JP2010250905A - Semiconductor integrated circuit and method for testing the same - Google Patents

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憲 草刈
Yoshinari Kojima
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit and its test method, which change the number and combinations of memories which are simultaneously tested even after manufacture. <P>SOLUTION: Access to the memories MEM1-MEMn is controlled by controlling a test sequence of the memories MEM1-MEMn by a test sequence control part 1 according to the test sequence setting from the outside, and by enabling/disabling chip enable signals CE1-CEn by a memory access control part 2 according to instructions from the test sequence control part 1. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体集積回路およびそのテスト方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit and a test method thereof.

近年、半導体集積回路の大規模化、高機能化に伴い、1つの半導体集積回路に多くのメモリが搭載されることがある。   In recent years, with the increase in scale and functionality of semiconductor integrated circuits, many memories may be mounted on one semiconductor integrated circuit.

そのような複数のメモリが搭載された半導体集積回路のテストを行う場合、ロジック部のテストとメモリのテストを分けて行うのが一般的である。これは、メモリには様々な不良モードがあるため、メモリ専用のテストパターンを作成した方が効率的にテストできるからである。   When testing a semiconductor integrated circuit in which such a plurality of memories are mounted, it is common to separately perform a logic test and a memory test. This is because there are various failure modes in the memory, and it is possible to test more efficiently by creating a test pattern dedicated to the memory.

このようなメモリのテストを行う際、1つずつテストを行うと、テスト時間が長くなる。そこで、従来、複数のメモリを並行して行えるようにした半導体集積回路が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   When such a memory test is performed, if the tests are performed one by one, the test time becomes longer. Therefore, conventionally, a semiconductor integrated circuit has been proposed in which a plurality of memories can be performed in parallel (see, for example, Patent Document 1).

この提案の半導体集積回路では、メモリへのアクセスを制御する制御回路を設けて、複数のメモリを並行にテストできるようにしている。複数のメモリを並行にテストすることにより、メモリテストの時間を短縮することができる。   In the proposed semiconductor integrated circuit, a control circuit for controlling access to the memory is provided so that a plurality of memories can be tested in parallel. By testing a plurality of memories in parallel, the memory test time can be shortened.

しかし、クロック同期のメモリの場合、複数のメモリを同時に動作させると、クロックのエッジで複数のメモリに一斉に電流が流れ、半導体集積回路の電源配線に、いわゆるIRドロップによる電源電圧の低下が生じる。このIRドロップによる電源電圧の低下が大きい場合、テスト中のメモリの誤動作を避けるため、クロックの周波数を下げる必要が生じる。その結果、メモリを実動作スピードでテストすることが困難になる、という問題が発生する。   However, in the case of a clock-synchronized memory, if a plurality of memories are operated at the same time, a current flows to the plurality of memories at the same time at the clock edge, and the power supply voltage is lowered due to so-called IR drop in the power supply wiring of the semiconductor integrated circuit. . When the power supply voltage drop due to the IR drop is large, it is necessary to lower the clock frequency in order to avoid malfunction of the memory under test. As a result, there arises a problem that it becomes difficult to test the memory at the actual operation speed.

その場合、同時にテストするメモリの数を少なくすれば、IRドロップによる問題を回避することができる。ところが、上述の提案の半導体集積回路のように、複数のメモリを並列に動作させる制御回路が組み込まれている場合、半導体集積回路の製造後にIRドロップによる問題が発生することが判明しても、同時にテストするメモリの数を少なくすることができない、という問題があった。   In that case, if the number of memories to be simultaneously tested is reduced, the problem caused by IR drop can be avoided. However, when a control circuit for operating a plurality of memories in parallel is incorporated as in the above proposed semiconductor integrated circuit, even if it is found that a problem due to IR drop occurs after the manufacture of the semiconductor integrated circuit, At the same time, there was a problem that the number of memories to be tested could not be reduced.

特開2001−273800号公報 (第4ページ、図2)JP 2001-273800 A (Page 4, FIG. 2)

そこで、本発明の目的は、製造後であっても、同時にテストするメモリの数および組み合わせを変更することのできる半導体集積回路およびそのテスト方法を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit and a test method thereof that can change the number and combination of memories to be tested at the same time even after manufacture.

本発明の一態様によれば、複数のメモリと、外部からの設定に従って前記複数のメモリのテストシーケンスを制御するテストシーケンス制御手段と、前記テストシーケンス制御手段からの指示に従って前記複数のメモリへのアクセスを制御するメモリアクセス制御手段とを備えることを特徴とする半導体集積回路が提供される。   According to one aspect of the present invention, a plurality of memories, a test sequence control unit that controls a test sequence of the plurality of memories according to an external setting, and a plurality of memories that are transmitted to the plurality of memories according to an instruction from the test sequence control unit There is provided a semiconductor integrated circuit comprising memory access control means for controlling access.

また、本発明の別の一態様によれば、内蔵する複数のメモリのテストシーケンスを制御するテストシーケンス制御手段を有する半導体集積回路のテスト方法であって、前記複数のメモリのそれぞれを単体でテストする単体テストデータを生成するステップと、前記単体テストデータを用いて前記半導体集積回路のシミュレーションを実行するステップと、前記シミュレーションの結果から、ぞれぞれの前記単体テストデータによるテスト実行時の前記半導体集積回路の消費電流を解析するステップと、前記消費電流の解析結果にもとづいて、前記複数のメモリのテストシーケンスを生成するステップと、前記テストシーケンスを前記テストシーケンス制御手段へ設定するステップとを備えることを特徴とするテスト方法が提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided a test method for a semiconductor integrated circuit having test sequence control means for controlling a test sequence of a plurality of built-in memories, wherein each of the plurality of memories is individually tested. Generating unit test data to be performed; executing a simulation of the semiconductor integrated circuit using the unit test data; and from the result of the simulation, the semiconductor integrated circuit at the time of executing a test using each of the unit test data Analyzing the current consumption, generating a test sequence of the plurality of memories based on the current consumption analysis result, and setting the test sequence in the test sequence control means. A featured test method is provided.

本発明によれば、製造後であっても、IRドロップの影響を考慮して、同時にテストするメモリの数および組み合わせを変更することができる。   According to the present invention, it is possible to change the number and combination of memories to be tested at the same time in consideration of the influence of IR drop even after manufacturing.

本発明の実施例1に係る半導体集積回路の構成の例を示すブロック図。1 is a block diagram showing an example of the configuration of a semiconductor integrated circuit according to Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施例の半導体集積回路に含まれるメモリのテストシーケンス生成フローの例を示すフロー図。The flowchart which shows the example of the test sequence production | generation flow of the memory contained in the semiconductor integrated circuit of the Example of this invention. テストシーケンスの生成例を示す図。The figure which shows the production | generation example of a test sequence. 本発明の実施例の半導体集積回路に含まれるメモリの構成の例を示す図。1 is a diagram showing an example of a configuration of a memory included in a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. 図4に示す構成のメモリのテストシーケンスの例を示す図。FIG. 5 is a diagram showing an example of a test sequence for a memory having the configuration shown in FIG. 4. 本発明の実施例2に係る半導体集積回路の構成の例を示すブロック図。FIG. 6 is a block diagram showing an example of the configuration of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention. 本発明の実施例3に係る半導体集積回路の構成の例を示すブロック図。FIG. 6 is a block diagram showing an example of the configuration of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention. 実施例3の半導体集積回路のクロック位相調整部の動作の例を示す波形図。FIG. 10 is a waveform diagram showing an example of the operation of the clock phase adjustment unit of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment.

以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する。なお、図中、同一または相当部分には同一の符号を付して、その説明は繰り返さない。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated.

図1は、本発明の実施例1に係る半導体集積回路の構成の例を示すブロック図である。   FIG. 1 is a block diagram showing an example of the configuration of a semiconductor integrated circuit according to Embodiment 1 of the present invention.

本実施例の半導体集積回路は、n個のメモリMEM1〜MEMnと、外部からのテストシーケンス設定に従ってメモリMEM1〜MEMnのテストシーケンスを制御するテストシーケンス制御部1と、テストシーケンス制御部1からの指示に従ってメモリMEM1〜MEMnへのアクセスを制御するメモリアクセス制御部2と、を備える。   The semiconductor integrated circuit according to the present embodiment includes n memories MEM1 to MEMn, a test sequence control unit 1 that controls a test sequence of the memories MEM1 to MEMn according to an external test sequence setting, and an instruction from the test sequence control unit 1 And a memory access control unit 2 that controls access to the memories MEM1 to MEMn.

メモリMEM1〜MEMnは、RAMやROMなどであり、それぞれチップイネーブル端子CEを有する。チップイネーブル端子CEへ入力される信号が有効であるときに、メモリMEM1〜MEMnは動作する。テスト時には、それぞれのメモリに対するテストデータによりアドレスが指定され、RAMであれば、テストパターンの書き込みおよび読み出し動作がテストされ、ROMであれば、読み出し動作がテストされる。   The memories MEM1 to MEMn are RAM, ROM, etc., and each have a chip enable terminal CE. When the signal input to the chip enable terminal CE is valid, the memories MEM1 to MEMn operate. At the time of testing, an address is designated by test data for each memory. If it is a RAM, a test pattern writing and reading operation is tested. If it is a ROM, a reading operation is tested.

テストシーケンス制御部1は、例えば、外部からのテストシーケンス設定に従って書き換えられるファームウェアを内蔵しており、メモリMEM1〜MEMnをテストする順番や同時にテストするメモリの個数を制御する。   The test sequence control unit 1 includes, for example, firmware that is rewritten according to an external test sequence setting, and controls the order in which the memories MEM1 to MEMn are tested and the number of memories to be tested simultaneously.

メモリアクセス制御部2は、テストシーケンス制御部1から指定されたタイミングで、メモリMEM1〜MEMnへ入力するチップイネーブル信号CE1〜CEnの有効/無効を切り替える。   The memory access control unit 2 switches validity / invalidity of the chip enable signals CE1 to CEn input to the memories MEM1 to MEMn at the timing specified by the test sequence control unit 1.

メモリMEM1〜MEMnをテストするとき、同時に多くのメモリをテストできればテスト時間を短縮できる。しかし、多くのメモリを同時にテストするほど、半導体集積回路の消費電流が増大し、その値がある値を超えると、IRドロップによる誤動作が発生する。   When testing the memories MEM1 to MEMn, the test time can be shortened if many memories can be tested at the same time. However, as more memories are tested simultaneously, the current consumption of the semiconductor integrated circuit increases, and if the value exceeds a certain value, a malfunction due to IR drop occurs.

そこで、本実施例では、IRドロップを許容できる消費電流の上限値を定め、その上限値の範囲内で、できるだけ多くのメモリを同時にテストできるよう、メモリテストのテストシーケンスをプログラムする。   Therefore, in this embodiment, an upper limit value of current consumption that can permit IR drop is determined, and a test sequence of the memory test is programmed so that as many memories as possible can be simultaneously tested within the range of the upper limit value.

このテストシーケンスのプログラムは、テストシーケンス制御部1へ外部端子を使って書き込めるため、半導体集積回路の製造後であっても、テストシーケンスの組み換えを自由に行うことができる。   Since the test sequence program can be written to the test sequence control unit 1 using an external terminal, the test sequence can be freely recombined even after the semiconductor integrated circuit is manufactured.

図2は、上述のテストシーケンスを生成するフローの例を示すフロー図である。   FIG. 2 is a flowchart showing an example of a flow for generating the above-described test sequence.

本フローでは、まず、メモリMEM1〜MEMnのそれぞれを単体でテストする単体テストデータを生成する(ステップS01)。   In this flow, first, unit test data for testing each of the memories MEM1 to MEMn alone is generated (step S01).

次に、その単体テストデータを用いて半導体集積回路のシミュレーションを実行する(ステップS02)。   Next, a simulation of the semiconductor integrated circuit is executed using the unit test data (step S02).

続いて、そのシミュレーションの結果から、ぞれぞれの単体テストデータによるテスト実行時の半導体集積回路の消費電流を解析し、それぞれのメモリの消費電流を算出する(ステップS03)。   Subsequently, from the simulation results, the current consumption of the semiconductor integrated circuit at the time of the test execution by each unit test data is analyzed, and the current consumption of each memory is calculated (step S03).

次に、その消費電流の解析結果にもとづいて、その上限値の範囲内で、できるだけ多くのメモリを同時にテストできるよう、同時にテストするメモリの組み合わせやテストする順番を制御するテストシーケンスを生成する(ステップS04)。   Next, based on the analysis result of the current consumption, a test sequence for controlling the combination of the memories to be tested and the test order is generated so that as many memories as possible can be simultaneously tested within the upper limit range ( Step S04).

最後に、そのテストシーケンスを、例えば、ファームウェアのプログラムにして、テストシーケンス制御部1へ設定する(ステップS05)。   Finally, the test sequence is set in the test sequence control unit 1 as a firmware program, for example (step S05).

図3に、上述のフローにより生成されたテストシーケンスの例を示す。   FIG. 3 shows an example of a test sequence generated by the above flow.

例えば、半導体集積回路に、同じメモリ容量の8個のメモリMEM1〜MEM8が内蔵されていたときに、それぞれのメモリをテストする単体テストパターンを作成すると、それぞれのメモリのテスト時間は同じ長さとなる。したがって、MEM1〜MEM8の総てを同時にテストできれば、メモリのテスト時間は最短となる。   For example, when a unit test pattern for testing each memory is created when eight memories MEM1 to MEM8 having the same memory capacity are built in the semiconductor integrated circuit, the test time of each memory becomes the same. Therefore, if all of MEM1 to MEM8 can be tested at the same time, the test time of the memory becomes the shortest.

そこで、それぞれのメモリのテスト時の消費電流を算出して、8個同時のテストが可能かどうか検証する。その結果、図3(a)に示すように、5個以上のメモリを同時にテストすると、その合計の消費電流が、IRドロップを許容できる上限値を超えることが判明したとする。   Therefore, the current consumption during the test of each memory is calculated, and it is verified whether or not eight simultaneous tests are possible. As a result, as shown in FIG. 3A, when five or more memories are tested at the same time, it is found that the total current consumption exceeds the upper limit value that allows IR drop.

これより、8個同時のテストは不可と判定し、この場合、同時に4個のメモリをテストするよう、テストシーケンスを組み立てる。すなわち、まず、MEM1〜MEM4を同時にテストし、その後MEM5〜MEM8を同時にテストするようにした、テストシーケンスを生成する。   From this, it is determined that eight simultaneous tests are not possible, and in this case, a test sequence is assembled so that four memories are tested simultaneously. That is, first, a test sequence is generated in which MEM1 to MEM4 are tested simultaneously, and then MEM5 to MEM8 are tested simultaneously.

図4は、別のメモリの組み合わせの例である。この場合、メモリMEM1とメモリMEM2は同じ大きさのアドレス空間を有し、メモリMEM3はメモリMEM1の2倍のアドレス空間を有しているものとする。したがって、この場合、単体のメモリテストを行うと、メモリMEM3のテスト時間は、メモリMEM1のテスト時間の2倍掛かる。一方、メモリMEM2のテスト時間は、メモリMEM1のテスト時間と同じ長さである。   FIG. 4 is an example of another memory combination. In this case, it is assumed that the memory MEM1 and the memory MEM2 have the same size address space, and the memory MEM3 has an address space twice that of the memory MEM1. Therefore, in this case, when a single memory test is performed, the test time of the memory MEM3 takes twice as long as the test time of the memory MEM1. On the other hand, the test time of the memory MEM2 is the same as the test time of the memory MEM1.

この場合も、まず、3個のメモリの同時テストが可能かどうか検証する。その結果、図5(a)に示すように、その消費電流の合計が、2個同時までは上限値を超えないが、3個同時にテストすると、上限値を超えることが判明したとする。   Also in this case, first, it is verified whether or not three memories can be simultaneously tested. As a result, as shown in FIG. 5A, it is assumed that the total of the current consumption does not exceed the upper limit until two simultaneously, but when the three are tested simultaneously, it is found that the upper limit is exceeded.

そこで、この場合、2個同時にテストするよう、テストシーケンスを組み立てる。その場合、テスト時間の違いに考慮して、同時にテストするメモリの組み合わせを決定する。   Therefore, in this case, a test sequence is assembled so that two pieces are tested simultaneously. In that case, considering the difference in test time, the combination of memories to be tested at the same time is determined.

すなわち、図5(b)に示すように、まず、メモリMEM3とメモリMEM1を同時にテストし、メモリMEM1のテスト終了後、メモリMEM3のテストを継続しながらメモリMEM2のテストを同時に行うよう、テストシーケンスを生成する。   That is, as shown in FIG. 5B, first, the memory MEM3 and the memory MEM1 are tested at the same time, and after the test of the memory MEM1, the test of the memory MEM2 is performed simultaneously while continuing the test of the memory MEM3. Is generated.

このような本実施例によれば、テストシーケンスを外部から設定できるため、半導体集積回路の製造後であっても、メモリテストのテストシーケンスの組み換えを自由に行うことができる。   According to the present embodiment, since the test sequence can be set from the outside, the test sequence of the memory test can be freely recombined even after the semiconductor integrated circuit is manufactured.

また、テスト時のメモリの消費電流の合計がIRドロップを許容できる上限値を超えないよう、同時にテストするメモリの個数を決定するため、IRドロップによる誤動作防止のための動作速度の緩和を行う必要がなく、実動作スピードでのメモリテストを行うことができる。   In addition, the number of memories to be tested simultaneously is determined so that the total current consumption of the memory during the test does not exceed the upper limit value that allows IR drop, so it is necessary to reduce the operation speed to prevent malfunction due to IR drop The memory test can be performed at the actual operation speed.

また、テスト時間の長さの違いを考慮して、同時にテストするメモリの組み合わせを決定するため、メモリテストに要する時間を短縮することができる。   In addition, since the combination of memories to be tested at the same time is determined in consideration of the difference in test time length, the time required for the memory test can be shortened.

図6は、本発明の実施例2に係る半導体集積回路の構成の例を示すブロック図である。   FIG. 6 is a block diagram showing an example of the configuration of a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention.

本実施例の半導体集積回路は、実施例1の半導体集積回路に、テストデータ生成部3を追加したものである。   The semiconductor integrated circuit of the present embodiment is obtained by adding a test data generation unit 3 to the semiconductor integrated circuit of the first embodiment.

テストデータ生成部3は、メモリBIST(Built In Self Test)回路を備えており、メモリMEM1〜MEMnへ供給するテストデータを、テストシーケンス制御部1からの指示に従って生成し、テスト対象のメモリへ供給する。   The test data generation unit 3 includes a memory BIST (Built In Self Test) circuit, generates test data to be supplied to the memories MEM1 to MEMn in accordance with instructions from the test sequence control unit 1, and supplies the test data to the test target memory To do.

このような本実施例によれば、テストシーケンスに応じて、テスト対象のメモリへ供給するテストデータが半導体集積回路の内部で自動的に生成されるので、テストデータ作成に要する時間を削減することができる。   According to the present embodiment, test data to be supplied to the test target memory is automatically generated in the semiconductor integrated circuit in accordance with the test sequence, thereby reducing the time required for test data creation. Can do.

図7は、本発明の実施例3に係る半導体集積回路の構成の例を示すブロック図である。   FIG. 7 is a block diagram showing an example of the configuration of a semiconductor integrated circuit according to Embodiment 3 of the present invention.

本実施例の半導体集積回路は、メモリMEM1〜MEMnがクロック同期式であるとき、テストシーケンス制御部1によるテストシーケンス実行中にそれぞれのメモリへ供給するクロックの位相を調整する位相調整部4を設けたものである。   The semiconductor integrated circuit of the present embodiment is provided with a phase adjustment unit 4 that adjusts the phase of a clock supplied to each memory during execution of a test sequence by the test sequence control unit 1 when the memories MEM1 to MEMn are clock synchronous. It is a thing.

クロック位相調整部4は、入力クロックCKからの位相をそれぞれ異ならせて、メモリMEM1〜MEMnへ供給するクロックCK1〜CKnを生成する。   The clock phase adjustment unit 4 generates clocks CK1 to CKn to be supplied to the memories MEM1 to MEMn by changing the phases from the input clock CK.

クロック同期式のメモリの場合、クロックの動作エッジに瞬間的に多量の電流が流れる。したがって、テストシーケンス制御部1によるテストシーケンスに実行時に、複数のメモリを同時にテストする場合、それぞれのメモリのクロックが同位相であると、消費電流のピークが重なって、IRドロップが大きくなる。   In the case of a clock synchronous memory, a large amount of current instantaneously flows at the operating edge of the clock. Therefore, when a plurality of memories are tested at the same time during execution of the test sequence by the test sequence control unit 1, if the clocks of the respective memories are in phase, the current consumption peaks overlap and the IR drop increases.

そこで、本実施例では、メモリMEM1〜MEMnへ供給するクロックCK1〜CKnの位相を少しずつずらし、メモリテスト時に複数のメモリを同時にテストしても、消費電流のピークが重ならないようにする。   Thus, in this embodiment, the phases of the clocks CK1 to CKn supplied to the memories MEM1 to MEMn are shifted little by little so that the peaks of the current consumption do not overlap even if a plurality of memories are tested simultaneously during the memory test.

図8に、クロック位相調整部4の動作の例を波形図で示す。   FIG. 8 is a waveform diagram showing an example of the operation of the clock phase adjustment unit 4.

クロック位相調整部4から出力されるクロックCK1〜CKnの位相は、少しずつずれており、これにより、メモリMEM1〜MEMnの消費電流のピークも少しずつずれる。これにより、複数のメモリを同時にテストしても、消費電流のピークが重なることがなく、IRドロップの大きさを低減させることができる。   The phases of the clocks CK <b> 1 to CKn output from the clock phase adjustment unit 4 are slightly shifted, and accordingly, the current consumption peaks of the memories MEM <b> 1 to MEMn are also shifted little by little. As a result, even when a plurality of memories are tested at the same time, current consumption peaks do not overlap, and the size of the IR drop can be reduced.

このような本実施例によれば、複数のメモリを同時にテストしたときのIRドロップの大きさを低減させることができるので、メモリテスト時の動作マージンを大きくすることができる。   According to the present embodiment, since the size of the IR drop when a plurality of memories are tested simultaneously can be reduced, the operation margin during the memory test can be increased.

また、消費電流のピークが重ならないので、より多くのメモリを同時にテストすることができ、テスト時間を短縮することができる。   In addition, since current consumption peaks do not overlap, more memories can be tested simultaneously, and the test time can be shortened.

なお、図7では、実施例2のメモリMEM1〜MEMnがクロック同期式の場合の例を示したが、実施例1のメモリMEM1〜MEMnがクロック同期式の場合も、本実施例と同様、位相調整部4を設けることにより、それぞれのメモリへ供給するクロックの位相を調整することができる。   FIG. 7 shows an example in which the memories MEM1 to MEMn of the second embodiment are of the clock synchronization type. However, in the case where the memories MEM1 to MEMn of the first embodiment are of the clock synchronization type, the phase is the same as in the present embodiment. By providing the adjustment unit 4, the phase of the clock supplied to each memory can be adjusted.

1 テストシーケンス制御部
2 メモリアクセス制御部
3 テストデータ生成部
4 クロック位相調整部
MEM1〜MEMn メモリ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Test sequence control part 2 Memory access control part 3 Test data generation part 4 Clock phase adjustment part MEM1-MEMMn Memory

Claims (5)

複数のメモリと、
外部からの設定に従って前記複数のメモリのテストシーケンスを制御するテストシーケンス制御手段と、
前記テストシーケンス制御手段からの指示に従って前記複数のメモリへのアクセスを制御するメモリアクセス制御手段と
を備えることを特徴とする半導体集積回路。
Multiple memories,
Test sequence control means for controlling a test sequence of the plurality of memories according to an external setting;
Memory access control means for controlling access to the plurality of memories in accordance with instructions from the test sequence control means.
前記テストシーケンス制御手段からの指示に従って前記複数のメモリへ供給するテストデータを生成するテストデータ生成手段を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising test data generation means for generating test data to be supplied to the plurality of memories in accordance with an instruction from the test sequence control means.
前記複数のメモリがクロック同期式であるときに、
前記テストシーケンス制御手段による前記テストシーケンス実行中に前記複数のメモリへ入力するクロックの位相をそれぞれ異ならせるクロック位相調整手段を備える
ことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体集積回路。
When the plurality of memories are clock synchronous,
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising: a clock phase adjusting unit that varies a phase of a clock input to the plurality of memories during execution of the test sequence by the test sequence control unit.
内蔵する複数のメモリのテストシーケンスを制御するテストシーケンス制御手段を有する半導体集積回路のテスト方法であって、
前記複数のメモリのそれぞれを単体でテストする単体テストデータを生成するステップと、
前記単体テストデータを用いて前記半導体集積回路のシミュレーションを実行するステップと、
前記シミュレーションの結果から、ぞれぞれの前記単体テストデータによるテスト実行時の前記半導体集積回路の消費電流を解析するステップと、
前記消費電流の解析結果にもとづいて、前記複数のメモリのテストシーケンスを生成するステップと、
前記テストシーケンスを前記テストシーケンス制御手段へ設定するステップと
を備えることを特徴とするテスト方法。
A test method of a semiconductor integrated circuit having a test sequence control means for controlling a test sequence of a plurality of built-in memories,
Generating unit test data for testing each of the plurality of memories alone;
Performing a simulation of the semiconductor integrated circuit using the unit test data;
From the result of the simulation, analyzing the current consumption of the semiconductor integrated circuit at the time of test execution by each unit test data,
Generating a test sequence of the plurality of memories based on the analysis result of the current consumption;
Setting the test sequence to the test sequence control means.
さらに、前記半導体集積回路に内蔵されるテストデータ生成手段が前記単体テストデータを生成するステップを備える
ことを特徴とする請求項4に記載のテスト方法。
5. The test method according to claim 4, further comprising a step of generating the unit test data by a test data generating means built in the semiconductor integrated circuit.
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