JP2010235591A

JP2010235591A - 除草用組成物

Info

Publication number: JP2010235591A
Application number: JP2010047748A
Authority: JP
Inventors: Seiji Yamato; 誠司大和; Yoshinobu Jin; 義伸神
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2009-03-13
Filing date: 2010-03-04
Publication date: 2010-10-21
Also published as: US20110319266A1; EP2405745A1; CN102421286A; AU2010222001A1; AR076120A1; CA2755323A1; WO2010104216A1; EP2405745A4; BRPI1008952A2

Abstract

【課題】優れた雑草防除効果を有する除草用組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物は、優れた雑草防除効果を有する。

［Ａ群］メトスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、トリベニュロンメチル、クロルスルフロン、フロラスラム、ブロモキシニル、ピラスルホトール、ジカンバ、フルロキシピル、２，４−Ｄ、及びクロピラリド［Ｂ群］フェンクロラゾールエチル、クロキントセットメキシル、及びメフェンピルジエチルからなる群。
【選択図】なし

Description

本発明は、除草用組成物等に関する。

現在、数多くの除草剤が使用されているが、防除の対象となる雑草は種類も多く、発生も長期間にわたる。このため、除草効果が高く、幅広い殺草スペクトラムを有し、作物選択性に優れる除草剤が求められている。

ペスティサイドマニュアル（ＴｈｅＰｅｓｔｉｃｉｄｅＭａｎｕａｌ）ＦｏｕｒｔｅｅｎｔｈＥｄｉｔｉｏｎ（２００６）、ＢｒｉｔｉｓｈＣｒｏｐＰｒｏｔｅｃｔｉｏｎＣｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：１−９０１３９６−１４−２）

本発明は、優れた雑草防除効果を有する除草用組成物を提供することを課題とする。

本発明者らは優れた雑草防除効果を有する除草用組成物を見出すべく検討の結果、下記式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物を、ある特定の化合物とともに用いた除草用組成物が優れた雑草防除効果を有することを見出し、本発明に至った。

すなわち、本発明は以下のものである。
［１］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物（以下、本化合物と記す場合がある。）と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物（以下、本発明除草用組成物と記す。）。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メトスルフロンメチル、
チフェンスルフロンメチル、
トリベニュロンメチル、
クロルスルフロン、
フロラスラム、
ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
ピラスルホトール、
ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル、
２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、及び
クロピラリドまたは農業上許容されるその塩からなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
［２］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、ｎが１以上の整数の化合物である［１］記載の除草用組成物。
［３］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、ｎが０であり、Ｚ¹がＣ_2-6アルキル基の化合物である［１］記載の除草用組成物。
［４］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、ｎが１又は２であり、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位の化合物である［１］記載の除草用組成物。
［５］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｚ¹ がＣ_1-3アルキル基であり、Ｚ² がＣ_1-3アルキル基の化合物である［１］、［２］又は［４］記載の除草用組成物。
［６］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^3bはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^4bはＣ_1-6アルキル基又はＣ_6-10アリール基を表し、
Ｒ^5b及びＲ^6bは同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基又はＣ_1-6アルキルチオ基を表す。
但し、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bで表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。〕
の化合物である［１］〜［５］いずれか一項記載の除草用組成物。
［７］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^3aはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^4aはＣ_1-6アルキル基を表す。
但し、Ｒ^3a及びＲ^4aで表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基及びＣ_6-10アリール基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。〕
の化合物である［１］〜［５］いずれか一項記載の除草用組成物。
［８］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基の化合物である［１］〜［７］いずれか一項記載の除草用組成物。
［９］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｒ²が水素又はメチル基の化合物である［１］〜［７］いずれか一項記載の除草用組成物。
［１０］式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基の化合物である［１］〜［９］いずれか一項記載の除草用組成物。
［１１］式（I）で示されるピリダジノン化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の有効量を雑草又は雑草の生育する土壌に施用する工程を含む雑草の防除方法。

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メトスルフロンメチル、
チフェンスルフロンメチル、
トリベニュロンメチル、
クロルスルフロン、
フロラスラム、
ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
ピラスルホトール、
ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル、
２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、及び
クロピラリドまたは農業上許容されるその塩からなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
［１２］雑草防除のための、式（I）で示される化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物を含有する組成物の使用。

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕［Ａ群］
メトスルフロンメチル、
チフェンスルフロンメチル、
トリベニュロンメチル、
クロルスルフロン、
フロラスラム、
ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
ピラスルホトール、
ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル、
２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、及び
クロピラリドまたは農業上許容されるその塩からなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。

本発明除草用組成物は、化合物単独で使用する場合と比べて相乗的な雑草防除効果が得られ及び／又は作物選択性に優れる。

本発明除草用組成物としては、例えば以下のものが挙げられる。
本化合物と、メトスルフロンメチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、メトスルフロンメチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、メトスルフロンメチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、チフェンスルフロンメチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、チフェンスルフロンメチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、チフェンスルフロンメチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トリベニュロンメチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トリベニュロンメチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トリベニュロンメチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、クロルスルフロンと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、クロルスルフロンと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、クロルスルフロンと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フロラスラムと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フロラスラムと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フロラスラムと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ピラスルホトールと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ピラスルホトールと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ピラスルホトールと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、クロピラリドまたは農業上許容されるその塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、クロピラリドまたは農業上許容されるその塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、クロピラリドまたは農業上許容されるその塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

本化合物の置換基において、
Ｃ_1-6アルキル基とは、炭素数１〜６のアルキル基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソへキシル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_3-8シクロアルキル基とは、炭素数３〜８のシクロアルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルケニル基とは、炭素数２〜６のアルケニル基を意味し、例えば、アリル基、１−ブテン−３−イル基、３−ブテン−１−イル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルキニル基とは、炭素数２〜６のアルキニル基を意味し、例えば、プロパルギル基、２−ブチニル基等が挙げられる。
Ｃ_6-10アリール基とは，炭素数６〜１０のアリール基を意味し、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基とは、Ｃ_6-10アリール基で置換されたＣ_1-6アルキル基を意味し、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_1-6アルキルオキシ基とは、炭素数１〜６のアルキルオキシ基を意味し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基とは、炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基を意味し、例えば、シクロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基とは、炭素数２〜６のアルケニルオキシ基を意味し、例えば、ビニルオキシ基、アリルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基とは、炭素数２〜６のアルキニルオキシ基を意味し、例えば、プロパルギルオキシ基、２−ブチニルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_6-10アリールオキシ基とは、炭素数６〜１０のアリールオキシ基を意味し、例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基とは、Ｃ_6-10アリール基で置換されたＣ_1-6アルキルオキシ基を意味し、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_1-6アルキルアミノ基とは、炭素数１〜６のアルキルアミノ基を意味し、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基とは、炭素数２〜６のアルケニルアミノ基を意味し、例えば、アリルアミノ基、３−ブテニルアミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_6-10アリールアミノ基とは、炭素数６〜１０のアリールアミノ基を意味し、例えば、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基とは、２つの同一又は異なったＣ_1-6アルキル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基等が挙げられる。
ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基とは、２つの同一又は異なったＣ_2-6アルケニル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、ジアリルアミノ基、ジ（３−ブテニル）アミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基とは、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_6-10アリール基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、メチルフェニルアミノ基、エチルフェニルアミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_1-6アルキルチオ基とは、炭素数１〜６のアルキルチオ基を意味し、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基とは、Ｃ_1-6アルキルオキシ基で置換されたＣ_1-6アルキル基を意味し、例えば、メトキシエチル基、エトキシエチル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、３〜８員の含窒素複素環基とは、１〜３個の窒素を含み、更に１〜３個の酸素及び／又はイオウを含んでいてもよく、芳香族又は脂環式の３〜８員の複素環基を意味し、例えば、１−ピラゾリル基、２−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−チアゾリル基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基等が挙げられる。

また、本化合物には式（Ｉ）で示される化合物の農業上許容される塩も包含される。

本化合物の態様としては、例えば、以下に示される態様が挙げられる。
式（Ｉ）において、ｎが１以上の整数であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、ｎが０であり、Ｚ¹がＣ_2-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、ｎが１又は２であり、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3bはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^4bはＣ_1-6アルキル基又はＣ_6-10アリール基を表し、
Ｒ^5b及びＲ^6bは同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基又はＣ_1-6アルキルチオ基を表す。
但し、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bで表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3aはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^4aはＣ_1-6アルキル基を表す。
但し、Ｒ^3a及びＲ^4aで表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基及びＣ_6-10アリール基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はメチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｚ¹ がＣ_1-3アルキル基であり、Ｚ² がＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。

式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。

式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。

式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）

において、Ｒ^2-1が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇ¹が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_1-3アルキルカルボニル基、Ｃ_1-４アルコキシカルボニル基、Ｃ_2-４アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_6-10アリールカルボニル基であり、
Ｚ^1-1がＣ_1-3アルキル基であり、
Ｚ^2-1-1がＣ_1-3アルキル基であり、
Ｚ^2-1-2が水素又はＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）において、Ｒ^2-1が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ¹が水素、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^1-1がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^2-1-1がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^2-1-2が水素、メチル基又はエチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−２）

において、Ｒ^2-2が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇ²が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_1-3アルキルカルボニル基又はＣ_1-４アルコキシカルボニル基、Ｃ_2-４アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_6-10アリールカルボニル基であり、
Ｚ^2-2-1が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、
Ｚ^2-2-2が水素又はＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−２）において、Ｒ^2-2が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ²が水素、アセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^2-2-1が水素、メチル基又はエチル基であり、
Ｚ^2-2-2が水素、メチル基又はエチル基であるピリダジノン化合物。

ブロモキシニルの農業上許容されるそのエステルもしくは塩としては、例えばブロモキシニルヘプタノエート、ブロモキシニルオクタノエート、及びブロモキシニルカリウム塩が挙げられる。

ジカンバの農業上許容されるそのエステルもしくは塩としては、例えば、ジカンバメチル、ジカンバブトチル、ジカンバジグリコールアミン塩、ジカンバジメチルアンモニウム、ジカンバジオラミン、ジカンバイソプロピルアンモニウム、ジカンバカリウム、及びジカンバナトリウムが挙げられる。

フルロキシピルの農業上許容されるそのエステルとしては、例えば、フルロキシピル−２−ブトキシ−１−メチルエチル、及びフルロキシピルメプチルが挙げられる。

２，４−Ｄの農業上許容されるそのエステルもしくは塩としては、例えば、２，４−Ｄブトチル、２，４−Ｄブチル、２，４−Ｄジメチルアンモニウム、２，４−Ｄジオラミン、２，４−Ｄエチル、２，４−Ｄエチルヘキシル、２，４−Ｄイソブチル、２，４−Ｄイソクチル、２，４−Ｄイソプロピル、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム、２，４−Ｄナトリウム、２，４−Ｄトリイソプロパノールアンモニウム、及び２，４−Ｄトロラミンが挙げられる。

クロピラリドの農業上許容されるその塩としては、例えば、クロピラリドオラミン、クロピラリドカリウム、及びクロピラリドトリイソプロパノールアンモニウムが挙げられる。

本発明除草用組成物は、耕起栽培又は不耕起栽培が行われる農作物畑、樹園地において、広範囲の雑草を防除することができる。また、本発明除草用組成物は、非農耕地で使用することもできる。

本発明除草用組成物の防除対象としては、例えば次のものが挙げられる。
メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａｃｉｌｉａｒｉｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅｉｎｄｉｃａ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｆａｂｅｒｉ）、キンエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｇｌａｕｃａ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、テキサスパニカム（Ｐａｎｉｃｕｍｔｅｘａｎｕｍ）、メリケンニクキビ（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａｐｌａｔｙｐｈｙｌｌａ）、アレキサンダーグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａｐｌａｎｔａｇｉｎｅａ）、スリナムグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａｄｅｃｕｍｂｅｎｓ）、セイバンモロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、シャッターケーン（Ａｎｄｒｏｐｏｇｏｎｓｏｒｇｈｕｍ）、ギョウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎｄａｃｔｙｌｏｎ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａｆａｔｕａ）、ネズミムギ（Ｌｏｌｉｕｍｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、ウマノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓｔｅｃｔｏｒｕｍ）、アレチノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓｓｔｅｒｉｌｉｓ）、ヒメカナリークサヨシ（Ｐｈａｌａｒｉｓｍｉｎｏｒ）、セイヨウヌカボ（Ａｐｅｒａｓｐｉｃａ−ｖｅｎｔｉ）、スズメノカタビラ（Ｐｏａａｎｎｕａ）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎｒｅｐｅｎｓ）、コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｉｒｉａ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）、スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａｏｌｅｒａｃｅａ）、アオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）、ホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｈｙｂｒｉｄｕｓ）、オオホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｐａｌｍｅｒｉ）、ウォーターヘンプ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｒｕｄｉｓ）、イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａｓｐｉｎｏｓａ）、ソバカズラ（Ｆａｌｌｏｐｉａｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、サナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｓｃａｂｒｕｍ）、アメリカサナエタデ（Ｐｅｒｓｉｃａｒｉａｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉｃａ）、ハルタデ（Ｐｅｒｓｉｃａｒｉａｖｕｌｇａｒｉｓ）、ナガバギシギシ（Ｒｕｍｅｘｃｒｉｓｐｕｓ）、エゾノギシギシ（Ｒｕｍｅｘｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉｕｓ）、イタドリ（Ｆａｌｌｏｐｉａｊａｐｏｎｉｃａ）、シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍａｌｂｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａｓｃｏｐａｒｉａ）、イヌタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｌｏｎｇｉｓｅｔｕｍ）、イヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍｎｉｇｒｕｍ）、シロバナチョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｐｕｒｐｕｒｅａ）、アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｈｅｄｅｒａｃｅａｖａｒ．ｉｎｔｅｇｒｉｕｓｃｕｌａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｌａｃｕｎｏｓａ）、セイヨウヒルガオ（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓａｒｖｅｎｓｉｓ）、ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）、オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、野生ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓａｎｎｕｕｓ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａｐｅｒｆｏｒａｔａｏｒｉｎｏｄｏｒａ）、カミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａｃｈａｍｏｍｉｌｌａ）、コーンマリーゴールド（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍｓｅｇｅｔｕｍ）、オロシャギク（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａｍａｔｒｉｃａｒｉｏｉｄｅｓ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａａｒｔｅｍｉｓｉｉｆｏｌｉａ）、オオブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａｔｒｉｆｉｄａ）、ヒメムカシヨモギ（Ｅｒｉｇｅｒｏｎｃａｎａｄｅｎｓｉｓ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａｐｒｉｎｃｅｐｓ）、セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏａｌｔｉｓｓｉｍａ）、アレチノギク（Ｃｏｎｙｚａｂｏｎａｒｉｅｎｓｉｓ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）、フロリダベガーウィード（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍｔｏｒｔｕｏｓｕｍ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍｒｅｐｅｎｓ）、クズ（Ｐｕｅｒａｒｉａｌｏｂａｔａ）、カラスノエンドウ（Ｖｉｃｉａａｎｇｕｓｔｉｆｏｌｉａ）、ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｏｍｍｕｎｉｓ）、マルバツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｂｅｎｇｈａｌｅｎｓｉｓ）、ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍａｐａｒｉｎｅ）、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａｍｅｄｉａ）、ワイルドラディッシュ（Ｒａｐｈａｎｕｓｒａｐｈａｎｉｓｔｒｕｍ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）、オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａｐｅｒｓｉｃａ）、フラサバソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａｈｅｄｅｒｉｆｏｌｉａ）、フィールドパンジー（Ｖｉｏｌａａｒｖｅｎｓｉｓ）、ワイルドパンジー（Ｖｉｏｌａｔｒｉｃｏｌｏｒ）、ヒナゲシ（Ｐａｐａｖｅｒｒｈｏｅａｓ）、ワスレナグサ（Ｍｙｏｓｏｔｉｓｓｃｏｒｐｉｏｉｄｅｓ）、オオトウワタ（Ａｓｃｌｅｐｉａｓｓｙｒｉａｃａ）、トウダイグサ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｈｅｌｉｏｓｃｏｐｉａ）、オオニシキソウ（Ｃｈａｍａｅｓｙｃｅｎｕｔａｎｓ）、アメリカフウロ（Ｇｅｒａｎｉｕｍｃａｒｏｌｉｎｉａｎｕｍ）、オランダフウロ（Ｅｒｏｄｉｕｍｃｉｃｕｔａｒｉｕｍ）、スギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍａｒｖｅｎｓｅ）、アシカキ（Ｌｅｅｒｓｉａｊａｐｏｎｉｃａ）、タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｏｒｙｚｉｃｏｌａ）、ヒメタイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉｖａｒ．ｆｏｒｍｏｓｅｎｓｉｓ）、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）、タマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、ヒデリコ（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓｍｉｌｉａｃｅａ）、マツバイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓａｃｉｃｕｌａｒｉｓ）、イヌホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、タイワンヤマイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｗａｌｌｉｃｈｉｉ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓｋｕｒｏｇｕｗａｉ）、コウキヤガラ（Ｂｏｌｂｏｓｃｈｏｅｎｕｓｋｏｓｈｅｖｎｉｋｏｖｉｉ）、シズイ（Ｓｃｈｏｅｎｏｐｌｅｃｔｕｓｎｉｐｐｏｎｉｃｕｓ）、コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎａｌｉｓ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）、アブノメ（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍｊｕｎｃｅｕｍ）、キカシグサ（Ｒｏｔａｌａｉｎｄｉｃａ）、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）、ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅｔｒｉａｎｄｒａ）、チョウジタデ（Ｌｕｄｗｉｇｉａｅｐｉｌｏｂｉｏｉｄｅｓ）、ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａ）、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、オモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｔｒｉｆｏｌｉａ）、ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）、セリ（Ｏｅｎａｎｔｈｅｊａｖａｎｉｃａ）、ミズハコベ（Ｃａｌｌｉｔｒｉｃｈｅｐａｌｕｓｔｒｉｓ）、アゼトウガラシ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｍｉｃｒａｎｔｈａ）、アメリカアゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｄｕｂｉａ）、タカサブロウ（Ｅｃｌｉｐｔａｐｒｏｓｔｒａｔａ）、イボクサ（Ｍｕｒｄａｎｎｉａｋｅｉｓａｋ）、キシュウスズメノヒエ（Ｐａｓｐａｌｕｍｄｉｓｔｉｃｈｕｍ）、エゾノサヤヌカグサ（Ｌｅｅｒｓｉａｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）等の雑草。ナガエツルノゲイトウ（Ａｌｔｅｒｎａｎｔｈｅｒａｐｈｉｌｏｘｅｒｏｉｄｅｓ）、フロッグスビット（Ｌｉｍｎｏｂｉｕｍｓｐｏｎｇｉａ）、ウォーターファーン（Ｓａｌｖｉｎｉａ属）、ボタンウキクサ（Ｐｉｓｔｉａｓｔｒａｔｉｏｔｅｓ）、ウォーターペニーウォート（Ｈｙｄｒｏｃｏｔｙｌｅ属）、糸状藻類（Ｐｉｔｈｏｐｈｏｒａ属、Ｃｌａｄｏｐｈｏｒａ属）、クーンテイル（Ｃｅｒａｔｏｐｈｙｌｌｕｍｄｅｍｅｒｓｕｍ）、ウキクサ（Ｌｅｍｎａ属）、ハゴロモモ（Ｃａｂｏｍｂａｃａｒｏｌｉｎｉａｎａ）、クロモ（Ｈｙｄｒｉｌｌａｖｅｒｔｉｃｉｌｌａｔａ）、サザンネイアド（Ｎａｊａｓｇｕａｄａｌｕｐｅｎｓｉｓ）、ポンドウィード類（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｃｒｉｓｐｕｓ、Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｉｌｌｉｎｏｅｎｓｉｓ、Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｐｅｃｔｉｎａｔｕｓ等）、ウォーターミール（Ｗｏｌｆｆｉａ属）、ウォーターミルフォイル類（Ｍｙｒｉｏｐｈｙｌｌｕｍｓｐｉｃａｔｕｍ、Ｍｙｒｉｏｐｈｙｌｌｕｍｈｅｔｅｒｏｐｈｙｌｌｕｍ等）、ホテイアオイ（Ｅｉｃｈｈｏｒｎｉａｃｒａｓｓｉｐｅｓ）等の水生植物。蘚類、苔類、ツノゴケ類。シアノバクテリア。シダ類。永年性作物（仁果類、石果類、液果類、堅果類、カンキツ類、ホップ、ブドウ等）の吸枝（ｓｕｃｈｅｒ）。

本発明除草用組成物は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地又は非農耕地用における除草剤、落葉剤、乾燥剤として使用することができる。本発明除草用組成物は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、該作物等に対して薬害を与えることなく、当該農耕地の雑草を防除することができる場合がある。
農作物：トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等。
野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス等）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。
果樹：仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。
果樹以外の樹木：チャ、クワ、花木類（サツキ、ツバキ、アジサイ、サザンカ、シキミ、サクラ、ユリノキ、サルスベリ、キンモクセイ等）、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等）、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ、カナメモチ、等。
その他：花卉類（バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、シンビジューム、ベゴニア等）、バイオ燃料植物（ヤトロファ、ベニバナ、アマナズナ類、スイッチグラス、ミスカンサス、クサヨシ、ダンチク、ケナフ、キャッサバ、ヤナギ等）、観葉植物等。

上記「作物」には、遺伝子組み換え作物も含まれる。

本発明除草用組成物は、本化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物を含有する。本発明除草用組成物は、通常さらに不活性担体；及び界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。本発明除草用組成物には本化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の合計の重量比で通常０．１〜８０％含有される。

不活性担体としては、固体担体、液体担体及びガス担体が挙げられる。
固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）等が挙げられる。

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。

その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。

本発明の雑草の防除方法は、本化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の有効量を雑草又は雑草が生育する土壌に施用する工程を含むものである。本発明の雑草の防除方法には、通常、本発明除草用組成物が用いられる。本発明除草用組成物の施用方法としては、例えば本発明除草用組成物を雑草に茎葉処理する方法、本発明除草用組成物を雑草が生育する土壌表面に処理する方法、及び本発明除草用組成物を雑草が生育する土壌に混和処理する方法が挙げられる。本発明の雑草の防除方法には、雑草を防除する面積１００００ｍ^２あたりＡ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の合計量で、通常１〜５０００ｇ、好ましくは１０〜３０００ｇ用いられる。

本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がメトスルフロンメチルの場合、本化合物とメトスルフロンメチルとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：１０、好ましくは１：０．００４〜１：１の範囲である。
本発明除草用組成物において、Ａ群から選ばれる化合物がチフェンスルフロンメチルの場合、本化合物とチフェンスルフロンメチルとの混合割合は、重量比で、１：０．００５〜１：１００、好ましくは１：０．０１〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がトリベニュロンメチルの場合、本化合物とトリベニュロンメチルとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：５０、好ましくは１：０．００４〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がクロルスルフロンの場合、本化合物とクロルスルフロンとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：５０、好ましくは１：０．００４〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がフロラスラムの場合、本化合物とフロラスラムとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：１０、好ましくは１：０．００４〜１：１の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩の場合、本化合物とブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩との混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１０００、好ましくは１：０．５〜１：１００の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がピラスルホトールの場合、本化合物とピラスルホトールとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：５０、好ましくは１：０．０５〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩の場合、本化合物とジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩との混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．１〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がフルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステルの場合、本化合物とフルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．１〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物が２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩の場合、本化合物と２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩との混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がクロピラリドまたは農業上許容されるその塩の場合、本化合物とクロピラリドまたは農業上許容されるその塩との混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：５００、好ましくは１：０．１〜１：５０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＢ群から選ばれる化合物がフェンクロラゾールエチルの場合、本化合物とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：１の範囲である。
本発明除草用組成物においてＢ群から選ばれる化合物がクロキントセットメキシルの場合、本化合物とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：１の範囲である。
本発明除草用組成物においてＢ群から選ばれる化合物がメフェンピルジエチルの場合、本化合物とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、メトスルフロンメチル、及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とメトスルフロンメチルとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：１０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、メトスルフロンメチル、及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とメトスルフロンメチルとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：１０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、メトスルフロンメチル、及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とメトスルフロンメチルメフェンピルジエチルととの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：１０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、チフェンスルフロンメチル、及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とチフェンスルフロンメチルとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００５：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、チフェンスルフロンメチル、及びクロキントセットメキシルを含有す場合、本化合物とチフェンスルフロンメチルとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００５：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、チフェンスルフロンメチル、及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とチフェンスルフロンメチルとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００５：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、トリベニュロンメチル、及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とトリベニュロンメチルとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、トリベニュロンメチル、及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とトリベニュロンメチルとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、トリベニュロンメチル、及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とトリベニュロンメチルとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、クロルスルフロン及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とクロルスルフロンとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、クロルスルフロン及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とクロルスルフロンとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、クロルスルフロン及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とクロルスルフロンとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、フロラスラム及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とフロラスラムとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：１０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、フロラスラム及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とフロラスラムとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：１０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、フロラスラム及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とフロラスラムとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：１０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：１０００：１０、好ましくは１：０．５：０．０３〜１：１００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：１０００：１０、好ましくは１：０．５：０．０３〜１：１００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：１０００：１０、好ましくは１：０．５：０．０３〜１：１００：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、ピラスルホトール及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とピラスルホトールとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．０５：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ピラスルホトール及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とピラスルホトールとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．０５：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ピラスルホトール及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とピラスルホトールとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．０５：０．０３〜１：１０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とフルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステルとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とフルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステルとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とフルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステルとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物と２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．５：０．０３〜１：２０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物と２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．５：０．０３〜１：２０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物と２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．５：０．０３〜１：２０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、クロピラリドまたは農業上許容されるその塩及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とクロピラリドまたは農業上許容されるその塩とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０５：０．０１〜１：５００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：５０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、クロピラリドまたは農業上許容されるその塩及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とクロピラリドまたは農業上許容されるその塩とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０５：０．０１〜１：５００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：５０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、クロピラリドまたは農業上許容されるその塩及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とクロピラリドまたは農業上許容されるその塩とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０５：０．０１〜１：５００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：５０：１の範囲である。

本発明除草用組成物は、さらに、他の除草剤と混合又は併用することができる。また、本発明除草用組成物は殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、薬害軽減剤、肥料、土壌改良剤等と混合又は併用することもできる。

本発明除草用組成物と混合又は併用することのできる、他の除草剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
（１）フェノキシ脂肪酸除草性化合物［２，４−ＰＡ、ＭＣＰ、ＭＣＰＢ、フェノチオール（ｐｈｅｎｏｔｈｉｏｌ）、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）等］。
（２）安息香酸除草性化合物［２，３，６−ＴＢＡ、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、アミノピラリド（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）等］。
（３）尿素除草性化合物［ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、クロルトルロン（ｃｈｌｏｒｔｏｌｕｒｏｎ）、イソプロツロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソウロン（ｉｓｏｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、メチルダイムロン（ｍｅｔｈｙｌ−ｄａｉｍｕｒｏｎ）等］。
（４）トリアジン除草性化合物［アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、アメトリン（ａｍｅｔｏｒｙｎ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、インダジフラム（ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）等］。
（５）ビピリジニウム除草性化合物［パラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）等］。
（６）ヒドロキシベンゾニトリル系除草性化合物［アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）等］。
（７）ジニトロアニリン除草性化合物［ペンディメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、プロジアミン（ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）等］。
（８）有機リン除草性化合物［アミプロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、グリホサート（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）、グルホシネート−Ｐ（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ）、ビアラホス（ｂｉａｌａｐｈｏｓ）等］。
（９）カーバメート除草性化合物［ジアレート（ｄｉ−ａｌｌａｔｅ）、トリアレート（ｔｒｉ−ａｌｌａｔｅ）、ＥＰＴＣ、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、スエップ（ｓｗｅｐ）、クロルプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）、フェニソファム（ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、アシュラム（ａｓｕｌａｍ）等］。
（１０）酸アミド除草性化合物［プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、プロピザミド（ｐｒｏｐｙｚａｍｉｄｅ）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）等］。
（１１）クロロアセトアニリド除草性化合物［アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、ペトキサミド（ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）等］。
（１２）ジフェニルエーテル除草性化合物［アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、フォメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ）、アクロニフェン（ａｃｌｏｎｉｆｅｎ）等］。
（１３）環状イミド除草性化合物［オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、スルフェントラゾン（ｓｕｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ベンカルバゾン（ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、サフルフェナシル（ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）等］。
（１４）ピラゾール除草性化合物［ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、トプラメゾン（ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）等］。
（１５）トリケトン除草性化合物［イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、テンボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、テフリルトリオン（ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎｅ）、ビシクロピロン（ｂｉｃｙｃｌｏｐｙｒｏｎｅ）等］。
（１６）アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物［クロジナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップエチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、メタミホップ（ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）等］。
（１７）トリオンオキシム除草性化合物［アロキシジム（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、クレソジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、クロプロキシジム（ｃｌｏｐｒｏｘｙｄｉｍ）、シクロキシジム（ｃｙｃｌｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、プロフォキシジム（ｐｒｏｆｏｘｙｄｉｍ）等］。
（１８）スルホニル尿素除草性化合物［スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アミドスルフロン（ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロンメチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、フォラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メソスルフロンメチル（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフロキシスルフロン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オルソスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、フルセトスルフロン（ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プロピリスルフロン（ｐｒｏｐｙｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メタゾスルフロン（ｍｅｔａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）等］。
（１９）イミダゾリノン除草性化合物［イマザメタベンズメチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザメタピル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｐｙｒ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）等］。
（２０）スルホンアミド除草性化合物［フルメトスラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ペノキススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）、ピロキススラム（ｐｙｒｏｘｓｕｌａｍ）等］。
（２１）ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物［ピリチオバックナトリウム（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビスピリバックナトリウム（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、ピリミスルファン（ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）等］。

（２２）その他の系統の除草有効成分［ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎｅ）、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）、クロルチアミド（ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）、ジノセブ（ｄｉｎｏｓｅｂ）、アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌｅ）、シンメチリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、トリジファン（ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、ダラポン（ｄａｌａｐｏｎ）、ジフルフェンゾピルナトリウム（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、フルカルバゾンナトリウム（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロポキシカルバゾンナトリウム（ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、ＡＣＮ、ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、クロリダゾン（ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ピコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）、ピノキサデン（ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）、ピラクロニル（ｐｙｒａｃｌｏｎｉｌ）、ピロキサスルホン（ｐｙｒｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、チエンカルバゾンメチル（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、イプフェンカルバゾン（ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、メチオゾリン（ｍｅｔｈｉｏｚｏｌｉｎ）、フェノキサスルホン（ｆｅｎｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、アミノシクロピラクロール（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）等］。

本発明除草用組成物と混合又は併用することのできる、殺虫剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
（１）有機リン殺虫性化合物
アセフェート（ａｃｅｐｈａｔｅ）、ブタチオホス（ｂｕｔａｔｈｉｏｆｏｓ）、クロルエトキシホス（ｃｈｌｏｒｅｔｈｏｘｙｆｏｓ）、クロルフェンビンホス（ｃｈｌｏｒｆｅｎｖｉｎｐｈｏｓ）、クロルピリホス（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ）、クロルピリホスメチル（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、シアノホス（ｃｙａｎｏｐｈｏｓ：ＣＹＡＰ）、ダイアジノン（ｄｉａｚｉｎｏｎ）、ジクロフェンチオン（ｄｉｃｈｌｏｆｅｎｔｈｉｏｎ：ＥＣＰ）、ジクロルボス（ｄｉｃｈｌｏｒｖｏｓ：ＤＤＶＰ）、ジメトエート（ｄｉｍｅｔｈｏａｔｅ）、ジメチルビンホス（ｄｉｍｅｔｈｙｌｖｉｎｐｈｏｓ）、ジスルホトン（ｄｉｓｕｌｆｏｔｏｎ）、ＥＰＮ，エチオン（ｅｔｈｉｏｎ）、エトプロホス（ｅｔｈｏｐｒｏｐｈｏｓ）、エトリムホス（ｅｔｒｉｍｆｏｓ）、フェンチオン（ｆｅｎｔｈｉｏｎ：ＭＰＰ）、フエニトロチオン（ｆｅｎｉｔｒｏｔｈｉｏｎ：ＭＥＰ）、ホスチアゼート（ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、ホルモチオン（ｆｏｒｍｏｔｈｉｏｎ）、イソフェンホス（ｉｓｏｆｅｎｐｈｏｓ）、イソキサチオン（ｉｓｏｘａｔｈｉｏｎ）、マラチオン（ｍａｌａｔｈｉｏｎ）、メスルフェンホス（ｍｅｓｕｌｆｅｎｆｏｓ）、メチダチオン（ｍｅｔｈｉｄａｔｈｉｏｎ：ＤＭＴＰ）、モノクロトホス（ｍｏｎｏｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、ナレッド（ｎａｌｅｄ：ＢＲＰ）、オキシデプロホス（ｏｘｙｄｅｐｒｏｆｏｓ：ＥＳＰ）、パラチオン（ｐａｒａｔｈｉｏｎ）、ホサロン（ｐｈｏｓａｌｏｎｅ）、ホスメット（ｐｈｏｓｍｅｔ：ＰＭＰ）、ピリミホスメチル（ｐｉｒｉｍｉｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリダフェンチオン（ｐｙｒｉｄａｆｅｎｔｈｉｏｎ）、キナルホス（ｑｕｉｎａｌｐｈｏｓ）、フェントエート（ｐｈｅｎｔｈｏａｔｅ：ＰＡＰ）、プロフェノホス（ｐｒｏｆｅｎｏｆｏｓ）、プロパホス（ｐｒｏｐａｐｈｏｓ）、プロチオホス（ｐｒｏｔｈｉｏｆｏｓ）、ピラクロホス（ｐｙｒａｃｌｏｒｆｏｓ）、サリチオン（ｓａｌｉｔｈｉｏｎ）、スルプロホス（ｓｕｌｐｒｏｆｏｓ）、テブピリムホス（ｔｅｂｕｐｉｒｉｍｆｏｓ）、テメホス（ｔｅｍｅｐｈｏｓ）、テトラクロルビンホス（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｖｉｎｐｈｏｓ）、テルブホス（ｔｅｒｂｕｆｏｓ）、チオメトン（ｔｈｉｏｍｅｔｏｎ）、トリクロルホン（ｔｒｉｃｈｌｏｒｐｈｏｎ：ＤＥＰ）、バミドチオン（ｖａｍｉｄｏｔｈｉｏｎ）、フォレート（ｐｈｏｒａｔｅ）、カズサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）。

（２）カーバメート殺虫性化合物
アラニカルブ（ａｌａｎｙｃａｒｂ）、ベンダイオカルブ（ｂｅｎｄｉｏｃａｒｂ）、ベンフラカルブ（ｂｅｎｆｕｒａｃａｒｂ）、ＢＰＭＣ、カルバリル（ｃａｒｂａｒｙｌ）、カルボフラン（ｃａｒｂｏｆｕｒａｎ）、カルボスルファン（ｃａｒｂｏｓｕｌｆａｎ）、クロエトカルブ（ｃｌｏｅｔｈｏｃａｒｂ）、エチオフェンカルブ（ｅｔｈｉｏｆｅｎｃａｒｂ）、フェノブカルブ（ｆｅｎｏｂｕｃａｒｂ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フェノキシカルブ（ｆｅｎｏｘｙｃａｒｂ）、フラチオカルブ（ｆｕｒａｔｈｉｏｃａｒｂ）、イソプロカルブ（ｉｓｏｐｒｏｃａｒｂ：ＭＩＰＣ）、メトルカルブ（ｍｅｔｏｌｃａｒｂ）、メソミル（ｍｅｔｈｏｍｙｌ）、メチオカルブ（ｍｅｔｈｉｏｃａｒｂ）、オキサミル（ｏｘａｍｙｌ）、ピリミカーブ（ｐｉｒｉｍｉｃａｒｂ）、プロポキスル（ｐｒｏｐｏｘｕｒ：ＰＨＣ）、ＸＭＣ、チオジカルブ（ｔｈｉｏｄｉｃａｒｂ）、キシリルカルブ（ｘｙｌｙｌｃａｒｂ）、アルジカルブ（ａｌｄｉｃａｒｂ）。

（３）ピレスロイド化合物
アクリナトリン（ａｃｒｉｎａｔｈｒｉｎ）、アレスリン（ａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ベータ−シフルトリン（ｂｅｔａ−ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ビフェントリン（ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、シクロプロトリン（ｃｙｃｌｏｐｒｏｔｈｒｉｎ）、シフルトリン（ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、シハロトリン（ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、シペルメトリン（ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、エンペントリン（ｅｍｐｅｎｔｈｒｉｎ）、デルタメトリン（ｄｅｌｔａｍｅｔｈｒｉｎ）、エスフェンバレレート（ｅｓｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、エトフェンプロックス（ｅｔｈｏｆｅｎｐｒｏｘ）、フェンプロパトリン（ｆｅｎｐｒｏｐａｔｈｒｉｎ）、フェンバレレート（ｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、フルシトリネート（ｆｌｕｃｙｔｈｒｉｎａｔｅ）、フルフェンプロックス（ｆｌｕｆｅｎｏｐｒｏｘ）、フルメトリン（ｆｌｕｍｅｔｈｒｉｎ）、フルバリネート（ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、イミプロトリン（ｉｍｉｐｒｏｔｈｒｉｎ）、ペルメトリン（ｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、プラレトリン（ｐｒａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ピレトリン（ｐｙｒｅｔｈｒｉｎｓ）、レスメトリン（ｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、シグマ−サイパーメトリン（ｓｉｇｍａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、シラフルオフェン（ｓｉｌａｆｌｕｏｆｅｎ）、テフルトリン（ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、トラロメトリン（ｔｒａｌｏｍｅｔｈｒｉｎ）、トランスフルトリン（ｔｒａｎｓｆｌｕｔｈｒｉｎ）、テトラメトリン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、フェノトリン（ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、シフェノトリン（ｃｙｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、アルファシペルメトリン（ａｌｐｈａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ゼータシペルメトリン（ｚｅｔａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ラムダシハロトリン（ｌａｍｂｄａ−ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、ガンマシハロトリン（ｇａｍｍａ−ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、フラメトリン（ｆｕｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、タウフルバリネート（ｔａｕ−ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、メトフルトリン（ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、プロフルトリン（ｐｒｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ジメフルトリン（ｄｉｍｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル２，２，３，３−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート、プロトリフェンビュート（ｐｒｏｔｒｉｆｅｎｂｕｔｅ）。

（４）ネライストキシン殺虫性化合物
カルタップ（ｃａｒｔａｐ）、ベンスルタップ（ｂｅｎｓｕｌｔａｐ）、チオシクラム（ｔｈｉｏｃｙｃｌａｍ）、モノスルタップ（ｍｏｎｏｓｕｌｔａｐ）、ビスルタップ（ｂｉｓｕｌｔａｐ）。

（５）ネオニコチノイド化合物
イミダクロプリド（ｉｍｉｄａｃｌｏｐｒｉｄ）、ニテンピラム（ｎｉｔｅｎｐｙｒａｍ）、アセタミプリド（ａｃｅｔａｍｉｐｒｉｄ）、チアメトキサム（ｔｈｉａｍｅｔｈｏｘａｍ）、チアクロプリド（ｔｈｉａｃｌｏｐｒｉｄ）、ジノテフラン（ｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、クロチアニジン（ｃｌｏｔｈｉａｎｉｄｉｎ）。

（６）ベンゾイル尿素殺虫性化合物
クロルフルアズロン（ｃｈｌｏｒｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、ビストリフルロン（ｂｉｓｔｒｉｆｌｕｒｏｎ）、ジフルベンズロン（ｄｉｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、フルアズロン（ｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、フルシクロクスロン（ｆｌｕｃｙｃｌｏｘｕｒｏｎ）、フルフェノクスロン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、ヘキサフルムロン（ｈｅｘａｆｌｕｍｕｒｏｎ）、ルフェヌロン（ｌｕｆｅｎｕｒｏｎ）、ノバルロン（ｎｏｖａｌｕｒｏｎ）、ノビフルムロン（ｎｏｖｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、テフルベンズロン（ｔｅｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、トリフルムロン（ｔｒｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）。

（７）フェニルピラゾール殺虫性化合物
アセトプロール（ａｃｅｔｏｐｒｏｌｅ）、エチプロール（ｅｔｈｉｐｒｏｌｅ）、フィプロニル（ｆｉｐｒｏｎｉｌ）、バニリプロール（ｖａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、ピリプロール（ｐｙｒｉｐｒｏｌｅ）、ピラフルプロール（ｐｙｒａｆｌｕｐｒｏｌｅ）。

（８）Ｂｔトキシン
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞及び産生結晶毒素、及びそれらの混合物。

（９）ヒドラジン殺虫性化合物
クロマフェノジド（ｃｈｒｏｍａｆｅｎｏｚｉｄｅ）、ハロフェノジド（ｈａｌｏｆｅｎｏｚｉｄｅ）、メトキシフェノジド（ｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎｏｚｉｄｅ）、テブフェノジド（ｔｅｂｕｆｅｎｏｚｉｄｅ）。

（１０）有機塩素殺虫性化合物
アルドリン（ａｌｄｒｉｎ）、ディルドリン（ｄｉｅｌｄｒｉｎ）、クロルデン（ｃｈｌｏｒｄａｎｅ）、ＤＤＴ、ジエノクロル（ｄｉｅｎｏｃｈｌｏｒ）、エンドスルファン（ｅｎｄｏｓｕｌｆａｎ）、メトキシクロル（ｍｅｔｈｏｘｙｃｈｌｏｒ）。

（１１）その他の殺虫有効成分
マシン油（ｍａｃｈｉｎｅｏｉｌ）、硫酸ニコチン（ｎｉｃｏｔｉｎｅ−ｓｕｌｆａｔｅ）；アベルメクチン（ａｖｅｒｍｅｃｔｉｎ−Ｂ）、ブロモプロピレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、ブプロフェジン（ｂｕｐｒｏｆｅｚｉｎ）、クロルフェナピル（ｃｈｌｏｒｐｈｅｎａｐｙｒ）、シロマジン（ｃｙｒｏｍａｚｉｎｅ）、ＤＣＩＰ（ｄｉｃｈｌｏｒｏｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｅｒ）、Ｄ−Ｄ（１，３−Ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ）、エマメクチンベンゾエート（ｅｍａｍｅｃｔｉｎ−ｂｅｎｚｏａｔｅ）、フェナザキン（ｆｅｎａｚａｑｕｉｎ）、フルピラゾホス（ｆｌｕｐｙｒａｚｏｆｏｓ）、ハイドロプレン（ｈｙｄｒｏｐｒｅｎｅ）、メトプレン（ｍｅｔｈｏｐｒｅｎｅ）、インドキサカルブ（ｉｎｄｏｘａｃａｒｂ）、メトキサジアゾン（ｍｅｔｏｘａｄｉａｚｏｎｅ）、ミルベマイシンＡ（ｍｉｌｂｅｍｙｃｉｎ−Ａ）、ピメトロジン（ｐｙｍｅｔｒｏｚｉｎｅ）、ピリダリル（ｐｙｒｉｄａｌｙｌ）、ピリプロキシフェン（ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎ）、スピノサッド（ｓｐｉｎｏｓａｄ）、スルフルラミド（ｓｕｌｆｌｕｒａｍｉｄ）、トルフェンピラド（ｔｏｌｆｅｎｐｙｒａｄ）、トリアザメート（ｔｒｉａｚａｍａｔｅ）、フルベンジアミド（ｆｌｕｂｅｎｄｉａｍｉｄｅ）、レピメクチン（ｌｅｐｉｍｅｃｔｉｎ）、りん化アルミニウム（ａｌｕｍｉｎｉｕｍｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、亜ひ酸（ａｒｓｅｎｏｕｓｏｘｉｄｅ）、ベンクロチアズ（ｂｅｎｃｌｏｔｈｉａｚ）、石灰窒素（ｃａｌｃｉｕｍｃｙａｎａｍｉｄｅ）、石灰硫黄合剤（ｃａｌｃｉｕｍｐｏｌｙｓｕｌｆｉｄｅ）、ＤＳＰ、フロニカミド（ｆｌｏｎｉｃａｍｉｄ）、フルリムフェン（ｆｌｕｒｉｍｆｅｎ）、ホルメタネート（ｆｏｒｍｅｔａｎａｔｅ）、りん化水素（ｈｙｄｒｏｇｅｎｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、メタム・アンモニウム（ｍｅｔａｍ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、メタム・ナトリウム（ｍｅｔａｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、臭化メチル（ｍｅｔｈｙｌｂｒｏｍｉｄｅ）、オレイン酸カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍｏｌｅａｔｅ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、硫黄（ｓｕｌｆｕｒ）、メタフルミゾン（ｍｅｔａｆｌｕｍｉｚｏｎｅ）、スピロテトラマット（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、ピリフルキナゾン（ｐｙｒｉｆｌｕｑｕｉｎａｚｏｎｅ）、スピネトラム（ｓｐｉｎｅｔｏｒａｍ）、クロラントラニリプロール（ｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、トラロピリル（ｔｒａｌｏｐｙｒｉｌ）、ジアフェンチウロン（ｄｉａｆｅｎｔｈｉｕｒｏｎ）、

式(A)

（式中、Ｘ^a1はメチル基、塩素、臭素又はフッ素を表し、Ｘ^a2はフッ素、塩素、臭素、Ｃ_１−Ｃ_４ハロアルキル基又はＣ_１−Ｃ_４ハロアルコキシ基を表し、Ｘ^a3はフッ素、塩素又は臭素を表し、Ｘ^a4は置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_４アルキル、置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_４アルケニル、置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_４アルキニル、置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_５シクロアルキルアルキル又は水素を表し、Ｘ^a5は水素又はメチル基を表し、Ｘ^a6は水素、フッ素又は塩素を表し、Ｘ^a7は水素、フッ素又は塩素を表す。）
で示される化合物。

式（Ｂ）

（式中、Ｘ^b1はＸ^b2−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）基、Ｘ^b2−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ₂基、Ｘ^b3−Ｓ（Ｏ）基、置換されていてもよいピロール−１−イル基、置換されていてもよいイミダゾール−１−イル基、置換されていてもよいピラゾール−１−イル基又は置換されていてもよい１，２，４−トリアゾール−１−イル基を表し、Ｘ^b2は２，２，２−トリフルオロエチル基等の置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_４ハロアルキル基又はシクロプロピル基等の置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_６シクロアルキル基を表し、Ｘ^b3はメチル等の置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表し、Ｘ^b4は水素、塩素、シアノ基又はメチル基を表す。）で示される化合物。

式（Ｃ）

（式中、Ｘ^c1は３，３，３−トリフルオロプロピル基等の置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_４アルキル基、２，２，２−トリクロロエトキシ基等の置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_４アルコキシ基、４−シアノフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基又は２−クロロ−３−ピリジル基等の置換されていてもよいピリジル基を表し、Ｘ^c2はメチル基又はトリフルオロメチルチオ基を表し、Ｘ^c3はメチル基又はハロゲンを表す。）
で示される化合物。

本発明除草用組成物と混合又は併用することのできる、殺ダニ剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
アセキノシル（ａｃｅｑｕｉｎｏｃｙｌ）、アミトラズ（ａｍｉｔｒａｚ）、ベンゾキシメート（ｂｅｎｚｏｘｉｍａｔｅ）、ビフェナゼート（ｂｉｆｅｎａｚａｔｅ）、ブロモプロピレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、キノメチオネート（ｃｈｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔ）、クロルベンジレート（ｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｉｌａｔｅ）、ＣＰＣＢＳ（ｃｈｌｏｒｆｅｎｓｏｎ）、クロフェンテジン（ｃｌｏｆｅｎｔｅｚｉｎｅ）、シフルメトフェン（ｃｙｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）、ケルセン（ジコホル：ｄｉｃｏｆｏｌ）、エトキサゾール（ｅｔｏｘａｚｏｌｅ）、酸化フェンブタスズ（ｆｅｎｂｕｔａｔｉｎｏｘｉｄｅ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フェンピロキシメート（ｆｅｎｐｙｒｏｘｉｍａｔｅ）、フルアクリピリム（ｆｌｕａｃｒｙｐｙｒｉｍ）、ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、ヘキシチアゾクス（ｈｅｘｙｔｈｉａｚｏｘ）、プロパルギット（ｐｒｏｐａｒｇｉｔｅ：ＢＰＰＳ）、ポリナクチン複合体（ｐｏｌｙｎａｃｔｉｎｓ）、ピリダベン（ｐｙｒｉｄａｂｅｎ）、ピリミジフェン（ｐｙｒｉｍｉｄｉｆｅｎ）、テブフェンピラド（ｔｅｂｕｆｅｎｐｙｒａｄ）、テトラジホン（ｔｅｔｒａｄｉｆｏｎ）、スピロジクロフェン（ｓｐｉｒｏｄｉｃｌｏｆｅｎ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、スピロテトラマット（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、アミドフルメット（ａｍｉｄｏｆｌｕｍｅｔ）、及びシエノピラフェン（ｃｙｅｎｏｐｙｒａｆｅｎ）。

本発明除草用組成物と混合又は併用することのできる、殺線虫剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
ＤＣＩＰ、ホスチアゼート（ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、塩酸レバミゾール（ｌｅｖａｍｉｓｏｌ）、メチルイソチオシアネート（ｍｅｔｈｙｉｓｏｔｈｉｏｃｙａｎａｔｅ）、酒石酸モランテル（ｍｏｒａｎｔｅｌｔａｒｔａｒａｔｅ）、及びイミシアホス（ｉｍｉｃｙａｆｏｓ）。

本発明除草用組成物と混合又は併用することのできる、殺菌剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
（１）ポリハロアルキルチオ殺菌性化合物［キャプタン（ｃａｐｔａｎ）、フォルペット（ｆｏｌｐｅｔ）等］。
（２）有機リン殺菌性化合物［ＩＢＰ、ＥＤＤＰ、トルクロフォスメチル（ｔｏｌｃｌｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）等］。
（３）べンズイミダゾール殺菌性化合物［ベノミル（ｂｅｎｏｍｙｌ）、カルベンダジム（ｃａｒｂｅｎｄａｚｉｍ）、チオファネートメチル（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、チアベンダゾール（ｔｈｉａｂｅｎｄａｚｏｌｅ）等］。
（４）カルボキシアミド殺菌性化合物［カルボキシン（ｃａｒｂｏｘｉｎ）、メプロニル（ｍｅｐｒｏｎｉｌ）、フルトラニル（ｆｌｕｔｏｌａｎｉｌ）、チフルザミド（ｔｈｉｆｌｕｚａｍｉｄ）、フラメトピル（ｆｕｒａｍｅｔｐｙｒ）、ボスカリド（ｂｏｓｃａｌｉｄ）、ペンチオピラド（ｐｅｎｔｈｉｏｐｙｒａｄ）等］。
（５）ジカルボキシイミド殺菌性化合物［プロシミドン（ｐｒｏｃｙｍｉｄｏｎｅ）、イプロジオン（ｉｐｒｏｄｉｏｎｅ）、ビンクロゾリン（ｖｉｎｃｌｏｚｏｌｉｎ）等］。
（６）アシルアラニン殺菌性化合物［メタラキシル（ｍｅｔａｌａｘｙｌ）等］。
（７）アゾール殺菌性化合物［トリアジメフォン（ｔｒｉａｄｉｍｅｆｏｎ）、トリアジメノール（ｔｒｉａｄｉｍｅｎｏｌ）、プロピコナゾール（ｐｒｏｐｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、テブコナゾール（ｔｅｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、シプロコナゾール（ｃｙｐｒｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、エポキシコナゾール（ｅｐｏｘｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、プロチオコナゾール（ｐｒｏｔｈｉｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、イプコナゾール（ｉｐｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリフルミゾール（ｔｒｉｆｌｕｍｉｚｏｌｅ）、プロクロラズ（ｐｒｏｃｈｌｏｒａｚ）、ペンコナゾール（ｐｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルシラゾール（ｆｌｕｓｉｌａｚｏｌｅ）、ジニコナゾール（ｄｉｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ブロムコナゾール（ｂｒｏｍｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、ジフェノコナゾール（ｄｉｆｅｎｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、メトコナゾール（ｍｅｔｃｏｎａｚｏｌｅ）、テトラコナゾール（ｔｅｔｒａｃｏｎａｚｏｌｅ）、マイクロブタニル（ｍｙｃｌｏｂｕｔａｎｉｌ）、フェンブコナゾール（ｆｅｎｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、ヘキサコナゾール（ｈｅｘａｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルキンコナゾール（ｆｌｕｑｕｉｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリティコナゾール（ｔｒｉｔｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ビテルタノール（ｂｉｔｅｒｔａｎｏｌ）、イマザリル（ｉｍａｚａｌｉｌ）、フルトリアホール（ｆｌｕｔｒｉａｆｏｌ）等］。
（８）モルフォリン殺菌性化合物［ドデモルフ（ｄｏｄｅｍｏｒｐｈ）、トリデモルフ（ｔｒｉｄｅｍｏｒｐｈ）、フェンプロピモルフ（ｆｅｎｐｒｏｐｉｍｏｒｐｈ）等］。
（９）ストロビルリン化合物［アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）等］。
（１０）抗生物質［バリダマイシンＡ（ｖａｌｉｄａｍｙｃｉｎＡ）、ブラストサイジンＳ（ｂｌａｓｔｉｃｉｄｉｎＳ）、カスガマイシン（ｋａｓｕｇａｍｙｃｉｎ）、ポリオキシン（ｐｏｌｙｏｘｉｎ）等］。
（１１）ジチオカーバメート殺菌性化合物［マンコゼブ（ｍａｎｃｏｚｅｂ）、マネブ（ｍａｎｅｂ）、チウラム（ｔｈｉｕｒａｍ）等］。
（１２）その他の殺菌有効成分［フサライド（ｆｔｈａｌｉｄｅ）、プロベナゾール（ｐｒｏｂｅｎａｚｏｌｅ）、イソプロチオラン（ｉｓｏｐｒｏｔｈｉｏｌａｎｅ）、トリシクラゾール（ｔｒｉｃｙｃｌａｚｏｌｅ）、ピロキロン（ｐｙｒｏｑｕｉｌｏｎ）、フェリムゾン（ｆｅｒｉｍｚｏｎｅ）、アシベンゾラルＳメチル（ａｃｉｂｅｎｚｏｌａｒＳ−ｍｅｔｈｙｌ）、カルプロパミド（ｃａｒｐｒｏｐａｍｉｄ）、ジクロシメット（ｄｉｃｌｏｃｙｍｅｔ）、フェノキサニル（ｆｅｎｏｘａｎｉｌ）、チアジニル（ｔｉａｄｉｎｉｌ）、ジクロメジン（ｄｉｃｌｏｍｅｚｉｎｅ）、テクロフタラム（ｔｅｃｌｏｆｔｈａｌａｍ）、ペンシクロン（ｐｅｎｃｙｃｕｒｏｎ）、オキソリニック酸（ｏｘｏｌｉｎｉｃａｃｉｄ）、ＴＰＮ、トリフォリン（ｔｒｉｆｏｒｉｎｅ）、フェンプロピジン（ｆｅｎｐｒｏｐｉｄｉｎ）、スピロキサミン（ｓｐｉｒｏｘａｍｉｎｅ）、フルアジナム（ｆｌｕａｚｉｎａｍ）、イミノオクタジン（ｉｍｉｎｏｃｔａｄｉｎｅ）、フェンピクロニル（ｆｅｎｐｉｃｌｏｎｉｌ）、フルジオキソニル（ｆｌｕｄｉｏｘｏｎｉｌ）、キノキシフェン（ｑｕｉｎｏｘｙｆｅｎ）、フェンヘキサミド（ｆｅｎｈｅｘａｍｉｄ）、シルチオファム（ｓｉｌｔｈｉｏｆａｍ）、プロキナジド（ｐｒｏｑｕｉｎａｚｉｄ）、シフルフェナミド（ｃｙｆｌｕｆｅｎａｍｉｄ）、塩基性硫酸銅カルシウム（ｂｏｒｄｅａｕｘｍｉｘｔｕｒｅ）、ジクロフルアニド（ｄｉｃｈｌｏｆｌｕａｎｉｄ）、シプロジニル（ｃｙｐｒｏｄｉｎｉｌ）、ピリメタニル（ｐｙｒｉｍｅｔｈａｎｉｌ）、メパニピリム（ｍｅｐａｎｉｐｙｒｉｍ）、ジエトフェンカルブ（ｄｉｅｔｈｏｆｅｎｃａｒｂ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、ファモキサドン（ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）、フェナミドン（ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）、ゾキサミド（ｚｏｘａｍｉｄｅ）、エタボキサム（ｅｔｈａｂｏｘａｍ）、アミスルブロム（ａｍｉｓｕｌｂｒｏｍ）、イプロバリカルブ（ｉｐｒｏｖａｌｉｃａｒｂ）、ベンチアバリカルブ（ｂｅｎｔｈｉａｖａｌｉｃａｒｂ）、シアゾファミド（ｃｙａｚｏｆａｍｉｄ）、マンジプロパミド（ｍａｎｄｉｐｒｏｐａｍｉｄ）、メトラフェノン（ｍｅｔｒａｆｅｎｏｎｅ）、フルオピラム（ｆｌｕｏｐｉｒａｍ）、ビキサフェン（ｂｉｘａｆｅｎ）等］。

本発明除草用組成物と混合又は併用することのできる、植物成長調節剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
ヒメキサゾール（ｈｙｍｅｘａｚｏｌ）、パクロブトラゾール（ｐａｃｌｏｂｕｔｒａｚｏｌ）、ウニコナゾール−Ｐ（ｕｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ−Ｐ）、イナベンフィド（ｉｎａｂｅｎｆｉｄｅ）、プロヘキサジオンカルシウム（ｐｒｏｈｅｘａｄｉｏｎｅ−ｃａｌｃｉｕｍ）、アビグリシン（ａｖｉｇｌｙｃｉｎｅ）、１−ナフチルアセトアミド（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅａｃｅｔａｍｉｄｅ）、アブシジン酸（ａｂｓｃｉｓｉｃａｃｉｄ）、インドール酪酸（ｉｎｄｏｌｅｂｕｔｙｒｉｃａｃｉｄ）、エチクロゼート（ｅｔｈｙｃｈｌｏｚａｔｅ）、エテホン（ｅｔｈｅｐｈｏｎ）、クロキシホナック（ｃｌｏｘｙｆｏｎａｃ）、クロルメコート（ｃｈｌｏｒｍｅｑｕａｔ）、ジクロルプロップ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ）、ジベレリン（ｇｉｂｂｅｒｅｌｌｉｎｓ）、プロヒドロジャスモン（ｐｒｏｈｙｄｒｏｊａｓｍｏｎ）、ベンジルアミノプリン（ｂｅｎｚｙｌａｄｅｎｉｎｅ）、ホルクロルフェニュロン（ｆｏｒｃｈｌｏｒｆｅｎｕｒｏｎ）、マレイン酸ヒドラジド（ｍａｌｅｉｃｈｙｄｒａｚｉｄｅ）、過酸化カルシウム（ｃａｌｃｉｕｍｐｅｒｏｘｉｄｅ）、メピコートクロリド（ｍｅｐｉｑｕａｔ−ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、及び４−ＣＰＡ（４−ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｏｘｙａｃｅｔｉｃａｃｉｄ）。

本発明除草用組成物と混合又は併用することのできる、薬害軽減剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
フリラゾール（ｆｕｒｉｌａｚｏｌｅ）、ジクロルミッド（ｄｉｃｈｌｏｒｍｉｄ）、ベノキサコール（ｂｅｎｏｘａｃｏｒ）、アリドクロール（ａｌｌｉｄｏｃｈｌｏｒ）、イソキサジフェンエチル（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、フェンクロリム（ｆｅｎｃｌｏｒｉｍ）、シプロスルファミド（ｃｙｐｒｏｓｕｌｆａｍｉｄｅ）、シオメトリニル（ｃｙｏｍｅｔｒｉｎｉｌ）、オキサベトリニル（ｏｘａｂｅｔｒｉｎｉｌ）、フルクソフェニム（ｆｌｕｘｏｆｅｎｉｍ）、フルラゾール（ｆｌｕｒａｚｏｌｅ）、２−ジクロロメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン（２−ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ−２−ｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｄｉｏｘｏｌａｎｅ）、及び１，８−ナフタル酸無水物（１，８−ｎａｐｈｔｈａｌｉｃａｎｈｙｄｒｉｄｅ）。

本化合物は、例えば以下の製造法により製造することができる。
製造法１
本化合物のうちＧが水素である、式（Ｉ−ａ）で示される化合物は、式（II）で示される化合物に金属水酸化物を反応させることによって、製造することができる。

〔式中、Ｒ⁷はＣ_1-6アルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ¹、Ｚ²及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、水；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；、又はこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる金属水酸化物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物が挙げられる。該反応に用いられる金属水酸化物の使用量は、式（II）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１２０モル、好ましくは１〜４０モルである。
該反応の反応温度は、通常室温から使用する溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは溶媒の沸点である。該反応は封管又は耐圧密閉容器中で行うこともできる。該反応の反応時間は、通常５分〜数週間程度である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物に酸を添加して中和し、水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（I−ａ）で示される化合物を単離することができる。

製造法２
本化合物のうちＧが水素以外の基である、式（Ｉ−ｂ）で示される化合物は、式（Ｉ−ａ）で示される化合物と式（III）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｇ³はＧの定義のうち水素以外の基を表し、Ｘはハロゲン又は式ＯＧ³で表される基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ¹、Ｚ²及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；アセトニトリル等のニトリル類；スルホラン等のスルホン類；及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる式（III）で示される化合物は、式（Ｉ−ａ）で示される化合物１モルに対して、通常１モル以上、好ましくは１〜３モルである。
該反応は通常、塩基の存在下に行われる。該反応において用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。該反応に用いられる塩基の量は、式（Ｉ−ａ）で示される化合物１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは１〜５モルである。
該反応の反応温度は通常、−３０〜１８０℃、好ましくは−１０〜５０℃である。該反応の反応時間は通常、１０分〜３０時間である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（Ｉ−ｂ）で示される化合物を単離することができる。

製造法３
本化合物のうちＧが水素である、式（Ｉ−ａ）で示される化合物は、式（VI）で示される化合物と塩基とを反応させることによって製造することができる。

〔式中、Ｒ⁹はＣ_1-6アルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ¹、Ｚ²及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトニトリル等のニトリル類；スルホラン等のスルホン類；及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；及びトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基が挙げられる。該反応に用いられる塩基の量は、式（VI）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル当量、好ましくは２〜５モル当量である。
該反応の反応温度は通常−６０〜１８０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物に酸及び水を加え、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（I−ａ）で示される化合物を単離することができる。

参考製造法１
式（II）で示される化合物は、例えば、以下の製造法により製造することができる。

〔式中、Ｘ¹は脱離基（例えば、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン等）を表し、Ｘ²はハロゲンを表し、Ｒ⁸はＣ_1-6アルキル基（を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁷、Ｚ¹、Ｚ²及びｎは前記と同じ意味を表す。〕

式（ＩＶ）で示される化合物と式（Ｖ−ａ）で示される化合物との反応
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類；水；及びこれらの混合物が用いられる。
該反応は、塩基の存在下に行われる。該反応に用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基；及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。該反応に用いられる塩基の量は、式（IV）で示される化合物１モルに対して、通常０．５〜１０モル当量、好ましくは１〜５モル当量である。
該反応は、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム触媒の存在下で行われる。該反応に用いられるパラジウム触媒の量は、式（IV）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１〜０．５モル、好ましくは０．０１〜０．２モルである。該反応は、４級アンモニウム塩の存在下で行うこともできる。該反応に使用できる４級アンモニウム塩としては、例えば、臭化テトラブチルアンモニウムが挙げられる。
該反応の反応温度は、通常２０〜１８０℃、好ましくは６０〜１５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分〜１００時間である。該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（II）で示される化合物を単離することができる。

式（ＩＶ）で示される化合物と式（Ｖ−ｂ）で示される化合物との反応
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、ジクロロビス（１，３−ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル等のニッケル触媒；又はテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム触媒の存在下で行われる。該反応に用いられる触媒の量は、式（IV）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１〜０．５モル、好ましくは０．０１〜０．２モルである。
該反応の反応温度は、通常−８０〜１８０℃、好ましくは−３０〜１５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分〜１００時間である。該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（II）で示される化合物を単離することができる。

式（ＩＶ）で示される化合物と式（Ｖ−ｃ）で示される化合物との反応
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム触媒の存在下で行われる。該反応に用いられる触媒の量は、式（IV）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１〜０．５モル、好ましくは０．０１〜０．２モルである。
該反応の反応温度は、通常−８０〜１８０℃、好ましくは−３０〜１５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分〜１００時間である。該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（II）で示される化合物を単離することができる。

参考製造法２
式（VI）で示される化合物は式（VII）で示される化合物と、式（VIII）で示される化合物とを反応させることより製造することができる。

〔式中、Ｘ³はハロゲンを表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁹、Ｚ¹、Ｚ²及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、アセトニトリル等のニトリル類；アセトン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；スルホラン等のスルホン類；及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は通常、塩基の存在下で行われる。該反応に用いられる塩基としては例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ[２．２．２]オクタン等の有機塩基；及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
該反応において、式（VIII）で示される化合物の量は、式（VII）で示される化合物１モルに対して、通常１モル以上、好ましくは１〜３モルである。該反応に用いられる塩基の量は、式（VII）で示される化合物１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは１〜５モルである。
該反応の反応温度は通常−３０〜１８０℃、好ましくは−１０〜５０℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（VI）で示される化合物を単離することができる。
式（VII）で示される化合物は、式（IX）

〔式中、Ｚ¹、Ｚ²及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物をハロゲン化剤（例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、塩化オキサリル等）と反応させることにより製造することができる。

次に、本化合物の具体例を以下に示す。

１）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−エチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

２）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−プロピルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

３）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

４）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

５）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−エチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

６）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−エチル−６−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

７）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，６−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

８）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４，６−トリメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

９）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−エチル−４，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

１０）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

１１）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４，６−トリエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

１２）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

１３）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４−ジエチル−６−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

以下に製造例、製剤例及び試験例を示し、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。

製造例１
４−（２−エチルフェニル）−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物II−１〕３．１９３ｇ、水５０ｍＬ、水酸化カリウム（純度８５％含量）４．６５７ｇ及び１，４−ジオキサン５ｍＬを混合した。この混合物を３６時間加熱還流した。反応混合物を冷却した。反応混合物に濃塩酸、水１０ｍＬ及び酢酸エチル１００ｍＬを加えた。該混合物の不溶物を濾過により除いた後、分液した。有機層を、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣を酢酸エチル−ヘキサン混合溶媒（１：２）で洗浄し、４−（２−エチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物Ｉ−ａ−１〕２．０５０ｇを無色結晶として得た。

製造例１に準じて製造した化合物を、化合物Ｉ−ａ−１と伴に表１に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

製造例２
窒素雰囲気下で、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液（１ｍｏｌ／Ｌ）１３ｍＬに２−［２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチル〔化合物VI−２〕１．９ｇのトルエン５５ｍＬ溶液を室温で約１時間かけて滴下した。この混合物を室温で３０分間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮した。得られた残渣に氷水３０ｍＬを加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（２０ｍＬ×２）で洗浄した。水層に３５％塩酸１.６ｇを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を、飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、固体０．７６ｇを得た。該固体を冷ヘキサンで洗浄し、乾燥して、４−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物Ｉ−ａ−１４〕０．５９ｇを白色粉末として得た。

製造例２に準じて製造した化合物を、化合物Ｉ−ａ−１４と伴に表２に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

製造例３
化合物Ｉ−ａ−１０．３２６ｇに、テトラヒドロフラン１２ｍＬ及びトリエチルアミン０．４０ｍＬを加えた。この混合物に塩化ベンゾイル０．２５ｍＬを氷冷下で加えた。氷冷下で１０分間、室温で３時間攪拌した。反応混合物に水３０ｍＬを加え、酢酸エチル３０ｍＬで２回抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２→２：１）に付し、５−ベンゾイルオキシ−４−（２−エチルフェニル）−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物Ｉ−ｂ−１〕０．４６３ｇを無色オイルとして得た。

製造例３に準じて製造した化合物を、化合物Ｉ−ｂ−１と伴に表３および表４に示す。
式（Ｉ−ｂ）で示される化合物：

表３および表４の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの¹ＨＮＭＲデータを以下に示す。
化合物Ｉ−ｂ−１：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．４５−２．６２（２Ｈ，ｍ），３．８８（３Ｈ，ｓ），７．０９−７．１２（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．２８−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．３７−７．４２（２Ｈ，ｍ），７．５５−７．６０（１Ｈ，ｍ），７．８１−７．８４（２Ｈ，ｍ），７．９５（１Ｈ，ｓ）。
化合物Ｉ−ｂ−３：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．２７（２Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝１．４，７．６Ｈｚ），２．３８−２．５６（２Ｈ，ｍ），３．８４（３Ｈ，ｓ），７．００−７．０３（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．２３（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｓ）。
化合物Ｉ−ｂ−６：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．１０−１．２２（５Ｈ，ｍ），１．５−１．７（５Ｈ，ｍ），２．２８（１Ｈ，ｂｒ．），２．３８−２．５５（２Ｈ，ｍ），３．８４（３Ｈ，ｓ），６．９９−７．０２（１Ｈ，ｍ），７．１７−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．２９−７．３６（２Ｈ，ｍ），７．７２（１Ｈ，ｓ）。
化合物Ｉ−ｂ−８：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．４０−２．５７（２Ｈ，ｍ），２．６４（３Ｈ，ｓ），２．８５（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），７．０５−７．０８（１Ｈ，ｍ），７．１９−７．２４（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．３６（２Ｈ，ｍ），７．９５（１Ｈ，ｓ）。
化合物Ｉ−ｂ−９：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．４３−２．５７（２Ｈ，ｍ），２．５８（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），７．１６−７．１９（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．３０（１Ｈ，ｍ），７．３６−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．９６（１Ｈ，ｓ）。
化合物Ｉ−ｂ−４５：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．３１（３Ｈ，ｓ），２．３１〜２．３７（２Ｈ，ｍ），３．８２（３Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．９０（１Ｈ,ｓ）６．９４（１Ｈ，ｓ）。
化合物（Ｉ−ｂ−４６）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．０６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．４６〜２．６６（４Ｈ，ｍ），２．８４（３Ｈ，ｓ），３．１７（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），６．９０（１Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｓ）。

製造例４
化合物（Ｉ−ａ−１７）０．３１ｇ、テトラヒドロフラン５ｍＬ、水素化ナトリウム（約６０％ in oil）９６ｍｇ、及び二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル０．３９ｍLを混合した。この混合物を４．５時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、反応混合物に１mol/L塩酸３ｍＬを加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（２０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を、飽和食塩水（１０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ−２，６−ジメチル−４−（２，４，６−トリエチルフェニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ｂ−４７）〕０．４１ｇを固体として得た。
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１２（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２７（９Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．３２〜２．３９（４Ｈ，ｍ），２．６３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８１（３Ｈ，ｓ），６．９６（２Ｈ，ｓ）。

製造例５
化合物（Ｉ−ａ−１７）０．３０ｇ、クロロホルム５ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン０．２６ｍＬ、４−（ジメチルアミノ）ピリジン１２ｍｇ、クロロリン酸ジエチル０．２２ｍＬを混合した。この混合物を室温で４時間攪拌した。反応混合物に希塩酸を加えｐＨを４とし、クロロホルム（１０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、無色油状の５−（ジエトキシホスホリルオキシ）−２，６−ジメチル−４−（２，４，６−トリエチルフェニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ｂ−４８）〕０．１４ｇを得た。
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１３（６Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１．２Ｈｚ），１．１４（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．３３〜２．４３（４Ｈ，ｍ），２．４６（３Ｈ，ｓ），２．６３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．５３〜３．６８（４Ｈ，ｍ）３．７８（３Ｈ，ｓ），６．９９（２Ｈ，ｓ）。

式（II）で示される化合物の製造例を参考例１に示す。
参考例１
４−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン２．５１６ｇ、２−エチルフェニルボロン酸２．５７５ｇ及び炭酸ナトリウム３．３３３ｇの混合物に、１，４−ジオキサン３０ｍＬ及び水２０ｍＬを加えた。この混合物に臭化テトラブチルアンモニウム２．４１７ｇ及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．６５７ｇを加え、窒素雰囲気下で１７時間加熱還流した。反応混合物を冷却後、反応混合物に水５０ｍＬを加え、酢酸エチル１００ｍＬ及び酢酸エチル３０ｍＬで順次抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を酢酸エチル−ヘキサン混合溶媒（１：２）で洗浄し、４−（２−エチルフェニル）−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物II−１〕３．２３８ｇを黄色結晶として得た。

参考例１に準じて製造した式（II）で示される化合物を、化合物II−１と伴に表５に示す。
式（II）で示される化合物：

表５の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの¹ＨＮＭＲデータを以下に示す。
化合物II−２：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．４０−２．５３（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），４．１９−４．３０（２Ｈ，ｍ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２１−７．２６（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｓ）。
化合物II−４：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．３８−２．５２（２Ｈ，ｍ），３．３８（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），３．７７−３．８４（２Ｈ，ｍ），４．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２１−７．２６（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｓ）。
化合物II−７：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．０８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．３０−２．４５（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｓ）。

式（Ｖ−ａ）で示される化合物の代表的な製造例を参考例２に示す。
参考例２
ブチルリチウム（１．６ｍｏｌ／Ｌヘキサン溶液）１５．５ｍＬにテトラヒドロフラン４５ｍＬに溶解した２−プロピルブロモベンゼン４．４１２ｇを窒素雰囲気下、−７０℃で８５分間かけて滴下した。得られた混合物を、−７０℃で３０分間攪拌した。ここにホウ酸トリメチル３．７５ｍＬを−７０℃で１５分間かけて滴下した。この混合物を−７０℃で１時間、室温で１８時間攪拌した。反応混合物に２mol/L塩酸３３ｍＬを１０分間かけて滴下し、室温で４時間攪拌した。この混合物に水２０ｍＬを加え、酢酸エチル７０ｍＬで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２→２：１）に付し、２−プロピルフェニルボロン酸１．６４１ｇを無色結晶として得た。
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．６９−１．７９（２Ｈ，ｍ），３．１５−３．２０（２Ｈ，ｍ），４．０−６．０（２Ｈ，ｂｒ．），７．２８−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，７．６Ｈｚ），８．２０−８．２３（１Ｈ，ｍ）。

参考例２に準じて、以下の式（Ｖ−ａ）で示される化合物を製造した。
２−エチル−６−メチルフェニルボロン酸：
ｍｐ９０〜９１℃、
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．６４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．０−５．５（２Ｈ，ｂｒ．），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）。
２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸：
ｍｐ１１１〜１１３℃、
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．２３（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．３１（３Ｈ，ｓ），２．６３（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），４．０−５．０（２Ｈ，ｂｒ．），６．８８（２Ｈ，ｓ）。

式（VI）で示される化合物の代表的な製造例を参考例３に示す。
参考例３
２−（メチルヒドラゾノ）プロパン酸エチル２．０g及びアセトニトリル３５ｍＬ、及び炭酸カリウム１．５ｇを混合した。該混合物に２，６−ジエチル−４−メチルフェニルアセチルクロリド２．６ｇのアセトニトリル１０ｍＬ中の溶液を氷冷下で約２０分間かけて滴下した。この混合物を室温で３．５時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮した。残渣に氷水２０ｍＬを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を、飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。得られた残渣を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、２−［２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチル〔化合物VI−２〕１．９ｇを白色結晶として得た。

参考例３に準じて製造した式（VI）で示される化合物を、化合物VI−２と伴に表６に示す。
式（VI）で示される化合物：

表６の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの¹ＨＮＭＲデータを以下に示す。
化合物VI−３：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．６７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．３７（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０３（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．０６−７．３０（４Ｈ，ｍ）。
化合物VI−４：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．６３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．３６（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．９９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），７．１２（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）。
化合物VI−６：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２２（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．３９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０２（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．８６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
化合物VI−７（Ｅ/Ｚ異性体混合物）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１３〜１．２５（９Ｈ，ｍ），１．３１〜１．４１（３Ｈ，ｍ），２．２９（３Ｈ，ｓ），２．５０〜２．８１（６Ｈ，ｍ），３．２３，３．４３（３Ｈ，ｅａｃｈｂｒ．ｓ），４．０５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２７〜４．３９（２Ｈ，ｍ），６．８９（２Ｈ，ｓ）。
化合物VI−８（Ｅ/Ｚ異性体混合物）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．０６〜１．２２（６Ｈ，ｍ），１．３１〜１．４０（３Ｈ，ｍ），２．３０，２．３１（３Ｈ，ｅａｃｈｓ），２．５０〜２．７０（４Ｈ，ｍ），３．２２，３．３８（３Ｈ，ｅａｃｈｓ），４．００（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２７〜４．３７（２Ｈ，ｍ），６．９０〜６．９８（１Ｈ，ｍ），６．９８〜７．０２（１Ｈ，ｍ），７．０２〜７．１４（１Ｈ，ｍ）。
化合物VI−９（Ｅ/Ｚ異性体混合物）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１２〜１．２５（６Ｈ，ｍ），１．３１〜１．４１（３Ｈ，ｍ），２．２２（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．５０〜２．８１（４Ｈ，ｍ），３．２３，３．４３（３Ｈ，ｅａｃｈｂｒ．ｓ），４．０２（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２６〜４．３７（２Ｈ，ｍ），６．８７（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
化合物VI−１０（Ｅ/Ｚ異性体混合物）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１６〜１．２４（３Ｈ，ｍ），１．３２〜１．４０（３Ｈ，ｍ），２．２２（６Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），２．５５〜２．８０（２Ｈ，ｍ），３．２３，３．４３（３Ｈ，ｅａｃｈｂｒ．ｓ），４．００（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２７〜４．３８（２Ｈ，ｍ），６．８５（２Ｈ，ｓ）。
化合物VI−１１：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１８（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２９（３Ｈ，ｓ），２．５５（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．８５（１Ｈ，ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．２２（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８８（２Ｈ，ｓ）。
化合物VI−１２（Ｅ/Ｚ異性体混合物）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．１７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３１〜１．４０（３Ｈ，ｍ），１．５７〜１．７４（２Ｈ，ｍ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．５０〜２．７６（６Ｈ，ｍ），３．２２，３．４２（３Ｈ，ｅａｃｈｓ），４．０３，４．０５（２Ｈ，ｅａｃｈｂｒ．ｓ），４．２６〜４．３６（２Ｈ，ｍ），６．８９（２Ｈ，ｓ）。
化合物VI−１３（Ｅ/Ｚ異性体混合物）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１３〜１．２８（１２Ｈ，ｍ），１．３０〜１．４０（３Ｈ，ｍ），２．５０〜２．８０（８Ｈ，ｍ），３．２３，３．４４（３Ｈ，ｅａｃｈｓ），４．０６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２８〜４．３９（２Ｈ，ｍ），６．９１（２Ｈ，ｓ）。
化合物VI−１４（Ｅ/Ｚ異性体混合物）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．０１（３Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．１３〜１．２６（９Ｈ，ｍ），１．３０〜１．４０（３Ｈ，ｍ），１．５６〜１．７３（２Ｈ，ｍ），２．５０〜２．７６（８Ｈ，ｍ），３．２２，３．４２（３Ｈ，ｅａｃｈｓ），４．０３，４．０６（２Ｈ，ｅａｃｈｂｒ．ｓ），４．２６〜４．３７（２Ｈ，ｍ），６．９１（２Ｈ，ｓ）。
化合物VI−１５：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１５〜１．２５（６Ｈ，ｍ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５５〜２．７０（４Ｈ，ｍ），３．３６（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．９９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），７．１５（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）。
化合物VI−１６（Ｅ/Ｚ異性体混合物）：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．０５〜１．２５（９Ｈ，ｍ），１．３２〜１．４０（３Ｈ，ｍ），２．５０〜２．６９（６Ｈ，ｍ），３．２２，３．３８（３Ｈ，ｅａｃｈｓ），４．００（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２６〜４．３６（２Ｈ，ｍ），６．９３〜７．００（１Ｈ，ｍ），７．００〜７．０４（１Ｈ，ｍ），７．０６〜７．１８（１Ｈ，ｍ）。
化合物VI−１７：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２４（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５８（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０３（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８９（２Ｈ，ｓ）。
化合物VI−１８：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：１．１９（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．３２（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．６０（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）。
化合物VI−１９：
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ｐｐｍ：２．２１（６Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），２．２９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．３９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．８５（２Ｈ，ｓ）。
化合物VI−２０：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ｐｐｍ：１．１８（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．３２（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５７（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．９０（２Ｈ，ｓ）。

以下、製剤例を示す。
製剤例１
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−１１０重量％
メトスルフロンメチル１重量％
フェンクロラゾールエチル５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７８重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−２〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２
水和剤
化合物Ｉ−ａ−１２２０重量％
チフェンスルフロンメチル１０重量％
フェンクロラゾールエチル１０重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ４５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１２に代えて、化合物Ｉ−ａ−1〜Ｉ−ａ−１１、Ｉ−ａ−１３〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−１４１０重量％
トリベニュロンメチル１０重量％
フェンクロラゾールエチル５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６９重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１３、Ｉ−ａ−１５〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８の各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４
水和剤
化合物Ｉ−ａ−１６２０重量％
クロルスルフロン１０重量％
フェンクロラゾールエチル５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５０重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１６に代えて、化合物Ｉ−ａ−1〜Ｉ−ａ−１５、Ｉ−ａ−１７〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−１７２０重量％
フロラスラム２重量％
フェンクロラゾールエチル５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１６、Ｉ−ａ−１８〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６
水和剤
化合物Ｉ−ａ−１８６重量％
ブロモキシニルオクタノエート２０重量％
フェンクロラゾールエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５７重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１８に代えて、化合物Ｉ−ａ−1〜Ｉ−ａ−１７、Ｉ−ａ−１９〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例７
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−１９１５重量％
ピラスルホトール５重量％
フェンクロラゾールエチル４重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７０重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１８、Ｉ−ａ−２０〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例８
水和剤
化合物Ｉ−ａ−２０８重量％
ジカンバジメチルアンモニウム２０重量％
フェンクロラゾールエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１９、Ｉ−ａ−２１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例９
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−２１７重量％
フルロキシピルメプチル１４重量％
フェンクロラゾールエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７０重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２０、Ｉ−ａ−２２〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１０
水和剤
化合物Ｉ−ａ−２２２重量％
２，４−Ｄジメチルアンモニウム２０重量％
フェンクロラゾールエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６１重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２１、Ｉ−ａ−２３〜Ｉ−ａ−３０，及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１１
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−２５７重量％
クロピラリド７重量％
フェンクロラゾールエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２４、Ｉ−ａ−２６〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１２
水和剤
化合物Ｉ−ａ−２７１５重量％
メトスルフロンメチル３重量％
クロキントセットメキシル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２６、Ｉ−ａ−２８〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１３
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−２９１０重量％
チフェンスルフロンメチル５重量％
クロキントセットメキシル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７６重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２８、Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１４
水和剤
化合物Ｉ−ａ−３０２０重量％
トリベニュロンメチル１０重量％
クロキントセットメキシル５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５０重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−３０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２９、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１５
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−１１０重量％
クロルスルフロン１０重量％
クロキントセットメキシル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７１重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−２〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１６
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−１２１２重量％
フロラスラム６重量％
クロキントセットメキシル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６４重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１１、及び、Ｉ−ｂ−１３〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１７
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−１３３重量％
ブロモキシニルオクタノエート２０重量％
クロキントセットメキシル２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６９重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１２、及び、Ｉ−ｂ−１４〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１８
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−１４１８重量％
ピラスルホトール６重量％
クロキントセットメキシル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５８重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１３、及び、Ｉ−ｂ−１５〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１９
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−１６６重量％
ジカンバジメチルアンモニウム１８重量％
クロキントセットメキシル４重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６６重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１５、及び、Ｉ−ｂ−１７〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２０
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−１８３重量％
フルロキシピルメプチル１２重量％
クロキントセットメキシル１重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６９重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１７、及び、Ｉ−ｂ−１９〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２１
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−２０５重量％
２，４−Ｄジメチルアンモニウム２０重量％
クロキントセットメキシル２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１９、及び、Ｉ−ｂ−２１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２２
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２１１０重量％
クロピラリド２０重量％
クロキントセットメキシル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５２重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２０、及び、Ｉ−ｂ−２２〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２３
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−２２１０重量％
メトスルフロンメチル７重量％
メフェンピルジエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７４重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２１、及び、Ｉ−ｂ−２３〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２４
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２３１０重量％
チフェンスルフロンメチル１０重量％
メフェンピルジエチル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６２重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２２、及び、Ｉ−ｂ−２４〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２５
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−２４２０重量％
トリベニュロンメチル２重量％
メフェンピルジエチル５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２３、及び、Ｉ−ｂ−２５〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２６
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２５１０重量％
クロルスルフロン３重量％
メフェンピルジエチル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６９重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２４、及び、Ｉ−ｂ−２６〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２７
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−２６２５重量％
フロラスラム２重量％
メフェンピルジエチル４重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６３重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２５、及び、Ｉ−ｂ−２７〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２８
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２８７重量％
ブロモキシニルオクタノエート２１重量％
メフェンピルジエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２７、Ｉ−ｂ−２９〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２９
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−３５１２重量％
ピラスルホトール３重量％
メフェンピルジエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７６重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３４、及び、Ｉ−ｂ−３６〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３０
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−３６５重量％
ジカンバジメチルアンモニウム１０重量％
メフェンピルジエチル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６７重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３５及びＩ−ｂ−３７〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３１
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−３７７重量％
フルロキシピルメプチル２０重量％
メフェンピルジエチル２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６５重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３６、及び、Ｉ−ｂ−３８〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３２
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−３８３重量％
２，４−Ｄジメチルアンモニウム１５重量％
メフェンピルジエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３７、Ｉ−ｂ−３９、及び、Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３３
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−３９５重量％
クロピラリド１０重量％
メフェンピルジエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７６重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３８、及び、Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３４
化合物（Ｉ−ｂ−１）５部と、メトスルフロンメチル１部と、フェンクロラゾールエチル２部と、下記のＣ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土６１部の混合物に加え、十分に攪拌し、混合して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−２〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

Ｃ群：
ＭＣＰ、ＭＣＰＢ、フェノチオール（ｐｈｅｎｏｔｈｉｏｌ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）、
２，３，６−ＴＢＡ、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、アミノピラリド（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）、
ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、クロルトルロン（ｃｈｌｏｒｔｏｌｕｒｏｎ）、イソプロツロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソウロン（ｉｓｏｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、メチルダイムロン（ｍｅｔｈｙｌ−ｄａｉｍｕｒｏｎ）、
アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、アメトリン（ａｍｅｔｏｒｙｎ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、インダジフラム（ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）、
パラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）、
アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、ペンディメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、プロジアミン（ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、
アミプロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、グリホサート（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）、グルホシネート−Ｐ（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ）、ビアラホス（ｂｉａｌａｐｈｏｓ）、
ジアレート（ｄｉ−ａｌｌａｔｅ）、トリアレート（ｔｒｉ−ａｌｌａｔｅ）、ＥＰＴＣ、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、スエップ（ｓｗｅｐ）、クロルプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）、フェニソファム（ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、アシュラム（ａｓｕｌａｍ）、
プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、プロピザミド（ｐｒｏｐｙｚａｍｉｄｅ）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、
アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、ペトキサミド（ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）、
アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、フォメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ）、アクロニフェン（ａｃｌｏｎｉｆｅｎ）、
オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、スルフェントラゾン（ｓｕｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ベンカルバゾン（ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、サフルフェナシル（ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）、
ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、トプラメゾン（ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）、
イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、テンボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、テフリルトリオン（ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎｅ）、ビシクロピロン（ｂｉｃｙｃｌｏｐｙｒｏｎｅ）、
クロジナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップエチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、メタミホップ（ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）、
アロキシジム（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、クレソジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、クロプロキシジム（ｃｌｏｐｒｏｘｙｄｉｍ）、シクロキシジム（ｃｙｃｌｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、プロフォキシジム（ｐｒｏｆｏｘｙｄｉｍ）、
スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アミドスルフロン（ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロンメチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、フォラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メソスルフロンメチル（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフロキシスルフロン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オルソスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ），フルセトスルフロン（ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プロピリスルフロン（ｐｒｏｐｙｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メタゾスルフロン（ｍｅｔａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、
イマザメタベンズメチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザメタピル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｐｙｒ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）、
フルメトスラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ペノキススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）、ピロキススラム（ｐｙｒｏｘｓｕｌａｍ）、
ピリチオバックナトリウム（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビスピリバックナトリウム（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、ピリミスルファン（ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）、
ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎ）、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）、クロルチアミド（ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）、ジノセブ（ｄｉｎｏｓｅｂ）、アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌｅ）、シンメチリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、トリジファン（ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、ダラポン（ｄａｌａｐｏｎ）、ジフルフェンゾピルナトリウム（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、フルカルバゾンナトリウム（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロポキシカルバゾンナトリウム（ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、ＡＣＮ、ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、クロリダゾン（ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ピコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）、ピノキサデン（ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）、ピラクロニル（ｐｙｒａｃｌｏｎｉｌ）、ピロキサスルホン（ｐｙｒｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、チエンカルバゾンメチル（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、アミノシクロピラクロール（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）、イプフェンカルバゾン（ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、メチオゾリン（ｍｅｔｈｉｏｚｏｌｉｎ）、フェノキサスルホン（ｆｅｎｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、
フリラゾール（ｆｕｒｉｌａｚｏｌｅ）、ジクロルミッド（ｄｉｃｈｌｏｒｍｉｄ）、ベノキサコール（ｂｅｎｏｘａｃｏｒ）、アリドクロール（ａｌｌｉｄｏｃｈｌｏｒ）、イソキサジフェンエチル（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、フェンクロリム（ｆｅｎｃｌｏｒｉｍ）、シプロスルファミド（ｃｙｐｒｏｓｕｌｆａｍｉｄｅ）、シオメトリニル（ｃｙｏｍｅｔｒｉｎｉｌ）、オキサベトリニル（ｏｘａｂｅｔｒｉｎｉｌ）、フルクソフェニム（ｆｌｕｘｏｆｅｎｉｍ）、フルラゾール（ｆｌｕｒａｚｏｌｅ）、２−ジクロロメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン（２−ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ−２−ｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｄｉｏｘｏｌａｎｅ）、及び１，８−ナフタル酸無水物（１，８−ｎａｐｈｔｈａｌｉｃａｎｈｙｄｒｉｄｅ）からなる群。

製剤例３５
化合物Ｉ−ｂ−１２５部と、チフェンスルフロンメチル５部と、フェンクロラゾールエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７７部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１１、及び、Ｉ−ｂ−１３〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３６
化合物Ｉ−ｂ−１３１０部と、トリベニュロンメチル５部と、フェンクロラゾールエチル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種３部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５３部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１２、及び、Ｉ−ｂ−１４〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３７
化合物Ｉ−ｂ−１４１０部と、クロルスルフロン５部と、フェンクロラゾールエチル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７１部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１３、及び、Ｉ−ｂ−１５〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３８
化合物Ｉ−ｂ−１６６部と、フロラスラム２部と、フェンクロラゾールエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種３部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土６１部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１５、及び、Ｉ−ｂ−１７〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３９
化合物Ｉ−ｂ−１８３部と、ブロモキシニルオクタノエート１５部と、フェンクロラゾールエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６９部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１７、及び、Ｉ−ｂ−１９〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４０
化合物Ｉ−ｂ−２０６部と、ピラスルホトール３部と、フェンクロラゾールエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５８部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１９、及び、Ｉ−ｂ−２１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例４１
化合物Ｉ−ｂ−２１５部と、ジカンバジメチルアンモニウム１０部と、フェンクロラゾールエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７２部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２０、及び、Ｉ−ｂ−２２〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４２
化合物Ｉ−ｂ−２２５部と、フルロキシピルメプチル１０部と、フェンクロラゾールエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５２部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２１、及び、Ｉ−ｂ−２３〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例４３
化合物Ｉ−ｂ−２３５部と、２，４−Ｄジメチルアンモニウム１５部と、フェンクロラゾールエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６７部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２２、及び、Ｉ−ｂ−２４〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４４
化合物Ｉ−ｂ−２４５部と、クロピラリド５部と、フェンクロラゾールエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５７部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２３、及び、Ｉ−ｂ−２５〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例４５
化合物Ｉ−ｂ−２５１０部と、メトスルフロンメチル３部と、クロキントセットメキシル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７４部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２４、及び、Ｉ−ｂ−２６〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４６
化合物Ｉ−ｂ−２６８部と、チフェンスルフロンメチル５部と、クロキントセットメキシル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５４部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２５、及び、Ｉ−ｂ−２７〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例４７
化合物Ｉ−ｂ−２８１２部と、トリベニュロンメチル４部と、クロキントセットメキシル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７０部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２７、及び、Ｉ−ｂ−２９〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４８
化合物Ｉ−ｂ−３５２０部と、クロルスルフロン５部と、クロキントセットメキシル４部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４０部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３４、及び、Ｉ−ｂ−３６〜Ｉ−ｂ−４８の各々の水和剤を得る。

製剤例４９
化合物Ｉ−ｂ−３６１２部と、フロラスラム３部と、クロキントセットメキシル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種１０部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６６部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３５、及び、Ｉ−ｂ−３７〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５０
化合物Ｉ−ｂ−３７５部と、ブロモキシニルオクタノエート１０部と、クロキントセットメキシル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５２部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３６、Ｉ−ｂ−３８〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５１
化合物Ｉ−ｂ−３８１０部と、ピラスルホトール４部と、クロキントセットメキシル４部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種１０部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６６部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３７、Ｉ−ｂ−３９、及び、Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５２
化合物Ｉ−ｂ−３９５部と、ジカンバジメチルアンモニウム５部と、クロキントセットメキシル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５７部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３８、及び、Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５３
化合物Ｉ−ａ−１３部と、フルロキシピルメプチル１０部と、クロキントセットメキシル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７３部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−２〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５４
化合物Ｉ−ａ−１２５部と、２，４−Ｄジメチルアンモニウム１０部と、クロキントセットメキシル５部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４９部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１１、Ｉ−ａ−１３〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５５
化合物Ｉ−ａ−１４５部と、クロピラリド２０部と、クロキントセットメキシル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６２部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１３、Ｉ−ａ−１５〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５６
化合物Ｉ−ａ−１６１０部と、メトスルフロンメチル２部と、メフェンピルジエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種１０部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５０部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１５、Ｉ−ａ−１７〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５７
化合物Ｉ−ａ−１７１０部と、チフェンスルフロンメチル８部と、メフェンピルジエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種１０部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６４部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１６、Ｉ−ａ−１８〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５８
化合物Ｉ−ａ−１８１０部と、トリベニュロンメチル７部と、メフェンピルジエチル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４９部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１７、Ｉ−ａ−１９〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５９
化合物Ｉ−ａ−１９１２部と、クロルスルフロン４部と、メフェンピルジエチル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種３部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７２部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１８、Ｉ−ａ−２０〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６０
化合物Ｉ−ａ−２０２０部と、フロラスラム２部と、メフェンピルジエチル４部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４３部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１９、Ｉ−ａ−２１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例６１
化合物Ｉ−ａ−２１６部と、ブロモキシニルオクタノエート１５部と、メフェンピルジエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６６部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２０、Ｉ−ａ−２２〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６２
化合物Ｉ−ａ−２２１０部と、ピラスルホトール４部と、メフェンピルジエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５３部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２１、Ｉ−ａ−２３〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例６３
化合物Ｉ−ａ−２５５部と、ジカンバジメチルアンモニウム１５部と、メフェンピルジエチル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６６部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２４、Ｉ−ａ−２６〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６４
化合物Ｉ−ａ−２７３部と、フルロキシピルメプチル１０部と、メフェンピルジエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５４部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２６、Ｉ−ａ−２８〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例６５
化合物Ｉ−ａ−２９２部と、２，４−Ｄジメチルアンモニウム２０部と、メフェンピルジエチル２部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６５部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２８、Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６６
化合物Ｉ−ａ−３０８部と、クロピラリド１５部と、メフェンピルジエチル３部と、Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４３部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−３０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２９、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４８を用いて各々の水和剤を得る。

以下、試験例を示す。
試験例１
直径８ｃｍ、深さ６．５ｃｍのプラスチックカップに土を充填し、これにコムギ（Ｔｒｉｔｉｃｕｍａｅｓｔｉｖｕｍ）と、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、ネズミムギ（Ｌｏｌｉｕｍｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｖｉｒｉｄｉｓ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓａｒｖｅｎｓｉｓ）、及び、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａｍｅｄｉａ）から選ばれる１種以上の試験植物とを播種した。これを温室内でコムギが２〜３葉期まで生育するまで置いた。その後、本化合物と、Ａ群から選ばれる１つの化合物と、Ｂ群から選ばれる１つの化合物とを所定量含む薬剤希釈液を植物体全体に均一に散布した。薬剤希釈液は夫々の化合物の所定量をトゥイーン２０（ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ＭＰバイオメディカルズ・インク製）のジメチルホルムアミド溶液（２％）に溶解し、水で希釈したものを混合することにより調製した。薬剤処理後、植物を温室内に２１日間置いた。効果を０（無作用）〜１００（完全枯死）の１０１段階で評価した。
結果を表７〜表５８に示す。

本発明除草用組成物は、雑草防除に有用である。

Claims

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メトスルフロンメチル、
チフェンスルフロンメチル、
トリベニュロンメチル、
クロルスルフロン、
フロラスラム、
ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
ピラスルホトール、
ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル、
２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、及び
クロピラリドまたは農業上許容されるその塩からなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、ｎが１以上の整数の化合物である請求項１記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、ｎが０であり、Ｚ¹がＣ_2-6アルキル基の化合物である請求項１記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、ｎが１又は２であり、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位の化合物である請求項１記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｚ¹ がＣ_1-3アルキル基であり、Ｚ² がＣ_1-3アルキル基の化合物である請求項１、２又は４記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^3bはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^4bはＣ_1-6アルキル基又はＣ_6-10アリール基を表し、
Ｒ^5b及びＲ^6bは同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基又はＣ_1-6アルキルチオ基を表す。
但し、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bで表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。〕
の化合物である請求項１〜５いずれか一項記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^3aはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^4aはＣ_1-6アルキル基を表す。
但し、Ｒ^3a及びＲ^4aで表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基及びＣ_6-10アリール基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。〕
の化合物である請求項１〜５いずれか一項記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基の化合物である請求項１〜７いずれか一項記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｒ²が水素又はメチル基の化合物である請求項１〜７いずれか一項記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジン化合物が、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基の化合物である請求項１〜９いずれか一項記載の除草用組成物。
式（I）で示されるピリダジノン化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の有効量を雑草又は雑草の生育する土壌に施用する工程を含む雑草の防除方法。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メトスルフロンメチル、
チフェンスルフロンメチル、
トリベニュロンメチル、
クロルスルフロン、
フロラスラム、
ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
ピラスルホトール、
ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル、
２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、及び
クロピラリドまたは農業上許容されるその塩からなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
雑草防除のための、式（I）で示される化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物を含有する組成物の使用。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕［Ａ群］
メトスルフロンメチル、
チフェンスルフロンメチル、
トリベニュロンメチル、
クロルスルフロン、
フロラスラム、
ブロモキシニルまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
ピラスルホトール、
ジカンバまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、
フルロキシピルまたは農業上許容されるそのエステル、
２，４−Ｄまたは農業上許容されるそのエステルもしくは塩、及び
クロピラリドまたは農業上許容されるその塩からなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。