JP2010229257A - Epoxy resin composition and semiconductor - Google Patents

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祐司 荻巣
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition excellent in adhesiveness to members constituting a semiconductor and excellent in both curability and storage stability, and to provide a semiconductor fabricated by sealing a semiconductor device with the same. <P>SOLUTION: An epoxy resin composition including an epoxy resin, a curing agent, and a curing promoter is liquid at ambient temperature, wherein the curing agent includes a mercaptocarboxylate ester compound containing three SH groups per molecule and a tetrahydrophthalic anhydride compound containing three hydrocarbon groups per molecule, and the content of the mercaptocarboxylate ester is 5-50 mass% based on the total amount of the curing agent. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、エポキシ樹脂組成物、及び前記エポキシ樹脂組成物で半導体素子を封止成形して形成される半導体装置に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition and a semiconductor device formed by sealing and molding a semiconductor element with the epoxy resin composition.

半導体装置は、シリコンチップ等の半導体素子や基板等の部材を、封止材で封止して半導体パッケージを形成することにより得られる。そして、前記部材を封止する際に用いられる封止材としては、得られる半導体装置の信頼性を高めるために、半導体素子等の半導体装置を構成する部材に対する密着性が高いことが望まれている。このような密着性の高い封止材としては、例えば、常温で液状のエポキシ樹脂組成物等が知られている。常温で液状のエポキシ樹脂組成物は、封止時に金型を用いて成形する必要がないので、離型剤を含有させる必要がない。よって、常温で液状のエポキシ樹脂組成物は、一般的に、金型を用いる封止方法で用いられる、離型剤が含有されている封止材より、半導体素子等の半導体装置を構成する部材に対する密着性が高くなることが知られている。   A semiconductor device is obtained by sealing a semiconductor element such as a silicon chip or a member such as a substrate with a sealing material to form a semiconductor package. And as a sealing material used when sealing the said member, in order to improve the reliability of the semiconductor device obtained, it is desired that the adhesiveness with respect to the members which comprise semiconductor devices, such as a semiconductor element, is high. Yes. As such a highly adhesive sealing material, for example, an epoxy resin composition that is liquid at room temperature is known. Since the epoxy resin composition that is liquid at room temperature does not need to be molded using a mold at the time of sealing, it is not necessary to contain a release agent. Therefore, an epoxy resin composition that is liquid at room temperature is generally a member that constitutes a semiconductor device such as a semiconductor element from a sealing material containing a release agent, which is used in a sealing method using a mold. It is known that the adhesiveness with respect to becomes high.

一方、封止材で封止する工程において、半導体装置の生産効率を向上させるために、封止材として用いるエポキシ樹脂組成物の硬化時間の短縮化が望まれている。また、半導体素子等の半導体を構成する部材に可能な限り熱を加えないことが好ましく、比較的低温であっても硬化できる封止材が求められている。このため、封止材であるエポキシ樹脂組成物に含有する硬化剤を検討することによって、エポキシ樹脂組成物の硬化性を高めることが試みられてきた。   On the other hand, in the process of sealing with a sealing material, in order to improve the production efficiency of a semiconductor device, shortening of the hardening time of the epoxy resin composition used as a sealing material is desired. Moreover, it is preferable that heat is not applied as much as possible to a member constituting a semiconductor such as a semiconductor element, and a sealing material that can be cured even at a relatively low temperature is demanded. For this reason, it has been attempted to increase the curability of the epoxy resin composition by examining the curing agent contained in the epoxy resin composition which is a sealing material.

エポキシ樹脂組成物に含有されている硬化剤としては、例えば、下記特許文献1に記載されている硬化剤等が挙げられる。下記特許文献1には、オキサゾリドン環を含むエポキシ樹脂、及び熱安定剤含有するエポキシ樹脂組成物に含有されている硬化剤としては、アミン系、酸無水物系、フェノール系、メルカプタン系、イミダゾール系、及びBF系の硬化剤が記載されている。 As a hardening | curing agent contained in an epoxy resin composition, the hardening | curing agent described in the following patent document 1, etc. are mentioned, for example. In the following Patent Document 1, as an curing agent contained in an epoxy resin composition containing an oxazolidone ring and an epoxy resin composition containing a heat stabilizer, amine-based, acid anhydride-based, phenol-based, mercaptan-based, imidazole-based And BF 3 based curing agents are described.

特開平8−127635号公報JP-A-8-127635

封止材であるエポキシ樹脂組成物中の硬化剤として、例えば、特許文献1に記載されているような各種硬化剤等の中から硬化剤を検討することによって、エポキシ樹脂組成物の硬化性を高めても、常温での保存性が悪化したり、開封後の可使時間、いわゆるポットライフが短くなる等の不具合が発生する場合があった。さらに、場合によっては、開封前の密封時であってもエポキシ樹脂組成物が経時変化してしまうことがあった。このような経時変化したエポキシ樹脂組成物は、流動性等が低下していることがあり、充填不良が発生するおそれもあった。すなわち、硬化性と保存安定性とがともに優れた液状のエポキシ樹脂組成物を得ることが困難であった。   As the curing agent in the epoxy resin composition that is a sealing material, for example, by examining the curing agent from among various curing agents as described in Patent Document 1, the curability of the epoxy resin composition can be increased. Even if it is increased, there are cases where the storage stability at room temperature deteriorates and the pot life after opening, that is, the so-called pot life is shortened. Further, in some cases, the epoxy resin composition may change over time even during sealing before opening. Such an epoxy resin composition that has changed over time may have decreased fluidity and the like, and may have poor filling. That is, it was difficult to obtain a liquid epoxy resin composition excellent in both curability and storage stability.

本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れ、さらに、硬化性と保存安定性とがともに優れたエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。また、前記エポキシ樹脂組成物で半導体素子を封止成形して形成される半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and is to provide an epoxy resin composition having excellent adhesion to members constituting a semiconductor device, and further excellent in both curability and storage stability. Objective. Another object of the present invention is to provide a semiconductor device formed by sealing and molding a semiconductor element with the epoxy resin composition.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、及び硬化促進剤を含有する常温で液状のエポキシ樹脂組成物であって、前記硬化剤が、1分子中にSH基を3個有するメルカプトカルボン酸エステル化合物と1分子中に炭化水素基を3個有するテトラヒドロ無水フタル酸化合物とを含み、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、前記硬化剤全量に対して、5〜50質量%であることを特徴とするものである。   The epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin composition that is liquid at room temperature containing an epoxy resin, a curing agent, and a curing accelerator, and the curing agent has three SH groups in one molecule. Including a carboxylic acid ester compound and a tetrahydrophthalic anhydride compound having three hydrocarbon groups in one molecule, wherein the content of the mercaptocarboxylic acid ester compound is 5 to 50% by mass relative to the total amount of the curing agent. It is characterized by being.

このような構成によれば、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れ、さらに、硬化性と保存安定性とがともに優れたエポキシ樹脂組成物が得られる。   According to such a configuration, an epoxy resin composition having excellent adhesion to members constituting the semiconductor device and further excellent in both curability and storage stability can be obtained.

このことは、まず、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物が、常温で液状のエポキシ樹脂組成物の、半導体装置を構成する部材に対する高い密着性を損なうことなく、硬化性を高め、特に、低温における硬化性を高めることができると考えられる。そして、前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物は、他の硬化剤と比較して、エポキシ樹脂組成物中の不純イオンを低減でき、この不純イオンの低減により、エポキシ樹脂組成物の耐湿性を向上させることができると考えられる。よって、耐湿性を向上させることによって、半導体装置を構成する部材との界面からの吸湿をも抑制でき、半導体装置を構成する部材に対する密着性をより高めることができると考えられる。さらに、前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物は、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物と併用することによって、エポキシ樹脂組成物の硬化性を調整でき、エポキシ樹脂組成物の硬化性を好適に保持しつつ、保存安定性を高めることができると考えられる。以上のことより、硬化剤として、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物と前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物とを併用し、硬化剤中の前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量を規定することによって、常温で液状のエポキシ樹脂組成物の、半導体装置を構成する部材に対する高い密着性を損なうことなく、硬化性と保存安定性との両立が図れることによると考えられる。   This is because, first, the mercaptocarboxylic acid ester compound increases the curability without impairing the high adhesion of the epoxy resin composition that is liquid at room temperature to the members constituting the semiconductor device, and in particular, the curability at low temperatures. It is thought that it can raise. The tetrahydrophthalic anhydride compound can reduce impure ions in the epoxy resin composition as compared with other curing agents, and the reduction of the impure ions can improve the moisture resistance of the epoxy resin composition. It is considered possible. Therefore, it is considered that by improving the moisture resistance, moisture absorption from the interface with the member constituting the semiconductor device can be suppressed, and the adhesion to the member constituting the semiconductor device can be further increased. Furthermore, when the tetrahydrophthalic anhydride compound is used in combination with the mercaptocarboxylic acid ester compound, the curability of the epoxy resin composition can be adjusted, and the storage stability is maintained while suitably maintaining the curability of the epoxy resin composition. It is thought that it can raise. From the above, as the curing agent, the mercaptocarboxylic acid ester compound and the tetrahydrophthalic anhydride compound are used in combination, and by specifying the content of the mercaptocarboxylic acid ester compound in the curing agent, it is liquid at room temperature. It is thought that it is possible to achieve both curability and storage stability without impairing the high adhesion of the epoxy resin composition to the members constituting the semiconductor device.

また、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物が、下記式(1)で表される化合物であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said mercaptocarboxylic acid ester compound is a compound represented by following formula (1).

Figure 2010229257
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このような構成によれば、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れた液状のエポキシ樹脂組成物において、硬化性により優れ、かつ、保存安定性により優れたものが得られる。   According to such a configuration, a liquid epoxy resin composition having excellent adhesion to members constituting the semiconductor device can be obtained which is excellent in curability and storage stability.

また、前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物が、下記式(2)で表される化合物であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said tetrahydrophthalic anhydride compound is a compound represented by following formula (2).

Figure 2010229257
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このような構成によれば、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れた液状のエポキシ樹脂組成物において、硬化性により優れ、かつ、保存安定性により優れたものが得られる。   According to such a configuration, a liquid epoxy resin composition having excellent adhesion to members constituting the semiconductor device can be obtained which is excellent in curability and storage stability.

また、本発明の半導体装置は、前記エポキシ樹脂組成物で半導体素子を封止成形して得られることを特徴とするものである。   The semiconductor device of the present invention is obtained by sealing and molding a semiconductor element with the epoxy resin composition.

このような構成によれば、半導体素子等の、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れ、硬化性と保存安定性とがともに優れたエポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を封止成形するので、信頼性の高い半導体装置が得られる。すなわち、密着性に優れ、充填不良等の不具合の発生が抑制された半導体装置が得られる。   According to such a configuration, the semiconductor element is encapsulated by using an epoxy resin composition having excellent adhesion to a member constituting the semiconductor device, such as a semiconductor element, and having both excellent curability and storage stability. Therefore, a highly reliable semiconductor device can be obtained. That is, it is possible to obtain a semiconductor device that has excellent adhesion and suppresses the occurrence of defects such as poor filling.

本発明によれば、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れ、さらに、硬化性と保存安定性とがともに優れたエポキシ樹脂組成物を提供できる。また、前記エポキシ樹脂組成物で半導体素子を封止成形して形成される半導体装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in the adhesiveness with respect to the member which comprises a semiconductor device, and also can provide the epoxy resin composition excellent in both sclerosis | hardenability and storage stability. Moreover, the semiconductor device formed by sealingly molding a semiconductor element with the said epoxy resin composition is provided.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、及び硬化促進剤を含有する常温で液状のエポキシ樹脂組成物であって、前記硬化剤が、1分子中にSH基を3個有するメルカプトカルボン酸エステル化合物と1分子中に炭化水素基を3個有するテトラヒドロ無水フタル酸化合物とを含み、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、前記硬化剤全量に対して、5〜50質量%であることを特徴とするものである。ここで、常温とは、10〜30℃程度の温度をいう。すなわち、前記エポキシ樹脂組成物は、常温、例えば、25℃程度で液状であるエポキシ樹脂組成物である。   The epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin composition that is liquid at room temperature containing an epoxy resin, a curing agent, and a curing accelerator, and the curing agent has three SH groups in one molecule. Including a carboxylic acid ester compound and a tetrahydrophthalic anhydride compound having three hydrocarbon groups in one molecule, wherein the content of the mercaptocarboxylic acid ester compound is 5 to 50% by mass relative to the total amount of the curing agent. It is characterized by being. Here, normal temperature refers to a temperature of about 10 to 30 ° C. That is, the epoxy resin composition is an epoxy resin composition that is liquid at normal temperature, for example, about 25 ° C.

前記エポキシ樹脂としては、常温におけるエポキシ樹脂組成物が液状となるものであれば、特に限定なく使用でき、半導体封止用エポキシ樹脂に使用される公知のエポキシ樹脂を使用することができる。具体的には、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、及びビスフェノールS型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、O−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、及びブロム含有エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中では、ビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましく、さらに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂がより好ましい。エポキシ樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を用い、後述する硬化剤を用いることによって、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れた液状のエポキシ樹脂組成物において、硬化性により優れ、かつ、保存安定性により優れたものが得られる。また、前記エポキシ樹脂としては、液体のエポキシ樹脂であっても、固体のエポキシ樹脂であっても、限定なく使用できるが、常温におけるエポキシ樹脂組成物が液状でなければならないので、通常、液体のエポキシ樹脂が用いられる。また、前記エポキシ樹脂としては、上記各エポキシ樹脂を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   As said epoxy resin, if the epoxy resin composition in normal temperature turns into a liquid form, it can use without limitation, The well-known epoxy resin used for the epoxy resin for semiconductor sealing can be used. Specifically, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin such as bisphenol S type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin such as O-cresol novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy, etc. Examples thereof include resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, and bromine-containing epoxy resins. Among these, bisphenol type epoxy resins are preferable, and bisphenol A type epoxy resins are more preferable. By using a bisphenol A type epoxy resin as an epoxy resin and using a curing agent described later, in a liquid epoxy resin composition having excellent adhesion to members constituting a semiconductor device, it is excellent in curability and storage stability. A product superior in properties can be obtained. The epoxy resin may be a liquid epoxy resin or a solid epoxy resin, and can be used without limitation. However, since the epoxy resin composition at room temperature must be liquid, Epoxy resin is used. Moreover, as said epoxy resin, said each epoxy resin may be used independently, and may be used in combination of 2 or more type.

前記硬化剤としては、前記エポキシ樹脂と反応して、エポキシ樹脂組成物を硬化させるものであり、具体的には、1分子中にSH基を3個有するメルカプトカルボン酸エステル化合物と1分子中に炭化水素基を3個有するテトラヒドロ無水フタル酸化合物とを少なくとも含み、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、前記硬化剤全量に対して、5〜50質量%である。   The curing agent reacts with the epoxy resin to cure the epoxy resin composition, specifically, a mercaptocarboxylic acid ester compound having three SH groups in one molecule and one molecule. At least a tetrahydrophthalic anhydride compound having three hydrocarbon groups, and the content of the mercaptocarboxylic acid ester compound is 5 to 50% by mass based on the total amount of the curing agent.

前記メルカプトカルボン酸エステル化合物としては、1分子中にSH基を3個有するメルカプトカルボン酸エステル化合物であればよい。具体的には、例えば、メルカプトカルボン酸と3価以上のアルコール化合物とからなるエステル化合物等が挙げられる。また、前記メルカプトカルボン酸としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、メルカプト酢酸やメルカプトプロピオン酸等が挙げられる。また、前記アルコール化合物としては、水酸基を3個以上有するものであれば、特に限定されず、具体的には、例えば、1,2,4−ブタントリオール、1,2,3−プロパントリオール、1,2,5−ペンタントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、グリセリン、2−メチルプロパントリオール、及び2−メチル−1,2,4−ブタントリオール等のトリオール化合物、1,4−ソルビタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール等が挙げられる。この中でも、1分子中にSH基を3個有するメルカプトカルボン酸エステル化合物を形成するには、トリオール化合物が好ましい。また、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物としては、より具体的には、例えば、下記式(1)で表される化合物が好ましい。   The mercaptocarboxylic acid ester compound may be a mercaptocarboxylic acid ester compound having three SH groups in one molecule. Specifically, for example, an ester compound composed of mercaptocarboxylic acid and a trivalent or higher valent alcohol compound may be used. The mercaptocarboxylic acid is not particularly limited, and specific examples include mercaptoacetic acid and mercaptopropionic acid. The alcohol compound is not particularly limited as long as it has 3 or more hydroxyl groups. Specifically, for example, 1,2,4-butanetriol, 1,2,3-propanetriol, 1 , 2,5-pentanetriol, 1,2,6-hexanetriol, trimethylolpropane, glycerin, 2-methylpropanetriol, and triol compounds such as 2-methyl-1,2,4-butanetriol, 1,4 -Sorbitan, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol and the like. Among these, a triol compound is preferable for forming a mercaptocarboxylic acid ester compound having three SH groups in one molecule. Further, as the mercaptocarboxylic acid ester compound, for example, a compound represented by the following formula (1) is preferable.

Figure 2010229257
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前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物としては、1分子中に炭化水素基を3個有するテトラヒドロ無水フタル酸であれば、特に限定されない。具体的には、例えば、下記式(2)で表される化合物であることが好ましい。   The tetrahydrophthalic anhydride compound is not particularly limited as long as it is tetrahydrophthalic anhydride having three hydrocarbon groups in one molecule. Specifically, for example, a compound represented by the following formula (2) is preferable.

Figure 2010229257
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前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、前記硬化剤全量に対して、
5〜50質量%であり、10〜30質量%であることが好ましい。前記メルカプトカルボン酸エステル化合物が少なすぎると、密着性が低下し、さらに、硬化性が低下する傾向がある。また、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物が多すぎると、硬化性が高まりすぎて、保存安定性が低下する傾向がある。
The content of the mercaptocarboxylic acid ester compound is based on the total amount of the curing agent,
It is 5-50 mass%, and it is preferable that it is 10-30 mass%. When the amount of the mercaptocarboxylic acid ester compound is too small, the adhesion tends to decrease and the curability tends to decrease. Moreover, when there are too many said mercaptocarboxylic-acid ester compounds, there exists a tendency for sclerosis | hardenability to increase too much and for storage stability to fall.

また、前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物の含有量が、前記硬化剤全量に対して、
50〜95質量%であることが好ましく、70〜90質量%であることがより好ましい。前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物が少なすぎると、硬化剤として、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物と前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物とからなる場合、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が多くなりすぎ、硬化性が高まりすぎて、保存安定性が低下する傾向がある。また、前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物が多すぎると、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が少なくなりすぎ、密着性が低下し、さらに、硬化性が低下する傾向がある。
Further, the content of the tetrahydrophthalic anhydride compound is based on the total amount of the curing agent.
It is preferable that it is 50-95 mass%, and it is more preferable that it is 70-90 mass%. When the amount of the tetrahydrophthalic anhydride compound is too small, when the mercaptocarboxylic acid ester compound and the tetrahydrophthalic anhydride compound are used as a curing agent, the content of the mercaptocarboxylic acid ester compound is excessively increased and the curability is increased. It tends to be too high and storage stability decreases. On the other hand, when the amount of the tetrahydrophthalic anhydride compound is too large, the content of the mercaptocarboxylic acid ester compound becomes too small, the adhesion is lowered, and the curability tends to be lowered.

また、前記硬化剤としては、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物及び前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物を含有していれば、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物及び前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物以外の硬化剤(他の硬化剤)をさらに含有してもよい。前記他の硬化剤としては、公知の硬化剤を挙げることができ、具体的には、例えば、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸等の、前記1分子中に炭化水素基を3個有するテトラヒドロ無水フタル酸以外の酸無水物系硬化剤、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン等のアミン系硬化剤、フェノールノボラック樹脂等のフェノール系硬化剤、液状ポリメルカプタンやポリサルファイド樹脂等のポリメルカプタン系硬化剤等が挙げられる。   Moreover, as said hardening | curing agent, if it contains the said mercapto carboxylic acid ester compound and the said tetrahydro phthalic anhydride compound, hardening | curing agents other than the said mercapto carboxylic acid ester compound and the said tetrahydro phthalic anhydride compound (other hardening | curing agents) ) May be further contained. Examples of the other curing agent include known curing agents. Specifically, for example, hydrocarbons in one molecule such as hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, etc. Acid anhydride curing agents other than tetrahydrophthalic anhydride having three groups, amine curing agents such as diaminodiphenylmethane and metaphenylenediamine, phenolic curing agents such as phenol novolac resin, poly (polycaptane, polysulfide resin, etc.) Examples include mercaptan curing agents.

また、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物及び前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物の合計含有量としては、前記他の硬化剤を含有する場合であっても、前記硬化剤全量に対して、80質量%以上であることが好ましい。また、前記硬化剤としては、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物と前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物とからなることがより好ましい。すなわち、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物及び前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物の合計含有量が、前記硬化剤全量に対して、100質量%であることがより好ましい。前記メルカプトカルボン酸エステル化合物及び前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物の合計含有量が少なすぎると、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物と前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物との併用の効果を充分に発揮できなくなり、半導体装置を構成する部材に対する密着性、硬化性、及び保存安定性の全てが優れたエポキシ樹脂組成物が得られにくくなる傾向がある。   Further, the total content of the mercaptocarboxylic acid ester compound and the tetrahydrophthalic anhydride compound is 80% by mass or more based on the total amount of the curing agent, even when the other curing agent is contained. It is preferable. The curing agent is more preferably composed of the mercaptocarboxylic acid ester compound and the tetrahydrophthalic anhydride compound. That is, the total content of the mercaptocarboxylic acid ester compound and the tetrahydrophthalic anhydride compound is more preferably 100% by mass with respect to the total amount of the curing agent. If the total content of the mercaptocarboxylic acid ester compound and the tetrahydrophthalic anhydride compound is too small, the combined effect of the mercaptocarboxylic acid ester compound and the tetrahydrophthalic anhydride compound cannot be sufficiently exerted, and the semiconductor device There exists a tendency for the epoxy resin composition which was excellent in all the adhesiveness with respect to the member to comprise, sclerosis | hardenability, and storage stability to become difficult to obtain.

また、前記硬化剤の含有量としては、特に限定されないが、前記エポキシ樹脂に対する割合(硬化剤/エポキシ樹脂)が、当量比で、0.6〜1.2であることが好ましい。前記硬化剤の含有量が少なすぎると、硬化性が低下し、硬化不足になる傾向がある。また、前記硬化剤の含有量が多すぎると、エポキシ樹脂と反応しないで、硬化物中に残存する硬化剤の量が増え、得られた半導体装置の信頼性が低下する傾向がある。   Moreover, it is although it does not specifically limit as content of the said hardening | curing agent, It is preferable that the ratio (hardening agent / epoxy resin) with respect to the said epoxy resin is 0.6-1.2 by an equivalent ratio. When there is too little content of the said hardening | curing agent, sclerosis | hardenability will fall and there exists a tendency for hardening to be insufficient. Moreover, when there is too much content of the said hardening | curing agent, it will not react with an epoxy resin, but the quantity of the hardening | curing agent which remains in hardened | cured material will increase, and there exists a tendency for the reliability of the obtained semiconductor device to fall.

また、前記硬化促進剤としては、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との硬化反応を促進することができるものであれば、特に限定することなく使用できる。具体的には、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ)、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−7−ウンデセン(DBU)等の第三級アミン、マイクロカプセル型硬化促進剤等が挙げられる。この中でも、イミダゾール系化合物が好ましく、2E4MZがより好ましい。硬化剤として、前述の硬化剤を用い、硬化促進剤として、2E4MZを用いることによって、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れた液状のエポキシ樹脂組成物において、硬化性により優れ、かつ、保存安定性により優れたものが得られる。また、前記硬化促進剤は、前記各硬化促進剤を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   Moreover, as said hardening accelerator, if it can accelerate | stimulate the hardening reaction of the said epoxy resin and the said hardening | curing agent, it can use without limitation in particular. Specifically, for example, imidazole series such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ), 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, etc. Compounds, tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -7-undecene (DBU), and microcapsule type curing accelerators. Among these, imidazole compounds are preferable, and 2E4MZ is more preferable. By using 2E4MZ as the curing agent described above as the curing agent and 2E4MZ as the curing accelerator, the liquid epoxy resin composition having excellent adhesion to the members constituting the semiconductor device is excellent in curability and storage. Excellent stability is obtained. Moreover, the said hardening accelerator may use each said hardening accelerator independently, and may be used in combination of 2 or more type.

前記硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂組成物全量に対して、0.01〜10質量%であることが好ましい。硬化促進剤の含有量が少なすぎると、硬化に要する時間が長時間化し、作業性が低下する傾向がある。また、硬化促進剤の含有量が多すぎると、常温での可使時間の低下、及び不純イオンの影響が発現されやすくなる傾向がある。   It is preferable that content of the said hardening accelerator is 0.01-10 mass% with respect to the epoxy resin composition whole quantity. When the content of the curing accelerator is too small, the time required for curing becomes longer and workability tends to be lowered. Moreover, when there is too much content of a hardening accelerator, there exists a tendency for the fall of the pot life at normal temperature, and the influence of an impurity ion to be expressed easily.

また、前記エポキシ樹脂組成物は、前記エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂を含有してもよい。前記エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、及びフェノール樹脂等が挙げられる。また、前記エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂としては、液体のものであっても、固体のものであっても、限定なく使用できるが、常温におけるエポキシ樹脂組成物が液状でなければならないので、通常、液体の熱硬化性樹脂が用いられる。また、前記エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂を含有させる場合であっても、前記エポキシ樹脂の含有量が、前記エポキシ樹脂と前記エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂との合計含有量に対して、90質量%以上であることが好ましい。   Moreover, the said epoxy resin composition may contain thermosetting resins other than the said epoxy resin. Specific examples of the thermosetting resin other than the epoxy resin include a silicone resin, a urethane resin, a polyimide resin, and a phenol resin. In addition, as the thermosetting resin other than the epoxy resin, even if it is liquid or solid, it can be used without limitation, but the epoxy resin composition at room temperature must be liquid, Usually, a liquid thermosetting resin is used. Further, even when a thermosetting resin other than the epoxy resin is contained, the content of the epoxy resin is based on the total content of the epoxy resin and the thermosetting resin other than the epoxy resin. It is preferable that it is 90 mass% or more.

また、前記エポキシ樹脂組成物は、無機充填材を含有することが好ましい。前記無機充填材を含有させることによって、低熱膨張化、及び作業性改善等の性能を発揮でき、さらに、原材料コストを低減できる。前記無機充填材としては、特に限定なく、従来公知の無機充填材を用いることができる。具体的には、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、微分シリカ、アルミナ、窒化珪素、及びマグネシア等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。無機充填材としては、前記無機充填材の中でも、低粘度化と流動特性との向上の点から、球状の溶融シリカが好ましい。また、前記無機充填材が球状である場合、例えば、球状の溶融シリカの場合、平均粒子径が0.2〜30μmが好ましく、0.2〜5μmがより好ましい。なお、平均粒子径は、レーザ回折散乱法等により測定することができる。   Moreover, it is preferable that the said epoxy resin composition contains an inorganic filler. By including the inorganic filler, performance such as low thermal expansion and improved workability can be exhibited, and further, raw material costs can be reduced. The inorganic filler is not particularly limited, and a conventionally known inorganic filler can be used. Specific examples include fused silica, crystalline silica, differential silica, alumina, silicon nitride, and magnesia. These may be used alone or in combination of two or more. Among the inorganic fillers, spherical fused silica is preferable as the inorganic filler from the viewpoints of lowering viscosity and improving flow characteristics. Moreover, when the said inorganic filler is spherical, for example, in the case of spherical fused silica, the average particle diameter is preferably 0.2 to 30 μm, and more preferably 0.2 to 5 μm. The average particle diameter can be measured by a laser diffraction scattering method or the like.

前記エポキシ樹脂組成物には、上記以外の組成として、本発明の目的とする所望の特性を阻害しない範囲で従来公知の添加剤、例えば、カップリング剤、着色剤、消泡剤、及び改質剤等を必要に応じて添加してもよい。前記カップリング剤としては、具体的には、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。前記着色剤としては、例えば、カーボンブラック等の顔料や染料等が挙げられる。   In the epoxy resin composition, as a composition other than the above, conventionally known additives, for example, a coupling agent, a colorant, an antifoaming agent, and a modification, as long as the desired characteristics of the present invention are not impaired. You may add an agent etc. as needed. Specific examples of the coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, and the like. These silane coupling agents are mentioned. Examples of the colorant include pigments and dyes such as carbon black.

前記エポキシ樹脂組成物は、前記エポキシ樹脂、前記硬化剤、前記硬化促進剤、及び必要に応じて、前記エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂、前記無機充填剤、前記添加剤等を所定の含有量となるように、同時又は順次配合し、各成分が均一に分散するように、ミキサ等で混合し、その後、ロールやニーダ等によって混練して製造する。混合や混練時に、必要に応じて加熱処理や冷却処理を施してもよい。また、上記各成分を配合する順番には特に制限はない。   The epoxy resin composition has a predetermined content of the epoxy resin, the curing agent, the curing accelerator, and, if necessary, a thermosetting resin other than the epoxy resin, the inorganic filler, the additive, and the like. In such a manner, they are mixed simultaneously or sequentially and mixed with a mixer or the like so that each component is uniformly dispersed, and then kneaded with a roll or a kneader. When mixing or kneading, heat treatment or cooling treatment may be performed as necessary. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the order which mix | blends each said component.

本発明の半導体装置は、上記のようにして得られたエポキシ樹脂組成物で半導体素子を封止成形して得られるものである。具体的には、例えば、ICチップやLSIチップ等の半導体素子と回路基板(インターポーザ)との間を、前記エポキシ樹脂組成物で封止することにより得られる半導体装置や、フレキシブルプリント配線板(FPC)に形成された回路における半導体素子搭載領域に半導体素子を搭載した後、前記半導体素子と前記FPCとの間を、前記エポキシ樹脂組成物で封止することにより得られる、チップオンフィルム(COF)構造の半導体装置等が挙げられる。   The semiconductor device of the present invention is obtained by encapsulating a semiconductor element with the epoxy resin composition obtained as described above. Specifically, for example, a semiconductor device obtained by sealing between a semiconductor element such as an IC chip or an LSI chip and a circuit board (interposer) with the epoxy resin composition, a flexible printed wiring board (FPC) Chip-on-film (COF) obtained by mounting a semiconductor element in a semiconductor element mounting region in a circuit formed in (2) and then sealing between the semiconductor element and the FPC with the epoxy resin composition. Examples include a semiconductor device having a structure.

より具体的には、例えば、前記エポキシ樹脂組成物を、セラミック基板やFRグレード等の回路基板の回路パターン面に多数のバンプを介して半導体素子が搭載されたもののバンプ間の間隙に、ディスペンサ等を用いて塗布、充填する。そして、前記エポキシ樹脂組成物を、加熱硬化させる。その後、半導体素子全体の封止を行う後工程等を行う。そうすることによって、前記エポキシ樹脂組成物を封止材として用いた、フリップチップ実装による半導体装置を製造することができる。前記加熱硬化の条件は、前記エポキシ樹脂組成物の硬化温度以上であればよいが、例えば、120〜170℃で、0.5〜5時間程度であることが好ましい。   More specifically, for example, the epoxy resin composition is dispensed in a gap between bumps of a semiconductor element mounted on a circuit pattern surface of a circuit board such as a ceramic substrate or FR grade via a large number of bumps. Apply and fill with. Then, the epoxy resin composition is cured by heating. Thereafter, a post-process or the like for sealing the entire semiconductor element is performed. By doing so, a semiconductor device by flip chip mounting using the epoxy resin composition as a sealing material can be manufactured. The heat curing condition may be not lower than the curing temperature of the epoxy resin composition, but is preferably 120 to 170 ° C. and about 0.5 to 5 hours, for example.

前記半導体装置としては、具体的には、例えば、各種のエリアアレイ型のパッケージ、例えば、BGA(Ball Grid Array)やCSP(Chip Size Package)等のパッケージによるものが挙げられる。   Specific examples of the semiconductor device include various area array type packages such as BGA (Ball Grid Array) and CSP (Chip Size Package) packages.

以下に、本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   Examples The present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

表1に示す配合割合(質量部)で、エポキシ樹脂、硬化剤、及び硬化促進剤の各成分を、常法に従って、配合、混合、及び混練することにより、エポキシ樹脂組成物を調製した。なお、実施例及び比較例においては、次の原材料を用いた。   An epoxy resin composition was prepared by blending, mixing, and kneading each component of the epoxy resin, the curing agent, and the curing accelerator according to a conventional method at a blending ratio (parts by mass) shown in Table 1. In the examples and comparative examples, the following raw materials were used.

エポキシ樹脂:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製のエピコート828、エポキシ当量190)
硬化剤1:上記式(1)で表される化合物(ジャパンエポキシレジン株式会社製のQX−30、SH当量123)
硬化剤2:上記式(2)で表される化合物(ジャパンエポキシレジン株式会社製のエピキュアYH−306、活性水素当量238)
硬化促進剤:2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製の2E4MZ)
上記のように調製された各エポキシ樹脂組成物を用いて、以下に示す方法により評価を行った。
Epoxy resin: Bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent 190)
Curing agent 1: Compound represented by the above formula (1) (QX-30, SH equivalent 123 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
Curing agent 2: Compound represented by the above formula (2) (Epicure YH-306 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., active hydrogen equivalent 238)
Curing accelerator: 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
Using each epoxy resin composition prepared as described above, evaluation was performed by the following method.

(ポットライフ)
まず、前記エポキシ樹脂組成物を調製した直後の、前記エポキシ樹脂組成物の粘度(初期粘度)を、B8H型粘度計(東京計器(株)製)で測定した。そして、前記エポキシ樹脂組成物を調製した直後から、前記初期粘度に対する粘度が2倍になるまでの時間をポットライフとして測定した。なお、ここで、粘度は、25℃における粘度である。
(Pot life)
First, the viscosity (initial viscosity) of the epoxy resin composition immediately after preparing the epoxy resin composition was measured with a B8H viscometer (manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.). And the time until the viscosity with respect to the said initial viscosity doubled immediately after preparing the said epoxy resin composition was measured as a pot life. Here, the viscosity is a viscosity at 25 ° C.

(密着強度)
アルミナ製のセラミック板の表面上に、上底の直径が4mm、下底の直径が3mm、高さが5mmの円錐台(プリン)状の硬化物(成形品)を、前記エポキシ樹脂組成物を用いてプリン成形により形成させた。このときの成形条件としては、前記セラミック板上に塗布した前記エポキシ樹脂組成物を、80℃で2時間加熱することによって硬化させた。
(Adhesion strength)
A cured product (molded product) in the shape of a truncated cone (pudding) having an upper base diameter of 4 mm, a lower base diameter of 3 mm, and a height of 5 mm on the surface of an alumina ceramic plate, the epoxy resin composition And formed by pudding molding. As molding conditions at this time, the epoxy resin composition coated on the ceramic plate was cured by heating at 80 ° C. for 2 hours.

そして、形成されたプリン状の成形品とセラミック板との密着強度(シェア強度)を、接合強度試験機(デイジー社製のDS100)を用いて、測定した。   Then, the adhesion strength (shear strength) between the formed pudding-shaped molded product and the ceramic plate was measured using a bonding strength tester (DS100 manufactured by Daisy).

(硬化度)
前記エポキシ樹脂組成物を80℃で2時間加熱して得られた試験片を、示差走査熱量測定計(DSC)を用いて、昇温速度10℃/分で昇温させたときの熱量を測定した。その際、熱量が計測されれば、前記試験片は、「未硬化」であったと評価し、熱量が計測されなければ、前記試験片は、「硬化」されていたと評価した。
(Curing degree)
A test piece obtained by heating the epoxy resin composition at 80 ° C. for 2 hours was measured using a differential scanning calorimeter (DSC) at a heating rate of 10 ° C./min. did. At that time, if the amount of heat was measured, the test piece was evaluated as “uncured”, and if the amount of heat was not measured, the test piece was evaluated as “cured”.

上記各結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

Figure 2010229257
Figure 2010229257

表1からわかるように、硬化剤として、1分子中にSH基を3個有するメルカプトカルボン酸エステル化合物と1分子中に炭化水素基を3個有するテトラヒドロ無水フタル酸化合物とを含み、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、前記硬化剤全量に対して、5〜50質量%である場合(実施例1〜3)は、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物を含有しない場合(比較例1)、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、5質量%未満である場合(比較例2)、及び前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、50質量%を超える場合(比較例3)と比較して、ポットライフが長く、基板との密着強度が高く、さらに、80℃で2時間加熱したときの硬化度が高かった。このことから、硬化剤として、1分子中にSH基を3個有するメルカプトカルボン酸エステル化合物と1分子中に炭化水素基を3個有するテトラヒドロ無水フタル酸化合物とを含み、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、前記硬化剤全量に対して、5〜50質量%とすることによって、半導体装置を構成する部材に対する密着性に優れ、さらに、硬化性と保存安定性とがともに優れたエポキシ樹脂組成物が得られることがわかった。すなわち、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物が少なすぎる場合、硬化が遅く、本来の目的の低温硬化性を充分に発揮できず、反対に、前記メルカプトカルボン酸エステル化合物が多すぎる場合、前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物の特長が全く発揮されず、ライフ性能が損なわれ、さらに、耐湿性能が損なわれ密着強度が低下することがわかった。   As can be seen from Table 1, the mercaptocarboxylic acid compound contains a mercaptocarboxylic acid ester compound having three SH groups in one molecule and a tetrahydrophthalic anhydride compound having three hydrocarbon groups in one molecule as a curing agent. When content of an acid ester compound is 5-50 mass% with respect to the said hardening | curing agent whole quantity (Examples 1-3), when not containing the said mercaptocarboxylic acid ester compound (comparative example 1), the said Compared to the case where the content of the mercaptocarboxylic acid ester compound is less than 5% by mass (Comparative Example 2) and the case where the content of the mercaptocarboxylic acid ester compound exceeds 50% by mass (Comparative Example 3). The pot life was long, the adhesion strength with the substrate was high, and the degree of curing when heated at 80 ° C. for 2 hours was high. Therefore, the mercaptocarboxylic acid ester compound includes a mercaptocarboxylic acid ester compound having three SH groups in one molecule and a tetrahydrophthalic anhydride compound having three hydrocarbon groups in one molecule as a curing agent. When the content of the epoxy resin is 5 to 50% by mass with respect to the total amount of the curing agent, the epoxy resin has excellent adhesion to the members constituting the semiconductor device, and has excellent curability and storage stability. It was found that a composition was obtained. That is, when the amount of the mercaptocarboxylic acid ester compound is too small, the curing is slow and the original low-temperature curability cannot be sufficiently exhibited. On the other hand, when the amount of the mercaptocarboxylic acid ester compound is too large, It was found that the characteristics of the compound were not exhibited at all, life performance was impaired, and further, moisture resistance performance was impaired and adhesion strength was lowered.

Claims (4)

エポキシ樹脂、硬化剤、及び硬化促進剤を含有する常温で液状のエポキシ樹脂組成物であって、
前記硬化剤が、1分子中にSH基を3個有するメルカプトカルボン酸エステル化合物と1分子中に炭化水素基を3個有するテトラヒドロ無水フタル酸化合物とを含み、
前記メルカプトカルボン酸エステル化合物の含有量が、前記硬化剤全量に対して、
5〜50質量%であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
An epoxy resin composition that is liquid at room temperature containing an epoxy resin, a curing agent, and a curing accelerator,
The curing agent includes a mercaptocarboxylic acid ester compound having three SH groups in one molecule and a tetrahydrophthalic anhydride compound having three hydrocarbon groups in one molecule;
The content of the mercaptocarboxylic acid ester compound is based on the total amount of the curing agent,
The epoxy resin composition characterized by being 5-50 mass%.
前記メルカプトカルボン酸エステル化合物が、下記式(1)で表される化合物である請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
Figure 2010229257
The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the mercaptocarboxylic acid ester compound is a compound represented by the following formula (1).
Figure 2010229257
前記テトラヒドロ無水フタル酸化合物が、下記式(2)で表される化合物である請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物。
Figure 2010229257
The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the tetrahydrophthalic anhydride compound is a compound represented by the following formula (2).
Figure 2010229257
請求項1〜3のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物で半導体素子を封止成形して得られることを特徴とする半導体装置。   A semiconductor device obtained by encapsulating a semiconductor element with the epoxy resin composition according to claim 1.
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