JP2013155125A

JP2013155125A - 除草用組成物

Info

Publication number: JP2013155125A
Application number: JP2012016242A
Authority: JP
Inventors: Yoshinobu Jin; 義信神; Seiji Yamato; 誠司大和
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2012-01-30
Filing date: 2012-01-30
Publication date: 2013-08-15

Abstract

【課題】優れた雑草防除効果を有する除草用組成物を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩、スルホスルフロン、トラルコキシジム等から選ばれる少なくとも１個の化合物と、フェンクロラゾールエチル、クロキントセットメキシル、メフェンピルジエチルから選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物。

〔式中、Ｒ¹はＣ1-6アルキル基又は（Ｃ1-6アルキルオキシ）Ｃ1-6アルキル基を表し、Ｒ²は水素原子又はＣ1-6アルキル基を表し、Ｚ¹はＣ1-6アルキル基を表し、Ｚ²はＣ1-6アルキル基を表し、ｎは０、１、２、３又は４を表し、Ｇは水素原子等を表す。〕
【選択図】なし

Description

本発明は、除草用組成物等に関する。

現在、数多くの除草剤が使用されているが、防除の対象となる雑草は種類も多く、発生も長期間にわたる。このため、優れた雑草防除効果を有する除草用組成物が求められている。

特開２００８−１３３２５２号公報

ペスティサイドマニュアル（ＴｈｅＰｅｓｔｉｃｉｄｅＭａｎｕａｌ）ＦｏｕｒｔｅｅｎｔｈＥｄｉｔｉｏｎ（２００６）、ＢｒｉｔｉｓｈＣｒｏｐＰｒｏｔｅｃｔｉｏｎＣｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：１−９０１３９６−１４−２）

本発明は、優れた雑草防除効果を有する除草用組成物を提供することを課題とする。

本発明者らは優れた雑草防除効果を有する除草用組成物を見出すべく検討の結果、下記式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物を、ある特定の化合物とともに用いた除草用組成物が優れた雑草防除効果を有することを見出し、本発明に至った。

すなわち、本発明は以下の通りである。
［１］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物（以下、本化合物と記す場合がある。）と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物（以下、本発明除草用組成物と記す。）。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル（Ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、
ピロキススラム（Ｐｙｒｏｘｓｕｌａｍ）、
フルカルバゾンナトリウム塩（Ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩（Ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、
スルホスルフロン（Ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、
イマザメタベンズメチル（Ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、
イマザモックスアンモニウム塩（Ｉｍａｚａｍｏｘ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、
グリホサートの農学的に許容される塩（Ａｇｒｏｎｏｍｉｃａｌｌｙ−ａｃｃｅｐｔａｂｌｅｓａｌｔｏｆＧｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、
トリフルラリン（Ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、
トリアレート（Ｔｒｉ−ａｌｌａｔｅ）、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル（Ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−Ｐ−ｅｔｈｙｌ）、
トラルコキシジム（Ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、及び
ジクロホップメチル（Ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）からなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル（Ｆｅｎｃｈｌｏｒａｚｏｌｅ−ｅｔｈｙｌ）、
クロキントセットメキシル（Ｃｌｏｑｕｉｎｔｏｃｅｔ−ｍｅｘｙｌ）、及び
メフェンピルジエチル（Ｍｅｆｅｎｐｙｒ−ｄｉｅｔｈｙｌ）からなる群。

［２］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物。

で表される基、式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基を表す。
但し、Ｒ³及びＲ⁴で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基及びＣ_6-10アリール基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１又は２を表し、ｎが２の場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。

［３］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは２を表し、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及び２個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。

［４］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位の化合物である［１］又は［２］記載の除草用組成物。

［５］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｚ¹がＣ_1-3アルキル基であり、Ｚ²がＣ_1-3アルキル基の化合物である［１］〜［４］いずれか一項記載の除草用組成物。

［６］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基又はエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基の化合物である［１］〜［５］いずれか一項記載の除草用組成物。

［７］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基であり、Ｒ²がＣ_1-3アルキル基の化合物である［１］〜［６］いずれか一項記載の除草用組成物。

［８］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｒ¹及びＲ²がメチル基の化合物である［１］〜［７］いずれか一項記載の除草用組成物。

［９］Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、メソスルフロンメチル、ピロキススラム、フルカルバゾンナトリウム塩、プロポキシカルバゾンナトリウム塩又はスルホスルフロンである［１］〜［８］いずれか一項記載の除草用組成物。

［１０］Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、トラルコキジム又はジクロホップメチルである［１］〜［８］いずれか一項記載の除草用組成物。

［１１］Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、メソスルフロンメチル、ピロキススラム、フルカルバゾンナトリウム塩又はプロポキシカルバゾンナトリウム塩であり、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、クロキントセットメキシル又はメフェンピルジエチルである［１］〜［７］いずれか一項記載の除草用組成物。

［１２］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、メソスルフロンメチル、ピロキススラム、フルカルバゾンナトリウム塩又はプロポキシカルバゾンナトリウム塩であり、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、クロキントセットメキシル又はメフェンピルジエチルである除草用組成物。

［１３］式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、メソスルフロンメチル、ピロキススラム、フルカルバゾンナトリウム塩又はプロポキシカルバゾンナトリウム塩であり、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、クロキントセットメキシル又はメフェンピルジエチルである除草用組成物。

［１４］式（I）で示されるピリダジノン化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の有効量を雑草又は雑草の生育する土壌に施用する工程を含む雑草の防除方法。

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。

［１５］式（I）で示されるピリダジノン化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の有効量を雑草又は雑草の生育する土壌に施用する工程を含む雑草の防除方法。

〔式中、Ｒ¹はメチル基を表し、
Ｒ²は水素又はメチル基を表し、
Ｇは水素を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。

［１６］施用する場所が、コムギ、オオムギ、又はデュラムコムギが生育する農耕地である［１４］又は［１５］に記載の雑草の防除方法。
［１７］雑草防除のための、式（I）で示される化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物を含有する組成物の使用。

で表される基、式

で表される基、又は式

本発明除草用組成物は、化合物単独で使用する場合と比べて相乗的な雑草防除効果が得られる。

本発明において、グリホサートの農学的に許容される塩としては、例えばグリホサートアンモニウム塩、グリホサートイソプロピルアミン塩、グリホサートカリウム塩、又はグリホサートトリメシウム塩などが挙げられる。

本発明除草用組成物としては、例えば以下のものが挙げられる。
本化合物と、メソスルフロンメチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、メソスルフロンメチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、メソスルフロンメチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ピロキススラムと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ピロキススラムと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ピロキススラムと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

本化合物と、スルホスルフロンと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、スルホスルフロンと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、スルホスルフロンと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、イマザメタベンズメチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、イマザメタベンズメチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、イマザメタベンズメチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、イマザモックスアンモニウム塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、イマザモックスアンモニウム塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、イマザモックスアンモニウム塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

本化合物と、グリホサートの農学的に許容される塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、グリホサートの農学的に許容される塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、グリホサートの農学的に許容される塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

本化合物と、トリフルラリンと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トリフルラリンと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トリフルラリンと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トリアレートと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トリアレートと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トリアレートと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フェノキサプロップ−Ｐ−エチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フェノキサプロップ−Ｐ−エチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、フェノキサプロップ−Ｐ−エチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トラルコキシジムと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トラルコキシジムと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、トラルコキシジムと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ジクロホップメチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ジクロホップメチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
本化合物と、ジクロホップメチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、メソスルフロンメチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、メソスルフロンメチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、メソスルフロンメチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、ピロキススラムと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、ピロキススラムと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、ピロキススラムと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、スルホスルフロンと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、スルホスルフロンと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、スルホスルフロンと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、トラルコキシジムと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、トラルコキシジムと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、トラルコキシジムと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、メソスルフロンメチルと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、メソスルフロンメチルと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、メソスルフロンメチルと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、ピロキススラムと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、ピロキススラムと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、ピロキススラムと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、フルカルバゾンナトリウム塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩と、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、スルホスルフロンと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、スルホスルフロンと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、スルホスルフロンと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、トラルコキシジムと、フェンクロラゾールエチルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、トラルコキシジムと、クロキントセットメキシルとを含有する除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物と、トラルコキシジムと、メフェンピルジエチルとを含有する除草用組成物。

本化合物の置換基において、
Ｃ_1-6アルキル基とは、炭素数１〜６のアルキル基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソへキシル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_3-8シクロアルキル基とは、炭素数３〜８のシクロアルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルケニル基とは、炭素数２〜６のアルケニル基を意味し、例えば、アリル基、１−ブテン−３−イル基、３−ブテン−１−イル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルキニル基とは、炭素数２〜６のアルキニル基を意味し、例えば、プロパルギル基、２−ブチニル基等が挙げられる。
Ｃ_6-10アリール基とは，炭素数６〜１０のアリール基を意味し、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基とは、Ｃ_6-10アリール基で置換されたＣ_1-6アルキル基を意味し、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_1-6アルキルオキシ基とは、炭素数１〜６のアルキルオキシ基を意味し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基とは、炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基を意味し、例えば、シクロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基とは、炭素数２〜６のアルケニルオキシ基を意味し、例えば、ビニルオキシ基、アリルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基とは、炭素数２〜６のアルキニルオキシ基を意味し、例えば、プロパルギルオキシ基、２−ブチニルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_6-10アリールオキシ基とは、炭素数６〜１０のアリールオキシ基を意味し、例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基とは、Ｃ_6-10アリール基で置換されたＣ_1-6アルキルオキシ基を意味し、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_1-6アルキルアミノ基とは、炭素数１〜６のアルキルアミノ基を意味し、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基とは、炭素数２〜６のアルケニルアミノ基を意味し、例えば、アリルアミノ基、３−ブテニルアミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_6-10アリールアミノ基とは、炭素数６〜１０のアリールアミノ基を意味し、例えば、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基とは、２つの同一又は異なったＣ_1-6アルキル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基等が挙げられる。
ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基とは、２つの同一又は異なったＣ_2-6アルケニル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、ジアリルアミノ基、ジ（３−ブテニル）アミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基とは、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_6-10アリール基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、メチルフェニルアミノ基、エチルフェニルアミノ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、Ｃ_1-6アルキルチオ基とは、炭素数１〜６のアルキルチオ基を意味し、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基とは、Ｃ_1-6アルキルオキシ基で置換されたＣ_1-6アルキル基を意味し、例えば、メトキシエチル基、エトキシエチル基等が挙げられる。
本化合物の置換基において、３〜８員の含窒素複素環基とは、１〜３個の窒素を含み、更に１〜３個の酸素及び／又はイオウを含んでいてもよく、芳香族又は脂環式の３〜８員の複素環基を意味し、例えば、１−ピラゾリル基、２−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−チアゾリル基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基等が挙げられる。

また、本化合物には式（Ｉ）で示される化合物の農業上許容される塩も包含される。

本化合物の態様としては、例えば、以下に示される態様が挙げられる。
式（Ｉ）において、ｎが１以上の整数であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、ｎが０であり、Ｚ¹がＣ_2-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、ｎが１又は２であり、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3bはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^4bはＣ_1-6アルキル基又はＣ_6-10アリール基を表し、
Ｒ^5b及びＲ^6bは同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基又はＣ_1-6アルキルチオ基を表す。
但し、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bで表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3aはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^4aはＣ_1-6アルキル基を表す。
但し、Ｒ^3a及びＲ^4aで表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基及びＣ_6-10アリール基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はメチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｚ¹ がＣ_1-3アルキル基であり、Ｚ² がＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。

式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であるピリダジノン化合物。

式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3a及びＲ^4aは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。

式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^3b、Ｒ^4b、Ｒ^5b及びＲ^6bは前記と同じ意味を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
ｎが０、１又は２の整数を表し、ｎが２を表す場合、２つのＺ²は同一又は異なっていてもよく、ｎが１又は２を表す場合、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ¹がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｚ²がＣ_1-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基又は（Ｃ_1-3アルキルオキシ）Ｃ_1-3アルキル基であり、Ｒ²が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

式（Ｉ−１）

において、Ｒ^2-1が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇ¹が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_1-3アルキルカルボニル基、Ｃ_1-4アルコキシカルボニル基、Ｃ_2-4アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_6-10アリールカルボニル基であり、
Ｚ^1-1がＣ_1-3アルキル基であり、
Ｚ^2-1-1がＣ_1-3アルキル基であり、
Ｚ^2-1-2が水素又はＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）において、Ｒ^2-1が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ¹が水素、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^1-1がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^2-1-1がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^2-1-2が水素、メチル基又はエチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−２）

において、Ｒ^2-2が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、Ｇ²が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_1-3アルキルカルボニル基又はＣ_1-4アルコキシカルボニル基、Ｃ_2-4アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_6-10アリールカルボニル基であり、
Ｚ^2-2-1が水素又はＣ_1-3アルキル基であり、
Ｚ^2-2-2が水素又はＣ_1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−２）において、Ｒ^2-2が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ²が水素、アセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^2-2-1が水素、メチル基又はエチル基であり、
Ｚ^2-2-2が水素、メチル基又はエチル基であるピリダジノン化合物。

本発明除草用組成物は、耕起栽培又は不耕起栽培が行われる農作物畑、樹園地において、広範囲の雑草を防除することができる。また、本発明除草用組成物は、非農耕地で使用することもできる。

本発明除草用組成物の防除対象としては、例えば次のものが挙げられる。
メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａｃｉｌｉａｒｉｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅｉｎｄｉｃａ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔｅｒｉａｆａｂｅｒｉ）、キンエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｇｌａｕｃａ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、テキサスパニカム（Ｐａｎｉｃｕｍｔｅｘａｎｕｍ）、メリケンニクキビ（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａｐｌａｔｙｐｈｙｌｌａ）、アレキサンダーグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａｐｌａｎｔａｇｉｎｅａ）、スリナムグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａｄｅｃｕｍｂｅｎｓ）、セイバンモロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、シャッターケーン（Ａｎｄｒｏｐｏｇｏｎｓｏｒｇｈｕｍ）、ギョウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎｄａｃｔｙｌｏｎ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａｆａｔｕａ）、ネズミムギ（Ｌｏｌｉｕｍｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、ウマノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓｔｅｃｔｏｒｕｍ）、アレチノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓｓｔｅｒｉｌｉｓ）、ヒメカナリークサヨシ（Ｐｈａｌａｒｉｓｍｉｎｏｒ）、セイヨウヌカボ（Ａｐｅｒａｓｐｉｃａ−ｖｅｎｔｉ）、スズメノカタビラ（Ｐｏａａｎｎｕａ）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎｒｅｐｅｎｓ）、コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｉｒｉａ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）、スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａｏｌｅｒａｃｅａ）、アオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）、ホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｈｙｂｒｉｄｕｓ）、オオホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｐａｌｍｅｒｉ）、ウォーターヘンプ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｒｕｄｉｓ）、イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａｓｐｉｎｏｓａ）、ソバカズラ（Ｆａｌｌｏｐｉａｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、サナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｓｃａｂｒｕｍ）、アメリカサナエタデ（Ｐｅｒｓｉｃａｒｉａｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉｃａ）、ハルタデ（Ｐｅｒｓｉｃａｒｉａｖｕｌｇａｒｉｓ）、ナガバギシギシ（Ｒｕｍｅｘｃｒｉｓｐｕｓ）、エゾノギシギシ（Ｒｕｍｅｘｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉｕｓ）、イタドリ（Ｆａｌｌｏｐｉａｊａｐｏｎｉｃａ）、シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍａｌｂｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａｓｃｏｐａｒｉａ）、イヌタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｌｏｎｇｉｓｅｔｕｍ）、イヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍｎｉｇｒｕｍ）、シロバナチョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｐｕｒｐｕｒｅａ）、アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｈｅｄｅｒａｃｅａｖａｒ．ｉｎｔｅｇｒｉｕｓｃｕｌａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｌａｃｕｎｏｓａ）、セイヨウヒルガオ（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓａｒｖｅｎｓｉｓ）、ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）、オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、野生ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓａｎｎｕｕｓ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａｐｅｒｆｏｒａｔａｏｒｉｎｏｄｏｒａ）、カミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａｃｈａｍｏｍｉｌｌａ）、コーンマリーゴールド（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍｓｅｇｅｔｕｍ）、オロシャギク（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａｍａｔｒｉｃａｒｉｏｉｄｅｓ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａａｒｔｅｍｉｓｉｉｆｏｌｉａ）、オオブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａｔｒｉｆｉｄａ）、ヒメムカシヨモギ（Ｅｒｉｇｅｒｏｎｃａｎａｄｅｎｓｉｓ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａｐｒｉｎｃｅｐｓ）、セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏａｌｔｉｓｓｉｍａ）、アレチノギク（Ｃｏｎｙｚａｂｏｎａｒｉｅｎｓｉｓ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）、フロリダベガーウィード（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍｔｏｒｔｕｏｓｕｍ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍｒｅｐｅｎｓ）、クズ（Ｐｕｅｒａｒｉａｌｏｂａｔａ）、カラスノエンドウ（Ｖｉｃｉａａｎｇｕｓｔｉｆｏｌｉａ）、ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｏｍｍｕｎｉｓ）、マルバツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｂｅｎｇｈａｌｅｎｓｉｓ）、ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍａｐａｒｉｎｅ）、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａｍｅｄｉａ）、ワイルドラディッシュ（Ｒａｐｈａｎｕｓｒａｐｈａｎｉｓｔｒｕｍ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）、オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａｐｅｒｓｉｃａ）、フラサバソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａｈｅｄｅｒｉｆｏｌｉａ）、フィールドパンジー（Ｖｉｏｌａａｒｖｅｎｓｉｓ）、ワイルドパンジー（Ｖｉｏｌａｔｒｉｃｏｌｏｒ）、ヒナゲシ（Ｐａｐａｖｅｒｒｈｏｅａｓ）、ワスレナグサ（Ｍｙｏｓｏｔｉｓｓｃｏｒｐｉｏｉｄｅｓ）、オオトウワタ（Ａｓｃｌｅｐｉａｓｓｙｒｉａｃａ）、トウダイグサ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｈｅｌｉｏｓｃｏｐｉａ）、オオニシキソウ（Ｃｈａｍａｅｓｙｃｅｎｕｔａｎｓ）、アメリカフウロ（Ｇｅｒａｎｉｕｍｃａｒｏｌｉｎｉａｎｕｍ）、オランダフウロ（Ｅｒｏｄｉｕｍｃｉｃｕｔａｒｉｕｍ）、スギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍａｒｖｅｎｓｅ）、アシカキ（Ｌｅｅｒｓｉａｊａｐｏｎｉｃａ）、タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｏｒｙｚｉｃｏｌａ）、ヒメタイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉｖａｒ．ｆｏｒｍｏｓｅｎｓｉｓ）、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａｃｈｉｎｅｎｉｓｉｓ）、タマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、ヒデリコ（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓｍｉｌｉａｃｅａ）、マツバイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓａｃｉｃｕｌａｒｉｓ）、イヌホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、タイワンヤマイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｗａｌｌｉｃｈｉｉ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓｋｕｒｏｇｕｗａｉ）、コウキヤガラ（Ｂｏｌｂｏｓｃｈｏｅｎｕｓｋｏｓｈｅｖｎｉｋｏｖｉｉ）、シズイ（Ｓｃｈｏｅｎｏｐｌｅｃｔｕｓｎｉｐｐｏｎｉｃｕｓ）、コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎａｌｉｓ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）、アブノメ（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍｊｕｎｃｅｕｍ）、キカシグサ（Ｒｏｔａｌａｉｎｄｉｃａ）、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）、ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅｔｒｉａｎｄｒａ）、チョウジタデ（Ｌｕｄｗｉｇｉａｅｐｉｌｏｂｉｏｉｄｅｓ）、ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａ）、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、オモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｔｒｉｆｏｌｉａ）、ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）、セリ（Ｏｅｎａｎｔｈｅｊａｖａｎｉｃａ）、ミズハコベ（Ｃａｌｌｉｔｒｉｃｈｅｐａｌｕｓｔｒｉｓ）、アゼトウガラシ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｍｉｃｒａｎｔｈａ）、アメリカアゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｄｕｂｉａ）、タカサブロウ（Ｅｃｌｉｐｔａｐｒｏｓｔｒａｔａ）、イボクサ（Ｍｕｒｄａｎｎｉａｋｅｉｓａｋ）、キシュウスズメノヒエ（Ｐａｓｐａｌｕｍｄｉｓｔｉｃｈｕｍ）、エゾノサヤヌカグサ（Ｌｅｅｒｓｉａｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）等の雑草。ナガエツルノゲイトウ（Ａｌｔｅｒｎａｎｔｈｅｒａｐｈｉｌｏｘｅｒｏｉｄｅｓ）、フロッグスビット（Ｌｉｍｎｏｂｉｕｍｓｐｏｎｇｉａ）、ウォーターファーン（Ｓａｌｖｉｎｉａ属）、ボタンウキクサ（Ｐｉｓｔｉａｓｔｒａｔｉｏｔｅｓ）、ウォーターペニーウォート（Ｈｙｄｒｏｃｏｔｙｌｅ属）、糸状藻類（Ｐｉｔｈｏｐｈｏｒａ属、Ｃｌａｄｏｐｈｏｒａ属）、クーンテイル（Ｃｅｒａｔｏｐｈｙｌｌｕｍｄｅｍｅｒｓｕｍ）、ウキクサ（Ｌｅｍｎａ属）、ハゴロモモ（Ｃａｂｏｍｂａｃａｒｏｌｉｎｉａｎａ）、クロモ（Ｈｙｄｒｉｌｌａｖｅｒｔｉｃｉｌｌａｔａ）、サザンネイアド（Ｎａｊａｓｇｕａｄａｌｕｐｅｎｓｉｓ）、ポンドウィード類（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｃｒｉｓｐｕｓ、Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｉｌｌｉｎｏｅｎｓｉｓ、Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎｐｅｃｔｉｎａｔｕｓ等）、ウォーターミール（Ｗｏｌｆｆｉａ属）、ウォーターミルフォイル類（Ｍｙｒｉｏｐｈｙｌｌｕｍｓｐｉｃａｔｕｍ、Ｍｙｒｉｏｐｈｙｌｌｕｍｈｅｔｅｒｏｐｈｙｌｌｕｍ等）、ホテイアオイ（Ｅｉｃｈｈｏｒｎｉａｃｒａｓｓｉｐｅｓ）等の水生植物。蘚類、苔類、ツノゴケ類。シアノバクテリア。シダ類。永年性作物（仁果類、石果類、液果類、堅果類、カンキツ類、ホップ、ブドウ等）の吸枝（ｓｕｃｋｅｒ）。

本発明除草用組成物は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地又は非農耕地用における除草剤、落葉剤、乾燥剤として使用することができる。本発明除草用組成物は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の雑草を防除することができる場合がある。
農作物：トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等。
野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス等）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。
果樹：仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。
果樹以外の樹木：チャ、クワ、花木類（サツキ、ツバキ、アジサイ、サザンカ、シキミ、サクラ、ユリノキ、サルスベリ、キンモクセイ等）、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等）、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ、カナメモチ、等。
その他：花卉類（バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、シンビジューム、ベゴニア等）、バイオ燃料植物（ヤトロファ、ベニバナ、アマナズナ類、スイッチグラス、ミスカンサス、クサヨシ、ダンチク、ケナフ、キャッサバ、ヤナギ、藻類等）、観葉植物等。

本発明除草用組成物は、上記「作物」のうち、特に好ましくはコムギ、オオムギ又はデュラムコムギが生育する農耕地に施用する場合、当該農耕地の雑草を防除することができる場合がある。

上記「作物」には、育種や遺伝子組み換え技術により、除草剤に耐性となった作物も含まれる。

本発明除草用組成物は、本化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物を含有する。本発明除草用組成物は、通常さらに不活性担体；及び界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。本発明除草用組成物には本化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の合計の重量比で通常０．１〜８０％含有される。

不活性担体としては、固体担体、液体担体及びガス担体が挙げられる。
固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）等が挙げられる。

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。

その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。

本発明除草用組成物の製剤を水等で希釈した溶液を散布する際には、その散布液に補助剤（ａｄｊｕｖａｎｔ）を添加しても良い。添加できる補助剤としては、例えば、界面活性剤（脂肪酸アルキルエステル、アルキルポリオキシエチレンエーテル等の非イオン系界面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩等のイオン系界面活性剤）、ｃｒｏｐｏｉｌ、ｖｅｇｅｔａｔｉｖｅｏｉｌ、ｃｒｏｐｏｉｌｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ、ｍｅｔｈｙｌａｔｅｄｓｅｅｄｏｉｌ、有機シリコン系展着剤、液肥（硫酸アンモニウム、ｕｒｅａａｍｍｏｎｉｕｍｎｉｔｒａｔｅ等）等が挙げられる。これらの補助剤は、単独で用いられてもよく、あるいは、２種以上を組み合わせて用いても良い。

本発明の雑草の防除方法は、本化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の有効量を雑草又は雑草が生育する土壌に施用する工程を含むものである。本発明の雑草の防除方法には、通常、本発明除草用組成物が用いられる。本発明除草用組成物の施用方法としては、例えば本発明除草用組成物を雑草に茎葉処理する方法、本発明除草用組成物を雑草が生育する土壌表面に処理する方法、及び本発明除草用組成物を雑草が生育する土壌に混和処理する方法が挙げられる。本発明の雑草の防除方法には、雑草を防除する面積１００００ｍ²あたりＡ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の合計量で、通常１〜５０００ｇ、好ましくは１０〜３０００ｇ用いられる。

本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がメソスルフロンメチルの場合、本化合物とメソスルフロンメチルとの混合割合は、重量比で、１：０．００２〜１：６、好ましくは１：０．０１〜１：３の範囲である。
本発明除草用組成物において、Ａ群から選ばれる化合物がピロキススラムの場合、本化合物とピロキススラムとの混合割合は、重量比で、１：０．００２〜１：６、好ましくは１：０．０１〜１：３の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がフルカルバゾンナトリウム塩の場合、本化合物とフルカルバゾンナトリウム塩との混合割合は、重量比で、１：０．００４〜１：１０、好ましくは１：０．０１〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がプロポキシカルバゾンナトリウム塩の場合、本化合物とプロポキシカルバゾンナトリウム塩との混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：４０、好ましくは１：０．０３〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がスルホスルフロンの場合、本化合物とスルホスルフロンとの混合割合は、重量比で、１：０．００６〜１：２０、好ましくは１：０．０１〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がイマザメタベンズメチルの場合、本化合物とイマザメタベンズメチルとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：１００の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がイマザモックスアンモニウム塩の場合、本化合物とイマザモックスアンモニウム塩との混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：４０、好ましくは１：０．０２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がトリフルラリンの場合、本化合物とトリフルラリンとの混合割合は、重量比で、１：０．２〜１：６００、好ましくは１：０．４〜１：２００の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がトリアレートの場合、本化合物とトリアレートとの混合割合は、重量比で、１：０．５〜１：１０００、好ましくは１：１〜１：５００の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がフェノキサプロップ−Ｐ−エチルの場合、本化合物とフェノキサプロップ−Ｐ−エチルとの混合割合は、重量比で、１：０．０２〜１：６０、好ましくは１：０．０５〜１：４０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がトラルコキシジムの場合、本化合物とトラルコキシジムとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：１００の範囲である。
本発明除草用組成物においてＡ群から選ばれる化合物がジクロホップメチルの場合、本化合物とジクロホップメチルとの混合割合は、重量比で、１：０．０４〜１：１００、好ましくは１：０．１〜１：５０の範囲である。
本発明除草用組成物においてＢ群から選ばれる化合物がフェンクロラゾールエチルの場合、本化合物とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：１の範囲である。
本発明除草用組成物においてＢ群から選ばれる化合物がクロキントセットメキシルの場合、本化合物とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：１の範囲である。
本発明除草用組成物においてＢ群から選ばれる化合物がメフェンピルジエチルの場合、本化合物とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、メソスルフロンメチル、及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とメソスルフロンメチルとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００２：０．０１〜１：６：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：３：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、メソスルフロンメチル、及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とメソスルフロンメチルとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００２：０．０１〜１：６：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：３：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、メソスルフロンメチル、及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とメソスルフロンメチルとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００２：０．０１〜１：６：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：３：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、ピロキススラム、及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とピロキススラムとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００２：０．０１〜１：６：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：３：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ピロキススラム、及びクロキントセットメキシルを含有す場合、本化合物とピロキススラムとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００２：０．０１〜１：６：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：３：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ピロキススラム、及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とピロキススラムとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００２：０．０１〜１：６：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：３：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、フルカルバゾンナトリウム塩、及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とフルカルバゾンナトリウム塩とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００４：０．０１〜１：１０：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：５：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、フルカルバゾンナトリウム塩、及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とフルカルバゾンナトリウム塩とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００４：０．０１〜１：１０：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：５：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、フルカルバゾンナトリウム塩、及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とフルカルバゾンナトリウム塩とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００１：０．０１〜１：５０：１０、好ましくは１：０．００４：０．０３〜１：１０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、プロポキシカルバゾンナトリウム塩及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とプロポキシカルバゾンナトリウム塩とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：４０：１０、好ましくは１：０．０３：０．０３〜１：２０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、プロポキシカルバゾンナトリウム塩及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とプロポキシカルバゾンナトリウム塩とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：４０：１０、好ましくは１：０．０３：０．０３〜１：２０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、プロポキシカルバゾンナトリウム塩及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とプロポキシカルバゾンナトリウム塩とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：４０：１０、好ましくは１：０．０３：０．０３〜１：２０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、スルホスルフロン及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とスルホスルフロンとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００６：０．０１〜１：２０：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、スルホスルフロン及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とスルホスルフロンとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００６：０．０１〜１：２０：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、スルホスルフロン及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とスルホスルフロンとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．００６：０．０１〜１：２０：１０、好ましくは１：０．０１：０．０３〜１：１０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、イマザメタベンズメチル及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とイマザメタベンズメチルとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：２００：１０、好ましくは１：０．２：０．０３〜１：１００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、イマザメタベンズメチル及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とイマザメタベンズメチルとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：２００：１０、好ましくは１：０．２：０．０３〜１：１００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、イマザメタベンズメチル及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とイマザメタベンズメチルとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：２００：１０、好ましくは１：０．２：０．０３〜１：１００：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、イマザモックスアンモニウム塩及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とイマザモックスアンモニウム塩とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：４０：１０、好ましくは１：０．０２：０．０３〜１：２０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、イマザモックスアンモニウム塩及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とイマザモックスアンモニウム塩とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：４０：１０、好ましくは１：０．０２：０．０３〜１：２０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、イマザモックスアンモニウム塩及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とイマザモックスアンモニウム塩とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０１：０．０１〜１：４０：１０、好ましくは１：０．０２：０．０３〜１：２０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、グリホサートの農学的に許容される塩及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とグリホサートの農学的に許容される塩とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．６：０．０１〜１：１２００：１０、好ましくは１：１：０．０３〜１：５００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、グリホサートの農学的に許容される塩及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とグリホサートの農学的に許容される塩とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．６：０．０１〜１：１２００：１０、好ましくは１：１：０．０３〜１：５００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、グリホサートの農学的に許容される塩及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とグリホサートの農学的に許容される塩とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．６：０．０１〜１：１２００：１０、好ましくは１：１：０．０３〜１：５００：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、トリフルラリン及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とトリフルラリンとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．２：０．０１〜１：６００：１０、好ましくは１：０．４：０．０３〜１：２００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、トリフルラリン及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とトリフルラリンとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．２：０．０１〜１：６００：１０、好ましくは１：０．４：０．０３〜１：２００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、トリフルラリン及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とトリフルラリンとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．２：０．０１〜１：６００：１０、好ましくは１：０．４：０．０３〜１：２００：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、トリアレート及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とトリアレートとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．５：０．０１〜１：１０００：１０、好ましくは１：１：０．０３〜１：５００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、トリアレート及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とトリアレートとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．５：０．０１〜１：１０００：１０、好ましくは１：１：０．０３〜１：５００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、トリアレート及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とトリアレートとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．５：０．０１〜１：１０００：１０、好ましくは１：１：０．０３〜１：５００：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とフェノキサプロップ−Ｐ−エチルとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０２：０．０１〜１：６０：１０、好ましくは１：０．０５：０．０３〜１：４０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とフェノキサプロップ−Ｐ−エチルとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０２：０．０１〜１：６０：１０、好ましくは１：０．０５：０．０３〜１：４０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とフェノキサプロップ−Ｐ−エチルとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０２：０．０１〜１：６０：１０、好ましくは１：０．０５：０．０３〜１：４０：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、トラルコキシジム及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とトラルコキシジムとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：２００：１０、好ましくは１：０．２：０．０３〜１：１００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、トラルコキシジム及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とトラルコキシジムとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：２００：１０、好ましくは１：０．２：０．０３〜１：１００：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、トラルコキシジム及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とトラルコキシジムとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．１：０．０１〜１：２００：１０、好ましくは１：０．２：０．０３〜１：１００：１の範囲である。

本発明除草用組成物が、本化合物、ジクロホップメチル及びフェンクロラゾールエチルを含有する場合、本化合物とジクロホップメチルとフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０４：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：５０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ジクロホップメチル及びクロキントセットメキシルを含有する場合、本化合物とジクロホップメチルとクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０４：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：５０：１の範囲である。
本発明除草用組成物が、本化合物、ジクロホップメチル及びメフェンピルジエチルを含有する場合、本化合物とジクロホップメチルとメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、通常１：０．０４：０．０１〜１：１００：１０、好ましくは１：０．１：０．０３〜１：５０：１の範囲である。

本発明除草用組成物は、さらに、他の除草剤と混合又は併用することができる。

本発明除草用組成物と混合又は併用することのできる、他の除草剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
（１）フェノキシ脂肪酸除草性化合物［２，４−Ｄ、２，４−ＰＡ、ＭＣＰ、ＭＣＰＢ、フェノチオール（ｐｈｅｎｏｔｈｉｏｌ）、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）等］。
（２）安息香酸除草性化合物［２，３，６−ＴＢＡ、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、アミノピラリド（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ）、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）等］。
（３）尿素除草性化合物［ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、クロルトルロン（ｃｈｌｏｒｔｏｌｕｒｏｎ）、イソプロツロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソウロン（ｉｓｏｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、メチルダイムロン（ｍｅｔｈｙｌ−ｄａｉｍｕｒｏｎ）等］。
（４）トリアジン除草性化合物［アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、アメトリン（ａｍｅｔｏｒｙｎ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、インダジフラム（Ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）等］。
（５）ビピリジニウム除草性化合物［パラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）等］。
（６）ヒドロキシベンゾニトリル系除草性化合物［アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）等］。
（７）ジニトロアニリン除草性化合物［ペンディメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、プロジアミン（ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）等］。
（８）有機リン除草性化合物［アミプロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）、グルホシネート−Ｐ（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ）、ビアラホス（ｂｉａｌａｐｈｏｓ）等］。
（９）カーバメート除草性化合物［ジアレート（ｄｉ−ａｌｌａｔｅ）、ＥＰＴＣ、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、スエップ（ｓｗｅｐ）、クロルプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）、フェニソファム（ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、アシュラム（ａｓｕｌａｍ）等］。
（１０）酸アミド除草性化合物［プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、プロピザミド（ｐｒｏｐｙｚａｍｉｄｅ）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）等］。
（１１）クロロアセトアニリド除草性化合物［アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、ペトキサミド（ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）等］。
（１２）ジフェニルエーテル除草性化合物［アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、フォメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ）、アクロニフェン（ａｃｌｏｎｉｆｅｎ）等］。
（１３）環状イミド除草性化合物［オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、スルフェントラゾン（ｓｕｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ベンカルバゾン（ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、サフルフェナシル（ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）等］。
（１４）ピラゾール除草性化合物［ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、トプラメゾン（ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）等］。
（１５）トリケトン除草性化合物［イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ピラスルホトール（ｐｙｒａｓｕｌｆｏｔｏｌｅ）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、テンボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、テフリルトリオン（ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎｅ）、ビシクロピロン（ｂｉｃｙｃｌｏｐｙｒｏｎｅ）等］。
（１６）アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物［クロジナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、メタミホップ（ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）等］。
（１７）シクロヘキサンジオンオキシム除草性化合物［アロキシジム（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、クレトジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、クロプロキシジム（ｃｌｏｐｒｏｘｙｄｉｍ）、シクロキシジム（ｃｙｃｌｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、プロフォキシジム（ｐｒｏｆｏｘｙｄｉｍ）等］。
（１８）スルホニル尿素除草性化合物［メトスルフロンメチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、チフェンスルフロン（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリベニュロンメチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アミドスルフロン（ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロンメチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、フォラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフロキシスルフロン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オルソスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、フルセトスルフロン（ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プロピリスルフロン（ｐｒｏｐｙｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メタゾスルフロン（ｍｅｔａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）等］。
（１９）イミダゾリノン除草性化合物［イマザピック（ｉｍａｚａｐｉｃ）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）等］。
（２０）スルホンアミド除草性化合物［フルメトスラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ペノキススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）等］。
（２１）ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物［ピリチオバックナトリウム（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビスピリバックナトリウム（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、ピリミスルファン（ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）等］。
（２２）その他の系統の除草有効成分［ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎ）、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）、クロルチアミド（ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）、ジノセブ（ｄｉｎｏｓｅｂ）、アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌｅ）、シンメチリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、トリジファン（ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、ダラポン（ｄａｌａｐｏｎ）、ジフルフェンゾピルナトリウム（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、ＡＣＮ、ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、クロリダゾン（ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ピコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）、ピノキサデン（ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）、ピラクロニル（ｐｙｒａｃｌｏｎｉｌ）、ピロキサスルホン（ｐｙｒｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、チエンカルバゾンメチル（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、イプフェンカルバゾン（ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、メチオゾリン（ｍｅｔｈｉｏｚｏｌｉｎ）、フェノキサスルホン（ｆｅｎｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、アミノシクロピラクロール（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）等］。

本発明の除草用組成物に用いられるピリダジノン化合物は、例えば、特開２００８−１３３２５２号公報に記載の方法により合成することができ、例えば以下の化合物が挙げられる。
次に、本化合物の具体例を以下に示す。

１）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−エチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

２）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−プロピルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

３）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

４）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

５）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−エチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

６）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−エチル−６−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

７）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，６−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

８）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４，６−トリメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

９）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２−エチル−４，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

１０）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

１１）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４，６−トリエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

１２）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

１３）式（Ｉ¹）〜（Ｉ³⁰）において、Ａｒが２，４−ジエチル−６−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基又はジエトキシホスホリル基であるピリダジノン化合物。

式（Ｉ）で示される化合物を、表１に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

式（Ｉ−ａ）で示される化合物を、表２に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

式（Ｉ-ｂ）で示される化合物を、表３および表４に示す。
式（Ｉ−ｂ）で示される化合物：

以下に製剤例及び試験例を示し、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。

以下、製剤例を示す。
製剤例１
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−１１０重量％
メソスルフロンメチル２重量％
フェンクロラゾールエチル５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−２〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２
水和剤
化合物Ｉ−ａ−１２１５重量％
ピロキススラム１５重量％
フェンクロラゾールエチル１０重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ４５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１２に代えて、化合物Ｉ−ａ−1〜Ｉ−ａ−１１、Ｉ−ａ−１３〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−１４１０重量％
フルカルバゾンナトリウム塩５重量％
フェンクロラゾールエチル５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７４重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１３、Ｉ−ａ−１５〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６の各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４
水和剤
化合物Ｉ−ａ−１６２０重量％
プロポキシカルバゾンナトリウム塩１０重量％
フェンクロラゾールエチル５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５０重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１６に代えて、化合物Ｉ−ａ−1〜Ｉ−ａ−１５、Ｉ−ａ−１７〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−１７２０重量％
スルホスルフロン１０重量％
フェンクロラゾールエチル５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水５９重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１６、Ｉ−ａ−１８〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６
水和剤
化合物Ｉ−ａ−１８６重量％
イマザメタベンズメチル２０重量％
フェンクロラゾールエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５７重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１８に代えて、化合物Ｉ−ａ−1〜Ｉ−ａ−１７、Ｉ−ａ−１９〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例７
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−１９１５重量％
イマザモックスアンモニウム塩５重量％
フェンクロラゾールエチル４重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７０重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１８、Ｉ−ａ−２０〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例８
水和剤
化合物Ｉ−ａ−１０７重量％
グリホサートカリウム塩３０重量％
クロキントセットメキシル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム４重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ４７重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−９、Ｉ−ａ−１１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例９
水和剤
化合物Ｉ−ａ−２０８重量％
トリフルラリン２０重量％
フェンクロラゾールエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１９、Ｉ−ａ−２１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１０
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−２１５重量％
トリアレート２０重量％
フェンクロラゾールエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６６重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２０、Ｉ−ａ−２２〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１１
水和剤
化合物Ｉ−ａ−２２１０重量％
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル１０重量％
フェンクロラゾールエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６３重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２１、Ｉ−ａ−２３〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１２
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−２５７重量％
トラルコキシジム７重量％
フェンクロラゾールエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２４、Ｉ−ａ−２６〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１３
水和剤
化合物Ｉ−ａ−２６８重量％
ジクロホップメチル１５重量％
フェンクロラゾールエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム１０重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２５、Ｉ−ａ−２７〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１４
水和剤
化合物Ｉ−ａ−２７１５重量％
メソスルフロンメチル３重量％
クロキントセットメキシル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２６、Ｉ−ａ−２８〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１５
フロアブル剤
化合物Ｉ−ａ−２９１０重量％
ピロキススラム５重量％
クロキントセットメキシル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７６重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２８、Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１６
水和剤
化合物Ｉ−ａ−３０２０重量％
フルカルバゾンナトリウム塩１０重量％
クロキントセットメキシル５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５０重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−３０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２９、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１７
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−１１０重量％
プロポキシカルバゾンナトリウム塩１０重量％
クロキントセットメキシル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７１重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−２〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例１８
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−１２１２重量％
スルホスルフロン６重量％
クロキントセットメキシル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６４重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１１、及び、Ｉ−ｂ−１３〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例１９
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−１３３重量％
イマザメタベンズメチル２０重量％
クロキントセットメキシル２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６９重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１２、及び、Ｉ−ｂ−１４〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２０
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−１４１８重量％
イマザモックスアンモニウム塩６重量％
クロキントセットメキシル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５８重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１３、及び、Ｉ−ｂ−１５〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２１
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−１５３重量％
グリホサートイソプロピルアミン塩２５重量％
クロキントセットメキシル１重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６５重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１４、及び、Ｉ−ｂ−１６〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２２
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−１６６重量％
トリフルラリン１８重量％
クロキントセットメキシル２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６８重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１５、及び、Ｉ−ｂ−１７〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２３
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−１８３重量％
トリアレート１２重量％
クロキントセットメキシル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６８重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１７、及び、Ｉ−ｂ−１９〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２４
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−２０５重量％
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル２０重量％
クロキントセットメキシル２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１９、及び、Ｉ−ｂ−２１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２５
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２１１０重量％
トラルコキシジム１８重量％
クロキントセットメキシル５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５２重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２０、及び、Ｉ−ｂ−２２〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２６
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２２１０重量％
ジクロホップメチル６重量％
クロキントセットメキシル４重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム１０重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル７重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５８重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２１、及び、Ｉ−ｂ−２３〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２７
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−２３１０重量％
メソスルフロンメチル７重量％
メフェンピルジエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７４重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２２、及び、Ｉ−ｂ−２４〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例２８
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２４１０重量％
ピロキススラム１０重量％
メフェンピルジエチル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６２重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２３、及び、Ｉ−ｂ−２５〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例２９
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−２５２０重量％
フルカルバゾンナトリウム塩２重量％
メフェンピルジエチル５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２４、及び、Ｉ−ｂ−２６〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３０
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２６１０重量％
プロポキシカルバゾンナトリウム塩３重量％
メフェンピルジエチル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６９重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２５、及び、Ｉ−ｂ−２７〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３１
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−２７２５重量％
スルホスルフロン２重量％
メフェンピルジエチル４重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６３重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２６、及び、Ｉ−ｂ−２８〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３２
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−２８７重量％
イマザメタベンズメチル２１重量％
メフェンピルジエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ５５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２７、Ｉ−ｂ−２９〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３３
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−３３１２重量％
イマザモックスアンモニウム塩３重量％
メフェンピルジエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７６重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３２、及び、Ｉ−ｂ−３４〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３４
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−３４５重量％
グリホサートトリメシウム塩２３重量％
メフェンピルジエチル２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート４重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６３重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３３、及び、Ｉ−ｂ−３５〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３５
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−３６５重量％
トリフルラリン１０重量％
メフェンピルジエチル３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６７重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３５及びＩ−ｂ−３７〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３６
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−３７７重量％
トリアレート２０重量％
メフェンピルジエチル２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水６５重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３６、及び、Ｉ−ｂ−３８〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３７
水和剤
化合物Ｉ−ｂ−３８３重量％
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル１５重量％
メフェンピルジエチル２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル５重量％
ホワイトカーボン５重量％
クレイ６５重量％
を混合し、粉砕して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３７、Ｉ−ｂ−３９、及び、Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例３８
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−３９５重量％
トラルコキシジム１０重量％
メフェンピルジエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３重量％
カルボキシメチルセルロース３重量％
水７６重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３８、及び、Ｉ−ｂ−４０〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例３９
フロアブル剤
化合物Ｉ−ｂ−４０８重量％
ジクロホップメチル１１重量％
メフェンピルジエチル３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート２重量％
カルボキシメチルセルロース２重量％
水７４重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−４０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３９、及び、Ｉ−ｂ−４１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４０
化合物（Ｉ−ｂ−１）５部と、メソスルフロンメチル１部と、フェンクロラゾールエチル２部と、下記のＣ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土６１部の混合物に加え、十分に攪拌し、混合して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−２〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

Ｃ群：
２，４−Ｄ、ＭＣＰ、ＭＣＰＢ、フェノチオール（ｐｈｅｎｏｔｈｉｏｌ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）、
２，３，６−ＴＢＡ、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、アミノピラリド（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ）、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）、
ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、クロルトルロン（ｃｈｌｏｒｔｏｌｕｒｏｎ）、イソプロツロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソウロン（ｉｓｏｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、メチルダイムロン（ｍｅｔｈｙｌ−ｄａｉｍｕｒｏｎ）、
アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、アメトリン（ａｍｅｔｏｒｙｎ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、インダジフラム（ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）、
パラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）、
アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、ペンディメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、プロジアミン（ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）、
アミプロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）、グルホシネート−Ｐ（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ）、ビアラホス（ｂｉａｌａｐｈｏｓ）、
ジアレート（ｄｉ−ａｌｌａｔｅ）、ＥＰＴＣ、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、スエップ（ｓｗｅｐ）、クロルプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）、フェニソファム（ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、アシュラム（ａｓｕｌａｍ）、
プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、プロピザミド（ｐｒｏｐｙｚａｍｉｄｅ）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、
アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、ペトキサミド（ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）、
アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、フォメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ）、アクロニフェン（ａｃｌｏｎｉｆｅｎ）、
オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、スルフェントラゾン（ｓｕｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ベンカルバゾン（ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、サフルフェナシル（ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）、
ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、トプラメゾン（ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）、
イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ピラスルホトール（ｐｙｒａｓｕｌｆｏｔｏｌｅ）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、テンボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、テフリルトリオン（ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎｅ）、ビシクロピロン（ｂｉｃｙｃｌｏｐｙｒｏｎｅ）、
クロジナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、メタミホップ（ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）、
アロキシジム（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、クレソジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、クロプロキシジム（ｃｌｏｐｒｏｘｙｄｉｍ）、シクロキシジム（ｃｙｃｌｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、プロフォキシジム（ｐｒｏｆｏｘｙｄｉｍ）、
メトスルフロンメチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、チフェンスルフロン（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリベニュロンメチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アミドスルフロン（ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロンメチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、フォラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフロキシスルフロン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オルソスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ），フルセトスルフロン（ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プロピリスルフロン（ｐｒｏｐｙｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メタゾスルフロン（ｍｅｔａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、
フルメトスラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ペノキススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）、ピリチオバックナトリウム（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビスピリバックナトリウム（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、ピリミスルファン（ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）、
ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎ）、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）、クロルチアミド（ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）、ジノセブ（ｄｉｎｏｓｅｂ）、アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌｅ）、シンメチリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、トリジファン（ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、ダラポン（ｄａｌａｐｏｎ）、ジフルフェンゾピルナトリウム（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、ＡＣＮ、ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、クロリダゾン（ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ピコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）、ピノキサデン（ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）、ピラクロニル（ｐｙｒａｃｌｏｎｉｌ）、ピロキサスルホン（ｐｙｒｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、チエンカルバゾンメチル（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、アミノシクロピラクロール（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）、イプフェンカルバゾン（ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、メチオゾリン（ｍｅｔｈｉｏｚｏｌｉｎ）、フェノキサスルホン（ｆｅｎｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、
フリラゾール（ｆｕｒｉｌａｚｏｌｅ）、ジクロルミッド（ｄｉｃｈｌｏｒｍｉｄ）、ベノキサコール（ｂｅｎｏｘａｃｏｒ）、アリドクロール（ａｌｌｉｄｏｃｈｌｏｒ）、イソキサジフェンエチル（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、フェンクロリム（ｆｅｎｃｌｏｒｉｍ）、シプロスルファミド（ｃｙｐｒｏｓｕｌｆａｍｉｄｅ）、シオメトリニル（ｃｙｏｍｅｔｒｉｎｉｌ）、オキサベトリニル（ｏｘａｂｅｔｒｉｎｉｌ）、フルクソフェニム（ｆｌｕｘｏｆｅｎｉｍ）、フルラゾール（ｆｌｕｒａｚｏｌｅ）、２−ジクロロメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン（２−ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ−２−ｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｄｉｏｘｏｌａｎｅ）、及び１，８−ナフタル酸無水物（１，８−ｎａｐｈｔｈａｌｉｃａｎｈｙｄｒｉｄｅ）からなる群。

製剤例４１
化合物Ｉ−ｂ−１２５部と、ピロキススラム５部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７７部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１１、及び、Ｉ−ｂ−１３〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４２
化合物Ｉ−ｂ−１３１０部と、フルカルバゾンナトリウム塩５部と、フェンクロラゾールエチル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種３部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５３部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１２、及び、Ｉ−ｂ−１４〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例４３
化合物Ｉ−ｂ−１４１０部と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩５部と、フェンクロラゾールエチル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７１部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１３、及び、Ｉ−ｂ−１５〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４４
化合物Ｉ−ｂ−１６６部と、スルホスルフロン２部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種３部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土６１部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１５、及び、Ｉ−ｂ−１７〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例４５
化合物Ｉ−ｂ−１８３部と、イマザメタベンズメチル１５部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６９部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１７、及び、Ｉ−ｂ−１９〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４６
化合物Ｉ−ｂ−１９６部と、イマザモックスアンモニウム塩３部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５８部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１８、及び、Ｉ−ｂ−２０〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例４７
化合物Ｉ−ｂ−２０５部と、グリホサートカリウム塩１６部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム３部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、合成含水酸化珪素微粉末１５部および珪藻土５１部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−１９、及び、Ｉ−ｂ−２１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例４８
化合物Ｉ−ｂ−２１５部と、トリフルラリン１０部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７２部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２０、及び、Ｉ−ｂ−２２〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例４９
化合物Ｉ−ｂ−２２５部と、トリアレート１０部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５２部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２１、及び、Ｉ−ｂ−２３〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５０
化合物Ｉ−ｂ−２３５部と、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル１５部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６７部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２２、及び、Ｉ−ｂ−２４〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５１
化合物Ｉ−ｂ−２４５部と、トラルコキシジム５部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５７部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２３、及び、Ｉ−ｂ−２５〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５２
化合物Ｉ−ａ−１３５部と、ジクロホップメチル８部と、フェンクロラゾールエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７４部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１２、Ｉ−ａ−１４〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５３
化合物Ｉ−ｂ−２５１０部と、メソスルフロンメチル３部と、クロキントセットメキシル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７４部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２４、及び、Ｉ−ｂ−２６〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５４
化合物Ｉ−ｂ−２６８部と、ピロキススラム５部と、クロキントセットメキシル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５４部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２５、及び、Ｉ−ｂ−２７〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５５
化合物Ｉ−ｂ−２８１２部と、フルカルバゾンナトリウム塩４部と、クロキントセットメキシル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７０部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−２８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−２７、及び、Ｉ−ｂ−２９〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５６
化合物Ｉ−ｂ−３５２０部と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩５部と、クロキントセットメキシル４部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４０部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３４、及び、Ｉ−ｂ−３６〜Ｉ−ｂ−４６の各々の水和剤を得る。

製剤例５７
化合物Ｉ−ｂ−３６１２部と、スルホスルフロン３部と、クロキントセットメキシル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種１０部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６６部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３５、及び、Ｉ−ｂ−３７〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例５８
化合物Ｉ−ｂ−３７５部と、イマザメタベンズメチル１０部と、クロキントセットメキシル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５２部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３６、Ｉ−ｂ−３８〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例５９
化合物Ｉ−ｂ−３８１０部と、イマザモックスアンモニウム塩４部と、クロキントセットメキシル４部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種１０部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６６部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３７、Ｉ−ｂ−３９、及び、Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６０
化合物Ｉ−ｂ−３９５部と、トリフルラリン５部と、クロキントセットメキシル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５７部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−３９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−３８、及び、Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例６１
化合物Ｉ−ａ−１３部と、トリアレート１０部と、クロキントセットメキシル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７３部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−２〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６２
化合物Ｉ−ａ−１２５部と、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル１０部と、クロキントセットメキシル５部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４９部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１１、Ｉ−ａ−１３〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例６３
化合物Ｉ−ａ−１４５部と、トラルコキシジム２０部と、クロキントセットメキシル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６２部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１３、Ｉ−ａ−１５〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６４
化合物Ｉ−ａ−１５５部と、ジクロホップメチル２２部と、クロキントセットメキシル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６０部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１４に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１３、Ｉ−ａ−１５〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６５
化合物Ｉ−ａ−１６１０部と、メソスルフロンメチル２部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種１０部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５０部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１６に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１５、Ｉ−ａ−１７〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例６６
化合物Ｉ−ａ−１７１０部と、ピロキススラム８部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種１０部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６４部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１６、Ｉ−ａ−１８〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６７
化合物Ｉ−ａ−１８１０部と、フルカルバゾンナトリウム塩７部と、メフェンピルジエチル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４９部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１８に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１７、Ｉ−ａ−１９〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例６８
化合物Ｉ−ａ−１９１２部と、プロポキシカルバゾンナトリウム塩４部と、メフェンピルジエチル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種３部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水７２部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−１９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１８、Ｉ−ａ−２０〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例６９
化合物Ｉ−ａ−２０２０部と、スルホスルフロン２部と、メフェンピルジエチル４部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４３部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−１９、Ｉ−ａ−２１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例７０
化合物Ｉ−ａ−２１６部と、イマザメタベンズメチル１５部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６６部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２０、Ｉ−ａ−２２〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例７１
化合物Ｉ−ａ−２２１０部と、イマザモックスアンモニウム塩４部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５３部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２２に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２１、Ｉ−ａ−２３〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例７２
化合物Ｉ−ａ−２３４部と、グリホサートイソプロピルアミン塩２４部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土３９部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２３に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２２、Ｉ−ａ−２４〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例７３
化合物Ｉ−ａ−２５５部と、トリフルラリン１５部と、メフェンピルジエチル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６６部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２５に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２４、Ｉ−ａ−２６〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例７４
化合物Ｉ−ａ−２７３部と、トリアレート１０部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５４部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２７に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２６、Ｉ−ａ−２８〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例７５
化合物Ｉ−ａ−２９２部と、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル２０部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６５部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−２９に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２８、Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

製剤例７６
化合物Ｉ−ａ−３０８部と、トラルコキシジム５部と、メフェンピルジエチル３部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部とを、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土４３部の混合物に加え、良く攪拌して水和剤を得る。
化合物Ｉ−ａ−３０に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−２９、及び、Ｉ−ｂ−１〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々の水和剤を得る。

製剤例７７
化合物Ｉ−ｂ−１４部と、ジクロホップメチル１８部と、メフェンピルジエチル２部と、前記Ｃ群から選ばれる化合物いずれか１種５部と、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、カルボキシメチルセルロース３部、水６５部とを混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得る。
化合物Ｉ−ｂ−１に代えて、化合物Ｉ−ａ−１〜Ｉ−ａ−３０、及び、Ｉ−ｂ−２〜Ｉ−ｂ−４６を用いて各々のフロアブル剤を得る。

以下、試験例を示す。
試験例１
直径８ｃｍ、深さ６．５ｃｍのプラスチックカップに土を充填し、これにコムギ（Ｔｒｉｔｉｃｕｍａｅｓｔｉｖｕｍ）、オオムギ（Ｈｏｒｄｅｕｍｖｕｌｇａｒｅ）と、カラスムギ（Ａｖｅｎａｆａｔｕａ）、カミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａｃｈａｍｏｍｉｌｌａ）、及び、ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍａｐａｒｉｎｅ）から選ばれる１種以上の試験植物を播種した。これを温室内でコムギが２〜３葉期まで生育するまで置いた。その後、本化合物と、Ａ群から選ばれる１つの化合物と、Ｂ群から選ばれる１つの化合物とを所定量含む薬剤希釈液を植物体全体に均一に散布した。薬剤希釈液は夫々の化合物の所定量をトゥイーン２０（ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ＭＰバイオメディカルズ・インク製）のジメチルホルムアミド溶液（２％）に溶解し、水で希釈したものを混合することにより調製した。薬剤処理後、植物を温室内に２１日間置いた。除草効果を、０（無作用）〜１００（完全枯死）の１０１段階で評価した。
結果を表５〜表７に示す。

本発明除草用組成物は、雑草防除に有用である。

Claims

式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基を表す。
但し、Ｒ³及びＲ⁴で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基及びＣ_6-10アリール基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１又は２を表し、ｎが２の場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物と、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物と、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物とを含有する除草用組成物。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは２を表し、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及び２個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｚ²の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位の化合物である請求項１又は２記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｚ¹がＣ_1-3アルキル基であり、Ｚ²がＣ_1-3アルキル基の化合物である請求項１〜４いずれか一項記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基又はエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基の化合物である請求項１〜５いずれか一項記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｒ¹がＣ_1-3アルキル基であり、Ｒ²がＣ_1-3アルキル基の化合物である請求項１〜６いずれか一項記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物が、Ｒ¹及びＲ²がメチル基の化合物である請求項１〜７いずれか一項記載の除草用組成物。
Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、メソスルフロンメチル、ピロキススラム、フルカルバゾンナトリウム塩、プロポキシカルバゾンナトリウム塩又はスルホスルフロンである請求項１〜８いずれか一項記載の除草用組成物。
Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、トラルコキジム又はジクロホップメチルである請求項１〜８いずれか一項記載の除草用組成物。
Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、メソスルフロンメチル、ピロキススラム、フルカルバゾンナトリウム塩又はプロポキシカルバゾンナトリウム塩であり、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、クロキントセットメキシル又はメフェンピルジエチルである請求項１〜７いずれか一項記載の除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がメチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、メソスルフロンメチル、ピロキススラム、フルカルバゾンナトリウム塩又はプロポキシカルバゾンナトリウム塩であり、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、クロキントセットメキシル又はメフェンピルジエチルである除草用組成物。
式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物において、Ｇが水素であり、Ｚ¹がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が４位のＺ²がエチル基であり、ベンゼン環上の結合位置が６位のＺ²がエチル基であり、Ｒ¹及びＲ²がメチル基である化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、メソスルフロンメチル、ピロキススラム、フルカルバゾンナトリウム塩又はプロポキシカルバゾンナトリウム塩であり、Ｂ群から選ばれる少なくとも１個の化合物が、クロキントセットメキシル又はメフェンピルジエチルである除草用組成物。
式（I）で示されるピリダジノン化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の有効量を雑草又は雑草の生育する土壌に施用する工程を含む雑草の防除方法。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
式（I）で示されるピリダジノン化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物の有効量を雑草又は雑草の生育する土壌に施用する工程を含む雑草の防除方法。

〔式中、Ｒ¹はメチル基を表し、
Ｒ²は水素又はメチル基を表し、
Ｇは水素を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。
施用する場所が、コムギ、オオムギ、又はデュラムコムギが生育する農耕地である請求項１４又は１５に記載の雑草の防除方法。
雑草防除のための、式（I）で示される化合物、Ａ群から選ばれる少なくとも１個の化合物、及びＢ群から選ばれる少なくとも１個の化合物を含有する組成物の使用。

〔式中、Ｒ¹はＣ_1-6アルキル基又は（Ｃ_1-6アルキルオキシ）Ｃ_1-6アルキル基を表し、
Ｒ²は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ³はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_2-6アルケニルオキシ基、Ｃ_2-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、Ｃ_2-6アルケニルアミノ基、Ｃ_6-10アリールアミノ基、ジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_2-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は３〜８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基又はジ（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルキルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキルオキシ基のアリール部分、Ｃ_6-10アリールアミノ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び３〜８員の含窒素複素環基はＣ_1-6アルキル基により置換されていてもよい。｝を表し、
Ｚ¹はＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｚ²はＣ_1-6アルキル基を表し、
ここで、ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２以上の整数を表す場合、各々のＺ²は同一又は異なっていてもよい。
但し、Ｚ¹及びｎ個のＺ²で表される基における炭素数の合計は２以上である。〕
［Ａ群］
メソスルフロンメチル、
ピロキススラム、
フルカルバゾンナトリウム塩、
プロポキシカルバゾンナトリウム塩、
スルホスルフロン、
イマザメタベンズメチル、
イマザモックスアンモニウム塩、
グリホサートの農学的に許容される塩、
トリフルラリン、
トリアレート、
フェノキサプロップ−Ｐ−エチル、
トラルコキシジム、及び
ジクロホップメチルからなる群。
［Ｂ群］
フェンクロラゾールエチル、
クロキントセットメキシル、及び
メフェンピルジエチルからなる群。