JP2010235603A - ピリダジノン化合物及びその用途 - Google Patents

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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D237/00Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings
    • C07D237/02Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D237/06Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D237/10Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D237/14Oxygen atoms
    • C07D237/16Two oxygen atoms
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    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/581,2-Diazines; Hydrogenated 1,2-diazines

Abstract

【課題】優れた雑草防除の効力を有する化合物及び有害節足動物に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。
【解決手段】式(I)
Figure 2010235603

〔式中の記号は、各々が明細書中に記載の定義を意味する。〕
で示されるピリダジノン化合物は、雑草防除効力及び有害節足動物防除効力を有する。
【選択図】なし

Description

本発明は、ピリダジノン化合物及びその用途に関する。
ある種のピリダジノン化合物が除草活性を有することが特許文献1に記載されている。
国際特許公開WO2007/119434公報
本発明は優れた雑草及び有害節足動物の防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。
本発明者等は、鋭意検討した結果、下記式(I)で表されるピリダジノン化合物が優れた雑草防除効力及び有害節足動物に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
本発明は以下のものである。
[1] 式(I)
Figure 2010235603
〔式中、R1はC1-6アルキル基又は(C1-6アルキルオキシ)C1-6アルキル基を表し、
2及びR3は同一又は異なっていてもよく、水素又はC1-6アルキル基を表し、
Wはハロゲン又は下記式
Figure 2010235603
{式中、R4、R5、R7、及びR11はC1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、
3-6アルケニル基、C3-6アルキニル基、C6-10アリール基又は(C6-10アリール)C1-6アルキル基を表し、
12は、C1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、
3-6アルケニル基、C3-6アルキニル基、C6-10アリール基又は(C6-10アリール)C1-6アルキル基を表し、
6、R8、及びR9は、C1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C2-6アルケニル基、C2-6アルキニル基、C6-10アリール基、(C6-10アリール)C1-6アルキル基、C1-6アルキルオキシ基、C3-8シクロアルキルオキシ基、C3-6アルケニルオキシ基、C3-6アルキニルオキシ基、C6-10アリールオキシ基又は(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基を表し、
10は、C1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C2-6アルケニル基、C2-6アルキニル基、C6-10アリール基、(C6-10アリール)C1-6アルキル基、C1-6アルキルオキシ基、C3-8シクロアルキルオキシ基、C3-6アルケニルオキシ基、C3-6アルキニルオキシ基、C6-10アリールオキシ基又は(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基を表し、又はR9及びR10は結合するカルボニル基及び窒素と一緒になってベンゼン環が縮合していてもよい5若しくは6員の環状イミド基を表し、
ここで、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表されるいずれの基もハロゲン及びC1-6アルキルオキシ基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよく、
4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表されるC3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基、及び(C6-10アリール)C1-6アルキル基のアリール部分は、いずれもC1-6アルキル基により置換されていてもよく、
6、R8、R9及びR10で表されるC3-8シクロアルキルオキシ基、C6-10アリールオキシ基、及び(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基のアリール部分は、いずれもC1-6アルキル基により置換されていてもよく、
mは0、1又は2を表す。}
で表されるいずれかの基を表し、
1はC1-6アルキル基を表し、
2はC1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C2-6アルキニル基、C1-6ハロアルキル基、C6-10アリール基、5若しくは6員のヘテロアリール基、C1-6アルキルオキシ基、C1-6ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基を表し、
ここで、Z2で表されるC3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基及び5若しくは6員のヘテロアリール基は、ハロゲン及びC1-6アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよく、
nは0、1、2、3又は4を表し、nが2、3又は4である場合、各々のZ2は同一又は異なっていてもよい。〕
で示されるピリダジノン化合物(以下、本発明化合物と記す。)。

[2] nが1、2又は3である[1]記載のピリダジノン化合物。

[3] nが0であり、Z1がC2-6アルキル基である[1]記載のピリダジノン化合物。

[4] nが1又は2であり、Z2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位である[1]又は[2]記載のピリダジノン化合物。

[5] Z1がC1-3アルキル基であり、Z2がC1-3アルキル基、C3-6シクロアルキル基、C2-3アルキニル基、C1-3アルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びC1-3アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいフェニル基である[1]、[2]又は[4]記載のピリダジノン化合物。

[6] Z1 がC1-3アルキル基であり、Z2 がC1-3アルキル基である[1]、[2]、[4]又は[5]記載のピリダジノン化合物。

[7] R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基である[1]〜[6]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。

[8] R1がメチル基である[1]〜[6]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。

[9] R2が水素又はC1-3アルキル基である[1]〜[8]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。

[10] R2が水素又はメチル基である[1]〜[8]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。

[11] R3が水素である[1]〜[10]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。

[12] Wがハロゲン、C1-3アルキルオキシ基、(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基、C1-3アルキルチオ基、C1-3アルキルスルフィニル基、C1-3アルキルスルホニル基又はN−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基である[1]〜[11]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。

[13] WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基である[1]〜[11]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。

[14] [1]〜[13]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物を有効成分として含有する除草剤。

[15] [1]〜[13]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物の有効量を、雑草又は雑草の生育する土壌に施用する雑草の防除方法。

[16] 雑草を防除するための[1]〜[13]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物の使用。

[17] [1]〜[13]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物を有効成分として含有する有害節足動物防除剤。

[18] [1]〜[13]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物の有効量を、有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用する有害節足動物の防除方法。

[19] 有害節足動物を防除するための、[1]〜[13]のいずれか一項記載のピリダジノン化合物の使用。
本発明化合物は、雑草及び有害節足動物を防除する効果がある。
本発明において、C1-6アルキル基とは、炭素数1〜6のアルキル基を意味する。C1-6アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、sec−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基及びイソへキシル基が挙げられる。
3-8シクロアルキル基とは、炭素数3〜8のシクロアルキル基を意味する。C3-8シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
2-6アルケニル基とは、炭素数2〜6のアルケニル基を意味する。C2-6アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、1−ブテン−3−イル基及び3−ブテン−1−イル基が挙げられる。
3-6アルケニル基とは、炭素数3〜6のアルケニル基を意味する。C3-6アルケニル基としては、例えば、アリル基、1−ブテン−3−イル基及び3−ブテン−1−イル基が挙げられる。
2-6アルキニル基とは、炭素数2〜6のアルキニル基を意味する。C2-6アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパルギル基及び2−ブチニル基が挙げられ、
3-6アルキニル基とは、炭素数3〜6のアルキニル基を意味する。C3-6アルキニル基としては、例えば、プロパルギル基及び2−ブチニル基が挙げられる。
6-10アリール基とは,炭素数6〜10のアリール基を意味する。C6-10アリール基としては、例えば、フェニル基及びナフチル基が挙げられる。
(C6-10アリール)C1-6アルキル基とは、C6-10アリール基で置換されたC1-6アルキル基を意味する。(C6-10アリール)C1-6アルキル基としては、例えば、ベンジル基及びフェネチル基が挙げられる。
1-6アルキルオキシ基とは、炭素数1〜6のアルキルオキシ基を意味する。C1-6アルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基及びイソプロポキシ基が挙げられる。
3-8シクロアルキルオキシ基とは、炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基を意味する。C3-8シクロアルキルオキシ基としては、例えば、シクロプロピルオキシ基及びシクロペンチルオキシ基が挙げられる。
3-6アルケニルオキシ基とは、炭素数3〜6のアルケニルオキシ基を意味する。C3-6アルケニルオキシ基としては、例えば、アリルオキシ基が挙げられる。
3-6アルキニルオキシ基とは、炭素数3〜6のアルキニルオキシ基を意味する。C3-6アルキニルオキシ基としては、例えば、プロパルギルオキシ基及び2−ブチニルオキシ基が挙げられる。
6-10アリールオキシ基とは、炭素数6〜10のアリールオキシ基を意味する。C6-10アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基及びナフチルオキシ基が挙げられる。
(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基とは、C6-10アリール基で置換されたC1-6アルキルオキシ基を意味する。(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基及びフェネチルオキシ基が挙げられる。
(C1-6アルキルオキシ)C1-6アルキル基とは、C1-6アルキルオキシ基で置換されたC1-6アルキル基を意味する。(C1-6アルキルオキシ)C1-6アルキル基としては、例えば、メトキシエチル基及びエトキシエチル基が挙げられる。
ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
1-3アルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基及びイソプロポキシ基が挙げられる。
(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基及びフェネチルオキシ基が挙げられる。
1-3アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基及びイソプロピルチオ基が挙げられる。
1-3アルキルスルフィニル基、としては、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基及びイソプロピルスルフィニル基が挙げられる。
1-3アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基及びイソプロピルスルホニル基が挙げられる。
N−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基としては、例えば、(N−エトキシカルボニル−N−フェニル)アミノ基及び(N−メトキシカルボニル−N−フェニル)アミノ基が挙げられる。
9及びR10が結合するカルボニル基及び窒素と一緒になって表されるベンゼン環が縮合していてもよい5若しくは6員の環状イミド基としては、例えば、スクシンイミド基、グルタルイミド基、マレイミド基及びフタルイミド基が挙げられる。
2で表される5若しくは6員のヘテロアリール基としては、、例えば、3−ピリジル基、3−チエニル基及び1−ピラゾリル基が挙げられる。
2で表されるC1-6ハロアルキル基とは、ハロゲンで置換されたC1-6アルキル基を意味する。C1-6ハロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基及び2,2,2−トリクロロエチル基が挙げられる。
2で表されるC1-6ハロアルキルオキシ基とは、ハロゲンで置換されたC1-6アルキルオキシ基を意味しする。C1-6ハロアルキルオキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基及び2,2,2−トリフルオロエトキシ基が挙げられる。
4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される基はハロゲン及びC1-6アルキルオキシ基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよい。
4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表される基のうち、C3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基、及び(C6-10アリール)C1-6アルキル基のアリール部分は、C1-6アルキル基により置換されていてもよい。
6、R8、R9及びR10で表される基のうち、C3-8シクロアルキルオキシ基、C6-10アリールオキシ基、及び(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基のアリール部分は、C1-6アルキル基により置換されていてもよい。
2で表される基のうち、C3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基、及び5若しくは6員のヘテロアリール基は、、ハロゲン及びC1-6アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよい。
本発明化合物としては、例えば、以下に示される化合物が挙げられる。
式(I)において、nが1、2又は3であるピリダジノン化合物。
式(I)において、nが0であり、Z1がC2-6アルキル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R3が水素であるピリダジノン化合物。
式(I)において、Wがハロゲン、C1-3アルキルオキシ基、(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基、C1-3アルキルチオ基、C1-3アルキルスルフィニル基、C1-3アルキルスルホニル基又はN−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がメチル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R2が水素又はC1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R2が水素又はメチル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、Z1 がC1-3アルキル基であり、Z2 がC1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、Z1がC1-3アルキル基であり、Z2がC1-3アルキル基;C3-6シクロアルキル基;C2-3アルキニル基;C1-3アルキルオキシ基;C1-3ハロアルキル基;C1-3ハロアルキルオキシ基;ハロゲン;シアノ基;ニトロ基;又はハロゲン及びC1-3アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいフェニル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はC1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はメチル基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R2が水素又はC1-3アルキル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R2が水素又はメチル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はC1-3アルキル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はメチル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はC1-3アルキル基であり、
nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はC1-3アルキル基であり、
nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基);C3-8シクロアルキル基(例えばC3-6シクロアルキル基);C2-6アルキニル基(例えばC2-3アルキニル基);C1-6アルキルオキシ基(例えばC1-3アルキルオキシ基);C1-6ハロアルキル基(例えばC1-3ハロアルキル基);C1-6ハロアルキルオキシ基(例えばC1-3ハロアルキルオキシ基);ハロゲン、シアノ基;ニトロ基;又はハロゲン及びC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいC6-10アリール基(例えばフェニル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はC1-3アルキル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であり、
nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はC1-3アルキル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であり、
nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基);C3-8シクロアルキル基(例えばC3-6シクロアルキル基);C2-6アルキニル基(例えばC2-3アルキニル基);C1-6アルキルオキシ基(例えばC1-3アルキルオキシ基);C1-6ハロアルキル基(例えばC1-3ハロアルキル基);C1-6ハロアルキルオキシ基(例えばC1-3ハロアルキルオキシ基);ハロゲン;シアノ基;ニトロ基;又はハロゲン及びC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいC6-10アリール基(例えばフェニル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はメチル基であり、
nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はメチル基であり、
nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基);C3-8シクロアルキル基(例えばC3-6シクロアルキル基);C2-6アルキニル基(例えばC2-3アルキニル基);C1-6アルキルオキシ基(例えばC1-3アルキルオキシ基);C1-6ハロアルキル基(例えばC1-3ハロアルキル基);C1-6ハロアルキルオキシ基(例えばC1-3ハロアルキルオキシ基);ハロゲン;シアノ基;ニトロ基;又はハロゲン及びC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいC6-10アリール基(例えばフェニル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はメチル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であり、
nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はメチル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であり、
nが1又は2であり、nが2の場合2つのZ2は同一又は異なっていてもよく、かつZ2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基);C3-8シクロアルキル基(例えばC3-6シクロアルキル基);C2-6アルキニル基(例えばC2-3アルキニル基);C1-6アルキルオキシ基(例えばC1-3アルキルオキシ基);C1-6ハロアルキル基(例えばC1-3ハロアルキル基);C1-6ハロアルキルオキシ基(例えばC1-3ハロアルキルオキシ基);ハロゲン;シアノ基;ニトロ基;又はハロゲン及びC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいC6-10アリール基(例えばフェニル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、nが1であり、Z2の結合位置がベンゼン環上の5位であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はC1-3アルキル基であり、
nが1であり、Z2の結合位置がベンゼン環上の5位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がハロゲン及びC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいC6-10アリール基(例えばフェニル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はC1-3アルキル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であり、
nが1であり、Z2の結合位置がベンゼン環上の5位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がハロゲン及びC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいC6-10アリール基(例えばフェニル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はメチル基であり、
nが1であり、Z2の結合位置がベンゼン環上の5位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がハロゲン及びC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいC6-10アリール基(例えばフェニル基)であるピリダジノン化合物。
式(I)において、R1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基であり、R2が水素又はメチル基であり、R3が水素であり、WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基であり、
nが1であり、Z2の結合位置がベンゼン環上の5位であり、
1がC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)であり、
2がハロゲン及びC1-6アルキル基(例えばC1-3アルキル基)からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいC6-10アリール基(例えばフェニル基)であるピリダジノン化合物。
式(I−A)
Figure 2010235603
式(I−A)において、R2-1が水素又はC1-3アルキル基であり、W1がハロゲン、C1-3アルキルオキシ基、(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基、C1-3アルキルチオ基、C1-3アルキルスルフィニル基、C1-3アルキルスルホニル基又はN−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基であり、
1-1がC1-3アルキル基であり、
2-1-1がC1-3アルキル基であり、
2-1-2が水素又はC1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式(I−A)において、R2-1が水素、メチル基又はエチル基であり、W1が塩素、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であり、
1-1がメチル基又はエチル基であり、
2-1-1がメチル基又はエチル基であり、
2-1-2が水素、メチル基又はエチル基であるピリダジノン化合物。
式(I−A)において、R2-1が水素又はC1-3アルキル基であり、W1がハロゲン、C1-3アルキルオキシ基、(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基、C1-3アルキルチオ基、C1-3アルキルスルフィニル基、C1-3アルキルスルホニル基又はN−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基であり、
1-1がC1-3アルキル基であり、
2-1-1がC3-6シクロアルキル基;C2-3アルキニル基;C1-3アルキルオキシ基;C1-3ハロアルキル基;C1-3ハロアルキルオキシ基;ハロゲン;シアノ基;ニトロ基;又はハロゲン及びC1-3アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいフェニル基であり、
2-1-2が水素、C1-3アルキル基、C3-6シクロアルキル基、C2-3アルキニル基、C1-3アルキルオキシ基又はハロゲンであるピリダジノン化合物。
式(I−A)において、R2-1が水素、メチル基又はエチル基であり、W1が塩素、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であり、
1-1がメチル基又はエチル基であり、
2-1-1がシクロプロピル基、エチニル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、塩素、臭素、フェニル基、4−メチルフェニル基、シアノ基又はニトロ基であり、
2-1-2が水素、メチル基、エチル基、シクロプロピル基、エチニル基、メトキシ基、塩素又は臭素であるピリダジノン化合物。
式(I−A)において、R2-1が水素又はC1-3アルキル基であり、W1がハロゲン、C1-3アルキルオキシ基、(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基、C1-3アルキルチオ基、C1-3アルキルスルフィニル基、C1-3アルキルスルホニル基又はN−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基であり、
1-1がC1-3アルキル基であり、
2-1-1が水素、C1-3アルキル基、C3-6シクロアルキル基、C2-3アルキニル基、C1-3アルキルオキシ基又はハロゲンであり、
2-1-2がC3-6シクロアルキル基、C2-3アルキニル基、C1-3アルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基であるピリダジノン化合物。
式(I−A)において、R2-1が水素、メチル基又はエチル基であり、W1が塩素、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であり、
1-1がメチル基又はエチル基であり、
2-1-1が水素、メチル基、エチル基、シクロプロピル基、エチニル基、メトキシ基、塩素又は臭素であり、
2-1-2がシクロプロピル基、エチニル基、メトキシ基、塩素、臭素、シアノ基又はニトロ基であるピリダジノン化合物。
式(I−B)
Figure 2010235603
式(I−B)においてR2-2が水素又はC1-3アルキル基であり、
2がハロゲン、C1-3アルキルオキシ基、(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基、C1-3アルキルチオ基、C1-3アルキルスルフィニル基、C1-3アルキルスルホニル基又はN−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基であり、
2-2-1が水素又はC1-3アルキル基であり、
2-2-2が水素又はC1-3アルキル基であるピリダジノン化合物。
式(I−B)において、R2-2が水素、メチル基又はエチル基であり、W2が塩素、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であり、
2-2-1が水素、メチル基又はエチル基であり、
2-2-2が水素、メチル基又はエチル基であるピリダジノン化合物。
式(I−C)
Figure 2010235603
式(I−C)においてR2-3が水素又はC1-3アルキル基であり、
3がハロゲン、C1-3アルキルオキシ基、(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基、C1-3アルキルチオ基、C1-3アルキルスルフィニル基、C1-3アルキルスルホニル基又はN−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基であり、
1-3がC1-3アルキル基であり、
2-3-1がハロゲン及びC1-3アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいフェニル基であり、
2-3-2は水素、C1-3アルキル基又はハロゲンであるピリダジノン化合物。
式(I−C)において、R2-3が水素、メチル基又はエチル基であり、W3が塩素、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であり、
1-3がメチル基又はエチル基であり、
2-3-1がフェニル基、4−フルオロフェニル基又は4−クロロフェニル基であり、
2-3-2が水素、メチル基又は塩素であるピリダジノン化合物。
本発明の除草剤及び本発明の有害節足動物防除剤は、本発明化合物と不活性担体とを含有する。不活性担体としては、固体担体、液体担体及びガス担体が挙げられる。本発明の除草剤及び本発明の有害節足動物防除剤は、通常さらに界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。本発明の除草剤及び本発明の有害節足動物防除剤には本発明化合物が重量比で通常0.1〜80%含有される。
固体担体としては、例えば、粘土類(例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土)、タルク類、その他の無機鉱物(例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ)等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン)、芳香族炭化水素類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン)、脂肪族炭化水素類(例えば、n−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油)、エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル)、エーテル類(例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル)、酸アミド類(例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド)、ハロゲン化炭化水素類(例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素)等が挙げられる。
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類(例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸)、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子(例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類)、PAP(酸性りん酸イソプロピル)、BHT(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(2−tert−ブチル−4−メトキシフェノールと3−tert−ブチル−4−メトキシフェノールとの混合物)、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
本発明の雑草防除方法は、本発明化合物の有効量を雑草又は雑草が生育する土壌に施用する工程を含むものである。本発明の雑草防除方法には、通常、本発明の除草剤が用いられる。本発明の除草剤の施用方法としては、例えば本発明の除草剤を雑草に茎葉処理する方法、本発明の除草剤を雑草が生育する土壌表面に処理する方法、及び本発明の除草剤を雑草が生育する土壌に混和処理する方法が挙げられる。本発明の雑草防除方法には、雑草を防除する面積10000m2あたり本発明化合物が、通常1〜5000g、好ましくは10〜1000g用いられる。
本発明の有害節足動物の防除方法は、本発明化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用する工程を含むものである。本発明の有害節足動物防除方法には、通常、本発明化合物を含有する製剤が用いられる。
本発明化合物を農林害虫の防除に用いる場合は、本発明化合物の施用量は通常1〜10000g/ha、好ましくは10〜1000g/haである。本発明の有害節足動物の防除方法は、例えば本発明化合物を含有する製剤を有害節足動物から保護すべき植物に対して散布する方法が挙げられる。本発明化合物を含有する製剤を土壌に処理することにより土壌に棲息する有害節足動物生物を防除することもできる。
本発明化合物を防疫害虫の防除に用いる場合は、本発明化合物の施用量は空間に適用するときは通常0.001〜10mg/m3であり、平面に適用するときは0.001〜100mg/m2である。
本発明化合物は、下記に挙げられる「植物」を栽培する農耕地等で使用できる。
「植物」:
農作物;トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、
野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス等)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
果樹:仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。
果樹以外の樹木:チャ、クワ、花木類(サツキ、ツバキ、アジサイ、サザンカ、シキミ、サクラ、ユリノキ、サルスベリ、キンモクセイ等)、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等)、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ、カナメモチ等。
芝生:シバ類(ノシバ、コウライシバ等)、バミューダグラス類(ギョウギシバ等)、ベントグラス類(コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等)、ブルーグラス類(ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等)、フェスク類(オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等)、カモガヤ、オオアワガエリ等。
その他:花卉類(バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、シンビジューム、ベゴニア等)、バイオ燃料植物(ヤトロファ、ベニバナ、アマナズナ類、スイッチグラス、ミスカンサス、クサヨシ、ダンチク、ケナフ、キャッサバ、ヤナギ等)、観葉植物等。
上記「植物」には、イソキサフルトール等の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ(以後HPPDと略する)阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のアセト乳酸合成酵素(以後ALSと略する)阻害剤、グリホサート等の5−エノールピルビルシキミ酸−3−リン酸シンターゼ(以後EPSPSと略する)阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤、フルミオキサジン等のプロトポルフィリノーゲンオキシダーゼ阻害剤、ジカンバ、2,4−D等のオーキシン系除草剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性を古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
古典的な育種法により耐性を付与された「植物」の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系ALS阻害型除草剤に耐性のナタネ、コムギ、ヒマワリ、イネ、トウモロコシがありクリアフィールド(Clearfield)<登録商標>の商品名で既に販売されている。同様に古典的な育種法によるチフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ALS阻害型除草剤に耐性のSTS<登録商標>ダイズ等がある。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された植物の例としてSRコーン等がある。
また、遺伝子組換え技術により耐性を付与された「植物」の例としては、EPSPS阻害剤に耐性のEPSPS遺伝子を持ったグリホサート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ、テンサイ品種があり、RoundupReady<登録商標>、Agrisure<登録商標>GT、Gly−Tol等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるグルホシネート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ品種があり、LibertyLink<登録商標>等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるブロモキシニル耐性のワタはBXNの商品名で既に販売されている。同様にグリホサートおよびALS阻害剤の両方に耐性であるトウモロコシ、ダイズの品種があり、Optimum<登録商標>GAT<登録商標>の商品名が公開されている。
また、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルCoAカルボキシラーゼがWeed Science、53巻、728〜746頁(2005年)等に報告されており、こうした変異アセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により植物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を作物アセチルCoAカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の植物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術(Gura T. 1999. Repairing the Genome’s Spelling Mistakes. Science 285: 316−318.)に代表される塩基置換変異導入核酸を植物細胞内に導入して植物のアセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子やALS遺伝子に部位特異的アミノ酸置換変異を導入することにより、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤やALS阻害剤に耐性の植物を作出することができる。
また、シュードモナス・マルトフィリア(Pseudomonas maltophilia)より単離されたジカンバモノオキシゲナーゼ(dicamba monooxygenase)を含むジカンバの分解酵素をコードする遺伝子を導入し、ジカンバに耐性のダイズ等の作物を作出することができる(Behrens et al.2007年 Dicamba Resistance:Enlarging and Preserving Biotechnology−Based Weed Management Strategies.Science316:1185−1188)。
アリールオキシアルカノエートジオキシゲナーゼ(aryloxyalkanoate dioxygenase)をコードする遺伝子を導入し、2,4−D、MCPA、ジクロプロップ、メコプロップのようなフェノキシ系除草剤、フルロキシピル、トリクロピルのようなピリジンオキシ酢酸系と、キザロホップ−P−エチル、ハロキシホップ−P−メチル、フルアジホップ−P−ブチル、ジクロホロップ、フェノキサプロップ−P−エチル、メタミホップ、シハロホップ−ブチル、クロジナホップ−プロパルギルのようなアリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤の、両方の除草剤系統に対して耐性となる作物を作出することができ(WO2005/107437、WO2007/053482、WO2008/141154)、DHT作物と呼ばれている。
さらに、HPPD阻害剤に対して抵抗性を示すHPPDをコードする遺伝子を導入し、HPPD阻害剤に耐性の植物を作出することができる(US2004/0058427)。HPPD阻害剤によりHPPDが阻害されても、別の代謝経路でHPPDの生成物であるホモゲンチジン酸を合成できるような遺伝子を導入し、結果としてHPPD阻害剤に対して耐性を示す植物を作出することができる(WO02/036787)。HPPDを過剰に発現させる遺伝子を導入し、HPPD阻害剤の存在下においても、植物の生育に影響が出ないまでの量のHPPDを生産させ、結果としてHPPD阻害剤に対して耐性を示す植物を作出することができる(WO96/38567)。前出のHPPDを過剰に発現させる遺伝子の導入に加え、さらに、HPPDの基質であるp−ヒドロキシフェニルピルビン酸の生成量を増加させるためにプレフェナレートデヒドロゲナーゼをコードする遺伝子を導入し、HPPD阻害剤に対して耐性を示す植物を作出できる(Rippert P et.al. 2004 Engineering plant shikimate pathway for production of tocotrienol and improving herbicide resistance. Plant Physiol. 134:92−100)。
また古典的な育種法により耐性を付与された「植物」の例として、センチュウやアブラムシに耐性を持つ植物があげられる。アブラムシに耐性を持つ形質をもたらす遺伝子としてはRAG1などが知られている。
上記「植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった植物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される殺虫性毒素としては、例えばバチルス・セレウス(Bacillus cereus)やバチルス・ポピリエ(Bacillus popilliae)由来の殺虫性タンパク;バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3又はVIP3A等の殺虫性タンパク;線虫由来の殺虫性タンパク;さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素;糸状菌類毒素;植物レクチン;アグルチニン;トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤;リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク(RIP);3−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素;エクダイソン阻害剤;HMG−CoAリダクターゼ;ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤;幼若ホルモンエステラーゼ;利尿ホルモン受容体;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ等が挙げられる。
またこの様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9C等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3又はVIP3A等の殺虫性タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型毒素のアミノ酸の1つ又は複数が置換されている。
これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、例えばEP−A−0374753、WO93/07278、WO95/34656、EP−A−0427529、EP−A−451878、WO03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、鞘翅目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
また、1つもしくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、イールドガード(YieldGard)<登録商標>(Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種)、イールドガードルートワーム(YieldGard Rootworm)<登録商標>(Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種)、イールドガードプラス(YieldGard Plus)<登録商標>(Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種)、ハーキュレックスI(Herculex I)<登録商標>(Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為のホスフィノトリシン N−アセチルトランスフェラーゼ(PAT)を発現するトウモロコシ品種)、NuCOTN33B<登録商標>(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)、ボルガードI(Bollgard I)<登録商標>(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)、ボルガードII(Bollgard II)<登録商標>(Cry1AcとCry2Ab毒素を発現するワタ品種)、VIPCOT<登録商標>(VIP毒素を発現するワタ品種)、ニューリーフ(NewLeaf)<登録商標>(Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種)、ネイチャーガード(NatureGard)<登録商標>、アグリシュアー GT アドバンテージ(Agrisure<登録商標> GT Advantage)(GA21 グリホサート耐性形質)、アグリシュアー CB アドバンテージ(Agrisure<登録商標> CB Advantage)(Bt11コーンボーラー(CB)形質)、プロテクタ(Protecta)<登録商標>等が挙げられる。
上記「植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質としては、例えばPRタンパク(PRPs、EP−A−0392225に記載されている);ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤(ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている)等のイオンチャネル阻害剤;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ;ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子等の微生物が産生する物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP−A−0392225、WO95/33818、EP−A−0353191等に記載されている。
上記「植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した植物も含まれる。例として、VISTIVE<登録商標>(リノレン含量を低減させた低リノレン大豆)あるいは、high−lysine(high−oil) corn(リジンあるいはオイル含有量を増量したコーン)等が挙げられる。
さらに、上記の古典的な除草剤形質あるいは除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。
除草剤耐性となった植物に本発明化合物を使用する際は、その植物が耐性となっている除草剤(例えば、グリホサート又はその塩、グルホシネート又はその塩、ジカンバ又はその塩、イマゼタピル又はその塩、イソキサフルトール等)と本発明化合物の体系処理又は/及び混合処理により総合的に雑草を防除することができる。
本発明化合物は他の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、共力剤及び/又は薬害軽減剤と混用又は併用することができる。
かかる殺虫剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
(1)有機リン殺虫性化合物
アセフェート(acephate)、ブタチオホス(butathiofos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、シアノホス(cyanophos: CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion: ECP)、ジクロルボス(dichlorvos: DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN, エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion: MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion: MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion: DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled: BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos: ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet: PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methyl)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate: PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon: DEP)、バミドチオン(vamidothion)、フォレート(phorate)、カズサホス(cadusafos)。
(2)カーバメート殺虫性化合物
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC, カルバリル(carbaryl)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb: MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur: PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、キシリルカルブ(xylylcarb)、アルジカルブ(aldicarb)。
(3)ピレスロイド化合物
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、エンペントリン(empenthrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、ペルメトリン(permethrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメトリン(sigma−cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、フェノトリン(phenothrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、アルファシペルメトリン(alpha−cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta−cypermethrin)、ラムダシハロトリン(lambda−cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma−cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau−fluvalinate)、メトフルトリン(metofluthrin)、プロフルトリン(profluthrin)、ジメフルトリン(dimefluthrin)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−シアノ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2,3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート、プロトリフェンビュート(protrifenbute)。
(4)ネライストキシン殺虫性化合物
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensultap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)。
(5)ネオニコチノイド化合物
イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、ジノテフラン(dinotefuran)、クロチアニジン(clothianidin)。
(6)ベンゾイル尿素殺虫性化合物
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)。
(7)フェニルピラゾール殺虫性化合物
アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)。
(8)Btトキシン
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞及び産生結晶毒素、及びそれらの混合物;
(9)ヒドラジン殺虫性化合物
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)。
(10)有機塩素殺虫性化合物
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、クロルデン(chlordane)、DDT、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、メトキシクロル(methoxychlor)。
(11)その他の殺虫有効成分
マシン油(machine oil)、硫酸ニコチン(nicotine−sulfate);アベルメクチン(avermectin−B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、D−D(1, 3−Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin−benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin−A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、スピノサッド(spinosad)、スルフルラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアザメート(triazamate)、フルベンジアミド(flubendiamide)、レピメクチン(lepimectin)、りん化アルミニウム(Aluminum phosphide)、亜ひ酸(Arsenous oxide)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、DSP、フロニカミド(flonicamid)、フルフェネリム(flufenerim)、ホルメタネート(formetanate)、りん化水素(Hydrogen phosphide)、メタム・アンモニウム(metam−ammonium)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、スピロメシフェン(spiromesifen)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、スピネトラム(spinetoram)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、トラロピリル(tralopyril)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、
式(A)
Figure 2010235603
(式中、Xa1はメチル基、塩素、臭素又はフッ素を表し、Xa2はフッ素、塩素、臭素、C1−C4ハロアルキル基又はC1−C4ハロアルコキシ基を表し、Xa3はフッ素、塩素又は臭素を表し、Xa4は置換されていてもよいC1−C4アルキル、置換されていてもよいC3−C4アルケニル、置換されていてもよいC3−C4アルキニル、置換されていてもよいC3−C5シクロアルキルアルキル又は水素を表し、Xa5は水素又はメチル基を表し、Xa6は水素、フッ素又は塩素を表し、Xa7は水素、フッ素又は塩素を表す。)
で示される化合物、

式(B)
Figure 2010235603
(式中、Xb1はXb2−NH−C(=O)基、Xb2−C(=O)−NH−CH2基、Xb3−S(O)基、置換されていてもよいピロール−1−イル基、置換されていてもよいイミダゾール−1−イル基、置換されていてもよいピラゾール−1−イル基又は置換されていてもよい1,2,4−トリアゾール−1−イル基を表し、Xb2は2,2,2−トリフルオロエチル基等の置換されていてもよいC1−C4ハロアルキル基又はシクロプロピル基等の置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基を表し、Xb3はメチル等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基を表し、Xb4は水素、塩素、シアノ基又はメチル基を表す。)で示されるいずれかの化合物、

及び、式(C)
Figure 2010235603

(式中、Xc1は3,3,3−トリフルオロプロピル基等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基、2,2,2−トリクロロエトキシ基等の置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基、4−シアノフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基又は2−クロロ−3−ピリジル基等の置換されていてもよいピリジル基を表し、Xc2はメチル基又はトリフルオロメチルチオ基を表し、Xc3はメチル基又はハロゲンを表す。)
で示される化合物。
かかる殺ダニ剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
アセキノシル(acequinocyl)、アミトラズ(amitraz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ビフェナゼート(bifenazate)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、CPCBS(chlorfenson)、クロフェンテジン(clofentezine)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ケルセン(ジコホル: dicofol)、エトキサゾール(etoxazole)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、プロパルギット(propargite: BPPS)、ポリナクチン複合体(polynactins)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テトラジホン(tetradifon)、スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、アミドフルメット(amidoflumet)、及びシエノピラフェン(cyenopyrafen)。
かかる殺線虫剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
DCIP、ホスチアゼート(fosthiazate)、塩酸レバミゾール(levamisol)、メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、酒石酸モランテル(morantel tartrate)、及びイミシアホス(imicyafos)。
かかる殺菌剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
(1)ポリハロアルキルチオ殺菌性化合物[キャプタン(captan)、フォルペット(folpet)等]。
(2)有機リン殺菌性化合物[IBP、EDDP、トルクロフォスメチル(tolclofos−methyl)等]。
(3)べンズイミダゾール殺菌性化合物[ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、チオファネートメチル(thiophanate−methyl)、チアベンダゾール(thiabendazole)等]。
(4)カルボキシアミド殺菌性化合物[カルボキシン(carboxin)、メプロニル(mepronil)、フルトラニル(flutolanil)、チフルザミド(thifluzamid)、フラメトピル(furametpyr)、ボスカリド(boscalid)、ペンチオピラド(penthiopyrad)等]。
(5)ジカルボキシイミド殺菌性化合物[プロシミドン(procymidone)、イプロジオン(iprodione)、ビンクロゾリン(vinclozolin)等]。
(6)アシルアラニン殺菌性化合物[メタラキシル(metalaxyl)等]。
(7)アゾール殺菌性化合物[トリアジメフォン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、プロピコナゾール(propiconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、トリフルミゾール(triflumizole)、プロクロラズ(prochloraz)、ペンコナゾール(penconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、メトコナゾール(metconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、マイクロブタニル(myclobutanil)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、トリティコナゾール(triticonazole)、ビテルタノール(bitertanol)、イマザリル(imazalil)、フルトリアホール(flutriafol)等]。
(8)モルフォリン殺菌性化合物[ドデモルフ(dodemorph)、トリデモルフ(tridemorph)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)等]。
(9)ストロビルリン化合物[アゾキシストロビン(azoxystrobin)、クレソキシムメチル(kresoxim−methyl)、メトミノストロビン(metominostrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)等]。
(10)抗生物質[バリダマイシンA(validamycin A)、ブラストサイジンS(blasticidin S)、カスガマイシン(kasugamycin)、ポリオキシン(polyoxin)等]。
(11)ジチオカーバメート殺菌性化合物[マンコゼブ(mancozeb)、マネブ(maneb)、チウラム(thiuram)等]。
(12)その他の殺菌有効成分[フサライド(fthalide)、プロベナゾール(probenazole)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、トリシクラゾール(tricyclazole)、ピロキロン(pyroquilon)、フェリムゾン(ferimzone)、アシベンゾラルSメチル(acibenzolar S−methyl)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet)、フェノキサニル(fenoxanil)、チアジニル(tiadinil)、ジクロメジン(diclomezine)、テクロフタラム(teclofthalam)、ペンシクロン(pencycuron)、オキソリニック酸(oxolinic acid)、TPN、トリフォリン(triforine)、フェンプロピジン(fenpropidin)、スピロキサミン(spiroxamine)、フルアジナム(fluazinam)、イミノオクタジン(iminoctadine)、フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)、キノキシフェン(quinoxyfen)、フェンヘキサミド(fenhexamid)、シルチオファム(silthiofam)、プロキナジド(proquinazid)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、塩基性硫酸銅カルシウム(bordeaux mixture)、ジクロフルアニド(dichlofluanid)、シプロジニル(cyprodinil)、ピリメタニル(pyrimethanil)、メパニピリム(mepanipyrim)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ピリベンカルブ(pyribencarb)、ファモキサドン(famoxadone)、フェナミドン(fenamidone)、ゾキサミド(zoxamide)、エタボキサム(ethaboxam)、アミスルブロム(amisulbrom)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、シアゾファミド(cyazofamid)、マンジプロパミド(mandipropamid)、メトラフェノン(metrafenone)、フルオピラム(fluopiram)、ビキサフェン(bixafen)等]。
かかる除草剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
(1)フェノキシ脂肪酸除草性化合物[2,4−PA、MCP、MCPB、フェノチオール(phenothiol)、メコプロップ(mecoprop)、フルロキシピル(fluroxypyr)、トリクロピル(triclopyr)、クロメプロップ(clomeprop)、ナプロアニリド(naproanilide)等]。
(2)安息香酸除草性化合物[2,3,6−TBA、ジカンバ(dicamba)、クロピラリド(clopyralid)、ピクロラム(picloram)、アミノピラリド(aminopyralid)、キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)等]。
(3)尿素除草性化合物[ジウロン(diuron)、リニュロン(linuron)、クロルトルロン(chlortoluron)、イソプロツロン(isoproturon)、フルオメツロン(fluometuron)、イソウロン(isouron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、クミルロン(cumyluron)、ダイムロン(daimuron)、メチルダイムロン(methyl−daimuron)等]。
(4)トリアジン除草性化合物[アトラジン(atrazine)、アメトリン(ametoryn)、シアナジン(cyanazine)、シマジン(simazine)、プロパジン(propazine)、シメトリン(simetryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、プロメトリン(prometryn)、メトリブジン(metribuzin)、トリアジフラム(triaziflam)、インダジフラム(indaziflam)等]。
(5)ビピリジニウム除草性化合物[パラコート(paraquat)、ジクワット(diquat)等]。
(6)ヒドロキシベンゾニトリル除草性化合物[ブロモキシニル(bromoxynil)、アイオキシニル(ioxynil)等]。
(7)ジニトロアニリン除草性化合物[ペンディメタリン(pendimethalin)、プロジアミン(prodiamine)、トリフルラリン(trifluralin)等]。
(8)有機リン除草性化合物[アミプロホスメチル(amiprofos−methyl)、ブタミホス(butamifos)、ベンスリド(bensulide)、ピペロホス(piperophos)、アニロホス(anilofos)、グリホサート(glyphosate)、グルホシネート(glufosinate)、グルホシネート−P(glufosinate−P)、ビアラホス(bialaphos)等]。
(9)カーバメート除草性化合物[ジアレート(di−allate)、トリアレート(tri−allate)、EPTC、ブチレート(butylate)、ベンチオカーブ(benthiocarb)、エスプロカルブ(esprocarb)、モリネート(molinate)、ジメピペレート(dimepiperate)、スエップ(swep)、クロルプロファム(chlorpropham)、フェンメディファム(phenmedipham)、フェニソファム(phenisopham)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、アシュラム(asulam)等]。
(10)酸アミド除草性化合物[プロパニル(propanil)、プロピザミド(propyzamide)、ブロモブチド(bromobutide)、エトベンザニド(etobenzanid)等]。
(11)クロロアセトアニリド除草性化合物[アセトクロール(acetochlor)、アラクロール(alachlor)、ブタクロール(butachlor)、ジメテナミド(dimethenamid)、プロパクロール(propachlor)、メタザクロール(metazachlor)、メトラクロール(metolachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、テニルクロール(thenylchlor)、ペトキサミド(pethoxamid)等]。
(12)ジフェニルエーテル除草性化合物[アシフルオルフェン(acifluorfen−sodium)、ビフェノックス(bifenox)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、ラクトフェン(lactofen)、フォメサフェン(fomesafen)、クロメトキシニル(chlomethoxynil)、アクロニフェン(aclonifen)等]。
(13)環状イミド除草性化合物[オキサジアゾン(oxadiazon)、シニドンエチル(cinidon−ethyl)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazone−ethyl)、スルフェントラゾン(surfentrazone)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac−pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、ピラフルフェンエチル(pyraflufen−ethyl)、オキサジアルギル(oxadiargyl)、ペントキサゾン(pentoxazone)、フルチアセットメチル(fluthiacet−methyl)、ブタフェナシル(butafenacil)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ベンカルバゾン(bencarbazone)、サフルフェナシル(saflufenacil)等]。
(14)ピラゾール除草性化合物[ベンゾフェナップ(benzofenap)、ピラゾレート(pyrazolate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、トプラメゾン(topramezone)、ピラスルホトール(pyrasulfotole)等]。
(15)トリケトン除草性化合物[イソキサフルトール(isoxaflutole)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、スルコトリオン(sulcotrione)、メソトリオン(mesotrione)、テンボトリオン(tembotrione)、テフリルトリオン(tefuryltrione)、ビシクロピロン(bicyclopyrone)等]。
(16)アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物[クロジナホッププロパルギル(clodinafop−propargyl)、シハロホップブチル(cyhalofop−butyl)、ジクロホップメチル(diclofop−methyl)、フェノキサプロップエチル(fenoxaprop−ethyl)、フルアジホップブチル(fluazifop−butyl)、ハロキシホップメチル(haloxyfop−methyl)、キザロホップエチル(quizalofop−ethyl)、メタミホップ(metamifop)等]。
(17)トリオンオキシム除草性化合物[アロキシジム(alloxydim−sodium)、セトキシジム(sethoxydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、クレソジム(clethodim)、クロプロキシジム(cloproxydim)、シクロキシジム(cycloxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、プロフォキシジム(profoxydim)等]。
(18)スルホニル尿素除草性化合物[クロルスルフロン(chlorsulfuron)、スルホメツロンメチル(sulfometuron−methyl)、メトスルフロンメチル(metsulfuron−methyl)、クロリムロンエチル(chlorimuron−ethyl)、トリベニュロンメチル(tribenuron−methyl)、トリアスルフロン(triasulfuron)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron−methyl)、チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron−methyl)、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron−ethyl)、プリミスルフロンメチル(primisulfuron−methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、アミドスルフロン(amidosulfuron)、シノスルフロン(cinosulfuron)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron−methyl)、プロスルフロン(prosulfuron)、エタメトスルフロンメチル(ethametsulfuron−methyl)、トリフルスルフロンメチル(triflusulfuron−methyl)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron)、スルホスルフロン(sulfosulfuron)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム(iodosulfuron−methyl−sodium)、フォラムスルフロン(foramsulfuron)、メソスルフロンメチル(mesosulfuron−methyl)、トリフロキシスルフロン(trifloxysulfuron)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、オルソスルファムロン(orthosulfamuron)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron)、メタゾスルフロン(metazosulfuron)等]。
(19)イミダゾリノン除草性化合物[イマザメタベンズメチル(imazamethabenz−methyl)、イマザメタピル(imazamethapyr)、イマザモックス(imazamox)、イマザピル(imazapyr)、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)等]。
(20)スルホンアミド除草性化合物[フルメトスラム(flumetsulam)、メトスラム(metosulam)、ジクロスラム(diclosulam)、フロラスラム(florasulam)、クロランスラムメチル(cloransulam−methyl)、ペノキススラム(penoxsulam)、ピロキススラム(pyroxsulam)等]。
(21)ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物[ピリチオバックナトリウム(pyrithiobac−sodium)、ビスピリバックナトリウム(bispyribac−sodium)、ピリミノバックメチル(pyriminobac−methyl)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド(pyriftalid)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)等]。
(22)その他の系統の除草有効成分[ベンタゾン(bentazone)、ブロマシル(bromacil)、ターバシル(terbacil)、クロルチアミド(chlorthiamid)、イソキサベン(isoxaben)、ジノセブ(dinoseb)、アミトロール(amitrole)、シンメチリン(cinmethylin)、トリジファン(tridiphane)、ダラポン(dalapon)、ジフルフェンゾピルナトリウム(diflufenzopyr−sodium)、ジチオピル(dithiopyr)、チアゾピル(thiazopyr)、フルカルバゾンナトリウム(flucarbazone−sodium)、プロポキシカルバゾンナトリウム(propoxycarbazone−sodium)、メフェナセット(mefenacet)、フルフェナセット(flufenacet)、フェントラザミド(fentrazamide)、カフェンストロール(cafenstrole)、インダノファン(indanofan)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、ベンフレセート(benfuresate)、ACN、ピリデート(pyridate)、クロリダゾン(chloridazon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、フルルタモン(flurtamone)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ピコリナフェン(picolinafen)、ベフルブタミド(beflubutamid)、クロマゾン(clomazone)、アミカルバゾン(amicarbazone)、ピノキサデン(pinoxaden)、ピラクロニル(pyraclonil)、ピロキサスルホン(pyroxasulfone)、チエンカルバゾンメチル(thiencarbazone−methyl)、アミノシクロピラクロール(aminocyclopyrachlor)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)、メチオゾリン(methiozolin)、フェノキサスルホン(fenoxasulfone)等]。
かかる植物生長調節剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
ヒメキサゾール(hymexazol)、パクロブトラゾール(paclobutrazol)、ウニコナゾール−P(uniconazole−P)、イナベンフィド(inabenfide)、プロヘキサジオンカルシウム(prohexadione−calcium)、アビグリシン(aviglycine)、1−ナフチルアセトアミド(naphthaleneacetamide)、アブシジン酸(abscisic acid)、インドール酪酸(indolebutyric acid)、エチクロゼート(ethychlozate)、エテホン(ethephon)、クロキシホナック(cloxyfonac)、クロルメコート(chlormequat)、ジクロルプロップ(dichlorprop)、ジベレリン(gibberellins)、プロヒドロジャスモン(prohydrojasmon)、ベンジルアミノプリン(benzyladenine)、ホルクロルフェニュロン(forchlorfenuron)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、過酸化カルシウム(calcium peroxide)、メピコートクロリド(mepiquat−chloride)、及び4−CPA(4−chlorophenoxyacetic acid)。
かかる共力剤の有効成分としては、例えば、以下のものが挙げられる。
ピペロニル ブトキサイド(piperonyl butoxide)、 セサメックス(sesamex)、スルホキシド(sulfoxide)、N−(2−エチルへキシル)−8,9,10−トリノルボルン−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド(MGK 264)、N−デクリイミダゾール(N−declyimidazole)、WARF−アンチレジスタント(WARF−antiresistant)、TBPT、TPP、IBP、PSCP、ヨウ化メチル(CH3I)、t−フェニルブテノン(t−phenylbutenone)、ジエチルマレエート(diethylmaleate)、DMC、FDMC、ETP、及びETN。
かかるに薬害軽減剤としては、例えば、以下のものが挙げられる。
フリラゾール(furilazole)、ジクロルミッド(dichlormid)、ベノキサコール(benoxacor)、アリドクロール(allidochlor)、イソキサジフェンエチル(isoxadifen−ethyl)、フェンクロラゾールエチル(fenchlorazole−ethyl)、メフェンピルジエチル(mefenpyr−diethyl)、クロキントセットメキシル(cloquintocet−mexyl)、フェンクロリム(fenclorim)、シプロスルファミド(cyprosulfamide)、シオメトリニル(cyometrinil)、オキサベトリニル(oxabetrinil)、フルクソフェニム(fluxofenim)、フルラゾール(flurazole)、2−ジクロロメチル−2−メチル−1,3−ジオキソラン(2−dichloromethyl−2−methyl−1,3−dioxolane)、及び1,8−ナフタル酸無水物(1,8−naphthalic anhydride)。
本発明化合物によって防除できる雑草としては、例えば次のものが挙げられる。
メヒシバ(Digitaria ciliaris)、オヒシバ(Eleusine indica)、エノコログサ(Setaria viridis)、アキノエノコログサ(Setaria faberi)、キンエノコログサ(Setaria glauca)、イヌビエ(Echinochloa crus−galli)、オオクサキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム(Panicum texanum)、メリケンニクキビ(Brachiaria platyphylla)、アレキサンダーグラス(Brachiaria plantaginea)、スリナムグラス(Brachiaria decumbens)、セイバンモロコシ(Sorghum halepense)、シャッターケーン(Andropogon sorghum)、カラスムギ(Avena fatua)、ネズミムギ(Lolium multiflorum)、ブラックグラス(Alopecurus myosuroides)、ウマノチャヒキ(Bromus tectorum)、アレチノチャヒキ(Bromus sterilis)、ヒメカナリークサヨシ(Phalaris minor)、セイヨウヌカボ(Apera spica−venti)、スズメノカタビラ(Poa annua)、シバムギ(Agropyron repens)、コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rotundus)、キハマスゲ(Cyperus esculentus)、スベリヒユ(Portulaca oleracea)、アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲイトウ(Amaranthus hybridus)、オオホナガアオゲイトウ(Amaranthus palmeri)、ウォーターヘンプ(Amaranthus rudis)、イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(Sida spinosa)、ソバカズラ(Fallopia convolvulus)、サナエタデ(Polygonum scabrum)、アメリカサナエタデ(Persicaria pennsylvanica)、ハルタデ(Persicaria vulgaris)、ナガバギシギシ(Rumex crispus)、エゾノギシギシ(Rumex obtusifolius)、イタドリ(Fallopia japonica)、シロザ(Chenopodium album)、ホウキギ(Kochia scoparia)、イヌタデ(Polygonum longisetum)、イヌホオズキ(Solanum nigrum)、シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium)、マルバアサガオ(Ipomoea purpurea)、アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomoea hederacea var. integriuscula)、マメアサガオ(Ipomoea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arvensis)、ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lamium amplexicaule)、オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Helianthus annuus)、イヌカミツレ(Matricaria perforata or inodora)、カミツレ(Matricaria chamomilla)、コーンマリーゴールド(Chrysanthemum segetum)、オロシャギク(Matricaria matricarioides)、ブタクサ(Ambrosia artemisiifolia)、オオブタクサ(Ambrosia trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron canadensis)、ヨモギ(Artemisia princeps)、セイタカアワダチソウ(Solidago altissima)、アレチノギク(Conyza bonariensis)、アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata)、エビスグサ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガーウィード(Desmodium tortuosum)、シロツメクサ(Trifolium repens)、クズ(Pueraria lobata)、カラスノエンドウ(Vicia angustifolia)、ツユクサ(Commelina communis)、マルバツユクサ(Commelina benghalensis)、ヤエムグラ(Galium aparine)、ハコベ(Stellaria media)、ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum)、ノハラガラシ(Sinapis arvensis)、ナズナ(Capsella bursa−pastoris)、オオイヌノフグリ(Veronica persica)、フラサバソウ(Veronica hederifolia)、フィールドパンジー(Viola arvensis)、ワイルドパンジー(Viola tricolor)、ヒナゲシ(Papaver rhoeas)、ワスレナグサ(Myosotis scorpioides)、オオトウワタ(Asclepias syriaca)、トウダイグサ(Euphorbia helioscopia)、オオニシキソウ(Chamaesyce nutans)、アメリカフウロ(Geranium carolinianum)、オランダフウロ(Erodium cicutarium)、スギナ(Equisetum arvense)、アシカキ(Leersia japonica)、タイヌビエ(Echinochloa oryzicola)、ヒメタイヌビエ(Echinochloa crus−galli var. formosensis)、アゼガヤ(Leptochloa chinensis)、タマガヤツリ(Cyperus difformis)、ヒデリコ(Fimbristylis miliacea)、マツバイ(Eleocharis acicularis)、イヌホタルイ(Scirpus juncoides)、タイワンヤマイ(Scirpus wallichii)、ミズガヤツリ(Cyperus serotinus)、クログワイ(Eleocharis kuroguwai)、コウキヤガラ(Bolboschoenus koshevnikovii)、シズイ(Schoenoplectus nipponicus)、コナギ(Monochoria vaginalis)、アゼナ(Lindernia procumbens)、アブノメ(Dopatrium junceum)、キカシグサ(Rotala indica)、ヒメミソハギ(Ammannia multiflora)、ミゾハコベ(Elatine triandra)、チョウジタデ(Ludwigia epilobioides)、ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum)、オモダカ(Sagittaria trifolia)、ヒルムシロ(Potamogeton distinctus)、セリ(Oenanthe javanica)、ミズハコベ(Callitriche palustris)、アゼトウガラシ(Lindernia micrantha)、アメリカアゼナ(Lindernia dubia)、タカサブロウ(Eclipta prostrata)、イボクサ(Murdannia keisak)、キシュウスズメノヒエ(Paspalum distichum)、及びエゾノサヤヌカグサ(Leersia oryzoides)等の雑草。。ナガエツルノゲイトウ(Alternanthera philoxeroides)、フロッグスビット(Limnobium spongia)、ウォーターファーン(Salvinia属)、ボタンウキクサ(Pistia stratiotes)、ウォーターペニーウォート(Hydrocotyle属)、糸状藻類(Pithophora属、Cladophora属)、クーンテイル(Ceratophyllum demersum)、ウキクサ(Lemna属)、ハゴロモモ(Cabomba caroliniana)、クロモ(Hydrilla verticillata)、サザンネイアド(Najas guadalupensis)、ポンドウィード類(Potamogeton crispus、Potamogeton illinoensis、Potamogeton pectinatus等)、ウォーターミール(Wolffia属)、ウォーターミルフォイル類(Myriophyllum spicatum、Myriophyllum heterophyllum等)、ホテイアオイ(Eichhornia crassipes)等の水生植物。蘚類、苔類、ツノゴケ類。シアノバクテリア。シダ類。永年性作物(仁果類、石果類、液果類、堅果類、カンキツ類、ホップ、ブドウ等)の吸枝(sucher)。
本発明化合物が効力を有する有害節足動物としては、例えば、有害昆虫類や有害ダニ類、具体的には以下のものが挙げられる。
半翅目害虫:ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus),トビイロウンカ(Nilaparvata lugens),セジロウンカ(Sogatella furcifera)等のウンカ類,ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps),タイワンツマグロヨコバイ(Nephotettix virescens),チャノミドリヒメヨコバイ(Empoasca onukii)等のヨコバイ類,ワタアブラムシ(Aphis gossypii),モモアカアブラムシ(Myzus persicae),ダイコンアブラムシ(Brevicoryne brassicae),ユキヤナギアブラムシ(Aphis spiraecola),チューリップヒゲナガアブラムシ(Macrosiphum euphorbiae),ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani),ムギクビレアブラムシ(Rhopalosiphum padi),ミカンクロアブラムシ(Toxoptera citricidus),モモコフキアブラムシ(Hyalopterus pruni)等のアブラムシ類,アオクサカメムシ(Nezara antennata),ホソヘリカメムシ(Riptortus clavetus),クモヘリカメムシ(Leptocorisa chinensis),トゲシラホシカメムシ(Eysarcoris parvus),クサギカメムシ(Halyomorpha mista)等のカメムシ類,オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum),タバココナジラミ(Bemisia tabaci),シルバーリーフコナジラミ(Bemisia argentifolii),ミカンコナジラミ(Dialeurodes citri),ミカントゲコナジラミ(Aleurocanthus spiniferus)等のコナジラミ類,アカマルカイガラムシ(Aonidiella aurantii),サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa),シトラススノースケール(Unaspis citri),ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens),イセリヤカイガラムシ(Icerya purchasi),フジコナカイガラムシ(Planococcus kraunhiae),クワコナカイガラムシ(Pseudococcus longispinis),クワシロカイガラムシ(Pseudaulacaspis pentagona)等のカイガラムシ類,グンバイムシ類,トコジラミ(Cimex lectularius)等のトコジラミ類,キジラミ類等。
鱗翅目害虫:ニカメイガ(Chilo suppressalis)、サンカメイガ(Tryporyza incertulas)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、ワタノメイガ(Notarcha derogata)、ノシメマダラメイガ(Plodia interpunctella)、アワノメイガ(Ostrinia furnacalis)、ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)、シバツトガ(Pediasia teterrellus)等のメイガ類、ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua)、アワヨトウ(Pseudaletia separata)、ヨトウガ(Mamestra brassicae)、タマナヤガ(Agrotis ipsilon)、タマナギンウワバ(Plusia nigrisigna)、トリコプルシア属、ヘリオティス属、ヘリコベルパ属等のヤガ類、モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類、アドキソフィエス属、ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta)、マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)、アズキサヤムシガ(Matsumuraeses azukivora)、リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana fasciata)、チャノコカクモンハマキ(Adoxophyes sp.)、チャハマキ(Homona magnanima)、ミダレカクモンハマキ(Archips fuscocupreanus)、コドリンガ(Cydia pomonella)等のハマキガ類、チャノホソガ(Caloptilia theivora)、キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoneella)のホソガ類、モモシンクイガ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類、リオネティア属等のハモグリガ類、リマントリア属、ユープロクティス属等のドクガ類、コナガ(Plutella xylostella)等のスガ類、ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)ジャガイモガ(Phthorimaea operculella)等のキバガ類、アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類、イガ(Tinea translucens)、コイガ(Tineola bisselliella)等のヒロズコガ類等。
アザミウマ目害虫:ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)、ミナミキイロアザミウマ(Thrips parmi)、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)、ネギアザミウマ(Thrips tabaci)、ヒラズハナアザミウマ(Frankliniella intonsa)などのアザミウマ類等。
双翅目害虫:アカイエカ(Culex pipiens pallens),コガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus),ネッタイイエカ(Culex quinquefasciatus)等のイエカ類,ネッタイシマカ(Aedes aegypti),ヒトスジシマカ(Aedes albopictus)等のエーデス属,シナハマダラカ(Anopheles sinensis)等のアノフェレス属,ユスリカ類,イエバエ(Musca domestica),オオイエバエ(Muscina stabulans)等のイエバエ類,クロバエ類,ニクバエ類,ヒメイエバエ類,タネバエ(Delia platura),タマネギバエ(Delia antiqua)等のハナバエ類,イネハモグリバエ(Agromyza oryzae),イネヒメハモグリバエ(Hydrellia griseola),トマトハモグリバエ,(Liriomyza sativae),マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii),ナモグリバエ(Chromatomyia horticola)等のハモグリバエ類,イネキモグリバエ(Chlorops oryzae)等のキモグリバエ類,ウリミバエ(Dacus cucurbitae),チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)等のミバエ類,ショウジョウバエ類,オオキモンノミバエ(Megaselia spiracularis)等のノミバエ類,オオチョウバエ(Clogmia albipunctata)等のチョウバエ類,ブユ類,ウシアブ(Tabanus trigonus)等のアブ類,サシバエ類等。
鞘翅目害虫:ウエスタンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera virgifera),サザンコーンルートワーム(Diabrotica undecimpunctata howardi)等のコーンルートワーム類,ドウガネブイブイ(Anomala cuprea),ヒメコガネ(Anomala rufocuprea),マメコガネ(Popillia japonica)等のコガネムシ類,メイズウィービル(Sitophilus zeamais),イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus),アズキゾウムシ(Callosobruchuys chienensis),イネゾウムシ(Echinocnemus squameus),ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis),シバオサゾウムシ(Sphenophorus venatus)等のゾウムシ類,チャイロコメノゴミムシダマシ(Tenebrio molitor),コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類,イネドロオイムシ(Oulema oryzae),ウリハムシ(Aulacophora femoralis),キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata),コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)等のハムシ類,ヒメマルカツオブシムシ(Anthrenus verbasci),ハラジロカツオブシムシ(Dermestes maculates)等のカツオブシムシ類,タバコシバンムシ(Lasioderma serricorne)等のシバンムシ類,ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類,ヒラタキクイムシ(Lyctus brunneus),マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)等のキクイムシ類,ナガシンクイムシ類,ヒョウホンムシ類,ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)等のカミキリムシ類,コメツキムシ類(Agriotes spp. )アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等。
直翅目害虫:トノサマバッタ(Locusta migratoria),ケラ(Gryllotalpa africana),コバネイナゴ(Oxya yezoensis),ハネナガイナゴ(Oxya japonica),コオロギ類等。
隠翅目害虫:ネコノミ(Ctenocephalides felis),イヌノミ(Ctenocephalides canis),ヒトノミ(Pulex irritans),ケオプスネズミノミ(Xenopsylla cheopis)等。
シラミ目害虫:コロモジラミ(Pediculus humanus corporis),ケジラミ (Phthirus pubis),ウシジラミ(Haematopinus eurysternus),ヒツジジラミ(Dalmalinia ovis),ブタジラミ(Haematopinus suis)等。
膜翅目害虫: イエヒメアリ(Monomorium pharaosis),クロヤマアリ(Formica fusca japonica),ルリアリ(Ochetellus glaber),アミメアリ(Pristomyrmex pungens),オオズアリ(Pheidole noda),ハキリアリ(Acromyrmex spp. ),ファイヤーアント(Solenopsis spp. )等のアリ類,スズメバチ類,アリガタバチ類,カブラハバチ(Athalia rosae),ニホンカブラバチ(Athalia japonica)等のハバチ類等。
ゴキブリ目害虫:チャバネゴキブリ(Blattella germanica),クロゴキブリ(Periplaneta fuliginosa),ワモンゴキブリ(Periplaneta americana),トビイロゴキブリ(Periplaneta brunnea),トウヨウゴキブリ(Blatta orientalis)等のゴキブリ類,ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus),イエシロアリ(Coptotermes formosanus),アメリカカンザイシロアリ(Incisitermes minor),ダイコクシロアリ(Cryptotermes domesticus),タイワンシロアリ(Odontotermes formosanus),コウシュンシロアリ(Neotermes koshunensis),サツマシロアリ(Glyptotermes satsumensis),ナカジマシロアリ(Glyptotermes nakajimai),カタンシロアリ(Glyptotermes fuscus),コダマシロアリ(Glyptotermes kodamai),クシモトシロアリ(Glyptotermes kushimensis),オオシロアリ(Hodotermopsis japonica),コウシュウイエシロアリ(Coptotermes guangzhoensis),アマミシロアリ(Reticulitermes miyatakei),キアシシロアリ(Reticulitermes flaviceps amamianus),カンモンシロアリ(Reticulitermes sp. ),タカサゴシロアリ(Nasutitermes takasagoensis),ニトベシロアリ(Pericapritermes nitobei),ムシャシロアリ(Sinocapritermes mushae) 、Reticuliterumes flavipes、Reticulitermes hesperus、Reticulitermes virginicus、Reticulitermes tibialis、Heterotermes aureus、Zootermopsis nevadensis等のシロアリ類等。
ダニ目害虫:ナミハダニ(Tetranychus urticae),カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai),ミカンハダニ(Panonychus citri)リンゴハダニ(Panonychus ulmi),オリゴニカス属等のハダニ類,ミカンサビダニ(Aculops pelekassi),リュウキュウミカンサビダニ(Phyllocoptruta citri),トマトサビダニ(Aculops lycopersici),チャノサビダニ(Calacarus carinatus),チャノナガサビダニ(Acaphylla theavagrans),ニセナシサビダニ(Eriophyes chibaensis),リンゴサビダニ(Aculus schlechtendali)等のフシダニ類,チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)等のホコリダニ類,ミナミヒメハダニ(Brevipalpus phoenicis)等のヒメハダニ類,ケナガハダニ類,フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis),ヤマトチマダニ(Haemaphysalis flava),タイワンカクマダニ(Dermacentor taiwanicus),アメリカンドックチック(Dermacentor variabilis),ヤマトマダニ(Ixodes ovatus),シュルツマダニ(Ixodes persulcatus),ブラックレッグドチック(Ixodes scapularis),ローンスターチック(Amblyomma americanum),オウシマダニ(Boophilus microplus),クリイロコイタマダニ(Rhipicephalus sanguineus)等のマダニ類,ミミヒゼンダニ(Octodectes cynotis)等のキュウヒゼンダニ類,ヒゼンダニ(Sacroptes scabiei)等のヒゼンダニ類,イヌニキビダニ(Demodex canis)等のニキビダニ類,ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae),ホウレンソウケナガコナダニ(Tyrophagus similis)等のコナダニ類,コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae),ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類,ホソツメダニ(Cheyletus eruditus),クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis),ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類,イエダニ(Ornithonyssus bacoti),トリサシダニ(Ornithonyssus sylvairum),ワクモ(Dermanyssus gallinae)等のワクモ類,アオツツガムシ(Leptotrombidium akamushi)等のツツガムシ類等,カバキコマチグモ(Chiracanthium japonicum),セアカゴケグモ(Latrodectus hasseltii)等のクモ類等。
唇脚綱類:ゲジ(Thereuonema hilgendorfi),トビズムカデ(Scolopendra subspinipes)等。
倍脚綱類:ヤケヤスデ(Oxidus gracilis),アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等。
等脚目類:オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等。
また、本発明化合物は、寄生虫の防除にも使用することができる。
本発明化合物は、例えば以下の製造法により製造することができる。
製造法1
式(I)で示される化合物は、式(II)で示される化合物と式(III)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、Y1はハロゲン又は式OSO213(R13はC1-3アルキル基及びフェニル基を示し、これらのC1-3アルキル基及びフェニル基はハロゲンで置換されていてもよく、フェニル基はC1-3アルキル基で置換されていてもよい。)で表される基を表し、R1、R2、R3、W、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;アセトニトリル等のニトリル類;酢酸エチル等のエステル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;スルホラン等のスルホン類、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、式(III)で示される化合物が、式(II)で示される化合物1モルに対して、通常1モル以上、好ましくは1〜3モル用いられる。
該反応は通常、塩基の存在下で行われる。該反応に用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、t−ブトキシカリウム等の無機塩基が挙げられる。該反応には塩基が、式(II)で示される化合物1モルに対して、通常0.5〜10モル当量、好ましくは1〜5モル当量用いられる。
該反応の反応温度は通常、−30〜180℃、好ましくは0〜100℃である。該反応の反応時間は通常、10分間〜30時間である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析すること確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(I)で示される化合物を単離することができる。
製造法2
式(I)で示される本発明化合物のうち、nが1、2、3又は4を表し、Z2の一個がC3-8シクロアルキル基;C6-10アリール基;又は5若しくは6員のヘテロアリール基(該C3-8シクロアルキル基;C6-10アリール基;又は5若しくは6員のヘテロアリール基はハロゲン及びC1-6アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよい)を表し、かつnが2、3又は4である場合、他のZ2が、上記Z2の定義のうち、ハロゲン、ハロゲンで置換されたC6-10アリール基、及びハロゲンで置換された5若しくは6員のヘテロアリール基以外の基である、式(I−a)で示される化合物は、以下の反応により製造することもできる。

Figure 2010235603
〔式中、Y2はハロゲンを表し、Z2-aは前記のZ2の定義のうちハロゲン、ハロゲンで置換されたC6-10アリール基、及びハロゲンで置換された5若しくは6員のヘテロアリール基以外の基を表し、Z2-bはC3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基又は5若しくは6員のヘテロアリール基(該C3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基又は5若しくは6員のヘテロアリール基は、ハロゲン及びC1-6アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよい)を表し、R1、R2、R3、W及びZ1は前記と同じ意味を表し、n’は1、2、3又は4を表す。〕
該反応において、式(IV−a)で示される化合物は、式(I−b)で示される化合物1モルに対して、通常1モル以上、好ましくは1〜3モル用いられる。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;アセトニトリル等のニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;スルホラン等のスルホン類;水、及びこれらの混合物が挙げられる。
また、該反応は、塩基の存在下で行われる。該反応に用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。該反応には塩基が、式(I−b)で示される化合物1モルに対して、通常0.5〜10モル当量、好ましくは1〜5モル当量用いられる。
該反応は、通常、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム等の触媒の存在下で行われる。該触媒は、式(I−b)で示される化合物1モルに対して、通常0.001〜0.5モル、好ましくは0.01〜0.2モル用いられる。
該反応の反応温度は、通常20〜180℃、好ましくは60〜150℃である。該反応の反応時間は通常30分〜100時間である。該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(I−a)で示される化合物を単離することができる。
製造法3
本発明化合物のうち、WがS(O)R5である、式(I−c)で示される化合物は、以下の反応により製造することもできる。

Figure 2010235603
〔式中、R1、R2、R3、R5、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応には酸化剤が用いられる。かかる酸化剤としては、例えば、過酸化水素;過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸等の過酸類;メタ過ヨウ素酸ナトリウム、オゾン、二酸化セレン、クロム酸、四酸化二窒素、硝酸アセチル、ヨウ素、臭素、N−ブロモスクシンイミド、及びヨードシルベンゼンが挙げられる。酸化剤は式(I−d)で示される化合物1モルに対して通常0.8〜1.2モル用いられる。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化飽和炭化水素類;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;アセトニトリル等のニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;スルホラン等のスルホン類;酢酸、プロピオン酸等の有機酸類;水、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応の反応温度は、通常−50〜100℃、好ましくは0〜50℃、である。該反応の反応時間は通常10分〜100時間である。該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(I−c)で示される化合物を単離することができる。
製造法4
本発明化合物のうち、WがS(O)25を表す、式(I−e)で示される化合物は、以下の反応により製造することもできる。

Figure 2010235603

〔式中、m’は0または1を表し、R1、R2、R3、R5、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応には酸化剤が用いられる。かかる酸化剤としては、例えば、過酸化水素;過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸等の過酸類;メタ過ヨウ素酸ナトリウム、オゾン、二酸化セレン、クロム酸、四酸化二窒素、硝酸アセチル、ヨウ素、臭素、N−ブロモスクシンイミド、、ヨードシルベンゼン、過酸化水素とタングステン触媒との組み合わせ、過酸化水素とバナジウム触媒との組み合わせ、及び過マンガン酸カリウムが挙げられる。該反応には酸化剤が、原料として式(I−d)で示される化合物が用いられる場合、式(I−d)で示される化合物1モル対して通常2〜10モル、好ましくは2〜4モル用いられる。原料として式(I−c)で示される化合物が用いられる場合、酸化剤は、式(I−c)で示される化合物1モルに対して通常1〜10モル、好ましくは1〜3モル用いられる。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化飽和炭化水素類;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;アセトニトリル等のニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;スルホラン等のスルホン類;酢酸、プロピオン酸等の有機酸類;水、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応の反応温度は、通常0〜200℃、好ましくは20〜150℃、である。該反応の反応時間は通常30分〜100時間である。該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(I−e)で示される化合物を単離することができる。
製造法5
本発明化合物のうち、Wが塩素を表す、式(I−f)で示される化合物は、以下の反応により製造することもできる。
Figure 2010235603

〔式中、R18はC1-6アルキル基を表し、R1、R2、R3、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応には塩素化剤が用いられる。かかる塩素化剤としては、例えば、塩化スルフリルが挙げられる。塩素化剤は式(I−g)で示される化合物1モルに対して通常0.8〜1.2モル用いられる。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化飽和炭化水素類が挙げられる。
該反応の反応温度は、通常−100〜50℃、好ましくは―80〜30℃である。該反応の反応時間は通常10分〜10時間である。該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
該反応の終了後は、例えば反応混合物を濃縮し、クロマトグラフィー精製する等の操作を行うことにより、式(I−f)で示される化合物を単離することができる。
本発明化合物の具体例を以下に示す。
Figure 2010235603
Figure 2010235603
Figure 2010235603
Figure 2010235603
Figure 2010235603
1)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
2)式(I1)〜(I30)において、Arが2−プロピルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
3)式(I1)〜(I30)において、Arが2,4−ジメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
4)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
5)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチル−4−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
6)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチル−6−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
7)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
8)式(I1)〜(I30)において、Arが2,4,6−トリメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
9)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチル−4,6−ジメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
10)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチル−4−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
11)式(I1)〜(I30)において、Arが2,4,6−トリエチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
12)式(I1)〜(I30)において、Arが2,4−ジエチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
13)式(I1)〜(I30)において、Arが2,4−ジエチル−6−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
14)式(I1)〜(I30)において、Arが4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
15)式(I1)〜(I30)において、Arが4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
16)式(I1)〜(I30)において、Arが4−シアノ−2,6−ジエチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
17)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチル−4−メトキシフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
18)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチル−4−ニトロフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
19)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチル−4−フェニルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
20)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチル−4−エチニルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
21)式(I1)〜(I30)において、Arが2−シアノ−4,6−ジメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
22)式(I1)〜(I30)において、Arが2−シアノ−6−エチル−4−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
23)式(I1)〜(I30)において、Arが2,4−ジクロロ−6−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
24)式(I1)〜(I30)において、Arが2−クロロ−4,6−ジメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
25)式(I1)〜(I30)において、Arが2−クロロ−6−エチル−4−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
26)式(I1)〜(I30)において、Arが2,4−ジクロロ−6−エチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
27)式(I1)〜(I30)において、Arが2−ブロモ−6−エチル−4−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
28)式(I1)〜(I30)において、Arが4−クロロ−2−エチル−6−メトキシフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
29)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチル−6−メトキシ−4−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
30)式(I1)〜(I30)において、Arが4−(4−クロロフェニル)−2,6−ジエチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
31)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチル−4−(4−メチルフェニル)フェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
32)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチル−6−エチニル−4−フェニルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
33)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチル−6−メトキシ−4−フェニルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
34)式(I1)〜(I30)において、Arが2−クロロ−6−エチル−4−フェニルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
35)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチル−4−トリフルオロメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
36)式(I1)〜(I30)において、Arが2,6−ジエチル−4−トリフルオロメトキシフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
37)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチル−6−エチニル−4−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
38)式(I1)〜(I30)において、Arが2−クロロ−6−エチル−4−メトキシフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
39)式(I1)〜(I30)において、Arが2−シクロプロピル−6−エチル−4−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
40)式(I1)〜(I30)において、Arが4−シクロプロピル−2,6−ジエチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
41)式(I1)〜(I30)において、Arが5−(4−クロロフェニル)−2−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
42)式(I1)〜(I30)において、Arが5−(4−フルオロフェニル)−2−メチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
43)式(I1)〜(I30)において、Arが2−ブロモ−4,6−ジメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
44)式(I1)〜(I30)において、Arが2−メトキシ−4,6−ジメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
45)式(I1)〜(I30)において、Arが2−エチニル−4,6−ジメチルフェニル基であって、
Wが塩素、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はN−フェニル−N−エトキシカルボニルアミノ基であるピリダジノン化合物。
参考製造法1
式(II)で示される化合物は、式(V)で示される化合物に金属水酸化物を反応させることによって、製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、R14はC1-6アルキル基を表し、R1、R2、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、水;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル溶媒、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる金属水酸化物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物が挙げられる。該反応には金属水酸化物が、式(V)で示される化合物1モルに対して、通常1〜120モル、好ましくは1〜40モル用いられる。
該反応の反応温度は、通常室温から溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは溶媒の沸点である。該反応は封管又は耐圧密閉容器中で行うこともできる。該反応の反応時間は、通常5分〜数週間程度である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物に酸及び水を加えてから、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(II)で示される化合物を単離することができる。
参考製造法2
式(II)で示される化合物は、式(V)で示される化合物に酸を作用させることによって、製造することもできる。
Figure 2010235603
〔式中、R1、R2、R14、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、水;酢酸、プロピオン酸等の有機カルボン酸、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸としては、例えば、臭化水素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等が挙げられる。
該反応には酸が、式(V)で示される化合物1モルに対して、通常1〜120モル、好ましくは2〜20モル用いられる。
該反応の反応温度は、通常室温から使用する溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは80℃〜溶媒の沸点である。該反応は封管又は耐圧密閉容器中で行うこともできる。該反応の反応時間は、通常5分〜数週間程度である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物に水を加えてから、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(II)で示される化合物を単離することができる。
参考製造法3
式(II)で示される化合物は、式(V)で示される化合物にルイス酸を作用させ、ついでアルカリ水溶液を作用させることによって、製造することもできる。
Figure 2010235603
〔式中、R1、R2、R14、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化飽和炭化水素類が挙げられる。
該反応に用いられるルイス酸としては、例えば、三臭化ホウ素、塩化アルミニウム等が挙げられる。
該反応にはルイス酸は、式(V)で示される化合物1モルに対して、通常1〜10モル、好ましくは1〜3モル用いられる。
該反応に用いられるアルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水溶液等が用いられる。該反応にはアルカリ金属又はアルカリ土類金属が、式(V)で示される化合物1モルに対して、通常1〜10モル用いられる。
該反応の反応温度は、通常−50〜100℃、好ましくは0〜30℃である。該反応の反応時間は、通常5分〜10時間程度である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物に水と酸とを加えてから、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(II)で示される化合物を単離することができる。
参考製造法4
式(II)で示される化合物は、式(VI)で示される化合物と塩基とを反応させることによって製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、R15はC1-6アルキル基を表し、R1、R2、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;アセトニトリル等のニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;スルホラン等のスルホン類、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば、カリウムtert−ブトキシド等の金属アルコキシド;水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物;及びトリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基等が挙げられる。該反応には塩基が、式(VI)で示される化合物1モルに対して、通常1〜10モル、好ましくは2〜5モル用いられる。
該反応の反応温度は通常−60〜180℃、好ましくは−10〜100℃である。該反応の反応時間は通常10分〜30時間である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物に酸及び水を加えてから、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(II)で示される化合物を単離することができる。
参考製造法5
式(II)で示される化合物のうち、nが1、2、3又は4を表し、Z2のうちの1個がC3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基又は5若しくは6員のヘテロアリール基(該C3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基又は5若しくは6員のヘテロアリール基はハロゲン及びC1-6アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよい)を表し、かつnが2、3又は4である場合、他のZ2がハロゲン;ハロゲンで置換されたC6-10アリール基;及びハロゲンで置換された5若しくは6員のヘテロアリール基以外の基である、式(II−a)で示される化合物は、以下の反応により製造することもできる。
Figure 2010235603
〔式中、R1、R2、Z1、Z2-a、Z2-b、Y2及びn’は前記と同じ意味を表す。〕
参考製造法6
式(II)で示される化合物のうち、n個のZ2の少なくとも1個がエチニル基を表し、その他がC2-6アルキニル基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されたC6-10アリール基、及びハロゲン原子で置換された5もしくは6員のヘテロアリール基以外の基を表す、式(II−c)で示される化合物は以下の製造法により製造することもできる。

Figure 2010235603

〔式中、Y8はハロゲンを表し、R17はC1-6アルキル基(例えば、メチル基、ブチル基等)を表し、Z2-dは前記のZ2の定義のうちC2-6アルキニル基、ハロゲン、ハロゲンで置換されたC6-10アリール基、及びハロゲンで置換された5もしくは6員のヘテロアリール基以外の基を表し、kは1、2、3又は4を表し、GはC1-6アルキルカルボニル基又はC1-6アルキルオキシカルボニル基を表し、R1、R2、Z1及びnは前記と同じ意味を表す。〕
本反応においては、式(XVIII)で示される化合物を、式(IV−b)で示される有機金属試薬とカップリング反応させ、ついでアルカリ金属塩と反応させることにより、トリメチルシリル基の除去及びGで表されるC1-6アルキルカルボニル基又はC1-6アルキルオキシカルボニル基の水素への変換を行い、式(II−c)で示される化合物を製造することができる。
式(IV−b)で示される化合物を用いる第1段階の反応は溶媒中で行う。使用できる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
本第1段階の反応では、式(IV−b)で示される有機金属試薬は、式(XVIII)で示される化合物に対して、通常kモル当量以上、好ましくは1〜10モル当量用いることができる。
本第1段階の反応は、触媒の存在下に行う。使用できる触媒としては、例えば、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等が挙げられる。該触媒の使用量は、一般式(XVIII)で示される化合物に対して、通常0.001〜0.5モル当量、好ましくは0.01〜0.2モル当量である。
本第1段階の反応の反応温度は、通常−80〜180℃、好ましくは−30〜150℃である。該反応の反応時間は通常30分〜100時間である。該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。該反応の終了後、例えば反応混合物を濃縮し、クロマトグラフィー精製する等の操作を行うことにより、本第1段階の反応の生成物を単離することができる。
アルカリ金属塩を用いる第2段階の反応は溶媒中で行う。使用できる溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール等のアルコール類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
本第2段階の反応に用いられるアルカリ金属塩としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩等が挙げられる。本第2段階の反応おいて、アルカリ金属塩の使用量は、一般式(XVIII)で示される化合物に対して、通常(1+k)モル当量以上、好ましくは2〜10モル当量である。
本第2段階の反応の反応温度は、通常−30〜180℃、好ましくは−10〜50℃である。該反応の反応時間は通常30分〜100時間である。該反応の終了は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。該反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合し、酸を加えて中和し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、一般式(II−c)で示される化合物を単離することができる。
参考製造法7
式(V)で示される化合物は、例えば、以下の反応により製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、Y3は脱離基(例えば、ハロゲン等)を表し、Y4はハロゲンを表し、R16はC1-6アルキル基(例えば、メチル基、ブチル基等)を表し、R1、R2、R14、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
式(VII)で示される化合物と式(VIII-a)で示される化合物との反応
式(VIII-a)で示される化合物は式(VII)で示される化合物1モルに対して通常1モル以上、好ましくは1〜3モル用いられる。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;アセトニトリル等のニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;スルホラン等のスルホン類;水、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、塩基の存在下で行われる。該反応に用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。該反応には塩基が、式(VII)で示される化合物1モルに対して、通常0.5〜10モル当量、好ましくは1〜5モル当量用いられる。
該反応は、通常テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等の触媒の存在下で行われる。該反応には触媒が、式(VII)で示される化合物1モルに対して、通常0.001〜0.5モル、好ましくは0.01〜0.2モル用いられる。該反応は、さらに4級アンモニウム塩の存在下で行うこともできる。該反応に用いられる4級アンモニウム塩としては、例えば、臭化テトラブチルアンモニウムが挙げられる。
該反応の反応温度は、通常20〜180℃、好ましくは60〜150℃である。該反応の反応時間は通常30分〜100時間である。該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(V)で示される化合物を単離することができる。
式(VII)で示される化合物と式(VIII-b)で示される化合物との反応
式(VIII-b)で示される化合物は式(VII)で示される化合物1モルに対して通常1モル以上、好ましくは1〜3モル用いられる。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、通常ジクロロビス(1,3−ジフェニルホスフィノ)プロパンニッケル、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル等のニッケル触媒;又はテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等のパラジウム触媒等の触媒の存在下で行われる。該反応には該触媒が、式(VII)で示される化合物1モルに対して、通常0.001〜0.5モル、好ましくは0.01〜0.2モル用いられる。
該反応の反応温度は、通常−80〜180℃、好ましくは−30〜150℃である。該反応の反応時間は通常30分〜100時間である。該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(V)で示される化合物を単離することができる。
式(VII)で示される化合物と式(VIII-c)で示される化合物との反応
式(VIII-c)で示される化合物は式(VII)で示される化合物1モルに対して通常1モル以上、好ましくは1〜3モル用いられる。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は、通常テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等の触媒の存在下で行われる。該反応には該触媒が、式(VII)で示される化合物1モルに対して、通常0.001〜0.5モル、好ましくは0.01〜0.2モル用いられる。
該反応の反応温度は、通常−80〜180℃、好ましくは−30〜150℃である。該反応の反応時間は通常30分〜100時間である。該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(V)で示される化合物を単離することができる。
参考製造法8
式(VI)で示される化合物は例えば、式(IX)で示される化合物と式(X)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、Y5はハロゲンを表し、R1、R2、R15、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;アセトニトリル等のニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;スルホラン等のスルホン類、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応は通常、塩基の存在下に行われる。該反応において用いられる塩基としては例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基;及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
該反応において、式(X)で示される化合物は、式(IX)で示される化合物1モルに対して、通常0.5モル以上、好ましくは0.8〜2モル用いられる。塩基は、式(IX)で示される化合物1モルに対して、通常0.5〜10モル当量、好ましくは1〜5モル当量用いられる。
該反応の反応温度は通常−30〜180℃、好ましくは−10〜50℃である。該反応の反応時間は通常10分〜30時間である。
該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合してから、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(VI)で示される化合物を単離することができる。
参考製造法9
式(IX)で示される化合物は、例えば、以下の製造法により製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、Z1、Z2、Y5及びnは前記と同じ意味を表す。〕
式(XI)で示される化合物としては例えば、2,4,6−トリメチルフェニル酢酸、2,4,6−トリエチルフェニル酢酸、2,6−ジエチル−4−メチルフェニル酢酸、2−エチルフェニル酢酸、2−エチル−4−メチルフェニル酢酸、2−エチル−4,6−ジメチルフェニル酢酸、2,4−ジエチルフェニル酢酸、2,6−ジエチルフェニル酢酸、2,4−ジエチル−6−メチルフェニル酢酸、4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル酢酸、4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル酢酸、4−シアノ−2,6−ジエチルフェニル酢酸、2,6−ジエチル−4−メトキシフェニル酢酸、2,6−ジエチル−4−フェニルフェニル酢酸、4−(4−クロロフェニル)−2,6−ジエチルフェニル酢酸、2,6−ジエチル−4−(4−メチルフェニル)フェニル酢酸、2,6−ジエチル−4−エチニルフェニル酢酸、2,6−ジエチル−4−ニトロフェニル酢酸、2−シアノ−4,6−ジメチルフェニル酢酸、2−シアノ−6−エチル−4−メチルフェニル酢酸、2,4−ジクロロ−6−メチルフェニル酢酸、2−クロロ−4,6−ジメチルフェニル酢酸、2−クロロ−6−エチル−4−メチルフェニル酢酸、2,4−ジクロロ−6−エチルフェニル酢酸、2−ブロモ−6−エチル−4−メチルフェニル酢酸、4−クロロ−2−エチル−6−メトキシフェニル酢酸、2−エチル−6−メトキシ−4−メチルフェニル酢酸、2−エチル−6−エチニル−4−フェニルフェニル酢酸、2−クロロ−6−エチル−4−フェニルフェニル酢酸、2−エチル−6−メトキシ−4−フェニルフェニル酢酸、2,6−ジエチル−4−トリフルオロメチルフェニル酢酸、2,6−ジエチル−4−トリフルオロメトキシフェニル酢酸、2−エチル−6−エチニル−4−メチルフェニル酢酸、2−クロロ−6−エチル−4−メトキシフェニル酢酸、2−シクロプロピル−6−エチル−4−メチルフェニル酢酸、4−シクロプロピル−2,6−ジエチルフェニル酢酸、5−(4−クロロフェニル)−2−メチルフェニル酢酸、5−(4−フルオロフェニル)−2−メチルフェニル酢酸、2−ブロモ−4,6−ジメチルフェニル酢酸、2−メトキシ−4,6−ジメチルフェニル酢酸、及び2−エチニル−4,6−ジメチルフェニル酢酸が挙げられる。
参考製造法10
式(XI)で示される化合物は例えば以下の反応スキームに従って製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、Z1、及びnは前記と同じ意味を表し、Z2-cは前記のZ2の定義のうちハロゲン、ハロゲンで置換されたC6-10アリール基、ハロゲンで置換された5若しくは6員のヘテロアリール基、及びシアノ基以外の基を表し、Y6は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、Y7は塩素原子又は臭素原子を表す。〕
参考製造法11
式(XV-a)で示される化合物は、例えば以下の製造法により、製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、Z1及びY7は前記と同じ意味を表す。〕
参考製造法12
式(VI)で示される化合物は例えば以下の反応スキームに従っても製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、Y9は脱離基を示し、R1、R2、R15、Y5、Z1、Z2及びnは前記と同じ意味を表す。〕
1がメチル基の場合、好ましい式(XXII)で示される化合物としては例えばヨウ化メチル及び硫酸ジメチル等が挙げられる。
参考製造法13
式(VII)で示される化合物のうち、Y3が塩素または臭素である化合物(VII-a)は例えば以下の反応スキームに従っても製造することができる。
Figure 2010235603
〔式中、R19はC1-4アルキル基を示し、Y3'は塩素または臭素を示し、Y10及びY11はそれぞれ脱離基を示し、R1、R2、R14及びR15は前記と同じ意味を表す。〕
14がメチル基の場合、好ましい式(XXVIII)で示される化合物としては例えばヨウ化メチル及び硫酸ジメチル等が挙げられる。
以下に実施例、参考例、製剤例及び試験例を示して、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。
実施例及び参考例中、室温とは通常10〜30℃を示す。1H NMRとはプロトン核磁気共鳴スペクトルを示し、内部標準としてテトラメチルシランを用い、ケミカルシフト(δ)をppmで表記した。
実施例及び参考例中用いられている記号は次のような意味を有するものである。
CDCl3:重クロロホルム、CD3CN:重アセトニトリル、DMSO−d6:重ジメチルスルホキシド、s:シングレット、d:ダブレット、t:トリプレット、q:カルテット、m:マルチプレット、br.:ブロード(幅広い)、J:カップリング定数、Me:メチル基、Et:エチル基、i−Pr:イソプロピル基、n−Bu:ノルマルブチル基、Ph:フェニル基、4−Cl−Ph:4−クロロフェニル基。

実施例1
4−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(II−1−2)〕0.30gとジクロロメタン10mLとの混合物に、トリエチルアミン0.21g、クロロメチルエチルエーテル0.15g及び4−ジメチルアミノピリジン0.013gを加えた。この混合物を室温で23.5時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮した。残渣に氷水20mLを加え、酢酸エチル(20mL×2)で抽出した。有機層を、飽和食塩水(10mL×2)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)に付し、固体0.29gを得た。該固体をヘキサンで洗浄してから乾燥して、4−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−5−エトキシメトキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−1−2)〕0.26gを白色粉末として得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.12(3H,t,J=7.1Hz),1.13(6H,t,J=7.6Hz),2.27〜2.51(4H,m),2.33(3H,s),2.34(3H,s),3.51(2H,q,J=7.1Hz),3.74(3H,s),4.53(2H,s),6.95(2H,s)。
実施例1に準じて製造した本発明化合物を表1に示す。

Figure 2010235603
Figure 2010235603
表1の中で融点の欄に*を付した化合物について、1H NMRデータを以下に示す。
化合物(I−1−8):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.19(3H,t,J=6.5Hz),2.04(6H,s),2.30(3H,s),3.62(2H,q,J=6.5Hz),3.82(3H,s),5.13(2H,s),6.92(2H,s),8.03(1H,s)。
実施例2
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム(60% in oil)0.10gとN,N−ジメチルホルムアミド5mLとの混合物に4−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(II−1−2)〕0.30gのN,N−ジメチルホルムアミド5mL溶液を氷冷下で徐々に滴下した。この混合物を室温で20分間攪拌した。反応混合物にクロロメチルメチルスルフィド0.19gのN,N−ジメチルホルムアミド3mL溶液を徐々に滴下した。次いでこの混合物を室温で22時間攪拌した。反応混合物に氷水30mLを加え、酢酸エチル(20mL×2)で抽出した。有機層を水洗し(20mL×2)、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)に付し、固体0.16gを得た。該固体をヘキサンで洗浄してから乾燥して、4−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−2,6−ジメチル−5−メチルチオメトキシ−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−2−1)〕0.15gを白色粉末として得た。融点102〜103℃。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.13(6H,t,J=7.6Hz),2.10(3H,s),2.30〜2.50(4H,m),2.34(6H,s),3.75(3H,s),4.51(2H,s),6.97(2H,s)。
実施例2に準じて製造した本発明化合物を表2に示す。

Figure 2010235603
Figure 2010235603
表2の中で融点の欄に*を付した化合物の、1H NMRデータを示す。
化合物(I−2−3):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:2.06(3H,s),2.26(3H,s),2.37(3H,s),3.78(3H,s),4.59(2H,s),7.32〜7.62(7H,m)。
実施例3
2,6−ジメチル−5−メチルチオメトキシ−4−(2,4,6−トリエチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−2−2)〕0.30gとジクロロメタン4mLとの混合物に、メタクロロ過安息香酸77mgを加え、室温で30分間攪拌した。反応混合物に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液(10mL)を加え、クロロホルム(10mL×2)で抽出した。有機層を飽和重曹水(10mL)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)に付し、2,6−ジメチル−5−メチルスルフィニルメトキシ−4−(2,4,6−トリエチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−3−1)〕0.16gを得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.14(6H,t,J=7.6Hz),1.25(3H,t,J=8.0Hz),2.08(3H,s),2.34(3H,s),2.32〜2.49(4H,m),2.64(2H,q,J=7.6Hz),3.75(3H,s),4.49(2H,s)6.98(2H,s)。
実施例4
2,6−ジメチル−5−メチルチオメトキシ−4−(2,4,6−トリエチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−2−2)〕0.30gとジクロロメタン4mLとの混合物に、メタクロロ過安息香酸205mgを加え、室温で16時間攪拌した。反応混合物に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液(10mL)を加え、クロロホルム(10mL×2)で抽出した。有機層を、飽和重曹水(10mL)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)に付し、2,6−ジメチル−5−メチルスルホニルメトキシ−4−(2,4,6−トリエチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−4−1)〕0.23gを得た。融点142〜143℃。
実施例5
2,6−ジメチル−5−メチルチオメトキシ−4−(2,4,6−トリエチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−2−2)〕0.31gとクロロホルム3mLとの混合物に、塩化スルフリル0.08mLを加え、氷冷下で2.5時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)に付し、5−クロロメトキシ−2,6−ジメチル−4−(2,4,6−トリエチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−5−1)〕0.14gを得た。融点103〜104℃。
実施例6
4−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(II−1−2)〕0.30gとクロロホルム5mLとの混合物に、トリエチルアミン0.22mL及びN−クロロメチル−N−フェニルカルバミン酸エチル0.52mLを加え、室温で13.5時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)に付し、4−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−5−(N−エトキシカルボニル−N−フェニルアミノメトキシ)−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(I−6−1)〕0.27gを得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.11(6H,t,J=7.2Hz),1.18(3H,t,J=7.2Hz),2.29(3H,s),2.32(3H,s),2.31〜2.48(4H,m),3.73(3H,s),4.15(2H,q,J=7.2Hz),4.80(2H,s),6.92(2H,s),7.12(2H,d,J=7.6Hz),7.22〜7.40(3H,m)。
参考例1
窒素雰囲気下、カリウムtert−ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液(1mol/L)13mLに2−[2−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニルアセチル)−2−メチルヒドラゾノ]プロパン酸エチル〔化合物(VI−2)〕1.9gのトルエン55mL溶液を約1時間かけて滴下した。この混合物を室温で30分間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下で濃縮した。得られた残渣に氷水30mLを加え、tert−ブチルメチルエーテル(20mL×2)で洗浄した。水層に35%塩酸1.6gを加え、酢酸エチル(20mL×3)で抽出した。有機層を、飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)に付し、固体0.76gを得た。該固体をヘキサンで洗浄してから乾燥し、4−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(II−1−2)〕0.59gを白色粉末として得た。
参考例1に準じて製造した化合物を、表3に示す。

Figure 2010235603
Figure 2010235603
参考例2
窒素雰囲気下、カリウムtert−ブトキシド0.55gとテトラヒドロフラン20mLとの混合物に36〜38℃で2−[2−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニルアセチル)−2−メチルヒドラゾノ]プロパン酸エチル〔化合物(VI−10)〕0.79gのトルエン15mL溶液を約20分間かけて滴下した。この混合物を36〜38℃で10分間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮した。得られた残渣に氷水20mLを加え、tert−ブチルメチルエーテル(20mL×2)で洗浄した。水層に35%塩酸0.6gを加えて、酢酸エチル(20mL×2)で抽出した。有機層を、飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)に付し、固体0.1gを得た。該固体を酢酸エチル−ヘキサン混合液(1:10)で洗浄してから乾燥して、4−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニル)−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(II−1−5)〕0.07gを白色粉末として得た。
参考例2に準じて製造した化合物を表4に示す。

Figure 2010235603
Figure 2010235603
参考例3
4−クロロ−5−メトキシ−2−メチル−3(2H)−ピリダジノン1.38g、2,4,6−トリメチルフェニルボロン酸1.55g、炭酸ナトリウム1.86g、臭化テトラブチルアンモニウム2.53g、及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.38gをジオキサン55mlと水17mlの混合物に加えた。この混合物を窒素雰囲気下で32時間加熱還流した。反応混合物を一部濃縮した。得られた濃縮物に水150mlを加え、酢酸エチル(2回)で抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に付し、5−メトキシ−2−メチル−4−(2,4,6−トリメチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(V−2−1)〕を白色結晶として0.77g得た。
融点186〜192℃。
化合物(V−2−1)1.4gを酢酸7mlに溶解し、47%臭化水素酸5mlを加え、80℃で5.5時間、100℃で14.5時間攪拌した。反応混合物を約半量になるまで濃縮した。、残渣に冷水を加えたところ、結晶が析出した。この結晶を濾過により集めた。その結晶を水洗し、乾燥した。この結晶を酢酸エチル:ヘキサン=2:1で洗浄してから乾燥して、5−ヒドロキシ−2−メチル−4−(2,4,6−トリメチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(II−2−1)〕1.1gを白色結晶として得た。
Figure 2010235603

融点:272−275℃。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:2.04(6H,s),2.29(3H,s),3.89(3H,s),6.97(2H,s),7.67(1H,s)。
参考例3に準じて、以下の化合物を製造した。
5−ヒドロキシ−2−メチル−4−(2,4,6−トリエチルフェニル)−3(2H)−ピリダジノン〔化合物(II−2−2)〕融点:212−214℃
参考例4
2−(2−メチルヒドラゾノ)プロパン酸エチル2.0gとアセトニトリル35mLとの混合物に、炭酸カリウム1.5gを加えた。該混合物に2,6−ジエチル−4−メチルフェニルアセチルクロリド2.6gのアセトニトリル10mL溶液を氷冷下で約20分間かけて滴下した。この混合物を室温で3.5時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮した。残渣に氷水20mLを加え、酢酸エチル(20mL×3)で抽出した。有機層を飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)に付し、2−[2−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニルアセチル)−2−メチルヒドラゾノ]プロパン酸エチル〔化合物(VI−2)〕1.9gを白色結晶として得た。
参考例4に準じて製造した式(VI)で示される化合物を表5に示す。

Figure 2010235603
Figure 2010235603
表5の中で融点の欄に*を付した化合物についてそれらの1H NMRデータを以下に示す。
化合物(VI−4):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.16(3H,t,J=7.7Hz),1.36(3H,t,J=7.2Hz),2.22(3H,s),2.27(3H,s),2.30(3H,br.s),2.56(2H,q,J=7.7Hz),3.39(3H,br.s),4.02(2H,br.s),4.32(2H,q,J=7.1Hz),6.86(2H,br.s)。
化合物(VI−5):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:2.21(6H,s),2.25(3H,s),2.29(3H,br.s),3.39(3H,br.s),3.88(3H,s),3.99(2H,br.s),6.85(2H,s)。
化合物(VI−6):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.18(6H,t,J=7.6Hz),1.23(3H,t,J=7.6Hz),2.32(3H,br.s),2.57(4H,q,J=7.6Hz),2.60(2H,q,J=7.6Hz),3.40(3H,br.s),3.88(3H,s),4.04(2H,br.s),6.90(2H,s)。
化合物(VI−7):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.19(6H,t,J=7.6Hz),1.23(3H,t,J=7.6Hz),1.33(6H,d,J=6.1Hz),2.30(3H,s),2.55−2.63(6H,m),3.40(3H,s),4,07(2H,s),5.16(1H,septet,J=6.1Hz),6.91(2H,s)。
化合物(VI−8):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:0.93(3H,t,J=7.3Hz),1.18(6H,t,J=7.6Hz),1.23(3H,t,J=7.6Hz),1.38−1.48(2H,m),1.66−1.74(2H,m),2.31(3H,s),2.53−2.64(6H,m),3.40(3H,s),4.06(2H,s),4.26(2H,t,J=6.6Hz),6.91(2H,s)。
化合物(VI−9):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.17(6H,t,J=7.6Hz),2,29(3H,s),2.31(3H,s),2.55(4H,q,J=7.6Hz),3.39(3H,s),3.87(3H,s),4.04(2H,s),6.88(2H,s)。
参考例5
2−(2−メチルヒドラゾノ)プロパン酸エチル1.1gとアセトニトリル20mLとの混合物に、炭酸カリウム0.68gを加えた。この混合物に4−クロロ−2,6−ジエチルフェニルアセチルクロリド1.26gのアセトニトリル8mL溶液を氷冷下で約10分間かけて滴下した。この混合物を室温で3時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮した。残渣に氷水20mLを加え、酢酸エチル(20mL、10mL×2)で抽出した。有機層を飽和食塩水(20mL×2)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:6)に付し、淡黄色固体1.2gを得た。該固体をヘキサンで洗浄してから乾燥して、2−[2−(4−クロロ−2,6−ジエチルフェニルアセチル)−2−メチルヒドラゾノ]プロパン酸エチル〔化合物(VI−10)〕0.79gを白色粉末として得た。
参考例5に準じて製造した式(VI)で示される化合物を表6に示す。

Figure 2010235603
Figure 2010235603
表6の中で融点の欄に*を付した化合物についてそれらの1H NMRデータを以下に示す。
化合物(VI−11):
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.33(3H,t,J=7.2Hz),2.21(3H,s),2.35(3H,s),3.37(3H,s),4.06(2H,br.s),4.28(2H,q,J=7.1Hz),7.22(1H,d,J=7.8Hz),7.30〜7.40(3H,m),7.43(1H,br.s),7.47(2H,d,J=8.3Hz)。
参考例6
2,6−ジエチル−4−メチルフェニル酢酸283.03gとトルエン690.8gとを混合した。この混合物に100℃で塩化チオニル120.81gを3時間かけて滴下した。この混合物を100℃で3.5時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、減圧下で濃縮し、褐色オイル274.8gを得た。これを蒸留して黄色オイルの2,6−ジエチル−4−メチルフェニルアセチルクロリドを得た。Bp.116〜120℃(0.20kPa)。1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.20(6H,t,J=7.6Hz),2.31(3H,s),2.59(4H,q,J=7.6Hz),4.24(2H,s),6.91(2H,s)。
参考例6に準じて以下の化合物を製造した。
2,4,6−トリエチルフェニルアセチルクロリド:
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.21(6H,t,J=7.6Hz),1.23(3H,t,J=7.6Hz),2.60(4H,q,J=7.6Hz),2.61(2H,q,J=7.6Hz),4.25(2H,s),6.94(2H,s)。
参考例7
2,6−ジエチル−4−メチルフェニルアセトニトリル(GC面積値71%)236.77gと65%硫酸713.5gとを混合した。この混合物を130℃で25時間攪拌した。この混合物を室温まで冷却した後、この混合物にトルエン760g及び水900gを加え、分液した。有機層を水710mLで洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し2,6−ジエチル−4−メチルフェニル酢酸を含む褐色結晶283.58gを得た。1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.19(6H,t,J=7.6Hz),2.29(3H,s),2.61(4H,q,J=7.6Hz),3.72(2H,s),6.89(2H,s),10〜11(1H,br.)。
参考例7に準じて以下の化合物を製造した。
2,4,6−トリエチルフェニル酢酸:
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.20(6H,t,J=7.6Hz),1.23(3H,t,J=7.6Hz),2.60(2H,q,J=7.6Hz),2.63(4H,q,J=7.6Hz),3.73(2H,s),6.92(2H,s),10〜12(1H,br.)。
参考例8
シアン化ナトリウム27.98gを水50gとアセトニトリル99gとの混合物に溶解した。この混合物に、2,6−ジエチル−4−メチルベンジルクロリド157.18g(GC面積値71%)のアセトニトリル293g溶液を75℃で2.5時間かけて滴下した。この混合物を75℃で3時間攪拌した。反応混合物に水99gを加え、分液した。有機層を濃縮した。残渣に水99g、ヘキサン198gを加え分液した。有機層を飽和食塩水99gで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して褐色オイルの2,6−ジエチル−4−メチルフェニルアセトニトリルを123.46g(GC面積値71%)得た。1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.26(6H,t,J=7.6Hz),2.31(3H,s),2.68(4H,q,J=7.6Hz),3.64(2H,s),6.92(2H,s)。
参考例8に準じて以下の化合物を製造した。
2,4,6−トリエチルフェニルアセトニトリル:
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.23(3H,t,J=7.7Hz),1.27(6H,t,J=7.7Hz),2.61(2H,q,J=7.7Hz),2.70(4H,q,J=7.7Hz),3.65(2H,s),6.94(2H,s)。
参考例9
2,6−ジエチル−4−メチルベンジルアルコール138.41gとトルエン820gとを混合し、ここに塩化チオニル60.96gを25℃で4.5時間かけて滴下した。得られた混合物を15時間攪拌した。反応混合物を濃縮して、褐色オイルの2,6−ジエチル−4−メチルベンジルクロリドを159.58g(GC面積値71%)得た。1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.26(6H,t,J=7.6Hz),2.30(3H,s),2.74(4H,q,J=7.6Hz),4.68(2H,s),6.89(2H,s)。
参考例9に準じて以下の化合物を製造した。
2,4,6−トリエチルベンジルクロリド:
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.23(3H,t,J=7.6Hz),1.28(6H,t,J=7.6Hz),2.61(2H,q,J=7.6Hz),2.77(4H,q,J=7.6Hz),4.70(2H,s),6.93(2H,s)。
参考例10
窒素雰囲気下、マグネシウム11.24g、テトラヒドロフラン200g、ヨウ素0.1g、1,2−ジブロモエタン1.0gを混合し、この混合物を60℃に加熱した。この混合物に2,6−ジエチル−4−メチルブロモベンゼンを少量加えた。この混合物にヨウ素0.1g、1,2−ジブロモエタン1.0gを加えた。次いで、2,6−ジエチル−4−メチルブロモベンゼン(最初に加えた分とあわせて、全量で100.12g)を2.5時間かけて滴下した。滴下終了後、得られた混合物を50℃で1.5時間攪拌した。この混合物を30℃まで冷却した。この混合物にパラホルムアルデヒド14.84gを5回に分け、30分かけて加えた。得られた混合物を30℃で2時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸143gを加え、tert−ブチルメチルエーテル300gで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して2,6−ジエチル−4−メチルベンジルアルコールを黄色結晶として77.56g得た。1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.24(6H,t,J=7.6Hz),1.32(1H,s),2.30(3H,s),2.74(4H,q,J=7.6Hz),4.70(2H,s),6.90(2H,s)。
参考例10に準じて以下の化合物を製造した。
2,4,6−トリエチルベンジルアルコール:
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.23(3H,t,J=7.7Hz),1.25(6H,t,J=7.7Hz),1.59(1H,br.s),2.60(2H,q,J=7.7Hz),2.77(4H,q,J=7.7Hz),4.73(2H,s),6.93(2H,s)。
参考例11
1,3,5−トリエチルベンゼン(純度93%)3.00gと酢酸 5.58gとを混合した。この混合物にパラホルムアルデヒド0.82g及び33%臭化水素酢酸溶液4.7mLを加えた。この混合物を45℃で7.5時間加熱攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、反応混合物に水16.8g及びトルエン16.8gを加え分液した。有機層を水11.2g、続いて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5.6gと水5.6gの混合溶液、水11.2gで順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、2,4,6−トリエチルベンジルブロマイドを黄色オイルとして4.72g(GC面積値84%)得た。1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.23(3H,t,J=7.6Hz),1.29(6H,t,J=7.6Hz),2.60(2H,q,J=7.6Hz),2.76(4H,q,J=7.6Hz),4.62(2H,s),6.91(2H,s)。
参考例12
1,3,5−トリエチルベンゼン81.1g、クロロメチルメチルエーテル60.4g及び酢酸6.0gの混合物を封管中120℃で7時間撹拌した。反応混合物を水500ml中に注加し、ヘキサンで抽出した。有機層を重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を減圧蒸留して、68.07gの2,4,6−トリエチルベンジルクロリドを得た。Bp.88〜98℃(0.18kPa)。
参考例13
(プロセス1)
47%臭化水素酸1200gに酢酸50gを加え、ここに2,6−ジエチル−4−メチルアニリン100gを15分間で滴下しながら加えた。そこに、水300gに溶解した亜硝酸ナトリウム42.91gを氷冷下で2.5時間かけて滴下し、その後、得られた混合物を氷冷下で30分、室温で3時間、80℃に昇温し1時間攪拌を行なった。反応混合物を冷却した後、トルエン300gを加えて抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別した後溶媒を留去し、粗2,6−ジエチル−4−メチルブロモベンゼンを褐色オイルとして138.68g得た。(このものには副生成物2,6−ジエチル−4−メチルフェノールが含有されていた。)
(プロセス2)
2,6−ジエチル−4−メチルアニリン300gからプロセス1と同様にして得られた粗2,6−ジエチル−4−メチルブロモベンゼン388.28gをトルエン1165gに溶解し、ここにトリエチルアミン62.44g及び4−ジメチルアミノピリジン0.75gを加えた。そこに、塩化ベンゾイル95.41gを室温下で滴下し、その後、得られた混合物を室温で7時間攪拌した。反応混合物に水1165gを加え、分液し、有機層を飽和食塩水388gに水582gを加えた溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去することにより褐色オイル421.58gを得た。この処理により副生成物の2,6−ジエチル−4−メチルフェノールはほぼ全て安息香酸2,6−ジエチル−4−メチルフェニルへと変換された。
(プロセス3)
プロセス2と同様にして得られた褐色オイル1498.4gを減圧蒸留により精製し、2,6−ジエチル−4−メチルブロモベンゼンを微黄色液体として723.2g得た。(このものに含まれる2,6−ジエチル−4−メチルフェノール及び安息香酸2,6−ジエチル−4−メチルフェニルは微量であった。)
Bp.86〜90℃(0.20kPa)。
参考例14
1,3,5−トリエチルベンゼン(純度93%)50.00gにパラホルムアルデヒド9.61g及び酢酸93.00gを加え、さらに濃塩酸71.64gを加え、90℃で24.5時間加熱攪拌した。その後、反応混合物を冷却し、水279g及びトルエン279gを加え抽出した。有機層を水186g、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液93gと水93gの混合溶液及び水186gの順に洗浄した。溶媒を留去し、2,4,6−トリエチルベンジルクロリドを淡黄色オイルとして69.15g(GC面積値87%)得た。
参考例15
ピルビン酸エチル5.02g、トルエン25.4g及びシリカゲル5.88gの混合物を撹拌し、ここに包水ヒドラジン2.16gを加えた。この時内温は24℃から54℃まで上昇した。得られた混合物を自然に室温に戻しながら3時間撹拌した。反応混合物をろ過し、不溶物をtert−ブチルメチルエーテルで洗浄した。ろ液と洗液とを合わせて減圧濃縮し、2−ヒドラゾノプロパン酸エチルを淡黄色懸濁状オイルとして4.78g得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.35(3H,t,J=7.1Hz),1.97(3H,s),4.29(2H,q,J=7.1Hz),5.84(2H,br.s)。
参考例16
2−ヒドラゾノプロパン酸エチル14.82g、トルエン148.34g及びピリジン10.24gの混合物を撹拌、氷冷し、ここに、2,4,6−トリエチルフェニルアセチルクロリド25.79gとトルエン25.79gの混合溶液を滴下した。氷浴を外し自然に室温に戻しながら得られた混合物を3時間撹拌した。その後、再度氷冷し、反応混合物に水50mLを加え、ろ過した。ろ物を減圧乾燥し、2−[2−(2,4,6−トリエチルフェニルアセチル)ヒドラゾノ]プロパン酸エチルを白色固体として14.50g得た。
1H NMR(CD3CN)δ ppm:1.18(6H,t,J=7.6Hz),1.25(3H,t,J=7.6Hz),1.34(3H,t,J=6.9Hz),2.09(3H,s),2.58−2.65(6H,m),3.84(1H,br.s),4.13(1H,br.s),4.29(2H,q,J=7.1Hz),6.98(2H,s),9.12,9.33(1H,each br.s)。
参考例17
2−[2−(2,4,6−トリエチルフェニルアセチル)ヒドラゾノ]プロパン酸エチル5.00g、炭酸カリウム2.70g、ジメチル硫酸2.28g及びアセトニトリル15.00gの混合物を室温で8時間撹拌した。反応混合物に水10mLを加え、tert−ブチルメチルエーテル10mLで2回抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、化合物(VI−3)を黄色固体として5.17g得た(LC面積値68%)。
参考例18
2−ヒドラゾノプロパン酸エチル2.95g、トルエン29.63g及びピリジン2.08gの混合物を攪拌、氷冷し、ここにトルエン5.07gに溶解した2,6−ジエチル−4−メチルフェニルアセチルクロリド5.00gを30分かけて滴下した。得られた混合物を氷冷下で1.5時間、その後氷浴をはずし室温に戻しながらさらに2時間攪拌した。反応混合物に水30mL及びtert−ブチルメチルエーテル30mLを加え、ろ過した。ろ物を水40mL及びtert−ブチルメチルエーテル70mLで洗浄し無色結晶を得た。このろ液から有機層を分液し、溶媒を留去した。留去後得られた結晶をtert−ブチルメチルエーテル45mLで洗浄し無色結晶を得た。先に得た結晶と合わせて乾燥し、無色結晶として2−[2−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニルアセチル)ヒドラゾノ]プロパン酸エチルを5.11g得た。
1H NMR(DMSO−d6)δ ppm:1.09(6H,t,J=7.6Hz),1.25(3H,t,J=7.1Hz),2.08(3H,br.s),2.24(3H,s),2.47−2.53(4H,m),3.79,4.02(2H,each br.s),4.21(2H,q,J=7.1Hz),6.84(2H,s),10.77,10.94(1H,each br.s)。
参考例19
ピルビン酸メチル50.00g、tert−ブチルメチルエーテル47.6g及びシリカゲル9.5gの混合物を攪拌し、水浴で15〜25℃を保ちながらメチルヒドラジン24.32gを70分かけて滴下した。その後水浴をはずし室温で6時間攪拌した。不溶物をろ別し、ろ液を濃縮した。濃縮物にトルエン45gを加え溶媒を留去し、さらに同じ操作をもう一度行ない、2−(2−メチルヒドラゾノ)プロパン酸メチルを黄色結晶として54.43g得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.93(3H,s),3.22(3H,br.s),3.81(3H,s),5.82(1H,br.)。
参考例19と同様にして以下の化合物を得た。
2−(2−メチルヒドラゾノ)プロパン酸イソプロピル
1H NMR(CDCl3)δ ppm:1.32(6H,d,J=6.3Hz),1.90(3H,s),3.22(3H,d,J=3.2Hz),5.12(1H,septet,J=6.3Hz),5.60(1H,br.)。
2−(2−メチルヒドラゾノ)プロパン酸ブチル
1H NMR(CDCl3)δ ppm:0.94(3H,t,J=7.4Hz),1.35−1.48(2H,m),1.66−1.74(2H,m),1.92(3H,s),3.23(3H,d,J=4.2Hz),4.22(2H,t,J=7.0Hz),5.61(1H,br.)。
参考例20
2−(2−メチルヒドラゾノ)プロパン酸エチル24.68g、ピリジン15.70g及びトルエン120.0gの混合物を撹拌、氷冷し、ここに、エチルマロニルクロリド28.32gとトルエン80.0gの混合溶液を滴下し、氷冷下、2時間撹拌した。次いで反応混合物に水80.0gを加えて分液し、有機層を水80.0gで再度洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。2−[2−(3−エトキシ−3−オキソプロパノイル)−2−メチルヒドラゾノ]プロパン酸エチルを褐色オイル状物として42.74g得た(GC面積値82.4%)。
これを特に精製することなく参考例21に供した。
参考例21
カリウムtert−ブトキシド14.01g及びTHF217.0gの混合物を35℃に加熱、撹拌し、ここに、参考例20で得た2−[2−(3−エトキシ−3−オキソプロパノイル)−2−メチルヒドラゾノ]プロパン酸エチル31.0gとTHF93.0gの混合溶液を滴下した。反応混合物を35℃で1時間撹拌した。その後、室温に冷却し、水93.0g及びn−ヘキサン62.0gを加えて分液した。水層に濃塩酸20.59g及びtert−ブチルメチルエーテル93.0gを加えて分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、17.13gの2,3−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3−オキソピリダジン−4−カルボン酸エチルを得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm: 1.46(3H,t,J=7.1Hz),2.30(3H,s),3.70(3H,s),4.48(2H,q,J=7.1Hz),13.09(1H,s)。
参考例22
2,3−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3−オキソピリダジン−4−カルボン酸エチル15.0gと12%塩酸45.0gの混合物を70℃で4時間加熱撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出物をろ取した。ろ物を水及びメタノールで順次洗浄し、減圧乾燥し、2,3−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3−オキソピリダジン−4−カルボン酸を白色固体として7.65g得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:2.38(3H,s),3.80(3H,s),13.06(1H,s),14.81(1H,br.s)。
参考例23
2,3−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3−オキソピリダジン−4−カルボン酸2.00g、炭酸カリウム1.76g及び水6.00gの混合物を撹拌、氷冷し、ここに臭素1.86gを滴下した。氷浴をはずし、反応混合物を室温で2.5時間撹拌した。その後、反応混合物に濃塩酸2.33gを滴下した。生成した白色スラリーをろ過し、ろ物を、水4.0g及びn−ヘキサン4.0gで洗浄、減圧乾燥し、4−ブロモ−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノンを白色固体として2.07g得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:2.35(3H,s),3.78(3H,s),6.22(1H,br.s)。
参考例24
4−ブロモ−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン2.0g、炭酸カリウム1.51g及びアセトニトリル20.0gの混合物を撹拌し、ここにジメチル硫酸1.27gを加え、反応混合物を50℃で12時間加熱撹拌した。次いで溶媒を減圧留去し、酢酸エチル及び水を加えて分液した。上層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、4−ブロモ−5−メトキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノンを淡褐色固体として2.01g得た。
1H NMR(CDCl3)δ ppm:2.31(3H,s),3.77(3H,s),4.03(3H,s)。
参考例25
4−ブロモ−5−メトキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン300mg、2,6−ジエチル−4−メチルフェニルボロン酸247.2mg、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム297.5mg、炭酸ナトリウム272.9mg、テトラn−ブチルアンモニウムブロミド103.7mg、キシレン6.0g及び水3.0gの混合物を油浴温140℃で9時間加熱撹拌した。反応混合物を室温まで冷却後、トルエン及び水を加えて分液し、有機層を希塩酸、次いで水酸化カリウム水溶液で洗浄した。有機層を減圧濃縮し、0.68gの粗生成物として4−(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−5−メトキシ−2,6−ジメチル−3(2H)−ピリダジノン[化合物(V−2−2)]を得た。得られた粗生成物に酢酸1.57g及び47%臭化水素酸1.27gを加えて90℃で5.5時間加熱撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、トルエン及び水酸化カリウム水溶液を加えて分液した。水層に濃塩酸及び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、化合物(II−1−2)を黄色固体として0.16g得た。
次に製剤例を示す。なお、部とは重量部を示す。
製剤例1
水和剤
化合物(I−1−2) 50重量%
リグニンスルホン酸ナトリウム 5重量%
ポリオキシエチレンアルキルエーテル 5重量%
ホワイトカーボン 5重量%
クレイ 35重量%
を混合粉砕して水和剤を得る。
化合物(I−1−2)に代えて、同様にして化合物(I−1−1)、(I−1−3)〜(I−1−8)、(I−2−1)〜(I−2−3)、(I−3−1)、(I−4−1)、(I−5−1)及び(I−6−1)の各々の水和剤を得る。
製剤例2
粒剤
化合物(I−1−3) 1.5重量%
リグニンスルホン酸ナトリウム 2重量%
タルク 40重量%
ベントナイト 56.5重量%
を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
化合物(I−1−3)に代えて、同様にして化合物(I−1−1)、(I−1−2)、(I−1−4)〜(I−1−8)、(I−2−1)〜(I−2−3)、(I−3−1)、(I−4−1)、(I−5−1)及び(I−6−1)の各々の粒剤を得る。
製剤例3
フロアブル剤
化合物(I−1−4) 10重量%
ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含む
ホワイトカーボン 35重量%
水 55重量%
を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
化合物(I−1−4)に代えて、同様にして化合物(I−1−1)〜(I−1−3)、(I−1−5)〜(I−1−8)、(I−2−1)〜(I−2−3)、(I−3−1)、(I−4−1)、(I−5−1)及び(I−6−1)の各々のフロアブル剤を得る。
製剤例4
化合物(I−1−1)25部、下記のA群から選ばれる化合物いずれか1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
A群:
フェノキシ脂肪酸除草性化合物[2,4−PA、MCP、MCPB、フェノチオール(phenothiol)、メコプロップ(mecoprop)、フルロキシピル(fluroxypyr)、トリクロピル(triclopyr)、クロメプロップ(clomeprop)、ナプロアニリド(naproanilide)];
安息香酸除草性化合物[2,3,6−TBA、ジカンバ(dicamba)、クロピラリド(clopyralid)、ピクロラム(picloram)、アミノピラリド(aminopyralid)、キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)];
尿素除草性化合物[ジウロン(diuron)、リニュロン(linuron)、クロルトルロン(chlortoluron)、イソプロツロン(isoproturon)、フルオメツロン(fluometuron)、イソウロン(isouron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、クミルロン(cumyluron)、ダイムロン(daimuron)、メチルダイムロン(methyl−daimuron)];
トリアジン除草性化合物[アトラジン(atrazine)、アメトリン(ametoryn)、シアナジン(cyanazine)、シマジン(simazine)、プロパジン(propazine)、シメトリン(simetryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、プロメトリン(prometryn)、メトリブジン(metribuzin)、トリアジフラム(triaziflam)、インダジフラム(indaziflam)];
ビピリジニウム除草性化合物[パラコート(paraquat)、ジクワット(diquat)];
ヒドロキシベンゾニトリル除草性化合物[ブロモキシニル(bromoxynil)、アイオキシニル(ioxynil)];
ジニトロアニリン除草性化合物[ペンディメタリン(pendimethalin)、プロジアミン(prodiamine)、トリフルラリン(trifluralin)];
有機リン除草性化合物[アミプロホスメチル(amiprofos−methyl)、ブタミホス(butamifos)、ベンスリド(bensulide)、ピペロホス(piperophos)、アニロホス(anilofos)、グリホサート(glyphosate)、グルホシネート(glufosinate)、グルホシネート−P(glufosinate−P)、ビアラホス(bialaphos)];
カーバメート除草性化合物[ジアレート(di−allate)、トリアレート(tri−allate)、EPTC、ブチレート(butylate)、ベンチオカーブ(benthiocarb)、エスプロカルブ(esprocarb)、モリネート(molinate)、ジメピペレート(dimepiperate)、スエップ(swep)、クロルプロファム(chlorpropham)、フェンメディファム(phenmedipham)、フェニソファム(phenisopham)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、アシュラム(asulam)];
酸アミド除草性化合物[プロパニル(propanil)、プロピザミド(propyzamide)、ブロモブチド(bromobutide)、エトベンザニド(etobenzanid)];
クロロアセトアニリド除草性化合物[アセトクロール(acetochlor)、アラクロール(alachlor)、ブタクロール(butachlor)、ジメテナミド(dimethenamid)、プロパクロール(propachlor)、メタザクロール(metazachlor)、メトラクロール(metolachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、テニルクロール(thenylchlor)、ペトキサミド(pethoxamid)];
ジフェニルエーテル除草性化合物[アシフルオルフェン(acifluorfen−sodium)、ビフェノックス(bifenox)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、ラクトフェン(lactofen)、フォメサフェン(fomesafen)、クロメトキシニル(chlomethoxynil)、アクロニフェン(aclonifen)];
環状イミド除草性化合物[オキサジアゾン(oxadiazon)、シニドンエチル(cinidon−ethyl)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazone−ethyl)、スルフェントラゾン(surfentrazone)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac−pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、ピラフルフェンエチル(pyraflufen−ethyl)、オキサジアルギル(oxadiargyl)、ペントキサゾン(pentoxazone)、フルチアセットメチル(fluthiacet−methyl)、ブタフェナシル(butafenacil)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ベンカルバゾン(bencarbazone)、サフルフェナシル(saflufenacil)];
ピラゾール除草性化合物[ベンゾフェナップ(benzofenap)、ピラゾレート(pyrazolate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、トプラメゾン(topramezone)、ピラスルホトール(pyrasulfotole)];
トリケトン除草性化合物[イソキサフルトール(isoxaflutole)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、スルコトリオン(sulcotrione)、メソトリオン(mesotrione)、テンボトリオン(tembotrione)、テフリルトリオン(tefuryltrione)、ビシクロピロン(bicyclopyrone)];
アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物[クロジナホッププロパルギル(clodinafop−propargyl)、シハロホップブチル(cyhalofop−butyl)、ジクロホップメチル(diclofop−methyl)、フェノキサプロップエチル(fenoxaprop−ethyl)、フルアジホップブチル(fluazifop−butyl)、ハロキシホップメチル(haloxyfop−methyl)、キザロホップエチル(quizalofop−ethyl)、メタミホップ(metamifop)];
トリオンオキシム除草性化合物[アロキシジム(alloxydim−sodium)、セトキシジム(sethoxydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、クレソジム(clethodim)、クロプロキシジム(cloproxydim)、シクロキシジム(cycloxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、プロフォキシジム(profoxydim)];
スルホニル尿素除草性化合物[クロルスルフロン(chlorsulfuron)、スルホメツロンメチル(sulfometuron−methyl)、メトスルフロンメチル(metsulfuron−methyl)、クロリムロンエチル(chlorimuron−ethyl)、トリベニュロンメチル(tribenuron−methyl)、トリアスルフロン(triasulfuron)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron−methyl)、チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron−methyl)、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron−ethyl)、プリミスルフロンメチル(primisulfuron−methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、アミドスルフロン(amidosulfuron)、シノスルフロン(cinosulfuron)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron−methyl)、プロスルフロン(prosulfuron)、エタメトスルフロンメチル(ethametsulfuron−methyl)、トリフルスルフロンメチル(triflusulfuron−methyl)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron)、スルホスルフロン(sulfosulfuron)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム(iodosulfuron−methyl−sodium)、フォラムスルフロン(foramsulfuron)、メソスルフロンメチル(mesosulfuron−methyl)、トリフロキシスルフロン(trifloxysulfuron)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、オルソスルファムロン(orthosulfamuron),フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron)、メタゾスルフロン(metazosulfuron)];
イミダゾリノン除草性化合物[イマザメタベンズメチル(imazamethabenz−methyl)、イマザメタピル(imazamethapyr)、イマザモックス(imazamox)、イマザピル(imazapyr)、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)];
スルホンアミド除草性化合物[フルメトスラム(flumetsulam)、メトスラム(metosulam)、ジクロスラム(diclosulam)、フロラスラム(florasulam)、クロランスラムメチル(cloransulam−methyl)、ペノキススラム(penoxsulam)、ピロキススラム(pyroxsulam)];
ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物[ピリチオバックナトリウム(pyrithiobac−sodium)、ビスピリバックナトリウム(bispyribac−sodium)、ピリミノバックメチル(pyriminobac−methyl)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド(pyriftalid)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)];
その他の系統の除草性化合物[ベンタゾン(bentazone)、ブロマシル(bromacil)、ターバシル(terbacil)、クロルチアミド(chlorthiamid)、イソキサベン(isoxaben)、ジノセブ(dinoseb)、アミトロール(amitrole)、シンメチリン(cinmethylin)、トリジファン(tridiphane)、ダラポン(dalapon)、ジフルフェンゾピルナトリウム(diflufenzopyr−sodium)、ジチオピル(dithiopyr)、チアゾピル(thiazopyr)、フルカルバゾンナトリウム(flucarbazone−sodium)、プロポキシカルバゾンナトリウム(propoxycarbazone−sodium)、メフェナセット(mefenacet)、フルフェナセット(flufenacet)、フェントラザミド(fentrazamide)、カフェンストロール(cafenstrole)、インダノファン(indanofan)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、ベンフレセート(benfuresate)、ACN、ピリデート(pyridate)、クロリダゾン(chloridazon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、フルルタモン(flurtamone)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ピコリナフェン(picolinafen)、ベフルブタミド(beflubutamid)、クロマゾン(clomazone)、アミカルバゾン(amicarbazone)、ピノキサデン(pinoxaden)、ピラクロニル(pyraclonil)、ピロキサスルホン(pyroxasulfone)、チエンカルバゾンメチル(thiencarbazone−methyl)、アミノシクロピラクロール(aminocyclopyrachlor)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)、メチオゾリン(methiozolin)、フェノキサスルホン(fenoxasulfone)]。
製剤例5
化合物(I−1−2)1部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例6
化合物(I−1−3)5部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例7
化合物(I−1−4)25部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例8
化合物(I−1−5)1部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例9
化合物(I−1−6)5部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例10
化合物(I−1−7)25部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例11
化合物(I−1−8)1部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例12
化合物(I−2−1)5部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例13
化合物(I−2−2)25部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例14
化合物(I−2−3)1部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例15
化合物(I−3−1)5部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例16
化合物(I−4−1)25部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例17
化合物(I−5−1)1部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例18
化合物(I−6−1)5部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例19
化合物(I−1−1)1部、下記のB群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
B群:
薬害軽減性化合物[ベノキサコール(benoxacor)、クロキントセットメキシル(cloquintocet−mexyl)、シオメトリニル(cyometrinil)、ジクロルミド(dichlormid)、フェンクロラゾールエチル(fenchlorazole−ethyl)、フェンクロリム(fenclorim)、フルラゾール(flurazole)、フリラゾール(furilazole)、メフェンピルジエチル(mefenpyr−diethyl)、MG191、オキサベトリニル(oxabetrinil)、アリドクロール(allidochlor)、イソキサジフェンエチル(isoxadifen−ethyl)、シプロスルファミド(cyprosulfamide)、フルクソフェニム(fluxofenim)、1,8−ナフタル酸無水物(1,8−naphthalic anhydride)]。
製剤例20
化合物(I−1−2)5部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例21
化合物(I−1−3)25部、前記のB群から選ばれる化合物1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例22
化合物(I−1−4)1部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例23
化合物(I−1−5)5部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例24
化合物(I−1−6)25部、前記のB群から選ばれる化合物1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例25
化合物(I−1−7)1部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例26
化合物(I−1−8)5部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例27
化合物(I−2−1)25部、前記のB群から選ばれる化合物1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例28
化合物(I−2−2)1部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例29
化合物(I−2−3)5部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例30
化合物(I−3−1)25部、前記のB群から選ばれる化合物1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例31
化合物(I−4−1)1部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種1部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例32
化合物(I−5−1)5部、前記のB群から選ばれる化合物いずれか1種5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例33
化合物(I−6−1)25部、前記のB群から選ばれる化合物1種25部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例34
化合物(I−1−1)4部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種4部、ベノキサコール2部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例35
化合物(I−1−2)24部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種24部、クロキントセットメキシル2部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例36
化合物(I−1−3)0.9部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種0.9部、シオメトリニル0.2部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例37
化合物(I−1−4)4部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種4部、ジクロルミド2部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例38
化合物(I−1−5)24部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種24部、フェンクロラゾールエチル2部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例39
化合物(I−1−6)0.9部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種0.9部、フェンクロリム0.2部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例40
化合物(I−1−7)4部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種4部、フルラゾール2部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例41
化合物(I−1−8)24部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種24部、フリラゾール2部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例42
化合物(I−2−1)0.9部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種0.9部、メフェンピルジエチル0.2部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例43
化合物(I−2−2)4部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種4部、オキサベトリニル2部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例44
化合物(I−2−3)24部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種24部、アリドクロール2部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例45
化合物(I−3−1)0.9部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種0.9部、イソキサジフェンエチル0.2部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
製剤例46
化合物(I−4−1)4部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種4部、シプロスルファミド2部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50重量%を含むホワイトカーボン35部、水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することによりフロアブル剤を得る。
製剤例47
化合物(I−5−1)24部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種24部、フルクソフェニム2部、リグニンスルホン酸ナトリウム5部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル5部、ホワイトカーボン5部、クレイ35部を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例48
化合物(I−6−1)0.9部、前記のA群から選ばれる化合物いずれか1種0.9部、1,8−ナフタル酸無水物0.2部、リグニンスルホン酸ナトリウム2部、タルク40部、ベントナイト56部を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
試験例1−1
直径8cm、深さ6.5cmのプラスチックカップに土を充填した。ここにネズミムギ(Lolium multiflorum)を播種した。植物が1〜2葉期まで生育したのち、本発明化合物を含む薬液を所定の処理薬量で植物全体に均一に散布した。薬液は供試化合物の所定量をトゥイーン20(ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、MPバイオメディカルズ・インク製)のジメチルホルムアミド溶液(2%)に溶解し、脱イオン水で希釈して調製した。薬剤処理後、植物を温室内で20日間栽培した。その後、ネズミムギ防除の効力を目視評価した。評価は0〜10の11段階で示した(0を無作用、10を完全枯死とし、その間を1〜9の段階で評価した)。
その結果、化合物(I−1−1)、(I−1−2)、(I−1−3)、(I−1−4)、(I−2−1)及び(I−6−1)は250g/haの処理薬量で効力8以上を示した。対して、化合物Dは同じ処理薬量で効力0であった。
Figure 2010235603
試験例1−2
直径8cm、深さ6.5cmのプラスチックカップに土を充填した。ここにイヌビエ(Echinochloa crus−galli)を播種した。植物が2〜3葉期まで生育したのち、本発明化合物を含む薬液を所定の処理薬量で植物全体に均一に散布した。薬液は供試化合物の所定量をトゥイーン20(ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、MPバイオメディカルズ・インク製)のジメチルホルムアミド溶液(2%)に溶解し、脱イオン水で希釈することにより調製した。薬剤処理後、植物を温室内で20日間栽培した。その後、イヌビエ防除の効力を目視評価した。評価は0〜10の11段階で示した(0を無作用、10を完全枯死とし、その間を1〜9の段階で評価した)。
その結果、化合物(I−1−1)、(I−1−2)、(I−1−3)、(I−1−4)、(I−1−5)、(I−1−6)、(I−1−8)、(I−2−1)、(I−2−2)、(I−2−3)、(I−3−1)、(I−5−1)及び(I−6−1)は1,000g/haの処理薬量で効力8以上を示した。対して、化合物Dは同じ処理薬量で効力0であった。
試験例1−3
直径8cm、深さ6.5cmのプラスチックカップに土を充填した。ここにヤエムグラ(Galium aparine)を播種した。植物が2〜3葉期まで生育したのち、本発明化合物を含む薬液を所定の処理薬量で植物全体に均一に散布した。薬液は供試化合物の所定量をトゥイーン20(ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、MPバイオメディカルズ・インク製)のジメチルホルムアミド溶液(2%)に溶解し、脱イオン水で希釈することにより調製した。薬剤処理後、植物を温室内で20日間栽培した。その後、ヤエムグラ防除の効力を目視評価した。評価は0〜10の11段階で示した(0を無作用、10を完全枯死とし、その間を1〜9の段階で評価した)。
その結果、化合物(I−1−1)、(I−1−2)、(I−1−3)、(I−1−4)、(I−1−5)、(I−2−1)、(I−2−2)、(I−3−1)、(I−5−1)及び(I−6−1)は250g/haの処理薬量で効力8以上を示した。対して、化合物Dは同じ処理薬量で効力0であった。
試験例2−1
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
ポリエチレンカップの底に厚さ2mmにスライスしたシルクメイト2S(日本農産工業)を置き、上記試験用薬液1mLを灌注した。風乾後リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana)初齢幼虫30頭を入れ、蓋をした。これを25℃で7日間保管した。その後、生存虫数を数え、下記式により求められる死亡率に基づき、下記殺虫指数により評価した。
死亡率(%)={1−(生存虫数/供試虫数)}×100
殺虫指数)4:死亡率100%、3:80〜99%、2:60〜79%、1:30〜59%、0:0〜29%
化合物(I−1−6)の試験用散布液の処理区は指数4を示した。
試験例2−2
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
ポリエチレンカップの底に厚さ2mmにスライスしたインセクタLF(日本農産工業)を置き、上記試験用薬液1mLを灌注した。風乾後ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)4齢幼虫5頭を入れ、蓋をした。これを25℃で6日間保管した。その後、生存虫数を数え、下記式により求められる死亡率に基づき、下記殺虫指数により評価した。
死亡率(%)={1−(生存虫数/供試虫数)}×100
殺虫指数)4:死亡率100%、3:80〜99%、2:60〜79%、1:30〜59%、0:0〜29%
化合物(I−1−6)の試験用散布液の処理区は指数3を示した。
試験例2−3
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
試験用薬液0.7mLをイオン交換水で有効成分濃度3.5ppmとなるように希釈した。この希釈液にアカイエカ(Culex pipiens pallens)終令幼虫20頭を入れた。8日後に死亡虫数を数えた。
死亡率は下式により計算し、4:死亡率91〜100%、2:11〜90%、0:0〜10%の指数で評価した。
死亡率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
化合物(I−1−6)の処理区は指数4であった。
試験例2−4
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。
ポリエチレンカップに植えた3葉期キャベツ(Brassicae oleracea)に、上記の試験用薬液を20mL/カップの割合で散布した。薬液が乾いた後、茎葉部を切り取って50mLカップに収容した。この中にコナガ(Plutella xylostella)2令幼虫5頭を入れ、蓋をした。これを25℃5日間保管した。その後、死亡虫数を数え、次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
その結果、化合物(I−1−6)及び(I−2−3)の試験用散布液の処理区は死虫率80%以上を示した。
試験例2−5
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
ポリエチレンカップに植えた第2葉展開期のイネ幼苗に、上記試験用薬液10mlを散布した。薬液が乾いた後に、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)の初齢幼虫をイネに30頭放した。これを25℃で6日間保管した。その後、イネに寄生したトビイロウンカの数を調査し、下式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:処理区の観察時の虫数
化合物(I−1−6)及び(I−2−3)の試験用散布液の処理区は防除価90%以上を示した。
試験例2−6
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
ポリエチレンカップに植えた第2本葉展開期のキュウリ幼苗にワタアブラムシ(Aphis gossypii)約30頭を接種し、接種1日後に上記試験用薬液10mlを散布した。
散布5日後にキュウリの葉上に寄生したワタアブラムシの生存虫数を調査し、下式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:処理区の観察時の虫数
その結果、(I−1−6)の試験用散布液の処理区は防除価90%以上を示した。
試験例2−7
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
ポリエチレンカップに植えた第3本葉展開期のトマト幼苗に、タバココナジラミ(Bemisia tabaci)成虫を放ち、約24時間産卵させた。該トマト苗を8日間温室内に置き、タバココナジラミの卵から幼虫が孵化してきたところへ上記試験用薬液を10ml/カップの割合で散布した。これを25℃で7日間保持した。その後、トマト葉上の生存幼虫数の調査を行い、次の式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:処理区の観察時の虫数
化合物(I−1−6)の試験用散布液の処理区は防除価90%以上を示した。
試験例2−8
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
ポリエチレンカップに植えた第2本葉展開期のキュウリ幼苗に上記の試験用薬液を10ml/カップの割合で散布した。風乾後、第1本葉を切り取ってポリエチレンカップに入れ、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)幼虫20頭を入れて,蓋をした。これを25℃で7日間保管した。その後、キュウリ葉上の生存虫数を調査し、次の式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:処理区の観察時の虫数
化合物(I−1−6)の試験用散布液の処理区は防除価90%以上を示した。
試験例2−9
製剤例3により得られた本発明化合物の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
第1本葉展開期まで生育したキュウリ幼苗を土から分離し、土を洗い落とした。このキュウリ幼苗の根部を試験用薬液5mlに浸漬した。処理1日後にワタアブラムシ30頭をキュウリ葉面に付着させた。更に7日後に該キュウリの葉上に寄生したワタアブラムシ生存虫数を調査した。以下の式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:処理区の観察時の虫数
その結果、化合物(I−2−1)及び(I−6−1)の試験用散布液の処理区は各々防除価90%以上を示した。
本発明化合物は、雑草防除効力及び有害節足動物防除効力を有する。

Claims (19)

  1. 式(I)
    Figure 2010235603
    〔式中、R1はC1-6アルキル基又は(C1-6アルキルオキシ)C1-6アルキル基を表し、
    2及びR3は同一又は異なっていてもよく、水素又はC1-6アルキル基を表し、
    Wはハロゲン又は下記式
    Figure 2010235603
    {式中、R4、R5、R7、及びR11はC1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、
    3-6アルケニル基、C3-6アルキニル基、C6-10アリール基又は(C6-10アリール)C1-6アルキル基を表し、
    12は、C1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C3-6アルケニル基、C3-6アルキニル基、C6-10アリール基又は(C6-10アリール)C1-6アルキル基を表し、
    6、R8、及びR9は、C1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C2-6アルケニル基、C2-6アルキニル基、C6-10アリール基、(C6-10アリール)C1-6アルキル基、C1-6アルキルオキシ基、C3-8シクロアルキルオキシ基、C3-6アルケニルオキシ基、C3-6アルキニルオキシ基、C6-10アリールオキシ基又は(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基を表し、
    10は、C1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C2-6アルケニル基、C2-6アルキニル基、C6-10アリール基、(C6-10アリール)C1-6アルキル基、C1-6アルキルオキシ基、C3-8シクロアルキルオキシ基、C3-6アルケニルオキシ基、C3-6アルキニルオキシ基、C6-10アリールオキシ基又は(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基を表し、又はR9及びR10は結合するカルボニル基及び窒素と一緒になってベンゼン環が縮合していてもよい5若しくは6員の環状イミド基を表し、
    ここで、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表されるいずれの基もハロゲン及びC1-6アルキルオキシ基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよく、
    4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12で表されるC3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基、及び(C6-10アリール)C1-6アルキル基のアリール部分は、いずれもC1-6アルキル基により置換されていてもよく、
    6、R8、R9及びR10で表されるC3-8シクロアルキルオキシ基、C6-10アリールオキシ基、及び(C6-10アリール)C1-6アルキルオキシ基のアリール部分は、いずれもC1-6アルキル基により置換されていてもよく、
    mは0、1又は2を表す。}
    で表されるいずれかの基を表し、
    1はC1-6アルキル基を表し、
    2はC1-6アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C2-6アルキニル基、C1-6ハロアルキル基、C6-10アリール基、5若しくは6員のヘテロアリール基、C1-6アルキルオキシ基、C1-6ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基を表し、
    ここで、Z2で表されるC3-8シクロアルキル基、C6-10アリール基及び5若しくは6員のヘテロアリール基は、ハロゲン及びC1-6アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよく、
    nは0、1、2、3又は4を表し、nが2、3又は4である場合、各々のZ2は同一又は異なっていてもよい。〕
    で示されるピリダジノン化合物。
  2. nが1、2又は3である請求項1記載のピリダジノン化合物。
  3. nが0であり、Z1がC2-6アルキル基である請求項1記載のピリダジノン化合物。
  4. nが1又は2であり、Z2の結合位置がベンゼン環上の4位及び/又は6位である請求項1又は2記載のピリダジノン化合物。
  5. 1がC1-3アルキル基であり、Z2がC1-3アルキル基、C3-6シクロアルキル基、C2-3アルキニル基、C1-3アルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びC1-3アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一個で置換されていてもよいフェニル基である請求項1、2又は4記載のピリダジノン化合物。
  6. 1 がC1-3アルキル基であり、Z2 がC1-3アルキル基である請求項1、2、4又は5記載のピリダジノン化合物。
  7. 1がC1-3アルキル基又は(C1-3アルキルオキシ)C1-3アルキル基である請求項1〜6のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。
  8. 1がメチル基である請求項1〜6のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。
  9. 2が水素又はC1-3アルキル基である請求項1〜8のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。
  10. 2が水素又はメチル基である請求項1〜8のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。
  11. 3が水素である請求項1〜10のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。
  12. Wがハロゲン、C1-3アルキルオキシ基、(C6-10アリール)C1-3アルキルオキシ基、C1-3アルキルチオ基、C1-3アルキルスルフィニル基、C1-3アルキルスルホニル基又はN−(C6-10アリール)−N−(C1-3アルキルオキシカルボニル)アミノ基である請求項1〜11のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。
  13. WがC1-3アルキルオキシ基又はC1-3アルキルチオ基である請求項1〜11のいずれか一項記載のピリダジノン化合物。
  14. 請求項1〜13のいずれか一項記載のピリダジノン化合物を有効成分として含有する除草剤。
  15. 請求項1〜13のいずれか一項記載のピリダジノン化合物の有効量を、雑草又は雑草の生育する土壌に施用する雑草の防除方法。
  16. 雑草を防除するための請求項1〜13のいずれか一項記載のピリダジノン化合物の使用。
  17. 請求項1〜13のいずれか一項記載のピリダジノン化合物を有効成分として含有する有害節足動物防除剤。
  18. 請求項1〜13のいずれか一項記載のピリダジノン化合物の有効量を、有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用する有害節足動物の防除方法。
  19. 有害節足動物を防除するための、請求項1〜13のいずれか一項記載のピリダジノン化合物の使用。
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