JP2010211247A - 光学波長分散システム - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明は膨張係数εを持った支持体(2)によって担持されたネットワーク(1)から成る、ビームの波長領域での用途に設計された、光学分散システムに関する。
【解決手段】提案されるシステムは温度安定性のものである。そのため、それは当該波長領域において透明で、屈折率n1 を持ち、ε+1/n1 ×dn1 /dtが小さく、dn1 /dtとεとは反対の符号となっていることが有利である前面ブレード(3)を含む。この装置によって、温度安定性を持ったマルチプレクサ−デマルチプレクサ又はファイバ光学波長ルーターの製造が可能である。
【選択図】図1

Description

本発明は光学ファイバ遠隔転送装置の部品として用いられる、システム又はマルチプレクサ−デマルチプレクサ又は光学ファイバ波長ルーターに関する。
従来の技術
このようなマルチプレクサ−デマルチプレクサは既に知られており、それらは、特にフランス特許FR−第2,543,768号、FR−第2,519,148号、FR−第2,479,981号、FR−第2,496,260号および欧州特許EP−第0,196,963号で徐々に改良されてきた。
後者の文献は、一層詳細には、入力及び出力ファイバが凹面鏡の焦点の直ぐ近くに位置するマルチプレクサ−デマルチプレクサに関する。それゆえ、入力ファイバから受けた投入光束は凹面鏡によって平行の光ビームに変換されて平面回折格子に向けられ、それは平行の光ビームを凹面鏡へ戻してそれらを出力ファイバーの端部へ焦点を結ばせる。
我々は収差を減少させようと努め、そして、特に、そのようなシステムの球面収差を減少させようとして、その結果、ファイバキャリア、回折格子を持ったエレメント、中間エレメント、及び球面鏡エレメントから成る、マルチプレクサ−デマルチプレクサを示唆したものである。ファイバキャリアはファイバの端部を回折格子を持ったエレメントと接触させ、回折格子と接触していて、それを持ったエレメントと同じ光学屈折率を持った中間エレメントは鏡と接触する球面で終わっている。
この装置は極めて満足なものであり、多数の実施態様を可能としたし、なお可能とするものである。
しかし、ある特別の用途では、装置を構成する異なったエレメントの屈折率変化により作りだされる熱不安定性と、それの結果として生じる温度と特性の変化は、良くないことが証明されている。
本発明の目的はこれらの欠点を回避して、良好な熱安定性も持った、上述のものと同様の利点を示すマルチプレクサ−デマルチプレクサを提案することである。
上記目的を達成するため、本発明は、温度tが上昇するときに平面格子(1)のピッチが増大する膨張係数εを持った材料よりなる支持体(2)によって担持された平面格子(1)と、
ガラス材料よりなり、支持体(2)によって担持された平面格子(1)の前面にセットされており、平面格子(1)の平面に平行なフラット面(31)とビームの軸に略垂直なフラット面(32)を持っており、ビームの波長領域において透明で屈折率n1 を持ち、屈折特性が温度tに関係して変化する前面ブレード(3)とを含み、ビームの波長領域で使用するように設計された光学分散システムであって、
前面ブレード(3)が平面格子(1)の支持体(2)の材料とは異なる材料よりなっていて、
ε+(1/n1 )×(dn1 /dt)〔ここで、dn1 /dtは、温度tによる前面ブレード(3)の屈折率変化〕が、
前面ブレード(3)と支持体(2)が同一材料の場合に比べて最小化されていることを特徴としている。
本発明によれば、分散光学システムは、前記波長領域において透明で、屈折率n1 を持つ前面ブレードを含み、その面のうちの一つは格子平面に平行であり、また温度tによるブレードの光学屈折率n1 の変化、即ち、ε+1/n1 ×dn1 /dtが小さい。
それぞれその特別の利点を表し、かつそれらの全ての技術的に可能な組合わせで用いられ得る種々の実施態様によれば、
dn1 /dtとεとは反対の符号を持ち、
前面ブレードの他の面はビームの軸x,x’に垂直であり、
格子支持体は低膨張のシリカで作られて、前面ブレードの屈折率n1 はdn1 /dt<0であり、
屈折率n1 の前面ブレードはBK7で作られていること、
屈折率n1 の前面ブレードはSF64Aで作られていること、
屈折率n1 の前面ブレードはSK16で作られていること、
屈折率n1 の前面ブレードはLF5で作られていること、
前面ブレードはフレキシブルな光学接着剤を用いて格子に貼り付けられていること
システムは、格子の膨張係数に近い膨張係数を持った材料で作られた第2のブレード(5)から成り、面同士が互いに対してかつ格子に対して平行であり、また、前面ブレードと格子との間に位置すること、
前記第2のブレードは格子の支持体と同一の材料で作られていることを特徴とする。
この配列は、それ自身が鏡及び光学転送システムを含み、格子、支持体、前面ブレード及び反射システムから成る、マルチプレクサ−デマルチプレクサ又はファイバ光学波長ルーターで構成されるのが有利である。当該反射システムは焦点を表しているのに対し、入力及び出力光学ファイバの端部は焦点に近接した位置にある。光学転送システムは、鏡を担持する屈折率n3 の第1のブロック、平行面を有する屈折率n4 の第2のブロック、及び平行面を有する屈折率n5 の第3のブロックから成る。
第1、第2、及び第3のブロックはそれぞれ純シリカで作られるのが有利である。
第2及び第3のブロックは単一のピースで作られる。
発明の実施の形態
以下、本発明を添付の図面を参照して一層詳細に説明する。図面において、
図1は本発明の光学システムを定めるスペクトロメーターを図式で表したもの、
図2は本発明の第1の実施態様に従って行ったマルチプレクサ−デマルチプレクサの図式表示、
図3は本発明の第2の実施態様に従って行ったマルチプレクサ−デマルチプレクサを図式で表すもの、である。
格子を付けた、特に平面格子を付けた分散装置は、それらの特性を変えてそれらの性能に影響を及ぼすことがある熱変化に敏感であることが認められた。
これらの欠点を避けるために、これまでの方法では、幾分目立つ、コスト、量、及び空間の要件を発生させる、これらの装置の温度を安定させることが考えられていた。
それゆえ、これらの欠点を避けるために、我々はここで低膨張性のシリカ支持体に基づく格子を用いることを示唆する。より一般的には、我々は、温度tによる屈折率変化dn1 /dtも小さい前面ブレードと関連した、低い膨張係数εを持った材料について本発明の実行のための格子を用いる。
温度変化は本発明の光学分散システムに二つの際立った効果を作り出す。
格子支持体の温度の上昇は、その膨張、それゆえ格子のピッチの増大を起こさせる。
一方、温度tによる前面ブレード3の光学屈折率n1 の変化dn1 /dtは、これらの屈折特性を変更させる。
我々は、ε+1/n1 ×dn1 /dtの量を減少させながら、光学分散システムの特性変化を減少させることが可能であることを示した。
原則として、これは、これらの量:一方ではεを、他方ではdn/dt或いは1/n1 ×dn1 /dtの量を各々減少させながら、それらの合計もまた比較的小さいものとすることによって、実行できる。
また、一方ではその膨張係数ε、また温度tによる屈折率変化dn1 /dtが反対の符号の材料を選択することも可能である。
そこで我々は極めて小さい合計ε+1/n1 ×dn1 /dtを得る。
好ましくは小さい膨張係数εを示すように選択された、シリカで作った格子1の支持体2でもって、前面ブレード3を構築するために、我々は、温度による屈折率変化ができるだけ低い、例えば、BK7,SF64A,SK16,又はLF5のガラスのうちの一つを用いることができる。
これらの名称はSCHOTTカンパニーによって用いられるものである。この目的には、明らかに、同一の特性を表す材料で他のカンパニーによって他の名称で製造される材料も用いることができる。種々の製造業者によって用いられる参照及び名称を容易に確認することができる合致表がある。
εが正であり、dn1 /dt変化が負の場合は、BaK2,LF5,SF64Aのガラスについては、得られる結果は特に良い。
第1の実施態様は図1に表されるような分光計の一般的なものである。支持体2によって担持された格子1は、光学システム20の焦点に置かれ平行光線24を生成する入力スロット22からの入力光ビーム21を受ける。分散によって、格子1は光学システム26によって送られた平行ビーム25をその自身の平面の位置に関係する特定の波長を選択して、出力スロット27へ戻す。
前面ブレード3は格子1の平面に平行な面31と、システム軸に垂直で、かつ、実際の実施形態では入射ビーム24と反射ビーム25に対しても同時に略垂直である第2の面32とから成る。実際、明瞭化のために、ビーム24及び25を図1に極めて大きな角度αをなすものとして表した。実施態様においては、この角度は小さく、上記の条件を満たすことができるようにしている。
この配置によって、約100mmの合計出力と239mmの球面鏡の曲面半径とを持った、図2に表すようなマルチプレクサ−デマルチプレクサを得ることができる異なった実施態様が可能となった。
我々は1ミリメートルにつき格子線の総数が600の格子を用いた。そして、前面ブレード以外は、他のエレメント、ブロック1,2及び3,ならびに格子支持体を、5℃から35℃の範囲の5.2 10-7-1の膨張係数εを持った純シリカで製造した。
試験した種々の前面ブレードを下表に示す。

前面ブレード ブレード材料 屈折率 1/n1 ×dn1 /dt
実施例1 BaK2 1.5237 (λ=1540nm)
●−3.5 10-7
実施例2 SF64A 1.6817 (λ=1.06μm)
●−3.2 10-7
実施例3 LF5 1.56594 (λ=1.06μm)
−4.4 10-7
実施例4 BK7 1.50056 (λ=1557nm)
+5.7 10-7
実施例5 BaK2 1.52307 (λ=1.6 μm)
−3.5 10-7
実施例6 LF5 1.55951 (λ=1.55μm)
−5.34 10 -7 (25℃)
実施例7 LF5 1.56010 (λ=1.50μm)
−5.27 10 -7 (25℃)

こうして、我々はこれらの実施例に対して、すべて同一の材料、例えばシリカで作った構成部品を用いて得られるであろうものよりも低く、かつ、極めて下の、式ε+1/n1 ×dn1 /dtについての値を得る。
本発明の光学システムを定めるスペクトロメーターを示す図である。 本発明の第1の実施態様に従って行ったマルチプレクサ−デマルチプレクサを示す図である。 本発明の第2の実施態様に従って行ったマルチプレクサ−デマルチプレクサを示す図である。
1…平面格子、2…支持体、3…前面ブレード、31,32…フラット面、ε…膨張係数、n1 …屈折率。

Claims (15)

  1. 膨張係数εを持った材料よりなる基板(2)上に形成された平面格子(1)と、
    前記平面格子(1)の前記基板(2)を構成する前記材料とは異なる硬質材料よりなる前面プレートであって、前記平面格子の前面に配置され、ビームの波長領域において屈折率n 1 が温度tに関係して変化する前面プレート(3)と、
    平行な入射ビーム(24)を前記平面格子に送出するようにされた凹面鏡と、
    前記平面格子にて分散された反射ビーム(25)を反射するようにされた凹面鏡と、を含む、ビームの波長領域で使用するように意図された光学分散システムであって、
    前記前面プレートは、前記平面格子の平面に平行なフラット面(31)と、入射ビーム(24)の軸及び反射ビーム(25)の軸に略垂直なフラット面(32)を持ち、
    ビームの波長領域において、dn 1 /dtは、εと反対の符号を持ち、
    ε+(1/n 1 )×(dn 1 /dt)〔ここで、dn 1 /dtは、温度tによる前面プレート(3)の屈折率変化〕が、
    前面プレートと支持体が同一材料の場合に比べて最小化されていることを特徴とする光学分散システム。
  2. 入力光ビーム(21)を出射するようにした入力スリット(22)と、
    凹面鏡を有し、前記入力スリットからの入力光ビームを当該凹面鏡にて反射して平行光線(24)を生成するようにした第1の光学システム(20)と、
    凹面鏡を有し、前記平面格子にて分散された平行ビーム(25)を当該凹面鏡にて反射するようにした第2の光学システム(26)と、
    前記第2の光学システムの焦点に配置され、特定の波長のビームを選択して出射するようにした出力スリット(27)と
    を備える、請求項1に記載の光学分散システム。
  3. 前記平面格子上に焦点(f)を有する凹面鏡(7)が当該平面格子とは反対の面に形成され、フラット面が他方の面に形成された、第1のブロック(12)と、
    2つのフラット面を有し、一方のフラット面が前記第1のブロックの前記フラット面に接触して配置され、他方のフラット面が前記前面プレート(3)の前記フラット面(32)に接触して配置された、第2のブロック(13,14)と、
    前記基板に保持された入力光学ファイバであって、その端面が前記平面格子上で前記凹面鏡の前記焦点に近接して配置された入力光学ファイバ(8)と、
    前記基板に保持された複数の出力光学ファイバであって、その端面が前記平面格子上で前記凹面鏡の前記焦点に近接して配置された複数の出力光学ファイバ(9,10,11)と、を有する、請求項1に記載の光学分散システム。
  4. 前記平面格子の前記基板の膨張係数に近い膨張係数を持った材料で作られ、互いに対して平行で、且つ、前記平面格子に対して平行な面を持ち、前記前面プレート(3)と前記平面格子(1)との間に置かれた第2のプレート(5)を含むことを特徴とする、請求項3に記載の光学システム。
  5. 前記第2のプレート(5)が前記平面格子(1)の前記基板(2)と同一の材料で作られていることを特徴とする、請求項4に記載の光学システム。
  6. 前記第1のブロック(12)は純シリカで作られていることを特徴とする、請求項3乃至請求項5のいずれかに記載の光学システム。
  7. 前記第2のブロック(13、14)は2つのブロックで構成されていることを特徴とする、請求項3乃至請求項6のいずれかに記載の光学システム。
  8. 前記2つのブロックの少なくとも一方は純シリカで作られていることを特徴とする、請求項7に記載の光学システム。
  9. 前記前面プレートはガラスで作られていることを特徴とする、請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の光学システム。
  10. 前記平面格子(1)の前記基板(2)は低膨張シリカで作られていることを特徴とする、請求項1乃至請求項9のいずれかに記載の光学システム。
  11. 屈折率n 1 を持つ前記前面プレート(3)がBaK2で作られていることを特徴とする、請求項1乃至請求項10のいずれかに記載の光学システム。
  12. 屈折率n 1 を持つ前記前面プレート(3)がSF64Aで作られていることを特徴とする、請求項1乃至請求項10のいずれかにに記載の光学システム。
  13. 屈折率n 1 を持つ前記前面プレート(3)がSK16で作られていることを特徴とする、請求項1乃至請求項10のいずれかに記載の光学システム。
  14. 屈折率n 1 を持つ前記前面プレート(3)がLF5で作られていることを特徴とする、請求項1乃至請求項10のいずれかに記載の光学システム。
  15. 屈折率n 1 を持つ前記前面プレート(3)がフレキシブルな光学接着剤(4)を用いて前記平面格子(1)に接着してあることを特徴とする、請求項1乃至請求項14のいずれかに記載の光学システム。
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