JP2010206124A - Method of manufacturing multilayer circuit board, and multilayer circuit board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To perform processing for forming an internal-layer circuit board more effectively while easily and properly masking a terminal of the internal-layer circuit board in a flexible part. <P>SOLUTION: In a method of manufacturing a multilayer circuit board including the flexible part having flexibility, a first laminate 110 having at least an insulating base film is stacked through an interlayer adhesive layer 200 having a opening 22 at least at a surface of a side where the terminal 20a is exposed in the internal-layer circuit board 100 in which the terminal 20a is exposed. The first laminate 110 has two slits 24 formed facing each other to hold a part to be finally removed. After the first laminate is stacked, a cutting means penetrates all of the laminate 110 and the internal-layer circuit board 100 across the two slits 24 to form an unnecessary piece and to form the opening 21, thereby performing processing for forming a terminal 20 including the terminal 20a. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、可撓性を有するフレキシブル部を備えたリジッドフレックス回路基板等の多層回路基板の製造方法の改良に関するものである。   The present invention relates to an improvement in a method for manufacturing a multilayer circuit board such as a rigid flex circuit board provided with a flexible portion having flexibility.

可撓性を有するフレキシブル部と、部品実装のためのリジッド部とを備えたリジッドフレックス回路基板においては、フレキシブル部の内層回路基板に端子部を有する配線パターンが必要となる場合がある。この内層回路基板の端子部は、最終的には、回路基板表面に露出させる必要があるが、外層回路基板を積層した後、外層回路基板のパターン形成やエッチング処理の際には、耐薬品性のテープ等で内層回路基板の端子部をマスキングする必要がある。しかし、このマスキングのための処理に手間と時間を要すると共に、場合によっては、外層回路基板のパターン形成処理の際に、内層回路基板の端子部からテープが剥離するという問題もあった。   In a rigid flex circuit board including a flexible part having flexibility and a rigid part for component mounting, a wiring pattern having a terminal part may be required on the inner circuit board of the flexible part. The terminal part of the inner layer circuit board must eventually be exposed on the surface of the circuit board. However, after laminating the outer layer circuit board, when the outer layer circuit board is patterned or etched, it has chemical resistance. It is necessary to mask the terminal portion of the inner layer circuit board with a tape or the like. However, this masking process requires time and effort, and in some cases, the tape is peeled off from the terminal portion of the inner layer circuit board during the pattern formation process of the outer layer circuit board.

この問題を解決するため、外層の銅張積層板自体をマスキング材として使用する多層回路基板の製造方法が提供されている(例えば、特許文献1、2参照)。この製造方法においては、内層回路基板に予め開口部を設けると共にこの開口部に端子部を露出させるように配線パターンを形成した後、内層回路基板の両面に銅張積層板を積層し、この銅張積層板に予め二本のスリットを形成しておき、この二本のスリットの各両端を含む位置に設けた長穴状の打ち抜き部から銅張積層板を打ち抜いて不要な除去片を取り去ることにより、最終的に内層回路基板の端子部を露出させる。   In order to solve this problem, a method of manufacturing a multilayer circuit board using an outer-layer copper-clad laminate itself as a masking material is provided (for example, see Patent Documents 1 and 2). In this manufacturing method, an opening is provided in the inner layer circuit board in advance and a wiring pattern is formed so as to expose the terminal portion in the opening, and then a copper-clad laminate is laminated on both surfaces of the inner circuit board. Two slits are formed in advance in the laminated laminate, and the copper-clad laminate is punched from the long hole-shaped punched portions provided at positions including both ends of the two slits to remove unnecessary removal pieces. Thus, the terminal portion of the inner layer circuit board is finally exposed.

この方法によれば、内層回路基板の端子部をテープでマスキング処理する工程は省略することができるが、予め内層回路基板に開口部の形成と端子部の形状加工をしておく必要があるため、端子部の形状加工と除去片の形成作業の異なる2つの工程が必要となるため、作業に時間と手間を要する問題があった。また、この方法では、予め内層回路基板に開口部を形成してしまうため、端子部を薬剤から保護するためには、内層回路基板の両面に銅張積層板を積層する必要がある上に、これらの両面の銅張積層板にスリットを形成すると共に内層回路基板の両面側からの打ち抜き作業が必要になる問題があった。   According to this method, the step of masking the terminal portion of the inner layer circuit board with tape can be omitted, but it is necessary to form the opening and shape the terminal portion in the inner layer circuit board in advance. There are problems that require time and labor for the work, because two different processes for forming the terminal portion and forming the removal piece are required. In this method, since the opening is formed in the inner layer circuit board in advance, in order to protect the terminal portion from the drug, it is necessary to laminate a copper clad laminate on both surfaces of the inner layer circuit board. There was a problem that slits were formed in these copper-clad laminates on both sides and a punching operation from both sides of the inner circuit board was required.

また、従来、多層回路基板とするためには、積層される各内層回路基板毎に予め熱圧着をした上で、最終的に多層状に形成した段階で、更に全体を熱圧着していたため、同じく処理に手間と時間を要すると共に、繰り返しの熱応力により、各回路基板の寸法変化によるバラツキや反り等により層間の位置合わせが困難となったり、層間接続の信頼性が低下する問題もあった。
特開2001−36239号公報 特許第3427011号公報
In addition, conventionally, in order to make a multilayer circuit board, after thermocompression bonding in advance for each inner layer circuit board to be laminated, in the stage of finally forming a multilayer shape, the whole was further thermocompression bonded, Similarly, the process requires time and effort, and due to repetitive thermal stress, alignment between layers becomes difficult due to variations and warpage caused by dimensional changes of each circuit board, and reliability of interlayer connection is lowered. .
JP 2001-36239 A Japanese Patent No. 3427011

本発明が解決しようとする課題は、上記事情に鑑みて、フレキシブル部の内層回路基板の端子を簡易にかつ適切にマスキングしつつ、より一層効率的に内層回路基板の形状加工を行うことができる多層回路基板の製造方法及びそのような方法により製造されて層間接続の信頼性に優れる多層回路基板を提供することにある。   In view of the above circumstances, the problem to be solved by the present invention is that the inner layer circuit board can be shaped more efficiently while simply and appropriately masking the terminals of the inner layer circuit board of the flexible portion. It is an object of the present invention to provide a multilayer circuit board manufacturing method and a multilayer circuit board manufactured by such a method and having excellent interlayer connection reliability.

本発明は、上記の課題を解決するための第1の手段として、可撓性を有するフレキシブル部とリジッド部とを備えた多層回路基板の製造方法であって、端子を露出させた内層回路基板の少なくとも前記端子の露出側の面に、開口を有する層間接着層を介して、少なくとも絶縁ベースフィルムを有し最終的に除去すべき部分の少なくともフレキシブル部とリジッド部との境界にスリットが形成された積層板を積層した後、前記スリットに跨って前記積層された積層板及び内層回路基板の全てを貫通するように切断手段を通して、前記端子を備えた端子部の形状加工を行うことを特徴とする多層回路基板の製造方法。   The present invention provides, as a first means for solving the above-mentioned problem, a method for manufacturing a multilayer circuit board having a flexible part having flexibility and a rigid part, and an inner circuit board in which terminals are exposed. A slit is formed at least on the boundary between the rigid part and at least the part to be finally removed, which has at least an insulating base film, through an interlayer adhesive layer having an opening on at least the exposed side surface of the terminal. After the laminated plates are laminated, the shape processing of the terminal portion including the terminals is performed through cutting means so as to penetrate all the laminated plates and the inner layer circuit board across the slit. A method for manufacturing a multilayer circuit board.

本発明は、上記の課題を解決するための第2の手段として、前記スリットが、最終的に除去すべき部分を挟むように対向して2つ形成されており、前記2つのスリットに跨って前記積層された積層板及び内層回路基板の全てを貫通するように切断手段を通して、前記端子を備えた端子部の形状加工を行うことを特徴とする多層回路基板の製造方法。   In the present invention, as a second means for solving the above-described problem, two slits are formed facing each other so as to sandwich a portion to be finally removed, and straddle the two slits. A method for manufacturing a multilayer circuit board, comprising: cutting a terminal so as to penetrate all of the laminated board and the inner layer circuit board, and processing the shape of the terminal portion including the terminal.

本発明は、上記の課題を解決するための第3の手段として、上記第1又は第2の解決手段において、切断手段により不要な除去片の形成も同時に行った後、除去片を除去して端子部を表面上に露出させることを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   According to the present invention, as a third means for solving the above problems, in the first or second solving means, an unnecessary removal piece is simultaneously formed by the cutting means, and then the removal piece is removed. The present invention provides a method for manufacturing a multilayer circuit board, wherein a terminal portion is exposed on the surface.

本発明は、上記の課題を解決するための第4の手段として、上記第1乃至第3のいずれかの解決手段において、切断手段により端子部の形状加工と同時に端子部の周囲に開口を形成することを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   According to the present invention, as a fourth means for solving the above-described problems, in any one of the first to third solving means, an opening is formed around the terminal portion simultaneously with the shape processing of the terminal portion by the cutting means. The present invention provides a method for manufacturing a multilayer circuit board.

本発明は、上記の課題を解決するための第5の手段として、上記第1乃至第4のいずれかの解決手段において、スリットを、層間接着層の開口よりも外側に形成することを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   As a fifth means for solving the above-mentioned problems, the present invention is characterized in that, in any of the first to fourth solving means, the slit is formed outside the opening of the interlayer adhesive layer. A method for manufacturing a multilayer circuit board is provided.

本発明は、上記の課題を解決するための第6の手段として、上記第5の解決手段において、スリットと層間接着層の開口との距離を0.5mm〜2.0mmに設定することを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   As a sixth means for solving the above-mentioned problems, the present invention is characterized in that, in the fifth solving means, the distance between the slit and the opening of the interlayer adhesive layer is set to 0.5 mm to 2.0 mm. A method for manufacturing a multilayer circuit board is provided.

本発明は、上記の課題を解決するための第7の手段として、上記第1乃至第6のいずれかの解決手段において、層間接着層の開口を内層回路基板の端子の露出部分よりも大きく形成することを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   According to the present invention, as a seventh means for solving the above-described problem, in any one of the first to sixth solving means, the opening of the interlayer adhesive layer is formed larger than the exposed portion of the terminal of the inner circuit board. The present invention provides a method for manufacturing a multilayer circuit board.

本発明は、上記の課題を解決するための第8の手段として、上記第1乃至第7のいずれかの解決手段において、内層回路基板の端子の露出側とは反対側の面にも単数又は複数の少なくとも絶縁ベースフィルムを有する裏面積層板を積層し、裏面積層板には、切断手段が通過することができる開口を形成することを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   As an eighth means for solving the above-mentioned problems, the present invention provides a single or even surface on the side opposite to the exposed side of the terminal of the inner circuit board in the first to seventh solving means. Provided is a multilayer circuit board manufacturing method characterized by laminating a plurality of backside laminates having at least an insulating base film, and forming openings in the backside laminate plate through which cutting means can pass. .

本発明は、上記の課題を解決するための第9の手段として、上記第1乃至第8のいずれかの解決手段において、相互に積層された積層板及び内層回路基板又は裏面積層板の両面又は片面に更に外層回路基板を積層することを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   The present invention provides, as a ninth means for solving the above-described problems, in the above-described first to eighth solving means, the laminated board and the inner circuit board or the back laminated board laminated on each other or It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a multilayer circuit board, wherein an outer circuit board is further laminated on one side.

本発明は、上記の課題を解決するための第10の手段として、上記第1乃至第9のいずれかの解決手段において、各層毎に加熱加圧することなく、全ての層を積層した状態で一括して加熱加圧することを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   The present invention provides, as a tenth means for solving the above-mentioned problems, in any one of the above first to ninth solving means, in a state where all the layers are laminated without heating and pressurizing each layer. The present invention provides a method for producing a multilayer circuit board characterized by heating and pressurizing.

本発明は、上記の課題を解決するための第11の手段として、上記第10に記載された解決手段において、全ての層を積層した状態で一括して加熱加圧し、さらに、複数の層を積層した後一括して加熱加圧する工程を含むことを特徴とする多層回路基板の製造方法を提供するものである。   The present invention provides, as an eleventh means for solving the above-mentioned problems, in the solution means described in the tenth aspect, in a state where all the layers are laminated and heated and pressed together, and further, a plurality of layers are formed. The present invention provides a method for manufacturing a multilayer circuit board, which includes a step of heating and pressurizing after laminating.

本発明は、上記の課題を解決するための第12の手段として、上記第1乃至第11のいずれかの解決手段である製造方法により製造された多層回路基板をもを提供するものである。   The present invention provides, as a twelfth means for solving the above-mentioned problems, a multilayer circuit board manufactured by the manufacturing method which is any one of the first to eleventh solving means.

本発明によれば、上記のように、切断刃等の切断手段を全ての層に貫通するように下降させて端子部の形状加工、ひいては、開口部の形成を行っているため、単一の作業で不要な除去片の削除と同時に端子部の形状加工を行うことができるので、非常に効率良く層回路基板を製造することができると共に、積層板により内層回路基板に形成された端子を表面側からマスキングすると同時に裏面側には積層板を設けなくても切り抜かれていない内層回路基板の絶縁ベースフィルムにより端子を保護することができるため、少なくとも端子が露出する表面側にのみ積層板を積層すれば適切にかつ確実に内層回路基板の端子を保護することができる実益がある。   According to the present invention, as described above, the cutting means such as the cutting blade is lowered so as to penetrate all the layers to form the terminal portion, and hence the opening portion. Since the shape of the terminal part can be processed simultaneously with the removal of unnecessary removal pieces in the work, the layer circuit board can be manufactured very efficiently, and the terminals formed on the inner layer circuit board by the laminated board Since the terminal can be protected by the insulating base film of the inner layer circuit board that is not cut out without providing the laminated board on the back side at the same time as masking from the side, the laminated board is laminated only on the surface side where the terminals are exposed at least. In this case, there is an advantage that the terminals of the inner circuit board can be protected appropriately and reliably.

また、本発明によれば、上記のように、積層板に形成されるスリットを、層間接着層の開口よりも適切な距離をもって外側に配置しているため、スリットからの薬剤の侵入による端子への影響も抑制することができる実益がある。   In addition, according to the present invention, as described above, the slit formed in the laminated plate is arranged outside with an appropriate distance from the opening of the interlayer adhesive layer. There is an actual benefit that can also suppress the influence of.

更に、本発明によれば、上記のように、各層毎に加熱加圧することなく相互に積層された積層板及び内層回路基板又は裏面積層板の全ての層を積層した状態で一括して加熱加圧しているため、より一層効率的に積層作業をすることができると同時に層間接続の信頼性を高めることができる実益がある。   Furthermore, according to the present invention, as described above, heating is applied collectively in a state where all the layers of the laminated board and the inner circuit board or the back laminated board are laminated without being heated and pressurized for each layer. Therefore, there is an actual advantage that the laminating operation can be performed more efficiently, and at the same time, the reliability of the interlayer connection can be improved.

次に、本発明の実施の形態を図面を参照しながら、詳細に説明する。なお、本発明の実施の形態では、最終的に除去すべき部分を挟むように対向して2つのスリットが形成された多層回路基板の製造方法を一例として説明する。
図1乃至図9は、本発明の多層回路基板の製造方法を実施する状態を示し、本発明の製造方法は、可撓性を有するフレキシブル部12を備えた多層回路基板10の製造方法である。このような多層回路基板10としては、フレキシブル部12と、部品実装のためのリジッド部14とを備えたリジッドフレックス回路基板等を挙げることができ、本発明は、特に、フレキシブル部12の形成に特徴を有する。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the embodiment of the present invention, a method of manufacturing a multilayer circuit board in which two slits are formed facing each other so as to sandwich a portion to be finally removed will be described as an example.
1 to 9 show a state in which a method for manufacturing a multilayer circuit board according to the present invention is implemented. The method for manufacturing the present invention is a method for manufacturing a multilayer circuit board 10 having a flexible portion 12 having flexibility. . Examples of such a multilayer circuit board 10 include a rigid flex circuit board including a flexible portion 12 and a rigid portion 14 for component mounting. The present invention is particularly suitable for forming the flexible portion 12. Has characteristics.

本発明により製造される多層回路基板10は、図示の実施の形態では、図8(B)に示すように、可撓性を有するフレキシブル部12において、内層回路部16と、この内層回路部16の両面に積層された外層回路部18とを備えている。この内層回路部16は、図7に示すように、内層回路基板100と、この内層回路基板100に形成された端子20aの露出側の面に積層された第1の積層板110と、内層回路基板100の端子20aとは反対側の面に積層された第2の積層板120と、第3の積層板130とから成っている。   In the illustrated embodiment, a multilayer circuit board 10 manufactured according to the present invention includes an inner layer circuit portion 16 and an inner layer circuit portion 16 in a flexible portion 12 having flexibility as shown in FIG. And an outer layer circuit unit 18 laminated on both sides of the outer layer. As shown in FIG. 7, the inner layer circuit section 16 includes an inner layer circuit board 100, a first laminated board 110 laminated on the exposed surface of the terminal 20a formed on the inner layer circuit board 100, and an inner layer circuit. The substrate 100 includes a second laminated plate 120 and a third laminated plate 130 which are laminated on the surface opposite to the terminal 20a.

内層回路基板100は、図2に示すように、絶縁ベースフィルム101の一方の面側に積層された導電層102に接着層103を介して表面保護層104を積層した上で、表面保護層104及び接着層103をエッチング等により所定のパターンに加工して、導電層102を表面に露出させて、端子20aが形成される。   As shown in FIG. 2, the inner layer circuit board 100 is formed by laminating a surface protective layer 104 via an adhesive layer 103 on a conductive layer 102 laminated on one surface side of an insulating base film 101, and then the surface protective layer 104. Then, the adhesive layer 103 is processed into a predetermined pattern by etching or the like to expose the conductive layer 102 on the surface, thereby forming the terminal 20a.

一方、第1乃至第3の積層板110、120、130は、図示の実施の形態では、いずれも、図4乃至図8に示すように、絶縁ベースフィルム111、121、131上に積層された導電層112、122、132に、接着層113、123、133を介して表面保護層114、124、134を積層して形成される。但し、これらの第1乃至第3の積層板110、120、130において、導電層112、122、132は、必要に応じて設ければ足り、必ずしも形成する必要はない。また、図示の実施の形態では、内層回路基板100の端子20aとは反対側の面に第2及び第3の2つの積層板120、130を設置したが、その積層数には、特に限定はなく、必要に応じて、図示した第2及び第3の積層板の2層以外に積層数に設定することができる。   On the other hand, the first to third laminated plates 110, 120, and 130 are all laminated on the insulating base films 111, 121, and 131 as shown in FIGS. 4 to 8 in the illustrated embodiment. Surface protective layers 114, 124, and 134 are stacked on the conductive layers 112, 122, and 132 via adhesive layers 113, 123, and 133. However, in these first to third laminated plates 110, 120, and 130, the conductive layers 112, 122, and 132 need only be provided as necessary, and are not necessarily formed. In the illustrated embodiment, the second and third laminated plates 120 and 130 are provided on the surface of the inner layer circuit board 100 opposite to the terminals 20a. However, the number of laminated layers is not particularly limited. Instead, the number of layers can be set as required in addition to the two layers of the illustrated second and third laminated plates.

加えて、特に、本発明においては、後述するように、少なくとも内層回路基板100の少なくとも端子20aの露出側の面に積層板110を積層すれば、内層回路基板100の端子20aとは反対側の面に積層された第2、第3の積層板120、130は必ずしも設置する必要はない。即ち、図示の実施の形態では、内層回路部16は、第1の積層板110(第1層)、内層回路基板100(第2層)、第2の積層板120(第3層)、第3の積層板130(第4層)の4層から成っているが、少なくとも第1の積層板110(第1層)と内層回路基板100(第2層)の2層構造としても、端子20aを保護しつつ、簡易に図9に示す端子20aを備えた端子部20を形状加工することができる。   In addition, in the present invention, in particular, as will be described later, if the laminated plate 110 is laminated at least on the exposed side of the terminal 20a of the inner layer circuit board 100, the inner layer circuit board 100 is opposite to the terminal 20a. The second and third laminated plates 120 and 130 laminated on the surface are not necessarily installed. That is, in the illustrated embodiment, the inner layer circuit unit 16 includes a first laminated board 110 (first layer), an inner layer circuit board 100 (second layer), a second laminated board 120 (third layer), 3 of the three laminated boards 130 (fourth layer). However, the terminal 20a can also have a two-layer structure of at least the first laminated board 110 (first layer) and the inner layer circuit board 100 (second layer). The terminal portion 20 provided with the terminal 20a shown in FIG.

この場合、これらの各層に使用される絶縁ベースフィルム101、111、121、131としては、例えば樹脂フィルム基材等を使用することができる。この樹脂フィルム基材としては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド樹脂系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド樹脂系フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル樹脂系フィルムが挙げられる。これら中でも主としてポリイミド樹脂系フィルムが好ましい。これにより、弾性率と耐熱性を特に向上することができる。これらの絶縁ベースフィルム101、111、121、131の厚みには、特に限定はないが、5〜50μmが好ましく、特に12.5〜25μmとすると、特に屈曲性に優れるため、望ましい。   In this case, as the insulating base films 101, 111, 121, 131 used for each of these layers, for example, a resin film base material or the like can be used. Examples of the resin film substrate include polyimide resin films such as polyimide resin films, polyetherimide resin films, polyamideimide resin films, polyamide resin films such as polyamide resin films, and polyester resin films such as polyester resin films. Is mentioned. Among these, a polyimide resin film is mainly preferable. Thereby, especially an elasticity modulus and heat resistance can be improved. The thickness of these insulating base films 101, 111, 121, and 131 is not particularly limited, but is preferably 5 to 50 μm, and particularly preferably 12.5 to 25 μm because it is particularly excellent in flexibility.

また、これらの各層に使用される導電層102、112、122、132としては、金属泊を使用することができる。この金属泊としては、鉄、アルミ、ステンレス、銅等の金属泊を挙げることができるが、これらの中でも、特に、銅箔を使用することが電気特性の面からも好ましい。この金属泊の厚みに、特に限定はないが、5〜35μmが好ましく、特に、8〜18μmとすることが望ましい。   Further, as the conductive layers 102, 112, 122, and 132 used for each of these layers, metal stays can be used. Examples of the metal stay include metal stays such as iron, aluminum, stainless steel, and copper. Among these, it is particularly preferable to use a copper foil from the viewpoint of electrical characteristics. The thickness of the metal stay is not particularly limited, but is preferably 5 to 35 μm, and particularly preferably 8 to 18 μm.

同様に、これらの各層に使用される表面保護層104、114、124、134としては、例えば樹脂フィルムを使用することができる。この樹脂フィルムとしては、上記絶縁ベースフィルム101、111、121、131と同様に、例えば、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド樹脂系フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド樹脂系フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル樹脂系フィルムを使用することができる。これら中でも主としてポリイミド樹脂系フィルムは、弾性率と耐熱性を特に向上することができるため、望ましい。なお、これらの表面保護層104、114、124、134は、導電層102、112、122、132の全面を被覆するように積層することが好ましい。   Similarly, as the surface protective layers 104, 114, 124, and 134 used for these layers, for example, resin films can be used. As this resin film, as with the insulating base films 101, 111, 121, 131, for example, polyimide resin films such as polyimide resin films, polyetherimide resin films, polyamideimide resin films, and polyamides such as polyamide resin films. Polyester resin films such as resin films and polyester resin films can be used. Among these, a polyimide resin film is mainly desirable because it can particularly improve the elastic modulus and heat resistance. Note that these surface protective layers 104, 114, 124, and 134 are preferably laminated so as to cover the entire surface of the conductive layers 102, 112, 122, and 132.

この場合、これらの表面保護層104、114、124、134は、その表面に接着層103、113、123、133として接着剤を塗布して、導電層102、112、122、132に貼付することにより積層することができる。また、インクを直接基材に印刷する方法により表面保護層104、114、124、134を形成することもできる。この接着剤としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物で構成されていることが好ましい。これらの中でも、特に、エポキシ系樹脂は、密着性や耐熱性を向上することができるため、望ましい。   In this case, these surface protective layers 104, 114, 124, 134 are applied to the conductive layers 102, 112, 122, 132 by applying an adhesive as adhesive layers 103, 113, 123, 133 to the surfaces thereof. Can be laminated. Further, the surface protective layers 104, 114, 124, and 134 can be formed by a method of printing ink directly on a substrate. Examples of the adhesive include a resin composition including a thermosetting resin such as an epoxy resin, a polyester resin, a polyimide resin, a polyamide resin, a polyamideimide resin, a polyurethane resin, and an epoxy resin. Preferably it is. Among these, epoxy resins are particularly preferable because they can improve adhesion and heat resistance.

内層回路部16を構成するこれらの第1の積層板110(第1層)、内層回路基板100(第2層)、第2の積層板120(第3層)、第3の積層板130(第4層)は、図4乃至図8に示すように、層間接着層200、210、220を介して相互に積層される。この層間接着層200、210、220としては、例えば、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂等を挙げることができる。これらの中でもエポキシ系樹脂は、密着性および耐熱性を向上させることができる点で好ましい。また、この層間接着層200、210、220としては、他に、上記熱硬化性樹脂をガラス繊維基材等に含浸したプリプレグ等を使用することもできる。この層間接着層200、210、220の厚みは、10〜200μmが好ましく、特にプリプレグを用いる場合は20〜120μmが好ましく、また、ボンディングシートを用いる場合は、厚さ10〜100μmが好ましい。   The first laminated board 110 (first layer), the inner circuit board 100 (second layer), the second laminated board 120 (third layer), and the third laminated board 130 ( As shown in FIGS. 4 to 8, the fourth layer) is laminated on each other via the interlayer adhesive layers 200, 210, and 220. Examples of the interlayer adhesive layers 200, 210, and 220 include thermosetting resins such as epoxy resins, polyimide resins, polyamideimide resins, acrylic resins, polyurethane resins, and polyester resins. . Among these, an epoxy resin is preferable in terms of improving adhesion and heat resistance. In addition, as the interlayer adhesive layers 200, 210, and 220, a prepreg or the like in which a glass fiber base material is impregnated with the thermosetting resin can also be used. The thickness of the interlayer adhesive layers 200, 210 and 220 is preferably 10 to 200 μm, particularly preferably 20 to 120 μm when using a prepreg, and preferably 10 to 100 μm when using a bonding sheet.

この場合、第1の積層板110については、図4及び図5に示すように、その表面保護層114を上にして、端子20aを露出させた内層回路基板100の端子20aの露出側の面に、開口22を有する層間接着層200を介して積層する。即ち、図1に示すように、第1の積層板110を、層間接着層200に仮接着した上で、内層回路基板100に接着し、この層間接着層200には、図1に示すように開口22を形成する。この開口22は、図1及び図4乃至図8に示すように、内層回路基板100の端子20aの露出部分よりも大きく形成する。より具体的には、最終的に形状加工されて形成される端子部20が全て露出される大きさ及び形状に設定する。図示の実施の形態では、図9に示すように、開口部21に四角形状で突出する端子部20となるため、この層間接着層200も、これに併せて四角形状とした上で、開口22の各辺を端子部20の各辺よりも長く設定している。なお、この開口22の形状は、必ずしも図示した四角形状に限定されるものではなく、最終的に形成されるべき端子部20の形状に合わせて設定することができる。   In this case, as shown in FIGS. 4 and 5, the first laminated plate 110 is a surface on the exposed side of the terminal 20a of the inner layer circuit board 100 with the surface protective layer 114 facing upward and the terminal 20a exposed. Are laminated through an interlayer adhesive layer 200 having an opening 22. That is, as shown in FIG. 1, the first laminated plate 110 is temporarily bonded to the interlayer adhesive layer 200 and then bonded to the inner circuit board 100, and the interlayer adhesive layer 200 has a structure as shown in FIG. Opening 22 is formed. As shown in FIGS. 1 and 4 to 8, the opening 22 is formed larger than the exposed portion of the terminal 20 a of the inner layer circuit board 100. More specifically, the size and shape are set such that the terminal portions 20 that are finally formed and processed are all exposed. In the illustrated embodiment, as shown in FIG. 9, since the terminal portion 20 protrudes in a square shape from the opening portion 21, the interlayer adhesive layer 200 is also formed in a rectangular shape in accordance with this, and the opening 22 is formed. Each side is set longer than each side of the terminal portion 20. The shape of the opening 22 is not necessarily limited to the illustrated rectangular shape, and can be set according to the shape of the terminal portion 20 to be finally formed.

一方、第1の積層板110には、図1に示すように、最終的に除去すべき部分を挟むように相対向して2つのスリット24を形成する。このスリット24は、後述するように、最終的には、このスリット24に跨るように各層を打ち抜くため、リジッド部14から連続して伸びる側と、これに対向する側に、各々形成する。   On the other hand, as shown in FIG. 1, two slits 24 are formed in the first laminated plate 110 so as to face each other so as to sandwich a portion to be finally removed. As will be described later, the slits 24 are finally formed on the side continuously extending from the rigid portion 14 and on the side opposite thereto, in order to punch out the respective layers so as to straddle the slit 24.

これらの2つのスリット24は、図1及び図4乃至図8に示すように、層間接着層200の開口22よりも外側に形成する。より具体的には、2つのスリット24と層間接着層200の開口22との距離を0.5mm〜2.0mmに設定して、2つのスリットを形成する。これにより、スリット24よりも端子20a側に層間接着層200が存在するため、この層間接着層200により、スリット24からのエッチング処理等のための薬剤の侵入による端子20aへの影響も抑制することができる。   These two slits 24 are formed outside the opening 22 of the interlayer adhesive layer 200 as shown in FIGS. 1 and 4 to 8. More specifically, the distance between the two slits 24 and the opening 22 of the interlayer adhesive layer 200 is set to 0.5 mm to 2.0 mm to form the two slits. As a result, since the interlayer adhesive layer 200 is present on the terminal 20a side of the slit 24, the interlayer adhesive layer 200 also suppresses the influence on the terminal 20a due to the intrusion of chemicals for the etching process or the like from the slit 24. Can do.

なお、このスリット24は、層間接着層200と仮接着する前に形成した方が作業が容易であるが、仮接着後に形成することを排除するものではない。同様に、層間接着層200の開口22も、第1の積層板110との仮接着前に形成しておくことが好ましいが、仮接着後に切断等により形成することもできる。   The slit 24 is easier to work before it is temporarily bonded to the interlayer adhesive layer 200, but it is not excluded to form the slit 24 after temporary bonding. Similarly, the opening 22 of the interlayer adhesive layer 200 is preferably formed before temporary bonding to the first laminated plate 110, but can also be formed by cutting or the like after temporary bonding.

図示の実施の形態では、図4乃至図8に示すように、このようにして図1に示す第1の積層板110と図2に示す端子20aを露出させた内層回路基板100とを積層させた積層体に、更に、内層回路基板100の端子20aとは反対側の面に、図3に示す第2、第3の積層板120、130を積層する。この場合、これらの第2、第3の積層板120、130については、図3乃至図8に示すように、第1の積層板110とは異なり、内層回路基板100を境に表面保護層124、134が外側を向くように、即ち、表面保護層124、134を下に向けて配置した上で、第2の積層板120については、層間接着層220を介して内層回路基板100に積層され、第3の積層板130については、層間接着層230を介して第2の積層板120に積層される。   In the illustrated embodiment, as shown in FIGS. 4 to 8, the first laminated board 110 shown in FIG. 1 and the inner circuit board 100 with the terminals 20a shown in FIG. Further, the second and third laminated plates 120 and 130 shown in FIG. 3 are laminated on the surface of the inner layer circuit board 100 opposite to the terminals 20a. In this case, the second and third laminated plates 120 and 130 are different from the first laminated plate 110 as shown in FIGS. 3 to 8 in that the surface protective layer 124 is formed with the inner circuit board 100 as a boundary. The second laminated plate 120 is laminated on the inner circuit board 100 through the interlayer adhesive layer 220 with the surface protective layers 124 and 134 facing downward. The third laminated plate 130 is laminated on the second laminated plate 120 via the interlayer adhesive layer 230.

これらの第2、第3の積層板120、130については、図3に示すように、予め不要部分に打ち抜きや切り抜き等の適宜の方法により開口28を形成しておく。この開口28は、図9に示すように、最終的に端子部20の周囲に形成される開口部21に連通するものであり、少なくとも、この端子部20の周囲の開口部21よりも、大きく形成すると共に、後述する切断手段が通過することができる大きさや形状に形成する。この第2、第3の積層板120、130に形成される開口26も、他の層との積層前に形成しておくが好ましいが、積層後に形成することを排除するものではない。   As for these second and third laminated plates 120 and 130, as shown in FIG. 3, an opening 28 is previously formed in an unnecessary portion by an appropriate method such as punching or cutting. As shown in FIG. 9, the opening 28 communicates with the opening 21 finally formed around the terminal portion 20, and is at least larger than the opening 21 around the terminal portion 20. At the same time, it is formed in a size and shape that can be passed by a cutting means described later. The openings 26 formed in the second and third laminated plates 120 and 130 are also preferably formed before lamination with other layers, but this does not exclude the formation after the lamination.

なお、上記の内層回路部16を構成する第1の積層板110(第1層)、内層回路基板100(第2層)、第2の積層板120(第3層)、第3の積層板130(第4層)は、積層段階で準備ができていれば、各層の形成順序には、特に限定はなく、いずれの層を先に又は後に形成してもよい。同様に、配置関係さえ維持すれば、各層を積層する順序にも、特に限定はなく、第1の積層板110から順に下に積層していくこともできるし、第3の積層板130から順に上に積み上げて積層していくことも、また、その他の順序とすることも、更に全てを同時に積層することもできる。   The first laminated board 110 (first layer), the inner layer circuit board 100 (second layer), the second laminated board 120 (third layer), and the third laminated board constituting the inner layer circuit section 16 described above. As long as 130 (fourth layer) is prepared in the stacking step, the order of forming each layer is not particularly limited, and any layer may be formed first or later. Similarly, as long as the positional relationship is maintained, the order of stacking the layers is not particularly limited, and the layers can be stacked sequentially from the first stacked plate 110, or sequentially from the third stacked plate 130. They can be stacked on top of each other, in any other order, or all can be stacked simultaneously.

このようにして内層回路部16を積層した後、図6に示すように、更に、その両面に、層間接着層240、250を介して、導電層から成る外層回路基板300、310を積層して、外層回路部18を形成する。なお、この外層回路基板300、310は、フレキシブル部12において内層回路部16露出させるためを、フレキシブル部12においては、図6に示すように、少なくとも端子部20に対応する部分が開口するように、それに応じた形状に加工される。また、この外層回路基板は、図示の実施の形態と異なり、内層回路部16の片面にのみ積層することもできる。   After laminating the inner layer circuit portion 16 in this manner, as shown in FIG. 6, outer layer circuit boards 300 and 310 made of conductive layers are further laminated on both surfaces via interlayer adhesive layers 240 and 250. The outer layer circuit portion 18 is formed. The outer circuit boards 300 and 310 are exposed so that the inner circuit section 16 is exposed in the flexible section 12, so that at least a portion corresponding to the terminal section 20 is opened in the flexible section 12 as shown in FIG. , Processed into a shape corresponding to it. Further, the outer layer circuit board can be laminated only on one side of the inner layer circuit section 16, unlike the illustrated embodiment.

この場合、相互に積層される各層は、各層毎に加熱加圧した上で積層していくのではなく、図6に示す第1の積層板110(第1層)、内層回路基板100(第2層)、第2の積層板120(第3層)、第3の積層板130(第4層)、更に、外層回路基板300、310の全ての層を積層した状態で一括して加熱加圧することが望ましい。これにより、各層毎に加熱加圧する工程を経る必要がなくなり、より一層効率的に積層作業をすることができると同時に層間接続の信頼性を高めることができる。   In this case, the layers stacked on each other are not stacked after being heated and pressurized for each layer, but instead of the first stacked plate 110 (first layer) and the inner circuit board 100 (first layer) shown in FIG. 2 layers), the second laminated plate 120 (third layer), the third laminated plate 130 (fourth layer), and all the layers of the outer circuit boards 300 and 310 are heated together. It is desirable to press. Thereby, it is not necessary to go through the step of heating and pressurizing each layer, and the laminating operation can be performed more efficiently, and at the same time, the reliability of interlayer connection can be improved.

この場合、熱圧着する条件は、温度として110〜220℃、圧力0.2〜10MPaの熱圧成形装置で一体成形することが好ましい。但し、これらの条件も含め、本発明においては、上記の形態に限定されるものではなく、他の方法で各層を加熱加圧することもできる。   In this case, the conditions for thermocompression bonding are preferably integrally molded by a hot press molding apparatus having a temperature of 110 to 220 ° C. and a pressure of 0.2 to 10 MPa. However, including these conditions, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and each layer can be heated and pressurized by other methods.

本発明においては、このようにして多層回路基板10として積層した後、リジッド部14も含めて外層回路部18に薬剤等によりパターン形成をした後、図7に示すように、上記の2つのスリット24に跨って、内層回路部16を構成する全ての層、即ち、積層された積層板110、120、130及び内層回路基板100の全てを貫通するように図示しない切断手段を通して、端子20aを備えた端子部20の形状加工を行う。   In the present invention, after laminating as the multilayer circuit board 10 in this way, the outer layer circuit portion 18 including the rigid portion 14 is patterned with a chemical agent or the like, and then the above two slits as shown in FIG. 24, a terminal 20a is provided through a cutting means (not shown) so as to penetrate all the layers constituting the inner layer circuit section 16, that is, all the laminated plates 110, 120, and 130 and the inner layer circuit board 100. The shape processing of the terminal portion 20 is performed.

この場合、第1の積層板110に形成された2つのスリット24に挟まれた部分は、図示しない切断手段が2つのスリット24に跨って通るため、他の部分から切り離される結果、切断手段により、端子部20の形状加工のみならず、同時に除去すべき不要な除去片G(図8参照)も形成される。即ち、単一の作業で、端子部20の形状加工と除去片Gの形成を行うことができ、非常に効率良く多層回路基板10を製造することができる。その後、図8に示すように、不要な除去片Gを取り除くことにより、内層回路基板100の端子部20を露出させて、所望の多層回路基板10とすることができる。   In this case, the portion sandwiched between the two slits 24 formed in the first laminated plate 110 passes through the two slits 24 and the cutting means (not shown) is cut off from the other portions. In addition to the shape processing of the terminal portion 20, an unnecessary removal piece G (see FIG. 8) to be removed at the same time is also formed. That is, the shape processing of the terminal portion 20 and the formation of the removal piece G can be performed by a single operation, and the multilayer circuit board 10 can be manufactured very efficiently. Thereafter, as shown in FIG. 8, by removing unnecessary removal pieces G, the terminal portions 20 of the inner circuit board 100 can be exposed to obtain a desired multilayer circuit board 10.

この場合、図示しない切断手段は、最終的には、形成すべき端子部20の形状に合わせて、各層を切断する。即ち、図9に示すように、端子部20の周囲に開口部21を形成する場合には、2つのスリット24を含めて、この開口部21を形成するように切断する。このため、切断手段は、開口部21に合わせた形状で、各層を打ち抜き又は切り抜きすることが最も望ましく、これにより、端子部20の形状加工、ひいては、端子部20の周囲に開口部21を形成する作業を行うことができる。   In this case, a cutting means (not shown) finally cuts each layer in accordance with the shape of the terminal portion 20 to be formed. That is, as shown in FIG. 9, when the opening 21 is formed around the terminal portion 20, the opening 21 including the two slits 24 is cut so as to form the opening 21. For this reason, it is most desirable that the cutting means is formed by punching or cutting out each layer in a shape that matches the opening 21, thereby forming the terminal portion 20 and thus forming the opening 21 around the terminal portion 20. Work can be done.

その意味では、切断手段による切断は、必ずしも、スリット状の切断に限定されるものではなく、打ち抜くべき形状に合わせて設定することができる。その他、例えば、開口部21の縁に沿って線状に切断手段を移動させることにより、端子部20の形状加工及び開口部21の形成を行うこともできるし、開口部21の外縁に沿って切断した後、端子部20の周囲(開口部21の内縁)を切断して形状加工をすることもできる。なお、開口部21は、必ずしも、図9に示すように、略コの字状に形成された単一のものである必要はなく、製造時の作業上の必要等に応じて、一部に橋渡し部分を残して、この橋渡し部分により区分けされていても良い。   In that sense, the cutting by the cutting means is not necessarily limited to the slit-shaped cutting, and can be set according to the shape to be punched. In addition, for example, the shape processing of the terminal portion 20 and the formation of the opening 21 can be performed by moving the cutting means linearly along the edge of the opening 21, or along the outer edge of the opening 21. After cutting, the periphery of the terminal portion 20 (inner edge of the opening portion 21) can be cut for shape processing. Note that the opening 21 does not necessarily have to be a single one formed in a substantially U shape, as shown in FIG. The bridge portion may be left and divided by this bridge portion.

なお、切断手段としては、一般的には、例えば、図示しない切削器具の切断刃を使用して、この切断刃を下降や移動させることにより、各層を切断することができるが、このような機械的な切断手段に限定されるものではなく、レーザー等の物理的な切断手段を使用することもできる。   In general, as a cutting means, each layer can be cut by, for example, using a cutting blade of a cutting tool (not shown) and moving the cutting blade down and moving. It is not limited to a typical cutting means, and a physical cutting means such as a laser can also be used.

また、内層回路基板の端子部20aは、コネクタとの接続(勘合)に使用されるため摩耗性や接続信頼性などが要求され、一般に電解金メッキを施す場合が多い。一方、リジッド部14表面の部品実装部分の表面処理は、配線密度、部品実装密度が高いために電解メッキのための導通配線を設置する領域を設けることが困難であり、金や錫などの無電解メッキによる表面処理を行なうか、半田による部品実装を行なう部分においては部品の実装信頼性の確保のために、金メッキよりも一般に耐熱プリフラックスと呼ばれる有機防錆処理を施す場合が多い。この場合、内層回路基板100の端子部分と表面とで複数種類の表面処理が必要となるため、表面処理を選択的に設けるために適宜必要な部分のみを露出させたマスク工程を追加する必要がある。本実施形態による内層回路基板の保護方法を用いることにより、端子部分を露出する前にリジッド部の表面処理を行ない、その後端子部分を露出させ、さらにリジッド部に適切なマスクを設けた後に端子部分に表面処理を施すことにより、表面処理のマスク工程を省略することができる。   In addition, since the terminal portion 20a of the inner layer circuit board is used for connection (fitting) with a connector, wear and connection reliability are required, and in general, electrolytic gold plating is often performed. On the other hand, the surface treatment of the component mounting portion on the surface of the rigid portion 14 has a high wiring density and component mounting density, so it is difficult to provide a region for installing conductive wiring for electrolytic plating. In order to ensure the mounting reliability of components at the portion where surface treatment is performed by electrolytic plating or component mounting by soldering, organic rust prevention treatment generally called heat-resistant preflux is often performed rather than gold plating. In this case, since a plurality of types of surface treatments are required for the terminal portion and the surface of the inner circuit board 100, it is necessary to add a mask process in which only necessary portions are exposed in order to selectively provide the surface treatment. is there. By using the inner layer circuit board protection method according to the present embodiment, the surface portion of the rigid portion is subjected to surface treatment before exposing the terminal portion, the terminal portion is then exposed, and then the terminal portion is provided with an appropriate mask on the rigid portion. By performing the surface treatment on the surface, the masking step of the surface treatment can be omitted.

本発明は、フレキシブルリジッド回路基板や、多層フレキシブル回路基板等の端子部が露出する多層回路基板の製造に広く適用することができる。   The present invention can be widely applied to the production of multilayer circuit boards in which terminal portions such as flexible rigid circuit boards and multilayer flexible circuit boards are exposed.

図1は、本発明に使用される開口を有する第1の積層体を示し、同図(A)は第1の積層板の断面図、同図(B)は第1の積層板にスリットを形成する状態を示す図、同図(C)は、第1の積層体を内層回路基板に接着する層間接着層に開口を形成する状態を示す図、同図(D)は、第1の積層体に層間接着層を仮接着する状態を示す図である。FIG. 1 shows a first laminate having an opening used in the present invention. FIG. 1A is a sectional view of the first laminate, and FIG. 1B is a slit in the first laminate. The figure which shows the state to form, the figure (C) is a figure which shows the state which forms an opening in the interlayer contact bonding layer which adhere | attaches a 1st laminated body on an inner-layer circuit board, The figure (D) is a 1st laminated | stacked layer. It is a figure which shows the state which adheres an interlayer contact bonding layer to a body. 本発明に使用される内層回路基板において、端子を露出させる状態を示す図である。It is a figure which shows the state which exposes a terminal in the inner layer circuit board used for this invention. 図3は、本発明に使用される第2、第3の積層体を示し、同図(A)は第2、第3の積層板の断面図、同図(B)は第2、第3の積層板に開口を形成する状態を示す図である。FIG. 3 shows the second and third laminates used in the present invention. FIG. 3A is a sectional view of the second and third laminates, and FIG. 3B is the second and third laminates. It is a figure which shows the state which forms opening in the laminated board. 図4は、本発明に使用される積層体及び内層回路基板を相互に積層する状態を示し、同図(A)はその斜視図、同図(B)はその断面図である。4A and 4B show a state in which the laminated body and the inner layer circuit board used in the present invention are laminated together. FIG. 4A is a perspective view thereof, and FIG. 4B is a sectional view thereof. 図5は、本発明に使用される積層体及び内層回路基板を相互に積層した状態を示し、同図(A)はその斜視図、同図(B)はその断面図である。5A and 5B show a state in which the laminated body and the inner layer circuit board used in the present invention are laminated together, FIG. 5A is a perspective view thereof, and FIG. 5B is a sectional view thereof. 本発明において、外層回路基板が両面に積層された内層回路部を切断する前の状態における多層回路基板の断面図である。In this invention, it is sectional drawing of the multilayer circuit board in the state before cut | disconnecting the inner layer circuit part in which the outer layer circuit board was laminated | stacked on both surfaces. 本発明において、切断手段により内層回路基板を切断する状態を示す概略斜視図である。In this invention, it is a schematic perspective view which shows the state which cut | disconnects an inner layer circuit board by a cutting | disconnection means. 図8は、本発明において不要な除去片を取り除く状態を示し、同図(A)はその斜視図、同図(B)はその断面図である。FIGS. 8A and 8B show a state in which unnecessary removal pieces are removed in the present invention. FIG. 8A is a perspective view thereof and FIG. 8B is a cross-sectional view thereof. 本発明により形状加工された端子部を有する内層回路基板の斜視図である。It is a perspective view of the inner layer circuit board which has the terminal part shape-processed by this invention.

10 多層回路基板
12 フレキシブル部
14 リジッド部
16 内層回路部
18 外層回路部
20 端子部
20a 端子
21 開口部
22 第1の積層板の開口
24 スリット
26 第2、第3の積層板の開口
100 内層回路基板
101 絶縁ベースフィルム
102 導電層
103 接着層
104 表面保護層
110 第1の積層板
111 絶縁ベースフィルム
112 導電層
113 接着層
114 表面保護層
120 第2の積層板
121 絶縁ベースフィルム
122 導電層
123 接着層
124 表面保護層
130 第3の積層板
131 絶縁ベースフィルム
132 導電層
133 接着層
134 表面保護層
200 層間接着層
210 層間接着層
220 層間接着層
240 層間接着層
250 層間接着層
300 外層回路基板
310 外層回路基板
G 除去片
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Multilayer circuit board 12 Flexible part 14 Rigid part 16 Inner layer circuit part 18 Outer layer circuit part 20 Terminal part 20a Terminal 21 Opening part 22 Opening of 1st laminated board 24 Slit 26 Opening of 2nd, 3rd laminated board 100 Inner layer circuit Substrate 101 Insulating base film 102 Conductive layer 103 Adhesive layer 104 Surface protective layer 110 First laminated plate 111 Insulating base film 112 Conductive layer 113 Adhesive layer 114 Surface protective layer 120 Second laminated plate 121 Insulating base film 122 Conductive layer 123 Adhesive Layer 124 Surface protective layer 130 Third laminate 131 Insulating base film 132 Conductive layer 133 Adhesive layer 134 Surface protective layer 200 Interlayer adhesive layer 210 Interlayer adhesive layer 220 Interlayer adhesive layer 240 Interlayer adhesive layer 250 Interlayer adhesive layer 300 Outer circuit board 310 Outer circuit board G Sahen

Claims (12)

可撓性を有するフレキシブル部とリジッド部とを備えた多層回路基板の製造方法であって、端子を露出させた内層回路基板の少なくとも前記端子の露出側の面に、開口を有する層間接着層を介して、少なくとも絶縁ベースフィルムを有し最終的に除去すべき部分の少なくともフレキシブル部とリジッド部との境界にスリットが形成された積層板を積層した後、前記スリットに跨って前記積層された積層板及び内層回路基板の全てを貫通するように切断手段を通して、前記端子を備えた端子部の形状加工を行うことを特徴とする多層回路基板の製造方法。 A method for manufacturing a multilayer circuit board comprising a flexible part having a flexibility and a rigid part, wherein an interlayer adhesive layer having an opening is formed on at least the exposed surface of the terminal of the inner circuit board from which the terminal is exposed. And laminating a laminated plate in which a slit is formed at the boundary between at least the flexible part and the rigid part of at least the part having an insulating base film and finally to be removed, and then, the laminated layered over the slit. A method of manufacturing a multilayer circuit board, comprising: shaping a terminal portion having the terminal through cutting means so as to penetrate all of the board and the inner layer circuit board. 前記スリットが、最終的に除去すべき部分を挟むように対向して2つ形成されており、前記2つのスリットに跨って前記積層された積層板及び内層回路基板の全てを貫通するように切断手段を通して、前記端子を備えた端子部の形状加工を行うことを特徴とする多層回路基板の製造方法。 Two slits are formed facing each other so as to sandwich the part to be finally removed, and cut so as to penetrate all of the laminated board and inner layer circuit board across the two slits. A method of manufacturing a multilayer circuit board, wherein the shape processing of the terminal portion including the terminal is performed through the means. 請求項1または2に記載された多層回路基板の製造方法において、前記切断手段により不要な除去片の形成も同時に行った後、前記除去片を除去して前記端子部を表面上に露出させることを特徴とする多層回路基板の製造方法。 3. The method of manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, wherein after the unnecessary removal pieces are simultaneously formed by the cutting means, the removal pieces are removed to expose the terminal portions on the surface. A method for manufacturing a multilayer circuit board. 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載された多層回路基板の製造方法において、前記切断手段により前記端子部の形状加工と同時に前記端子部の周囲に開口を形成することを特徴とする多層回路基板の製造方法。 4. The multilayer circuit board manufacturing method according to claim 1, wherein an opening is formed around the terminal portion simultaneously with the shape processing of the terminal portion by the cutting means. A method of manufacturing a circuit board. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載された多層回路基板の製造方法において、前記スリットを、前記層間接着層の開口よりも外側に形成することを特徴とする多層回路基板の製造方法。 5. The method for manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, wherein the slit is formed outside an opening of the interlayer adhesive layer. 6. 請求項5に記載された多層回路基板の製造方法において、前記スリットと前記層間接着層の開口との距離を0.5mm〜2.0mmに設定することを特徴とする多層回路基板の製造方法。 6. The method of manufacturing a multilayer circuit board according to claim 5, wherein a distance between the slit and the opening of the interlayer adhesive layer is set to 0.5 mm to 2.0 mm. 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載された多層回路基板の製造方法において、前記層間接着層の開口を前記内層回路基板の前記端子の露出部分よりも大きく形成することを特徴とする多層回路基板の製造方法。 7. The method for manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, wherein an opening of the interlayer adhesive layer is formed larger than an exposed portion of the terminal of the inner circuit board. A method of manufacturing a circuit board. 請求項1乃至請求項7のいずれかに記載された多層回路基板の製造方法において、前記内層回路基板の前記端子の露出側とは反対側の面にも単数又は複数の少なくとも絶縁ベースフィルムを有する裏面積層板を積層し、前記裏面積層板には、前記切断手段が通過することができる開口を形成することを特徴とする多層回路基板の製造方法。 8. The method of manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, further comprising at least one or more insulating base films on a surface of the inner circuit board opposite to the exposed side of the terminals. A method for producing a multilayer circuit board, comprising: laminating a back laminate, and forming an opening through which the cutting means can pass in the back laminate. 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載された多層回路基板の製造方法において、前記相互に積層された前記積層板及び前記内層回路基板又は前記裏面積層板の両面又は片面に更に外層回路基板を積層することを特徴とする多層回路基板の製造方法。 9. The method for manufacturing a multilayer circuit board according to claim 1, further comprising an outer layer circuit board on both sides or one side of the laminated board and the inner layer circuit board or the back side laminated board laminated on each other. A method for producing a multilayer circuit board, comprising stacking layers. 請求項1乃至請求項9のいずれかに記載された多層回路基板の製造方法において、前記各層毎に加熱加圧することなく、全ての層を積層した状態で一括して加熱加圧することを特徴とする多層回路基板の製造方法。 The method for manufacturing a multilayer circuit board according to any one of claims 1 to 9, wherein the layers are heated and pressed together in a state where all the layers are laminated without being heated and pressed for each of the layers. A method for manufacturing a multilayer circuit board. 請求項10に記載された多層回路基板の製造方法において、全ての層を積層した状態で一括して加熱加圧し、さらに、複数の層を積層した後一括して加熱加圧する工程を含むことを特徴とする多層回路基板の製造方法。 The method for manufacturing a multilayer circuit board according to claim 10, further comprising a step of heat-pressing all the layers in a stacked state, and further heat-pressing in a lump after stacking a plurality of layers. A method for producing a multilayer circuit board. 請求項1乃至請求項11のいずれかに記載された多層回路基板の製造方法により製造された多層回路基板。 A multilayer circuit board manufactured by the method for manufacturing a multilayer circuit board according to any one of claims 1 to 11.
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