の方法により分離することができる。しかし、光潜在性塩基として形成された異性体混合物をそれぞれ直接使用することも可能である。
式(I)、(II)及び(III)の化合物を製造する上記反応に用いられる式(VII)、(IX)及び(XI)のn価出発材料を製造するために、例えば、n価結合基を有する下記に提示されている化合物が、本出願の文脈において適している。
例えば、ジオールを式VIIの化合物と反応させて、対応する二価出発材料を得て、次にそれを式Iの化合物と反応させる:
Figure 2010523515
式(VII)、(IX)及び(XI)のn価化合物を製造する下記に提示されている出発材料は、非限定範囲の例として理解される必要がある。
(1)適切なジオール及びオリゴアルコールの例
Figure 2010523515
(2)適切なジチオール及びポリチオールの例
Figure 2010523515
(3)適切なジカルボン酸及びポリカルボン酸の例
Figure 2010523515
(4)適切な酸塩化物の例
Figure 2010523515
(5)適切なジ−及びポリカルボン酸エステルの例
Figure 2010523515
(6)適切なジアミン及びポリアミン(ポリアルキレンイミン)の例
Figure 2010523515
式IIIの化合物の反応において、エポキシド、イソシアネート又はラクトンを使用することも可能である。この種類の適切な化合物の例として、下記:
Figure 2010523515
が挙げられる。
ラクトンを用いる反応は、例えば、長鎖置換基を有する対応する光潜在性塩基の形成をもたらす:
Figure 2010523515
XがOであり、nが1であり、Aが水素又はC1〜C18アルキルであり、そしてA1が水素又はC2〜C18アルカノイルである本発明の式(I)、(II)及び(III)の化合物、すなわち下記式:
Figure 2010523515
[式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びArは上記で定義されたとおりである]で示される化合物は、式(I)、(II)又は(III)の前記化合物を多官能価アルコール、アミン、チオール、エポキシド、カルボン酸、カルボン酸塩化物又はカルボン酸エステルと反応させて多官能価光潜在性アミンを製造する出発材料として、適している。
そのような多官能価アルコール、アミン、チオール、エポキシド、カルボン酸、カルボン酸塩化物又はカルボン酸エステルの例は、当該技術分野において慣用であり、当業者に既知である。特定の例は上記に示されている。
したがって、本発明の主題は、また、
Xが、Oであり;
nが、1であり;
Aが、水素又はC1〜C18アルキルであり;そして
1が、水素又はC2〜C18アルカノイルである
請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物を、
式(I)、(II)又は(III)の前記化合物を多官能価アルコール、アミン、チオール、エポキシド、イソシアネート、カルボン酸又はカルボン酸塩化物と反応させて多官能価光潜在性アミンを製造する出発材料として、使用することである。
XがOであり、nが1であり、Aが水素又はC1〜C18アルキルであり、そしてA1が水素又はC2〜C18アルカノイルである本発明の式(I)、(II)及び(III)の光潜在性塩基化合物、すなわち上記式(I′)、(I″)、(II′)、(II″)及び(III′)の化合物は、更に、例えば、光潜在性アミン基で末端がキャップされている、ポリエステルオリゴマー、ポリウレタンオリゴマー又はポリ(カプロラクトン)オリゴマーのようなオリゴマーの製造に有用な成分である。
この文脈におけるオリゴマーは、非モノマーの低分子量ポリマー化合物であることが理解されるべきである。一般にオリゴマーの物理的特性は、1つの構成単位が付与又は削除されるとかなりの程度変化するが、このことはポリマーには当てはまらない。この文脈における二量体、三量体、四量体などの化合物は、オリゴマー、例えば1000g/molを超えて約10000g/molまでの分子量の化合物であると考えられる。
したがって、本発明の主題は、また、
Xが、Oであり;
nが、1であり;
Aが、水素又はC1〜C18アルキルであり;そして
1が、水素又はC2〜C18アルカノイルである
請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物を、
光潜在性アミン基で末端がキャップされているオリゴマーの製造のための成分として使用することである。
本発明によると、式(I)、(II)又は(III)の化合物を光潜在性塩基として使用することができる。
すなわち、式(I)、(II)又は(III)の化合物は、電磁放射線に暴露されると塩基を放出する。したがって、本発明の主題は、また、式(I)、(II)又は(III)の化合物を照射することにより塩基化合物を製造する方法、特に、式(V):
Figure 2010523515
[式中、
3、R4、R5及びR6は、請求項1で定義されたとおりである]
で示される化合物を製造する方法であって、
請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の化合物を、適宜、増感剤(C)の存在下、200nm〜650nmの波長を有する光線で照射することを含む方法である。
本発明は、更に、
(A)少なくとも1つの、請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物と、
(B)塩基触媒付加、縮合若しくは置換反応が可能である、又は塩基触媒反応により異なる形態に変換される、少なくとも1つの有機化合物と
を含む組成物を提供する。
塩基触媒重合、付加、縮合又は置換反応は、低分子量化合物(モノマー)、オリゴマー、ポリマー化合物、又はそのような化合物の混合物により実施することができる。本発明の光開始剤を使用して、モノマーとオリゴマー/ポリマーの両方により実施することができる反応の例として、クネーベナーゲル反応及びマイケル付加反応、又はポリオールとポリ(イソシアネート)の付加反応が挙げられる。適宜、イソシアネート又はアクリロイルオキシシラン若しくはアシルオキシシランの塩基触媒架橋の場合、大気湿度のような更なる成分の存在が反応にとって有益又は必要である。このことは、例えばEP1092757に開示されている。更に、架橋反応を受ける化合物のうちの幾つかは、ブロックされた形態で存在することができる。典型的な例として、例えば欧州特許公報第06121469.8号に開示されているブロック化イソシアネートが挙げられ、この開示内容は参考として本明細書で援用される。更なる例が下記に示されている。
特に重要なものは、成分(B)が、塩基触媒反応で重合又は架橋する有機物質である組成物である。
有機物質は、一官能価又は多官能価のモノマー、オリゴマー又はポリマーの形態であることができる。
特に好ましいオリゴマー/ポリマー系は、被覆及び接着剤産業において慣用的であり、当業者に既知であるような結合剤である。
この種類の塩基触媒結合剤のとして、下記のものが挙げられる:
a)アルコキシシラン及び/又はアルコキシシロキサン側基を有するアクリルコポリマー(例えば、US4772672、US4444974又はEP1092757に記載のポリマー);
b)ヒドロキシル含有ポリアクリレート、ポリエステル及び/又はポリエーテルと、脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとを含む2成分系;
c)官能ポリアクリレートとポリエポキシドとを含む2成分系(例えばEP898202に記載のように、ポリアクリレートはチオール、アミノ、カルボキシル及び/又は無水基を含有する);
d)フッ素改質又はシリコーン改質ヒドロキシル含有ポリアクリレート、ポリエステル及び/又はポリエーテルと、脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとを含む2成分系;
e)(ポリ)ケチミンと脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとを含む2成分系;
f)(ポリ)ケチミンと、不飽和アクリル樹脂又はアセトアセテート樹脂又はα−アクリルアミドメチルグリコール酸メチルとを含む2成分系;
h)(ポリ)オキサゾリジンと、無水基含有ポリアクリレート又は不飽和アクリル樹脂又はポリイソシアネートとを含む2成分系;
i)エポキシ官能ポリアクリレートと、カルボキシル含有又はアミノ含有ポリアクリレートとを含む2成分系;
l)アリルグリシジルエーテルに基づくポリマー;
m)(ポリ)アルコール及び/又は(ポリ)チオールと、(ポリ)イソシアネートとを含む2成分系;
n)α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物と、活性CH2基を含有するポリマーとを含む2成分系(活性CH2基は、主鎖若しくは側鎖のいずれか又は両方に存在し、それは、例えば、(ポリ)マロネート基についてEP161697に記載されている)。活性CH2基を含有する他の化合物は、(ポリ)アセトアセテート及び(ポリ)シアノアセテートである。
o)活性CH2基を含有するポリマー(活性CH2基は、主鎖若しくは側鎖のいずれか又は両方に存在する)又は(ポリ)アセトアセテート及び(ポリ)シアノアセテートのような活性CH2基を含有するポリマーと、テレフタルアルデヒドのようなポリアルデヒド架橋剤とを含む2成分系。そのような系は、例えば、Urankar et al.,Polym.Prepr.(1994),35,933に記載されている。
p)ブロック化イソシアネートと水素供与体とを含む2成分系又は1成分系。そのような系は、欧州特許公報第06121469.8号に記載されており、この開示内容は参考として本明細書で援用される。
q)チオールマイケル系。例は、F.CellesiらによりBiomaterials (2004),25(21),5115に記載されている。
この塩基触媒結合剤群内では、以下のものが特に好ましい:
a)アルコキシシラン及び/又はアルコキシシロキサン側基を有するアクリルコポリマー(例えば、US4772672、US4444974又はEP1092757に記載のポリマーであり、その適用はWO2005/100482A1に記載されている);
b)ヒドロキシル含有ポリアクリレート、ポリエステル及び/又はポリエーテルと、脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとを含む2成分系;
c)官能ポリアクリレートとポリエポキシドとを含む2成分系(ポリアクリレートはチオール、アミノ、カルボキシル及び/又は無水基を含有する);
i)エポキシ官能ポリアクリレートと、カルボキシル含有又はアミノ含有ポリアクリレートとを含む2成分系;
m)(ポリ)アルコール及び/又は(ポリ)チオールと、(ポリ)イソシアネートとを含む2成分系;
n)α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物と、活性CH2基を含有するポリマーとを含む2成分系(活性CH2基は、主鎖若しくは側鎖又は両方のいずれかに存在する);
p)ブロック化イソシアネートと水素供与体とを含む2成分系又は1成分系。そのような系は、下記及び例えば欧州特許公報第06121469.8号に記載されており、この開示内容は参考として本明細書で援用される。
q)チオールマイケル系。
α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物と(ポリ)マロネートとを含む2成分系及びそれらの製造は、EP161687に記載されている。マロネート基は、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアクリレート、エポキシ樹脂、ポリアミド又はポリビニルポリマーの主鎖又は側鎖のいずれかに結合することができる。α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物は、カルボニル基により活性される任意の二重結合であることができる。例えば、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドである。エステル基において、追加のヒドロキシル基が存在することも可能である。ジエステル及びトリエステルも可能である。
典型的には、例えば、ヘキサンジオールジアクリレート又はトリメチロールプロパントリアクリレートである。アクリル酸の代わりに、例えばクロトン酸又はケイ皮酸のような他の酸及びそれらのエステル又はアミドを使用することも可能である。
系の成分は、塩基触媒作用下、室温で互いに反応して、多数な用途に適している架橋された被覆系を形成する。既に良好な耐候安定性があるため、例えば、外装用途にも適しており、必要であれば、UV吸収剤及び他の光安定剤で更に安定化することができる。
本発明の組成物において更に適切な成分(B)には、エポキシ系が含まれる。エポキシ樹脂成分B)を含む本発明の硬化性混合物を製造するのに適切なエポキシ樹脂は、エポキシ樹脂技術において慣用のエポキシ樹脂である。そのような樹脂の例を下記に挙げる:
それぞれ、少なくとも2つのカルボキシル基を分子中に有する化合物をエピクロロヒドリン又はβ−メチルエピクロロヒドリンと反応させて得られる、ポリグリシジルエステル及びポリ(β−メチルグリシジル)エステル。反応は、塩基の存在下で適当に実施される。
少なくとも2つのカルボキシル基を分子中に有する化合物としては、脂肪族ポリカルボン酸を使用することができる。そのようなポリカルボン酸の例として、シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸又は二量体化若しくは三量体化リノール酸が挙げられる。しかし、テトラヒドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸又は4−メチルヘキサヒドロフタル酸のような脂環式ポリカルボン酸を使用することもできる。フタル酸、イソフタル酸又はテレフタル酸のような芳香族ポリカルボン酸を使用することも可能である。
少なくとも2つの遊離アルコールヒドロキシル基及び/又はフェノールヒドロキシル基を含有する化合物を、エピクロロヒドリン又はβ−メチルエピクロロヒドリンと、アルカリ性条件下又は酸性触媒の存在下でそれぞれ反応させ、続いてアルカリ処理することにより得られる、ポリグリシジルエーテル又はポリ−(β−メチルグリシジル)エーテル。
この種類のグリシジルエーテルは、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール及び高級ポリ(オキシエチレン)グリコール、プロパン−1,2−ジオール又はポリ(オキシプロピレン)グリコール、プロパン−1,3−ジオール、ブタン−1,4−ジオール、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコール、ペンタン−1,5−ジオール、ヘキサン−1,6−ジオール、ヘキサン−2,4,6−トリオール、グリセロール、1,1,1−トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ソルビトール及びポリエピクロロヒドリンのようなアクリルアルコールから誘導される。しかしこれらは、また、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン若しくは2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのような脂環式アルコールから誘導される、又はN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリン若しくはp,p′−ビス(2−ヒドロキシエチルアミン)ジフェニルメタンのような芳香族核を有する。グリシジルエーテルは、また、例えばレゾルシノール若しくはヒドロキノンのような単核フェノールから誘導されうる、又はビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4′−ジヒドロキシビフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンのような多核フェノールに基づいている、また、ホルミアルデヒド、アセトアルデヒド、クロラール又はフルフルアルデヒドのようなアルデヒドを、フェノールのようなフェノール又は4−クロロフェノール、2−メチルフェノール若しくは4−tert−ブチルフェノールのような、塩素原子若しくはC1〜C9アルキル基で核が置換されているフェノールと縮合させることにより、又は上記で特定された種類のビスフェノールと縮合させることにより得られるノボラックから誘導されうる。
エピクロロヒドリンと、少なくとも2個のアミン水素原子を含有するアミンとの反応生成物を、脱塩化水素化することによって得られる、ポリ(N−グリシジル)化合物。これらのアミンは、例えば、アニリン、n−ブチルアミン、ビス(4−アミノフェニル)メタン、m−キシリレンジアミン又はビス(4−メチルアミノフェニル)メタンである。
しかし、ポリ(N−グリシジル)化合物には、トリグリシジルイソシアヌレート、エチレン尿素又は1,3−プロピレン尿素のようなシクロアルキレン尿素のN,N′−ジグリシジル誘導体、及び5,5−ジメチルヒダントインのようなヒダントインのジグリシジル誘導体も含まれる。
例えば、エタン−1,2−ジチオール又はビス(4−メルカプトメチルフェニル)エーテルのようなジチオールから誘導されるジ−S−グリシジル誘導体である、ポリ(S−グリシジル)化合物。
例えば、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、2,3−エポキシシクロペンチルグリシジルエーテル、1,2−ビス(2,3−エポキシシクロペンチルオキシ)エタン及び3,4−エポキシシクロヘキシルメチル3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートである、脂環式エポキシ樹脂。
しかし、1,2−エポキシド基が異なるヘテロ原子及び/又は官能基に結合しているエポキシ樹脂を使用することも可能であり、これらの化合物には、例えば、4−アミノフェノールのN,N,O−トリグリシジル誘導体、サリチル酸のグリシジルエーテル及びグリシジルエステル、N−グリシジル−N′−(2−グリシジルオキシプロピル)−5,5−ジメチルヒダントイン及び2−グリシジルオキシ−1,3−ビス(5,5−ジメチル−1−グリシジルヒダントイン−3−イル)プロパンが含まれる。
成分(B)としては、エポキシ樹脂の混合物を使用することも可能である。したがって本発明によると、また、成分(B)として、エポキシ樹脂又は異なるエポキシ樹脂の混合物を含む組成物である。
本発明の光潜在性塩基は、特にイソシアネート系配合物を硬化するのに適している。本発明の光潜在性塩基化合物によって、前記系において改善した安定性が示され、向上した硬化速度が達成される。イソシアネート配合物は、例えば、イソシアネート又はイソチオシアネートをブロックされた形態で含みうる。
したがって、成分(B)として(ポリ)アルコール及び/又はポリチオール、並びにイソシアネート又はイソチオシアネートを含む組成物が特に興味深く、イソシアネート又はイソチオシアネートは、場合により(ポリ)ブロック化イソシアネート又は(ポリ)ブロック化イソチオシアネートである。
ブロック化イソシアネートは、当該技術分野において既知であり、例えば、D.A.Wicks,Z.W.WickによりProgress in Organic Coatings,41(2001),1−83、並びにC.Guertler,M.Homann,M.Mager,M.Schelhaas,T.StinglによりFarbe+Lack 2004,110(12),34に総説として記載されており、両方の文献は参考として本明細書で援用される。
用語「イソシアネート」及び「イソチオシアネート」は、モノ−及びポリイソシアネート、並びにモノ−及びポリイソチオシアネートを参照するために本明細書で援用される。
一般に、この用語は、Yが酸素又は硫黄である、1つ以上の−N=C=Y基を含有するあらゆる化合物を網羅する。本発明に適切なポリイソシアネートの例には、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、1,2−プロピレン、1,2−ブチレン、2,3−ブチレン、1,3−ブチレン、エチリジン及びブチリデンジイソシアネートのような脂肪族化合物が挙げられる。加えて、1,3−シクロペンタン、1,4−シクロヘキサン及び1,2−シクロヘキサンジイソシアネートのような、シクロアルキレンジイソシアネートを用いることができる。また、m−フェニレン、p−フェニレン、4,4′−ジフェニル、1,5−ナフタレン及び1,4−ナフタレンジイソシアネートのような芳香族ジイソシアネート、並びに4,4′−ジフェニレンメタン、2,4−若しくは2,6−トルエン又はそれらの混合物、4,4′−トルイジン及び1,4−キシリレンジイソシアネートのような脂肪族芳香族ジイソシアネートが適している。ジアニシジンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルエーテルジイソシアネート及びクロロジフェニレンジイソシアネート、1,8−ジイソシアナト− −メタン、1−メチル−2,4−ジイソシアナトシクロヘキサン、クロロフェニレンジイソシアネート、ジフェニル−メタン−4,4′−ジイソシアネート及びナフタレン−1,5−ジイソシアネートのような、置換アリール又は芳香族ジイソシアネートを用いることもできる。加えて、トリフェニルメタン−4,4′,4″−トリイソシアネート、1,3,5−トリイソシアネートベンゼン及び2,4,6−トリイソシアネートトルエン等のトリイソシアネートを用いることもできる。更に、例えば4,4′−ジフェノール−ジメチルメタン−2,2′,5,5′−テトライソシアネートのようなテトライソシアネート、並びにキシレン−ジイソシアネート、イソプロピルベンゼン−ジイソシアネートのような他のイソシアネート、及びトルエンジイソシアネート二量体及び三量体のような重合ポリイソシアネート;ジアニシジンジイソシアネート(CAS登録番号91−93−0);トルイジンジイソシアネート(CAS登録番号91−97−4);ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット(CAS登録番号4035−89−6);イソホロンジイソシアネート(CAS登録番号4098−71−9);ポリマージフェノールエタンジイソシアネート(CAS登録番号9016−87−9)又は4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートを利用することができる。多様なイソシアネートの混合物、特に2、3又は4つの成分の混合物を使用することもできる。
有機ポリイソシアネートは、ポリオールがイソシアネート基を含有するように、ポリオール及びポリイソシアネートから誘導されるプレポリマーであることもでき、ここでポリオールには、ポリエーテルポリオール若しくはポリエステルポリオール、又はエチレングリコール及びプロピレングリコールが含まれるグリコールのような単純なポリオール、並びにグリセロール、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、ペンタエリトリトールなどが含まれる。
上記の適切なイソシアネート成分の要約は、本発明を制限するものとして理解されるべきではなく、例示のリストとしてのみ理解されるべきである。
本明細書に示されるように、本発明の成分(B)のイソシアネートは、ブロック化イソシアネートを含み、すなわち、反応性イソシアネート基が任意の適切なブロッキング剤と反応する。
また成分(B)の例として、ビス(環状尿素)が挙げられる。これらはブロック化脂肪族ジイソシアネートであり、反応性イソシアネート基の放出の際に副産物が形成されないため、幾つかの実施態様において好ましい。これらの化合物は、それ自体ブロック化イソシアネートと呼ぶことができる。これらのビス環状尿素の例は、Ulrich,ACS Svmm.Ser.172 519(1981,Sherwood,J.Coat.Technol.54(689),61(1982)及びKirk−Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,Third Edition,Volume 23,p.584に記載されており、その開示内容全体が参考として本明細書で援用される。
イソシアネートに適切なブロッキング剤は、当該技術分野において既知のものであり、例えばアルコール、フェノール、アミン、イミド、アミド、グアニジン、アミジン、トリアゾール、ピラゾール、活性メチレン化合物、ケトキシム、オキシム、マロンエステル、アルキルアセトアセテート、ホルミエート、ラクタム、イミダゾール、トリアゾール、ピラゾール、CH酸性環状ケトン及びメルカプタンである。
例として、例えばメチル、エチル、クロロエチル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル及びラウリルアルコールを含む低級脂肪族アルコール、3,3,5−トリメチルヘキサノールなどのような、脂肪族、脂環式、芳香族若しくはアルキルモノアルコール又はフェノール化合物が挙げられる。芳香族アルキルアルコールには、例えば、フェニルカルビノール及びエチルフェニルカルビノールが含まれる。エチルグリコールモノエチルエーテル、エチルグリコールモノブチルエーテル及びそれらの同等物のような、グリコールエーテルを用いることができる。用いることができるフェノール化合物の例として、フェノール、置換フェノール、例えばクレゾール、キシレノール、ニトロフェノール、クロロフェノール、エチルフェノール、t−ブチルフェノール及び2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエンが含まれる。
用いることができる他のブロッキング剤には、ジエチルエタノールアミンのような第三級ヒドロキシルアミン、カプロラクタムのようなラクタム、並びにメチルエチルケトンオキシム、アセトンオキシム及びシクロヘキサノンオキシムのようなオキシムが挙げられる。
特定の例として、ブタノンオキシム、ジイソプイルアミン、1,2,4−トリアゾール、ジメチル−1,2,4−トリアゾール、イミダゾール、マロン酸及び酢酸のエチレート、アセトンオキシム、3,5−ジメチルピラゾール、イプシロン−カプロラクタム、N−メチル−、N−エチル、N−(イソ)プロピル、N−n−ブチル、N−イソ−ブチル−、N−tert−ブチルベンジルアミン又は1,1−ジメチルベンジルアミン、N−アルキル−N−1,1−ジメチルメチルフェニルアミン、マロン酸エステルのような、ベンジルアミンと、活性二重結合を有する化合物との付加物、N,N−ジメチルアミノプロピルベンジルアミン、並びに第三級アミン基、適宜、置換ベンジルアミン及び/又はジベンジルアミンを含む他の化合物が挙げられる。
オキシム及びフェノールの使用は、これらのオキシム又はフェノールでブロックされた幾つかの特定のポリイソシアネートから比較的低い温度でキャップが取り除かれるため、幾つかの場合において望ましい。
適切なCH酸性ケトンの例がWO04/058849に示されており、参考として本明細書で援用される。シクロペンタノン−2−カルボキシメチルエステル、シクロペンタノン−2−カルボキシエチルエステル、シクロペンタノン−2−カルボキシニトリル、シクロヘキサノン−2−カルボキシメチルエステル、シクロヘキサノン−2−カルボキシエチルエステル、シクロペンタノン−2−カルボニルメタン、特にシクロペンタノン−2−カルボキシメチルエステル、シクロペンタノン−2−カルボキシエチルエステル、シクロヘキサノン−2−カルボキシメチルエステル及びシクロヘキサノン−2−カルボキシエチルエステル、とりわけシクロペンタノン−2−カルボキシエチルエステル及びシクロヘキサノン−2−カルボキシエチルエステルが好ましい。
本発明の式(I)、(II)及び(III)の化合物は、また、例えばWO01/92362に記載のように、配合物において光潜在性塩基として適しており、その開示内容は参考として本明細書で援用される。
組成物は、光開始剤成分(A)を、成分(B)に基づいて、例えば0.01〜20質量%、好ましくは0.01〜10質量%の量で含有する。
成分(B)は、塩基への暴露によって異なる形態に変換される化合物を含むこともできる。これらは、例えば、塩基触媒作用下、保護基の排除によって、適切な溶媒においてその溶解性を変える化合物である。例として、例えばLeung in Polym.Mat.Sci.Eng.1993,68,30に記載されているような、塩基触媒作用下で反応する、化学的に増幅されたフォトレジスト配合物が挙げられる。
塩基触媒作用化で異なる形態に変換される適切な成分(B)の更なる例は、後にフォトレジスト用途の記載に関連して下記に示されている。
光開始剤成分(A)に加えて、光重合性混合物は、多様な添加剤を含みうる。例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、パラ−ヒドロキシテンポ、p−メトキシフェノール、β−ナフトールのような早期重合の阻止を意図する熱抑制剤、又は2,6−ジ(tert−ブチル)−p−クレゾールのような立体障害フェノールである。暗所保存安定性を増加させるため、例えば、ナフテン酸銅、ステアリン酸銅若しくはオクチル酸銅のような銅化合物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト若しくはトリベンジルホスファイトのようなリン化合物、テトラメチルアンモニウムクロリド若しくはトリメチルベンジルアンモニウムクロリドのような第四級アンモニウム化合物、又はN−ジエチルヒドロキシルアミン若しくはN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアンモニウム若しくはアルミニウム塩、例えばクペロンのようなヒドロキシルアミン誘導体を使用することができる。重合の際に大気中の酸素を排除するため、重合を開始すると、ポリマーに対する可溶性を欠いているため表面に移動し、透明表面層を形成して、空気の進入を防ぐパラフィン又は同様のロウ様物質を添加することが可能である。酸素不透過層を適用することも可能である。少量を添加することができる光安定剤は、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、オキサルアミド又はヒドロキシフェニル−s−トリアジン型のようなUV吸収剤である。個別の化合物又はそれらの化合物の混合物は、立体障害アミン(HALS)を用いて又は用いずに使用することができる。
そのようなUV吸収剤及び光安定剤の例は、WO04/074328、第12頁9行目から第14頁23行目までに開示されており、その開示内容は参考として本明細書で援用される。
更なる添加剤の例として、下記が挙げられる:充填剤及び補強剤、例えば、炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラスビーズ、石綿、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉又は他の天然生成物の粉末若しくは繊維、合成繊維。
他の添加剤、例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、均展助剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤、発泡剤。
上述のように、更なる添加剤の例は顔料である。前記顔料は、有機又は無機でありえ、例えば、1−アミノアントラキノン、アンタントロン、アントラピリミジン、アゾ、アゾメチン、キナクリドン、キナクリドンキノン、キノフタロン、ジオキサジン、ジケトピロロピロール、フラバントロン、インダントロン、イソインドリン、イソインドリノン、イソビオラントロン、ペリノン、ペリレン、フタロシアニン、ピラントロン又はチオインジゴシリーズであり、適宜、金属錯体又はレーキの形態が含まれる。アゾは、例えば、カップリング、縮合又はレーキ形成により得られるあらゆる既知の下位分類のモノ−又はジス−アゾ顔料でありうる。
例として、有機顔料の例には、カラーインデックスピグメントイエロー3、12、13、14、17、24、34、42、53、62、74、83、93、95、108、109、110、111、119、123、128、129、139、147、150、164、168、173、174、184、188、191、191:1、193、199、ピグメントオレンジ5、13、16、34、40、43、48、49、51、61、64、71、73、ピグメントレッド2、4、5、23、48:1、48:2、48:3、48:4、52:2、53:1、57、57:1、88、89、101、104、112、122、144、146、149、166、168、177、178、179、181、184、190、192、194、202、204、206、207、209、214、216、220、221、222、224、226、254、255、262、264、270、272、ピグメントブラウン23、24、33、42、43、44、ピグメントバイオレット19、23、29、31、37、42、ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、28、29、60、64、66、ピグメントグリーン7、17、36、37、50、ピグメントホワイト6、ピグメントブラック7、12、27、30、31、32、バットレッド74、3,6−ジ(3′−シアノ−フェニル)−2,5−ジヒドロ−ピロロ[3,4−c]ピロール−1,4−ジオン又は3−フェニル−6−(4′−tert−ブチル−フェニル)−2,5−ジヒドロ−ピロロ[3,4−c]ピロール−1,4−ジオンが挙げられる。
アゾベンゾイミダゾロン、ジアゾ及び多環式顔料、またイソインドリノン及びジケトピロロピロールが好ましい。
顔料が、キナクリドン、ジオキサジン、ペリレン、ジケトピロロピロール又はジアゾ縮合顔料であるのが特に好ましい。キナクリドンは、好ましくは、例えばUS5840901又はWO02/077104に記載のように、過酸化水素を使用したジヒドロキナクリドンの酸化により製造される。
顔料は、単一の化学化合物である又は複数の化学化合物を含有する固溶体又は混合結晶を含む複数の成分の混合物でありうる。通常、物理的な混合物及び混合相よりも大きい彩度を生じるため、均一の結晶質顔料が好ましい。それでも最終適用においてくすんだ色合いが望ましい場合、これは、それ自体既知の方法により異なる色の着色剤を用いて色調を抑えることにより達成することができる。
上記添加剤に加えて、追加の共開始剤又は増感剤が存在することも可能である。一般に、これらは、例えばエネルギー移動又は電子移動によって全体的な量子収量を改善する、芳香族ケトン又は染料である。共開始剤として添加することができる適切な染料は例えば、トリアリールメタン、例えばマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例えばメチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキサジン、アクリジン又はフェナジン、例えばサフラニン及び下記式:
Figure 2010523515
[式中、Rは、アルキル又はアリールであり、R′は水素又はアルキル若しくはアリール基である]で示されるローダミン、例えばローダミンB、ローダミン6G又はバイオラミンR、またスルホローダミンB又はスルホローダミンGである。同様に適しているものは、例えば5,7−ジヨード−3−ブトキシ−6−フルオロンのようなフルオロンである。
本発明は、更に、成分(A)及び(B)に加えて増感剤(C)を含む、上記組成物を提供する。
好ましい成分(C)は、置換若しくは非置換のベンゾフェノン、チオキサントン、アントラキノンのような芳香族ケトン、又はオキサジン、アクリジン、フェナジン及びローダミン、並びに対応する誘導体のような染料である。
この文脈において同様に適しているものは、染料とホウ酸塩の組み合わせであり、例えばUS4,772,530、GB2307474、GB2307473、GB2307472及びEP775706に記載されているものである。
特に好ましいものは、置換ベンゾフェノン又はチオキサントンである。適切なベンゾフェノンの例として、ベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(エチルメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ジフェニルベンゾフェノン、4,4′−ジフェノキシベンゾフェノン、4,4′−ビス(p−イソプロピルフェノキシ)ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、2−メトキシカルボニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4′−メチルジフェニルスルフィド、4−メトキシ−3,3′−メチルベンゾフェノン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、1,3−ジメチル−2−(2−エチルヘキシルオキシ)チオキサントンが挙げられる。同様に、例えばベンゾフェノンと4−メチルベンゾフェノンの混合物又は4−メチルベンゾフェノンと2,4,6−トリメチルベンゾフェノンの混合物のような、ベンゾフェノン及び/又はチオキサントンの混合物も好ましい。
個別に又は混合物として使用可能なそのような光増感剤(C)のさらなる例を、下記に挙げる:
1.チオキサントン類
チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、3−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、3−クロロチオキサントン、2−ドデシルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−メトキシカルボニルチオキサントン、2−エトキシカルボニルチオキサントン、3−(2−メトキシエトキシカルボニル)チオキサントン、4−ブトキシカルボニルチオキサントン、3−ブトキシカルボニル−7−メチルチオキサントン、1−シアノ−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−エトキシチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−アミノチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−フェニルスルフリルチオキサントン、3,4−ジ−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシカルボニル]チオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−(1−メチル−1−モルホリノエチル)チオキサントン、2−メチル−6−ジメトキシメチルチオキサントン、2−メチル−6−(1,1−ジメトキシベンジル)チオキサントン、2−モルホリノメチルチオキサントン、2−メチル−6−モルホリノメチルチオキサントン、N−アリルチオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、N−オクチルチオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、N−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)チオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、1−フェノキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル−2−メトキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル−2−メチルチオキサントン、チオキサントン2−ポリエチレングリコールエステル、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9H−チオキサントン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウムクロリド;
2.ベンゾフェノン及びベンゾフェノン誘導体
ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、4−メトキシベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジメチルベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、4,4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−(4−メチルチオフェニル)ベンゾフェノン、3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メチル−2−ベンゾイルベンゾエート、4−(2−ヒドロキシエチルチオ)ベンゾフェノン、4−(4−トリルチオ)ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N,N−トリメチルベンゼンメタンアミニウムクロリド、2−ヒドロキシ−3−(4−ベンゾイルフェノキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウムクロリド一水和物、4−(13−アクリロイル−1,4,7,10,13−ペンタオキサトリデシル)ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニル)オキシ]エチルベンゼンメタンアミニウムクロリド;[4−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−フェニル]−(4−イソプロピルフェニル)−メタノン;ビフェニル−[4−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−フェニル]−メタノン;ビフェニル−4−イル−フェニル−メタノン;ビフェニル−4−イル−p−トリル−メタノン;ビフェニル−4−イル−m−トリル−メタノン;[4−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−フェニル]−p−トリル−メタノン;[4−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−フェニル]−(4−イソプロピル−フェニル)−メタノン;[4−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−フェニル]−(4−メトキシ−フェニル)−メタノン;1−(4−ベンゾイル−フェノキシ)−プロパン−2−オン;[4−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−フェニル]−(4−フェノキシ−フェニル)−メタノン;3−(4−ベンゾイル−フェニル)−2−ジメチルアミノ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン;(4−クロロ−フェニル)−(4−オクチルスルファニル−フェニル)−メタノン;(4−クロロ−フェニル)−(4−ドデシルスルファニル−フェニル)−メタノン;(4−ブロモ−フェニル)−(4−オクチルスルファニル−フェニル)−メタノン;(4−ドデシルスルファニル−フェニル)−(4−メトキシ−フェニル)−メタノン;(4−ベンゾイル−フェノキシ)−酢酸メチルエステル;ビフェニル−[4−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−フェニル]−メタノン;
3.3−アシルクマリン類
3−ベンゾイルクマリン、3−ベンゾイル−7−メトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(プロポキシ)クマリン、3−ベンゾイル−6,8−ジクロロクマリン、3−ベンゾイル−6−クロロクマリン、3,3′−カルボニルビス[5,7−ジ(プロポキシ)クマリン]、3,3′−カルボニルビス(7−メトキシクマリン)、3,3′−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、3−イソブチロイルクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジエトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジブトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(メトキシエトキシ)クマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(アリルオキシ)クマリン、3−ベンゾイル−7−ジメチルアミノクマリン、3−ベンゾイル−7−ジエチルアミノクマリン、3−イソブチロイル−7−ジメチルアミノクマリン、5,7−ジメトキシ−3−(1−ナフトイル)クマリン、5,7−ジメトキシ−3−(1−ナフトイル)クマリン、3−ベンゾイルベンゾ[f]クマリン、7−ジエチルアミノ−3−チエノイルクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7−ジメトキシクマリン;
4.3−(アロイルメチレン)チアゾリン類
3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナフトチアゾリン、3−メチル−2−ベンゾイルメチレンベンゾチアゾリン、3−エチル−2−プロピオニルメチレン−β−ナフトチアゾリン;
5.他のカルボニル化合物
アセトフェノン、3−メトキシアセトフェノン、4−フェニルアセトフェノン、ベンジル、2−アセチルナフタレン、2−ナフトアルデヒド、9,10−アントラキノン、9−フルオレノン、ジベンゾスベロン、キサントン、2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン、α−(パラ−ジメチルアミノベンジリデン)ケトン、例えば2−(4−ジメチルアミノベンジリデン)インダン−1−オン又は3−(4−ジメチルアミノフェニル)−1−インダン−5−イル−プロペノン、3−フェニルチオフタルイミド、N−メチル−3,5−ジ(エチルチオ)フタルイミド。
式(I)、(II)及び(III)の光潜在性塩基化合物が、場合により[更なる添加剤(C)として]他の既知の光潜在性塩基化合物と組み合わせて使用されることも、明白である。そのような化合物は、例えば、WO97/31033、WO98732756、WO98/38195、WO98/41524、EP898202、WO00/10964及びWO03/33500に記載されている。特に、式(I)、(II)又は(III)の化合物と、例えば(4−モルホリノ−ベンゾイル)−1−(4−メチルベンジル)−1−ジメチルアミノプロパン、(4−モルホリノ−ベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン若しくは2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(3,4−ジメトキシフェニル)ブタノン−1のようなα−アミノケトンとの組み合わせ、又は下記:
Figure 2010523515
との組み合わせが、興味深い。
上記塩基触媒性(硬化性)結合剤成分(B)に加えて、組成物は他の結合剤も同様に含みうる。更に、例えばオレフィン性不飽和化合物が可能である。不飽和化合物は、1つ以上のオレフィン性二重結合を含むことができる。これらは、低分子量(モノマー)又はより高分子量(オリゴマー)でありうる。二重結合を有するモノマーの例として、メチル、エチル、ブチル、2−エチルヘキシル若しくは2−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレート又はエチルメタクリレートのような、アルキル若しくはヒドロキシアルキルアクリレート又はメタクリレートが挙げられる。シリコーンアクリレートも興味深い。更なる例として、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニルのようなビニルエステル、イソブチルビニルエーテルのようなビニルエーテル、スチレン、アルキル−及びハロスチレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニル又は塩化ビニリデンが挙げられる。
2つ以上の二重結合を有するモノマーの例として、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール又はビスフェノールAのジアクリレート、4,4′−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート若しくはテトラアクリレート、ビニルアクリレート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシネート、ジアリルフタレート、トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレート又はトリス(2−アクリロイルエチル)イソシアヌレートが挙げられる。
比較的高分子量(オリゴマー)の多不飽和化合物の例として、アクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポリエステル又はビニルエーテル基若しくはエポキシ基を含有するポリエステル、ポリウレタン及びポリエーテルが挙げられる。不飽和オリゴマーの更なる例として、不飽和ポリエステル樹脂が挙げられ、その大部分はマレイン酸、フタル酸及び1つ以上のジオールから製造され、約500〜3000の分子量を有する。加えて、ビニルエーテルモノマー及びオリゴマー、またポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエーテル及びエポキシ主鎖を有するマレエート末端基オリゴマーを用いることも可能である。特に、WO90/01512に記載のように、ビニルエーテル−官能オリゴマーとポリマーの組み合わせが極めて適している。しかし、同じく適しているものは、ビニルエーテル及びマレイン酸で官能化されているモノマーのコポリマーである。この種類の不飽和オリゴマーを、プレポリマーと呼ぶこともできる。
2つ以上の特定の官能基を分子中に有するモノマー又はオリゴマーも、本発明の組成物に適していることが明白であり、例えばアクリレート官能基及びイソシアネートも担時するオリゴマーである。官能基の他のあらゆる組み合わせも、本発明の組成物の一部として考慮される。そのような「多」官能化化合物を、例えば、「単一」官能化化合物又は「単一」官能化化合物の混合物の代わりに又はそれに加えて、使用することができる。
特に適切な例として、不飽和ポリエステル、ポリアミド及びポリウレタン及びそれらのコポリマー、アルキド樹脂、ポリブタンジエンとブタンジエンのコポリマー、ポリイソプレンとイソプレンのコポリマー、(メタ)アクリル基を側鎖に有するポリマー及びコポリマー、並びにそのようなポリマーの1つ以上の混合物のような、エチレン性不飽和カルボン酸のエステル及びポリオール又はポリエポキシド、並びにエチレン性不飽和基を鎖又は側基に有するポリマーが挙げられる。
加えて、そのような遊離ラジカル硬化性モノマー、オリゴマー/ポリマーが使用される場合、遊離ラジカルに解離する更なる光開始剤を加えることが賢明である。そのような光開始剤は既知であり、工業的に生産される。例として、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、例えば適切な増感剤として上記に記述されたもの、ケタール化合物、例としてはベンジルジメチルケタール(IRGACURE(登録商標)651);アセトフェノン、アセトフェノン誘導体、例えばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトン、例としては1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(IRGACURE(登録商標)184)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパノン(DAROCUR(登録商標)1173)、1−(4−ドデシルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチル−エタン、1−(4−イソプロピル−ベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチル−エタン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(IRGACURE(登録商標)2959);2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン(IRGACURE(登録商標)127);2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−フェノキシ]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、ジアルコキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、例えば(4−メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン(IRGACURE(登録商標)907)、(4−モルホリノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン(IRGACURE(登録商標)369)、(4−モルホリノベンゾイル)−1−(4−メチルベンジル)−1−ジメチルアミノプロパン(IRGACURE(登録商標)379)、(4−(2−ヒドロキシ−エチル)アミノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン)、(3,4−ジメトキシベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン;4−アロイル−1,3−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエーテル及びベンジルケタール、例としてはベンジルジメチルケタール、フェニルグリオキサレート及びそれらの誘導体、例えばオキソ−フェニル−酢酸2−(2−ヒドロキシ−エトキシ)−エチルエステル、二量体フェニルグリオキサル酸エステル、例えばオキソ−フェニル−酢酸1−メチル−2−[2−(2−オキソ−2−フェニル−アセトキシ)−プロポキシ]−エチルエステル(IRGACURE(登録商標)754);モノアシルホスフィンオキシド、例としては(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ジフェニルホスフィンオキシド(DAROCUR(登録商標)TPO)、ビスアシルホスフィンオキシド、例としてはビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)(2,4,4−トリメチルペンテン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(IRGACURE(登録商標)819)又はビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)(2,4−ジペントキシフェニル)ホスフィンオキシド、トリスアシルホスフィンオキシド、オキシムエステル、例えば1,2−オクタンジオン1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−2−(O−ベンゾイルオキシム)(IRGACURE(登録商標)OXE01)、エタノン1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)(IRGACURE(登録商標)OXE02)、9H−チオキサンテン−2−カルボキシアルデヒド9−オキソ−2−(O−アセチルオキシム)、過酸エステル、例えばベンゾフェノンテトラカルボン酸過酸エステル、例えばEP126541に記載のもの、フェロセニウム化合物又はチタノセン、例としては例えばジシクロペンタジエニル−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピロロフェニル)チタニウムが挙げられる。
例は、EP−A−284561において特定されている。異なる機構で硬化/架橋が生じるこの種類のポリマー系は、ハイブリッド系とも呼ばれる。DAROCUR(登録商標)及びIRGACURE(登録商標)化合物は、Ciba Specialty Chemicalsから入手可能である。
本発明の組成物に非反応性結合剤を加えることもでき、このことは、光重合性化合物が液体又は粘性物質である場合に特に賢明である。非反応性結合剤の量は、固形分全体に基づいて、例えば5〜95質量%、好ましく10〜90質量%、特に40〜90質量%でありうる。非反応性結合剤は、使用分野、並びに水性及び有機溶媒系における展開性、基材への付着力及び酸素感受性のようなその分野に必要とされる特性に応じて選択される。
適切な結合剤は例えば、約5000〜2,000,000、好ましくは10,000〜1,000,000の分子量を有するポリマーである。例として下記のものが挙げられる:ホモ−及びコポリマー状のアクリレート及びメタクリレート、例えば、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマー、ポリ(アルキルメタクリレート)、ポリ(アルキルアクリレート);酢酸セルロール、酪酸酢酸セルロース、メチルセルロース、エチルセルロースのようなセルロースエステル及びセルロースエーテル;ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポルテトラヒドロフランのようなポリエーテル;ポリスチレン、ポリカルボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデンのコポリマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチルメタクリレート及び酢酸ビニルとのコポリマー、酢酸ポリビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリカプロラクタム及びポリ(ヘキサメチレンアジパミド)のようなポリマー、ポリ(エチレングリコールテレフタレート)及びポリ(ヘキサメチレングリコールスクシネート)のようなポリエステルである。
本発明は、追加的に、塩基触媒反応を実施する方法であって、上記組成物を200nm〜650nmの波長を有する光線の照射に付すことを含む方法を提供する。
幾つかの場合において、光線への暴露の前、その間又はその後に加熱を実施することが有利でありうる。この方法では、多くの場合に架橋反応を促進することが可能である。
光線への暴露前に配合物を加熱することは、例えば、組成物が基剤の被覆のために溶融され、後に硬化されるホットメルト(接着剤)系の場合に特に適当でありうることが明白である。換言すると、ここでは、硬化を促進するためではなく、配合物を基剤に適用するために加熱は実施される。
また、本発明によると、光化学的に誘導された塩基触媒重合、付加又は置換反応のための光開始剤としての上記式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物の使用、並びに被覆、接着剤、インク、成形コンパウンド又は光構造層を製造するための前記化合物の使用、及び被覆、接着剤、インク、成形コンパウンド又は光構造層を製造する上記方法である。
本発明は、追加的に、少なくとも一面が上記組成物で被覆されている被覆基材、また、被覆基材を像様式暴露に付し、次に非曝露部分を溶媒で除去する、レリーフ像を写真生成する方法を提供する。ここで特に興味深いことは、レーザービームによる上記光線への暴露である。
本発明の更なる主題は、上記重合又は架橋組成物である。
光線への新規組成物の感受性は、一般に、約200nmからUV領域を介して赤外領域まで(約20,000nm、特に1200nm)延びており、したがって、極めて広範囲にわたっている。適切な放射線は、例えば、日光又は人工光源からの光線を含む。したがって、多数の非常に異なる種類の光源を使用することができる。点光源及び平面放熱器(ランプカーペット)の両方が適している。例として、カーボンアークランプ、キセノンアークランプ、中圧、高圧及び低圧水銀灯、所望であれば金属ハロゲン化物でドープされているもの(金属ハロゲンランプ)、マイクロ波励起金属蒸気ランプ、エキシマーランプ、超化学線蛍光管、蛍光灯、アルゴン白熱灯、電子閃光灯、キセノン閃光灯、写真用フラッドランプ、発光ダイオード(LED)、有機発光ダイオード(OLED)、シンクロトロン又はレーザープラズマにより発生する電子ビーム及びX線が挙げられる。ランプと暴露される本発明の基材との間隔は、用途、ランプの種類及び/又は強度に応じて変えることができ、例えば、2cm〜150cmである。また特に適しているものは、レーザー光源、例えばエシキマーレーザーである。可視領域又はIR領域のレーザーを用いることもできる。ここで極めて有利なことは、新規物質の高い感受性及び染料を共開始剤として使用して吸収波長をレーザー線に適応する可能性である。この方法によって、電子産業におけるプリント回路、リソグラフオフセット印刷版又はレリーフ印刷版、また写真画像記録材料を製造することが可能である。
硬化は、更に、本発明の光潜在性塩基を含む組成物を、コロナ放電に又はプラズマに、例えばアーク又はプラズマチャンバにおける放電によりもたらされるプラズマに暴露することによって実施することができる。
使用される光源に応じて、多くの場合、その吸収スペクトルが放射線源の発光スペクトルと可能な限り近接して一致するような、上記増感剤を用いることが有利である。
本発明の組成物は、例えば、フレキソ印刷インク又は枚葉紙印刷用インクのような印刷インクとして、クリアコートとして、例えば木材又は金属用の白色塗料として、とりわけ紙、木材、金属又はプラスチック用の被覆材料として、粉末被覆として、建物及び道路のマーキング用の、写真再生技術用の、ホログラフ記録材料用の、画像記録方法用の又は有機溶媒により若しくは水性アルカリ媒体を使用して現像できる印刷版の製造用の、スクリーン印刷用のマスクの製造用の日光硬化性外部用被覆として、歯科充填材料として、圧感接着剤を含む接着剤として、積層用樹脂として、エッチングレジスト又はパーマネントレジストとして、電子回路用の、例えば米国特許第4,575,330号に記載の塊硬化(透明金型中のUV硬化)による又は立体リソグラフ法による三次元物品の製造用の、複合材料(例えば、ガラス繊維及び/又は他の繊維及び他の助剤を含有することができるスチレンポリエステル)及び他の厚層組成物の製造用のはんだマスクとして、電子部品の被覆又は封入として又は光ファイバー用の被覆として、多様な目的に用いることができる。
特に興味深いことは、全種類の基材、例えば建物、フェンス、チップボードパネルの外部用被覆のような装飾用被覆を製造するための、石、コンクリート又は金属用の被覆としての、例えば自動車、鉄道又は航空機のような乗物の被覆のための、本発明の組成物の使用である。組成物は、自動車用OEM仕上げ及び自動車用再仕上げ、また自動車の車体、自動車のプラスチック部分及び自動車の車体に取り付けた部品の仕上げに使用することもできる。本発明の開始剤を、マルチコート系の表面仕上げ、下塗又はクリアコートに使用することができる。着色仕上げ塗におけるこれらの使用も可能である。
表面被覆において、プレポリマーと多不飽和モノマーの混合物を使用することが一般的であり、これは単不飽和モノマーも含有する。ここで、プレポリマーが主に被覆膜の特性に関与しており、当業者は、それを変えることによって、硬化膜の特性に影響を与えることができる。多不飽和モノマーは、被覆膜を不溶性にする架橋剤として機能する。単不飽和モノマーは反応性希釈剤として機能し、それによって、溶媒を使用する必要がなく粘度が減少される。
本発明の光硬化性組成物は、例えば、全種類の基材、例としては木材、織物、紙、セラミック、ガラス、特に膜の形態のポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィン又は酢酸セルロースのようなプラスチック、また、保護被膜が適用される又は像様式暴露により画像が適用されるAl、Cu、Ni、Fe、Zn、Mg又はCo及びGaAs、Si又はSiO2のような金属のための被覆材料として適している。
基材に液体組成物、溶液又は懸濁液を適用することにより、基材を被覆することができる。溶媒及びその濃度の選択は、主に組成物の種類及び被覆方法に左右される。溶媒は、不活性であるべきであり、換言すると、成分とあらゆる化学反応を起こすべきではなく、被覆操作の後、乾燥工程で再び除去できるべきである。適切な溶媒の例として、メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル及び3−エトキシプロピオン酸エチルのような、ケトン、エーテル及びエステルが挙げられる。
既知の被覆方法を使用して、例えば、スピンコーティング、浸漬被覆、ナイフコーティング、流し塗り、刷毛塗り、吹付け、特に静電吹付け及びリバースロールコーティングにより、並びに電気泳動塗装により、溶液を基材に均一に適用する。感光層を仮の可動支持体に適用し、次に積層により層を移転して最終基材、例えば、銅張り回路基板を被覆することも可能である。
適用量(層厚)及び基材の性質(層支持体)は、所望の適用分野の相関的要素である。層厚の範囲は、一般に約0.1μmから100μm超の値を含む。
本発明の放射線感受性組成物を像様式暴露に付すこともできる。この場合には、これらはネガレジストとして使用される。これらは、電子部品用(ガルバノレジスト、エッチレジスト及びはんだレジスト)、オフセット印刷版、フレキソ印刷及びレリーフ印刷版又はスクリーン印刷版のような印刷版の製造、マーキングスタンプの製造に適しており、化学研磨又は集積回路の製造におけるマイクロレジストとして使用することができる。可能な層支持体に対応する及び被覆基材の加工条件に対応する広範囲の変形が存在する。
本発明の放射線感受性組成物が、光化学的に放出されたアミンの影響によって水不溶性の形態が水溶性の形態に変換される樹脂である場合、それらを光線への像様式暴露におけるポジレジストとして使用することができる。そのような樹脂の例として、NiuらによりJ.Polym.Mater.Sci.Eng.(1996),75,427に記載されているような、ベンゾイソオキサゾール及びフェノール基を含有するポリスチレン樹脂、又は例えばUrankarらによりMacromolecules(1997),30,1304に記載されているような、一部の又は全てのヒドロキシル基が、塩基触媒下で排除されうる炭酸塩基により保護されたポリヒドロキシスチレン樹脂が挙げられる。
用語「像様式」暴露は、予め決められたパターンを含むフォトマスク、例えばスライドを介した暴露、例えば被覆基材の表面上をコンピューター制御で画像を生成するように動くレーザービームによる暴露、及びコンピューター制御の電子ビームによる照射の両方に関する。
材料の像様式暴露後及び現像前に、暴露部分だけが熱的に硬化される短時間の熱処理を実施することが有利でありうる。用いられる温度は、一般に50〜150℃、好ましくは80〜130℃であり、熱処理の持続時間は、一般に0.25〜10分間である。
光硬化が使用される更なる分野は、金属被覆の分野、例えば、金属板又は管、缶又は瓶の蓋の表面被覆、及びポリマー被覆、例えばPVCに基づいた床又は壁仕上げ材の光硬化である。
紙被覆の光硬化の例として、ラベル、レコードジャケット又はブックカバーの無色のワニス塗りが挙げられる。
複合材組成物から作製される造形物品を硬化するための本発明の化合物の使用も、興味深い。複合材組成物は、自立マトリックス材料、例えば、ガラス繊維織物、あるいは例えば、植物繊維から作製され[K.−P.Mieck,T.Reussmann in Kunststoffe 85(1995),366−370を参照]、これは、光硬化配合物で含浸されている。本発明の化合物を使用して複合材組成物から製造される造形物品は、高い機械的安定性及び耐性を有するものである。本発明の化合物は、例えばEP−A−7086に記載のように、成形、含浸及び被覆組成物において光硬化剤として使用することもできる。そのような組成物の例として、硬化活性及び耐黄変性に関して厳格な要件が課せられている微細被覆樹脂、又は平面若しくは長手方向若しくは横方向に波形を持つ光拡散パネルのような繊維補強成形体が挙げられる。
式(I)、(II)及び(III)の新規化合物は、WO2005/100482に記載の用途にも適しており、この開示は参考で援用される。記載されているものは、放射線及び湿度により硬化される、シロキサン末端ポリマーに基づいている組成物であり、特に、
下記:
(i)少なくとも1つのシリル末端ポリマー、及び
(ii)少なくとも1つの光潜在性塩基
を含み、
シリル末端ポリマーが、シラン基を有さない直鎖又は分岐鎖塩基ポリマーから構成され、塩基ポリマーはシラン基により末端がキャップされている
硬化性組成物である。
本発明の式(I)、(II)及び(III)の化合物は、光潜在性塩基化合物、上記組成物の成分(ii)として適している。
本発明の組成物は、基材への適用のために加熱され、次に照射への暴露により架橋される、ホットメルト接着剤に有用である。そのような組成物において、例えばイソシアネート組成物、特に上記のブロック化イソシアネートが用いられる。したがって、例えば、イソシアネート及び保護されている又は保護されていない反応基を含有する前重合接着剤を、例えば、高温で加工し、ホットメルト方法に従って基材に被覆することができ、その後、完全な硬化は、光潜在性触媒の光活性により実現する、反応基を伴う追加の硬化工程により達成される。
ホットメルト接着剤は、感圧接着剤(PSA)として興味深く、環境の観点から望ましくない溶媒に基づく組成物の使用の代わりに適している。ホットメルト押出方法は、高い流動粘度を達成するために、高い適用温度を必要とする。反応性基を含む本発明の組成物は、ホットメルト被覆の架橋剤として適しており、架橋剤は、(メタ)アクリレートPSAの官能性コモノマーと化学反応を始める。被覆操作後、PSAを、最初に熱的に架橋する、又は二重架橋機構を利用して、PSAを次にUV光線により架橋する。UV架橋照射は、例えば、光潜在性塩基及び/又は増感剤に応じて、200〜400nmの波長範囲の短波紫外線により実施される。そのような系及び方法は、例えばUS2006/0052472に記載されている。
本発明の光潜在性塩基は、また、例えば欧州特許出願第08150721.2号(2008年1月28日)に記載されている、レドックス硬化性配合物に適している。
そのような配合物は、下記:
(a)少なくとも1つの、上記で定義された式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物;
(b)ラジカル重合性化合物;及び
(c)アミン及び/又はアミジン、特に過酸化物により還元されうるフリーラジカル開始剤、並びに場合により
(d)(b)を硬化することができる開始剤、特にラジカル光開始剤
を含む。
本発明の組成物は、UV硬化性接着剤にも適している。そのようなUV硬化性接着剤は、好ましくは、ブロック化又は非ブロック化形態の上記OH/NCO又はSH/NCO系である。これらの接着剤は、有機ポリイソシアネートと活性水素含有化合物との縮合反応により製造される。
イソシアネート化合物は、例えば、任意の芳香族、脂肪族、脂環式、アシル脂肪族又は複素環式イソシアネート又はポリイソシアネート、及びそれらのプレポリマー又は混合物である。用語「ポリイソシアネート」には、上記に既に記述されているように、ジイソシアネート、トリイソシアネート、テトライソシアネートなど及びこれらの混合物が含まれる。適切なイソシアネート化合物は、Desmodur(登録商標)の名称でBayerにより及び商標名Tolonate(登録商標)でRhodiaにより市販されている。
接着剤における活性水素含有化合物は、例えばCOOH、OH、NH2、NH、CONH2、−SH及びCONHからなる群より選択される官能基を有する。好ましくは、活性水素含有化合物は、OH又はSHであり、OH/NCO及びSH/NCO樹脂をもたらす。
OH/NCO系は、ポリウレタン接着剤として知られている。ポリウレタン接着剤は、通常、1成分ポリウレタン接着剤(1K PU接着剤)又は2成分ポリウレタン接着剤(1K PU接着剤)、及び1又は2パックイソシアネート非含有ポリウレタン接着剤(例えば、ブロック化イソシアネート)である。
OH/NCO樹脂において活性水素含有化合物として好ましく使用されるポリエステルポリオール及びポリエーテルポリオールは、市販の物質である。適切なポリエステルポリオールは、例えばDesmophen(登録商標)及びBaycoll(登録商標)の商標名で市販されている。
多官能価脂肪族アミン連鎖延長剤が存在することができ、エチレンジアミン、1,4−ブタンジアミン、イソホレンジアミン、トリエチレンテトラアミン及びトリエチレンオキシドジアミンが含まれる。更に、Baylith Lのような乾燥剤が存在しうる。
適切なチオール基含有化合物は、WO01/92362に記載のもの又は上記に示されているものである。それに開示されているもののうち、最も好ましいチオール官能化合物は、ペンタエリトリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)及び3−メルカプトプロピオネートである。
接着剤組成物は、場合により、当該技術分野において慣用の他の添加剤化合物、例えば、酸化防止剤、例としては立体障害アミン(HALS)、ホスファイト又はフェノール酸化防止剤、充填剤樹脂、増粘剤、流動性調整剤、可塑剤、脱泡剤なども含有する。
接着剤の暴露は、例えば、積層前又は積層後に実施される。積層後の暴露は、より早い硬化をもたらすことができる。積層前の暴露は、例えば、不透明基材の使用を可能にする。更に、OH/NCO又はSH/NCO系に通常存在するジアミン触媒は、例えば式(I)、(II)又は(III)の潜塩基に代えられる。
したがって、また本発明の光潜在性塩基化合物は、第1基材を第2基材と結合させる方法であって、
(i)上記式(I)、(II)又は(III)の化合物の光潜在性塩基を含むUV硬化性接着剤樹脂組成物を、少なくとも1つの前記第1及び第2基材の少なくとも1つの透明表面に適用する工程、
(ii)前記第1及び第2基材を、前記接着剤組成物を間に入れて接合させる工程、
(iii)前記接着剤組成物を化学線に暴露して硬化を実施する工程
を含む方法に適している。
更に、また本発明の光潜在性塩基化合物は、第1基材を第2基材と結合させる方法であって、
(i)上記式(I)、(II)又は(III)の化合物の光潜在性塩基を含むUV硬化性接着剤樹脂を、少なくとも1つの前記第1及び第2基材の少なくとも1つの表面に適用する工程、
(iii)前記接着剤組成物を化学線に暴露する工程、及び
(ii)前記第1及び第2基材を、前記接着剤組成物を間に入れて接合させる工程
を含む工程に適している。
本明細書において用いられる方法及び成分の例は、WO08/009575に示されており、その開示内容は参考として本明細書で援用される。
また本発明の光潜在性酸化合物は、通常使用前に高温(例えば、120℃〜240℃)で加工されるホットメルト接着剤又はプラスチゾルに組み込むのに適している。
本発明の式(I)、(II)及び(III)の光潜在性塩基化合物も、前記光潜在性塩基化合物を含む物質の組成物が更に加工される前に照射に付される方法に用いることができる。そのような方法は、例えば、WO06/008251、EP1002587及びWO04/069427に記載されており、前記文書の開示内容は参考として本明細書で援用される。
本発明の光潜在性塩基化合物は、例えばEP1564255に記載されているような、チイランに基づいた樹脂の硬化にも適しており、その開示内容は参考として本明細書で援用される。
そのような配合物は、下記:
少なくとも1つの、上記式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物、及び
分子中に2つ以上のチイラン環を有する少なくとも1つのエピスルフィド化合物、例えば下記:
Figure 2010523515
の化合物を含み、
ここで、pは、0〜4の整数であり、mは、0〜6の整数であり、Rc及びRdは、互いに独立して、水素又は一価C1〜C10炭化水素基であり、Ra及びRbは、互いに独立して、二価C1〜C10炭化水素基である。好ましくは、(Z)は、ビス(2,3−エピチオプロピル)スルフィド又はビス(2,3エピチオプロピル)ジスルフィドである。したがって、本出願における分子中に2つ以上のチイラン環を有するそのようなエピスルフィド化合物(Z)は、特許請求される組成物において示されている成分(B)を表す。
本発明の式(I)、(II)及び(III)の新規化合物の更なる使用は、UV線量指示器配合物にある。本発明の化合物は、前記配合物に光潜在性塩基として組み込まれ、照射されると塩基を放出する。次に塩基は、配合物にも存在する適切な着色剤化合物を介して色形成を活性化する。
したがって、本発明の別の主題は、
(a)塩基反応性着色剤と、
(b)式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物と
を含み、
照射された被覆により吸収された放射線の線量を決定するのに特に適している
組成物である。
UV線量指示器系の例は、欧州特許公報第06119455.1号(2006年8月24日)に示されており、その開示内容は参考として本明細書で援用される。
以下の実施例は、前記実施例だけに範囲を制限することなく、本発明をより詳細に説明する。記載の残りの部分及び請求項において、部及び百分率は、特に記述のない限り質量に基づいている。3個を超える炭素原子を有するアルキル基が、実施例において特定の異性体の記述がなく言及される場合、それぞれの場合でn個の異性体が意図される。
実施例1 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステルの製造
Figure 2010523515
1.1 オクタヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジンの製造
tert−ブチルメチルエーテル600g及び2,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン(DBN)99.35g(0.8mol)を、2.5lの反応フラスコに入れ、加熱還流(55℃)する。水素化リチウムアルミニウム18.22g(0.48mol)を2時間かけてこの溶液に加える。添加後、灰色の懸濁液を55℃で30分間撹拌する。次に懸濁液を5℃に冷却し、激しく撹拌しながら、水18g、10%水素化ナトリウム水溶液18g及び別の水54gを加えて加水分解する。懸濁液をセライトフィルター物質(FlukaのHyflo Supra Cel(登録商標)、No.56678)で濾過し、フィルターケーキをtert−ブチルメチルエーテル400gで洗浄する。黄色の濾液をNa2SO4で乾燥し、真空下で濃縮する。収量:橙色の油状物として得たオクタヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン66.44g(66%)。構造を、13C−NMR分光法により確認する。
1.2 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステルの製造
オクタヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン2.3g(18mmol)を、30gのトルエン中の2.06g(9mmol)の4−(ブロモメチル)−安息香酸メチルの無色の溶液に、撹拌しながら滴加する。撹拌を室温で20時間続けると、白色の僅かに粘性及び粘着性を帯びた懸濁液がられ得る。懸濁液を濾過し、濾液を真空下で濃縮する。4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]−ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステルを、融点が112.4℃〜113.9℃の白色の固体として得る。収量1.9g(77%)。
実施例2 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸ブチルエステルの製造
Figure 2010523515
1−ブタノール10g及び4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル(実施例1)2.1g(0.0075mol)を、撹拌機及び蒸留装置を備えたフラスコに入れる。続いて水素化リチウム0.07g(0.0083mol)をこの溶液に加える。懸濁液を1時間かけて130℃(油浴温度)に加熱する。この温度で1−ブタノールを留去し始める。アルコールが残らなくなったとき、反応物を室温に冷却し、ジクロロメタンで蒸留し、水で抽出する。有機相をK2CO3で乾燥し、減圧下で濃縮する。僅かに黄色を帯びた油状物をヘプタンで撹拌すると結晶化する。懸濁液を濾過すると、1.1g(46%)の4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸ブチルエステルを、融点が64〜67℃の白色固体としてもたらす。
実施例3〜6:
以下の実施例3〜6の化合物は、第1表に報告されているアルコールを1−ブタノールの代わりに使用する以外は、実施例2に記載の方法に従って製造する。
Figure 2010523515
実施例7〜9:
以下の実施例7及び8の化合物は、第2表に報告されているポリオールを1−ブタノールの代わりに用いる以外は、実施例2に記載の方法に従って製造する。実施例9は、アルコール出発材料として実施例4の化合物を使用して、実施例2に記載の条件下で得る。
Figure 2010523515
実施例10:4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸2−(2−ヒドロキシ−エトキシ)−エチルエステル及びジエチレングリコールジ[4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−ベンゾエート]
Figure 2010523515
この実施例の化合物は、実施例2の化合物について記載された手順に従い、アルコールとしてジエチレングリコールを使用して製造する。生成物を、およそ50%の4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸2−(2−ヒドロキシ−エトキシ)−エチルエステル及び50%のジ[4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−ベンゾエート]から構成される黄色を帯びた液体として得る。構造を、1H−NMR分析により確認する。
実施例11 [4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−フェニル]−メタノールの製造
Figure 2010523515
テトラヒドロフラン(THF)80g及び水素化リチウムアルミニウム2.1g(0.055mol)を反応フラスコに入れる。80gのTHF中の8g(0.03mol)の4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル(実施例1に記載のとおりに製造)の溶液を灰色の懸濁液に室温でゆっくりと加える。反応物を更に2時間撹拌し、続いて、激しく撹拌しながら、水2g、10%水酸化ナトリウム水溶液2g及び別の水6gを加えて加水分解する。懸濁液を濾過し、有機相をK2CO3で乾燥し、真空下で濃縮する。このようにして、[4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−フェニル]−メタノール2.95g(40%)を無色の油状物として得る。構造を、1H−NMR分析により確認する。
Figure 2010523515
実施例12 ヘキサン酸4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−ベンジルエステルの製造
Figure 2010523515
カプロン酸メチルエステル4g(0.031mol)及び[4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−フェニル]−メタノール(実施例11の化合物)1.9g(0.0075mol)を40gのトルエンに溶解し、10mlの反応フラスコに入れる。水素化リチウム0.014g(0.017mol)を加え、懸濁液を油浴温度の125℃に加熱する。反応混合物をこの温度で更に4時間撹拌し、次に室温に冷却する。激しく撹拌しながら、水40gをゆっくりと加え、相を分離し、有機相をK2CO3で乾燥する。溶媒を真空下で留去し、4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−ベンジルエステル2.1g(81%)を僅かにピンク色の油状物として得る。構造を、1H−NMR分析により確認する。
Figure 2010523515
実施例13 ヘキサン二酸4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−ベンジルエステルメチルエステルの製造
Figure 2010523515
実施例13の化合物は、ヘキサン二酸ジメチルエステルをカプロン酸メチルエステルの代わりに使用する以外は、実施例12に示された方法に従い製造する。4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−ベンジルエステルメチルエステルを無色の油状物として収率41%で得る。構造を、1H−NMR分析により確認する。
Figure 2010523515
実施例14 4−(オクタヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステルの製造
Figure 2010523515
14.1 デカヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピンの製造
デカヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピンは、実施例1aに記載の方法に従うが、出発材料として2,3,4,6,7,8,9,10−オクタヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピン(DBU)をDBNの代わりに使用して製造する。8g(65%)のデカヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピンを黄色の油状物として得る。構造を、13C−NMR分光法により確認する。
14.2 4−(オクタヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステルの製造
4−(オクタヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステルは、実施例1bに記載の方法に従い製造する。4−(オクタヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル7g(84%)を黄色の油状物として得る。構造を、1H−NMR及び13C−NMR分光法により確認する。
Figure 2010523515
実施例15 4−(オクタヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピン−1−イルメチル)−安息香酸ヘキシルエステルの製造
Figure 2010523515
実施例15の化合物は、実施例2に記載の方法に従うが、出発材料として4−(オクタヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル(実施例14の化合物)及び1−ヘキサノールを使用して製造する。4−(オクタヒドロ−ピリミド[1,2−a]アゼピン−1−イルメチル)−安息香酸ヘキシルエステル2g(82%)を、黄色を帯びた油状物として得る。構造を、1H−及び13C−NMR分光法により確認する。
Figure 2010523515
実施例16 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸カリウムの製造
Figure 2010523515
メタノール25g及び(実施例1の)4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル5.5g(0.02mol)をフラスコに入れる。水酸化カリウム1.1g(0.02mol)を加え、反応混合物を室温で撹拌する。5日後、溶液を真空下で濃縮する。4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−ベンゾエートを白色の固体として得る。収量3.7g(62%)
Figure 2010523515
実施例17 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸2−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−3−イルスルファニル)−エチルエステルの製造
Figure 2010523515
トルエン100g、3−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−チオキサンテン−9−オン(EP354458に記載の方法に従って製造)3.24g(0.0113mol)及び(実施例1の)4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル2.1g(0.0075mol)を、撹拌機及び蒸留装置を備えたフラスコに入れる。続いて水素化リチウム0.17g(0.021mol)をこの反応混合物に加える。懸濁液を120℃(油浴温度)に加熱し、24時間撹拌し、次に室温に冷却する。激しく撹拌しながら、水40gをゆっくりと加え、相を分離し、有機相をMgSO4で乾燥する。溶媒を真空下で留去し、4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸2−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−3−イルスルファニル)−エチルエステル1.5g(38%)を黄色の固体として得る。構造を、1H−NMR分析により確認する。
Figure 2010523515
実施例18 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸2−(4−ベンゾイル−フェニルスルファニル)−エチルエステルの製造
Figure 2010523515
トルエン40g、[4−(2−ヒドロキシ−エチルスルファニル)−フェニル]−フェニル−メタノン(US4297513Aに記載のとおりに製造)2.9g(0.0113mol)及び(実施例1の)4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル2.1g(0.0075mol)を、撹拌機及び蒸留装置を備えたフラスコに入れる。続いて水素化リチウム0.07g(0.0083mol)をこの反応混合物に加える。懸濁液を120℃(油浴温度)に加熱し、この温度で6時間撹拌し、次に室温に冷却する。激しく撹拌しながら、水40gをゆっくりと加え、相を分離し、有機相をMgSO4で乾燥する。溶媒を真空下で留去し、1.3g(34%)の4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸2−(4−ベンゾイル−フェニルスルファニル)−エチルエステルを明褐色の固体として得る。構造を、H−NMR分析により確認する。
Figure 2010523515
実施例19 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸イソプロピルエステルの製造
Figure 2010523515
2−プロパノール160g及び(実施例1の)4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル5.5g(0.02mol)を、1.1g(0.02mol)のナトリウムメトキシド(メタノール中30%溶液)を加えたフラスコに入れる。5時間の撹拌後、無色の溶液を真空下で濃縮する。4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸イソプロピルエステルを白色の固体として得る。収量2.1g(35%)。
Figure 2010523515
実施例20 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸アリルエステルの製造
Figure 2010523515
実施例20の化合物は、使用されるアルコールがプロパ−2−エン−1−オールであること以外は、実施例19に記載の方法に従って製造する。4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸アリルエステルを白色の固体として得る。
Figure 2010523515
実施例21 N−アリル−4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−ベンズアミドの製造
Figure 2010523515
実施例21の化合物は、アリルアミンをアリルアルコールの代わりに使用する以外は、実施例19に記載の方法に従って製造する。生成物を、黄色を帯びた油状の固体として得る。
Figure 2010523515
実施例22 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−N−ヘキシル−ベンズアミドの製造
Figure 2010523515
(実施例1の)4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル9.9g(0.04mol)及びヘキシルアミン16.2g(0.16mol)をフラスコに入れる。シアン化ナトリウム0.2g(0.004mol)を加える。懸濁液を130℃(油浴温度)に加熱し、この温度で24時間撹拌し、次に室温に冷却する。反応混合物をジクロロメタン50gに溶解し、水20gを加える。相を分離し、有機相をMgSO4で乾燥する。溶媒を真空下で留去し、4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−N−ヘキシル−ベンズアミドを、融点が121〜126℃の白色固体として得る。収量3.9g(28%)。
Figure 2010523515
実施例23 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−N−(2−ヒドロキシ−エチル)−ベンズアミドの製造
Figure 2010523515
テトラヒドロフラン(THF)40g及び1,3−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)−イミダゾリウムクロリド0.44g(0.0013ml)を反応フラスコに入れる。0.56g(0.005mol)のカリウムtert−ブトキシド(THF中1M溶液)を加え、反応物を室温で2時間撹拌する。続いて、(実施例1の)4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル5.4g(0.0197mol)及びエタノールアミン1.2g(0.0197mol)を反応混合物に加える。室温で12時間撹拌した後、溶媒を真空下で留去する。明褐色の油状物をジエチルエーテルで撹拌し結晶化する。懸濁液を濾過し、4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−N−(2−ヒドロキシ−エチル)−ベンズアミド3.1g(52%)を白色の固体として得る。
Figure 2010523515
実施例24 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−N−(3−ヒドロキシ−プロピル)−ベンズアミドの製造
Figure 2010523515
実施例24の化合物は、使用されるアミノアルコールが3−アミノ−1−プロパノールであること以外は、実施例23に記載の方法に従い製造する。黄色の油状結晶。収率(69%)。
Figure 2010523515
実施例25 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸エチルエステルの製造
Figure 2010523515
20gのトルエン中の7.57g(0.06mol)のオクタヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジンの溶液を、30gのトルエン中の14.6g(0.06mol)の4−(ブロモメチル)−安息香酸エチル及び6.1g(0.06mol)のトリエチルアミンの無色の溶液に、撹拌しながら滴加する。撹拌を室温で20時間続けると、白色の僅かに粘性及び粘着性を帯びた懸濁液を得る。懸濁液を濾去し、濾液を真空下で濃縮する。4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸エチルエステルを、融点が88.6℃〜92.5℃の白色の固体として得る。収量3.2g(18%)。
Figure 2010523515
実施例26 1−[4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−フェニル]−エタノンの製造
Figure 2010523515
26.1 1−(4−ブロモメチル−フェニル)−エタノンの製造
アセトニトリル50g、4−メチルアセトフェノン2.7g(0.02mol)及びN−ブロモスクシンイミド3.9g(0.022mol)を反応フラスコに入れる。アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.33g(0.002mol)を加える。反応混合物を還流するまで加熱し、この温度で2時間撹拌する。次に反応混合物を室温に冷却し、溶媒を真空下で留去する。20gのトルエンを黄色の油状物に加え、白色の懸濁液を得る。懸濁液を濾過し、濾液を真空下で濃縮する。1−(4−ブロモメチル−フェニル)−エタノン4.2gを黄色の油状物として得る。構造を、1H−NMR分析により確認する。
Figure 2010523515
26.2 1−[4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−フェニル]−エタノンの製造
実施例26.2の化合物は、使用する出発材料のうちの1つが1−(4−ブロモメチル−フェニル)−エタノン(実施例26.1)であること以外は、実施例25に記載の方法に従い製造する。融点が78〜85℃の白色の固体を得る。収量4.55g(32%)。
Figure 2010523515
実施例27 3−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステルの製造
Figure 2010523515
実施例26の化合物は、使用される出発材料が3−(ブロモメチル)−安息香酸メチルであること以外は、実施例1.2に記載の方法に従い製造する。3−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステルを黄色の油状物として得る。
Figure 2010523515
実施例28 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸6−アミノ−ヘキシルエステルの製造
Figure 2010523515
トルエン40g、6−アミノ−1−ヘキサノール2.6g(0.023mol)及び(実施例1の)4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル2.1g(0.0075mol)を、撹拌機及び蒸留装置を備えたフラスコに入れる。続いて水素化リチウム0.14g(0.017mol)を反応混合物に加える。懸濁液を120℃(油浴温度)に加熱し、更に6時間撹拌し、次に室温に冷却する。激しく撹拌しながら、水40gをゆっくりと加え、相を分離し、有機相をMgSO4で乾燥する。溶媒を真空下で留去し、4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸6−アミノ−ヘキシルエステル1.4g(52%)を明黄色の油状物として得る。構造を、1H−NMR分析により確認する。
Figure 2010523515
実施例29 ポリ(エチレンイミン)の4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]−ピリミジン−1−イルメチル)−ベンズアミドの製造
Figure 2010523515
(実施例1の)4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]−ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル10.12g(0.0369mol)及びポリ(エチレンイミン)(市販等級LUPASOL FG;平均モル質量:800g/mole;BASFから提供)10gを、撹拌機及び蒸留装置を備えたフラスコに入れる。反応混合物を130℃に加熱する。この温度で、放出されたメタノールを約7時間かけて留去する。反応生成物は、透明な高粘性の黄褐色を帯びた物質である。
実施例30 実施例29の化合物の脂肪酸改質
Figure 2010523515
実施例29の物質18.83g及びリノール酸メチルエステル11gを、撹拌機及び蒸留装置を備えたフラスコに入れる。反応混合物を130℃に加熱する。この温度で、放出されたメタノールを約7時間かけて留去する。反応生成物は、透明な高粘性の黄褐色を帯びた物質である。
実施例31 実施例29の化合物のシロキサン改質
Figure 2010523515
実施例29の物質9.79g、2−プロパノール20g及びモノアクリルオキシメチル末端ポリジメチルシロキサン[一官能価、モル質量:1000〜1200g/mol]18.5gを、撹拌機を備えたフラスコに入れ、50℃に加熱する。50℃で反応時間の約2時間後、溶媒を減圧下で蒸留し除去する。透明な粘性の反応生成物を得る。
実施例32 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸6−アクリロイルオキシ−ヘキシルエステルの製造
Figure 2010523515
固定化リパーゼ(NOVOZYME 435として市販、NOVO NORDISK A/Sから提供;0.3g)を、トルエン(40ml)中の4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸6−ヒドロキシ−ヘキシルエステル(実施例4、6.2g、17.2mmol)及びアクリル酸メチルエステル(2.8g、32.5mmol)の溶液に加える。得られた分散体を、ロータリーエバポレーターにより60℃/600mbarで撹拌及び保持し、反応の進行をGLCでモニタリングする。5時間後、分散体を濾過する。新たな酵素(0.3g)及びアクリル酸メチルエステル(2.8g)を加え、分散体を60℃/600mbarで更に8時間保持する。濾過及び揮発物の蒸発によって、6.8gの表記化合物が僅かに黄色の樹脂として残る。アッセイ(GLC、領域%)>90%。EI−MS m/z、C243424(414)の%:実測値 413(100%)、414(35%)、415(10%)。
実施例33 4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−チオ安息香酸S−ブチルエステルの製造
Figure 2010523515
水素化リチウム0.13g(16.6mmol)を、40mlのトルエン中の4.12g(15mmol)の4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1.2−a]−ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル(実施例1)及び2.04g(22.6mmol)のn−ブタンチオールの溶液に加える。反応混合物を24時間かけて60℃に加熱する。冷却後、溶媒を蒸発させ、残渣をヘプタンで撹拌する。形成された沈殿物(4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−安息香酸メチルエステル)を濾取し、濾液を蒸発させ、残留物質を同じ手順で処理する。このようにして、4−(ヘキサヒドロ−ピロロ[1,2−a]ピリミジン−1−イルメチル)−チオ安息香酸S−ブチルエステルを、黄色を帯びた粘着性の固体として得る。
Figure 2010523515
適用例:
例A1:
成分A(=ヒドロキシ成分)は以下の成分を混合することにより製造する:
73.0gのヒドロキシル担持ポリアクリレート(酢酸ブチル中70%);DESMOPHEN(登録商標)A VP LS 2350; Bayer AGから提供
0.9gの添加剤(酢酸ブチル中10%);BYK 333;Bykから提供
0.7gの添加剤(50%供給形態);BYK 355;Bykから提供
0.7gの添加剤(4%供給形態);BYK 141;Bykから提供
24.7gのキシレン/メトキシプロピルアセテート/酢酸ブチルの1:1:1比の混合物、溶媒として
光硬化性配合物は以下の成分を一緒に混合することにより製造する:
0.48g(=7.3%、配合物の総質量の100%に基づく)の実施例1の光潜在性塩基化合物
0.28g(=4.3%)のベンゾフェノン、増感剤化合物として;DAROCUR(登録商標)BP;Ciba Scecialty Chemicalsから提供
3.76g(=57.7%)の成分A(上記に記載)
2.00g(=30.7%)の脂肪族イソシアネート(HDI三量体);DESMODUR(登録商標)N3390;Bayer AGから提供
光潜在性塩基化合物及び増感剤を成分Aに溶解し、イソシアネート成分を適用の直前になって初めて加える。
配合物をスリットコーターにより30cm長のガラスプレートに適用する(76μmの湿潤膜厚)。試料を、室温で5分間乾燥し、2個の中圧水銀灯(それぞれ80W/cm)をベルト速度5m/分で関連して使用し、照射する。参照用に、操作を光線の不在下で繰り返す。試料の硬化時間は、針が被覆基材の全長にわたって一定の速度で12時間かけて移動する、Byk−Gardnerの乾燥記録器を使用してモニタリングする。被覆におけるトレースの評価は、溶媒の蒸発からなる第1段階、最初の架橋である第2段階、そして不粘着性被覆の達成により終了する第3段階の3工程に分けられる硬化過程の査定を可能にする。暴露後、試料は3時間後には不粘着性であるが、非照射試料は7.5時間後に不粘着性になる。
この結果は、光潜在性塩基が照射により活性化し、放出された塩基が架橋過程を促進するが、暴露なしでは、架橋が倍以上の時間がかかることを示し、光潜在性塩基化合物の高い安定性を示している。
例A2
光硬化性配合物は以下の成分を混合することにより製造する:
0.3g(=2.9%、配合物の総質量の100%に基づく)の実施例1の光潜在性塩基化合物
0.2g(=1.9%)のベンゾフェノン、増感剤化合物として;DAROCUR(登録商標)BP;Ciba Scecialty Chemicalsから提供
10.0g(=95.2%)の脂肪族イソシアネート(HDI三量体);DESMODUR(登録商標)N3390;Bayer AGから提供
光潜在性塩基化合物及び増感剤をイソシアネートに溶解する。100μm厚膜をガラスプレートに適用する。1つの試料を、2個の中圧水銀灯(それぞれ80W/cm)をベルト速度5m/分で関連して使用して照射し、他方を暗黒に保存する。試料を、湿潤雰囲気下(相対湿度[RH]=95%)、乾燥機の中に60℃で40分間更に保存する。
照射試料は架橋し、乾燥した泡状物が形成される。光線暴露のない試料は、粘着性の状態を維持する。
光潜在性塩基化合物が照射により塩基を放出し、それが架橋方法を開始するが、照射しないと、配合物を完全に架橋するために十分な量の塩基が放出されないことが示されている。
例A3
成分A(=ヒドロキシ成分)は以下の成分を混合することにより製造する:
36.0%の三官能価ポリプロピレンエーテルポリオール;DESMOPHEN(登録商標)A 5034 BT;Bayer AGから提供
64.0%のポリエステル−ポリオール;BAYCOLL(登録商標)VP KA 8576;Bayer AGから提供
光硬化性配合物は以下の成分を混合することにより製造する:
2.4%の実施例1の光潜在性塩基化合物
2.4%のイソプロピルチオキサントン、増感剤化合物として;DAROCUR(登録商標)ITX;Ciba Scecialty Chemicalsから提供
15.8%の酢酸ブチル、溶媒として;Aldrichから提供
39.7%の成分A(上記に記載)
39.7%の芳香族イソシアネートプレポリマー;DESMODUR(登録商標)E 23;Bayer AGから提供
光潜在性塩基化合物及び増感剤を、適用の少し前にイソシアネートに溶解する。100μm厚膜をガラスプレート(=プレートA)に適用する。膜を40℃で10分間乾燥する。接着剤配合物で被覆されていない第2のガラスプレート(プレートB)を、プレートAの上に押し付ける。プレートAとプレートBを積層した後、系をUV光線に暴露する(ISTの中圧水銀灯、2個のランプを80W/cmで用いてベルト速度5m/分により通過させる)。照射試料を100分間保存した後では、両方のガラスプレートを分離することはもはや不可能である。
例A4
A4.1:イソホロンジイソシアネート及び4−ヒドロキシ−ブチルアクリレートに基づくウレタンアクリレートの製造
反応は窒素雰囲気下で実施し、使用する全ての市販の化学薬品は更に精製することなく用いる。
イソホロンジイソシアネート1566.8g(13.78molのNCO)、ジブチルスズジラウレート2.3g、2,5−ジ−t−ブチル−p−クレゾール2.3g及び酢酸ブチル802.8gを、冷却器及び滴加用装置を有する三首フラスコに投入する。乾燥窒素を反応混合物中にスパージし、温度をゆっくりと60℃に上げる。4−ヒドロキシ−ブチルアクリレート1987g(13.78mol)を加え、反応溶液をゆっくりと80℃に温める。温度を80℃に保持し、滴加装置を酢酸ブチル(86.6g)ですすぐ。イソシアネートの残量を滴定することにより、反応をモニタリングし、イソシアネート含有量が固形分に基づいて0.2%未満になったときに終了させる。以下の物理的特性を有する反応生成物を得る:
4−ヒドロキシ−ブチルアクリレートの残量:固形分に基づいて<0.002%(HPLC分析)、
色:<<ガードナー1、
粘度:43cPa s(20℃)、
固形分:79.3%(140℃で1時間)、
GPCデータ(ポリスチレン基準)M778、M796、d=1.02。
A4.2:マロネートポリエステルの製造
反応は窒素雰囲気下で実施し、使用する全ての市販の化学薬品は更に精製することなく用いる。
撹拌機及び冷却器を有する反応容器の中で、1,5−ペンタンジオール1045g、ジエチルマロネート1377.4g及びキシレン242.1gを注意深く加熱還流する。反応混合物の最高温度は196℃であるが、冷却器の最上部の温度は79℃に保持する。この方法により、エタノール862gを留去し、これは97.7%の変換に相当する。次にキシレンを減圧下、200℃の温度でストリップする。得られたポリマーは、固形分98.6%、粘度2710mPa s及び固形分に基づいた酸価0.3mgKOH/gを有する。Mは1838であり、Mは3186であり、色はAPHAスケール(アメリカ公衆衛生協会;「ヘーゼン」色数;ISO6271)で175である。
A4.3:光重合性配合物の製造
A4.1及びA4.2に記載のように製造された2つの樹脂成分を質量比1:2で混合する。次に、増感剤として0.5%のベンゾフェノン(DAROCUR(登録商標)BP、Ciba Specialty Chemicals)と、同様に2.5%の実施例1の光潜在性塩基を、配合物に加える。光潜在性塩基及び増感剤は、磁石式撹拌機を使用して50℃で配合物に良好に溶解する。
反応性試験を、乾燥時間測定装置(Byk GardnerのByk−Rekorder)により実施する。針は平面ガラスプレートの上に一定速度で引かれる。光開始剤を含む配合物を、スロット高さ75μmのドクターブレードを使用して、このガラスプレートに適用する。測定中、測定装置を、2個の昼光電球(Original Hanau 40 W 001660)を1mの間隔で使用し、光線に暴露する。「段階1」は、成分がまだ互いに反応しない時間を表す。続いて、配合物のゲル化及び硬化が始まる。「段階3」で示される時間に、配合物の硬化が終了する。個々の段階に達するのに要する時間が短いほど、配合物の反応性が高い。結果を、第1表の「段階1」及び「段階3」と表示した列に提示する。
硬度及び黄変を試験するために、配合物を、スロット高さ100μmのドクターブレードを使用して、白色下塗チップボードパネルに適用する。硬化を、6個のTL 40W/03(Philips)ランプにより17時間実施する。この後にケーニッヒ振り子硬度「PH」の測定(秒)(DIN53157)を行う。更に、光開始剤を含有する配合物の保存安定性を測定する。したがって、上記液体配合物を、暗所の褐色ガラス瓶中に室温で保存する。一定の間隔の後、粘度をコーンプレート粘度計の助けを借りて測定する。結果を第2表にまとめる(粘度はポアズで示す)。光潜在性塩基及び増感剤を含まない配合物と比較して、室温での特定の保存時間の後の粘度の差が低いほど、配合物における光開始剤の保存安定性が良好である。
Figure 2010523515
例A5:2−成分ポリウレタン系の硬化
ポリウレタンは、2つの塩基成分:ポリオール(成分A)及びポリイソシアネート(成分B)の反応生成物である。
成分A(=ヒドロキシ成分)は以下の成分を混合することにより製造する:
73.0gのヒドロキシル担持ポリアクリレート(酢酸ブチル中70%);DESMOPHEN(登録商標)A VP LS 2350; Bayer AGから提供
0.9gの添加剤(酢酸ブチル中10%);BYK 333;Bykから提供
0.7gの添加剤(50%供給形態);BYK 355;Bykから提供
0.7gの添加剤(4%供給形態);BYK 141;Bykから提供
24.7gのキシレン/メトキシプロピルアセテート/酢酸ブチルの1:1:1比の混合物、溶媒として
成分B:脂肪族ポリイソシアネート(HDI三量体)DESMODUR N 3390 BA(Bayer AG)。
光硬化性配合物は以下の成分を混合することにより製造する:
0.94g(=4.7%、配合物の総質量の100%に基づく)の実施例1の光潜在性塩基化合物
0.46g(=2.3%)の増感剤化合物、ベンゾフェノン(DAROCUR(登録商標)BP;Ciba Inc.から提供)又はイソプロピルチオキサントン(DAROCUR(登録商標)ITX;Ciba Inc.から提供)
14.7g(=73.5%)の成分A(上記に記載)
3.9g(=19.5%)の成分B(上記に記載)
光潜在性塩基化合物及び増感剤を成分Aに溶解し、イソシアネート成分を適用の直前になって初めて加える。
配合物をスリットコーターにより30cm長のガラスプレートに適用する(76μmの湿潤膜厚)。次に試料を、硬化時間測定前に、UV−A光線(TL 40W/05)により15分間照射し、硬化時間測定は、針が被覆基材の全長にわたって一定速度で6時間移動する、Byk−Gardnerの乾燥記録器を使用してモニタリングする。被覆におけるトレースの評価は、溶媒の蒸発からなる第1段階、最初の架橋である第2段階、そして不粘着性被覆の達成により終了する第3段階の3工程に分けられる硬化過程の査定を可能にする。結果を第3表にまとめる。
Figure 2010523515
この結果は、光潜在性塩基が照射により活性化し、放出された塩基が架橋方法を促進するが、暴露なしでは、架橋が3倍を超えて長くかかることを示し、このことは、光潜在性塩基化合物の高い安定性を示している。
例A6:2−成分エポキシ/チオール系の硬化
光硬化性配合物は以下の成分を混合することにより製造する:
成分A(=エポキシ官能成分):
10.0g(=4.0%、配合物の総質量の100%に基づく)の低粘度BADGEエポキシ樹脂(Ruetapox 0162、Hunstmanから提供)
4.0g(=17.6%)の酢酸ブチル
0.2g(=0.9%)の均展添加剤(Byk 306、Byk Chemieから提供)
成分B(ポリチオール成分):
7.8g(=34.3%)の四官能価ポリチオール、ペンタエリトリトール−テトラメチルプロピオネート(PETMP、Bock Thiol Chemicalsから提供)
これら2つの成分に、下記を加える:
0.356g(=1.6%、配合物の総質量の100%に基づく、又は固形分の1.9%)の光潜在性塩基、第4表に示されている実施例のうちの1つに相当
0.356gの光増感剤、ベンゾフェノン(DAROCUR(登録商標)、Ciba Inc.から提供)又は[4−(4−メチルフェニルチオ)フェニル]−フェニルメタノン(SPEEDCURE BMS、Lambson Ltd.から提供)、但し実施例17及び実施例18の潜塩基化合物の場合は、両方の生成物が「内部」増感剤部分を含有するため除外される
光潜在性塩基化合物及び増感剤を、AとB両方の成分の混合物に溶解する。次に被覆配合物を、スリットコーターにより、約50μm乾燥膜厚で30cm長のガラスプレートに適用する。それぞれの光潜在性塩基化合物において、1つの被覆ガラス試料を、2個の中圧水銀灯(それぞれ100W/cm)をベルト速度5m/分で関連して使用して照射し、別のものを暗黒に保存する。次に不粘着時間を、針が被覆ガラス基材の全長にわたって一定の速度で12時間かけて移動する、Byk−Gardnerの乾燥記録器を使用してモニタリングする。被覆におけるトレースの評価は、溶媒の蒸発からなる第1段階、最初の架橋である第2段階、そして不粘着性被覆の達成により終了する第3段階の3工程に分けられる硬化過程の査定を可能にする。不粘着時間に関する結果を下記の第4表にまとめる。
Figure 2010523515
#DNBは、塩基の1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エンである。
結果は、光潜在性塩基化合物が照射により塩基を放出し、それが架橋方法を開始するが、照射なしでは、配合物を完全に架橋するために十分な量の塩基が放出されないことを示している。
例A7:1成分ブロック化イソシアネート/ポリオール系の硬化
成分Aは以下の成分を混合することにより製造する:
2.6g(=配合物全体の19.2%)のポリエステルポリオール(DESMOPHEN(登録商標)1100;Bayer AGから提供)、ヒドロキシル成分として
2.0g(=配合物の全体の14.7%)の酢酸ブチル、希釈剤として
成分B
8.3g(=61.2%)のブロック化イソシアネート(DESMODUR(登録商標)4282;Bayer AGから提供)
参照配合物は、上記成分と、非光潜在性触媒としてアミジンとを混合することにより製造する:
0.069g(=0.5%)の1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)
試験光硬化性配合物は、上記成分(A及びB)を以下の増感光潜在性アミジン化合物と混合することにより製造する:
0.42g(=3.1%)の実施例1の光潜在性塩基
0.24g(=1.8%)のイソプロピルチオキサントン、増感剤化合物として(DAROCUR(登録商標)ITX;Ciba Inc.から提供)
触媒又は光潜在性塩基化合物を、増感剤と一緒に、AとB両方の成分の混合物に溶解する。混合中及びその後、配合物を光から保護し(暗黒の中)、ジャーの中に保存したままにし、被覆配合物が液体ではなくなり、適用可能になるまでの時間(混合後)を、配合物の可使時間を決定し、UV光線の不在下で光潜在性塩基化合物の潜在性を確認するために、観察及び記録する。一方、被覆配合物を、スリットコーターにより約150μmの湿潤膜厚でガラスプレート(振り子硬度測定に適した大きさ)に適用する。それぞれの被覆配合物において、2枚の被覆ガラスプレートを、2個の中圧水銀灯(それぞれ80W/cm)をベルト速度5m/分で関連して使用して照射し、UV暴露後、一方のガラスプレートを120℃のオーブンに15分間入れ、他方を150℃のオーブンに15分間入れる。他の2枚の被覆ガラスプレートは、単に、一方は120℃で15分間、他方は150℃で15分間オーブンの中に入れる。これらの硬化条件に従い、被覆がもはや粘着性ではなくなるとき。硬化後の被覆のケーニッヒによる振り子硬度(PH;DIN53157に従う)、並びに配合物の可使時間に関する結果を、以下の第5表にまとめる。
Figure 2010523515

Claims (18)

  1. 式(I)、(II)又は(III):
    Figure 2010523515
    [式中、
    Arは、フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アントリレン又はアントラキノニレンであり、これらは全て非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、CH2OR11、COOR12、CONR1213若しくはハロゲンで置換されており;
    1、R2、R7及びR8は、互いに独立して、水素又はC1〜C6アルキルであり;
    3及びR5は、共に、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキルで置換されているC2〜C6アルキレン架橋を形成し;
    4及びR6は、共に、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキルで置換されているC2〜C6アルキレン架橋を形成し;
    11は、水素、C1〜C6アルキル又はフェニルであり;
    12及びR13は、互いに独立して、水素、フェニル、C1〜C18アルキル、1つ以上のOで中断されているC1〜C18アルキルであるか;或いは
    12及びR13は、下記:
    Figure 2010523515
    であり;
    nは、1〜10であり;
    Xは、直接結合、O、S又はNR10であり;
    Aは、nが1である場合、水素、非中断C1〜C18アルキル又は1つ以上のO若しくはN(R′13)で中断されているC1〜C18アルキルであり、非中断又は中断C1〜C18アルキルは、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C8アルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12、OCOR14若しくはハロゲンで置換されているか;或いは
    Aは、C2〜C18アルケニルであるか又は1つ以上のOで中断されているC3〜C18アルケニルであり、C2〜C18アルケニル又は中断C3〜C18アルケニルは、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C8アルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12、ハロゲン若しくはC7〜C15アラルキルで置換されているか;或いは
    Aは、nが1である場合、下記:
    Figure 2010523515
    の基であるか;或いは
    Aは、nが1である場合、下記:
    Figure 2010523515
    の基を意味するか;或いは
    XがOである場合、追加的に、X−AはXを意味し;
    Aは、nが1を超える場合、
    n価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基であり、これは場合により1つ以上のO、S、N(R′13)、フェニレン、ナフチレン、下記:
    Figure 2010523515
    で中断されており、
    非中断又は中断のn価飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基は、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C8アルキル、C1〜C6ヒドロキシアルキル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されているか;或いは
    Aは、XがNR10である場合、n価ポリアルキレン−イミンであり、ここでn価ポリアルキレン−イミンは、非中断であるか又は1つ以上の(CO)、(CO)O若しくは二重結合で中断されており、非中断又は中断n価ポリアルキレン−イミンは、非置換であるか又は下記:
    Figure 2010523515
    で置換されているか;或いは
    XがOである場合、追加的に、1つ以上のX−Aは、X n+又はX nYを意味し;
    yは、1〜20の整数であり;
    zは、1〜8の整数であり;
    R′13は、R12及びR13で示された意味のうちの1つを有するか又は基(TX)であり;
    10は、nが1であるAで示された意味のうちの1つを有し;
    1は、nが1である場合、水素、C1〜C18アルカノイル又は1つ以上のO及び/若しくはCOで中断されているC2〜C18アルカノイルであり、非中断又は中断C2〜C18アルカノイルは、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、フェニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されているか;或いは
    前記非中断又は中断C2〜C18アルカノイルは、非置換又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されているC6〜C10アリールにより置換されているか;或いは
    1は、非置換であるか又は1つ以上の、C1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12、ハロゲンにより、若しくは非置換の若しくは1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されているC6〜C10アリールにより置換されているC3〜C18アルケノイルか;
    非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されているC2〜C18アルキルアミノカルボニルか;
    非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、OR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されているC6〜C20アリールアミノカルボニルか;
    非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、OR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されているC7〜C20アリールアルキルアミノカルボニルか;
    両方とも非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213若しくはハロゲンで置換されている、C7〜C15アロイル又はC5〜C15ヘテロアロイルであるか;或いは
    1は、nが1である場合、下記:
    Figure 2010523515
    の基を意味し;
    1は、nが1を超える場合、
    場合により1つ以上のOで中断されており、非中断又は中断C2〜C30アルカノイルが、非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されている、n価のC2〜C30アルカノイルか;
    両方とも非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されている、n価のC8〜C20アロイル又はC6〜C20ヘテロアロイルであるか;
    非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されているn価のC10〜C20アラルカノイルか;
    非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されており、非置換又は置換n価C1〜C30アルキルアミノカルボニル基が、場合により、イソシアネート又はその誘導体の二量体又は三量体を介して結合している幾つかの一価C1〜C30アルキルアミノカルボニル基から構成されている、n価のC1〜C30アルキルアミノカルボニルか;
    非置換であるか又は1つ以上のC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、CN、OR11、SR11、NR1213、COOR12若しくはハロゲンで置換されているn価のC6〜C20アリールアミノカルボニルか;或いは
    1は、nが1を超える場合、下記:
    Figure 2010523515
    の基を意味し;
    Lは、直接結合、非置換C1〜C20アルキレン、フェニル若しくは1つ以上のOHで置換されているC1〜C20アルキレン、1つ以上のO、S、O(CO)、(CO)Oで中断されているC1〜C20アルキレンか、又は
    1〜C20アルキレン−O−(CO)、C1〜C20アルキレン−N(RR19)(CO)、C1〜C20アルキレン−S、C1〜C20アルキレン−O、C1〜C20アルキレン−(NRR19)若しくはC1〜C20アルキレン−(CO)−N(RR19)であり、ここで基C1〜C20アルキレン−O−(CO)、C1〜C20アルキレン−N(RR19)(CO)、C1〜C20アルキレン−S、C1〜C20アルキレン−O、C1〜C20アルキレン−(NRR19)及びC1〜C20アルキレン−(CO)−N(RR19)において、ベンゾフェノン基への結合は、ヘテロ原子N、S若しくはOを介する又はCO基を介することが意図されているか;或いは
    Lは、(CO)−Qであり;
    Qは、直接結合、C1〜C8アルキレン又は1つ以上のOで中断されているC1〜C8アルキレンであり;
    1は、直接結合、CO、非置換C1〜C20アルキレン、フェニル若しくは1つ以上のOHで置換されているC1〜C20アルキレン、1つ以上のO、S若しくはNR24で中断されているC1〜C20アルキレン、1つ以上のO、S若しくはNR24で中断され、OHで置換されているC1〜C20アルキレンか、又は
    非置換C1〜C20アルキレン−O−(CO)若しくはOHで置換されているC1〜C20アルキレン−O−(CO)か、又はアルキレンが1つ以上のOで中断されているC1〜C20アルキレン−O−(CO)、C1〜C20アルキレン−N(RR19)(CO)、C1〜C20アルキレン−S、C1〜C20アルキレン−O、C1〜C20アルキレン−(NRR19)若しくはC1〜C20アルキレン−(CO)−N(RR19)であり、ここで基C1〜C20アルキレン−O−(CO)若しくはOHで置換されているC1〜C20アルキレン−O−(CO)若しくはアルキレンが1つ以上のOで中断されているC1〜C20アルキレン−O−(CO)、C1〜C20アルキレン−N(RR19)(CO)、C1〜C20アルキレン−S、C1〜C20アルキレン−O、C1〜C20アルキレン−(NRR19)又はC1〜C20アルキレン−(CO)−N(RR19)において、チオキサントン基への結合は、ヘテロ原子N、S若しくはOを介する又はCO基を介することが意図されているか;或いは
    1は、(CO)−C1〜C20アルキレン−Oであり、ここでチオキサントン基への結合はO原子を介していることが意図されているか;或いは
    1は、(CO)−Qであり;
    Yは、n価のカチオン性対イオンであり;
    14は、−CH=CH2又は−C(CH3)=CH2であり;
    15、R16、R17及びR18は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1〜C12アルキル、OR11、SR11、NR1213又は(CO)OR11であり;
    RR19は、水素又はC1〜C6アルキルであり;
    20、R21、R22及びR23は、互いに独立して、R15、R16、R17及びR18で定義された意味のうちの1つを有し;
    24は、水素、C1〜C10アルキル又はOHで置換されているC1〜C10アルキルであり、そして
    25、R26、R27、R28及びR29は、互いに独立して、C1〜C4アルキルである]
    で示される光潜在性塩基化合物。
  2. XがO又はNR10、特にOである、請求項1に記載の式(I)又は(III)の光潜在性塩基化合物。
  3. Arが、フェニレンであり;
    1及びR2が、互いに独立して、水素であり;
    3及びR5が、共に、プロピレン架橋を形成し;
    4及びR6が、共に、C3〜C5アルキレン架橋を形成し;
    11が、水素又はC1〜C6アルキルであり;
    12及びR13が、互いに独立して、水素又はC1〜C18アルキルであり;
    nが、式(I)の化合物では1又は2であり、式IIIの化合物では1であり;
    Xが、O、S、NR10又は直接結合であり;
    10が、水素であり;
    Aが、nが1である場合、非中断であるか又は1つ以上のOで中断されている、C1〜C18アルキルであり、非中断又は中断C1〜C18アルキルが非置換であるか又はOR11、NR1213若しくはOCOR14で置換されているか;或いは
    Aが、C2〜C8アルケニルであるか;或いは
    Aが、基(TX)又は(BP)であるか;或いは
    XがOである場合、追加的に、X−AがXを意味し;
    1が、C1〜C8アルキレン−Sであり;
    Lが、C1〜C8アルキレン−Sであり;
    14が、−CH=CH2であり;
    15、R16、R17及びR18が、水素であり;
    20、R21、R22及びR23が、水素であり;
    Aが、nが1を超える場合、n価の飽和又は不飽和C2〜C50炭化水素基として、C2〜C18アルキレンであり、これが場合により1つ以上のOで中断されており、非中断又は中断C2〜C18アルキレンが、非置換であるか又はOR11で置換されているか;或いは
    Aが、nが1を超える場合、n価のポリアルキレンイミンであり、これが、非中断であるか又は(CO)、(CO)O若しくは二重結合で中断されており、非中断又は中断n価ポリアルキレンイミンが、非置換であるか又は下記:
    Figure 2010523515
    で置換されており;
    1が、nが1である場合、水素又は非置換若しくはCOOR12で置換されているC2〜C18アルカノイルであり;
    25、R26、R27、R28及びR29が、メチルであり;
    yが、1〜12の整数であり;そして
    n価カチオン性対イオンとしてのYが、アルカリ金属である、請求項1に記載の式(I)又は(III)の光潜在性塩基化合物。
  4. (A)少なくとも1つの、請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物と、
    (B)塩基触媒付加、縮合若しくは置換反応が可能である、又は塩基触媒反応により異なる形態に変換される、少なくとも1つの有機化合物と、を含む組成物。
  5. 成分(B)が、塩基触媒反応で重合又は架橋する有機物質である、請求項4に記載の組成物。
  6. 成分(B)が、以下の系:
    a)アルコキシシラン及び/又はアルコキシシロキサン側基を有するアクリルコポリマー;
    b)ヒドロキシル含有ポリアクリレート、ポリエステル及び/又はポリエーテルと、脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとを含む2成分系;
    c)官能ポリアクリレートとエポキシドとを含む2成分系(ポリアクリレートはチオール、アミノ、カルボキシル及び/又は無水基を含有する);
    d)フッ素改質又はシリコーン改質ヒドロキシル含有ポリアクリレート、ポリエステル及び/又はポリエーテルと、脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとを含む2成分系;
    e)(ポリ)ケチミンと脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとを含む2成分系;
    f)(ポリ)ケチミンと、不飽和アクリル樹脂又はアセトアセテート樹脂又はα−アクリルアミドメチルグリコール酸メチルとを含む2成分系;
    h)(ポリ)オキサゾリジンと、無水基含有ポリアクリレート又は不飽和アクリル樹脂又はポリイソシアネートとを含む2成分系;
    i)エポキシ官能ポリアクリレートと、カルボキシル含有又はアミノ含有ポリアクリレートとを含む2成分系;
    l)アリルグリシジルエーテルをベースとするポリマー;
    m)(ポリ)アルコール及び/又はポリチオールと、(ポリ)イソシアネートとを含む2成分系;
    n)α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物と、活性CH2基を含有するポリマーとを含む2成分系;
    o)活性CH2基を含有するポリマー(活性CH2基は、主鎖若しくは側鎖のいずれか又は両方に存在する)又は(ポリ)アセトアセテート及び(ポリ)シアノアセテートのような活性CH2基を含有するポリマーと、ポリアルデヒド架橋剤とを含む2成分系;
    p)ブロック化イソシアネートと水素供与体とを含む2成分系又は1成分系;
    q)チオールマイケル系のうちの1つである、請求項4に記載の組成物。
  7. 成分(B)が、エポキシ樹脂又は異なるエポキシ樹脂の混合物である、請求項4に記載の組成物。
  8. 成分(A)が、成分(B)に基づいて0.01〜20質量%、特に0.01〜10質量%の量で存在する、請求項4に記載の組成物。
  9. 成分(A)及び(B)に加えて、特にベンゾフェノン及びベンゾフェノン誘導体からなる群より選択される増感剤(C)を含む、請求項4に記載の組成物。
  10. 塩基触媒反応を実施する方法であって、請求項4から9までのいずれか1項に記載の組成物を200nm〜650nmの波長を有する光線の照射に付すことを含む、方法。
  11. 加熱を、光線への暴露前、暴露中又は暴露後に実施する、請求項10に記載の方法。
  12. 光化学的に誘導された塩基触媒重合、付加又は置換反応のための光開始剤としての、請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物の使用。
  13. 被覆、接着剤、インク、成形コンパウンド又は光構造層を製造するための、請求項10及び11のいずれかに記載の方法。
  14. 請求項4に記載の組成物で少なくとも1面が被覆された被覆基材。
  15. 請求項4に記載の重合又は架橋組成物。
  16. 式(V):
    Figure 2010523515
    [式中、
    3、R4、R5及びR6は、請求項1で定義されたとおりである]
    で示される組成物を製造する方法であって、
    請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の化合物を、適宜、増感剤(C)の存在下、200nm〜650nmの波長を有する光線の照射に付すことを含む方法。
  17. Xが、Oであり;
    nが、1であり;
    Aが、水素又はC1〜C18アルキルであり;そして
    1が、水素又はC2〜C18アルカノイルである
    請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物を、
    式(I)、(II)又は(III)の前記化合物を多官能価アルコール、アミン、チオール、エポキシド、イソシアネート、カルボン酸又はカルボン酸塩化物と反応させて多官能価光潜在性アミンを製造する出発材料として用いる使用。
  18. Xが、Oであり;
    nが、1であり;
    Aが、水素又はC1〜C18アルキルであり;そして
    1が、水素又はC2〜C18アルカノイルである
    請求項1に記載の式(I)、(II)又は(III)の光潜在性塩基化合物を、
    光潜在性アミン基で末端がキャップされているオリゴマーの製造のための成分として用いる使用。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017527637A (ja) * 2014-06-23 2017-09-21 カーボン,インコーポレイテッド 三次元物体の製造に使用する多様な硬化機構を有するポリウレタン樹脂

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008037635A1 (en) * 2006-09-29 2008-04-03 Ciba Holding Inc. Photolatent bases for systems based on blocked isocyanates
US9921477B2 (en) 2007-04-03 2018-03-20 Base Se Photoactivable nitrogen bases
EP2285836B1 (en) * 2008-06-06 2012-01-18 Basf Se Photoinitiator mixtures
CN101967343A (zh) * 2010-10-22 2011-02-09 广州市博兴化工科技有限公司 一种光固化色漆
GB2491643A (en) 2011-06-10 2012-12-12 Lambson Ltd Method of forming a polymeric material on a substrate
US9616460B2 (en) 2011-12-02 2017-04-11 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Terminate-on-demand cationic polymerization method for forming a two-dimensional coating
US9758607B2 (en) 2013-10-10 2017-09-12 Research Foundation Of The City University Of New York Polymer with antibacterial activity
DE102014202609B4 (de) 2014-02-13 2020-06-04 tooz technologies GmbH Aminkatalysierte Thiolhärtung von Epoxidharzen
CN106537255A (zh) * 2014-04-18 2017-03-22 陶氏环球技术有限责任公司 用于lcd的彩色滤光片的蒽醌化合物
MX2017010111A (es) 2015-02-05 2017-11-23 Carbon Inc Metodo de fabricacion aditiva mediante exposicion intermitente.
WO2016140886A1 (en) 2015-03-05 2016-09-09 Carbon3D, Inc. Fabrication of three dimensional objects with multiple operating modes
CA2984145A1 (en) 2015-04-29 2016-11-03 3M Innovative Properties Company Method of making a polymer network from a polythiol and a polyepoxide
JP7069006B2 (ja) 2015-09-04 2022-05-17 カーボン,インコーポレイテッド 積層造形用シアネートエステル二重硬化樹脂
WO2017044381A1 (en) 2015-09-09 2017-03-16 Carbon3D, Inc. Epoxy dual cure resins for additive manufacturing
US10647873B2 (en) 2015-10-30 2020-05-12 Carbon, Inc. Dual cure article of manufacture with portions of differing solubility
WO2017079502A1 (en) 2015-11-05 2017-05-11 Carbon, Inc. Silicone dual cure resins for additive manufacturing
WO2017112483A2 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Accelerants for additive manufacturing with dual cure resins
CN115195104B (zh) 2015-12-22 2023-12-05 卡本有限公司 用于用双重固化树脂的增材制造的双重前体树脂系统
JP6944935B2 (ja) 2015-12-22 2021-10-06 カーボン,インコーポレイテッド 二重硬化樹脂を用いた積層造形による複数の中間体からの複合生産物の製作
WO2017112571A1 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Dual cure additive manufacturing of rigid intermediates that generate semi-rigid, flexible, or elastic final products
US10343331B2 (en) 2015-12-22 2019-07-09 Carbon, Inc. Wash liquids for use in additive manufacturing with dual cure resins
WO2017112751A1 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Blocked silicone dual cure resins for additive manufacturing
US10501572B2 (en) 2015-12-22 2019-12-10 Carbon, Inc. Cyclic ester dual cure resins for additive manufacturing
US10500786B2 (en) 2016-06-22 2019-12-10 Carbon, Inc. Dual cure resins containing microwave absorbing materials and methods of using the same
WO2018069526A1 (en) * 2016-10-14 2018-04-19 Basf Se Hardenable polymer composition
CN110023056B (zh) * 2016-11-21 2021-08-24 卡本有限公司 通过递送反应性组分用于后续固化来制造三维物体的方法
KR102564083B1 (ko) 2016-12-05 2023-08-08 알케마 인코포레이티드 개시제 블렌드 및 그러한 개시제 블렌드를 함유하는 3차원 인쇄에 유용한 광경화성 조성물
US11535686B2 (en) 2017-03-09 2022-12-27 Carbon, Inc. Tough, high temperature polymers produced by stereolithography
US10367228B2 (en) 2017-04-07 2019-07-30 Seeo, Inc. Diester-based polymer electrolytes for high voltage lithium ion batteries
US10316213B1 (en) 2017-05-01 2019-06-11 Formlabs, Inc. Dual-cure resins and related methods
JP6894015B2 (ja) 2017-06-21 2021-06-23 カーボン,インコーポレイテッド 積層造形の方法
JP7066847B2 (ja) * 2017-11-24 2022-05-13 ルネラ・バイオテック・インコーポレーテッド がん幹細胞を根絶するトリフェニルホスホニウム誘導体化合物
US11135649B2 (en) * 2018-02-27 2021-10-05 Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University Direct metal printing with stereolithography
US11504903B2 (en) 2018-08-28 2022-11-22 Carbon, Inc. 1K alcohol dual cure resins for additive manufacturing
EP3848179A1 (de) 2020-01-10 2021-07-14 Carl Zeiss Vision International GmbH Inkjet-verfahren zur herstellung eines brillenglases
US20220011670A1 (en) * 2020-07-08 2022-01-13 International Business Machines Corporation Resist underlayer surface modification
DE102022110540A1 (de) 2022-04-29 2023-11-02 tooz technologies GmbH Verfahren zur anpassung des brechungsindex

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001512421A (ja) * 1997-01-22 2001-08-21 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基
JP2001513765A (ja) * 1997-02-26 2001-09-04 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド α−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトンおよびアリールボラートに基づく、光による活性化が可能な窒素含有塩基
JP2001515500A (ja) * 1997-03-18 2001-09-18 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド α−アミノアルケン類に基づく光励起性の窒素含有塩基類
JP2005511536A (ja) * 2001-10-17 2005-04-28 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 光活性化窒素塩基
JP2005523803A (ja) * 2002-04-19 2005-08-11 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド プラズマにより誘導される被覆の硬化

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0448154A1 (en) * 1990-03-20 1991-09-25 Akzo Nobel N.V. Coating composition including a blocked basic catalyst
WO1994028075A1 (en) 1993-05-26 1994-12-08 Akzo Nobel N.V. Coating composition including a uv-deblockable basic catalyst
US6362301B1 (en) 1994-06-13 2002-03-26 Rohm And Haas Company Curable composition
US5998496A (en) 1995-10-31 1999-12-07 Spectra Group Limited, Inc. Photosensitive intramolecular electron transfer compounds
ES2153177T5 (es) 1996-02-22 2006-04-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Fotocatalizador anionico.
EP0898202B1 (en) 1997-08-22 2000-07-19 Ciba SC Holding AG Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones
US6489374B1 (en) * 1998-08-21 2002-12-03 Ciba Specialty Chemicals Corporation Photoactivatable bases containing nitrogen
EP1285012B1 (en) 2000-05-26 2007-01-10 Akzo Nobel Coatings International B.V. Photoactivatable coating composition
US20070249484A1 (en) * 2004-07-21 2007-10-25 Johannes Benkhoff Process for the Photoactivation and use of a Catalyst by an Inverted Two-Stage Procedure
EP2041217A2 (en) 2006-07-17 2009-04-01 Ciba Holding Inc. Method of bonding
WO2008037635A1 (en) 2006-09-29 2008-04-03 Ciba Holding Inc. Photolatent bases for systems based on blocked isocyanates
US9921477B2 (en) 2007-04-03 2018-03-20 Base Se Photoactivable nitrogen bases

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001512421A (ja) * 1997-01-22 2001-08-21 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基
JP2001513765A (ja) * 1997-02-26 2001-09-04 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド α−アンモニウムケトン、イミニウムケトンまたはアミジニウムケトンおよびアリールボラートに基づく、光による活性化が可能な窒素含有塩基
JP2001515500A (ja) * 1997-03-18 2001-09-18 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド α−アミノアルケン類に基づく光励起性の窒素含有塩基類
JP2005511536A (ja) * 2001-10-17 2005-04-28 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 光活性化窒素塩基
JP2005523803A (ja) * 2002-04-19 2005-08-11 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド プラズマにより誘導される被覆の硬化

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017527637A (ja) * 2014-06-23 2017-09-21 カーボン,インコーポレイテッド 三次元物体の製造に使用する多様な硬化機構を有するポリウレタン樹脂
US10647879B2 (en) 2014-06-23 2020-05-12 Carbon, Inc. Methods for producing a dental mold, dental implant or dental aligner from materials having multiple mechanisms of hardening
US10647880B2 (en) 2014-06-23 2020-05-12 Carbon, Inc. Methods of producing polyurethane three-dimensional objects from materials having multiple mechanisms of hardening
US10899868B2 (en) 2014-06-23 2021-01-26 Carbon, Inc. Methods for producing footwear with materials having multiple mechanisms of hardening
US10968307B2 (en) 2014-06-23 2021-04-06 Carbon, Inc. Methods of producing three-dimensional objects from materials having multiple mechanisms of hardening
US11299579B2 (en) 2014-06-23 2022-04-12 Carbon, Inc. Water cure methods for producing three-dimensional objects from materials having multiple mechanisms of hardening
US11312084B2 (en) 2014-06-23 2022-04-26 Carbon, Inc. Methods for producing helmet inserts with materials having multiple mechanisms of hardening
US11358342B2 (en) 2014-06-23 2022-06-14 Carbon, Inc. Methods of producing three-dimensional objects from materials having multiple mechanisms of hardening
US11440266B2 (en) 2014-06-23 2022-09-13 Carbon, Inc. Methods of producing epoxy three-dimensional objects from materials having multiple mechanisms of hardening
US11707893B2 (en) 2014-06-23 2023-07-25 Carbon, Inc. Methods for producing three-dimensional objects with apparatus having feed channels
US11850803B2 (en) 2014-06-23 2023-12-26 Carbon, Inc. Methods for producing three-dimensional objects with apparatus having feed channels

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