JP2010287639A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内部にプラズマが生成される真空容器と、真空容器の下部を構成し、接地されたベースフランジ15と、真空容器内に設けられ被加工試料1を載置する下部電極2と、下部電極を上下駆動する上下駆動機構10と、下部電極が有す接地電位部13に固定され上下駆動機構をプラズマから遮蔽する円筒形状の第1のカバー14と、ベースフランジに固定され上下駆動機構をプラズマから遮蔽する円筒形状の第2のカバー16とを有し、プラズマにより被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、接地電位部とベースフランジとを接続する導体17を有し、導体は下部電極の径方向の中心と第1のカバーとの中間よりも第1のカバー側に配置した。
【選択図】図1
Description
前記プラズマにより前記被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、
前記接地電位部と前記ベースフランジとを接続する導体を有し、
前記導体は、前記下部電極の径方向の中心と前記第1のカバーとの中間よりも
前記第1のカバー側に配置した。
2 下部電極
3 上部電極
4,7,26 高周波電源
5,20,21 プラズマ
6 冷媒流路
8 高周波電力導入経路
9 下部電極と上部電極の間隔
10 上下駆動機構
11 軸部
12,19 ベローズ
13 接地電位部
14,16 カバー
15 ベースフランジ
17 補助アース
18 リターン電流
22 板バネ
23 アース
24 真空容器
25 ソレノイドコイル
Claims (2)
- 内部にプラズマが生成される真空容器と、前記真空容器の下部を構成し、接地されたベースフランジと、前記真空容器内に設けられ被加工試料を載置する下部電極と、前記下部電極を上下駆動する上下駆動機構と、前記下部電極が有す接地電位部に固定され前記上下駆動機構を前記プラズマから遮蔽する円筒形状の第1のカバーと、前記ベースフランジに固定され前記上下駆動機構を前記プラズマから遮蔽する円筒形状の第2のカバーとを有し、
前記プラズマにより前記被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、
前記接地電位部と前記ベースフランジとを接続する導体を有し、
前記導体は、前記下部電極の径方向の中心と前記第1のカバーとの中間よりも
前記第1のカバー側に配置したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、前記導体は、柔軟な帯状導体または板バネであって、前記下部電極の周方向に複数配置したことを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009138764A JP2010287639A (ja) | 2009-06-10 | 2009-06-10 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009138764A JP2010287639A (ja) | 2009-06-10 | 2009-06-10 | プラズマ処理装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2010287639A true JP2010287639A (ja) | 2010-12-24 |
Family
ID=43543148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009138764A Pending JP2010287639A (ja) | 2009-06-10 | 2009-06-10 | プラズマ処理装置 |
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JP (1) | JP2010287639A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019061848A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000286242A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2008274437A (ja) * | 2007-05-03 | 2008-11-13 | Applied Materials Inc | 矩形サセプタの非対称な接地 |
-
2009
- 2009-06-10 JP JP2009138764A patent/JP2010287639A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
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