JP2010263139A - パターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】安価なバイナリマスクを使用して、ドット或いはホールが狭ピッチの二次元周期で配置するパターンを低コスト、省タクト、高位置精度で形成する方法を提供する。
【解決手段】X方向及びY方向にそれぞれピッチPでラインパターンが配置したマスクを用い、第1の位置で第1の露光を行った後、X方向及びY方向にP/2だけマスクの位置をずらせて第2の露光を行う。
【選択図】図4
【解決手段】X方向及びY方向にそれぞれピッチPでラインパターンが配置したマスクを用い、第1の位置で第1の露光を行った後、X方向及びY方向にP/2だけマスクの位置をずらせて第2の露光を行う。
【選択図】図4
Description
本発明は、半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ(FPD)等の回路パターンの露光転写技術に関し、特にドット或いはホールが二次元周期で配置したパターン形成技術に関するものである。
近年、半導体を用いて実現する大規模集積回路装置(LSI)の微細化が進展した結果、LSI製造工程の一つであるリソグラフィ工程においては、パターン寸法が露光装置の光源波長及びレンズ開口数NAから定義される解像限界程度まで微細化してきている。また、ホールパターンにおけるホールピッチ(隣り合うホールの中心間の距離)は配線ピッチ(隣り合う一対の配線の中心間距離)と密接に関係しており、パターン集積度に大きく関連するため、さらなる微細化が要求されている。このような狭ピッチなホールパターンを形成する方法として、例えば特許文献1には、ハーフトーン型位相シフトマスクと通常のフォトマスクを用いた二重露光による露光方法が提示されている。
上記特許文献1に開示された方法は、コストの高いハーフトーン型位相シフトマスクを使用しなくてはならない点、及びマスク交換が必要なため重ね合わせ精度に影響が出てくることや、マスク交換分のタクトが増加するという問題があった。
本発明は上記の課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、安価なバイナリマスクを使用して、ドット或いはホールが狭ピッチの二次元周期で配置するパターンを低コスト、省タクト、高位置精度で形成する方法を提供することにある。
本発明は、透光性の基板に遮光部パターンを有するマスクを照明光で照明し、投影光学系を介して被露光体に投影して露光し、ドット或いはホールが二次元周期で配置するパターンを形成する方法であって、前記照明光の有効光源は多重極照明であり、少なくとも、前記マスクを被露光体に対して第1の位置に配置して第1の露光を行う工程と、前記マスクを被露光体に対して第1の位置とは異なる第2の位置に配置して第2の露光を行う工程と、を有することを特徴とする。
本発明においては、下記の構成を好ましい態様として含む。
前記マスクは線幅a[m]のラインパターンがXY方向に格子状にピッチP[m]で配置しており、前記照明光の有効光源は四重極照明であり、前記ラインパターンが前記第1の位置と第2の位置とで、X方向にP/2[m]、Y方向にP/2[m]ずれており、P/2[m]のピッチを有する二次元周期のパターンを形成する。
前記マスクは線幅a[m]のラインがピッチPで平行に配置するラインパターンが、3方向に互いに60°で交差する網目状に配列されており、前記照明光の有効光源は六重極照明であり、第1の露光工程後に、前記ラインパターンのいずれかのラインに対して直交する方向において、前記マスクを第1の位置から2P/3[m]ずれた第2の位置に配置して第2の露光を行う工程と、該第2の露光工程後に、上記方向に前記マスクを第2の位置からさらに2P/3[m]ずれた第3の位置に配置して第3の露光を行う工程と、を有し、P/3[m]のピッチを有する二次元周期のパターンを形成する。
前記ラインパターンが開口部パターンである。
前記マスクは、遮光部が千鳥格子状にピッチP[m]で配置された第1の領域と、開口部が千鳥格子状にピッチP[m]で配置された第2の領域とを有し、前記照明光の有効光源は六重極照明であり、第1の露光工程では前記マスクの第1の領域を用いて露光を行い、第2の露光工程では第1の露光工程における遮光部に第2の領域の開口部が重複するように前記マスクの第2の領域を配置して露光を行う。
本発明によれば、複数回の露光工程において、1枚のマスクを位置をずらせるだけで簡易に多重露光及び多度露光を行うことができ、微細な二次元周期のパターンをより簡易な工程で精度良く提供することができる。
本発明は、ドット或いはホールが二次元周期で配置するパターンを形成する方法であって、有効光源が多重極照明の照明光を用い、被露光体に対して複数回の露光を、被露光体に対するマスクの位置を露光毎にずらせて行うことに特徴を有する。
先ず、図1を参照して、本発明に用いられる露光装置について説明する。図1は等倍ミラー光学系を用いる走査型の投影露光装置の要部概略図である。図1に示す投影露光装置は、反射型の投影光学系Rと、リレー系(絞り結像レンズ系)によって構成され、マスク13上に円弧状若しくは扇形の照明領域を形成する照明系Iとを備える。投影光学系Rは、凹面鏡16、凸面鏡17及びミラー15、18を備える。リレー系は、水銀灯光源2、楕円鏡1、シャッター3、第1及び第2コンデンサーレンズ4,8、波長フィルタ5、インテグレータ6、絞り7、円弧状若しくは扇形の開口を有する視野絞り9、第1及び第2リレーレンズ10,12、ミラー11を含む。
この投影露光装置20では、インテグレータ6により形成される2次光源面が第2コンデンサーレンズ8の前側焦点と略一致し、また、視野絞り9と第2コンデンサーレンズ8の後側焦点が略一致するように配置されたケーラー照明系が構成されている。マスク13は、投影光学系Rの物体面に配置され、像面に配置された基板19と同期して移動する。マスク13及び基板19には、それぞれ物体面及び像面内で図1の矢印方向に光が走査され、マスク13に形成されたパターンが基板19上に転写される。照明系Iには、マスク13上の投影光学系Rの良像域(通常は、円弧状若しくは扇形の形状をなす)全体を均一且つ効率良く、所定の開口数で照射することが要求される。そのため、インテグレータとしてシリンドリカルハエの目レンズを用い、それぞれのシリンドリカルレンズからの照明光束を視野絞り9上で重ねて、その上に一旦照度むらの無い矩形状の照射領域を造る。そして、視野絞り9に形成された円弧状又は扇形のスリット(開口)を透過する光束をリレー系(絞り結像系)10乃至12でマスク13上に結像させて、マスク13上に所望の円弧状若しくは扇型で照射領域内の全ての点で、照度が均一な照明を得る。
図2は、本発明に用いられるマスク13の平面図である。本発明で用いられるマスクは、透光性の基板上に遮光部パターンを有しており、図中、21は開口部、22は遮光部である。また、図2(a)は開口部21がラインパターンであるマスク、(b)は遮光部22がラインパターンであるマスクである。本発明において好ましくは、ラインパターンが開口部パターンである図2(a)のマスクが用いられる。図2においては、開口部21或いは遮光部22を形成するラインパターンが、XY方向に周期的に配置されており、X方向のピッチをPx、Y方向のピッチはPyである。Y方向に延びるラインの線幅をtx[m]、X方向に延びるラインの線幅をty[m]とすると、好ましくは、tx=ty=a[m]であり、Px=Py=P[m]である。このようなマスクに対して、最適な有効光源形状を選択することで、基板19上に高い解像度を有する二次元周期パターンを形成することができる。以下その詳細について述べる。
図3(a)は図2で示すマスク13を図3(b)に示すような小σ照明で照明した場合の瞳面上の回折光パターンである。図3において、円32は投影光学系Rの瞳である。図3(b)は、照明光学系IのNAが投影光学系RのNAと等しい、即ちσ=1.0の場合であり、照明の中央部にσ=0.0の点光源33が配置されていることを示した模式図である。係る小σ照明においては、図3(a)に示す通り、0次回折光30に対し、マスクパターンのX方向基本周期に応じて1次回折光31aが、Y方向基本周期に応じて1次回折光31bが発生する。1次回折光31aの位置は、光源の波長をλ[μm]とすると、±λ/Pxとなり、同じく、1次回折光31bの位置は、±λ/Pyとなる。そのため、Px及びPyが小さくなる、即ちパターンピッチが狭くなると、回折光間隔は広がり、瞳32内に1次回折光が入らなくなり、基板19上には像が形成されなくなる。しかし、図3(d)に示すように、点光源34a、34b、34c及び34dによる四重極照明を行えば、図3(c)に示す通り、0次回折光30と3つの1次回折光31a、31b、31cが同時に瞳に入射可能となる。即ち、四光束干渉により格子状の二次元周期的明暗像が形成されることになる。有効光源形状は図3(d)で示したように円状のもののほかに、図3(e)に示す様に円弧状でもよく、形状は限定されないが、4つの光源位置の中心に対して対称な形状が好ましい。
次に、露光装置20を利用した露光プロセスを説明する。先ず図4(a)に示す様に、レジスト41を塗布した基板40を作製する。次に図2(a)で示したマスクと図3(d)で示した最適な有効光源形状を用いて、図4(b)に示すように第1の露光を行う。尚、本例においてはtx=ty、Px=Py=Pとする。この時のマスクの位置が第1の位置であり、この時感光した部分が43aで示す領域であり、42は遮光領域である。次いで、同じマスク、同じ光源を用い、図4(c)で示すように、マスクを第1の位置に対して所定量だけシフトした第2の位置に移動させ、第2の露光を行う。図4(c)中の43bは第2の露光で感光した領域である。その結果、図4(d)に43で示す領域が全体での感光領域であり、42は遮光領域である。マスクのシフト量はマスクによって異なり、図2(a)で示すマスクではシフト量はX方向及びY方向にそれぞれにP/2であり、結果として、X方向及びY方向においてピッチがP/2のパターンが得られる。尚、レジスト41がネガ型の場合、図4(e)のレジストパターン41aが残り、ホール46がP/2ピッチの二次元周期で配置したホールパターンが形成される。また、レジスト41がポジ型の場合、図4(f)の41bで示される二次元周期のドット状のレジストパターンが形成される。
シフトの仕方は上記に限らず、第1の露光像と第2の露光像との位置関係が図4(c)で示すように第1の露光の非露光部の中心に第2の露光部の十字の中心が来るような関係であればよく、シフト量、シフト方向共に任意の値で行うことができる。またシフト方法にはマスクステージシフトと基板ステージシフトがあるが、どちらを用いてもよく両者を併用することも可能である。
シフト露光プロセスには多重露光法と多度露光法の2種類の方法がある。多重露光法では、第1の露光工程後にマスクを移動し、続けて第2の露光工程を行い、最後にアルカリ現像液で現像を行う。多度露光法では、第1の露光工程後に一度現像を行い、レジストをマスクにしてエッチングした後にレジストの剥離を行う。さらに、新たにレジストを塗布し、その後、マスクを移動して第2の露光工程と現像を行う。図4に示した工程は二重露光法である。これらはどちらの方法で行っても良いが、像面を重ね合わせた時の光学コントラストが高い露光では多重露光法を用い、低い光学コントラストしか得られない場合には多度露光法を用いることが好ましい。
また、図4に示したように、使用するレジストとしては、ポジ型レジストとネガ型レジストの両者があり、露光方法により任意に選択することができる。
本発明においては、シフト露光方法及びレジスト種、マスクのヌキ・ノコシの組み合わせによって得られるパターン形状及びパターンピッチは異なってくる。図2(a)に示す格子状の開口部21を有するマスクでネガ型のレジストを二重露光した場合には、図4(e)のようなホールパターンが得られ、ポジ型のレジストを二重露光した場合には、図4(f)のようなドットパターンが得られる。
図5に、図2(b)で示したマスクを用い、図4と同様に二重露光した場合の工程図を示す。図中の符号は図4と同様である。先ず、図5(a)に示すように、レジスト41を塗布した基板40を作製し、図4(b)に示すように第1の露光を行い、第1の感光領域43aと遮光領域42を形成する。次いで、マスクをX方向にP/2、Y方向にP/2シフトし、図4(c)に示すように第2の露光を行い、最終的に図4(d)に示すように、格子状の感光領域43と、ドット状の遮光領域42が得られる。レジスト41としてネガ型を用いた場合には、図5(e)に示すように、レジストパターン41a中にホール46を千鳥格子状に配置したドットパターンが得られる。また、レジスト41としてポジ型を用いた場合には、図5(f)に示すように、ドット状のレジスト41bが千鳥格子状に配置したドットパターンが得られる。いずれも隣接するホール或いはドット間のピッチはP/21/2である。
さらに、図6に、図2(a)のマスクを用い、二度露光する場合の工程図を示す。図6(a−1)乃至(a−3)はネガ型レジストを用いた場合、(b−1)乃至(b−3)はポジ型レジストを用いた場合である。先ず、図4(a)のように、構造体の母材を成膜した基板40上にレジスト41を塗布し、図2(a)のマスクを用いて第1の露光を行い、現像し、エッチングの後剥離を行う。するとネガ型レジストの場合には、格子状の第1のパターン61a(図6(a−1))、ポジ型のレジストの場合には、ドット状の第1のパターン61a(図6(b−1))が得られる。次いで、図4(a)と同様に最初のレジスト41と同じ範囲にレジストを塗布し、マスクをX方向及びY方向にそれぞれP/2ピッチずらせて第2の露光、現像を行い、所定のパターンのレジスト62が得られる(図6(a−2)、(b−2))。該レジスト62をマスクとして構造体の母材をエッチングの後、レジスト剥離を行うと所定のパターンが得られるが、この時、ネガ型レジストの場合には、第1の露光でパターニングされた領域61aのうち、第2の露光で露光、現像された領域62がパターニングされる。よって、図5(f)と同様に、ドット61bがピッチP/21/2で千鳥格子状に配置したドットパターン得られる。(図6(a−3))。一方、ポジ型レジストの場合には、第1の露光でパターニングされた領域61aに、第2の露光で遮光された領域62がパターニングされる。よって、図4(f)と同様に、ドット61bがピッチP/2で二次元周期で配置したドットパターン(図6(f))が得られる。
尚、図2(b)のマスクを用いて二度露光した場合、ネガ型レジストを用いた場合には、図2(a)のマスクとポジ型レジストを用いて二度露光した場合と同様になるため、図6の(b−1)乃至(b−3)と同様の工程となる。また、図2(b)のマスクとポジ型レジストを用いて二度露光した場合には、図2(a)のマスクとネガ型レジストを用いて二度露光した場合と同様となるため、図6(a−1)乃至(a−3)と同様の工程となる。露光法、レジスト種、マスクの開口部形状得られるパターン形状とパターンピッチの関係を表1に示す。
次に本発明のパターン形成方法を用いた二次元周期構造体の作製方法を図7を参照して説明する。図7(a)は、二重露光法を用いた二次元周期構造体を有する基板の作製フローチャートである。ステップ1では、基板に構造体の母材を成膜する。ステップ2では、基板上にレジストを塗布し、適切なベーク処理等を行う。ステップ3では、露光装置20を用いて第1の露光を行い、二次元周期光学像をレジストに焼き付ける。ステップ4では、所望の位置にステージシフトをした後に露光装置20を用いて第2の露光を行い、二次元周期光学像をレジストに焼き付ける。ステップ5では、レジストを現像する。ステップ6では、レジストをマスクとして用いてエッチングを行うことで基板上に成膜された母材を二次元周期構造体に加工する。ステップ7では、不要になったレジストを取り除く。このようなフローにより、二次元周期構造体を有する基板を作製することができる。
次に、二度露光法を用いた二次元周期構造体を有する基板の作製フローチャートを図7(b)に示す。ステップ1では、基板に構造体の母材を成膜する。ステップ2では、基板上にレジストを塗布し、適切なベーク処理等を行う。ステップ3では、露光装置20を用いて第1の露光を行い、二次元周期光学像をレジストに焼き付ける。ステップ4では、レジストを現像する。ステップ5ではレジストをマスクにエッチングを行うことで基板上に成膜された母材を加工する。ステップ6では不要になったレジストを取り除く。ステップ7では再び基板上にレジストを塗布し、適切なベーク処理等を行う。ステップ8では、所望の位置にステージシフトをした後に露光装置20を用いて第2の露光を行い、二次元周期光学像をレジストに焼き付ける。ステップ9では、レジストを現像する。ステップ10では、レジストをマスクにエッチングを行うことで基板上に成膜された母材を二次元周期構造体に加工する。ステップ11では、不要になったレジストを取り除く。
本発明のパターン形成方法を用いれば、従来は製造が難しかった微細な二次元周期パターンを1つの変形照明と1枚のマスクで作製することができるので、照明交換、マスク交換がなく、高アライメント精度、省タクト等の利点がある。よって二次元周期構造を利用した高性能なデバイスを高品位に作製することができる。
(実施例1)
図3(d)に示した四重極照明と、図2(a)に示したライン状の開口部21を有するマスクを用い、図4の工程に従って二重露光を行った。マスクは、パターンピッチがPx=Py=P=6μmの格子状であり、ラインの線幅はtx=ty=1.5μmである。また、照明の絞りの透光部の位置は、X方向を0°として、θ=45°の位置、及び、該位置から90°おきの位置とした。また、露光装置は投影光学系のNAが0.083であり、露光に使用する光源の波長が0.393μmである投影光学式の露光装置を用いた。
図3(d)に示した四重極照明と、図2(a)に示したライン状の開口部21を有するマスクを用い、図4の工程に従って二重露光を行った。マスクは、パターンピッチがPx=Py=P=6μmの格子状であり、ラインの線幅はtx=ty=1.5μmである。また、照明の絞りの透光部の位置は、X方向を0°として、θ=45°の位置、及び、該位置から90°おきの位置とした。また、露光装置は投影光学系のNAが0.083であり、露光に使用する光源の波長が0.393μmである投影光学式の露光装置を用いた。
基板40上にポジ型のレジスト41を塗布した(図4(a))。次いで、該レジスト41に対して、所定の露光量D11で、マスクのパターン像を露光転写した(第1の露光)。この結果、マスクの開口部21に対応する領域43aが感光した(図4(b))。次に、X方向に3μm、Y方向に3μmだけ基板ステージを移動させることによって、レジスト41に対するマスクの位置をX方向及びY方向にP/2だけずらし、所定の適正露光量D12で第2の露光を行った(図4(c))。この結果、マスクの開口部21に対応する新たな領域43bが感光した。
この後、アルカリ現像液によって現像し、第1の露光及び第2の露光で感光した領域43を除去すると、X方向及びY方向にピッチP=3μmでドット状レジストが二次元手記で配置するドットパターンが得られた。このように同一マスクと同一照明による露光プロセスを用いることによって、高アライメント精度且つ省タクトな二次元周期パターニングのプロセスを提供することができた。
(実施例2)
六重極照明と図8(b)に示すマスクを用いて、ポジ型レジストを3重露光してドットパターンを形成した。図8(a)は本例に用いた六重極照明の絞り81の概略平面図であり、6個の円からなる透過率1の光透過部82と透過率0の遮光部83とを有する。透光部82は、X方向からθ=30°の位置、及び、該位置から60°おきの位置に配置した。
六重極照明と図8(b)に示すマスクを用いて、ポジ型レジストを3重露光してドットパターンを形成した。図8(a)は本例に用いた六重極照明の絞り81の概略平面図であり、6個の円からなる透過率1の光透過部82と透過率0の遮光部83とを有する。透光部82は、X方向からθ=30°の位置、及び、該位置から60°おきの位置に配置した。
マスクは、線幅a=2μmのライン状の開口部がピッチP1=9μmで平行に配置するラインパターンを、3方向に互いに60°で交差する網目状に配置したパターンを有し、放射状の格子部が開口部21、三角形のドットパターンが遮光部22である。
本例においても、露光装置は投影光学系のNAが0.083であり、露光に使用する光源の波長が0.393μmである装置を用いた。
次に図9を参照しながら本例のドットパターン形成工程について説明する。最初に、基板90上にレジスト(不図示)を塗布し、該レジストに対して図8(b)のマスクを用いて所定の露光量D21で第1の露光を行う。この結果、マスクの開口部21に対応する領域93aが感光した(図9(a))。次いで、マスクを移動させて、所定の露光量D22で第2の露光を行い、新たな領域93bを感光した(図9(b))。第1の露光から第2の露光へのマスクの移動は、いずれかのラインに対して直交する方向に2P/3=6μmである。移動方向としては、図9では例えば紙面左右方向を0°として、30°、90°、150°のいずれかである。さらに、第2の露光工程後に、上記方向にマスクを2P/3=6μm移動させて(第3の位置)、所定の露光量D23で第3の露光を行い、新たな領域93cを感光した(図9(c))。これにより、領域93a、93b、93cが感光領域93として得られ、いずれの露光工程においても露光されなかった領域92が残った(図9(d))。
その後、アルカリ現像液によって現像することにより、感光領域93が除去され、三角形のドット状レジスト91bがピッチP2=3μm(即ちP1/3)で二次元周期で配置したドットパターンが得られた(図9(e))。このように同一マスクと同一照明による露光プロセスを用いることによって、高アライメント精度且つ省タクトな二次元周期パターニングのプロセスを提供することができた。
(実施例3)
図10(a)に示すマスクと、実施例2で用いた六重極照明を用いて、ポジ型レジストの二重露光を行い、千鳥格子状のドットパターンを形成した。マスク100は、凸字状の遮光部102aが千鳥格子状に配置した第1の領域103と、四角形の開口部101が千鳥格子状に配置した第2の領域104とを有している。いずれもピッチP1=P2=5.2μmであり。遮光部102aはt1=1.5μm、t2=4.5μm、t3=2.6μm、t4=1.3μmであり、開口部101はt5=1.5μm、t6=2.6μmである。
図10(a)に示すマスクと、実施例2で用いた六重極照明を用いて、ポジ型レジストの二重露光を行い、千鳥格子状のドットパターンを形成した。マスク100は、凸字状の遮光部102aが千鳥格子状に配置した第1の領域103と、四角形の開口部101が千鳥格子状に配置した第2の領域104とを有している。いずれもピッチP1=P2=5.2μmであり。遮光部102aはt1=1.5μm、t2=4.5μm、t3=2.6μm、t4=1.3μmであり、開口部101はt5=1.5μm、t6=2.6μmである。
本例においても、露光装置は投影光学系のNAが0.083であり、露光に使用する光源の波長が0.393μmである装置を用いた。
次に図10(b)乃至(e)を参照しながら本例のドットパターン形成工程について説明する。最初に基板110上にポジ型レジストを塗布し、マスク100の第1の領域103のパターン像を、所定の露光量D31で光転写した(第1の露光)。この結果、凸字状の遮光部102a以外の領域が感光した(図10(b))。さらに、マスク100を移動させて、第1の露光における感光領域112に第2の領域104の開口部101が重複するように配置し、所定の露光量D32でパターン像を光転写した(第2の露光)。この結果、開口部101の領域が感光し(図10(c))、第1の露光の感光領域113aと第2の露光の感光領域113bとが感光領域112となり、ドット状の遮光領域113が残された。
その後、アルカリ現像液によって現像することによって感光領域112が除去され、ドット状レジスト111bがピッチP3=3μmで二次元周期で配置したドットパターンが得られた。このように同一マスクと同一照明による露光プロセスを用いることによって、高アライメント精度且つ省タクトな二次元周期パターニングのプロセスを提供することができた。
21,101:開口部、22,102a,102b:遮光部
Claims (5)
- 透光性の基板に遮光部パターンを有するマスクを照明光で照明し、投影光学系を介して被露光体に投影して露光し、ドット或いはホールが二次元周期で配置するパターンを形成する方法であって、前記照明光の有効光源は多重極照明であり、少なくとも、前記マスクを被露光体に対して第1の位置に配置して第1の露光を行う工程と、前記マスクを被露光体に対して第1の位置とは異なる第2の位置に配置して第2の露光を行う工程と、を有することを特徴とするパターン形成方法。
- 前記マスクは線幅a[m]のラインパターンがXY方向に格子状にピッチP[m]で配置ており、前記照明光の有効光源は四重極照明であり、前記ラインパターンが前記第1の位置と第2の位置とで、X方向にP/2[m]、Y方向にP/2[m]ずれており、P/2[m]のピッチを有する二次元周期のパターンを形成することを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記マスクは線幅a[m]のラインがピッチPで平行に配置するラインパターンが、3方向に互いに60°で交差する網目状に配置されており、前記照明光の有効光源は六重極照明であり、第1の露光工程後に、前記ラインパターンのいずれかのラインに対して直交する方向において、前記マスクを第1の位置から2P/3[m]ずれた第2の位置に配置して第2の露光を行う工程と、該第2の露光工程後に、上記方向に前記マスクを第2の位置からさらに2P/3[m]ずれた第3の位置に配置して第3の露光を行う工程と、を有し、P/3[m]のピッチを有する二次元周期のパターンを形成することを特徴とする請求項1に記載のドットパターン形成方法。
- 前記ラインパターンが開口部パターンである請求項1乃至3のいずれかに記載のドットパターン形成方法。
- 前記マスクは、遮光部が千鳥格子状にピッチP[m]で配置された第1の領域と、開口部が千鳥格子状にピッチP[m]で配置された第2の領域とを有し、前記照明光の有効光源は六重極照明であり、第1の露光工程では前記マスクの第1の領域を用いて露光を行い、第2の露光工程では第1の露光工程における遮光部に第2の領域の開口部が重複するように前記マスクの第2の領域を配置して露光を行うことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
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