JP2010258377A - Wiring board, and method of manufacturing the same - Google Patents

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宏之 藤田
Kiyohito Endo
貴代仁 遠藤
Fumikazu Murakami
文和 村上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board capable of securing insulation between respective wiring layers in laminating wiring layers through insulators, and a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: In this wiring board 10 including a first wiring layer 22 formed on a board 20, an insulator 31 for covering at least the first wiring layer 22, and a jumper wire 32 formed on the first wiring layer 22 through the insulator 31 and arranged to straddle the first wiring layer 22, the insulator 31 is formed by laminating a plurality of insulation layers 34, 35. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、配線板及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a wiring board and a manufacturing method thereof.

近年、電子機器の小型軽量化、高性能化に伴い、それに内蔵される回路基板上の配線パターニングの高密度化が求められている。このような問題の対応案としては、例えば基板の両面に配線のパターニングが形成された、いわゆる両面プリント配線板を用いる構成が知られている。
しかしながら、上述した両面プリント配線板を作成するには、基板の両面に対して一括して露光を行なう両面露光装置が必要となったり、基板の表裏面に形成された配線同士を接続するためのスルーホール等を形成する工程が必要となったりする。そのため、製造コストが増加するとともに製造効率が低下するという問題がある。
In recent years, as electronic devices have become smaller and lighter and have higher performance, higher patterning of wiring patterns on circuit boards incorporated therein has been demanded. As a countermeasure for such a problem, for example, a configuration using a so-called double-sided printed wiring board in which wiring patterning is formed on both sides of a substrate is known.
However, in order to create the double-sided printed wiring board described above, a double-sided exposure apparatus that performs exposure on both sides of the substrate at once is required, or wirings formed on the front and back surfaces of the substrate are connected to each other. A process of forming a through hole or the like may be necessary. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost increases and the manufacturing efficiency decreases.

そこで、上述した問題に対処するために、基板の片面に絶縁層を介して配線を重ね合わせて形成される、いわゆる多層プリント配線板を用いる構成が知られている。多層プリント配線板としては、例えば特許文献1に示されるように、導電層及び絶縁樹脂層からなる配線パターン層の転写用原版を複数作製し、この転写用原版を基板の一方の面に順次転写していくことで、基板の一方の面上に配線パターン層を積層する技術が開示されている。この場合も、各配線パターンの交差部分において、スルーホール等を介して各配線パターン同士を接続している。   In order to cope with the above-described problem, a configuration using a so-called multilayer printed wiring board in which wiring is formed on one surface of a substrate with an insulating layer interposed therebetween is known. As a multilayer printed wiring board, for example, as disclosed in Patent Document 1, a plurality of transfer pattern masters including a conductive layer and an insulating resin layer are produced, and the transfer masters are sequentially transferred to one surface of a substrate. Thus, a technique for laminating a wiring pattern layer on one surface of a substrate is disclosed. Also in this case, the wiring patterns are connected to each other through through holes or the like at the intersections of the wiring patterns.

特開平8−116172号公報JP-A-8-116172

また、従来の多層プリント配線板には、所定の配線層同士が他の配線層の延在方向に沿う両側に配置され、これら所定の配線層同士を他の配線層を間に挟んで接続する場合に、ジャンパー配線を介して所定の配線層間を架け渡すような構成も知られている。
具体的には、図6に示すように、配線板100は、基板101上の中央部(図中中央部)に第1配線層102が形成され、この第1配線層102を間に挟んで両側に一対の第2配線層103が形成されている。この場合、第2配線層103同士を接続するために、第1配線層102上に絶縁体105を介してジャンパー配線106が配置されており、このジャンパー配線106の両端部が第2配線層103に接続されるようになっている。
Further, in the conventional multilayer printed wiring board, predetermined wiring layers are arranged on both sides along the extending direction of other wiring layers, and the predetermined wiring layers are connected with the other wiring layers interposed therebetween. In some cases, a configuration in which a predetermined wiring layer is bridged via a jumper wiring is also known.
Specifically, as shown in FIG. 6, the wiring board 100 has a first wiring layer 102 formed in the central portion (the central portion in the figure) on the substrate 101, with the first wiring layer 102 interposed therebetween. A pair of second wiring layers 103 are formed on both sides. In this case, in order to connect the second wiring layers 103 to each other, the jumper wiring 106 is disposed on the first wiring layer 102 via the insulator 105, and both ends of the jumper wiring 106 are connected to the second wiring layer 103. To be connected to.

ところで、絶縁体105を形成するには、溶剤に溶解された絶縁体105の構成材料を塗布した後、焼成を経て形成されるようになっている。この場合、上述したように電子機器の小型軽量化等に対応するためには、絶縁体105を可能な限り薄く形成する必要がある。
しかしながら、絶縁体105の塗布時の膜厚が薄すぎると、焼成時に溶剤が蒸発してピンホールが発生する虞がある。その結果、ジャンパー配線106と第1配線層102とが、マイグレーションにより短絡するという問題がある。
By the way, in order to form the insulator 105, the constituent material of the insulator 105 dissolved in a solvent is applied and then baked. In this case, as described above, the insulator 105 needs to be formed as thin as possible in order to cope with the reduction in size and weight of the electronic device.
However, if the film thickness when the insulator 105 is applied is too thin, the solvent may evaporate during firing and pinholes may be generated. As a result, there is a problem that the jumper wiring 106 and the first wiring layer 102 are short-circuited due to migration.

これに対して、第1配線層102を確実に被覆するために、比較的厚く絶縁体105を塗布することも考えられる。
しかしながら、絶縁体105の膜厚が厚すぎると、焼成時において絶縁体105の表面付近と内部との間で硬化速度の差が大きくなる。この場合、絶縁体105の表面付近が硬化した時点で焼成を終了すると、絶縁体105の内部では未だ硬化せずに絶縁体105の溶剤が残存する。その後の加熱工程等において、絶縁体105の内部が硬化する際に、溶剤に含まれる気泡が絶縁体105の内部から表面に噴き出して、絶縁体105の表面に比較的大きなピンホール(いわゆるブリード)が生じる虞がある。
On the other hand, in order to reliably cover the first wiring layer 102, it is conceivable to apply the insulator 105 relatively thickly.
However, if the film thickness of the insulator 105 is too thick, the difference in the curing rate between the vicinity of the surface of the insulator 105 and the inside becomes large during firing. In this case, when the baking is finished when the vicinity of the surface of the insulator 105 is cured, the solvent of the insulator 105 remains without being cured inside the insulator 105. In the subsequent heating process or the like, when the inside of the insulator 105 is cured, bubbles contained in the solvent are ejected from the inside of the insulator 105 to the surface, and a relatively large pinhole (so-called bleed) is formed on the surface of the insulator 105. May occur.

また、絶縁体105をスクリーン印刷法等の塗布法等により形成すると、絶縁体105の構成材料が塗布時に濡れ広がり、第1配線層102の周縁部K等において、絶縁体105の膜厚が薄くなる。その結果、第1配線層102の周縁部K等において、第1配線層102を被覆する絶縁体105が断切れを起こす虞がある。   Further, when the insulator 105 is formed by a coating method such as a screen printing method, the constituent material of the insulator 105 spreads out during coating, and the film thickness of the insulator 105 is thin at the peripheral edge K and the like of the first wiring layer 102. Become. As a result, the insulator 105 covering the first wiring layer 102 may be broken at the peripheral edge K or the like of the first wiring layer 102.

そこで本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであって、絶縁体を介して配線層を積層する際に、各配線層間の絶縁を確保することができる配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a wiring board capable of ensuring insulation between each wiring layer and a method for manufacturing the same when laminating wiring layers via an insulator. The purpose is to do.

上述した課題を解決するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明に係る配線板は、基板上に形成された第1配線層と、少なくとも前記第1配線層を被覆する絶縁体と、前記第1配線層上に前記絶縁体を介して形成され、前記第1配線層を跨ぐように配置されたジャンパー配線とを備えた配線板において、前記絶縁体は、複数の絶縁層が積層されてなることを特徴としている。
In order to solve the above-described problems, the present invention provides the following means.
A wiring board according to the present invention is formed on a first wiring layer formed on a substrate, an insulator covering at least the first wiring layer, and formed on the first wiring layer via the insulator, In the wiring board provided with jumper wiring arranged so as to straddle the first wiring layer, the insulator is characterized in that a plurality of insulating layers are laminated.

この構成によれば、第1配線層上に複数の絶縁層を積層することで、第1配線層の周縁部等において絶縁体の断切れを防止することができる。これにより、絶縁体を介して第1配線層上に配置されるジャンパー配線と第1配線層との間での短絡を防止することができる。この場合、上述した断切れを防止するために絶縁体を単層で厚く形成する場合と異なり、ブリードによるピンホールの発生も防止することができるので、より確実にジャンパー配線と第1配線層との間での短絡を防止することができる。仮にいずれかの絶縁層でピンホールが発生した場合でも、そのピンホールは絶縁体の全体を貫通しないので、マイグレーションによる短絡を防止することができる。
その結果、絶縁体を介して配線層を積層する際に、下層の配線層(第1配線層)と上層の配線層(ジャンパー配線)との間の絶縁を確保することができる。
According to this configuration, it is possible to prevent breakage of the insulator at the peripheral edge portion or the like of the first wiring layer by stacking a plurality of insulating layers on the first wiring layer. Thereby, it is possible to prevent a short circuit between the jumper wiring arranged on the first wiring layer and the first wiring layer via the insulator. In this case, unlike the case where the insulator is thickly formed in order to prevent the disconnection, the occurrence of pinholes due to bleed can be prevented, so that the jumper wiring and the first wiring layer can be more reliably connected. Can be prevented from being short-circuited. Even if a pinhole is generated in any of the insulating layers, the pinhole does not penetrate the entire insulator, so that a short circuit due to migration can be prevented.
As a result, when the wiring layers are stacked through the insulator, it is possible to ensure insulation between the lower wiring layer (first wiring layer) and the upper wiring layer (jumper wiring).

また、前記基板上における前記第1配線層の延在方向に沿う両側には、前記第1配線層を間に挟むようにそれぞれ第2配線層の一対のランドが形成され、前記ジャンパー配線は、前記第2配線層の両ランド間を架け渡すように前記ランドに接続され、前記絶縁体は、前記第1配線層を被覆する第1の前記絶縁層と、前記基板の法線方向から見て前記第1の絶縁層の形成領域よりも広く形成され、前記第1の絶縁層を被覆するとともに、前記基板上の前記ランドの一部に乗り上げるように前記ランドを被覆する第2の前記絶縁層とを備えていることを特徴としている。
この構成によれば、第2の絶縁層が各ランドに乗り上げるように形成されているため、第2の絶縁層上に形成されるジャンパー配線は、基板に接触せずに各ランド間を接続されることになる。そのため、ジャンパー配線の密着性を確保することができるので、ジャンパー配線の剥離や断線等を防止して各ランド間の導通を確保することができる。
また、第2の絶縁層の周縁部の領域(ランドに差し掛かる領域)においては、各絶縁層のうち第2の絶縁層のみが形成されているため、第2の絶縁層と第1の絶縁層との積層領域に比べて絶縁体の厚さが薄くなっている。これにより、ランドと絶縁体との境界部分の段差を縮小することができるので、ジャンパー配線が、絶縁体からランドにかけて滑らかに配置される。これにより、絶縁体の端部におけるジャンパー配線の断切れを防止して、各ランド間の導通を確保することができる。なお、スクリーン印刷法でジャンパー配線を形成する際に、絶縁体の境界線に沿ったジャンパー配線のはみ出しを防止することもできる。
Further, on both sides of the substrate along the extending direction of the first wiring layer, a pair of lands of the second wiring layer are formed so as to sandwich the first wiring layer, and the jumper wiring is The land is connected to the lands so as to bridge between the two lands of the second wiring layer, and the insulator includes the first insulating layer covering the first wiring layer and the normal direction of the substrate. The second insulating layer, which is formed wider than the formation region of the first insulating layer, covers the first insulating layer, and covers the land so as to run over a part of the land on the substrate. It is characterized by having.
According to this configuration, since the second insulating layer is formed so as to run on each land, the jumper wiring formed on the second insulating layer is connected between the lands without contacting the substrate. Will be. As a result, the adhesion of the jumper wiring can be ensured, and therefore the continuity between the lands can be ensured by preventing the jumper wiring from being peeled off or disconnected.
In addition, since only the second insulating layer of each insulating layer is formed in the peripheral region (region approaching the land) of the second insulating layer, the second insulating layer and the first insulating layer are formed. The thickness of the insulator is smaller than that of the stacked region with the layer. As a result, the step at the boundary between the land and the insulator can be reduced, so that the jumper wiring is smoothly arranged from the insulator to the land. Thereby, disconnection of the jumper wiring at the end of the insulator can be prevented, and conduction between the lands can be ensured. In addition, when forming the jumper wiring by the screen printing method, it is possible to prevent the jumper wiring from protruding along the boundary line of the insulator.

また、前記第2の絶縁層は、前記ランド上における前記ジャンパー配線との接続部分の周囲を囲むように形成されていることを特徴としている。
この構成によれば、ジャンパー配線の形成時にジャンパー配線の構成材料がランド上に濡れ広がったとしても、第2の絶縁層によって塞き止めることができる。これにより、ジャンパー配線が基板上に流れ落ちて、他の配線層を架け渡して短絡させる虞がない。
Further, the second insulating layer is formed so as to surround a periphery of a connection portion with the jumper wiring on the land.
According to this configuration, even if the constituent material of the jumper wiring wets and spreads on the land when the jumper wiring is formed, it can be blocked by the second insulating layer. Thereby, there is no possibility that the jumper wiring flows down on the substrate and bridges another wiring layer to cause a short circuit.

また、前記基板は、ポリイミドからなるフレキシブル基板であり、前記絶縁体は、ウレタン樹脂またはエポキシ樹脂からなるレジストであることを特徴としている。
この構成によれば、基板と絶縁体との密着性や、基板の撓み変形に対する絶縁体の追従性を確保することができるため、絶縁体の剥離やクラック等を防止して各配線層間を確実に絶縁することができる。
Further, the substrate is a flexible substrate made of polyimide, and the insulator is a resist made of urethane resin or epoxy resin.
According to this configuration, it is possible to ensure the adhesion between the substrate and the insulator and the followability of the insulator with respect to the flexural deformation of the substrate. Can be insulated.

また、前記ジャンパー配線は、銀と樹脂材料とが希釈剤に混合された銀ペーストを用いて形成されていることを特徴としている。
この構成によれば、絶縁体とジャンパー配線との密着性や、基板の撓み変形に対するジャンパー配線の追従性を確保することができるため、ジャンパー配線の剥離や断線等を防止して各ランド間の導通を確保することができる。
Further, the jumper wiring is characterized in that it is formed using a silver paste in which silver and a resin material are mixed in a diluent.
According to this configuration, it is possible to ensure the adhesion between the insulator and the jumper wiring and the followability of the jumper wiring with respect to the bending deformation of the substrate. Conductivity can be ensured.

また、前記絶縁体は、総厚が20μm以上80μm以下に形成されていることを特徴としている。
ところで、絶縁体の総厚が20μm未満であると、絶縁体の形成時に絶縁体中に含まれる溶剤が蒸発してピンホールが発生する虞があるため好ましくない。一方、絶縁体の総厚が80μmより厚いと、絶縁体の焼成時において絶縁体の表面付近と内部との間で硬化速度の差が大きくなる結果、上述したブリードが発生して絶縁体の表面に比較的大きなピンホールが生じる虞があるため好ましくない。このような場合は、ジャンパー配線と第1配線層との間で生じるマイグレーションにより、両者間で短絡する虞がある。
これに対して、本発明の構成によれば、絶縁体の総厚を20μm以上80μm以下に形成することで、ピンホールが発生せず、所望の絶縁体を形成することができるので、ジャンパー配線と第1配線層との間の絶縁を図って、両者間の短絡を防止することができる。
In addition, the insulator is characterized in that the total thickness is 20 μm or more and 80 μm or less.
By the way, if the total thickness of the insulator is less than 20 μm, the solvent contained in the insulator may evaporate during the formation of the insulator, which is not preferable. On the other hand, if the total thickness of the insulator is greater than 80 μm, the difference in the curing rate between the vicinity of the insulator surface and the inside during firing of the insulator increases, resulting in the occurrence of the above bleed and the surface of the insulator. This is not preferable because a relatively large pinhole may occur. In such a case, there is a risk of short circuit between the two due to migration that occurs between the jumper wiring and the first wiring layer.
On the other hand, according to the configuration of the present invention, a desired insulator can be formed without generating pinholes by forming the total thickness of the insulator to 20 μm or more and 80 μm or less. And the first wiring layer can be insulated to prevent a short circuit between them.

また、前記ジャンパー配線の膜厚は、10μm以上30μm以下に形成されていることを特徴としている。
ところで、ジャンパー配線の膜厚を10μm未満に形成すると、ジャンパー配線の電気抵抗が高くなるとともに、ジャンパー配線が断線を起こす虞があるため好ましくない。一方、ジャンパー配線の膜厚を30μmよりも厚く形成すると、基板の撓み変形に追従できず断線等が発生し易くなるとともに、製造コストが増加するため好ましくない。
これに対して、本発明の構成によれば、ジャンパー配線の膜厚を10μm以上30μm以下の範囲に形成することで、断線等の発生を防ぐとともに、各ランド間を所望の抵抗値で接続することができる。
Further, the jumper wiring has a thickness of 10 μm or more and 30 μm or less.
By the way, if the film thickness of the jumper wiring is formed to be less than 10 μm, the electric resistance of the jumper wiring is increased and the jumper wiring may be broken, which is not preferable. On the other hand, if the film thickness of the jumper wiring is formed to be larger than 30 μm, it is not preferable because it is difficult to follow the bending deformation of the substrate and disconnection or the like is likely to occur, and the manufacturing cost increases.
On the other hand, according to the configuration of the present invention, by forming the film thickness of the jumper wiring in the range of 10 μm or more and 30 μm or less, the occurrence of disconnection or the like is prevented and each land is connected with a desired resistance value. be able to.

また、本発明に係る配線板の製造方法は、基板上に形成された少なくとも第1配線層を被覆するように絶縁体を形成する絶縁体形成工程と、前記絶縁体上に前記第1配線層を跨ぐようにジャンパー配線を形成するジャンパー配線形成工程とを備え、前記絶縁体形成工程では、複数の絶縁層を積層して前記積層体を形成することを特徴としている。
この構成によれば、絶縁体形成工程において、第1配線層上に複数の絶縁層を積層することで、第1配線層の周縁部等での絶縁体の断切れを防止することができる。そのため、その後のジャンパー配線形成工程において、絶縁体を介して第1配線層上に配置されるジャンパー配線と、第1配線層との間での短絡を防止することができる。この場合、上述した断切れを防止するために絶縁体を単層で厚く形成する場合と異なり、ブリードによるピンホールの発生も防止することができるので、より確実にジャンパー配線と第1配線層との間での短絡を防止することができる。仮にいずれかの絶縁層でピンホールが発生した場合でも、そのピンホールは絶縁体の全体を貫通しないので、マイグレーションによる短絡を防止することができる。
その結果、絶縁層を介して配線層を積層する際に、下層の配線層(第1配線層)と上層の配線層(ジャンパー配線)との間の絶縁を確保することができる。
The method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes an insulator forming step of forming an insulator so as to cover at least the first wiring layer formed on the substrate, and the first wiring layer on the insulator. A jumper wiring forming step of forming a jumper wiring so as to straddle the substrate, and in the insulator forming step, a plurality of insulating layers are stacked to form the stacked body.
According to this configuration, in the insulator forming step, the insulating layer can be prevented from being cut off at the peripheral edge portion or the like of the first wiring layer by stacking the plurality of insulating layers on the first wiring layer. Therefore, in the subsequent jumper wiring formation step, it is possible to prevent a short circuit between the jumper wiring disposed on the first wiring layer via the insulator and the first wiring layer. In this case, unlike the case where the insulator is thickly formed in order to prevent the disconnection, the occurrence of pinholes due to bleed can be prevented, so that the jumper wiring and the first wiring layer can be more reliably connected. Can be prevented from being short-circuited. Even if a pinhole is generated in any of the insulating layers, the pinhole does not penetrate the entire insulator, so that a short circuit due to migration can be prevented.
As a result, when the wiring layers are stacked via the insulating layer, it is possible to ensure insulation between the lower wiring layer (first wiring layer) and the upper wiring layer (jumper wiring).

また、前記基板上における前記第1配線層の延在方向に沿う両側には、前記第1配線層を間に挟むように、前記ジャンパー配線が接続される第2配線層の一対のランドが形成され、前記絶縁体形成工程は、少なくとも前記第1配線層を被覆する第1の前記絶縁層を形成する第1絶縁層形成工程と、前記第1配線層を被覆するとともに、前記ランドの一部に乗り上げるように前記ランドを被覆する第2の前記絶縁層を形成する第2絶縁層形成工程とを有していることを特徴としている。
この構成によれば、第2絶縁層形成工程において、第2の絶縁層を各ランドに至るまで形成することで、第2の絶縁層上に形成されるジャンパー配線は、基板に接触せずに各ランド間を接続することになる。そのため、ジャンパー配線の密着性を確保することができるので、ジャンパー配線の剥離や断線等を防止して各ランド間の導通を確保することができる。
また、第2の絶縁層の周縁部の領域(ランドに差し掛かる領域)においては、各絶縁層のうち第2の絶縁層のみが形成されているため、第2の絶縁層と第1の絶縁層との積層領域に比べて絶縁体の厚さが薄くなっている。これにより、ランドと絶縁体との境界部分の段差を縮小することができるので、ジャンパー配線が、絶縁体からランドにかけて滑らかに配置される。これにより、絶縁体の端部におけるジャンパー配線の断切れを防止して、各ランド間の導通を確保することができる。
A pair of lands of the second wiring layer to which the jumper wiring is connected are formed on both sides of the substrate along the extending direction of the first wiring layer so as to sandwich the first wiring layer. The insulator forming step includes a first insulating layer forming step of forming at least the first insulating layer that covers at least the first wiring layer; a portion of the land that covers the first wiring layer; And a second insulating layer forming step of forming the second insulating layer covering the land so as to run over the land.
According to this configuration, in the second insulating layer forming step, the jumper wiring formed on the second insulating layer is not in contact with the substrate by forming the second insulating layer up to each land. Each land will be connected. As a result, the adhesion of the jumper wiring can be ensured, and therefore the continuity between the lands can be ensured by preventing the jumper wiring from being peeled off or disconnected.
In addition, since only the second insulating layer of each insulating layer is formed in the peripheral region (region approaching the land) of the second insulating layer, the second insulating layer and the first insulating layer are formed. The thickness of the insulator is smaller than that of the stacked region with the layer. As a result, the step at the boundary between the land and the insulator can be reduced, so that the jumper wiring is smoothly arranged from the insulator to the land. Thereby, disconnection of the jumper wiring at the end of the insulator can be prevented, and conduction between the lands can be ensured.

また、前記絶縁体形成工程は、スクリーン印刷法により前記絶縁層を形成することを特徴としている。
ところで、絶縁体を形成する手法としては、例えばフォトリソグラフィ技術等を採用することも考えられるが、フォトリソグラフィ技術で絶縁体を形成すると周縁部が角部となり、その後絶縁体上に形成されるジャンパー配線が断切れを起こす虞がある。
これに対して、本発明の構成によれば、絶縁体をスクリーン印刷法により形成することで、各絶縁層の形成時に絶縁層の周縁部が基板の表面上や配線層上を濡れ広がり、周縁部は滑らかな曲線形状をなすことになる。すなわち、フォトリソグラフィ技術等によって絶縁層を形成する場合と異なり、絶縁体とランドとの境界部分での段差を縮小することができる。これにより、絶縁体上に形成されるジャンパー配線が、絶縁体からランドにかけて滑らかに配置されることになる。
その結果、絶縁体の周縁部でのジャンパー配線の断切れ等を防止することができる。なお、スクリーン印刷法でジャンパー配線を形成する際に、絶縁体の境界線に沿ったジャンパー配線のはみ出しを防止することもできる。
In the insulator forming step, the insulating layer is formed by a screen printing method.
By the way, as a method of forming the insulator, for example, it may be possible to adopt a photolithography technique or the like, but when the insulator is formed by the photolithography technique, a peripheral portion becomes a corner portion, and then a jumper formed on the insulator. There is a possibility that the wiring breaks.
On the other hand, according to the configuration of the present invention, by forming the insulator by screen printing, the peripheral portion of the insulating layer wets and spreads on the surface of the substrate or on the wiring layer when each insulating layer is formed. The part has a smooth curved shape. That is, unlike the case where the insulating layer is formed by a photolithography technique or the like, the step at the boundary between the insulator and the land can be reduced. Thereby, the jumper wiring formed on the insulator is smoothly arranged from the insulator to the land.
As a result, it is possible to prevent the jumper wiring from being cut off at the periphery of the insulator. In addition, when forming the jumper wiring by the screen printing method, it is possible to prevent the jumper wiring from protruding along the boundary line of the insulator.

また、前記ジャンパー配線形成工程は、スクリーン印刷法により前記ジャンパー配線を形成することを特徴としている。
この構成によれば、絶縁体の外面形状に倣ってジャンパー配線を形成することができるので、各ランド間での導通を確保することができる。
In the jumper wiring forming step, the jumper wiring is formed by a screen printing method.
According to this configuration, since the jumper wiring can be formed following the shape of the outer surface of the insulator, conduction between the lands can be ensured.

本発明に係る配線板及びその製造方法によれば、第1配線層上に複数の絶縁層を積層することで、第1配線層の周縁部等において絶縁体の断切れを防止することができる。これにより、絶縁体を介して第1配線層上に配置されるジャンパー配線と第1配線層との間での短絡を防止することができる。この場合、上述した断切れを防止するために絶縁体を単層で厚く形成する場合と異なり、ブリードによるピンホールの発生も防止することができるので、より確実にジャンパー配線と第1配線層との間での短絡を防止することができる。仮にいずれかの絶縁層でピンホールが発生した場合でも、そのピンホールは絶縁体の全体を貫通しないので、マイグレーションによる短絡を防止することができる。
その結果、絶縁体を介して配線層を積層する際に、下層の配線層(第1配線層)と上層の配線層(ジャンパー配線)との間の絶縁を確保することができる。
According to the wiring board and the method of manufacturing the same according to the present invention, it is possible to prevent breakage of the insulator at the peripheral edge portion or the like of the first wiring layer by laminating a plurality of insulating layers on the first wiring layer. . Thereby, it is possible to prevent a short circuit between the jumper wiring arranged on the first wiring layer and the first wiring layer via the insulator. In this case, unlike the case where the insulator is thickly formed in order to prevent the disconnection, the occurrence of pinholes due to bleed can be prevented, so that the jumper wiring and the first wiring layer can be more reliably connected. Can be prevented from being short-circuited. Even if a pinhole is generated in any of the insulating layers, the pinhole does not penetrate the entire insulator, so that a short circuit due to migration can be prevented.
As a result, when the wiring layers are stacked through the insulator, it is possible to ensure insulation between the lower wiring layer (first wiring layer) and the upper wiring layer (jumper wiring).

配線板の平面図である。It is a top view of a wiring board. 図1のA−A線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the AA line of FIG. 配線板の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of a wiring board. 配線板の製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing process of a wiring board. 配線板の他の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other structure of a wiring board. 従来の配線板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the conventional wiring board.

図1は配線板の平面図であり、図2は図1のA−A線に沿う断面図である。
図1,2に示すように、配線板10はポリイミド等からなるフレキシブル基板(以下、基板という)20と、基板20上に形成された複数の配線パターン21とを備えている。
各配線パターン21は、銅箔等が基板20上に成膜されてなり、基板20上に実装された図示しないICチップ等の電子部品に引き回され、電子部品同士を電気的に接続している。なお、配線パターン21の膜厚は、8μm以上25μm以下程度に形成されていることが好ましく、本実施形態では8μm程度に形成されている。
各配線パターン21は、基板20の表面20aの中央部(図2中央部)に形成され、それぞれ平行に延在する複数の第1配線層22と、第1配線層22の延在方向に沿う両側において、第1配線層22を間に挟んで配置された一対の第2配線層23とを有している。なお、以下の説明では、複数の第1配線層22をまとめて配線層群24として説明する。
1 is a plan view of the wiring board, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
As shown in FIGS. 1 and 2, the wiring board 10 includes a flexible substrate (hereinafter referred to as a substrate) 20 made of polyimide or the like, and a plurality of wiring patterns 21 formed on the substrate 20.
Each wiring pattern 21 is formed by forming a copper foil or the like on the substrate 20 and is routed to an electronic component such as an IC chip (not shown) mounted on the substrate 20 to electrically connect the electronic components to each other. Yes. The film thickness of the wiring pattern 21 is preferably about 8 μm or more and 25 μm or less. In this embodiment, the film thickness is about 8 μm.
Each wiring pattern 21 is formed in the central portion (the central portion in FIG. 2) of the surface 20a of the substrate 20, and extends along the extending direction of the first wiring layers 22 and a plurality of first wiring layers 22 extending in parallel. On both sides, a pair of second wiring layers 23 are disposed with the first wiring layer 22 interposed therebetween. In the following description, the plurality of first wiring layers 22 are collectively described as the wiring layer group 24.

一対の第2配線層23は、配線層群24の延在方向に直交する方向において、配線層群24の両側にそれぞれ形成されており、互いに逆方向に向かって延在している。すなわち、第2配線層23は、基板20の面方向において配線層群24によって遮られている。そして、第2配線層23のうち、一方の第2配線層23の端部には、平面視矩形状のランド25が形成されるとともに、配線層群24を間に挟んでランド25の反対側には、他方の第2配線層23のランド25が同じく平面視矩形状に形成されている。なお、図示しないが配線パターン21上には、配線パターン21と各電子部品とを接続する際のハンダの濡れ性を向上させるために、錫や金等からなるめっき層(例えば、数μm)が形成されている。   The pair of second wiring layers 23 are respectively formed on both sides of the wiring layer group 24 in a direction orthogonal to the extending direction of the wiring layer group 24, and extend in directions opposite to each other. That is, the second wiring layer 23 is blocked by the wiring layer group 24 in the surface direction of the substrate 20. A land 25 having a rectangular shape in plan view is formed at the end of one of the second wiring layers 23 in the second wiring layer 23, and the opposite side of the land 25 with the wiring layer group 24 interposed therebetween. The land 25 of the other second wiring layer 23 is also formed in a rectangular shape in plan view. Although not shown, a plating layer (for example, several μm) made of tin, gold or the like is provided on the wiring pattern 21 in order to improve the wettability of solder when connecting the wiring pattern 21 and each electronic component. Is formed.

ここで、基板20上には、配線層群24を被覆するように絶縁体31が形成され、この絶縁体31を介して各第2配線層23のランド25間を接続するジャンパー配線32が形成されている。
絶縁体31は、基板20の表面20a上において第2配線層23の各ランド25間に配置された第1絶縁層(第1の絶縁層)34と、第1絶縁層34を被覆するように配置された第2絶縁層(第2の絶縁層)35とで構成されている。
Here, an insulator 31 is formed on the substrate 20 so as to cover the wiring layer group 24, and a jumper wiring 32 connecting the lands 25 of the second wiring layers 23 is formed via the insulator 31. Has been.
The insulator 31 covers the first insulating layer 34 and the first insulating layer (first insulating layer) 34 disposed between the lands 25 of the second wiring layer 23 on the surface 20 a of the substrate 20. The second insulating layer (second insulating layer) 35 is disposed.

第1絶縁層34は、各ランド25間に挟まれるように配置され、配線層群24のみを一括して被覆するように配置されており、その周縁部は滑らかな曲線形状をなしている。すなわち、第1絶縁層34は、主として配線層群24とジャンパー配線32との交差領域において両者間に介在しており、中央部から周縁部に向かうにつれて厚さが漸次薄くなるように形成されている。また、第1絶縁層34の長手方向(配線層群24の延在方向)の幅は、ジャンパー配線32の短手方向の幅(例えば、0.3mm程度)よりも長く形成されており、ジャンパー配線32と配線層群24との絶縁を図っている。   The first insulating layer 34 is disposed so as to be sandwiched between the lands 25 and is disposed so as to cover only the wiring layer group 24 at a time, and its peripheral edge portion has a smooth curved shape. That is, the first insulating layer 34 is interposed between the wiring layer group 24 and the jumper wiring 32 mainly at the intersection region, and is formed so that the thickness gradually decreases from the central portion toward the peripheral portion. Yes. The width of the first insulating layer 34 in the longitudinal direction (extending direction of the wiring layer group 24) is longer than the width of the jumper wiring 32 in the short direction (for example, about 0.3 mm). The wiring 32 and the wiring layer group 24 are insulated.

第2絶縁層35は、ランド25上にジャンパー配線32との接続部分を露出させた平面視(基板20の法線方向から見て)でH形状に形成されており、第1絶縁層34の周囲の配線パターン21を一括して被覆し、その周縁部は滑らかな曲線形状をなしている。すなわち、第2絶縁層35は、第1絶縁層34と同様に、中央部から周縁部に向かうにつれて厚さが漸次薄くなるように形成されている。この場合、第2絶縁層35の周縁部における接触角θ、すなわち第2絶縁層35と、基板20の表面20aや第2配線層23のランド25とのなす角は、10度以上70度以下に形成されていることが好ましく、本実施形態では40度程度に形成されている。   The second insulating layer 35 is formed in an H shape in plan view (as viewed from the normal direction of the substrate 20) with the connection portion with the jumper wiring 32 exposed on the land 25. The surrounding wiring patterns 21 are collectively covered, and the peripheral edge portion has a smooth curved shape. That is, like the first insulating layer 34, the second insulating layer 35 is formed such that the thickness gradually decreases from the central portion toward the peripheral portion. In this case, the contact angle θ at the peripheral edge of the second insulating layer 35, that is, the angle formed between the second insulating layer 35 and the surface 20 a of the substrate 20 or the land 25 of the second wiring layer 23 is not less than 10 degrees and not more than 70 degrees. Preferably, it is formed at about 40 degrees in this embodiment.

第2絶縁層35の中央部(図1中中央部)には、ジャンパー配線32の延在方向において、第1絶縁層34を被覆するとともに、配線層群24の両側からランド25に至るまで形成されたジャンパー絶縁部40が形成されている。ジャンパー絶縁部40は、各ランド25における互いに対向する周縁部に乗り上げるようにして各ランド25を被覆している。   In the central part of the second insulating layer 35 (the central part in FIG. 1), the first insulating layer 34 is covered in the extending direction of the jumper wiring 32 and is formed from both sides of the wiring layer group 24 to the land 25. A jumper insulating portion 40 is formed. The jumper insulating portion 40 covers each land 25 so as to run on the peripheral edges of each land 25 facing each other.

また、第2絶縁層35は、ジャンパー絶縁部40からジャンパー配線32の幅方向に拡大されたパターン絶縁部41を備えている。このパターン絶縁部41は、ランド25周辺の配線層群24及び第2配線層23を被覆している。さらに、第2絶縁層35は、パターン絶縁部41からジャンパー配線32の延在方向に沿って延在し、各ランド25の側部両周縁を被覆するように配置された側方絶縁部42を備えている。すなわち、各ランド25は、その三方向の周縁部(互いに対向する周縁部及び両側方の周縁部)が第2絶縁層35に被覆され、第2絶縁層35はランド25を取り囲むように配置されている。   The second insulating layer 35 includes a pattern insulating portion 41 that is expanded from the jumper insulating portion 40 in the width direction of the jumper wiring 32. The pattern insulating portion 41 covers the wiring layer group 24 and the second wiring layer 23 around the land 25. Further, the second insulating layer 35 extends from the pattern insulating portion 41 along the extending direction of the jumper wiring 32, and the side insulating portions 42 arranged so as to cover both side edges of each land 25. I have. That is, each of the lands 25 is covered with the second insulating layer 35 at the peripheral edge portions in the three directions (the peripheral edge portions and the peripheral edge portions on both sides), and the second insulating layer 35 is disposed so as to surround the land 25. ing.

このように、本実施形態の絶縁層34,35は、ジャンパー絶縁部40の中央部において、第1絶縁層34と第2絶縁層35とが積層配置された積層領域を構成する一方、その他の領域(ジャンパー絶縁部40の端部、パターン絶縁部41及び側方絶縁部42)では、第2絶縁層35のみが形成された単層領域を構成している。
なお、上述した各絶縁層34,35の構成材料としては、基板20及びジャンパー配線32との密着性や、基板の撓み変形に対する追従性等を考慮してウレタン樹脂系のレジスト(例えば、味の素ファインテクノ製AR7100)等が好適に用いられている。また、絶縁体31の構成材料としては、エポキシ樹脂系のレジストを採用することも可能である。
As described above, the insulating layers 34 and 35 of this embodiment form a stacked region in which the first insulating layer 34 and the second insulating layer 35 are stacked in the central portion of the jumper insulating portion 40, while In the region (the end portion of the jumper insulating portion 40, the pattern insulating portion 41, and the side insulating portion 42), a single-layer region in which only the second insulating layer 35 is formed is configured.
The constituent material of each of the insulating layers 34 and 35 described above is a urethane resin resist (for example, Ajinomoto Fine Co. Techno AR7100) is preferably used. In addition, as a constituent material of the insulator 31, an epoxy resin resist can be employed.

このように構成された各絶縁層34,35のそれぞれの膜厚は、10μm以上30μm以下の範囲に形成されていることが好ましい。この場合、第1絶縁層34と第2絶縁層35(ジャンパー絶縁部40)との積層領域では、その総厚が20μm以上80μm以下に形成されていることが好ましい。絶縁体31の総厚が20μm未満であると、絶縁体31の形成時に絶縁体31中に含まれる溶剤が蒸発してピンホールが発生する虞があるため好ましくない。一方、絶縁体31の総厚が80μmより厚いと、後述する焼成工程において絶縁体31の表面付近と内部との間で硬化速度の差が大きくなる結果、上述したブリードが発生して絶縁体31の表面に比較的大きなピンホールが生じる虞があるため好ましくない。その結果、ジャンパー配線32と配線層群24との間で生じるマイグレーションにより、両者間で短絡する虞がある。
これに対して、絶縁体31の総厚を20μm以上80μm以下に形成することで、ピンホールが発生せず、所望の絶縁体31を形成することができるので、ジャンパー配線32と配線層群24との間の絶縁を図って、両者間の短絡を防止することができる。さらに、絶縁体31の総厚を30μm以上60μm以下に形成することで、より確実にジャンパー配線32と配線層群24との間の短絡を防止することができる。
It is preferable that the thickness of each of the insulating layers 34 and 35 thus configured is in the range of 10 μm to 30 μm. In this case, it is preferable that the total thickness of the stacked region of the first insulating layer 34 and the second insulating layer 35 (jumper insulating portion 40) is 20 μm or more and 80 μm or less. If the total thickness of the insulator 31 is less than 20 μm, the solvent contained in the insulator 31 may evaporate when the insulator 31 is formed, which is not preferable. On the other hand, if the total thickness of the insulator 31 is greater than 80 μm, the difference in the curing rate between the vicinity of the surface of the insulator 31 and the inside thereof is increased in the firing process described later, and as a result, the above-described bleed occurs and the insulator 31 This is not preferable because a relatively large pinhole may be formed on the surface. As a result, there is a risk of short circuit between the jumper wiring 32 and the wiring layer group 24 due to migration.
On the other hand, by forming the total thickness of the insulator 31 to 20 μm or more and 80 μm or less, pinholes are not generated and the desired insulator 31 can be formed. Therefore, the jumper wiring 32 and the wiring layer group 24 can be formed. It is possible to prevent the short circuit between them. Furthermore, by forming the total thickness of the insulator 31 to 30 μm or more and 60 μm or less, a short circuit between the jumper wiring 32 and the wiring layer group 24 can be prevented more reliably.

ここで、ジャンパー配線32は、絶縁体31の積層領域上に配線層群24を跨ぐように配置され、その両端部が第2配線層23のランド25に接続されている。具体的に、ジャンパー配線32は、その中央部が絶縁体31の積層領域上に配置される一方、両端側はジャンパー絶縁部40の周縁部上に配置されている。すなわち、ジャンパー配線32は、基板20の表面20aには接触しない状態で各ランド25間を架け渡されている。また、ジャンパー配線32は、第2絶縁層35の外面形状に倣って、その周縁部が滑らかな曲面形状をなしており、ランド25上において、周囲が側方絶縁部42及びジャンパー絶縁部40によって取り囲まれている。   Here, the jumper wiring 32 is arranged on the laminated region of the insulator 31 so as to straddle the wiring layer group 24, and both ends thereof are connected to the lands 25 of the second wiring layer 23. Specifically, the center of the jumper wiring 32 is disposed on the laminated region of the insulator 31, while the both ends are disposed on the peripheral edge of the jumper insulating part 40. That is, the jumper wiring 32 is bridged between the lands 25 without contacting the surface 20 a of the substrate 20. Further, the jumper wiring 32 has a smooth curved surface shape along the outer surface shape of the second insulating layer 35, and the periphery thereof is surrounded by the side insulating portion 42 and the jumper insulating portion 40 on the land 25. Surrounded.

なお、ジャンパー配線32の構成材料としては、絶縁体31(レジスト)との密着性、基板20の撓み変形に対する追従性等を考慮して導電材(例えば、銀)と樹脂材料(例えば、ポリエステル)とが希釈剤に混合された銀ペースト(例えば、藤倉化成製 ドータイト(登録商標)FA−353)が好適に用いられている。   In addition, as a constituent material of the jumper wiring 32, a conductive material (for example, silver) and a resin material (for example, polyester) are considered in consideration of adhesion to the insulator 31 (resist), followability to bending deformation of the substrate 20, and the like. Silver paste (for example, Dotite (registered trademark) FA-353 manufactured by Fujikura Kasei) is preferably used.

また、ジャンパー配線32の膜厚は、10μm以上30μm以下の範囲に形成することが好ましい。ジャンパー配線32の膜厚を10μm未満に設定すると、ジャンパー配線32の電気抵抗が高くなるとともに、ジャンパー配線32が断線を起こす虞があるため好ましくない。一方、ジャンパー配線32の膜厚を30μmよりも厚く設定すると、基板20の撓み変形に追従できず断線が発生し易くなるとともに、製造コストが増加するため好ましくない。
これに対して、ジャンパー配線32の膜厚を10μm以上30μm以下の範囲に形成することで、断線等の発生を防ぐとともに、各ランド25間を所望の抵抗値で接続することができる。なお、ジャンパー配線32の膜厚は、20μm程度がより好ましい。
The film thickness of the jumper wiring 32 is preferably formed in the range of 10 μm to 30 μm. Setting the film thickness of the jumper wiring 32 to less than 10 μm is not preferable because the electrical resistance of the jumper wiring 32 increases and the jumper wiring 32 may break. On the other hand, if the film thickness of the jumper wiring 32 is set to be larger than 30 μm, it is not preferable because it is difficult to follow the bending deformation of the substrate 20 and disconnection is likely to occur and the manufacturing cost increases.
On the other hand, by forming the film thickness of the jumper wiring 32 in the range of 10 μm or more and 30 μm or less, it is possible to prevent the occurrence of disconnection or the like and connect the lands 25 with a desired resistance value. The film thickness of the jumper wiring 32 is more preferably about 20 μm.

また、ジャンパー配線32上には、ジャンパー配線32及び第2絶縁層35を被覆するように上側絶縁層45(図2参照)が形成されている。この上側絶縁層45は、上述した絶縁体31と同様にレジストにより構成されている。これにより、ジャンパー配線32と他の配線層や電子部品等との接触を防止して、両者間での短絡を防止することができる。   An upper insulating layer 45 (see FIG. 2) is formed on the jumper wiring 32 so as to cover the jumper wiring 32 and the second insulating layer 35. The upper insulating layer 45 is made of a resist in the same manner as the insulator 31 described above. Thereby, the contact between the jumper wiring 32 and other wiring layers or electronic components can be prevented, and a short circuit between them can be prevented.

(配線板の製造方法)
次に、上述した配線板の製造方法について説明する。図3は配線板の製造方法を説明するためのフローチャートであり、図4は配線板の製造方法を示す工程図である。
図3,4(a)に示すように、まずステップS1において、銅箔等により基板20の表面20a上に所望の配線パターン21を形成する(銅箔パターニング処理)。
次に、ステップS2において、各配線パターン21上にめっき層(不図示)を形成するめっき工程を行う。
(Manufacturing method of wiring board)
Next, a method for manufacturing the above-described wiring board will be described. FIG. 3 is a flowchart for explaining a method for manufacturing a wiring board, and FIG. 4 is a process diagram showing the method for manufacturing a wiring board.
As shown in FIGS. 3 and 4A, first, in step S1, a desired wiring pattern 21 is formed on the surface 20a of the substrate 20 with a copper foil or the like (copper foil patterning process).
Next, in step S2, a plating process for forming a plating layer (not shown) on each wiring pattern 21 is performed.

次に、図4(b)に示すように、ステップS3において、各ランド25間に配置された配線層群24を被覆する第1絶縁層34を形成する(第1絶縁層形成工程)。
具体的には、まずステップS3Aにおいて、スクリーン印刷法等により基板20上の第1絶縁層34の形成領域に第1絶縁層34の構成材料(レジスト)を塗布する(レジスト塗布)。その後、ステップS3Bにおいて、基板20を温度150度の雰囲気下において、30分程度焼成する(キュア工程)。これにより、第1絶縁層34中の溶媒を効率的に蒸発させ、第1絶縁層34全体を均一に硬化させることができる。
Next, as shown in FIG. 4B, in step S3, a first insulating layer 34 that covers the wiring layer group 24 disposed between the lands 25 is formed (first insulating layer forming step).
Specifically, first, in step S3A, the constituent material (resist) of the first insulating layer 34 is applied to the formation region of the first insulating layer 34 on the substrate 20 by a screen printing method or the like (resist application). Thereafter, in step S3B, the substrate 20 is baked for about 30 minutes in an atmosphere at a temperature of 150 degrees (curing step). Thereby, the solvent in the first insulating layer 34 can be efficiently evaporated, and the entire first insulating layer 34 can be uniformly cured.

ところで、第1絶縁層34の形成後において、第1絶縁層34にはピンホールが発生している箇所が存在する。この状態で第1絶縁層34上にジャンパー配線32を形成すると、ジャンパー配線32と配線層群24との間で短絡する虞がある。
これに対して、配線層群24を完全に被覆する程度に第1絶縁層34を厚く塗布することも考えられる。
しかしながら、第1絶縁層34の膜厚が厚すぎると、上述したブリードが生じて第1絶縁層34の表面に比較的大きなピンホールが生じ、これによっても、ジャンパー配線32と配線層群24との間で短絡する虞がある。
また、第1絶縁層34をスクリーン印刷法等の塗布法により形成すると、配線層群24の周縁部Kには、第1絶縁層34が断切れして下層の配線層群24が露出する虞もある。
By the way, after the formation of the first insulating layer 34, the first insulating layer 34 has a portion where a pinhole is generated. If the jumper wiring 32 is formed on the first insulating layer 34 in this state, there is a risk of a short circuit between the jumper wiring 32 and the wiring layer group 24.
On the other hand, it is also conceivable to apply the first insulating layer 34 thick enough to completely cover the wiring layer group 24.
However, if the film thickness of the first insulating layer 34 is too thick, the above-described bleed occurs and a relatively large pinhole is generated on the surface of the first insulating layer 34, which also causes the jumper wiring 32, the wiring layer group 24, There is a risk of a short circuit between the two.
Further, when the first insulating layer 34 is formed by a coating method such as a screen printing method, the first insulating layer 34 may be cut off at the peripheral edge K of the wiring layer group 24 to expose the lower wiring layer group 24. There is also.

そこで、図4(c)に示すように、本実施形態では、ステップS4において、第1絶縁層34上に第1絶縁層34を被覆するように第2絶縁層35を形成する(第2絶縁層形成工程)。
具体的には、上述した第1絶縁層形成工程と同様に、まずステップS4Aにおいて、スクリーン印刷法等により基板20上における第2絶縁層35の形成領域に第2絶縁層35の構成材料(レジスト)を塗布する(レジスト塗布)。その後、ステップS4Bにおいて、基板20を温度150度の雰囲気下において、30分程度焼成する(キュア工程)。これにより、第1絶縁層34を含む周囲の配線パターン21を被覆するように、第2絶縁層35が形成される。
Therefore, as shown in FIG. 4C, in the present embodiment, in step S4, the second insulating layer 35 is formed on the first insulating layer 34 so as to cover the first insulating layer 34 (second insulation). Layer forming step).
Specifically, as in the first insulating layer forming step described above, first, in step S4A, the constituent material (resist of the second insulating layer 35 is formed in the formation region of the second insulating layer 35 on the substrate 20 by screen printing or the like. ) Is applied (resist application). Thereafter, in step S4B, the substrate 20 is baked for about 30 minutes in an atmosphere at a temperature of 150 degrees (curing step). Thereby, the second insulating layer 35 is formed so as to cover the surrounding wiring pattern 21 including the first insulating layer 34.

この場合、例えばフォトリソグラフィ技術等によって絶縁層を形成することも考えられるが、フォトリソグラフィ技術で絶縁層を形成すると周縁部が角部となり、その後絶縁層上に形成されるジャンパー配線32が断切れを起こす虞がある。これに対して、本実施形態のように、絶縁体31をスクリーン印刷法により形成することで、絶縁体31の塗布時に絶縁体31の周縁部が基板20の表面20a上や配線層22,23上を濡れ広がり、周縁部は滑らかな曲線形状をなすことになる。すなわち、フォトリソグラフィ技術等によって絶縁層を形成する場合と異なり、絶縁体31とランド25との境界部分での段差を縮小することができる。これにより、ジャンパー配線32が、絶縁体31からランド25にかけて滑らかに配置される。これにより、絶縁体31の端部におけるジャンパー配線32の断切れを防止して、各ランド25間の導通を確保することができる。
また、ランド25上においては、各絶縁層34,35のうち第2絶縁層35のみが形成されるとともに、第2絶縁層35は周縁部にかけて漸次膜厚が薄くなるように形成されているため、第2絶縁層35と第1絶縁層34との積層領域に比べて絶縁体31の厚さが薄くなっている。これにより、ランド25と第2絶縁層35との境界部分の段差を縮小することができるので、絶縁体31の周縁部でのジャンパー配線32の断切れ等をより防止することができる。
In this case, an insulating layer may be formed by, for example, a photolithography technique, but when the insulating layer is formed by a photolithography technique, the peripheral portion becomes a corner portion, and then the jumper wiring 32 formed on the insulating layer is cut off. There is a risk of causing. On the other hand, by forming the insulator 31 by screen printing as in the present embodiment, the peripheral portion of the insulator 31 is applied on the surface 20a of the substrate 20 or the wiring layers 22 and 23 when the insulator 31 is applied. It spreads over the top, and the peripheral edge has a smooth curved shape. That is, unlike the case where the insulating layer is formed by a photolithography technique or the like, the step at the boundary between the insulator 31 and the land 25 can be reduced. Thereby, the jumper wiring 32 is smoothly arranged from the insulator 31 to the land 25. Thereby, disconnection of the jumper wiring 32 at the end portion of the insulator 31 can be prevented, and conduction between the lands 25 can be ensured.
On the land 25, only the second insulating layer 35 of the insulating layers 34 and 35 is formed, and the second insulating layer 35 is formed so that the film thickness gradually decreases toward the periphery. The thickness of the insulator 31 is smaller than that of the stacked region of the second insulating layer 35 and the first insulating layer 34. As a result, the step at the boundary between the land 25 and the second insulating layer 35 can be reduced, so that breakage of the jumper wiring 32 at the peripheral edge of the insulator 31 can be further prevented.

続いて、図4(d)に示すように、ステップS5において、第2配線層23の各ランド25間を接続するためのジャンパー配線32を形成する(ジャンパー配線形成工程)。具体的には、まずステップS5Aにおいて、ジャンパー配線32の形成領域に、ジャンパー配線32の構成材料である銀ペーストをスクリーン印刷により塗布する。
このように、ジャンパー配線32となる銀ペーストをスクリーン印刷法により塗布することで、第2絶縁層35の外面形状に倣ってジャンパー配線32を形成することができるので、各ランド25間での導通を確保することができる。なお、この場合ランド25は、その周囲が第2絶縁層35(ジャンパー絶縁部40及び側方絶縁部42)によって囲まれているため、銀ペーストの塗布時に銀ペーストがランド25上に濡れ広がったとしても、第2絶縁層35によって塞き止めることができる。これにより、ジャンパー配線32が基板20上に流れ落ちて、他の配線層を架け渡して短絡させる虞がない。なお、スクリーン印刷法でジャンパー配線32を形成する際に、絶縁体31の境界線に沿ったジャンパー配線32のはみ出しを防止することもできる。
Subsequently, as shown in FIG. 4D, in step S5, a jumper wiring 32 for connecting the lands 25 of the second wiring layer 23 is formed (jumper wiring forming step). Specifically, first, in step S5A, silver paste, which is a constituent material of the jumper wiring 32, is applied to the formation region of the jumper wiring 32 by screen printing.
Thus, by applying the silver paste to be the jumper wiring 32 by the screen printing method, the jumper wiring 32 can be formed following the outer surface shape of the second insulating layer 35. Can be secured. In this case, since the periphery of the land 25 is surrounded by the second insulating layer 35 (the jumper insulating portion 40 and the side insulating portion 42), the silver paste wets and spreads on the land 25 when the silver paste is applied. However, it can be blocked by the second insulating layer 35. Thereby, there is no possibility that the jumper wiring 32 flows down on the substrate 20 and bridges another wiring layer to cause a short circuit. When the jumper wiring 32 is formed by the screen printing method, the jumper wiring 32 can be prevented from protruding along the boundary line of the insulator 31.

そして、ステップS5Bにおいて、基板20を温度150度の雰囲気下において、30分程度焼成する(キュア工程)。これにより、第2絶縁層35上に各ランド25間を架け渡すジャンパー配線32が形成される。   In step S5B, the substrate 20 is baked for about 30 minutes in an atmosphere at a temperature of 150 degrees (curing step). As a result, the jumper wiring 32 that bridges the lands 25 is formed on the second insulating layer 35.

最後に、ステップS6において、ジャンパー配線32を被覆する上側絶縁層45を形成する(上側絶縁層形成工程)。具体的には、上述した各絶縁層形成工程と同様に、まずステップS6Aにおいて、スクリーン印刷法等により基板20上における上側絶縁層45の形成領域に上側絶縁層45の構成材料(レジスト)を塗布する(レジスト塗布)。その後、ステップS6Bにおいて、基板20を温度150度の雰囲気下において、30分程度焼成する(キュア工程)。これにより、ジャンパー配線32及び絶縁体31を被覆するように、上側絶縁層45が形成される。
以上により、上述した配線板10が完成する。
Finally, in step S6, the upper insulating layer 45 that covers the jumper wiring 32 is formed (upper insulating layer forming step). Specifically, in the same manner as each of the insulating layer forming steps described above, first, in step S6A, the constituent material (resist) of the upper insulating layer 45 is applied to the formation region of the upper insulating layer 45 on the substrate 20 by screen printing or the like. (Resist application). Thereafter, in step S6B, the substrate 20 is baked for about 30 minutes in an atmosphere at a temperature of 150 degrees (curing step). Thereby, the upper insulating layer 45 is formed so as to cover the jumper wiring 32 and the insulator 31.
The wiring board 10 mentioned above is completed by the above.

このように、本実施形態では、配線層群24上に第1絶縁層34及び第2絶縁層35が積層されてなる絶縁体31を形成することで、配線層群24の周縁部K等において絶縁体31の断切れを防止することができるので、絶縁体31を介して配線層群24上に配置されるジャンパー配線32と配線層群24との間での短絡を防止することができる。この場合、上述した断切れを防止するために絶縁体31を単層で厚く形成する場合と異なり、ブリードによるピンホールの発生も防止することができるので、より確実にジャンパー配線32と配線層群24との間での短絡を防止することができる。仮にいずれかの絶縁層34,35でピンホールが発生した場合でも、そのピンホールは絶縁体31の全体を貫通しないので、マイグレーションによる短絡を防止することができる。
その結果、絶縁体31を介して配線(第1配線層22及びジャンパー配線32)を積層する際に、下層の配線層(第1配線層23)と上層の配線層(ジャンパー配線32)との間の絶縁を確保することができる。
As described above, in the present embodiment, by forming the insulator 31 in which the first insulating layer 34 and the second insulating layer 35 are laminated on the wiring layer group 24, in the peripheral portion K of the wiring layer group 24 and the like. Since disconnection of the insulator 31 can be prevented, a short circuit between the jumper wiring 32 and the wiring layer group 24 disposed on the wiring layer group 24 via the insulator 31 can be prevented. In this case, unlike the case where the insulator 31 is thickly formed with a single layer in order to prevent the disconnection, the occurrence of pinholes due to bleed can be prevented, so that the jumper wiring 32 and the wiring layer group can be more reliably formed. A short circuit with 24 can be prevented. Even if a pinhole is generated in any one of the insulating layers 34 and 35, the pinhole does not penetrate the entire insulator 31, so that a short circuit due to migration can be prevented.
As a result, when the wiring (first wiring layer 22 and jumper wiring 32) is stacked via the insulator 31, the lower wiring layer (first wiring layer 23) and the upper wiring layer (jumper wiring 32) are separated. Insulation between them can be ensured.

さらに、第2絶縁層35が各ランド25に乗り上げるように形成されているため、第2絶縁層35上に形成されるジャンパー配線32は、基板20に接触せずに各ランド25間を接続されることになる。そのため、ジャンパー配線32の剥離や断線等を防止して各ランド25間の導通を確保することができる。   Further, since the second insulating layer 35 is formed so as to run on each land 25, the jumper wiring 32 formed on the second insulating layer 35 is connected between the lands 25 without contacting the substrate 20. Will be. Therefore, it is possible to prevent the jumper wiring 32 from being peeled off or to be disconnected, and to ensure conduction between the lands 25.

しかも、基板20がポリイミドにより構成されるとともに、絶縁体31にウレタン樹脂からなるレジストを採用することで、基板20と絶縁体31との密着性や、基板20の撓み変形に対する絶縁体31の追従性を確保することができるため、絶縁体31の剥離やクラック等を防止してジャンパー配線32と配線層群24間を確実に絶縁することができる。なお、絶縁体31の構成材料にエポキシ樹脂系のレジストを採用しても、上述した効果と同様の効果を奏することができる。
さらに、ジャンパー配線32に銀と樹脂材料とが希釈剤に混合された銀ペーストを採用することで、絶縁体31とジャンパー配線32との密着性や、基板20の撓み変形に対するジャンパー配線32の追従性を確保することができるため、ジャンパー配線32の剥離や断線等を防止して各ランド25間の導通を確保することができる。
In addition, the substrate 20 is made of polyimide, and a resist made of urethane resin is used for the insulator 31, so that the adhesion between the substrate 20 and the insulator 31 and the follow-up of the insulator 31 to the bending deformation of the substrate 20. Therefore, it is possible to reliably insulate between the jumper wiring 32 and the wiring layer group 24 by preventing the insulator 31 from peeling or cracking. Note that even if an epoxy resin resist is used as the constituent material of the insulator 31, the same effect as described above can be obtained.
Further, by adopting a silver paste in which silver and a resin material are mixed in a diluent as the jumper wiring 32, the adhesion between the insulator 31 and the jumper wiring 32 and the follow-up of the jumper wiring 32 to the bending deformation of the substrate 20 are achieved. Therefore, the continuity between the lands 25 can be ensured by preventing the jumper wiring 32 from being peeled off or disconnected.

そして、本実施形態の配線板10は、時計や携帯電話等の携帯電子機器に限らず、プリンタ等、種々の電子機器の配線構造に採用することができる。これにより、製造コストの低下及び製造効率の向上を図った上で、配線パターニングの高密度化が可能になるため、小型軽量化及び高性能化を図った電子機器を提供することができる。   The wiring board 10 of the present embodiment is not limited to portable electronic devices such as watches and mobile phones, but can be employed in wiring structures of various electronic devices such as printers. As a result, it is possible to increase the density of wiring patterning while reducing the manufacturing cost and improving the manufacturing efficiency. Therefore, it is possible to provide an electronic device that is reduced in size, weight, and performance.

なお、本発明の技術範囲は上述した実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な構造や形状などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
上述した実施形態では、基板20にフレキシブル基板を採用する場合について説明したが、これに限らず各種回路用の基板を採用することも可能である。
また、上述した実施形態では上層の絶縁層(第2絶縁層35)を下層の絶縁層(第1絶縁層34)よりも広く形成し、上層の絶縁層によって下層の絶縁層等を一括して被覆する場合について説明したが、下層の絶縁層を上層の絶縁層よりも広く形成してもよい。この場合、上層の絶縁層は、少なくとも配線層群24を被覆するように配置する必要がある。
また、絶縁体31は、2層に限らず、2層以上の複数層形成されていればよい。
さらに、配線層群24さえ被覆されていれば、第2絶縁層35の周縁部において第2絶縁層35が断切れを起こしていても何ら問題はない。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes various modifications made to the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention. That is, the specific structure and shape described in the embodiment are merely examples, and can be changed as appropriate.
In the above-described embodiment, the case where a flexible substrate is adopted as the substrate 20 has been described.
In the above-described embodiment, the upper insulating layer (second insulating layer 35) is formed wider than the lower insulating layer (first insulating layer 34), and the lower insulating layer and the like are collectively formed by the upper insulating layer. Although the case of covering is described, the lower insulating layer may be formed wider than the upper insulating layer. In this case, the upper insulating layer needs to be disposed so as to cover at least the wiring layer group 24.
Further, the insulator 31 is not limited to two layers, and it is sufficient that a plurality of layers of two or more layers are formed.
Furthermore, as long as the wiring layer group 24 is covered, there is no problem even if the second insulating layer 35 is cut off at the peripheral edge of the second insulating layer 35.

図6は、配線板の他の構成を示す説明図である。
図6に示すように、配線板200は、第1絶縁層134の面積が第2絶縁層35の面積と略同等に形成されており、両者は配線パターン21とジャンパー配線32との間で重なるように配置されている。この構成によっても、配線層群24及び基板20を確実に被覆することができるので、ジャンパー配線32の密着性及び絶縁性を確保することができる。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing another configuration of the wiring board.
As shown in FIG. 6, in the wiring board 200, the area of the first insulating layer 134 is formed substantially equal to the area of the second insulating layer 35, and both overlap between the wiring pattern 21 and the jumper wiring 32. Are arranged as follows. Also with this configuration, the wiring layer group 24 and the substrate 20 can be reliably covered, so that the adhesion and insulation of the jumper wiring 32 can be ensured.

10,200…配線板 20…基板 22…第1配線層 23…第2配線層 25…ランド 31…絶縁体 32…ジャンパー配線 34…第1絶縁層(第1の絶縁層) 35…第2絶縁層(第2の絶縁層) DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,200 ... Wiring board 20 ... Board | substrate 22 ... 1st wiring layer 23 ... 2nd wiring layer 25 ... Land 31 ... Insulator 32 ... Jumper wiring 34 ... 1st insulating layer (1st insulating layer) 35 ... 2nd insulation Layer (second insulating layer)

Claims (11)

基板上に形成された第1配線層と、
少なくとも前記第1配線層を被覆する絶縁体と、
前記第1配線層上に前記絶縁体を介して形成され、前記第1配線層を跨ぐように配置されたジャンパー配線とを備えた配線板において、
前記絶縁体は、複数の絶縁層が積層されてなることを特徴とする配線板。
A first wiring layer formed on the substrate;
An insulator covering at least the first wiring layer;
In a wiring board comprising jumper wiring formed on the first wiring layer via the insulator and disposed so as to straddle the first wiring layer,
A wiring board, wherein the insulator is formed by laminating a plurality of insulating layers.
前記基板上における前記第1配線層の延在方向に沿う両側には、前記第1配線層を間に挟むようにそれぞれ第2配線層の一対のランドが形成され、
前記ジャンパー配線は、前記第2配線層の両ランド間を架け渡すように前記ランドに接続され、
前記絶縁体は、前記第1配線層を被覆する第1の前記絶縁層と、
前記基板の法線方向から見て前記第1の絶縁層の形成領域よりも広く形成され、前記第1の絶縁層を被覆するとともに、前記基板上の前記ランドの一部に乗り上げるように前記ランドを被覆する第2の前記絶縁層とを備えていることを特徴とする請求項1記載の配線板。
On both sides along the extending direction of the first wiring layer on the substrate, a pair of lands of the second wiring layer are formed so as to sandwich the first wiring layer therebetween,
The jumper wiring is connected to the land so as to bridge between both lands of the second wiring layer,
The insulator includes a first insulating layer covering the first wiring layer;
The land is formed wider than the formation region of the first insulating layer when viewed from the normal direction of the substrate, covers the first insulating layer, and rides on a part of the land on the substrate. The wiring board according to claim 1, further comprising: the second insulating layer covering the substrate.
前記第2の絶縁層は、前記ランド上における前記ジャンパー配線との接続部分の周囲を囲むように形成されていることを特徴とする請求項2記載の配線板。   3. The wiring board according to claim 2, wherein the second insulating layer is formed so as to surround a periphery of a connection portion with the jumper wiring on the land. 前記基板は、ポリイミドからなるフレキシブル基板であり、
前記絶縁体は、ウレタン樹脂またはエポキシ樹脂からなるレジストであることを特徴とする請求項1ないし請求項3の何れか1項に記載の配線板。
The substrate is a flexible substrate made of polyimide,
The wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the insulator is a resist made of urethane resin or epoxy resin.
前記ジャンパー配線は、銀と樹脂材料とが希釈剤に混合された銀ペーストを用いて形成されていることを特徴とする請求項4記載の配線板。   The wiring board according to claim 4, wherein the jumper wiring is formed using a silver paste in which silver and a resin material are mixed in a diluent. 前記絶縁体は、総厚が20μm以上80μm以下に形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項5の何れか1項に記載の配線板。   The wiring board according to claim 1, wherein the insulator has a total thickness of 20 μm to 80 μm. 前記ジャンパー配線の膜厚は、10μm以上30μm以下に形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項6の何れか1項に記載の配線板。   7. The wiring board according to claim 1, wherein a film thickness of the jumper wiring is 10 μm or more and 30 μm or less. 基板上に形成された少なくとも第1配線層を被覆するように絶縁体を形成する絶縁体形成工程と、
前記絶縁体上に前記第1配線層を跨ぐようにジャンパー配線を形成するジャンパー配線形成工程とを備え、
前記絶縁体形成工程では、複数の絶縁層を積層して前記積層体を形成することを特徴とする配線板の製造方法。
An insulator forming step of forming an insulator so as to cover at least the first wiring layer formed on the substrate;
A jumper wiring forming step of forming a jumper wiring on the insulator so as to straddle the first wiring layer;
In the insulator forming step, a method of manufacturing a wiring board, wherein a plurality of insulating layers are stacked to form the stacked body.
前記基板上における前記第1配線層の延在方向に沿う両側には、前記第1配線層を間に挟むように、前記ジャンパー配線が接続される第2配線層の一対のランドが形成され、
前記絶縁体形成工程は、少なくとも前記第1配線層を被覆する第1の前記絶縁層を形成する第1絶縁層形成工程と、
前記第1配線層を被覆するとともに、前記ランドの一部に乗り上げるように前記ランドを被覆する第2の前記絶縁層を形成する第2絶縁層形成工程とを有していることを特徴とする請求項8記載の配線板の製造方法。
On both sides along the extending direction of the first wiring layer on the substrate, a pair of lands of the second wiring layer to which the jumper wiring is connected are formed so as to sandwich the first wiring layer,
The insulator forming step includes a first insulating layer forming step of forming the first insulating layer covering at least the first wiring layer;
And a second insulating layer forming step of forming the second insulating layer for covering the land so as to run over a part of the land while covering the first wiring layer. The manufacturing method of the wiring board of Claim 8.
前記絶縁体形成工程は、スクリーン印刷法により前記絶縁層を形成することを特徴とする請求項8または請求項9記載の配線板の製造方法。   The method for manufacturing a wiring board according to claim 8 or 9, wherein, in the insulator forming step, the insulating layer is formed by a screen printing method. 前記ジャンパー配線形成工程は、スクリーン印刷法により前記ジャンパー配線を形成することを特徴とする請求項8ないし請求項10の何れか1項に記載の配線板の製造方法。   The method for manufacturing a wiring board according to claim 8, wherein the jumper wiring forming step forms the jumper wiring by a screen printing method.
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