JP2010228219A - ハニカム成形体の乾燥方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】セラミックス材料、分散媒、成形助剤、及び添加剤を含む原料を混練し、坏土とした後、成形して得られるハニカム成形体に、周波数が300MHz以上、1500MHz以下のマイクロ波を照射して、ハニカム成形体を乾燥させる。前記マイクロ波を照射して乾燥を行った後に、更に熱風で乾燥を行う。前記セラミックス材料は、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、アルミニウムチタネート、リチウムアルミニウムチタネート、及びAl4SiC4からなる材料群から選ばれる何れか1又は2以上の混合物であり、前記成形助剤として有機バインダが、1質量部以上、10質量部以下含まれ、前記添加剤として吸水性樹脂が、0.1質量部以上、10質量部以下含まれ、かつ含水率が、20質量%以上、60質量%以下である。
【選択図】なし
Description
2 隔壁
3 セル
4 外壁
91 マイクロ波乾燥炉
92 マイクロ波発振器
93 ターンテーブル
94 乾燥パレット
95 UVセンサ
96 熱風発生装置
97 排気ファン
Claims (12)
- セラミックス材料、分散媒、成形助剤、及び添加剤を含む原料を混練し、坏土とした後、成形して得られるハニカム成形体に、周波数が300MHz以上、1500MHz以下のマイクロ波を照射して、ハニカム成形体を乾燥させるハニカム成形体の乾燥方法。
- 前記マイクロ波の周波数が、300MHz以上、1000MHz未満である請求項1に記載のハニカム成形体の乾燥方法。
- 乾燥前のハニカム成形体の含水率が、20質量%以上、60質量%以下、である請求項1又は2に記載のハニカム成形体の乾燥方法。
- 前記セラミックス材料が、コージェライト化原料、アルミナ、ムライト、ジルコニア、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、アルミニウムチタネート、リチウムアルミニウムチタネート、及びAl4SiC4からなる材料群から選ばれる何れか1又は2以上の混合物である請求項1〜3の何れか一項に記載のハニカム成形体の乾燥方法。
- 前記セラミックス材料が、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、アルミニウムチタネート、リチウムアルミニウムチタネート、及びAl4SiC4からなる材料群から選ばれる何れか1又は2以上の混合物である請求項4に記載のハニカム成形体の乾燥方法。
- 前記原料に、前記成形助剤として有機バインダが、1質量部以上、10質量部以下、含まれる請求項1〜5の何れか一項に記載のハニカム成形体の乾燥方法。
- 前記原料に、前記添加剤として吸水性樹脂が、0.1質量部以上、10質量部以下、含まれる請求項1〜6の何れか一項に記載のハニカム成形体の乾燥方法。
- 前記ハニカム成形体が、隔壁によって区画された、流体の流路となる複数のセルを有する、ハニカム形状の成形体であり、
その外形が、円柱状を呈し、
その大きさは、軸方向に垂直な断面に現れる円の直径が、φ150mm以上、φ600mm以下である請求項1〜7の何れか一項に記載のハニカム成形体の乾燥方法。 - 前記ハニカム成形体が、隔壁によって区画された、流体の流路となる複数のセルを有する、ハニカム形状の成形体であり、
その外形が、円柱状を呈し、
端面の開口面積が、端面全体の面積の60%以上、85%以下である請求項1〜8の何れか一項に記載のハニカム成形体の乾燥方法。 - 前記ハニカム成形体が、隔壁によって区画された、流体の流路となる複数のセルを有する、ハニカム形状の成形体であり、
前記隔壁の厚さは、0.125mm以上、0.5mm以下である請求項1〜9の何れか一項に記載のハニカム成形体の乾燥方法。 - 前記マイクロ波を照射して乾燥を行った後に、更に熱風で乾燥を行う請求項1〜10の何れか一項に記載のハニカム成形体の乾燥方法。
- 前記熱風は、その温度が100℃以上、150℃以下であり、その相対湿度が2%以上、30%以下である請求項11に記載のハニカム成形体の乾燥方法。
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