JP2010273006A - 振動デバイス - Google Patents

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Abstract

【課題】静電気に起因する振動片の損傷などを回避できる振動デバイスの提供。
【解決手段】パッケージベース20と、パッケージベース20に接合される蓋体30と、パッケージベース20及び蓋体30によって囲まれた内部空間に収容される水晶振動片10と、を備え、パッケージベース20に、内部空間から外部に連通する貫通孔26が形成され、パッケージベース20は、外底面23に、外底面23の対向する一対の辺23a,23bと平行な第1軸方向Bの一方の端部に設けられた第1端子27及び他方の端部に設けられた第2端子28と、第1端子27と第2端子28との間に設けられた第3端子29とを有し、第1端子27及び第2端子28が、水晶振動片10と電気的に接続され、第3端子29が、蓋体30と電気的に接続され、第3端子29と貫通孔26とが、外底面23の平面視において互いに離れて配置され、貫通孔26が、封止材70により封止されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、圧電振動子などに代表される振動デバイスに関する。
従来、パッケージの内部空間に振動片として圧電振動片を収容し、パッケージの開口部分を蓋体で覆い、圧電振動片がパッケージの内側底部に形成された電極部に接続され、電極部がパッケージの外部に引き回されて実装用端子をなす構成の振動デバイスが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2003−318691号公報
上記のような構成の振動デバイスにおいては、何らかの原因で発生した静電気が、蓋体を介してパッケージの外底面に形成された実装用端子に放電されることがある。
これにより、振動デバイスは、実装用端子に放電された静電気が、電極部を介して振動片に達することから、この静電気のエネルギーの大きさによっては、振動片が損傷を被り特性が劣化する虞がある。
また、振動デバイスは、振動片が損傷を被るまでにいたらなくても、蓋体に留まった静電気によって浮遊容量が変動し、振動片の振動特性が劣化する虞がある。
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例にかかる振動デバイスは、パッケージベースと、前記パッケージベースに接合される蓋体と、前記パッケージベース及び前記蓋体によって囲まれた内部空間に収容される振動片と、を備え、前記パッケージベースに、前記内部空間から外部に連通する貫通孔が形成され、前記パッケージベースは、外底面に、前記外底面の対向する一対の辺と平行な第1軸方向の一方の端部に設けられた第1端子及び他方の端部に設けられた第2端子と、前記第1端子と前記第2端子との間に設けられた第3端子とを有し、前記第1端子及び前記第2端子が、前記振動片と電気的に接続され、前記第3端子が、前記蓋体と電気的に接続され、前記第3端子と前記貫通孔とが、前記外底面の平面視において互いに離れて配置され、前記貫通孔が、封止材により封止されていることを特徴とする振動デバイス。
これによれば、振動デバイスは、パッケージベースの外底面に設けられた第1端子及び第2端子が、振動片と電気的に接続され、第3端子が、蓋体と電気的に接続されている。
この結果、振動デバイスは、例えば、静電気が蓋体に放電された際に、蓋体と電気的に接続されている第3端子を介して、振動デバイスが実装されている外部の機器の実装基板などへ静電気を逃がしやすくなる。
したがって、振動デバイスは、放電された静電気に起因する浮遊容量の変動、振動片の損傷などが回避されることから、良好な振動特性を維持することができる。
また、振動デバイスは、第3端子と貫通孔とが、互いに離れて配置され、貫通孔が封止材により封止されている。
この結果、振動デバイスは、例えば、外部の機器に実装される際に、第3端子と貫通孔とが近接している場合と比較して、第3端子から貫通孔へ実装用のはんだが流出することを回避できる。
したがって、振動デバイスは、はんだに起因する封止材の劣化が回避できることから、封止材による貫通孔の封止の信頼性を良好に維持することができる。
[適用例2]上記適用例1に記載の振動デバイスにおいて、前記パッケージベースが、底基板と、前記振動片を囲み前記底基板に積層される枠基板とを備え、前記底基板に、前記貫通孔の少なくとも一部である底基板貫通孔が形成され、前記底基板貫通孔は、平面視において前記枠基板と少なくとも一部が重なっていることを特徴とする振動デバイス。
これによれば、振動デバイスは、パッケージベースが、底基板と、振動片を囲み底基板に積層される枠基板とを備え、底基板に、枠基板と少なくとも一部が重なるように貫通孔が形成されている。
この結果、振動デバイスは、パッケージベースが、小型・薄型化可能なことから、全体のサイズを小型・薄型化することができる。
[適用例3]上記適用例2に記載の振動デバイスにおいて、前記枠基板に、前記貫通孔の一部であり前記枠基板の厚み方向に貫通する枠基板貫通孔が形成され、前記枠基板貫通孔が、平面視において前記底基板の前記底基板貫通孔の領域内に形成されていることを特徴とする振動デバイス。
これによれば、振動デバイスは、枠基板が、枠基板の厚み方向に貫通する枠基板貫通孔を備え、枠基板貫通孔が、底基板の底基板貫通孔と重なる位置に形成されている。
この結果、振動デバイスは、パッケージベースが、小型・薄型化可能なことから、全体のサイズを小型・薄型化することができる。
[適用例4]上記適用例1〜3のいずれかに記載の振動デバイスにおいて、前記第3端子の少なくとも一部が、前記パッケージベースの前記第1軸と直交する第2軸方向において、前記第1端子または前記第2端子の前記第2軸方向の全幅に亘って形成されていることを特徴とする振動デバイス。
これによれば、振動デバイスは、第2軸方向において、第3端子の少なくとも一部が、第1端子または第2端子の全幅に亘って形成されている。
この結果、振動デバイスは、例えば、パッケージベースの製造過程における、外底面と対向する対向面押圧時の、パッケージベースのうねりなどの変形を、第3端子と第1端子または第2端子とで第2軸方向の形成範囲が異なる場合と比較して、好適に抑制できる。
本実施形態の水晶振動子の概略構成を示す模式図。 変形例1の水晶振動子の概略構成を示す模式断面図。 変形例2の水晶振動子の概略構成を示す模式裏平面図。 変形例3の水晶振動子の概略構成を示す模式裏平面図。
以下、振動デバイスの実施形態について図面を参照して説明する。
(実施形態)
ここでは、振動デバイスの一例として圧電振動デバイスである水晶振動子を例に取り説明する。
図1は、本実施形態の水晶振動子の概略構成を示す模式図である。図1(a)は蓋体側から見た表平面図、図1(b)は、図1(a)のA−A線での断面図、図1(c)は、パッケージベース側から見た裏平面図である。
なお、表平面図では、理解を容易にするために蓋体を省略し、蓋体の外形を2点鎖線で表している。
図1に示すように、水晶振動子1は、圧電振動片としての水晶振動片10と、水晶振動片10を搭載するパッケージベース20と、水晶振動片10を覆いパッケージベース20に接合される蓋体30とを備えている。
水晶振動片10は、平面形状が略矩形の基部11と、基部11の一端部から互いに略平行に延在した角柱状の一対の振動腕部12とを備えた音叉型水晶振動片である。なお、水晶振動片10には、図示しない励振電極が形成されている。
パッケージベース20は、平面形状が略矩形で平板状の底基板21と、底基板21に搭載された水晶振動片10を囲み、底基板21に積層される枠状の枠基板22とを備えている。
底基板21及び枠基板22には、セラミックグリーンシートを成形して焼成した酸化アルミニウム質焼結体などが用いられている。
底基板21には、パッケージベース20の内側の水晶振動片10を搭載する面である内底面21aから、パッケージベース20の外側の底面である外底面23に達する底基板貫通孔24が形成されている。また、枠基板22は、枠基板22の厚み方向に貫通する枠基板貫通孔25を備えている。
枠基板貫通孔25は、平面視において底基板貫通孔24と重なる位置に形成されている。また、底基板貫通孔24の平面サイズは、枠基板貫通孔25の平面サイズより大きく形成されている。
なお、底基板貫通孔24、枠基板貫通孔25の平面形状は、通常円形であるが、三角形、四角形、五角形以上の多角形、楕円形などでもよい。
この底基板貫通孔24、枠基板貫通孔25により、パッケージベース20は、枠基板22の蓋体30側の面22aから底基板21の外底面23に達する段付きの貫通孔26が形成される。
以下、底基板貫通孔24と、枠基板貫通孔25とを区別する必要がないときは、貫通孔26という。
パッケージベース20の外底面23には、一対の辺23a,23bと平行な第1軸方向Bの一方の端部に第1端子27が設けられ、他方の端部に第2端子28が設けられている。第1端子27及び第2端子28は、略矩形形状で互いに同等の大きさで形成されている。
そして、パッケージベース20の外底面23には、第1端子27と第2端子28との間に第3端子29が設けられている。
ここで、図1(c)に示すように、第3端子29の一部は、パッケージベース20の長手方向と直交する第2軸方向Cにおいて、第2端子28の第2軸方向Cの全幅Lに亘って形成されている。なお、第2軸方向Cにおける第3端子29の形成範囲は、第1端子27の第2軸方向Cの全幅に亘っていてもよい。
また、第3端子29と貫通孔26とは、外底面23を平面視して互いに離れて配置されている。より詳細には、第3端子29を構成する金属被膜が、貫通孔26に達しないように、外底面23において貫通孔26から離れて配置されている。ここで、第3端子29と貫通孔26とは、例えば、水晶振動子1が外部の機器に実装される際に、第3端子29に濡れ広がった実装用のはんだが、貫通孔26まで流出しない程度に離れている。
これにより、第3端子29は、貫通孔26側の一部が切り欠かれた略矩形形状となっている。
なお、第1端子27及び第2端子28に濡れ広がった実装用はんだが貫通孔26まで流出しないように、第1端子27及び第2端子28と貫通孔26とは、第3端子29と貫通孔26との距離以上に離れて形成されていることが好ましい。
なお、第1端子27、第2端子28、第3端子29は、タングステンなどのメタライズ層にニッケル、金などの各被膜をメッキなどにより積層した金属被膜からなる。
パッケージベース20の内底面21aには、内部電極21b,21cが形成され、エポキシ系、シリコン系、ポリイミド系などの導電性接着剤40を介して水晶振動片10が搭載されている。なお、水晶振動片10の搭載には、導電性接着剤40に代えて、はんだ、バンプなどの接合材を用いてもよい。
水晶振動片10は、励振電極と電気的に接続されているマウント電極が基部11に形成され、マウント電極が内部電極21b,21cと重なるように搭載されている。これにより、水晶振動子1は、水晶振動片10の励振電極と内部電極21b,21cとが導通される。
内部電極21b,21cは、図示しない内部配線によりそれぞれ第1端子27、第2端子28と電気的に接続されている。例えば、内部電極21bは、第1端子27と接続され、内部電極21cは、第2端子28と接続されている。
これにより、第1端子27及び第2端子28は、水晶振動片10と電気的に接続されている。
なお、内部電極21b,21cは、上記各端子と同様に、タングステンなどのメタライズ層にニッケル、金などの各被膜をメッキなどにより積層した金属被膜からなる。
パッケージベース20の枠基板22の蓋体30側の面22aには、図示しないタングステンなどのメタライズ層が形成され、シームリング、ろう材などの接合部材50を介して、コバールなどの金属からなる平面形状が略矩形で平板状の蓋体30が、接合されている。
ここで、図1(b)に示すように、第3端子29は、底基板21及び枠基板22を貫通するビア29aなどを用いた内部配線、接合部材50を介して、蓋体30と電気的に接続されている。
なお、ここでは、パッケージベース20、蓋体30、接合部材50を含んでなる、水晶振動片10を収容する収容部をパッケージ60という。そして、パッケージ60によって囲まれ、水晶振動片10を収容する空間を内部空間という。
水晶振動子1は、真空チャンバーなどを用いて、パッケージ60の内部空間が真空にされた状態で、貫通孔26が、金/ゲルマニウム合金、金/錫合金、銀ろうなどの金属からなる封止材70により封止されている。
なお、封止材70は、略球状に形成され、反転されたパッケージ60の底基板貫通孔24に載置された状態で、レーザー光や電子ビームなどの照射またはヒーターなどを用いて加熱溶融されることにより、貫通孔26に充填される。なお、底基板貫通孔24が確実に封止されていれば、枠基板貫通孔25内には、必ずしも封止材70が充填されている必要はない。
水晶振動子1は、パッケージ60の内部空間と水晶振動子1の外部とを連通する貫通孔26が封止材70で封止されることにより、パッケージ60の内部空間が真空状態に保持され、第1端子27及び第2端子28を介して印加される駆動信号によって、水晶振動片10が励振されて所定の周波数で共振する。
上述したように、水晶振動子1は、パッケージベース20の外底面23に設けられた第1端子27及び第2端子28が、水晶振動片10と電気的に接続され、第3端子29が、蓋体30と電気的に接続されている。
この結果、水晶振動子1は、例えば、静電気が蓋体30に放電された際に、蓋体30と電気的に接続されている第3端子29を介して、水晶振動子1が実装されている外部の機器の実装基板などへ静電気を逃がしやすくなる。
したがって、水晶振動子1は、静電気が蓋体30に留まり浮遊容量が変動することや、静電気が第1端子27及び第2端子28を介して水晶振動片10に達し、水晶振動片10が損傷を被ることを回避できることから、良好な振動特性を維持することができる。
また、水晶振動子1は、第3端子29と貫通孔26とが、外底面23を平面視して互いに離れて配置され、貫通孔26が封止材70により封止されている。
この結果、水晶振動子1は、例えば、外部の機器に実装される際に、第3端子29と貫通孔26とが近接している場合と比較して、第3端子29に濡れ広がったはんだが、貫通孔26へ流出することを回避できる。
したがって、水晶振動子1は、はんだとの接触に起因する封止材70の劣化(はんだにより封止材70が食われる現象、具体的には、はんだによる封止材70に含まれる金成分の溶融や拡散など)が回避できることから、封止材70による貫通孔26の封止の信頼性を良好に維持することができる。
また、水晶振動子1は、パッケージベース20の外底面23に、パッケージベース20の第1軸方向Bの一方の端部に設けられた第1端子27及び他方の端部に設けられた第2端子28と、第1端子27と第2端子28との間に設けられた第3端子29とを有している。
これにより、水晶振動子1は、第3端子29がない場合と比較して、各端子間の距離が、短くなる。
この結果、水晶振動子1は、例えば、パッケージベース20の底基板21の製造過程で、複数の底基板21がつながった状態にあるシート状の底基板21の、そりの矯正などの目的で行われる内底面21a押圧時(プレス時)において、底基板21の外底面23と各端子の実装面との段差に起因する底基板21のうねりなどの変形を、第3端子29がない場合と比較して抑制できる。
加えて、水晶振動子1は、パッケージベース20の長手方向と直交する第2軸方向Cにおいて、第3端子29の一部が、第2端子28の全幅Lに亘って形成されている。
この結果、水晶振動子1は、上記の底基板21のうねりなどの変形を、第2軸方向Cにおける第3端子29の形成範囲が、同方向における第2端子28の全幅Lより狭い場合と比較して、より抑制できる。
また、水晶振動子1は、パッケージベース20が、底基板21と、底基板21に搭載された水晶振動片10を囲み、底基板21に積層される枠基板22とを備え、枠基板22が、枠基板貫通孔25を備え、枠基板貫通孔25全体が、平面視において、底基板21の底基板貫通孔24と重なる領域内に形成されている。
この結果、水晶振動子1は、例えば、底基板21が2層になっている構成と比較して、パッケージベース20が小型・薄型化可能なことから、全体のサイズを小型・薄型化することができる。
なお、本実施形態では、枠基板貫通孔25全体が、平面視において底基板貫通孔24と重なる領域内に形成されている構成を例に取り説明したが、枠基板貫通孔25の少なくとも一部が底基板貫通孔24と重なる領域内に配置されている構成であれば、パッケージベース20の小型・薄型化が可能である。
ここで、上記実施形態の変形例について説明する。
(変形例1)
図2は、変形例1の水晶振動子の概略構成を示す模式断面図である。なお、断面位置は、図1(b)の断面図と同位置である。また、上記実施形態との共通部分については、同一符号を付して説明を省略し、上記実施形態と異なる部分を中心に説明する。
図2に示すように、変形例1の水晶振動子101は、パッケージベース120の枠基板122の枠基板貫通孔25(図1参照)が削除されている。
水晶振動子101は、底基板121に形成された底基板貫通孔124の一部が、平面視において枠基板122と重なるように形成されている。具体的には、枠基板122は、水晶振動片10を収容するための孔が形成されているが、封止用の貫通孔が形成されていない。そして、平面視において枠基板122の下面側(底基板121に接する面側)の内側の縁が底基板貫通孔124の領域内に位置するように、枠基板122が底基板121上に配置されている。
これによれば、水晶振動子101は、枠基板122の枠基板貫通孔25が削除されていることから、パッケージベース120の第2軸方向C(図1参照)のサイズを、上記実施形態と比較して、さらに小さくすることができる。
したがって、水晶振動子101は、上記実施形態と比較して、平面サイズをより小型化することができる。
(変形例2)
図3は、変形例2の水晶振動子の概略構成を示す模式裏平面図である。なお、上記実施形態との共通部分については、同一符号を付して説明を省略し、上記実施形態と異なる部分を中心に説明する。
図3に示すように、変形例2の水晶振動子201は、上記実施形態と比較して、第3端子229の形状が異なる。
水晶振動子201は、上記実施形態と比較して、第3端子229のパッケージベース20の第1軸方向Bにおける全幅L1が狭く形成されていることにより、第3端子229と第1端子27との間隔が広がっている。
これによれば、水晶振動子201は、上記実施形態と比較して、第3端子229と第1端子27との間隔が広がっていることから、例えば、外部の機器に実装される際に、第3端子229に濡れ広がったはんだの流出などによって、第3端子229を介して第1端子27と第2端子28とが短絡する虞を回避できる。
(変形例3)
図4は、変形例3の水晶振動子の概略構成を示す模式裏平面図である。なお、上記実施形態との共通部分については、同一符号を付して説明を省略し、上記実施形態と異なる部分を中心に説明する。
図4に示すように、変形例3の水晶振動子301は、上記実施形態と比較して、第3端子329の形状が異なる。
水晶振動子301は、上記実施形態と比較して、第3端子329のパッケージベース20の第1軸方向Bと直交する第2軸方向Cにおける全幅L2が、第2端子28の全幅Lより狭く形成されていることにより、第3端子329と貫通孔26との間隔が広がっている。
これによれば、水晶振動子301は、上記実施形態と比較して、第3端子329と貫通孔26との間隔が広がっていることから、例えば、外部の機器に実装される際に、第3端子329に濡れ広がったはんだが、貫通孔26へ流出することを、より確実に回避できる。
また、水晶振動子301は、第3端子329と貫通孔26との間隔が広がっている構成により、貫通孔26の配置の自由度が増すことから、貫通孔26を各端子のいずれにも偏らない位置に配置できる。
これによれば、水晶振動子301は、例えば、外部の機器に実装される際に、各端子に濡れ広がったはんだが、貫通孔26へ流出することを略均等に回避できる。
なお、変形例2,3の構成は、変形例1にも適用できる。
なお、上記実施形態及び各変形例では、水晶振動片10として、音叉型水晶振動片を例に取り説明したが、これに限定するものではなく、水晶振動片10には、ATカット水晶振動片、弾性表面波水晶振動片などを用いてもよい。
また、圧電振動片の材料としては、水晶以外にタンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムなどを用いてもよい。
更にまた、水晶振動片10の代わりに圧電振動片以外の各種振動片を用いることも可能であり、例えばシリコン基板を加工して形成されたMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)振動片などを用いてもよい。
なお、上記実施形態及び各変形例では、振動デバイスとして水晶振動子を例に取り説明したが、これに限定するものではなく、水晶振動子に発振回路を内蔵した水晶発振器などの発振器にも適用できる。
1…水晶振動子、10…水晶振動片、11…基部、12…振動腕部、20,120…パッケージベース、21,121…底基板、21a…内底面、21b,21c…内部電極、22,122…枠基板、22a…枠基板の蓋体側の面、23…外底面、24…底基板貫通孔、25…枠基板貫通孔、26…貫通孔、27…第1端子、28…第2端子、29…第3端子、30…蓋体、40…導電性接着剤、50…接合部材、60…パッケージ、70…封止材。

Claims (4)

  1. パッケージベースと、前記パッケージベースに接合される蓋体と、前記パッケージベース及び前記蓋体によって囲まれた内部空間に収容される振動片と、を備え、
    前記パッケージベースに、前記内部空間から外部に連通する貫通孔が形成され、
    前記パッケージベースは、外底面に、前記外底面の対向する一対の辺と平行な第1軸方向の一方の端部に設けられた第1端子及び他方の端部に設けられた第2端子と、前記第1端子と前記第2端子との間に設けられた第3端子とを有し、
    前記第1端子及び前記第2端子が、前記振動片と電気的に接続され、
    前記第3端子が、前記蓋体と電気的に接続され、
    前記第3端子と前記貫通孔とが、前記外底面の平面視において互いに離れて配置され、
    前記貫通孔が、封止材により封止されていることを特徴とする振動デバイス。
  2. 請求項1に記載の振動デバイスにおいて、前記パッケージベースが、底基板と、前記振動片を囲み前記底基板に積層される枠基板とを備え、
    前記底基板に、前記貫通孔の少なくとも一部である底基板貫通孔が形成され、
    前記底基板貫通孔は、平面視において前記枠基板と少なくとも一部が重なっていることを特徴とする振動デバイス。
  3. 請求項2に記載の振動デバイスにおいて、前記枠基板に、前記貫通孔の一部であり前記枠基板の厚み方向に貫通する枠基板貫通孔が形成され、
    前記枠基板貫通孔が、平面視において前記底基板の前記底基板貫通孔の領域内に形成されていることを特徴とする振動デバイス。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載の振動デバイスにおいて、前記第3端子の少なくとも一部が、前記パッケージベースの前記第1軸と直交する第2軸方向において、前記第1端子または前記第2端子の前記第2軸方向の全幅に亘って形成されていることを特徴とする振
    動デバイス。
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