JP2010245193A - Manufacturing method of wiring board, and manufacturing method of multilayer printed board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線基板の製造方法及びこれを利用した多層プリント基板の製造方法に関し、特に、層間導通のため絶縁基材を貫通する導電性ペーストスルーホール(ペーストビア)を形成する方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a wiring board and a method of manufacturing a multilayer printed board using the same, and more particularly to a method of forming a conductive paste through hole (paste via) penetrating an insulating base material for interlayer conduction.
近年、電子機器の軽薄短小化、半導体チップや部品の小型化及び端子の狭ピッチ化に伴い、単層または多層のプリント配線板において配線の高密度化及び高多層化が進んでいる。多層プリント基板に要求される特長としては、薄いこと、及び層間の電気的接続信頼性が高いことである。 In recent years, as electronic devices have become lighter and thinner, semiconductor chips and components have been downsized, and terminal pitches have been narrowed, the density of wiring and the number of layers have been increasing in single-layer or multilayer printed wiring boards. Features required for the multilayer printed circuit board are thinness and high electrical connection reliability between layers.
両面配線基板や多層プリント基板において層間導通をとる方法として、めっきを用いた層間導通方法が知られている。その具体例としては、ドリル等で基板に貫通孔をあけ当該箇所にめっきするTH(スルーホール)めっきや、レーザーで表面層に穴をあけ当該箇所にめっきするLVH(レーザービアホール)が知られている。しかし、これらのめっきを用いた方法は、工程が複雑であり、工数も多いため、コスト面で不利である。また、めっきにより導体厚が厚くなるため、配線基板の総厚が厚くなる。また、回路において穴の近傍でめっきにより導体厚が厚くなった部分とそれ以外の部分に回路段差を生じるため、例えばカバーレイや多層化のための配線基板を積層するとき等に不都合がある。さらに原理的にTH周辺部やLVH周辺部に配線回路を配置することが不可能であるため、配線の高密度化に不利である。 As a method for achieving interlayer conduction in a double-sided wiring board or a multilayer printed board, an interlayer conduction method using plating is known. As specific examples, TH (through hole) plating in which a through hole is made in a substrate with a drill or the like and LVH (laser via hole) in which a hole is made in the surface layer with a laser and plated in the place is known. Yes. However, these plating methods are disadvantageous in terms of cost because the process is complicated and the number of steps is large. Further, since the conductor thickness is increased by plating, the total thickness of the wiring board is increased. In addition, in the circuit, there is a circuit step between the portion where the conductor thickness is increased by plating near the hole and the other portion, which is inconvenient when, for example, a coverlay or a multilayer wiring board is laminated. Furthermore, since it is impossible in principle to arrange a wiring circuit in the TH peripheral portion or LVH peripheral portion, it is disadvantageous for increasing the wiring density.
近年、めっきに代わる層間接続方法として導電性ペーストを用いた多層プリント基板が提案されている。
例えば特許文献1には、絶縁性基材の少なくとも一方の面にマスキング用金属箔が剥離可能に貼付されている配線基板用基材及びそれを用いた多層配線基板用基材の製造方法が記載されている。
また、特許文献2には、絶縁性基材の両面に導電体層を有し、一方の導電体層と絶縁性基材とに対して同一位置に互いに連通する貫通孔が設けられ、一方の導電体層の表面には剥離可能なマスキング層が設けられ、マスキング層には貫通孔を取り囲む大きさの開口部が形成されているプリント配線板用基材及びその製造方法が記載されている。
In recent years, a multilayer printed board using a conductive paste has been proposed as an interlayer connection method instead of plating.
For example,
Further,
特許文献1の実施形態1に記載の配線基板用基材の製造方法は、片面CCLに対し化学的エッチング法で回路パターンを形成し、レーザ光照射によってブラインドビアを形成し、その中に導電性ペーストを充填するものである。この製造方法は、レーザ光照射のため片側にマスキング用銅箔を必要とするので、両面CCLを材料としてもその両方の銅箔を回路形成に利用することができない。よって、両面配線基板を得るためには2枚の片面配線基板を回路側が外側に向くように位置合わせした後、加熱加圧して導電性ペースト同士を電気的に接続する必要がある。しかし、その場合は2度のレーザー加工工程が必要でありコスト面で不利である上、両面の回路の間に絶縁層が2層入ることになるため、配線基板の薄型化が困難である。
In the method for manufacturing a wiring board substrate described in
特許文献1の実施形態2に記載の配線基板用基材の製造方法は、ガラスエポキシプリプレグの両側にマスキング用銅箔を加熱加圧して剥離可能に貼り合わせ、フォトリソグラフィーによりコンフォーマルマスクを形成し、レーザー加工によって貫通孔をあけ、導電性ペーストを充填し、マスキング用銅箔を剥離した後、回路用銅箔を貼り合わせてフォトリソグラフィーにより回路形成するものである。この製造方法は、両面共に2度の銅箔(マスキング用銅箔と回路用銅箔)を貼り合わせる工程とフォトリソグラフィー工程が必要になるため、コスト面で不利である。
In the method for manufacturing a wiring board substrate described in
特許文献2の実施形態1に記載のプリント配線板用基材の製造方法は、回路形成した両面CCLの片側にマスキング層を設け、1回目のレーザー加工でマスキング層及び片側の銅箔に開口を形成した後、2回目のレーザー加工でマスキング層に銅箔の開口より大きな径の開口及び絶縁基材の穴を形成して、導電性ペーストを充填するものである。この製造方法は、2回のレーザー加工を必要とするためにコスト面で不利である。また、マスキング層の開口径と銅箔及び絶縁基材の開口径が近いため、銅箔へのレーザー加工のエネルギーが高く、マスキング層が剥がれることがある、という問題がある。
In the method of manufacturing a printed wiring board substrate described in
特許文献2の実施形態2に記載のプリント配線板用基材の製造方法は、両面CCLを回路形成する際に片側の銅箔に開口を同時に形成し、マスキング層を設けた後、レーザー加工でマスキング層に銅箔の開口より大きな径の開口及び絶縁基材の穴を形成して、導電性ペーストを充填するものである。この製造方法は、レーザー加工する際に銅箔の開口がマスキング層に覆われているため、レーザー加工する位置が銅箔の開口の位置からずれることがある、という問題がある。
In the method for manufacturing a printed wiring board substrate described in
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、導電性ペーストスルーホールを位置精度良く形成することができ、コスト面でも有利な配線基板の製造方法及びこれを利用した多層プリント基板の製造方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is capable of forming a conductive paste through hole with high positional accuracy, and is advantageous in terms of cost, and a manufacturing method of a multilayer printed circuit board using the same. It is an object to provide a method.
前記課題を解決するため、本発明は、絶縁基材の片面または両面に導体層を設ける工程と、前記導体層に回路を形成する工程と、前記導体層に対して剥離可能なフィルムをラミネートし、前記剥離可能なフィルム及び前記導体層と前記絶縁基材とに対して貫通孔をあけた後、この貫通孔に導電性ペーストを充填し、さらに剥離可能なフィルムを剥離して、導電性ペーストスルーホールを形成する工程とを有することを特徴とする配線基板の製造方法を提供する。
前記配線基板は両面配線基板であり、前記導電性ペーストスルーホールは、絶縁基材の両面に形成された回路を層間で導通するものであることが好ましい。
前記回路及び前記導電性ペーストスルーホールが形成された後において、さらに、前記回路の上にカバーレイを積層し、加熱及び加圧をして、前記カバーレイの硬化と同時に前記導電性ペーストと前記回路との導通を得る工程を有することが好ましい。
前記剥離可能なフィルムとして、微粘着フィルム、UV硬化型粘着フィルム、再剥離性熱発泡フィルム、または冷却剥離型粘着フィルムのいずれかを用いることが好ましい。
In order to solve the above problems, the present invention comprises a step of providing a conductor layer on one or both sides of an insulating substrate, a step of forming a circuit on the conductor layer, and a film peelable from the conductor layer. After opening a through hole in the peelable film and the conductor layer and the insulating base material, the through hole is filled with a conductive paste, and the peelable film is further peeled off to form a conductive paste. And a method of manufacturing a wiring board, comprising: a step of forming a through hole.
It is preferable that the wiring board is a double-sided wiring board, and the conductive paste through hole conducts a circuit formed on both sides of the insulating base material between layers.
After the circuit and the conductive paste through hole are formed, a cover lay is further laminated on the circuit, heated and pressurized, and simultaneously with the curing of the cover lay, the conductive paste and the It is preferable to have a step of obtaining conduction with the circuit.
As the peelable film, it is preferable to use any of a slightly adhesive film, a UV curable adhesive film, a re-peelable heat-foamed film, or a cooling peelable adhesive film.
また、本発明は、複数の配線基板を積層して構成される多層プリント基板の製造方法であって、配線基板の少なくとも一つを、本発明の配線基板の製造方法によって製造することを特徴とする多層プリント基板の製造方法を提供する。
また、本発明は、両面配線基板を他の複数の配線基板と積層して構成される多層プリント基板の製造方法であって、両面配線基板を、本発明の配線基板の製造方法によって製造した後、得られた両面配線基板と前記他の複数の配線基板とを一括積層する工程を有することを特徴とする多層プリント基板の製造方法を提供する。
Further, the present invention is a method for manufacturing a multilayer printed board configured by laminating a plurality of wiring boards, wherein at least one of the wiring boards is manufactured by the method for manufacturing a wiring board according to the present invention. A method for manufacturing a multilayer printed circuit board is provided.
The present invention is also a method for manufacturing a multilayer printed circuit board configured by laminating a double-sided wiring board with a plurality of other wiring boards, after the double-sided wiring board is manufactured by the wiring board manufacturing method of the present invention. And providing a method for manufacturing a multilayer printed circuit board comprising a step of collectively laminating the obtained double-sided wiring board and the plurality of other wiring boards.
本発明によれば、貫通孔の形成が1工程で済む上、両面配線基板を製造する場合にも両面の導体を回路に用いることができるので、コスト面で有利である。
また、マスキングに用いる剥離可能なフィルム及び導体(両面配線基板を製造する場合には両面とも)と絶縁基材とを同じ位置に同じ径で穴あけ加工することができるので、導電性ペーストスルーホールを位置精度良く形成することができる。
According to the present invention, the formation of the through-hole is only one step, and also when manufacturing a double-sided wiring board, both-sided conductors can be used in the circuit, which is advantageous in terms of cost.
In addition, since the peelable film and conductor used for masking (both sides when manufacturing a double-sided wiring board) and the insulating base can be punched at the same position with the same diameter, the conductive paste through-hole It can be formed with high positional accuracy.
以下、好適な実施の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図1(a)〜(g)に、本発明の両面配線基板の製造方法の一実施形態例を示す。図1中、符号10は両面CCL、11は導体層、12は絶縁基材、13は回路、14は剥離可能なフィルム、15は貫通孔、16は導電性ペーストからなる導電性ペーストスルーホール、17はこの製造方法によって得られる両面配線基板である。
The present invention will be described below based on preferred embodiments with reference to the drawings.
1A to 1G show an embodiment of a method for manufacturing a double-sided wiring board according to the present invention. In FIG. 1, 10 is a double-sided CCL, 11 is a conductor layer, 12 is an insulating substrate, 13 is a circuit, 14 is a peelable film, 15 is a through-hole, 16 is a conductive paste through hole made of a conductive paste,
まず、図1(a)に示すように、絶縁基材12の両面にそれぞれ導体層11として銅箔を有する両面CCL(CCL:Copper−Clad Laminate、銅張積層板)10を用意する。なお、ここでは、回路形成用材料である導体層11が銅箔からなる例を示すが、本発明においては、導体層11が銅以外の金属(例えばニッケル等)あるいは箔以外の形態(例えば均一厚のめっき層等)であっても構わない。また、絶縁基材12と導体層11を貼り合わせるための接着材(図示せず)が絶縁基材12と導体層11との間に設けられていても良い。
絶縁基材12としては、ポリイミド、ポリエステル、液晶ポリマー等の樹脂フィルムの他、各種絶縁体を用いることができるが、後述する貫通孔15の形成が容易な、樹脂等の材料が望ましい。
First, as shown in FIG. 1A, a double-sided CCL (CCL: Copper-Clad Laminate, copper-clad laminate) 10 having a copper foil as a
As the
(回路形成工程)
次に、図1(b)に示すように、フォトリソグラフィー等によって導体層11の必要な部分が配線となるように、絶縁基材12の両側に回路13を形成する。回路13を形成する際、回路13の配線以外のパターンとして、例えば貫通孔15を形成するときに用いるアライメント用マーク等を導体層11から形成しても良い。回路13の形成方法は、図示されるサブトラクティブ法に限定されるものではなく、アディティブ法を採用することも可能である。
(Circuit formation process)
Next, as shown in FIG. 1B,
(導電性ペーストスルーホール形成工程)
次に、図1(c)に示すように、回路13に対して剥離可能なフィルム14をラミネートする。
剥離可能なフィルム14として、微粘着フィルム、UV硬化型粘着フィルム、再剥離性熱発泡フィルム、冷却剥離型粘着フィルム等が挙げられる。両側の回路13にラミネートする剥離可能なフィルム14が、それぞれ同一でも、異なっても構わない。
(Conductive paste through hole formation process)
Next, as shown in FIG. 1C, a
Examples of the
微粘着フィルムとしては、後の導電性ペースト16充填まで剥離することなく、かつその充填後には容易に剥離可能な密着力を有することが要求される。例えば、ソマタックWA(商品名、ソマール社製)が挙げられる。
UV硬化型粘着フィルムは、UV(紫外線)を照射することによって密着力がなくなり、容易に剥離することが可能になるものである。例えば、ソマタックUV(商品名、ソマール社製)が挙げられる。
再剥離性熱発泡フィルムは、発泡前は強い密着力を有し、所定の発泡温度に加熱した後は発泡層が発泡して粘着力がなくなり、容易に剥離することが可能になるものである。例えば、ソマタックTE(商品名、ソマール社製)が挙げられる。
冷却剥離型粘着フィルムは、加熱している状態で密着力が強く、冷却する(あるいは常温に戻す)と粘着力がなくなり、容易に剥離することが可能になるものである。例えば、ソマタックCR(商品名、ソマール社製)が挙げられる。
The slightly adhesive film is required to have an adhesive force that can be easily peeled off after the filling of the
The UV curable adhesive film loses its adhesive force when irradiated with UV (ultraviolet rays) and can be easily peeled off. For example, Soma Tac UV (trade name, manufactured by Somaru) can be mentioned.
The re-peelable heat-foamed film has strong adhesion before foaming, and after heating to a predetermined foaming temperature, the foamed layer foams and loses adhesive force, and can be easily peeled off. . For example, Soma Tack TE (trade name, manufactured by Somaru) can be mentioned.
The cooling peelable pressure-sensitive adhesive film has strong adhesion when heated, and when cooled (or returned to room temperature), the adhesive strength disappears and can be easily peeled off. For example, Somatack CR (trade name, manufactured by Somaru) can be mentioned.
次に、図1(d)に示すように、両側の剥離可能なフィルム14及び回路13と、絶縁基材12とに対して貫通孔15をあける。一工程で貫通孔15を形成することにより、剥離可能なフィルム14及び回路13と絶縁基材12の同じ位置に同じ径で穴あけ加工することができるので、剥離可能なフィルム14及び回路13の開口と絶縁基材12の穴の位置ずれを防止し、導電性ペースト16充填の位置精度を向上することができる。
貫通孔15の形成には、NC(数値制御)ドリラーやスルーホールパンチャー等を用いることができる。貫通孔(スルーホール)15の位置合わせのため、回路13形成後の基材の寸法(外形)に合わせて補正をかけたり、アライメント用マークを設けて画像認識により自動で補正をかけるような装置を用いても良い。
貫通孔15の形成後、必要に応じて、貫通孔15に残存したスミア(汚れ)を除去する(デスミア)。デスミアの方法は特に限定されないが、プラズマデスミア処理などが挙げられる。また、塩酸、硫酸の酸を用いた酸洗浄、純水を用いた水洗浄等を行うことができる。
Next, as shown in FIG. 1 (d), through-
An NC (numerical control) driller, a through hole puncher, or the like can be used to form the through
After the through
次に、図1(e)に示すように、貫通孔15に導電性ペースト16を充填する。充填方法としては、スクリーン印刷法、ディスペンス法、インクジェット法等が挙げられる。
導電性ペースト16充填の際、剥離可能なフィルム14は、導電性ペースト16を充填する際のマスキングとして機能する。つまり、剥離可能なフィルム14が貫通孔15以外の部分で回路13及び絶縁基材12を覆っていることにより、導電性ペースト16が貫通孔15以外の基材面に付着することを防止することができる。
Next, as shown in FIG. 1 (e), the through-
When filling the
次に、図1(f)に示すように、剥離可能なフィルム14を回路13形成後の基材から剥離することにより、絶縁基材12の貫通孔15に導電性ペースト16が充填されてなる導電性ペーストスルーホールが形成され、本形態例の両面配線基板17が得られる。
剥離可能なフィルム14を剥離するとき、剥離可能なフィルム14の厚さに応じて、導電性ペースト16の突起(回路13から突出した部分)が形成される。
この突起は、カバーレイ(図1(g)参照)や他の配線基板(図3、図4参照)と積層する際、両面配線基板17に押圧力が加わることによりつぶれて、回路13のより広い面積に密着し、導通をより確実にすることができる。
剥離可能なフィルム14が厚すぎると、導電性ペースト16の突起が厚くなってしまい、配線基板の薄型化や表面平滑性を阻害するおそれがある。このため、剥離可能なフィルム14としては、適度に薄いフィルム(例えば数μmから百μm程度)を用いることが好ましい。
Next, as shown in FIG. 1 (f), the
When the
The protrusions are crushed by the pressing force applied to the double-
If the
(カバーレイ積層工程)
図1(g)に示すように、本形態例の両面配線基板17においては、回路13を保護するためカバーレイ1を積層することができる。カバーレイ1としては、例えばポリイミド等の樹脂フィルム等からなる絶縁材2の片面に接着材3を設けた積層体が挙げられる。
両面配線基板17の両側からカバーレイ1をラミネートした後、プレス機によって加熱及び加圧をする。このときカバーレイ1の硬化(より詳しくは接着材3の硬化)と導電性ペースト16の硬化による回路13との電気的接続が同時に実現される。この場合、加熱工程が1回で済むので、コスト面で有利である。また、先に導電性ペースト16をオーブン等で加熱して導電性ペースト16と回路13との電気的接続を行った後にカバーレイ1をラミネートしてプレス機で熱圧着する手順を採用することも可能である。
(Coverlay lamination process)
As shown in FIG. 1G, in the double-
After laminating the
(多層プリント基板の製造方法)
本形態例の両面配線基板17は、2つ以上を一括積層して多層プリント基板を製造するために用いることもできる。
また、両面配線基板17に複数の片面配線基板が積層された多層プリント基板を製造するために用いることもできる。片面配線基板は、例えば特開2003−332747号公報に記載されたプロセスで製造することが可能である。
(Multilayer printed circuit board manufacturing method)
The double-
It can also be used to manufacture a multilayer printed board in which a plurality of single-sided wiring boards are stacked on the double-
まず、図2(a)に示すように、絶縁基材22の片面に銅箔21を有する片面CCL20を用意し、この片面CCLの銅箔21を回路形成して、図2(b)に示すように、回路23を形成する。
次に、図2(c)に示すように、絶縁基材22の銅箔21とは反対の面に層間接着材24をラミネートし、さらに図2(d)に示すように、ラミネートした層間接着材24に印刷用マスクとしてマスクフィルム25をラミネートする。
次に、図2(e)に示すように、レーザ等を用いて穴26をあける。ここでは、マスクフィルム25面側からレーザを照射してマスクフィルム25と層間接着材24と絶縁基材22をあける。回路23には穴26の径より小径の小孔(図示せず)をあけ、ペースト充填時の空気抜きとしても良い。また、必要に応じて、穴26のデスミア処理を行う。
次に、図2(f)に示すように、マスクフィルム25面側から導電性ペースト27を印刷し、穴26に充填する。
印刷後、図2(g)に示すように、マスクフィルム25を剥離すると、穴26に充填された導電性ペースト27が層間接着材24面より突出するようにペースト突起が形成される。
以上の手順により、穴26に層間導通用の導電性ペースト27が充填された片面配線基板28が得られる。
First, as shown in FIG. 2A, a single-
Next, as shown in FIG. 2 (c), an
Next, as shown in FIG. 2E, a
Next, as shown in FIG. 2 (f), the
After printing, as shown in FIG. 2G, when the
By the above procedure, a single-
図3、図4に示すように、両面配線基板17に複数の片面配線基板28A,28B,28C,28Dが積層された多層プリント基板30は、例えば両面配線基板17及び片面配線基板28A,28B,28C,28Dを一括積層する方法により、製造することができる。図3に示す片面配線基板28A,28B,28C,28Dは、いずれも図2に示す片面配線基板28と同じ製造方法によって製造可能である。
各片面配線基板28A,28B,28C,28Dは、配線基板間の層間導通が必要な箇所では導電性ペーストスルーホールの位置を一致させる必要があるが、それ以外の箇所では配線や導電性ペーストスルーホールの位置は任意に設定可能である。
As shown in FIGS. 3 and 4, the multilayer printed
Each of the single-
一括積層は、図3に示すように、両面配線基板17及び片面配線基板28A,28B,28C,28Dを所定の順序で位置合わせした後、プレス機によって加熱及び加圧をする。このとき層間接着材24の硬化と導電性ペースト16,27の硬化による回路13,23との電気的接続が同時に実現される。この場合、加熱工程が1回で済むので、コスト面で有利である。また、先に導電性ペースト16,27をオーブン等で加熱して導電性ペースト16,27と回路13,23との電気的接続を行った後に配線基板を積層してプレス機で熱圧着する手順を採用することも可能である。
As shown in FIG. 3, in the batch stacking, the double-
以上、本発明を好適な実施の形態に基づいて説明してきたが、本発明は上述の形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。
本発明の配線基板の製造方法において、回路形成は、導電性ペーストスルーホールの形成後に行うこともできる。この場合、CCL等の回路未形成の基材に剥離可能なフィルムをラミネートし、剥離可能なフィルム及び導体と絶縁基材とに対して貫通孔をあけ、貫通孔に導電性ペーストを充填し、剥離可能なフィルムを剥離した後で、フォトリソグラフィー等によって導体層の必要な部分が配線となるように、回路を形成する、という手順を採用することができる。
As mentioned above, although this invention has been demonstrated based on suitable embodiment, this invention is not limited to the above-mentioned example, Various modifications are possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.
In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, the circuit can be formed after the conductive paste through hole is formed. In this case, a peelable film is laminated on a substrate with no circuit formed such as CCL, a through hole is made in the peelable film and the conductor and the insulating base material, and the through hole is filled with a conductive paste, After peeling the peelable film, it is possible to adopt a procedure of forming a circuit so that a necessary portion of the conductor layer becomes a wiring by photolithography or the like.
本発明の配線基板の製造方法は、片面配線基板にも適用することが可能である。この場合、絶縁基材の片面に導体層が設けられた片面CCL等の基材を用意し、導体層に対して剥離可能なフィルムをラミネートし、剥離可能なフィルム及び導体と絶縁基材を貫通する貫通孔をあけ、貫通孔に導電性ペーストを充填し、剥離可能なフィルムを剥離する。回路の形成は、剥離可能なフィルムをラミネートする前でも、導電性ペーストを充填して剥離可能なフィルムを剥離した後でも実施可能である。 The method for manufacturing a wiring board of the present invention can also be applied to a single-sided wiring board. In this case, prepare a base material such as single-sided CCL with a conductor layer on one side of the insulating base material, laminate a peelable film to the conductor layer, and penetrate the peelable film and conductor with the insulating base material A through hole is formed, and the through hole is filled with a conductive paste, and a peelable film is peeled off. The circuit can be formed before laminating the peelable film or after filling the conductive paste and peeling the peelable film.
本発明の配線基板の製造方法を片面配線基板に適用する場合、図2に示す片面配線基板の製造方法と同様に、絶縁基材の回路とは反対側の面には接着材及び第2の剥離可能なフィルムをラミネートし、貫通孔が接着材及び第2の剥離可能なフィルムも貫通するように貫通孔をあけ、貫通孔に導電性ペーストを充填した後で、第2の剥離可能なフィルムを剥離して、導電性ペーストが接着材から突出した突起を形成することが好ましい。
このようにして製造した片面配線基板は、図3に示す多層プリント基板の製造方法において、両面配線基板17と積層する片面配線基板として用いることも可能である。
When the method for manufacturing a wiring board according to the present invention is applied to a single-sided wiring board, an adhesive and a second material are provided on the surface of the insulating base opposite to the circuit, similarly to the method for manufacturing a single-sided wiring board shown in FIG. After laminating the peelable film, opening the through hole so that the through hole also penetrates the adhesive and the second peelable film, and filling the through hole with the conductive paste, the second peelable film It is preferable to form a protrusion in which the conductive paste protrudes from the adhesive.
The single-sided wiring board manufactured in this way can also be used as a single-sided wiring board laminated with the double-
本発明の多層プリント基板の製造方法において、多層プリント基板を構成する配線基板は、両面配線基板と片面配線基板とを組み合わせても良く、すべてが片面配線基板であっても良く、すべてが両面配線基板であっても良い。両面配線基板同士を積層する場合、両面配線基板の間に接着材が積層される。この接着材は、あらかじめいずれか一方の両面配線基板に積層しておくことが好ましい。 In the method for manufacturing a multilayer printed board of the present invention, the wiring board constituting the multilayer printed board may be a combination of a double-sided wiring board and a single-sided wiring board, all may be a single-sided wiring board, and all may be double-sided wiring. It may be a substrate. When laminating the double-sided wiring boards, an adhesive is laminated between the double-sided wiring boards. This adhesive is preferably laminated in advance on either one of the double-sided wiring boards.
本発明は、各種のプリント配線板の製造に利用することができる。 The present invention can be used for manufacturing various printed wiring boards.
10…両面積層板(CCL)、11…回路形成前の導体層(銅箔)、12…絶縁基材、13…回路形成後の導体層(回路)、14…剥離可能なフィルム、15…貫通孔(スルーホール)、16…導電性ペースト(導電性ペーストスルーホール)、17…配線基板(両面配線基板)、28,28A,28B,28C,28D…片面配線基板、30…多層プリント基板。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記導体層に回路を形成する工程と、
前記導体層に対して剥離可能なフィルムをラミネートし、前記剥離可能なフィルム及び前記導体層と前記絶縁基材とに対して貫通孔をあけた後、この貫通孔に導電性ペーストを充填し、さらに剥離可能なフィルムを剥離して、導電性ペーストスルーホールを形成する工程と、
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 Providing a conductor layer on one or both sides of the insulating substrate;
Forming a circuit in the conductor layer;
Laminating a peelable film with respect to the conductor layer, opening a through hole for the peelable film and the conductor layer and the insulating substrate, and then filling the through hole with a conductive paste, Further, peeling the peelable film to form a conductive paste through hole,
A method of manufacturing a wiring board, comprising:
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CN114698234A (en) * | 2022-03-30 | 2022-07-01 | 深圳市信维通信股份有限公司 | Method for combining multi-layer LCP material substrate |
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- 2009-04-02 JP JP2009090417A patent/JP2010245193A/en active Pending
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