JP2010284566A - 撹拌装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】軸方向一端から軸方向他端へ向けて材料が送られる円筒容器1と、この円筒容器1内に同心的にかつ軸心の周りに回転可能に配置されたロータ2とを備え、円筒容器1とロータ2との間に、径方向幅が相対的に広いマクロ撹拌空間S1,S5と、径方向幅が相対的に狭いミクロ撹拌空間S3,S7が、径方向幅が連続して変化する移行空間S2,S4,S6を介して軸方向交互に形成され、ロータ2に、マクロ撹拌空間S1,S5に位置し、回転によって材料送り方向と逆向きの流れを発生させる撹拌羽根5,6が設けられている。このため円筒容器1内へ供給される流動材料は、マクロ撹拌空間S1,S5とミクロ撹拌空間S3,S7を、移行空間S2,S4,S6を介して交互に経由することによって撹拌・乳化される。
【選択図】図1
Description
11a 材料供給ポート
12a 材料排出ポート
2 ロータ
2A 上段ロータ
2B 下段ロータ
3 回転軸
4〜6 撹拌羽根
S1 第一マクロ撹拌空間
S2 第一移行空間
S3 第一ミクロ撹拌空間
S4 第二移行空間
S5 第二マクロ撹拌空間
S6 第三移行空間
S7 第二ミクロ撹拌空間
Claims (3)
- 軸方向一端から軸方向他端へ向けて材料が送られる円筒容器と、この円筒容器内に同心的にかつ軸心の周りに回転可能に配置されたロータとを備え、前記円筒容器とその内周の前記ロータとの間に、径方向幅が相対的に広いマクロ撹拌空間と、このマクロ撹拌空間より径方向幅が相対的に狭いミクロ撹拌空間が、径方向幅が連続して変化する移行空間を介して軸方向交互に形成され、前記ロータに、前記マクロ撹拌空間に位置し、回転によって材料送り方向と逆向きの流れを発生させる撹拌羽根が設けられたことを特徴とする撹拌装置。
- ロータの外周に、マクロ撹拌空間内に位置し、回転によって材料送り方向への流れを発生させる撹拌羽根が、回転によって材料送り方向と逆向きの流れを発生させる撹拌羽根と軸方向所定間隔で設けられたことを特徴とする請求項1に記載の撹拌装置。
- 円筒容器が、軸方向一端を上側、軸方向他端を下側として設置されることを特徴とする請求項1に記載の撹拌装置。
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JPH03169332A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-23 | Inoue Seisakusho:Kk | 連続分散機 |
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JP5321823B2 (ja) | 2013-10-23 |
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