JP2010517277A - 部材を製造する方法及びセンサエレメント - Google Patents
部材を製造する方法及びセンサエレメント Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010517277A JP2010517277A JP2009546662A JP2009546662A JP2010517277A JP 2010517277 A JP2010517277 A JP 2010517277A JP 2009546662 A JP2009546662 A JP 2009546662A JP 2009546662 A JP2009546662 A JP 2009546662A JP 2010517277 A JP2010517277 A JP 2010517277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- layer
- cavity
- diaphragm
- access opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00015—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
- B81C1/00134—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems comprising flexible or deformable structures
- B81C1/00182—Arrangements of deformable or non-deformable structures, e.g. membrane and cavity for use in a transducer
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/0007—Fluidic connecting means
- G01L19/0038—Fluidic connecting means being part of the housing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/02—Sensors
- B81B2201/0264—Pressure sensors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2207/00—Microstructural systems or auxiliary parts thereof
- B81B2207/01—Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS
- B81B2207/015—Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS the micromechanical device and the control or processing electronics being integrated on the same substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
- B81C2201/0101—Shaping material; Structuring the bulk substrate or layers on the substrate; Film patterning
- B81C2201/0111—Bulk micromachining
- B81C2201/0115—Porous silicon
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Micromachines (AREA)
Abstract
本発明は、部材表面に形成されていて空洞(12)を覆っている少なくとも1つのダイヤフラム(11)と、部材背側を起点として延びていて空洞(12)に通じる少なくとも1つの接近開口(14)とを備えた部材(10)を製造する方法であって、少なくとも1つの第1のダイヤフラム層(2)と空洞(12)とを、部材表面を起点として、モノリシックの半導体基板(1)において生ぜしめ、接近開口(14)を、部材背側を起点として、時間的に制限されたエッチングプロセスにおいて生ぜしめる形式の方法に関する。このような形式の方法において本発明の方法では、接近開口(14)を、基板材料が第1のダイヤフラム層(2)に達する領域に配置し、接近開口(14)を生ぜしめるためのエッチングプロセスが、少なくとも1つの異方性のエッチングステップと少なくとも1つの等方性のエッチングステップとを有しており、異方性のエッチングステップにおいて、基板背側を起点として延びるエッチング通路(15)を生ぜしめ、該エッチング通路(15)は第1のダイヤフラム層(2)の下側において空洞(12)の周囲において終わっており、エッチング通路(15)の少なくとも端部領域(16)を、等方性のエッチングステップにおいて、エッチング通路(15)が空洞に接続されるまで拡大させる。
Description
本発明は、部材表面に形成されていて空洞を覆っている少なくとも1つのダイヤフラムと、部材背側を起点として延びていて空洞に通じる少なくとも1つの接近開口とを備えた部材を製造する方法であって、少なくとも1つの第1のダイヤフラム層と空洞とを、部材表面を起点として、モノリシックの半導体基板において生ぜしめ、接近開口を、部材背側を起点として、時間的に制限されたエッチングステップにおいて生ぜしめる形式の方法に関する。
さらに本発明は、相対圧力測定のためのセンサエレメントとして使用されるこのような部材に関する。
ダイヤフラムを備えたマイクロメカニカル式のセンサエレメントを、相対圧力測定のために使用することは、公知である。このような使用のために、多くの場合部材表面に形成されているダイヤフラムは、両側において接近可能でなくてはならない。実地において、このようなマイクロメカニカル式のセンサエレメントのダイヤフラムは、従ってしばしばウェーハ背側を起点として露出させられる。そのためには、例えばKOHエッチングのような容積マイクロメカニカル式(volumenmikromechanisch)の方法が使用され、この場合センサエレメントのサイズのために重要な比較的大きな切欠きが発生する。
独国特許出願DE10032579A1、DE102004036035A1及びDE102004036032A1には、APSM(Advanced Porous Silicon Membrane)技術という概念でも公知の方法が記載されている。これらの方法によって例えば、チップ面積及び製造誤差の極めて小さな絶対圧力測定のためのセンサエレメントを、製造することができる。このような方法は、極めて簡単に実現することができ、かつ相応に安価である。APSM技術はさらにCMOSに適合しているので、評価回路の回路エレメント及び特に圧電抵抗式の信号検出のための抵抗もまた、簡単にセンサエレメントに組み付けることができる。
DE10032579A1に基づいて公知の方法では、モノリシックのシリコン基板のマスキングされていない表面領域に作用するエッチング媒体を用いて、第1の多孔性の層領域が基板に、基板領域に隣接して生ぜしめられる。孔の拡大速度には、基板の上側と下側との間における電界の印加と、エッチング攻撃中の電界強度の適宜な調節とによって影響を与えることができる。電界強度を高めることによって、第1の層領域の下には第2の多孔性の層領域が生ぜしめられ、この第2の層領域の多孔率は第1の層領域の多孔率よりも大きい。次に行われる熱処理ステップにおいて、第2の層領域における孔は再配列されて、ただ1つの大きな孔、つまり空洞が、第1の層領域の下に生ぜしめられる。少なくとも第1の層領域の上側における孔は、熱処理によってほぼ閉鎖される。これによって第1の層領域上に、単結晶のシリコン層をダイヤフラム層として析出することが可能になり、このダイヤフラム層には次いで、例えば抵抗のような電気的な回路エレメントを、信号検出及び信号評価のために組み付けることが可能である。
DE102004036035A1及びDE102004036032A1に基づいて公知の方法によれば、半導体坦体に第1の領域が第1のドーピングによって生ぜしめられ、この第1の領域は、生ぜしめられるダイヤフラムの下に空洞を形成するようになっている。この第1の領域の上には、格子形状の領域が第2のドーピングによって生ぜしめられ、この格子形状の領域は、生ぜしめられるダイヤフラムのための安定化エレメントとして働く。第1の方法バリエーションでは、次いで第1の領域は安定化エレメントの格子開口によって高い多孔性を有するようにエッチングされる。種々異なったドーピングに基づいて、安定化エレメントはこの場合実際には作用を受けない。その後で半導体坦体にはエピタキシャル層が設けられる。このエピタキシャル層は実質的に、安定化エレメントの格子構造の上において成長し、この場合成長は鉛直方向においても横方向においても行われ、その結果格子開口は閉鎖される。第1の領域の多孔率の高い半導体材料は、成長過程の間又は熱処理ステップの間に、理想的には単結晶のエピタキシャル層の下における大きな孔もしくは空洞に再配列(umlagern)され、エピタキシャル層はダイヤフラム層として機能する。第2の方法バリエーションでは、第1の領域の半導体材料は、エピタキシャル層の形成前に完全に溶出される。
空洞に隣接するダイヤフラム層はこの場合しばしばプロセスに基づいて、基板と同じ材料、つまり単結晶のシリコンから成っているので、空洞に通じる接近開口を生ぜしめるために基板背側を後で構造化することには、問題がある。この場合には、ダイヤフラム構造体を保護するために特別な処置が必要である。
US2006/0260408A1はこの問題に関している。この場合特に、基板背側を起点として行われるエッチング攻撃を時間的に制限することが提案され、つまり空洞に通じる接近開口が生ぜしめられ、この空洞の上に位置するダイヤフラム構造体が可能な限り攻撃されないようにすることが、提案される。
実際に分かったことであるが、背側におけるエッチング攻撃のこのような時間的な制限は、臨界的もしくは極めて困難であり、従って大量生産のために適しているとは言えない。それというのは、ダイヤフラム構造体の厚さ及び空洞の大きさは、基板厚さに比べて僅かだからである。しかも、ダイヤフラム構造体の厚さは、通常基板材料として使用されるウェーハが製造される厚さ変動の範囲にある。従って全体として、背側におけるエッチング攻撃の時間的な制限は、極めてデリケートであり、つまり極めて高い精度が要求される。
発明の開示
ゆえに本発明の課題は、ダイヤフラムの下における空洞に通じる接近開口を生ぜしめるために、部材表面にダイヤフラム構造体を備えた部材の背側を後から加工することができる、簡単な処置を提供することである。
ゆえに本発明の課題は、ダイヤフラムの下における空洞に通じる接近開口を生ぜしめるために、部材表面にダイヤフラム構造体を備えた部材の背側を後から加工することができる、簡単な処置を提供することである。
この課題を解決するために本発明の構成では、冒頭に述べた形式の方法において、接近開口を、基板材料が第1のダイヤフラム層に達する領域に配置し、接近開口を生ぜしめるためのエッチングプロセスが、少なくとも1つの異方性のエッチングステップと少なくとも1つの等方性のエッチングステップとを有しており、異方性のエッチングステップにおいて、基板背側を起点として延びるエッチング通路を生ぜしめ、該エッチング通路は第1のダイヤフラム層の下側において空洞の周囲において終わっており、エッチング通路の少なくとも端部領域を、等方性のエッチングステップにおいて、エッチング通路が空洞に接続されるまで拡大させるようにした。
本発明による方法の枠内において、背側の接近開口を生ぜしめる場合のエッチング停止は、付加的なエッチング停止層なしに、エッチングプロセスの時間的な制限によって簡単に実現される。本発明によればつまり、エッチングプロセスの時間は空洞の下の領域における基板の厚さに正確に調整される必要はなく、2段階のエッチングプロセスとの組合せにおける接近開口の巧みな配置によって、製造プロセスを著しく簡単化する製造誤差が生ぜしめられる、つまり製造プロセス時に極めて小さな製造誤差が要求されない、ということが分かった。本発明の方法では、接近開口は、基板材料が第1のダイヤフラム層に接近する領域に配置される。異方性のエッチングステップにおいて生ぜしめられるエッチング通路はつまり、直接、空洞に開口するのではなく、空洞の周囲における第1のダイヤフラム層の下において終わっている。つまりこの異方性のエッチングステップの時間は単に、エッチング通路の終端部がほぼ空洞の鉛直方向寸法に相当する領域に位置しているように、設定されるだけでよい。次いで行われる等方性のエッチングステップによって初めて、エッチング通路と空洞との間における接続部が生ぜしめられる。この等方性のエッチングステップの時間は確かにエッチング通路の位置及び深さに合わせられねばならないが、しかしながら異方性のエッチング攻撃の場合におけるほど臨界的ではない。本発明による処置によって、全体として製造方法は繊細ではなくなる。エッチングプロセスの時間は例えば、基板の厚さ変化が通常の枠内において生じているのであれば、この基板厚さ変化とは無関係に設定することができる。
基本的に、本発明による方法を実現するためには、接近開口の配置形式に関して種々様々な可能性がある。例えば接近開口を、空洞の外側の縁部領域に配置することが可能であり、このようにすると、ダイヤフラムの機械的な特性に対する影響を可能な限り小さくすることができる。本発明の別の有利な方法では、空洞を中空室によって形成し、該中空室に、第1のダイヤフラム層の下に延在していて背側における圧力接続のために働く分岐路もしくはスタブ路(Stichleitung)が接続している。この場合中空室の上におけるダイヤフラム領域は、測定値検出のために働く。接近開口はこの場合スタブ路の領域に配置され、これによって中空室の上の領域におけるダイヤフラムの機械的な特性は可能な限り僅かしか損なわれない。本発明の別の有利な方法では、接近開口を、ダイヤフラムの支持個所の領域において生ぜしめ、この支持個所は空洞の内部に形成される。支持個所によってダイヤフラムは、製造プロセス中に支持されかつ安定化される。
本発明による方法は、ダイヤフラム構造体は部材表面を起点として延びるように基板材料内において生ぜしめられる、ということを出発点とする。このことは、種々様々な形式において行うことができる。上に述べたAPSM技術をダイヤフラム構造体を生ぜしめるために使用すると、特に有利である。
従って1つの方法バリエーションでは、初めに第1の多孔性の層領域を半導体基板において生ぜしめ、次いでこの第1の多孔性の層領域の下に、第2の多孔性の層領域を基板において生ぜしめ、この場合第2の層領域の多孔率は、第1の層領域の多孔率よりも大きく、次に行われる熱処理ステップにおいて、第2の層領域を中空室もしくは空洞に変化させ、この熱処理ステップに第1の層領域の孔を少なくともほぼ閉鎖状態に保ち、これにより第1の層領域が空洞の上に第1のダイヤフラム層を形成するようにした。
本発明による方法の別のバリエーションでは、半導体基板に多孔性の層領域を生ぜしめ、次いで該多孔性の層領域の上に、基板材料製のエピタキシャル層を析出し、多孔性の層領域を次の熱処理ステップにおいて空洞に変化させ、これによりエピタキシャル層が空洞の上に第1のダイヤフラム層を形成するようにした。
特に有利な方法バリエーションでは、半導体基板に第1の層領域をドーピングによって生ぜしめ、該第1の層領域の上に、少なくとも1つの開口を備えた有利には格子形状の安定化領域を生ぜしめ、この場合安定化領域のドーピングは第1の層領域のドーピングとは異なっており、次いで、安定化領域の上にエピタキシャル層を生ぜしめる前に、第1の層領域を多孔性にエッチングし、多孔性の第1の層領域を熱処理によって空洞に変化させ、これによりエピタキシャル層が空洞の上に第1のダイヤフラム層を形成するようにした。この方法バリエーションはさらに、第1の層領域の半導体材料が単に多孔性にエッチングされるのではなく、既にエピタキシャル層の発生前に溶出させ、これにより空洞を安定化領域の下に生ぜしめるようにすることが可能である。
本発明による処置、つまり背側の接近開口を形成するための、時間的に制限された2段開式のエッチングプロセスとの関連において、接近開口を特殊に配置することは、相対圧力測定のためのセンサエレメントを、APSM技術において、この技術の使用によって得られるすべての利点を伴って、製造することを可能にする。例えばAPSM技術において、任意のダイヤフラムジオメトリを備えたセンサエレメントを、極めて小さなチップサイズ及び極めて正確な製造誤差で実現することができる。この製造方法はさらにCMOSに適合しており、つまりセンサエレメント上に評価回路の回路エレメントをモノリシックに組み付けるという可能性がある。本発明による方法の枠内におけるAPSM技術の使用は、センサエレメントの製造コストに関しても有利である。それというのはこの場合、安価な出発材料、つまりシリコン基板を使用することができ、このような出発材料は、良好に取扱い可能でかつコントロール可能な汎用の半導体方法を用いて簡単にプロセッシングすることができるからである。
部材背側を構造化するための第1のエッチングステップにおいてトレンチ法を使用すると、特に有利である。このようにすると、大きな基板厚さの場合でも、比較的小さな横断面を有する接近開口を所望のように生ぜしめることができ、このことは、マイクロメカニカル式の構成エレメントの益々増える小型化もしくは微細化に関して有利である。
次に図面を参照しながら本発明の実施例を説明する。
発明の実施形態
図1〜図4に示されたセンサエレメント10は、評価回路を組み込まれたピエゾ抵抗式の相対圧力センサ(Relativdrucksensor)であり、この相対圧力センサのマイクロメカニカル構造体はダイヤフラム11を有していて、このダイヤフラム11は部材表面に形成されていて、基板1における空洞12を覆っている。基板1は例えばシリコンウェーハである。
図1〜図4に示されたセンサエレメント10は、評価回路を組み込まれたピエゾ抵抗式の相対圧力センサ(Relativdrucksensor)であり、この相対圧力センサのマイクロメカニカル構造体はダイヤフラム11を有していて、このダイヤフラム11は部材表面に形成されていて、基板1における空洞12を覆っている。基板1は例えばシリコンウェーハである。
図1には、空洞12がAPSMプロセスにおいて部材表面を起点として生ぜしめられた後のセンサエレメント10が示されている。図示の実施例ではこの場合、ダイヤフラム領域の内部に支持個所13も生ぜしめられており、この支持個所13においてダイヤフラム11はさらに基板1の集合体(Bulkmaterial)と結合されている。そのためにAPSMプロセスのためのマスクは相応に設計された。空洞12の領域におけるn格子7の適宜なレイアウト及び適宜なドーピングによって、支持個所13の領域は、APSMプロセスの陽極酸化中に多孔質にエッチングされない。このAPSMプロセスにおいて空洞12の上方には、基板材料から成る第1のダイヤフラム層が形成され、このダイヤフラム層はシリコン基板1上におけるn-エピタキシャル層2によって強化された。
基板1をこのようなマイクロメカニカル式に加工した後で、回路エレメントの組付けが行われ、これらの回路エレメントは、n-エピタキシャル層2と基板1とにおけるドーピングされた領域の形で実現されている(図面にはしかしながら詳しくは示されていない)。次いでコンタクト層3がn-エピタキシャル層2に設けられた。さらに評価回路は金属製の導体路もしくは導体層5を有しており、これらの導体路もしくは導体層5は中間誘電体4によって互いに絶縁されている。最後に部材表面全体にさらに不動態化層(Passivierung)6が設けられた。
次のステップにおいて、基板背側を起点とするトレンチプロセスのためのマスキング層8が、基板1の背側に設けられた。マスキング層8の構造化によって、生ぜしめられるエッチング通路15の位置、形状及び寸法、より正確には横断面積が規定され、エッチング通路15は、横方向におけるすべての製造誤差を考慮して支持個所13の内部に形成される。マスキング層8としては、例えば適宜なフォトラック層又は、例えば酸化ケイ素製のいわゆる「ハードマスク」を使用することができる。
図2には、トレンチプロセス後のセンサエレメント10が示されており、このセンサエレメント10では、部材背側から延びるエッチング通路15が存在しており、このエッチング通路15は、支持個所13の内部を空洞12の領域にまで延びている。エッチング通路15の深さは、トレンチプロセスの時間によって決定された。図2に符号50で示された、エッチング通路15の領域は、トレンチ深さのための鉛直方向の製造誤差範囲である。トレンチ深さの下限は、ほぼ空洞12の底の領域にあり、上限はほぼ空洞12の天井のレベルにある。この製造誤差領域50によって、エッチングストップ層は不要である。支持個所13の領域におけるエッチング通路15の配置によって、トレンチ製造誤差は幅及び深さにおいて吸収されることができる。
本発明による方法の第1の異方性のエッチングステップを形成するトレンチプロセス中には、常に、等方性のエッチング攻撃と側壁不動態化との間において切換えが行われる。この場合不動態化層は底部においては貫通エッチングされるが、壁においては残ったままであり、その結果エッチング通路15は、極めて高いアスペクト比(Aspektverhaeltnis)で実現されることができる。トレンチプロセスに続いて、同様に部材背側を起点とした等方性のエッチングステップが実施される。そのためには例えば簡単に、トレンチプロセスの最後の等方性のエッチング攻撃を延長することができる。択一的に例えば、ClF3を用いた等方性のエッチングステップ又は湿式エッチングステップがある。等方性のエッチングステップでは、エッチング通路15の端部領域16が気泡状に拡大する。このエッチング攻撃は、エッチング通路15の端部領域16が空洞12に通じる接近開口14を形成するまで、続けられる(図3及び図4参照)。図3に示されたエッチング通路15の端部領域16は、空洞底部のレベルに、つまり製造誤差領域50の下限に位置しており、図4に示されたエッチング通路15の端部領域16は、空洞天井のレベルに、つまり製造誤差領域50の上限に位置している。エッチング通路15の端部領域16の横方向における拡大によって、支持個所13は空洞に向かって開放された。これによってダイヤフラム11は自由に可動になった。接近開口14が、ダイヤフラム11への背側の圧力接続部を形成するので、センサエレメント10は相対圧力検出のために使用されることができる。さらに、センサエレメント10は、攻撃的な媒体内における使用のための背側圧力センサとしても使用することができる。この場合には、適宜な構造技術及び結合技術によって、基板前側において相応な基準真空が閉鎖されねばならない。
最後にさらに付言すると、接近開口14は本発明による方法の枠内においては、必ずしも、ダイヤフラム11の支持個所13の領域において真ん中に配置されている必要はなく、例えば、空洞に接続されたスタブ路もしくは分岐路(Stichleitung)の領域において側部に配置されることも可能である。
Claims (10)
- 部材表面に形成されていて空洞(12)を覆っている少なくとも1つのダイヤフラム(11)と、部材背側を起点として延びていて空洞(12)に通じる少なくとも1つの接近開口(14)とを備えた部材(10)を製造する方法であって、
少なくとも1つの第1のダイヤフラム層(2)と空洞(12)とを、部材表面を起点として、モノリシックの半導体基板(1)において生ぜしめ、
接近開口(14)を、部材背側を起点として、時間的に制限されたエッチングプロセスにおいて生ぜしめる形式の方法において、
接近開口(14)を、基板材料が第1のダイヤフラム層(2)に達する領域に配置し、接近開口(14)を生ぜしめるためのエッチングプロセスが、少なくとも1つの異方性のエッチングステップと少なくとも1つの等方性のエッチングステップとを有しており、異方性のエッチングステップにおいて、基板背側を起点として延びるエッチング通路(15)を生ぜしめ、該エッチング通路(15)は第1のダイヤフラム層(2)の下側において空洞(12)の周囲において終わっており、エッチング通路(15)の少なくとも端部領域(16)を、等方性のエッチングステップにおいて、エッチング通路(15)が空洞に接続されるまで拡大させることを特徴とする、部材を製造する方法。 - 接近開口を、空洞の外側の縁部領域に配置する、請求項1記載の方法。
- 空洞を中空室によって形成し、該中空室に、第1のダイヤフラム層の下に延在するスタブ路が接続し、接近開口をスタブ路の領域において生ぜしめる、請求項1記載の方法。
- 接近開口(14)を、ダイヤフラム(11)の支持個所(13)の領域において空洞(12)の内部に配置する、請求項1記載の方法。
- 半導体基板に第1の多孔性の層領域を生ぜしめ、該第1の多孔性の層領域の下に、第2の多孔性の層領域を生ぜしめ、第2の層領域の多孔率が、第1の層領域の多孔率よりも大きく、第2の層領域を1つの熱処理ステップにおいて空洞に変化させ、これに対して第1の層領域の孔を少なくともほぼ閉鎖状態に保ち、これにより第1の層領域が空洞の上に第1のダイヤフラム層を形成する、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 半導体基板(1)に多孔性の層領域を生ぜしめ、該多孔性の層領域の上に、基板材料製のエピタキシャル層(2)を析出し、多孔性の層領域を熱処理ステップにおいて空洞(12)に変化させ、これによりエピタキシャル層(2)が空洞(12)の上に第1のダイヤフラム層を形成する、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 半導体基板に第1の層領域をドーピングによって生ぜしめ、該第1の層領域の上に、少なくとも1つの開口を備えた有利には格子形状の安定化領域を生ぜしめ、この場合安定化領域のドーピングは第1の層領域のドーピングとは異なっており、第1の層領域を多孔性にエッチングし、安定化領域の上にエピタキシャル層を生ぜしめ、多孔性の第1の層領域を熱処理によって空洞に変化させ、これによりエピタキシャル層が空洞の上に第1のダイヤフラム層を形成する、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 半導体基板に第1の層領域を第1のドーピングによって生ぜしめ、該第1の層領域の上に、少なくとも1つの開口を備えた有利には格子形状の安定化領域を生ぜしめ、この場合安定化領域のドーピングは第1の層領域のドーピングとは異なっており、第1の層領域の半導体材料を溶出させ、これにより空洞を安定化領域の下に形成し、安定化領域の上にエピタキシャル層を生ぜしめ、エピタキシャル層が空洞の上に第1のダイヤフラム層を形成する、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- エッチング通路(15)をトレンチによって生ぜしめる、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 相対圧力測定のためのセンサエレメント(10)であって、部材表面に少なくとも1つのダイヤフラム(11)が形成されていて、該ダイヤフラム(11)が層構造を有していて、空洞(12)を覆っており、部材背側を起点として延びていて空洞(12)に通じる少なくとも1つの接近開口(14)が設けられており、空洞(12)がモノリシックの半導体基板(1)に形成されていて、少なくとも、空洞(12)を画成する第1のダイヤフラム層(2)が、基板材料から形成されている形式のセンサエレメント、特に請求項1から9までのいずれか1項記載の方法によって製造されたセンサエレメントにおいて、
接近開口(14)が開口の領域において空洞(12)内に拡大されていることを特徴とするセンサエレメント。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007003544A DE102007003544A1 (de) | 2007-01-24 | 2007-01-24 | Verfahren zur Herstellung eines Bauteils und Sensorelement |
PCT/EP2007/062952 WO2008089862A1 (de) | 2007-01-24 | 2007-11-28 | Verfahren zur herstellung eines bauteils und sensorelement |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010517277A true JP2010517277A (ja) | 2010-05-20 |
Family
ID=39358143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009546662A Withdrawn JP2010517277A (ja) | 2007-01-24 | 2007-11-28 | 部材を製造する方法及びセンサエレメント |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8530261B2 (ja) |
EP (1) | EP2125607B1 (ja) |
JP (1) | JP2010517277A (ja) |
AT (1) | ATE547377T1 (ja) |
DE (1) | DE102007003544A1 (ja) |
WO (1) | WO2008089862A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011117181A2 (de) * | 2010-03-22 | 2011-09-29 | Elmos Semiconductor Ag | Verfahren zur herstellung einer mikroelektromechanischen vorrichtung und mikroelektromechanische vorrichtung |
US9212045B1 (en) * | 2014-07-31 | 2015-12-15 | Infineon Technologies Ag | Micro mechanical structure and method for fabricating the same |
US9963340B2 (en) * | 2015-12-03 | 2018-05-08 | Honeywell International Inc. | Pressure sensor die over pressure protection for high over pressure to operating span ratios |
US10197462B2 (en) | 2016-05-25 | 2019-02-05 | Honeywell International Inc. | Differential pressure sensor full overpressure protection device |
DE102017212838A1 (de) * | 2017-07-26 | 2019-01-31 | Robert Bosch Gmbh | Drucksensoranordnung, Messvorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
DE102018207689B4 (de) * | 2018-05-17 | 2021-09-23 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Herstellen mindestens einer Membrananordnung, Membrananordnung für einen mikromechanischen Sensor und Bauteil |
CN209326840U (zh) | 2018-12-27 | 2019-08-30 | 热敏碟公司 | 压力传感器及压力变送器 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08236784A (ja) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Tokai Rika Co Ltd | 加速度センサ及びその製造方法 |
US5632854A (en) * | 1995-08-21 | 1997-05-27 | Motorola, Inc. | Pressure sensor method of fabrication |
US6787052B1 (en) * | 2000-06-19 | 2004-09-07 | Vladimir Vaganov | Method for fabricating microstructures with deep anisotropic etching of thick silicon wafers |
DE10032579B4 (de) * | 2000-07-05 | 2020-07-02 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements sowie ein nach dem Verfahren hergestelltes Halbleiterbauelement |
DE102004036035B4 (de) | 2003-12-16 | 2015-10-15 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements sowie ein Halbleiterbauelement, insbesondere ein Membransensor |
DE102004015444A1 (de) * | 2004-02-17 | 2005-09-01 | Robert Bosch Gmbh | Differenzdrucksensor |
US7214324B2 (en) * | 2005-04-15 | 2007-05-08 | Delphi Technologies, Inc. | Technique for manufacturing micro-electro mechanical structures |
EP1719993A1 (en) | 2005-05-06 | 2006-11-08 | STMicroelectronics S.r.l. | Integrated differential pressure sensor and manufacturing process thereof |
-
2007
- 2007-01-24 DE DE102007003544A patent/DE102007003544A1/de not_active Withdrawn
- 2007-11-28 EP EP07847470A patent/EP2125607B1/de active Active
- 2007-11-28 AT AT07847470T patent/ATE547377T1/de active
- 2007-11-28 US US12/522,693 patent/US8530261B2/en active Active
- 2007-11-28 JP JP2009546662A patent/JP2010517277A/ja not_active Withdrawn
- 2007-11-28 WO PCT/EP2007/062952 patent/WO2008089862A1/de active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2125607A1 (de) | 2009-12-02 |
WO2008089862A1 (de) | 2008-07-31 |
US20100164027A1 (en) | 2010-07-01 |
DE102007003544A1 (de) | 2008-07-31 |
EP2125607B1 (de) | 2012-02-29 |
US8530261B2 (en) | 2013-09-10 |
ATE547377T1 (de) | 2012-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5100949B2 (ja) | 半導体構成素子の製造方法並びにその方法により製造された半導体構成素子 | |
JP2010517277A (ja) | 部材を製造する方法及びセンサエレメント | |
US7276277B2 (en) | Micromechanical component, in particular a sensor element, having a stabilized membrane and a method of producing such a component | |
JP5559369B2 (ja) | センサおよびセンサの製造方法 | |
JP4296728B2 (ja) | 静電容量型圧力センサおよびその製造方法並びに静電容量型圧力センサに用いるセンサ用構造体 | |
KR101080496B1 (ko) | 마이크로 기계식 용량성 압력 변환기 및 이의 제조 방법 | |
JP5222399B2 (ja) | 基板背面からアクセスされる、マイクロメカニカル技術によるメンブラン構造体の製造方法 | |
JP5267627B2 (ja) | 音響センサ及びその製造方法 | |
US7300854B2 (en) | Method for producing a semiconductor component having a movable mass in particular, and semiconductor component produced according to this method | |
JP2009538238A (ja) | マイクロマシン構成素子及びその製法 | |
JP2010526989A (ja) | マイクロメカニカル構成素子および製造方法 | |
CN106101975B (zh) | 在mems组件的层结构中制造麦克风和压力传感器结构的方法 | |
CN102106161B (zh) | 微机械组件及其制造方法 | |
JP4971431B2 (ja) | マイクロメカニカル素子の製造方法およびマイクロメカニカル素子 | |
US7833405B2 (en) | Micromechanical component and corresponding production method | |
CN111108758B (zh) | Mems麦克风系统 | |
US7803646B2 (en) | Method for producing a component having a semiconductor substrate and component | |
JP2002005763A (ja) | 半導体センサ及びその製造方法 | |
JPH06302834A (ja) | 薄膜構造の製造方法 | |
US9452926B1 (en) | Dopant selective reactive ion etching of silicon carbide | |
JP2010133755A (ja) | 半導体圧力センサおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101228 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20111115 |