JP2010195992A - Polymer fine particle, method for producing the same, and conductive fine particle and anisotropic conductive material - Google Patents

Polymer fine particle, method for producing the same, and conductive fine particle and anisotropic conductive material Download PDF

Info

Publication number
JP2010195992A
JP2010195992A JP2009044837A JP2009044837A JP2010195992A JP 2010195992 A JP2010195992 A JP 2010195992A JP 2009044837 A JP2009044837 A JP 2009044837A JP 2009044837 A JP2009044837 A JP 2009044837A JP 2010195992 A JP2010195992 A JP 2010195992A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine particles
polymer fine
particles
polymer
antioxidant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009044837A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5427437B2 (en
Inventor
Yoshikuni Sasaki
令晋 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2009044837A priority Critical patent/JP5427437B2/en
Publication of JP2010195992A publication Critical patent/JP2010195992A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5427437B2 publication Critical patent/JP5427437B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide polymer fine particles of which heat resistance and mechanical strength are excellent and the mechanical strength is less likely to degraded after experiencing thermal history, and to provide a method for producing the same, and conductive fine particles and an anisotropic conductive material obtained from the polymer fine particles. <P>SOLUTION: The polymer particles have a compression fracture strength index P, which is represented by formula (1): P=P1/P2, of 0.77 or more, and P2 is 2.9 (mN) or more. Wherein, P1 is compression fracture strength (mN) after 1-hour heat treatment at 200°C in the air, and P2 is compression fracture strength (mN) before the heat treatment. The method for producing the polymer fine particles includes the steps of: producing seed particles by polymerizing a monomer component; and allowing the seed particles to absorb a monomer composition obtained by mixing a vinyl monomer with at least one antioxidant selected from a primary antioxidant and a secondary antioxidant. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、重合体微粒子に関するもので、より詳しくは、耐熱性及び機械的強度に優れ、且つ、熱履歴後も機械的強度が劣化し難い重合体微粒子、その製造方法、及び該重合体微粒子より得られる導電性微粒子に関するものである。   The present invention relates to polymer fine particles. More specifically, the present invention relates to polymer fine particles that are excellent in heat resistance and mechanical strength, and that hardly deteriorate mechanical strength even after heat history, a method for producing the same, and the polymer fine particles. The present invention relates to conductive fine particles obtained.

重合体微粒子は、樹脂成形品の光拡散性、耐ブロッキング性および滑り性などの物性の向上や更なる特性の付与を目的として、また、電子機器類の微小部位間のスペーサーや電気的接続を担う導電性微粒子の基材粒子として用いられている。   Polymer fine particles are used for the purpose of improving physical properties such as light diffusibility, blocking resistance, and slipperiness of resin molded products and for imparting further properties, and for spacers and electrical connection between minute parts of electronic devices. It is used as a base particle for conductive fine particles.

近年、生産性向上のため、高温で成形加工が行われることが多く、加熱により重合体微粒子が分解して成形品が変色したり、また、導電性微粒子として用いた場合には、基材粒子の分解により、素子間の間隔が一定に保たれなかったり、電気的短絡が生じるなどの問題があった。この観点から、成形加工時の加熱により分解し難い、耐熱性が高められた重合体微粒子への要求が高まっている。   In recent years, in order to improve productivity, molding is often performed at a high temperature, and polymer fine particles are decomposed by heating to change the color of the molded product, or when used as conductive fine particles, As a result of the decomposition, there is a problem that the distance between the elements cannot be kept constant or an electrical short circuit occurs. From this point of view, there is an increasing demand for polymer fine particles that are hardly decomposed by heating during molding and have improved heat resistance.

例えば、特許文献1には、熱分解開始温度が280℃以上に高められた架橋球状粒子、特許文献2には、熱分解開始温度が260℃以上のアクリル系架橋微粒子導電性微粒子、特許文献3には、熱分解開始温度が250℃〜300℃のメタクリレート系樹脂粒子が開示されており、特許文献4には、熱分解開始温度が300℃以上の基材粒子表面に金属層を設けた導電性微粒子が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses a crosslinked spherical particle having a thermal decomposition start temperature increased to 280 ° C. or higher, Patent Document 2 includes acrylic crosslinked fine particle conductive particles having a thermal decomposition start temperature of 260 ° C. or higher, Patent Document 3 Discloses a methacrylate resin particle having a thermal decomposition starting temperature of 250 ° C. to 300 ° C., and Patent Document 4 discloses a conductive material in which a metal layer is provided on the surface of a base particle having a thermal decomposition starting temperature of 300 ° C. or higher. Fine particles have been disclosed.

特開平6−220290号公報JP-A-6-220290 特開2003−171426号公報JP 2003-171426 A 特開平11−12327号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-12327 WO2002/013205号パンフレットWO2002 / 013205 pamphlet

上述のように、重合体微粒子の熱分解開始温度を高める技術は多数提案されているが、このように高い耐熱性を有する重合体微粒子を使用しても、重合体微粒子の熱分解温度より低い加熱温度を採用する成形加工において重合体微粒子が分解し、成形品に不良が生じたり、また、導通安定性が得られ難いといった場合があった。   As described above, many techniques for increasing the thermal decomposition start temperature of polymer fine particles have been proposed, but even if such polymer fine particles having high heat resistance are used, the temperature is lower than the thermal decomposition temperature of the polymer fine particles. In the molding process that employs the heating temperature, the polymer fine particles are decomposed, resulting in defects in the molded product, and it may be difficult to obtain conduction stability.

本発明は上記の様な事情に着目してなされたものであって、その目的は、耐熱性及び機械的強度に優れ、且つ、熱履歴後も機械的強度が劣化し難い重合体微粒子、その製造方法、及び該重合体微粒子より得られる導電性微粒子を提供することにある。   The present invention has been made paying attention to the circumstances as described above, and the object thereof is a polymer fine particle that is excellent in heat resistance and mechanical strength and hardly deteriorates in mechanical strength even after thermal history, It is an object to provide a production method and conductive fine particles obtained from the polymer fine particles.

上記課題を解決し得た本発明の重合体微粒子とは、下記式(1)で表される圧縮破壊強度指数Pが0.77以上であり、且つ、P2が2.9(mN)以上であるところに要旨を有する。
P=P1/P2 (1)
P1:空気中200℃で1時間熱処理後の圧縮破壊強度(mN)
P2:熱処理前の圧縮破壊強度(mN)
上記構成を有する本発明の重合体微粒子は、熱処理後も圧縮破壊強度の低下が小さく、機械的強度が劣化し難いものである。
The polymer fine particles of the present invention that can solve the above-mentioned problems have a compression fracture strength index P represented by the following formula (1) of 0.77 or more and P2 of 2.9 (mN) or more. It has a gist at some point.
P = P1 / P2 (1)
P1: Compressive fracture strength (mN) after heat treatment in air at 200 ° C. for 1 hour
P2: Compressive fracture strength before heat treatment (mN)
The polymer fine particles of the present invention having the above-described configuration are those in which the decrease in compressive fracture strength is small even after heat treatment and the mechanical strength is hardly deteriorated.

また、本発明の重合体微粒子は、窒素気流下における熱分解開始温度をT1、空気気流下における熱分解開始温度をT2としたときに、T2が280℃より高く、且つ、T2/T1が0.95以上であるのが好ましい。   In the polymer fine particles of the present invention, T2 is higher than 280 ° C. and T2 / T1 is 0 when the thermal decomposition start temperature under a nitrogen stream is T1 and the thermal decomposition start temperature under an air stream is T2. .95 or more is preferable.

さらに、本発明の重合体微粒子は、一次酸化防止剤および二次酸化防止剤から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤、および/または、酸化防止剤由来の成分を含有するものであるのが好ましく、また、スチレン系単量体に由来する成分を重合体微粒子構成成分中0.5質量%以上含むものであるのが望ましい。加えて、本発明の重合体微粒子は、個数平均粒子径が0.5μm〜100μmであり、粒子径の変動係数が20%以下であるのが好ましい。   Furthermore, the polymer fine particles of the present invention preferably contain at least one kind of antioxidant selected from primary antioxidants and secondary antioxidants, and / or components derived from antioxidants. In addition, it is desirable that the component derived from the styrene monomer contains 0.5% by mass or more in the constituent component of the fine polymer particles. In addition, the polymer fine particles of the present invention preferably have a number average particle size of 0.5 μm to 100 μm and a coefficient of variation of the particle size of 20% or less.

本発明には上記重合体微粒子を製造する方法も含まれる。その製造方法とは、上記重合体微粒子の製造方法であって単量体成分を重合させてシード粒子を製造する工程、ビニル系単量体と、一次酸化防止剤及び二次酸化防止剤から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤とを混合した単量体組成物を前記シード粒子に吸収させる工程、を含むところに特徴を有する。   The present invention also includes a method for producing the polymer fine particles. The production method is a production method of the polymer fine particles described above, a step of producing seed particles by polymerizing monomer components, a vinyl monomer, a primary antioxidant and a secondary antioxidant selected from And a step of allowing the seed particles to absorb a monomer composition mixed with at least one kind of antioxidant.

また、上記重合体微粒子の表面に金属被覆層を有する導電性微粒子も本発明に含まれ、前記金属被覆層は、無電解メッキ法により形成された層であるのが望ましい。さらに、本発明の導電性微粒子は、はんだリフロー加工に好適に用いられる。   In addition, conductive fine particles having a metal coating layer on the surface of the polymer fine particles are also included in the present invention, and the metal coating layer is preferably a layer formed by an electroless plating method. Furthermore, the conductive fine particles of the present invention are suitably used for solder reflow processing.

上記導電性微粒子を用いてなる異方性導電材料も本発明の好ましい実施態様である。   An anisotropic conductive material using the conductive fine particles is also a preferred embodiment of the present invention.

本発明によれば、耐熱性および機械的強度に優れ、且つ、熱処理後も機械的強度が劣化し難い重合体微粒子、並びに、該重合体微粒子より得られる導電性微粒子が得られる。   According to the present invention, polymer fine particles that are excellent in heat resistance and mechanical strength and hardly deteriorate in mechanical strength even after heat treatment, and conductive fine particles obtained from the polymer fine particles are obtained.

[重合体微粒子]
本発明の重合体微粒子とは、下記式(1)で表される圧縮破壊強度指数Pが0.77以上であり、且つ、P2が2.9(mN)以上であるところに特徴を有するものである。
P=P1/P2 (1)
P1:空気中200℃で1時間熱処理した後の重合体微粒子の圧縮破壊強度(mN)
P2:熱処理前の重合体微粒子の圧縮破壊強度(mN)
[Polymer fine particles]
The polymer fine particles of the present invention are characterized in that the compressive fracture strength index P represented by the following formula (1) is 0.77 or more and P2 is 2.9 (mN) or more. It is.
P = P1 / P2 (1)
P1: Compressive fracture strength (mN) of polymer fine particles after heat treatment at 200 ° C. for 1 hour in air
P2: Compressive fracture strength (mN) of polymer fine particles before heat treatment

上記圧縮破壊強度指数Pとは、空気中200℃で1時間熱処理した後の圧縮破壊強度P1(mN)と、熱処理前の重合体微粒子の圧縮破壊強度P2(mN)とを、上記式(1)に代入して算出される値であり、空気中における熱処理後の重合体微粒子の機械的強度の低下の程度を示す指標となる。すなわち、圧縮破壊強度指数Pの値が大きいほど、重合体微粒子熱処理後の機械的強度の低下が小さいことを示している。一方、圧縮破壊強度指数Pが小さい場合は、熱処理後の重合体微粒子の機械的強度の低下が大きいことを意味しており、このような場合には、熱分解開始温度に至るまでに重合体微粒子の粒子骨格に切断(分解)が生じ易くなる。したがって、上記P値が小さい重合体微粒子を導電性微粒子の基材粒子として用いた場合には、電気的接合時やはんだリフローなどの熱履歴を受けた後の導通信頼性が著しく低下したり、成形品に不良を生じる虞がある。圧縮破壊強度指数Pは0.83以上であるのが好ましく、より好ましくは0.87以上である。   The compression fracture strength index P refers to the compression fracture strength P1 (mN) after heat treatment in air at 200 ° C. for 1 hour and the compression fracture strength P2 (mN) of the polymer fine particles before the heat treatment expressed by the above formula (1 ) Is a value calculated by substituting) and serves as an index indicating the degree of decrease in mechanical strength of the polymer fine particles after heat treatment in air. That is, the larger the value of the compressive fracture strength index P, the smaller the decrease in mechanical strength after the polymer fine particle heat treatment. On the other hand, when the compressive fracture strength index P is small, it means that the mechanical strength of the polymer fine particles after the heat treatment is greatly decreased. In such a case, the polymer is reached before reaching the thermal decomposition start temperature. Cutting (decomposition) is likely to occur in the particle skeleton of the fine particles. Therefore, when the polymer fine particles having a small P value are used as the base particles of the conductive fine particles, the conduction reliability after receiving a heat history such as electrical joining or solder reflow is significantly reduced. There is a risk of causing defects in the molded product. The compression fracture strength index P is preferably 0.83 or more, more preferably 0.87 or more.

本発明の重合体微粒子の熱処理前の圧縮破壊強度P2は2.9mN以上であるのが好ましい。より好ましくは3.9mN以上であり、さらに好ましくは4.9mN以上であり、特に好ましくは9.8mN以上である。P2が小さすぎると、粒子の機械的強度が低すぎるのはもちろんのこと、加工時の加熱により粒子の機械的強度が一層低下するため、これを導電性微粒子の基材粒子として用いると、微小な荷重で粒子が破壊してしまい、導通信頼性が低下する。なお、圧縮破壊強度は、圧縮を強めて破壊に至ったときの荷重(mN)であり、後記実施例に記載の方法により測定される値である。   The compressive fracture strength P2 before heat treatment of the polymer fine particles of the present invention is preferably 2.9 mN or more. More preferably, it is 3.9 mN or more, More preferably, it is 4.9 mN or more, Most preferably, it is 9.8 mN or more. If P2 is too small, the mechanical strength of the particles is of course too low, and the mechanical strength of the particles is further reduced by heating during processing. Particles are destroyed by a heavy load, and the conduction reliability is lowered. The compressive fracture strength is a load (mN) when the compression is increased and the fracture is reached, and is a value measured by the method described in Examples below.

本発明の重合体微粒子は、窒素気流下における熱分解開始温度をT1、空気気流下における熱分解開始温度をT2としたときに、T2が280℃より高く(280℃は含まない)、且つ、T2/T1が0.95以上であるのが好ましい。なお、T2/T1は1以下である。   The polymer fine particles of the present invention have a T2 higher than 280 ° C. (not including 280 ° C.) when the thermal decomposition starting temperature under a nitrogen stream is T1, and the thermal decomposition starting temperature under an air stream is T2, and T2 / T1 is preferably 0.95 or more. T2 / T1 is 1 or less.

重合体微粒子の熱分解は、窒素気流下に比較して、空気気流下で生じ易く、特に、空気気流下においては、より低い温度で重合体微粒子の分解が生じる。ここで、T2/T1が0.95以上とは、本発明の重合体微粒子が空気気流下でも、窒素気流下と同等の熱分解開始温度を有するか、あるいは、空気気流下における熱分解開始温度と、窒素気流下における熱分解開始温度の差が小さいことを意味する。   Thermal decomposition of polymer fine particles is more likely to occur under an air stream than under a nitrogen stream. In particular, the polymer fine particles are decomposed at a lower temperature under an air stream. Here, T2 / T1 of 0.95 or more means that the polymer fine particles of the present invention have a thermal decomposition start temperature equivalent to that under a nitrogen stream even under an air stream, or a thermal decomposition start temperature under an air stream. And the difference of the thermal decomposition start temperature under nitrogen stream is small.

より好ましくはT2/T1は0.96以上であり、さらに好ましくは0.97以上である。T2は、290℃以上であるのがより好ましく、さらに好ましくは300℃以上であり、より一層好ましくは310℃以上である。T2が280℃より低く、且つ、T2/T1が0.95より小さい重合体微粒子は、酸素存在下での酸化反応が起こり易いため、熱分解開始温度より十分低い温度域においても酸化により粒子骨格の劣化が進行する。このような重合体微粒子を導電性微粒子の基材粒子として用いた場合には、電気的接合時やはんだリフローなどの熱履歴を受けた後の導通信頼性が著しく低下する虞がある。   More preferably, T2 / T1 is 0.96 or more, and further preferably 0.97 or more. T2 is more preferably 290 ° C. or higher, further preferably 300 ° C. or higher, and still more preferably 310 ° C. or higher. Polymer fine particles having a T2 lower than 280 ° C. and a T2 / T1 smaller than 0.95 are likely to undergo an oxidation reaction in the presence of oxygen. Therefore, even in a temperature range sufficiently lower than the thermal decomposition start temperature, the particle skeleton is oxidized. Degradation progresses. When such polymer fine particles are used as the base particles of conductive fine particles, there is a risk that the conduction reliability after receiving a thermal history such as electrical joining or solder reflow may be significantly reduced.

尚、本発明においては上記熱分解開始温度として、熱分析装置(例えば、Bruker AXS社製の「TG−DTA2000SA」等)を使用して、後述する実施例に記載の条件下で重合体微粒子を熱分解させ、このとき得られたTG曲線のベースラインをもとに、質量減少が開始する温度を読みとった値を熱分解開始温度として採用する。   In the present invention, as the thermal decomposition start temperature, a thermal analysis device (for example, “TG-DTA2000SA” manufactured by Bruker AXS, etc.) is used, and polymer fine particles are used under the conditions described in the examples described later. Based on the baseline of the TG curve obtained at this time, a value obtained by reading the temperature at which mass reduction starts is adopted as the thermal decomposition start temperature.

本発明の重合体微粒子は、その内部に、一次酸化防止剤および二次酸化防止剤から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤、および/または、酸化防止剤に由来する成分を含有しているのが好ましい。重合体微粒子中にこれらの酸化防止剤が含まれている場合には、熱分解開始温度よりも低い温度で重合体微粒子が分解してしまうのを防止できるからである。   The polymer fine particle of the present invention contains therein at least one kind of antioxidant selected from a primary antioxidant and a secondary antioxidant and / or a component derived from the antioxidant. Is preferred. This is because, when these antioxidants are contained in the polymer fine particles, the polymer fine particles can be prevented from being decomposed at a temperature lower than the thermal decomposition start temperature.

一次酸化防止剤としては、パーオキシラジカルに対する水素ラジカル供与能を有する一次酸化防止剤が効果的である。本発明において「パーオキシラジカルに対する水素ラジカル供与能を有する一次酸化防止剤」とは、パーオキシラジカルによって速やかに引き抜かれる水素原子を分子内に少なくとも1つ以上有する化合物であり、水酸基あるいは、1級または2級のアミノ基によって置換された芳香族化合物が好ましいものとして挙げられる。より好ましくは、オルト位にアルキル基を有するフェノール誘導体、あるいは、ジアリールアミン誘導体である。ポリアリレートなどアミン系酸化防止剤の求核性が問題になる場合には、ヒンダードフェノール系酸化防止剤を用いればよい。   As the primary antioxidant, a primary antioxidant having an ability to donate hydrogen radicals to peroxy radicals is effective. In the present invention, the “primary antioxidant having the ability to donate hydrogen radicals to peroxy radicals” is a compound having at least one hydrogen atom in the molecule that is rapidly extracted by peroxy radicals. Or the aromatic compound substituted by the secondary amino group is mentioned as a preferable thing. More preferred are phenol derivatives having an alkyl group at the ortho position, or diarylamine derivatives. When the nucleophilicity of an amine-based antioxidant such as polyarylate is a problem, a hindered phenol-based antioxidant may be used.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、具体的には、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン(商品名:IRGANOX 1330)、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](商品名:IRGANOX 1010)、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート(商品名:Sumilizer GM)、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレート(商品名:Sumilizer GS)、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナムアミド)(商品名:IRGANOX 1098)、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](商品名:IRGANOX 259)、3,9−ビス[2−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]1,1−ジメチルエチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(商品名:SumilizerGA−80)、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート(商品名:IRGANOX 3114)、イソオクチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(商品名:IRGANOX 1135)、4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)(商品名:Sumilizer WX−R)、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェピン(商品名:Sumilizer GP)、及び、下記(I−1)〜(I−7)で表される化合物が挙げられる。   Specific examples of the hindered phenol antioxidant include 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene (trade name). : IRGANOX 1330), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (trade name: IRGANOX 1010), 2-t-butyl-6- (3- t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate (trade name: Sumilizer GM), 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-t-pentylphenyl acrylate (trade name: Sumilizer GS), N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide) (commercial product) Name IRGANOX 1098), 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (trade name: IRGANOX 259), 3,9-bis [2- [ 3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] 1,1-dimethylethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane (trade name: SumilizerGA -80), tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate (trade name: IRGANOX 3114), isooctyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy) Phenyl) propionate (trade name: IRGANOX 1135), 4,4′-thiobis (6-t-butyl-3-methylphenol) (trade name: Sumilizer WX-R), 6- [3- (3-t-butyl) -4-hydroxy-5 -Methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-t-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine (trade name: Sumilizer GP) and the following (I -1) to (I-7).


アミン系酸化防止剤としては、下記式(II−1)〜(II−3)で表されるものが挙げられる。   Examples of amine-based antioxidants include those represented by the following formulas (II-1) to (II-3).

二次酸化防止剤としては、パーオキサイドに対して還元作用を有する二次酸化防止剤が好ましい。本発明において「パーオキサイドに対して還元作用を有する二次酸化防止剤」とは、パーオキサイドを速やかに還元して水酸基に変換することのできる還元剤を意味する。パーオキサイドに対する還元能を有する二次酸化防止剤としては、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が好ましい。   As the secondary antioxidant, a secondary antioxidant having a reducing action on peroxide is preferable. In the present invention, the “secondary antioxidant having a reducing action on peroxide” means a reducing agent capable of rapidly reducing peroxide to convert it into a hydroxyl group. As the secondary antioxidant having a reducing ability for peroxide, a sulfur-based antioxidant and a phosphorus-based antioxidant are preferable.

硫黄系酸化防止剤としては、芳香環を有するものとして、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、4,6−ビス(ドデシルチオメチル)−o−クレゾール、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール(商品名:IRGANOX 1520)、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノール、2−メルカプトベンズイミダゾール(商品名:Sumilizer MB)、1,3,5−トリス−β−ステアリルチオプロピオニルオキシエチルイソシアヌレート、4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)(商品名:Sumilizer WX−R)」、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール(商品名:IRGANOX 1520)、及び、下記化学式(III−1)で表される化合物等が挙げられる。   As the sulfur-based antioxidant, those having an aromatic ring include thiodiethylene bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 4,6-bis (dodecylthiomethyl). -O-cresol, 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol (trade name: IRGANOX 1520), 2,6-di-tert-butyl-4- (4,6-bis (octylthio) -1 , 3,5-triazin-2-ylamino) phenol, 2-mercaptobenzimidazole (trade name: Sumilizer MB), 1,3,5-tris-β-stearylthiopropionyloxyethyl isocyanurate, 4,4′-thiobis (6-t-butyl-3-methylphenol) (trade name: Sumilizer WX-R) ", 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol (trade) Product name: IRGANOX 1520) and compounds represented by the following chemical formula (III-1).

また、下記化学式(1)で表される構造単位を有する化合物(IV)も、本発明に係る硫黄系酸化防止剤として好ましく使用できる。   Further, the compound (IV) having a structural unit represented by the following chemical formula (1) can also be preferably used as the sulfur-based antioxidant according to the present invention.

尚、化学式(1)中、nは1〜5の整数(好ましくは、n=2)を意味する。 In the chemical formula (1), n means an integer of 1 to 5 (preferably n = 2).

化合物(IV)の中でも、上記化学式(1)で表される構造単位を分子内に2個以上有する化合物が好ましい。より好ましくは、上記化学式(1)で表される構造単位を分子内に2〜4個有する化合物であり、特に好ましいのは、上記化学式(1)で表される構造単位を分子内に4個有する化合物である。   Among the compounds (IV), compounds having two or more structural units represented by the chemical formula (1) in the molecule are preferable. More preferably, it is a compound having 2 to 4 structural units represented by the chemical formula (1) in the molecule, and particularly preferred is a structure having 4 structural units represented by the chemical formula (1) in the molecule. It is a compound that has.

より具体的には、上記化合物(IV)の中でも、下記化学式(2)で表される構造単位を有する化合物(V)が好ましい。化合物(V)としてより好ましいのは、分子中に下記化学式(2)で示される構造単位を2〜4個有する化合物であり、さらに好ましくは、下記化学式(2)で示される構造単位を4個有する化合物である。   More specifically, among the compounds (IV), the compound (V) having a structural unit represented by the following chemical formula (2) is preferable. The compound (V) is more preferably a compound having 2 to 4 structural units represented by the following chemical formula (2) in the molecule, and more preferably 4 structural units represented by the following chemical formula (2). It is a compound that has.

ここで、nは1〜5の整数(好ましくはn=2)であり、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルケニル基よりなる群から選ばれる少なくとも1種の基であり、Rは置換基を有していてもよい。 Here, n is an integer of 1 to 5 (preferably n = 2), R 1 is at least one group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and an alkenyl group, and R 1 May have a substituent.

上記アルキル基としては、耐熱性の向上効果が高い点で、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数3〜20アルキル基であり、さらに好ましくは炭素数6〜18のアルキル基である。具体的には、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基(ラウリル基)、トリデシル基、ミリスチル基、オクタデシル基(ステアリル基)等のアルキル基が挙げられる。   The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms in terms of high heat resistance improvement effect. It is a group. Specific examples include alkyl groups such as propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, dodecyl (lauryl), tridecyl, myristyl, and octadecyl (stearyl).

アリール基としては、フェニル基、ヒドロキシフェニル基、トリル基、o−キシリル基などが挙げられる。これらの中でも、フェニル基、ヒドロキシフェニル基が好ましい。   Examples of the aryl group include a phenyl group, a hydroxyphenyl group, a tolyl group, and an o-xylyl group. Among these, a phenyl group and a hydroxyphenyl group are preferable.

アラルキル基としては、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、メチルフェネチル基、フェニルベンジル基、ナフチルメチル基などが挙げられ、アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基などが挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アリール基が好ましく、特に好ましいのはアルキル基である。   Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a methylbenzyl group, a phenethyl group, a methylphenethyl group, a phenylbenzyl group, and a naphthylmethyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a 1-butenyl group, Examples include 2-butenyl group. Among these, an alkyl group and an aryl group are preferable, and an alkyl group is particularly preferable.

上記Rが有する置換基としては、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基などが例示される。 Examples of the substituent that R 1 has include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and an alkenyl group.

上記化学式(2)で表される構造単位を4個有する化合物(V)としては、例えば、ペンタエリスリチルテトラキス(3−アルキルチオプロピオネート)が好ましく挙げられる。具体的には、ペンタエリスリチルテトラキス(3−メチルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−エチルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−プロピルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ブチルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ヘキシルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−オクチルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)(商品名:Sumilizer TP−D)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−トリデシルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ミリスチルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ステアリルチオプロピオネート)、ペンタエリスリチルテトラキス(3−フェニルチオプロピオネート)などが例示される。中でも、炭素数3〜20のアルキル基を有するものが好ましく、さらに好ましくはアルキル基の炭素数が6〜18、特に好ましくはアルキル基の炭素数が12〜18の化合物である。   Preferred examples of the compound (V) having four structural units represented by the chemical formula (2) include pentaerythrityl tetrakis (3-alkylthiopropionate). Specifically, pentaerythrityl tetrakis (3-methylthiopropionate), pentaerythrityl tetrakis (3-ethylthiopropionate), pentaerythrityl tetrakis (3-propylthiopropionate), pentaerythrityl tetrakis (3-butylthiopropionate), pentaerythrityltetrakis (3-hexylthiopropionate), pentaerythrityltetrakis (3-octylthiopropionate), pentaerythrityltetrakis (3-laurylthiopropionate) ) (Trade name: Sumilizer TP-D), pentaerythrityltetrakis (3-tridecylthiopropionate), pentaerythrityltetrakis (3-myristylthiopropionate), pentaerythrityltetrakis (3-stearylthiopropionate) One And pentaerythrityltetrakis (3-phenylthiopropionate). Among them, those having an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms are preferable, more preferably a compound having 6 to 18 carbon atoms in the alkyl group, and particularly preferably a compound having 12 to 18 carbon atoms in the alkyl group.

特に、炭素数12のアルキル基を有する、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)は工業的に入手し易く好ましい。   In particular, pentaerythrityltetrakis (3-laurylthiopropionate) having an alkyl group having 12 carbon atoms is preferred because it is easily available industrially.

また、化合物(IV)の中でも、下記化学式(3)で示される構造単位を有する化合物(VI)も、本発明に係る硫黄系酸化防止剤として好ましく用いられる。   Among the compounds (IV), the compound (VI) having a structural unit represented by the following chemical formula (3) is also preferably used as the sulfur-based antioxidant according to the present invention.

化学式(3)中、nは1〜5の整数(好ましくはn=2)である。
上記化学式(3)で示される構造単位を有する化合物(VI)の中でも、下記化学式(4)で示される化合物はより好ましい。
In chemical formula (3), n is an integer of 1 to 5 (preferably n = 2).
Among the compounds (VI) having the structural unit represented by the chemical formula (3), a compound represented by the following chemical formula (4) is more preferable.

nは1〜5の整数(好ましくはn=2)である。 n is an integer of 1 to 5 (preferably n = 2).

化学式(4)中、R2およびR3は、それぞれ独立して、アルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルケニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基であり、また、R2およびR3は置換基を有していてもよい。なお、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基としては、上記化合物(V)におけるR1の場合と同様のものが好ましく例示できる。尚、R2およびR3として好ましいのは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましいのは、アルキル基である。 In the chemical formula (4), R 2 and R 3 are each independently at least one group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and an alkenyl group, and R 2 and R 3 May have a substituent. In addition, as an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and an alkenyl group, the thing similar to the case of R < 1 > in the said compound (V) can be illustrated preferably. R 2 and R 3 are preferably an alkyl group or an aryl group, and particularly preferably an alkyl group.

上記R2およびR3が有する置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などが例示される。 Examples of the substituent of R 2 and R 3 include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, a hydroxyl group, an amino group, and a carboxyl group.

化学式(4)で表される化合物(VI)としては、例えば、ジアルキル−3,3’−チオジプロピオネートが好ましく挙げられる。具体的には、ジメチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジエチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジプロピル−3,3’−チオジプロピオネート、ジブチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジヘキシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジオクチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジドデシル−3,3’−チオジプロピオネート(ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート)(商品名:Sumilizer TPL−R、または、商品名:IRGANOX PS 800FL)、ジトリデシル−3,3’−チオジプロピオネート(商品名:Sumilizer TL、または、商品名:アデカスタブAO−503A)、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート(商品名:Sumilizer TPM)、ジヘキサデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジオクタデシル−3,3’−チオジプロピオネート(ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート)(商品名:IRGANOX PS 802FL、または、商品名:Sumilizer TPS)等が例示される。これらの中でも、炭素数3〜20のアルキル基を有するものが好ましく、より好ましくはアルキル基の炭素数が6〜18の化合物、さらに好ましくはアルキル基の炭素数が12〜18の化合物である。   Preferred examples of the compound (VI) represented by the chemical formula (4) include dialkyl-3,3′-thiodipropionate. Specifically, dimethyl-3,3′-thiodipropionate, diethyl-3,3′-thiodipropionate, dipropyl-3,3′-thiodipropionate, dibutyl-3,3′-thiodiprote Pionate, dihexyl-3,3′-thiodipropionate, dioctyl-3,3′-thiodipropionate, didodecyl-3,3′-thiodipropionate (dilauryl-3,3′-thiodipropionate ) (Trade name: Sumilizer TPL-R, or trade name: IRGANOX PS 800FL), ditridecyl-3,3′-thiodipropionate (trade name: Sumilizer TL or trade name: Adeka Stab AO-503A), dimyristyl -3,3'-thiodipropionate (trade name: Sumilizer TPM), dihexadecyl-3,3'-thiodipropionate, dioctadecyl-3,3'-thiodipropionate Examples include onate (distearyl-3,3'-thiodipropionate) (trade name: IRGANOX PS 802FL or trade name: Sumilizer TPS). Among these, those having an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms are preferable, compounds having 6 to 18 carbon atoms in the alkyl group are more preferable, and compounds having 12 to 18 carbon atoms in the alkyl group are more preferable.

特に、炭素数12〜18のアルキル基を有するジドデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジトリデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジオクタデシル−3,3’−チオジプロピオネートは工業的に入手が容易であるので好ましい。   Particularly, didodecyl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, ditridecyl-3,3′-thiodipropionate, dioctadecyl having an alkyl group having 12 to 18 carbon atoms. -3,3'-thiodipropionate is preferred because it is easily available industrially.

上記リン系酸化防止剤は、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジイルビスホスファイト、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド(商品名:SANKOHCA)、トリエチルホスファイト(商品名:JP302)、トリ−n−ブチルホスファイト(商品名:JP304)、トリフェニルホスファイト(商品名:アデカスタブTPP)、ジフェニルモノオクチルホスファイト(商品名:アデカスタブC)、トリ(p−クレジル)ホスファイト(商品名:Chelex−PC)、ジフェニルモノデシルホスファイト(商品名:アデカスタブ135A)、ジフェニルモノ(トリデシル)ホスファイト(商品名:JPM313)、トリス(2−エチルヘキシル)ホスファイト(商品名:JP308)、フェニルジデシルホスファイト(アデカスタブ517)、トリデシルホスファイト(商品名:アデカスタブ3010)、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト(商品名:JPP100)、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト(商品名:アデカスタブPEP−24G)、トリス(トリデシル)ホスファイト(商品名:JP333E)、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト(商品名:アデカスタブPEP−4C)、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト(商品名:アデカスタブPEP−36)、ビス[2,4−ジ(1−フェニルイソプロピル)フェニル]ペンタエリスリトールジホスファイト(商品名:アデカスタブPEP−45)、トリラウリルトリチオホスファイト(商品名:JPS312)、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト(商品名IRGAFOS 168)、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト(商品名:アデカスタブ1178)、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト(商品名:アデカスタブPEP−8)、トリス(モノ,ジノニルフェニル)ホスファイト(商品名:アデカスタブ329K)、トリオレイルホスファイト(商品名:Chelex−OL)、トリステアリルホスファイト(商品名:JP318E)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト(商品名:JPH1200)、テトラ(C12−C15混合アルキル)−4,4’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト(商品名:アデカスタブ1500)、テトラ(トリデシル)−4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)ジホスファイト(商品名:アデカスタブ260)、ヘキサ(トリデシル)−1,1,3−トリス(2−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン−トリホスファイト(商品名:アデカスタブ522A)、水添ビスフェノールAホスファイトポリマー(HBP)、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニルオキシ)−4,4’−ビフェニレン−ジ−ホスフィン(商品名:IRGAFOS P−EPQ)、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニルオキシ)−4,4’−ビフェニレン−ジ−ホスフィン(商品名:GSY−101P)、2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェピン−6−イル]オキシ]−N,N−ビス[2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェピン−6−イル]オキシ]−エチル]エタナミン(商品名:IRGAFOS 12)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト(商品名:アデカスタブHP−10)、トリス[2−[[2,4,8,10−テトラ−tert−ブチルジベンゾ[d、f][1,3,2]ジオキサフォスフェフィン−6−イル]オキシ]エチル]アミン、ビス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル亜リン酸、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジイルビスホスフォナイト、及び、下記(VII−1)〜(VII−12)で表される化合物が挙げられる。   The phosphorus-based antioxidant is bis (2,4-di-t-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4′-diylbisphosphite, 9,10-dihydro-9-oxa-10. -Phosphaphenanthrene-10-oxide (trade name: SANKOHCA), triethyl phosphite (trade name: JP302), tri-n-butyl phosphite (trade name: JP304), triphenyl phosphite (trade name: ADK STAB TPP) , Diphenyl monooctyl phosphite (trade name: Adeka Stub C), tri (p-cresyl) phosphite (trade name: Chelex-PC), diphenyl monodecyl phosphite (trade name: Adeka Stub 135A), diphenyl mono (tridecyl) phos Phyto (trade name: JPM313), Tris (2-ethylhexyl) phosphite (trade name: JP308), Phenyldidecylphosphine Ito (Adekastab 517), tridecyl phosphite (trade name: Adekastab 3010), tetraphenyldipropylene glycol diphosphite (trade name: JPP100), bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphos Phyto (trade name: ADK STAB PEP-24G), Tris (tridecyl) phosphite (trade name: JP333E), bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite (trade name: ADK STAB PEP-4C), bis (2,6- Di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite (trade name: ADK STAB PEP-36), bis [2,4-di (1-phenylisopropyl) phenyl] pentaerythritol diphosphite (trade name: ADK STAB PEP-45), trilauryl trithiophosphite (trade name: JPS312) , Tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite (trade name: IRGAFOS 168), tris (nonylphenyl) phosphite (trade name: ADK STAB 1178), distearyl pentaerythritol diphosphite (trade name: ADK STAB) PEP-8), tris (mono, dinonylphenyl) phosphite (trade name: ADK STAB 329K), trioleyl phosphite (trade name: Chelex-OL), tristearyl phosphite (trade name: JP318E), 4, 4 '-Butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenylditridecyl) phosphite (trade name: JPH1200), tetra (C12-C15 mixed alkyl) -4,4'-isopropylidene diphenyl diphosphite (trade name: Adekastab 1500), tetra (tridecyl) -4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butyl) Enol) diphosphite (trade name: ADK STAB 260), hexa (tridecyl) -1,1,3-tris (2-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) butane-triphosphite (trade name: ADK STAB 522A) Hydrogenated bisphenol A phosphite polymer (HBP), tetrakis (2,4-di-t-butylphenyloxy) -4,4'-biphenylene-di-phosphine (trade name: IRGAFOS P-EPQ), tetrakis (2 , 4-Di-t-butyl-5-methylphenyloxy) -4,4′-biphenylene-di-phosphine (trade name: GSY-101P), 2-[[2,4,8,10-tetrakis (1 , 1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphin-6-yl] oxy] -N, N-bis [2-[[2,4,8,10- Trakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphepin-6-yl] oxy] -ethyl] ethanamine (trade name: IRGAFOS 12), 2,2 ′ -Methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite (trade name: ADK STAB HP-10), tris [2-[[2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine-6-yl] oxy] ethyl] amine, bis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethyl ester phosphorous Acid, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4′-diylbisphosphonite, and the following (VII-1) to (VII-12) Compounds The

上記二次酸化防止剤の中でもリン系酸化防止剤が好ましい。硫黄系酸化防止剤を用いた場合には、重合体微粒子中に硫黄成分が取り込まれるため、硫黄特有の臭気が敬遠される場合があるからである。   Among the secondary antioxidants, phosphorus-based antioxidants are preferable. This is because, when a sulfur-based antioxidant is used, a sulfur component is taken into the polymer fine particles, so that a sulfur-specific odor may be avoided.

上記酸化防止剤はそれぞれ単独で用いてもよいが、複数種を組み合わせて用いてもよい。また、一次酸化防止剤と二次酸化防止剤とを組み合わせてもよく、もちろん、一次酸化防止剤のみを組み合わせて用いても、また、二次酸化防止剤のみを組み合わせて用いてもよい。   The above antioxidants may be used alone or in combination of two or more. Further, the primary antioxidant and the secondary antioxidant may be combined, and of course, only the primary antioxidant may be used in combination, or only the secondary antioxidant may be used in combination.

酸化防止剤の分子量(Mw)は2000以下であるのが好ましく、より好ましくは1500以下、さらに好ましくは1300以下である。酸化防止剤の分子量が2000を超えると、重合体微粒子の原料である重合性単量体への酸化防止剤の溶解度が低下して、酸化防止剤が重合体微粒子中に取り込まれ難くなる虞がある。また、後述するシード重合法やゾルゲルシード重合法により本発明の重合体微粒子を製造する場合には、酸化防止剤がシード粒子中に吸収され難くなり、その結果、重合体微粒子中への酸化防止剤の導入が不十分となる虞があるからである。   The molecular weight (Mw) of the antioxidant is preferably 2000 or less, more preferably 1500 or less, and still more preferably 1300 or less. When the molecular weight of the antioxidant exceeds 2000, the solubility of the antioxidant in the polymerizable monomer that is the raw material of the polymer fine particles is lowered, and the antioxidant may not be easily taken into the polymer fine particles. is there. In addition, when the polymer fine particles of the present invention are produced by the seed polymerization method or the sol-gel seed polymerization method described later, the antioxidant is hardly absorbed into the seed particles, and as a result, the oxidation into the polymer fine particles is prevented. This is because the introduction of the agent may be insufficient.

上記酸化防止剤は、本発明の重合体微粒子中に0.05質量%〜5質量%含まれているのが好ましい。より好ましくは0.1質量%〜4質量%であり、さらに好ましくは0.5質量%〜3質量%である。酸化防止剤が少なすぎると、耐熱性や、加熱後の機械的強度が確保され難い場合がある。一方、多すぎる場合には、特に、シード重合法、ゾルゲルシード重合法を採用する場合に、酸化防止剤がシード粒子中に吸収され難くなり、その結果、重合反応段階で粒子間に凝集が発生し易くなることがある。その原因は定かではないが、反応系内では、粒子中に吸収されていない酸化防止剤が、重合体媒体(水系媒体)中に一部溶解、若しくは、分散した状態となっており、重合反応段階で粒子間の安定化に寄与している界面活性剤や分散剤などが、酸化防止剤の溶解や分散に使用されてしまい、粒子の分散、安定化が不十分になるためと推測される。なお、酸化防止剤の中には、重合体微粒子合成時にラジカル捕捉剤として消費されてしまうものも存在するが、本発明の重合体微粒子中には、重合体微粒子製造時に用いたのと同程度の量の酸化防止剤が含まれているのが好ましい。   The antioxidant is preferably contained in 0.05% by mass to 5% by mass in the polymer fine particles of the present invention. More preferably, it is 0.1 mass%-4 mass%, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. When there are too few antioxidants, it may be difficult to ensure heat resistance and the mechanical strength after a heating. On the other hand, when the amount is too large, particularly when the seed polymerization method or the sol-gel seed polymerization method is employed, the antioxidant becomes difficult to be absorbed in the seed particles, and as a result, aggregation occurs between the particles in the polymerization reaction stage. May be easier to do. The cause is not clear, but in the reaction system, the antioxidant that is not absorbed in the particles is partly dissolved or dispersed in the polymer medium (aqueous medium). It is assumed that surfactants and dispersants that contribute to stabilization between particles at the stage are used for dissolution and dispersion of antioxidants, resulting in insufficient dispersion and stabilization of particles. . Although some antioxidants are consumed as radical scavengers during the synthesis of polymer fine particles, the polymer fine particles of the present invention are of the same level as those used in the production of polymer fine particles. The amount of antioxidant is preferably included.

また、本発明の重合体微粒子は、スチレン系単量体に由来する成分を重合体微粒子構成成分中0.5質量%以上含むものであるのが好ましい。これにより、耐熱性の向上効果、加熱処理後の重合体微粒子の圧縮破壊強度の低下抑制効果が期待されるからである。より好ましくは1質量%以上である。なお、重合体微粒子中のスチレン系単量体に由来する成分の量はGC−MS等でも確認できるが、本発明においては、実質的に使用した単量体成分の全てが重合体微粒子中に取り込まれるとみなせるため、重合体微粒子の合成に用いた全単量体に対するスチレン系単量体の仕込比率(使用質量%)をスチレン系単量体に由来する成分の量として採用する。   Moreover, it is preferable that the polymer fine particle of the present invention contains a component derived from a styrene monomer in an amount of 0.5% by mass or more in the constituent component of the polymer fine particle. This is because an effect of improving the heat resistance and an effect of suppressing the decrease in the compression fracture strength of the polymer fine particles after the heat treatment are expected. More preferably, it is 1 mass% or more. The amount of the component derived from the styrenic monomer in the polymer fine particle can be confirmed by GC-MS or the like, but in the present invention, substantially all of the monomer component used is contained in the polymer fine particle. Since it can be considered that it is taken in, the charging ratio (use mass%) of the styrene monomer to the total monomers used in the synthesis of the polymer fine particles is adopted as the amount of the component derived from the styrene monomer.

本発明の重合体微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば球状、回転楕円体状、金平糖状、薄板状、針状、まゆ状のいずれでも良く、粒子表面の形状も平滑状、襞状、多孔状のいずれでも良い。中でも、導電性微粒子として使用するに際し、粒子が電極間で変形したときに良好な面接触状態を形成する点で球状が好ましい。   The shape of the polymer fine particles of the present invention is not particularly limited, and may be any of, for example, a spherical shape, a spheroid shape, a confetti shape, a thin plate shape, a needle shape, and an eyebrows shape, and the particle surface shape is also smooth, wrinkled The shape may be either porous or porous. Among these, when used as conductive fine particles, a spherical shape is preferable in that a good surface contact state is formed when the particles are deformed between the electrodes.

重合体微粒子の大きさは、個数平均粒子径で0.5μm〜100μmであるのが好ましい。100μmを越える重合体微粒子は導電性微粒子に加工した際の用途が限られ、工業上の利用分野が少ないためである。個数平均粒子径は1.0μm〜30μmであるのがより好ましく、さらに好ましくは2.0μm〜10μmである。重合体微粒子の個数平均粒子径が小さすぎる場合には、無電解めっきなどの導電性金属層を被覆する際に粒子が凝集し易く、均一な導電性金属層を形成し難い場合がある。なお、個数平均粒子径は、従来公知の粒度分布測定法において、個数平均粒子径として求められる値を意味し、具体的には、コールター原理を使用した精密粒度分布測定装置(例えば、商品名「コールターマルチサイザーIII型」、ベックマン・コールター株式会社製)により測定される値とする。   The size of the polymer fine particles is preferably 0.5 μm to 100 μm in number average particle diameter. This is because polymer fine particles exceeding 100 μm have limited applications when processed into conductive fine particles, and there are few industrial applications. The number average particle diameter is more preferably 1.0 μm to 30 μm, still more preferably 2.0 μm to 10 μm. When the number average particle diameter of the polymer fine particles is too small, the particles are likely to aggregate when coating the conductive metal layer such as electroless plating, and it may be difficult to form a uniform conductive metal layer. The number average particle diameter means a value obtained as the number average particle diameter in a conventionally known particle size distribution measuring method, and specifically, a precision particle size distribution measuring apparatus using the Coulter principle (for example, trade name “ It is a value measured by “Coulter Multisizer Type III” manufactured by Beckman Coulter, Inc.).

また本発明の重合体微粒子の粒子径の変動係数(CV値)は、20%以下が好ましく、10%以下がより好ましく、7%以下がさらに好ましい。CV値が小さいほど、粒度分布が小さいからである。なお、CV値は、コールター原理を使用した精密粒度分布測定装置により測定される重合体微粒子の個数平均粒子径と、重合体微粒子の粒子径の標準偏差とを下記式に当てはめて求められる値である。
重合体微粒子の粒子径の変動係数(%)=100×粒子径の標準偏差/個数平均粒子径
Further, the coefficient of variation (CV value) of the polymer fine particles of the present invention is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 7% or less. This is because the smaller the CV value, the smaller the particle size distribution. The CV value is a value obtained by applying the following formula to the number average particle diameter of polymer fine particles measured by a precision particle size distribution measuring apparatus using the Coulter principle and the standard deviation of the particle diameter of the polymer fine particles. is there.
Variation coefficient (%) of particle diameter of polymer fine particles = 100 × standard deviation of particle diameter / number average particle diameter

本発明の重合体微粒子の機械的特性は、例えば、圧縮弾性率、圧縮変形回復率及び上述の圧縮破壊強度等で評価できる。本発明における圧縮弾性率は、粒子に負荷を加え10%変形したときの弾性率(N/mm2:MPa)であり、回復率は圧縮後の回復率(%)である。重合体微粒子および導電性微粒子のいずれにおいても、圧縮弾性率は、1000N/mm2以上が好ましく、2000N/mm2以上がより好ましく、3000N/mm2以上がさらに好ましく、30000N/mm2以下であるのが好ましく、より好ましくは25000N/mm2以下であり、さらに好ましくは20000N/mm2以下である。また、圧縮変形回復率は、0.5%以上が好ましく、1.0%以上がより好ましく、2.0%以上がさらに好ましく、95%以下であるのが好ましく、より好ましくは90%以下であり、さらに好ましくは85%以下である。 The mechanical properties of the polymer fine particles of the present invention can be evaluated by, for example, the compression elastic modulus, the compression deformation recovery rate, the above-described compression fracture strength, and the like. The compression elastic modulus in the present invention is an elastic modulus (N / mm 2 : MPa) when a particle is loaded and deformed by 10%, and the recovery rate is a recovery rate (%) after compression. In any of the polymer particles and conductive fine particles also, the compression modulus is preferably 1000 N / mm 2 or more, more preferably 2000N / mm 2 or more, more preferably 3000N / mm 2 or more, it is 30000 N / mm 2 or less Is more preferably 25000 N / mm 2 or less, and still more preferably 20000 N / mm 2 or less. The compression deformation recovery rate is preferably 0.5% or more, more preferably 1.0% or more, further preferably 2.0% or more, preferably 95% or less, more preferably 90% or less. Yes, more preferably 85% or less.

[重合体微粒子]
本発明の重合体微粒子は、ビニル系重合体のみからなる有機質重合体微粒子や、有機質と無機質とが複合された材料からなる有機無機複合粒子のいずれであってもよい。なお、本発明で使用する「ビニル」との文言には、(メタ)アクリロイルも含まれる。重合体微粒子としては、具体的には、(メタ)アクリル系(共)重合体、(メタ)アクリル系−スチレン系共重合体等のビニル系重合体のみからなる粒子や、重合性(ビニル基含有の意味;以下同じ)アルコキシシランのラジカル重合体および/または縮重合体、重合性アルコキシシランとビニル系モノマーとの共重合体等の有機無機複合粒子が挙げられる。以下の説明で「ビニル重合体」というときは、ビニル系モノマーが重合した有機質のみの重合体を意味する。また、本発明でいう「ビニル系重合体」は、「ビニル重合体」からなる成分や骨格を含むことを意味する。なお、微粒子の組成は、GC−MS等で確認することができる。
[Polymer fine particles]
The polymer fine particles of the present invention may be either organic polymer fine particles made of only a vinyl polymer or organic-inorganic composite particles made of a material in which organic and inorganic materials are combined. The term “vinyl” used in the present invention includes (meth) acryloyl. Specific examples of the polymer fine particles include particles composed only of vinyl polymers such as (meth) acrylic (co) polymers, (meth) acrylic-styrene copolymers, and polymerizable (vinyl group). Meaning of inclusion; the same applies hereinafter) Examples include organic-inorganic composite particles such as alkoxysilane radical polymers and / or condensation polymers, and copolymers of polymerizable alkoxysilanes and vinyl monomers. In the following description, the term “vinyl polymer” means an organic-only polymer obtained by polymerizing vinyl monomers. In addition, the “vinyl polymer” as used in the present invention means that it contains a component or skeleton composed of “vinyl polymer”. The composition of the fine particles can be confirmed by GC-MS or the like.

本発明の重合体微粒子の製造方法の詳細は後述するが、乳化重合、懸濁重合、分散重合、シード重合、ゾルゲルシード重合法等が採用できるが、シード重合やゾルゲルシード重合法は粒度分布を小さくすることができるため好ましい。また、酸化防止剤による粒子強度の低下抑制効果が得られ易い点でもシード重合やゾルゲルシード重合法は好ましい。なお、上記ゾルゲルシード重合法とは、シード重合の一態様であって、特に、シード粒子がゾルゲル法により合成される場合を意味する。例えば、アルコキシシランの加水分解縮合反応により得られたポリシロキサンをシード粒子とする場合などが挙げられる。したがって、シード重合には、シード粒子が、有機質重合体からなる場合と、有機質と無機質とが複合された材料からなる場合(ゾルゲルシード重合法の場合)とが存在する。   Although details of the method for producing the polymer fine particles of the present invention will be described later, emulsion polymerization, suspension polymerization, dispersion polymerization, seed polymerization, sol-gel seed polymerization method, etc. can be adopted, but seed polymerization or sol-gel seed polymerization method has a particle size distribution. Since it can be made small, it is preferable. Also, seed polymerization or sol-gel seed polymerization is preferable because the effect of suppressing the decrease in particle strength by the antioxidant is easily obtained. The sol-gel seed polymerization method is an embodiment of seed polymerization, and particularly means that seed particles are synthesized by the sol-gel method. For example, the case where polysiloxane obtained by the hydrolytic condensation reaction of alkoxysilane is used as seed particles can be mentioned. Therefore, the seed polymerization includes a case where the seed particles are made of an organic polymer and a case where the seed particles are made of a material in which an organic material and an inorganic material are combined (in the case of a sol-gel seed polymerization method).

[有機質重合体微粒子]
有機質重合体微粒子は、ビニル系単量体を含有する単量体混合物を含む単量体組成物を重合して得られる。単量体混合物に含有させるビニル系単量体としては、1分子中に1個のビニル基を有する非架橋性単量体、1分子中に2個以上のビニル基を有する架橋性単量体のいずれも使用することができる。
[Organic polymer fine particles]
The organic polymer fine particles are obtained by polymerizing a monomer composition containing a monomer mixture containing a vinyl monomer. The vinyl monomer contained in the monomer mixture is a non-crosslinkable monomer having one vinyl group in one molecule, and a crosslinkable monomer having two or more vinyl groups in one molecule. Any of these can be used.

前記非架橋性単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、シクロへキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類等の(メタ)アクリル系単量体;スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−tert−ブチルスチレン、p−フェニルスチレン、o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、パラヒドロキシスチレン等のスチレン系単量体;2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテル類;2−ヒドロキシエチルアリルエーテル、4−ヒドロキシブチルアリルエーテル等の水酸基含有アリルエーテル類等が挙げられる。尚、前記非架橋性単量体として(メタ)アクリル酸を用いる場合は、部分的にアルカリ金属で中和してもよい。上述の非架橋性単量体は単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。これらの非架橋性単量体の中でも、スチレンは耐熱性の向上効果、加熱処理後の重合体微粒子の圧縮破壊強度の低下抑制効果が高い点で好ましい。   Examples of the non-crosslinkable monomer include (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, Pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, cyclohex (Meth) acrylates such as xyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2 (Meth) acrylic monomers such as hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxybutyl (meth) acrylate; styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, p- Styrenic monomers such as methoxystyrene, p-tert-butylstyrene, p-phenylstyrene, o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, parahydroxystyrene; 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxy Examples include hydroxyl group-containing vinyl ethers such as butyl vinyl ether; hydroxyl group-containing allyl ethers such as 2-hydroxyethyl allyl ether and 4-hydroxybutyl allyl ether. In addition, when (meth) acrylic acid is used as the non-crosslinkable monomer, it may be partially neutralized with an alkali metal. The above-mentioned non-crosslinkable monomers may be used alone or in combination of two or more. Among these non-crosslinkable monomers, styrene is preferable in that it has a high heat resistance improving effect and a high suppression effect on the compression fracture strength of the polymer fine particles after the heat treatment.

架橋性単量体としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、デカエチレングリコールジメタクリレート、ペンタデカエチレングリコールジメタクリレート、ペンタコンタヘクタエチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレンジメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能(メタ)アクリレート;1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどのポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、および、これらの誘導体等の芳香族ジビニル化合物;N,N−ジビニルアニリン、ジビニルエーテル、ジビニルサルファイド、ジビニルスルホン酸等の架橋剤;ポリブタジエン、ポリイソプレン不飽和ポリエステル等が挙げられる。これらの架橋性単量体は単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの架橋性単量体の中でも、スチレン系単量体であるジビニルベンゼンは耐熱性の向上効果、加熱処理後の重合体微粒子の圧縮破壊強度の低下抑制効果が高い点で好ましい。なお、スチレン系単量体は、単量体混合物中0.5質量%以上であるのが好ましく、より好ましくは1質量%以上であり、好ましくは95質量%以下であり、より好ましくは90質量%以下である。   Examples of the crosslinkable monomer include trimethylolpropane triacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, decaethylene glycol dimethacrylate, pentadecaethylene glycol dimethacrylate, pentacontact ethylene glycol dimethacrylate. Multifunctional (meth) acrylates such as methacrylate, 1,3-butylene dimethacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate; 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol Di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) a Polyalkylene glycol di (meth) acrylates such as relate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate; aromatic divinyl compounds such as divinylbenzene, divinylnaphthalene and derivatives thereof; N, Cross-linking agents such as N-divinylaniline, divinyl ether, divinyl sulfide, divinyl sulfonic acid; polybutadiene, polyisoprene unsaturated polyester, and the like. These crosslinkable monomers may be used alone or in combination of two or more. Among these crosslinkable monomers, divinylbenzene, which is a styrene monomer, is preferable in that it has a high heat resistance improvement effect and a high suppression effect on the compression fracture strength of the polymer fine particles after the heat treatment. The styrene monomer is preferably 0.5% by mass or more in the monomer mixture, more preferably 1% by mass or more, preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass. % Or less.

前記単量体混合物中の架橋性単量体の含有率は1質量%以上とすることが好ましく、より好ましくは5質量%以上、さらに好ましくは10質量%以上である。前記単量体混合物中の架橋性単量体の含有率を1質量%以上とすることにより、ビニル重合体微粒子の耐溶剤性や耐熱性が高まり、機械的特性を適正に制御することができる。   The content of the crosslinkable monomer in the monomer mixture is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and further preferably 10% by mass or more. By setting the content of the crosslinkable monomer in the monomer mixture to 1% by mass or more, the solvent resistance and heat resistance of the vinyl polymer fine particles are increased, and the mechanical properties can be appropriately controlled. .

上記単量体組成物の重合は、上述の一次酸化防止剤及び二次酸化防止剤から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤の存在下で行うのが好ましい。これにより、重合体微粒子中に酸化防止剤を存在させられるからである。したがって、酸化防止剤は、単量体成分や重合溶媒に溶解するものであるのが好ましい。酸化防止剤の配合量は、単量体成分総量(シード重合においては、シード粒子の合成に用いる単量体成分も含む)を100質量%とした場合に0.05質量%〜5質量%であるのが好ましく、より好ましくは0.1質量%〜4質量%であり、さらに好ましくは0.5質量%〜3質量%である。   The polymerization of the monomer composition is preferably performed in the presence of at least one antioxidant selected from the primary antioxidants and secondary antioxidants described above. This is because the antioxidant can be present in the polymer fine particles. Therefore, the antioxidant is preferably one that dissolves in the monomer component or the polymerization solvent. The blending amount of the antioxidant is 0.05% by mass to 5% by mass when the total amount of the monomer components (including the monomer component used for seed particle synthesis in seed polymerization) is 100% by mass. It is preferable that it is 0.1 mass% to 4 mass%, more preferably 0.5 mass% to 3 mass%.

また単量体組成物を重合する際には、必要に応じて、重合開始剤や分散安定剤を用いてもよい。重合開始剤としては、通常、重合に用いられるものはいずれも使用可能であり、例えば、過酸化物系開始剤や、アゾ系開始剤等が使用可能である。前記過酸化物系開始剤としては、過酸化水素、過酢酸、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化オクタノイル、オルソクロロ過酸化ベンゾイル、オルソメトキシ過酸化ベンゾイル、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、キュメンハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。   Moreover, when polymerizing a monomer composition, you may use a polymerization initiator and a dispersion stabilizer as needed. As the polymerization initiator, any of those usually used for polymerization can be used. For example, a peroxide initiator, an azo initiator, or the like can be used. Examples of the peroxide initiator include hydrogen peroxide, peracetic acid, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, octanoyl peroxide, orthochlorobenzoyl peroxide, orthomethoxybenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide. Oxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butyl peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, methyl ethyl ketone peroxide, diisopropyl Examples include peroxydicarbonate, cumene hydroperoxide, cyclohexanone peroxide, t-butyl hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, and the like.

アゾ系開始剤としては、ジメチル−2,2−アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサカルボニトリル、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,3−ジメチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,3,3−トリメチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−イソプロピルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)・二塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリン酸)、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート等が挙げられる。   Examples of the azo initiator include dimethyl-2,2-azobisisobutyronitrile, azobiscyclohexacarbonitrile, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4- Dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2,3-dimethylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2,3,3- Trimethylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2-isopropylbutyronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4) -Dimethylvaleronitrile), 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile, 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 4,4'-azobis (4-cyano) Pentane acid), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl-2,2'-azobis isobutyrate, and the like.

これらの重合開始剤は、単独でも、2種以上を併用してもよい。なお、これらの重合開始剤の添加量は、単量体混合物100質量部に対して0.1質量部以上とすることが好ましく、より好ましくは0.5質量部以上であり、5質量部以下とすることが好ましく、より好ましくは3質量部以下である。   These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The addition amount of these polymerization initiators is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 0.5 parts by mass or more, and 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the monomer mixture. And more preferably 3 parts by mass or less.

分散安定剤は、重合反応前における単量体組成物の液滴の安定化、また、重合反応段階においては、生成した粒子の安定化を図るために使用されるものである。分散安定剤としては、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤のいずれを用いても良い。分散安定剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、オレイン酸ナトリウム、ヒマシ油カリ等の脂肪酸油;ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム等のアルキル硫酸エステル塩;ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸エステルナトリウム塩等のポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩;アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルカンスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩等のアニオン性界面活性剤が好適である。   The dispersion stabilizer is used to stabilize the droplets of the monomer composition before the polymerization reaction and to stabilize the generated particles in the polymerization reaction stage. As the dispersion stabilizer, any of an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, and an amphoteric surfactant may be used. A dispersion stabilizer may be used independently and may use 2 or more types together. Among these, fatty acid oils such as sodium oleate and castor oil potassium; alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate; polyoxyethylene distyryl phenyl ether sulfate ammonium salt, polyoxyethylene distyryl phenyl ether sulfate Polyoxyethylene distyryl phenyl ether sulfate such as sodium salt; alkylbenzene sulfonate such as sodium dodecylbenzene sulfonate; alkyl naphthalene sulfonate, alkane sulfonate, dialkyl sulfosuccinate, alkyl phosphate ester, naphthalene Anion such as sulfonic acid formalin condensate, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, polyoxyethylene alkyl sulfate Emissions surfactants are preferred.

分散安定剤の使用量は、単量体成分総量(シード重合においては、シード粒子の合成に用いた単量体成分も含む)100質量部に対して0.1質量部以上とすることが好ましく、より好ましくは0.5質量部以上、さらに好ましくは1質量部以上であり、10質量部以下とすることが好ましく、より好ましくは5質量部以下、さらに好ましくは3質量部以下である。   The amount of the dispersion stabilizer used is preferably 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total amount of monomer components (including the monomer component used for seed particle synthesis in seed polymerization). More preferably, it is 0.5 parts by mass or more, more preferably 1 part by mass or more, and preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, still more preferably 3 parts by mass or less.

また、単量体組成物には、顔料、可塑剤、重合安定剤、蛍光増白剤、磁性粉、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤等を添加しても良い。これらの添加剤の使用量は、単量体混合物100質量部に対して0.01質量部以上とすることが好ましく、10質量部以下とすることが好ましい。   In addition, pigments, plasticizers, polymerization stabilizers, fluorescent brighteners, magnetic powders, ultraviolet absorbers, antistatic agents, flame retardants, and the like may be added to the monomer composition. The amount of these additives used is preferably 0.01 parts by mass or more and preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the monomer mixture.

[有機質重合体微粒子の製造方法]
有機質重合体微粒子の製造方法は、前記したような単量体混合物を含む単量体組成物を重合させるものである。なお、重合方法としては、懸濁重合、シード重合、乳化重合、分散重合等の公知の重合方法を採用することができ、これらの中でも懸濁重合、シード重合が好ましく、特にシード重合は、粒度分布の狭い重合体微粒子が合成でき、且つ、酸化防止剤による粒子強度の低下を効果的に抑制できるため好ましい。なお、粒子強度の低下が効果的に抑制されている理由は定かではないが、おそらく、前記酸化防止剤を溶解させた単量体組成物がシード粒子に吸収されることにより、重合体微粒子中で酸化防止剤が偏析することなく均一に存在するためではないかと推測される。
[Method for producing organic polymer fine particles]
The method for producing organic polymer fine particles is to polymerize a monomer composition containing the monomer mixture as described above. As the polymerization method, known polymerization methods such as suspension polymerization, seed polymerization, emulsion polymerization, and dispersion polymerization can be employed, and among these, suspension polymerization and seed polymerization are preferable. Polymer fine particles having a narrow distribution can be synthesized, and a decrease in particle strength due to an antioxidant can be effectively suppressed, which is preferable. The reason why the decrease in the particle strength is effectively suppressed is not clear, but probably the monomer composition in which the antioxidant is dissolved is absorbed by the seed particles, thereby It is presumed that the antioxidant is present uniformly without segregation.

懸濁重合法を採用する場合、用いられる溶媒としては、単量体組成物を完全に溶解しないものであれば特に限定されないが、好ましくは水系媒体が用いられる。これらの溶媒は、単量体組成物100質量部に対して、通常300質量部以上10000質量部以下の範囲内で適宜使用することができる。懸濁重合法による有機質重合体微粒子の製造方法としては、重合開始剤、並びに、酸化防止剤を溶解させた単量体混合物を上記分散安定剤を溶解させた水系溶媒中に懸濁させた後、重合させる方法が好適である。   When the suspension polymerization method is employed, the solvent used is not particularly limited as long as it does not completely dissolve the monomer composition, but an aqueous medium is preferably used. These solvents can be suitably used within a range of usually 300 parts by mass or more and 10000 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the monomer composition. As a method for producing organic polymer fine particles by suspension polymerization, a monomer mixture in which a polymerization initiator and an antioxidant are dissolved is suspended in an aqueous solvent in which the dispersion stabilizer is dissolved. A method of polymerizing is preferable.

懸濁重合の重合温度は50℃以上とすることが好ましく、より好ましくは55℃以上、さらに好ましくは60℃以上であり、95℃以下とすることが好ましく、より好ましくは90℃以下、さらに好ましくは85℃以下である。また、重合反応時間は1時間以上とすることが好ましく、より好ましくは2時間以上であり、10時間以下とすることが好ましく、より好ましくは8時間以下、さらに好ましくは5時間以下である。また、生成するビニル重合体の粒子径をコントロールするため、重合反応は単量体組成物の液滴径の規制を行った後あるいは液滴径の規制を行いながら反応を行うことが好ましい。この単量体組成物の液滴径の規制は、例えば、単量体組成物を水性媒体に分散させた懸濁液を、T.K.ホモミキサー、ラインミキサー等の高速撹拌機によって撹拌することにより行うことができる。そして、重合反応により生成した有機質重合体微粒子は、乾燥、さらに必要により分級等の工程に供してもよい。なお、乾燥は150℃以下で行うのが好ましく、より好ましくは120℃以下、さらに好ましくは100℃以下である。   The polymerization temperature of the suspension polymerization is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 55 ° C. or higher, further preferably 60 ° C. or higher, preferably 95 ° C. or lower, more preferably 90 ° C. or lower, still more preferably. Is 85 ° C. or lower. The polymerization reaction time is preferably 1 hour or longer, more preferably 2 hours or longer, preferably 10 hours or shorter, more preferably 8 hours or shorter, still more preferably 5 hours or shorter. In order to control the particle diameter of the vinyl polymer to be produced, the polymerization reaction is preferably performed after regulating the droplet diameter of the monomer composition or while regulating the droplet diameter. The regulation of the droplet diameter of the monomer composition is, for example, that a suspension in which the monomer composition is dispersed in an aqueous medium is changed to T.P. K. It can be carried out by stirring with a high-speed stirrer such as a homomixer or a line mixer. And the organic polymer fine particles produced | generated by the polymerization reaction may be used for processes, such as drying and a classification as needed. In addition, it is preferable to perform drying at 150 degrees C or less, More preferably, it is 120 degrees C or less, More preferably, it is 100 degrees C or less.

シード重合は、シード粒子の存在下、シード粒子に単量体混合物を吸収させ、シード粒子を膨張させて、シード粒子内で単量体混合物のラジカル重合を行う方法である。本発明においては、酸化防止剤の存在下でシード粒子を合成する工程、あるいは、ビニル系単量体と酸化防止剤とを溶解、分散させた単量体組成物をシード粒子に吸収させる工程を含むことが好ましい。なお、酸化防止剤による重合体微粒子の強度低下抑制作用を効果的に得るためには、ビニル系単量体に上記酸化防止剤を溶解、分散させた単量体組成物をシード粒子に吸収させる工程を採用することが推奨される。   The seed polymerization is a method in which the monomer mixture is absorbed in the seed particles in the presence of the seed particles, the seed particles are expanded, and radical polymerization of the monomer mixture is performed in the seed particles. In the present invention, a step of synthesizing seed particles in the presence of an antioxidant, or a step of allowing the seed particles to absorb a monomer composition in which a vinyl monomer and an antioxidant are dissolved and dispersed. It is preferable to include. In order to effectively obtain the effect of suppressing the strength reduction of the polymer fine particles by the antioxidant, the seed particles absorb the monomer composition in which the above antioxidant is dissolved and dispersed in the vinyl monomer. It is recommended to adopt the process.

シード重合法を採用する場合は、シード粒子としては、スチレン系、(メタ)アクリレート系の重合体を用いることが好ましく、非架橋型または架橋度の小さい微粒子であることがより好ましい。またシード粒子の個数平均粒子径は0.1μm〜10μmが好ましく、且つ、重合体微粒子の粒子径の変動係数が10%以下であることが好ましい。また、シード粒子を合成する際には、後述の好ましい分子量、分子量分布にするため、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、炭素数が1〜10のアルキルメルカプタン系連鎖移動剤や、α−メチルスチレンダイマーなどが好ましく用いられる。このようなシード粒子の製造方法は、従来用いられる方法を採用することができ、例えば、ソープフリー乳化重合、分散重合等が挙げられる。   In the case of employing the seed polymerization method, it is preferable to use a styrene-based or (meth) acrylate-based polymer as the seed particle, and it is more preferable to use a non-crosslinked type or a fine particle having a low degree of crosslinking. The number average particle size of the seed particles is preferably 0.1 μm to 10 μm, and the coefficient of variation of the particle size of the polymer fine particles is preferably 10% or less. Further, when synthesizing seed particles, a chain transfer agent may be used in order to obtain a preferable molecular weight and molecular weight distribution described later. As the chain transfer agent, an alkyl mercaptan chain transfer agent having 1 to 10 carbon atoms, α-methylstyrene dimer, or the like is preferably used. As a method for producing such seed particles, a conventionally used method can be employed, and examples thereof include soap-free emulsion polymerization and dispersion polymerization.

シード粒子を構成する重合体の重量平均分子量は、500〜20000であるのが好ましく、分子量分布(Mw/Mn)は2.5以下であるのが好ましい。シード粒子の重量平均分子量、あるいは、分子量分布が上述の範囲から外れると、酸化防止剤が重合体微粒子に吸収され難くなる虞があるからである。シード粒子の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した後(基準物質:ポリスチレン)、得られた値を基に、重量平均分子量及び分子量分布(Mw/Mn)を算出すればよい。   The polymer constituting the seed particles preferably has a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 2.5 or less. This is because if the weight average molecular weight or molecular weight distribution of the seed particles is out of the above range, the antioxidant may be hardly absorbed by the polymer fine particles. The molecular weight of the seed particles is measured by gel permeation chromatography (GPC) (reference material: polystyrene), and the weight average molecular weight and molecular weight distribution (Mw / Mn) may be calculated based on the obtained values.

得られたシード粒子は、単量体組成物をシード粒子に吸収させる工程へと供される。この際、合成されたシード粒子は、当該シード粒子を溶媒に分散させたシード粒子分散液として続く吸収工程へと供してもよく、また、シード粒子を合成し、反応系内からシード粒子を単離した後、改めて吸収工程用の溶媒に分散させた上で吸収工程へと供しても良い。   The obtained seed particles are subjected to a step of absorbing the monomer composition into the seed particles. At this time, the synthesized seed particles may be subjected to the subsequent absorption step as a seed particle dispersion in which the seed particles are dispersed in a solvent. Alternatively, the seed particles are synthesized, and the seed particles are separated from the reaction system. After the release, it may be dispersed again in the solvent for the absorption process and then used for the absorption process.

シード重合における単量体組成物の仕込み量は、シード粒子1質量部に対して0.5質量部〜50質量部とすることが好ましい。単量体組成物の仕込み量が、少なすぎると重合による粒子径の増加が小さくなり、また、多すぎると単量体組成物が完全にシード粒子に吸収されず、媒体中で独自に重合して異常粒子を生成するおそれがある。また、酸化防止剤の配合量は、単量体成分総量(シード粒子合成に用いた単量体成分も含む)を100質量%とした場合に、0.05質量%〜5質量%とするのが好ましい。より好ましくは0.1質量%〜4質量%であり、さらに好ましくは0.5質量%〜3質量%である。   The charged amount of the monomer composition in the seed polymerization is preferably 0.5 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the seed particles. If the charged amount of the monomer composition is too small, the increase in the particle size due to polymerization is small, and if it is too large, the monomer composition is not completely absorbed by the seed particles and polymerizes independently in the medium. May produce abnormal particles. Further, the blending amount of the antioxidant is 0.05% by mass to 5% by mass when the total amount of the monomer components (including the monomer component used for seed particle synthesis) is 100% by mass. Is preferred. More preferably, it is 0.1 mass%-4 mass%, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%.

また、酸化防止剤の分子量(Mw)は2000以下が好ましく、より好ましくは1500以下、さらに好ましくは1300以下である。酸化防止剤の分子量が2000を超えると重合体微粒子の原料である重合性単量体への酸化防止剤の溶解度が低下して、重合体微粒子中への酸化防止剤の導入が不十分となる虞があり、また、シード粒子へ重合性単量体を吸収させる際に、酸化防止剤がシード粒子内へ吸収され難くなる虞があり、このような場合には、重合体微粒子中への酸化防止剤の導入が不十分となる虞があるからである。   Further, the molecular weight (Mw) of the antioxidant is preferably 2000 or less, more preferably 1500 or less, and still more preferably 1300 or less. When the molecular weight of the antioxidant exceeds 2000, the solubility of the antioxidant in the polymerizable monomer that is the raw material of the polymer fine particles is lowered, and the introduction of the antioxidant into the polymer fine particles becomes insufficient. In addition, when the polymerizable monomer is absorbed into the seed particles, the antioxidant may be difficult to be absorbed into the seed particles. In such a case, oxidation into the polymer fine particles may occur. This is because the introduction of the inhibitor may be insufficient.

吸収工程は、0℃以上60℃以下の温度範囲で、5分間以上720分間以下、撹拌しながら行うのが好ましい。これらの条件は、用いるシード粒子や単量体の種類等によって、適宜設定すればよく、これらの条件は1種のみ、あるいは2種以上を合わせて採用してもよい。   The absorption step is preferably performed in the temperature range of 0 ° C. to 60 ° C. with stirring for 5 minutes to 720 minutes. These conditions may be set as appropriate depending on the type of seed particles and monomers used, and these conditions may be used alone or in combination of two or more.

吸収工程において、単量体組成物がシード粒子に吸収されたかどうかの判断については、例えば、単量体組成物を加える前および吸収段階終了後に、顕微鏡により粒子を観察し、単量体組成物の吸収により粒子径が大きくなっていることを確認することで容易に判断できる。   In the absorption process, for determining whether the monomer composition is absorbed by the seed particles, for example, before adding the monomer composition and after completion of the absorption step, observe the particles with a microscope, It can be easily determined by confirming that the particle size is increased by absorption of the selenium.

なお、重合温度や得られた粒子の乾燥条件については、前記懸濁重合と同様の条件が適用できる。   In addition, about the polymerization temperature and the drying conditions of the obtained particle | grains, the conditions similar to the said suspension polymerization are applicable.

[有機無機複合粒子及びその製造方法]
有機無機複合粒子は、ビニル重合体に由来する有機質部分と、無機質部分とを含んでなる粒子である。前記有機無機複合粒子の態様としては、シリカ、アルミナ、チタニア等の金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、金属炭化物等の無機質微粒子が、ビニル重合体中に分散含有されてなる態様;(オルガノ)ポリシロキサン、ポリチタノキサン等のメタロキサン鎖(「金属−酸素−金属」結合を含む分子鎖)と有機分子が分子レベルで複合してなる態様;ビニルトリメトキシシラン等のビニル系重合体を形成し得るビニル基を有するオルガノアルコキシシランが加水分解縮合反応やビニル基の重合反応を起こすことで得られる粒子や、加水分解性シリル基を有するシラン化合物を原料とするポリシロキサンとビニル基を有する重合性単量体等と反応させて得られる粒子のように、ビニル重合体骨格とポリシロキサン骨格とを含む有機無機複合粒子からなる態様等が挙げられる。これらの中でも、シード重合、特に、ゾルゲルシード重合法により得られるビニル重合体骨格とポリシロキサン骨格とを含む有機無機複合粒子からなる態様が好ましい。
[Organic-inorganic composite particles and method for producing the same]
Organic-inorganic composite particles are particles comprising an organic part derived from a vinyl polymer and an inorganic part. As an aspect of the organic-inorganic composite particles, an aspect in which inorganic fine particles such as metal oxides such as silica, alumina and titania, metal nitrides, metal sulfides and metal carbides are dispersed and contained in the vinyl polymer; Organo) A mode in which a metalloxane chain (a molecular chain containing a “metal-oxygen-metal” bond) such as polysiloxane and polytitanoxane is combined with an organic molecule at a molecular level; a vinyl polymer such as vinyltrimethoxysilane is formed. Particles obtained by hydrolyzing condensation reaction or vinyl group polymerization reaction of organoalkoxysilane having vinyl group to be obtained, and polysiloxane having vinyl group and polymerization property having silane compound having hydrolyzable silyl group as raw materials Organic-inorganic composite particles containing a vinyl polymer skeleton and a polysiloxane skeleton, such as particles obtained by reacting with a monomer or the like Embodiment consists, and the like. Among these, an embodiment composed of organic-inorganic composite particles containing a vinyl polymer skeleton and a polysiloxane skeleton obtained by seed polymerization, particularly, a sol-gel seed polymerization method is preferable.

以下、ゾルゲルシード重合法により得られるビニル重合体骨格とポリシロキサン骨格とを含む有機無機複合粒子について詳述する。   Hereinafter, organic-inorganic composite particles containing a vinyl polymer skeleton and a polysiloxane skeleton obtained by a sol-gel seed polymerization method will be described in detail.

前記ビニル重合体骨格は、下記化学式(5)で表される繰り返し単位により構成される主鎖を有するビニル重合体であり、側鎖を有するもの、分岐構造を有するもの、さらには架橋構造を有するものであってもよい。有機無機複合粒子の硬度を適度に制御できる。   The vinyl polymer skeleton is a vinyl polymer having a main chain composed of a repeating unit represented by the following chemical formula (5), having a side chain, having a branched structure, and further having a crosslinked structure. It may be a thing. The hardness of the organic-inorganic composite particles can be controlled appropriately.

また、ポリシロキサン骨格は、下記化学式(6)で表されるシロキサン単位が連続的に化学結合して、網目構造のネットワークを構成した部分と定義される。   The polysiloxane skeleton is defined as a portion in which a siloxane unit represented by the following chemical formula (6) is continuously chemically bonded to form a network of a network structure.

ポリシロキサン骨格を構成するSiO2の量は、有機無機複合粒子の質量に対して0.1質量%以上であることが好ましく、より好ましくは1質量%以上であり、80質量%以下であることが好ましく、より好ましくは60質量%以下である。ポリシロキサン骨格中のSiO2の量が上記範囲であれば、有機無機複合粒子の硬度の制御が容易となる。なお、ポリシロキサン骨格を構成するSiO2の量は、粒子を空気等の酸化性雰囲気中で800℃以上の温度で焼成した前後の質量を測定することにより求めた質量百分率である。 The amount of SiO 2 constituting the polysiloxane skeleton is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and 80% by mass or less with respect to the mass of the organic-inorganic composite particles. Is more preferable, and 60% by mass or less is more preferable. When the amount of SiO 2 in the polysiloxane skeleton is within the above range, the hardness of the organic-inorganic composite particles can be easily controlled. The amount of SiO 2 constituting the polysiloxane skeleton is a mass percentage obtained by measuring the mass before and after firing the particles at a temperature of 800 ° C. or higher in an oxidizing atmosphere such as air.

有機無機複合粒子は、その硬度や破壊強度等といった機械的特性それぞれについて、ポリシロキサン骨格部分やビニル重合体骨格部分の割合を適宜変化させることにより任意に調節することができる。有機無機複合粒子におけるポリシロキサン骨格は、加水分解性基を有するシラン化合物を加水分解縮合反応させて得ることが好ましい。   The organic-inorganic composite particles can be arbitrarily adjusted by appropriately changing the ratio of the polysiloxane skeleton portion or the vinyl polymer skeleton portion with respect to each of the mechanical properties such as hardness and breaking strength. The polysiloxane skeleton in the organic-inorganic composite particles is preferably obtained by hydrolytic condensation reaction of a silane compound having a hydrolyzable group.

加水分解性を有するシラン化合物としては、特に限定はされないが、例えば、下記化学式(7)で表されるシラン化合物およびその誘導体等が挙げられる。
R’mSiX4-m (7)
(式中、R’は置換基を有していてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基および不飽和脂肪族基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、Xは水酸基、アルコキシ基およびアシロキシ基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、mは0から3までの整数である。)
Although it does not specifically limit as a silane compound which has hydrolyzability, For example, the silane compound represented by following Chemical formula (7), its derivative (s), etc. are mentioned.
R ' m SiX 4-m (7)
(In the formula, R ′ may have a substituent and represents at least one group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an unsaturated aliphatic group, and X represents a hydroxyl group, an alkoxy group. And represents at least one group selected from the group consisting of a group and an acyloxy group, and m is an integer from 0 to 3.)

化学式(7)で表されるシラン化合物としては、特に限定はされないが、例えば、m=0のものとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の4官能性シラン;m=1のものとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、ナフチルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等の3官能性シラン;m=2のものとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジフェニルシランジオール等の2官能性シラン;m=3のものとしては、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルシラノール等の1官能性シラン等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a silane compound represented by Chemical formula (7), For example, as m = 0, tetrafunctionality, such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, etc. Silanes; those with m = 1 include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, benzyltrimethoxysilane, Naphthyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyl Trifunctional silanes such as limethoxysilane and 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane; m = 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diacetoxydimethylsilane, diphenylsilanediol and the like. Examples of bifunctional silanes: m = 3 include monofunctional silanes such as trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, and trimethylsilanol.

化学式(7)で表されるシラン化合物の誘導体としては、特に限定はされないが、例えば、Xの一部がカルボキシル基、β−ジカルボニル基等のキレート化合物を形成し得る基で置換された化合物や、前記シラン化合物を部分的に加水分解して得られる低縮合物等が挙げられる。   The derivative of the silane compound represented by the chemical formula (7) is not particularly limited. For example, a compound in which a part of X is substituted with a group capable of forming a chelate compound such as a carboxyl group and a β-dicarbonyl group. And a low condensate obtained by partially hydrolyzing the silane compound.

加水分解性を有するシラン化合物は、1種のみ用いても2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。なお、化学式(7)において、m=3であるシラン化合物およびその誘導体のみを原料として使用する場合は、有機無機複合粒子は得られない。   The hydrolyzable silane compound may be used alone or in combination of two or more. In addition, in the chemical formula (7), when only the silane compound and its derivative with m = 3 are used as raw materials, organic-inorganic composite particles cannot be obtained.

有機無機複合粒子のポリシロキサン骨格が、ビニル系重合体骨格中の少なくとも1個の炭素原子にケイ素原子が直接結合した有機ケイ素原子を分子内に有する形態の場合は、前記加水分解性を有するシラン化合物としては、ビニル結合を含有する有機基を有するものを用いる必要がある。   When the polysiloxane skeleton of the organic / inorganic composite particles has an organic silicon atom in which the silicon atom is directly bonded to at least one carbon atom in the vinyl polymer skeleton, the hydrolyzable silane As the compound, it is necessary to use a compound having an organic group containing a vinyl bond.

ビニル結合を含有する有機基としては、例えば、下記化学式(8)、(9)および(10)で表される有機基等を挙げることができる。
CH2=C(−Ra)−COORb− (8)
(式中、Raは水素原子またはメチル基を表し、Rbは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の有機基を表す。)
CH2=C(−Rc)− (9)
(式中、Rcは水素原子またはメチル基を表す。)
CH2=C(−Rd)−Re− (10)
(式中、Rdは水素原子またはメチル基を表し、Reは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の有機基を表す。)
As an organic group containing a vinyl bond, the organic group etc. which are represented by following Chemical formula (8), (9) and (10) can be mentioned, for example.
CH 2 = C (-R a) -COOR b - (8)
(In the formula, R a represents a hydrogen atom or a methyl group, and R b represents a C 1-20 divalent organic group which may have a substituent.)
CH 2 = C (-R c) - (9)
(In the formula, R c represents a hydrogen atom or a methyl group.)
CH 2 = C (-R d) -R e - (10)
(In the formula, R d represents a hydrogen atom or a methyl group, and R e represents a C 1-20 divalent organic group which may have a substituent.)

化学式(8)の有機基としては、例えば、(メタ)アクリロキシ基等が挙げられ、(メタ)アクリロキシ基を有する一般式(7)のシラン化合物としては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、γ−メタクリロキシエトキシプロピルトリメトキシシラン(または、γ−トリメトキシシリルプロピル−β−メタクリロキシエチルエーテルともいう)、γ−(メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等を挙げることができる。これらは1種のみ用いても2種以上を併用してもよい。   Examples of the organic group of the chemical formula (8) include a (meth) acryloxy group, and the silane compound of the general formula (7) having a (meth) acryloxy group includes, for example, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. , Γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriacetoxysilane, γ-methacryloxyethoxypropyltrimethoxysilane (or γ -Trimethoxysilylpropyl-β-methacryloxyethyl ether), γ- (methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

前記化学式(9)の有機基としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基等が挙げられ、これらの有機基を有する前記化学式(7)のシラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン等を挙げることができる。これらは1種のみ用いても2種以上を併用してもよい。   Examples of the organic group of the chemical formula (9) include a vinyl group and an isopropenyl group. Examples of the silane compound of the chemical formula (7) having these organic groups include vinyltrimethoxysilane and vinyltrimethyl. Examples include ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, and vinylmethyldiacetoxysilane. These may be used alone or in combination of two or more.

前記化学式(10)の有機基としては、例えば、1−アルケニル基もしくはビニルフェニル基、イソアルケニル基もしくはイソプロペニルフェニル基等が挙げられ、これらの有機基を有する前記一般式(7)のシラン化合物としては、例えば、1−ヘキセニルトリメトキシシラン、1−ヘキセニルトリエトキシシラン、1−オクテニルトリメトキシシラン、1−デセニルトリメトキシシラン、γ−トリメトキシシリルプロピルビニルエーテル、ω−トリメトキシシリルウンデカン酸ビニルエステル、p−トリメトキシシリルスチレン、1−ヘキセニルメチルジメトキシシラン、1−ヘキセニルメチルジエトキシシラン等を挙げることができる。これらは1種のみ用いても2種以上を併用してもよい。   Examples of the organic group of the chemical formula (10) include a 1-alkenyl group or vinylphenyl group, an isoalkenyl group or an isopropenylphenyl group, and the silane compound of the general formula (7) having these organic groups. As, for example, 1-hexenyltrimethoxysilane, 1-hexenyltriethoxysilane, 1-octenyltrimethoxysilane, 1-decenyltrimethoxysilane, γ-trimethoxysilylpropyl vinyl ether, ω-trimethoxysilylundecanoic acid Examples thereof include vinyl ester, p-trimethoxysilylstyrene, 1-hexenylmethyldimethoxysilane, 1-hexenylmethyldiethoxysilane and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

有機無機複合粒子に含まれるビニル重合体骨格は、シラン化合物の加水分解縮合反応により得られたポリシロキサン骨格を有する粒子(シード粒子)に、ビニル系単量体成分を吸収させた後、重合させることで得ることができる。   The vinyl polymer skeleton contained in the organic-inorganic composite particles is polymerized after the vinyl monomer component is absorbed into the particles (seed particles) having a polysiloxane skeleton obtained by hydrolysis condensation reaction of the silane compound. Can be obtained.

前記有機無機複合粒子は、(i)ポリシロキサン骨格がビニル系重合体骨格中の少なくとも1個の炭素原子にケイ素原子が直接化学結合した有機ケイ素原子を分子内に有している形態(化学結合タイプ)であってもよいし、(ii)このような有機ケイ素原子を分子内に有していない形態(IPNタイプ)であってもよく、特に限定はされないが、(i)の形態が好ましい。   The organic-inorganic composite particles are (i) a form (chemical bond) in which the polysiloxane skeleton has an organic silicon atom in which a silicon atom is directly chemically bonded to at least one carbon atom in the vinyl polymer skeleton. Type) or (ii) a form not having such an organosilicon atom in the molecule (IPN type), although not particularly limited, the form (i) is preferred. .

ポリシロキサン骨格を有するシード粒子に吸収させることのできる単量体としては、前記したビニル系単量体が挙げられ、所望する有機無機複合粒子の物性に応じて適宜選択することができる。これらは1種のみ用いても2種以上を併用してもよい。   Examples of the monomer that can be absorbed by the seed particles having a polysiloxane skeleton include the vinyl monomers described above, and can be appropriately selected according to the desired physical properties of the organic-inorganic composite particles. These may be used alone or in combination of two or more.

例えば、疎水性のビニル系単量体は、ポリシロキサン骨格を有する粒子に単量体成分を吸収させる際に、単量体成分を乳化分散させた安定なエマルションを生成させ得るので好ましい。また、前記した架橋性単量体を使用すれば、得られる有機無機複合粒子の機械的特性の調節が容易にでき、また、有機無機複合粒子の耐溶剤性を向上させることもできる。架橋性単量体としては、前記有機質重合体微粒子に用いられるものとして例示したものを用いることができる。   For example, a hydrophobic vinyl-based monomer is preferable because a stable emulsion in which the monomer component is emulsified and dispersed can be formed when the monomer component is absorbed into particles having a polysiloxane skeleton. If the crosslinkable monomer is used, the mechanical properties of the resulting organic / inorganic composite particles can be easily adjusted, and the solvent resistance of the organic / inorganic composite particles can be improved. As the crosslinkable monomer, those exemplified as those used for the organic polymer fine particles can be used.

有機無機複合粒子の製造方法は、加水分解縮合工程と、重合工程とを含むことが好ましく、本発明においては、加水分解、縮合工程後、重合工程前に、重合性単量体と酸化防止剤とを含む単量体組成物を吸収させる吸収工程を含める。吸収工程を含めることにより、有機無機複合粒子中に酸化防止剤を取り込ませることができ、且つ、有機無機複合粒子中のビニル重合体骨格成分の含有量を調整できる。   The method for producing organic-inorganic composite particles preferably includes a hydrolysis-condensation step and a polymerization step. In the present invention, after the hydrolysis and condensation step, before the polymerization step, the polymerizable monomer and the antioxidant And an absorption step of absorbing a monomer composition comprising: By including the absorption step, the antioxidant can be incorporated into the organic-inorganic composite particles, and the content of the vinyl polymer skeleton component in the organic-inorganic composite particles can be adjusted.

前記加水分解縮合工程とは、シラン化合物を、水を含む溶媒中で加水分解して縮重合させる反応を行う工程である。加水分解縮合工程により、ポリシロキサン骨格を有する粒子(ポリシロキサン粒子)を得ることができる。加水分解と縮重合は、一括、分割、連続等、任意の方法を採用できる。加水分解し、縮重合させるにあたっては、触媒としてアンモニア、尿素、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物等の塩基性触媒を好ましく用いることができる。   The hydrolysis-condensation step is a step of performing a reaction in which a silane compound is hydrolyzed in a solvent containing water to undergo condensation polymerization. By the hydrolysis condensation step, particles having a polysiloxane skeleton (polysiloxane particles) can be obtained. Hydrolysis and polycondensation can employ any method such as batch, split, and continuous. In the hydrolysis and condensation polymerization, basic catalysts such as ammonia, urea, ethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, alkali metal hydroxide, and alkaline earth metal hydroxide can be preferably used as the catalyst.

前記水を含む溶媒中には、水や触媒以外に有機溶剤を含めることができる。有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸エチル等のエステル類;イソオクタン、シクロへキサン等の(シクロ)パラフィン類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類等を挙げることができる。これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。   In the solvent containing water, an organic solvent can be contained in addition to water and the catalyst. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, t-butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol; acetone, Examples thereof include ketones such as methyl ethyl ketone; esters such as ethyl acetate; (cyclo) paraffins such as isooctane and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene. These may be used alone or in combination of two or more.

加水分解縮合工程ではまた、アニオン性、カチオン性、非イオン性の界面活性剤や、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の高分子分散剤を併用することもできる。これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。   In the hydrolysis-condensation step, anionic, cationic and nonionic surfactants and polymer dispersants such as polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone can be used in combination. These may be used alone or in combination of two or more.

加水分解縮合は、原料となる前記シラン化合物と、触媒や水および有機溶剤を含む溶媒を混合した後、温度0℃以上100℃以下、好ましくは0℃以上70℃以下で、30分以上100時間以下撹拌することにより行うことができる。これによりポリシロキサン粒子が得られる。また、所望の程度まで加水分解縮合反応を行って粒子を製造した後、これを種粒子として、反応系にさらにシラン化合物を添加して種粒子を成長させてもよい。   Hydrolytic condensation is performed by mixing the silane compound as a raw material with a solvent containing a catalyst, water, and an organic solvent, and then at a temperature of 0 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 70 ° C., for 30 minutes to 100 hours. It can carry out by stirring below. Thereby, polysiloxane particles are obtained. Moreover, after producing a particle by performing a hydrolysis-condensation reaction to a desired degree, this may be used as a seed particle, and a silane compound may be further added to the reaction system to grow the seed particle.

吸収工程は、ポリシロキサン粒子(シード粒子)の存在下に、単量体組成物を存在させた状態で進行するものであれば特に限定されない。したがって、ポリシロキサン粒子を分散させた溶媒中に単量体組成物を加えてもよいし、単量体組成物を含む溶媒中にポリシロキサン粒子を加えてもよい。なかでも、前者のように、予めポリシロキサン粒子を分散させた溶媒中に、単量体組成物を乳化分散させた状態で加えるのが好ましい。乳化分散の際に用いる乳化剤としては、従来公知の乳化剤が使用可能であるが、中でも、アニオン性乳化剤が好ましく用いられる。また、加水分解、縮合工程で得られたポリシロキサン粒子を反応液(ポリシロキサン粒子分散液)から取り出すことなく、この反応液に単量体成分を加える方法は、工程が複雑にならず、生産性に優れるため好ましい。   The absorption process is not particularly limited as long as it proceeds in the presence of the monomer composition in the presence of polysiloxane particles (seed particles). Therefore, the monomer composition may be added to the solvent in which the polysiloxane particles are dispersed, or the polysiloxane particles may be added to the solvent containing the monomer composition. Especially, like the former, it is preferable to add the monomer composition in a state where it is emulsified and dispersed in a solvent in which polysiloxane particles are dispersed in advance. Conventionally known emulsifiers can be used as the emulsifier used in the emulsification dispersion, and among these, anionic emulsifiers are preferably used. In addition, the method of adding the monomer component to the reaction liquid without taking out the polysiloxane particles obtained in the hydrolysis and condensation process from the reaction liquid (polysiloxane particle dispersion) does not complicate the process. It is preferable because of its excellent properties.

なお、吸収工程においては、ポリシロキサン粒子の構造中に単量体成分及び酸化防止剤を吸収させるが、単量体成分及び酸化防止剤の吸収が速やかに進行するように、ポリシロキサン粒子および単量体成分それぞれの濃度や、ポリシロキサンと単量体成分の混合比、混合の処理方法、手段、混合時の温度や時間、混合後の処理方法、手段等を適宜設定し、その条件のもとで行うのが好ましい。   In the absorption step, the monomer component and the antioxidant are absorbed in the structure of the polysiloxane particles. However, the polysiloxane particles and the single particles are absorbed so that the absorption of the monomer components and the antioxidant proceeds quickly. The concentration of each of the monomer components, the mixing ratio of the polysiloxane and the monomer component, the processing method and means for mixing, the temperature and time during mixing, the processing method and means after mixing, etc. are appropriately set, and the conditions are It is preferable to carry out with.

また、酸化防止剤についても、ポリシロキサン粒子(シード粒子)への吸収効率を高める観点からは、上述した有機質重合体微粒子の場合と同様の分子量を有する酸化防止剤を用いるのが好ましい。   Moreover, also about antioxidant, it is preferable to use the antioxidant which has the same molecular weight as the case of the organic polymer fine particle mentioned above from a viewpoint of improving the absorption efficiency to a polysiloxane particle (seed particle).

これらの条件は、用いるポリシロキサン粒子や単量体成分の種類等によって、適宜その必要性を考慮すればよい。また、これらの条件は1種のみ適用しても2種以上を合わせて適用してもよい。   The necessity of these conditions may be appropriately considered depending on the type of polysiloxane particles and monomer components used. Moreover, these conditions may apply only 1 type, or may apply 2 or more types together.

前記吸収工程における、単量体成分の添加量は、ポリシロキサン粒子の原料として使用したシラン化合物の質量に対して、0.5質量部〜50質量部とするのが好ましい。単量体組成物の仕込量が少なすぎると、重合による粒子径の増加が小さくなり、一方、多すぎると、単量体組成物が完全にシード粒子に吸収されず、媒体中で独自に重合して異常粒子を生成する虞がある。また、酸化防止剤の量は、単量体成分総量(シード粒子の合成に用いた単量体成分も含む)を100質量%としたときに0.05質量%〜5質量%とするのが好ましく、より好ましくは0.1質量%〜4質量%であり、さらに好ましくは0.5質量%〜3質量%である。   The addition amount of the monomer component in the absorption step is preferably 0.5 to 50 parts by mass with respect to the mass of the silane compound used as the raw material for the polysiloxane particles. If the charged amount of the monomer composition is too small, the increase in particle diameter due to polymerization is small. On the other hand, if the charged amount is too large, the monomer composition is not completely absorbed by the seed particles and is polymerized uniquely in the medium. Then, there is a risk of generating abnormal particles. The amount of the antioxidant is 0.05% by mass to 5% by mass when the total amount of the monomer components (including the monomer component used for the synthesis of the seed particles) is 100% by mass. More preferably, it is 0.1 mass%-4 mass%, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%.

吸収工程の反応条件(温度、時間)は、有機質重合体微粒子と同様の条件を採用できる。また、吸収工程において、単量体組成物がポリシロキサン粒子に吸収されたかどうかの判断についても、有機質重合体微粒子の場合と同様の方法で確認すればよい。   The reaction conditions (temperature, time) in the absorption step can be the same as those for the organic polymer fine particles. Moreover, what is necessary is just to confirm in the absorption process by the method similar to the case of organic polymer microparticles also about the judgment whether the monomer composition was absorbed by the polysiloxane particle.

重合工程は、単量体成分を重合反応させて、ビニル重合体骨格を有する粒子を得る工程である。具体的には、シラン化合物としてビニル結合を有する有機基を持つものを用いた場合は、該有機基のビニル結合を重合させてビニル重合体骨格を形成する工程であり、吸収工程を経た場合は、吸収させた単量体成分、または吸収させた単量体成分とポリシロキサン骨格が有するビニル結合とを重合させてビニル(系)重合体骨格を形成する工程であるが、両方に該当する場合はどちらの反応によってもビニル(系)重合体骨格を形成する工程となり得る。   The polymerization step is a step of obtaining particles having a vinyl polymer skeleton by polymerizing a monomer component. Specifically, when a silane compound having an organic group having a vinyl bond is used, it is a step of polymerizing the vinyl bond of the organic group to form a vinyl polymer skeleton. Is a process of polymerizing the absorbed monomer component, or the absorbed monomer component and the vinyl bond of the polysiloxane skeleton to form a vinyl (system) polymer skeleton, if both fall under Can be a step of forming a vinyl (system) polymer skeleton by either reaction.

重合反応は、加水分解縮合工程や吸収工程の途中で行ってもよいし、いずれかまたは両方の工程後に行ってもよく、特に限定はされないが、通常は、加水分解縮合工程後(吸収工程を行った場合はもちろん吸収工程後)に開始するようにする。   The polymerization reaction may be performed in the middle of the hydrolysis-condensation step or the absorption step, and may be performed after one or both of the steps, and is not particularly limited, but usually after the hydrolysis-condensation step (the absorption step). If done, of course, start after the absorption step).

重合反応は特に限定されないが、例えば、ラジカル重合開始剤を用いる方法、紫外線や放射線を照射する方法、熱を加える方法等、いずれも採用可能である。前記ラジカル重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、前記有機質重合体微粒子の重合に使用されるものを挙げることができる。これらラジカル重合開始剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。   The polymerization reaction is not particularly limited, and for example, any of a method using a radical polymerization initiator, a method of irradiating ultraviolet rays or radiation, a method of applying heat, and the like can be adopted. Although it does not specifically limit as said radical polymerization initiator, For example, what is used for superposition | polymerization of the said organic polymer fine particle can be mentioned. These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合開始剤の使用量は、単量体成分の総質量100質量部に対して、0.001質量部以上とすることが好ましく、より好ましくは0.01質量部以上、さらに好ましくは0.1質量部以上であり、20質量部以下であることが好ましく、より好ましくは10質量部以下、さらに好ましくは5質量部以下である。ラジカル重合開始剤の使用量が、0.001質量部未満の場合は、単量体成分の重合度が上がらない場合がある。ラジカル重合開始剤の溶媒に対する仕込み方については、特に限定はなく、最初(反応開始前)に全量仕込む方法(ラジカル重合開始剤を単量体成分と共に乳化分散させておく態様、単量体成分が吸収された後にラジカル重合開始剤を仕込む態様);最初に一部を仕込んでおき、残りを連続フィード添加する方法、または、断続的にパルス添加する方法、あるいは、これらを組み合わせた手法等、従来公知の手法はいずれも採用することができる。   The amount of the radical polymerization initiator used is preferably 0.001 part by mass or more, more preferably 0.01 part by mass or more, and still more preferably 0.001 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of the monomer components. It is 1 part by mass or more, preferably 20 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, and further preferably 5 parts by mass or less. When the usage-amount of a radical polymerization initiator is less than 0.001 mass part, the polymerization degree of a monomer component may not rise. The method of charging the radical polymerization initiator into the solvent is not particularly limited, and is a method in which the entire amount is initially charged (before the reaction is started) (the mode in which the radical polymerization initiator is emulsified and dispersed together with the monomer component, the monomer component is A mode in which a radical polymerization initiator is charged after absorption); a method in which a part is charged first, and the rest is continuously fed, or intermittently pulsed, or a combination of these, etc. Any known method can be employed.

ラジカル重合を行う際の反応温度は40℃以上が好ましく、より好ましくは50℃以上であり、100℃以下が好ましく、より好ましくは80℃以下である。反応温度が低すぎる場合には、重合度が十分に上がらず有機無機複合粒子の機械的特性が不充分となる傾向があり、一方、反応温度が高すぎる場合には、重合中に粒子間の凝集が起こりやすくなる傾向がある。なお、ラジカル重合を行う際の反応時間は、用いる重合開始剤の種類に応じて適宜変更すればよいが、通常、15分〜600分が好ましく、より好ましくは60分〜300分である。反応時間が短すぎる場合には、重合度が十分に上がらない場合があり、反応時間が長すぎる場合には、粒子間で凝集が起こり易くなる傾向がある。   The reaction temperature at the time of performing radical polymerization is preferably 40 ° C or higher, more preferably 50 ° C or higher, preferably 100 ° C or lower, more preferably 80 ° C or lower. If the reaction temperature is too low, the degree of polymerization does not increase sufficiently, and the mechanical properties of the organic-inorganic composite particles tend to be insufficient. Aggregation tends to occur. In addition, what is necessary is just to change suitably the reaction time at the time of performing radical polymerization according to the kind of polymerization initiator to be used, Usually, 15 minutes-600 minutes are preferable, More preferably, they are 60 minutes-300 minutes. When the reaction time is too short, the degree of polymerization may not be sufficiently increased, and when the reaction time is too long, aggregation tends to occur between particles.

上述した製法によれば、上述した好ましい特性(機械的特性や粒度分布特性等)を有するビニル系重合体微粒子が得られる。   According to the manufacturing method described above, vinyl polymer fine particles having the above-described preferable characteristics (such as mechanical characteristics and particle size distribution characteristics) can be obtained.

[導電性微粒子]
本発明の導電性微粒子は、上記重合体微粒子の表面を被覆する導電性金属層を有するものである。したがって、本発明の導電性微粒子は、上述の重合体微粒子の特性を備えたものである。上記導電性金属層を構成する金属としては特に限定されないが、例えば、金、銀、銅、白金、鉄、鉛、アルミニウム、クロム、パラジウム、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム、スズ、コバルト、インジウムおよびニッケル−リン、ニッケル−ホウ素等などの金属や金属化合物、および、これらの合金などが挙げられる。これらの中でも、ニッケル、金、銀および銅が導電性に優れており、工業的にも安価であるため好ましい。
[Conductive fine particles]
The conductive fine particles of the present invention have a conductive metal layer that covers the surface of the polymer fine particles. Therefore, the conductive fine particles of the present invention have the characteristics of the polymer fine particles described above. The metal constituting the conductive metal layer is not particularly limited. For example, gold, silver, copper, platinum, iron, lead, aluminum, chromium, palladium, nickel, rhodium, ruthenium, antimony, bismuth, germanium, tin, Examples thereof include metals such as cobalt, indium, nickel-phosphorus, and nickel-boron, metal compounds, and alloys thereof. Among these, nickel, gold, silver, and copper are preferable because they are excellent in conductivity and industrially inexpensive.

上記導電性金属層の厚みは、10nm〜500nmであるのが好ましい。より好ましくは20nm〜400nmであり、さらに好ましくは50nm〜300nmである。導電性金属層の厚みが薄すぎる場合には、導電性微粒子を異方性導電材料として用いる際に、安定した電気的接続を維持し難くなる傾向がある。一方、導電性金属層が厚すぎる場合には、導電性微粒子の表面の硬度が高くなりすぎ、回復率等の基材粒子の機械的特性を十分に生かせない虞がある。   The conductive metal layer preferably has a thickness of 10 nm to 500 nm. More preferably, it is 20 nm-400 nm, More preferably, it is 50 nm-300 nm. When the thickness of the conductive metal layer is too thin, there is a tendency that it is difficult to maintain a stable electrical connection when the conductive fine particles are used as the anisotropic conductive material. On the other hand, when the conductive metal layer is too thick, the surface hardness of the conductive fine particles becomes too high, and there is a possibility that the mechanical properties of the base material particles such as the recovery rate cannot be fully utilized.

なお、導電性金属層は、その表面に、実質的な割れや、導電性金属層が形成されない面が存在しないものであるのが好ましい。ここで、「実質的な割れや、導電性金属層が形成されない面」とは、電子顕微鏡(倍率1000倍)を用いて任意の10000個の導電性微粒子の表面を観察した場合に、導電性金属層の割れ、および、基材粒子面の露出が実質的に目視で観察されないことを意味する。詳細な評価方法は後述する。   In addition, it is preferable that a conductive metal layer does not have the surface where a substantial crack and a conductive metal layer are not formed in the surface. Here, “a surface on which a substantial crack or a conductive metal layer is not formed” means that the surface of any 10,000 conductive fine particles is observed using an electron microscope (1000 times magnification). It means that the crack of the metal layer and the exposure of the surface of the base material particle are not substantially visually observed. A detailed evaluation method will be described later.

本発明の導電性微粒子は、導電性金属層の表面に、さらに絶縁性樹脂層を有するものであってもよい。上記絶縁性樹脂層としては、導電性微粒子の粒子間における絶縁性が確保でき、一定の圧力および/または加熱により容易にその絶縁性樹脂層が崩壊あるいは剥離するものであれば特に限定されず、例えば、後述するビニル系重合体微粒子と同様の樹脂の他、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体などのポリオレフィン類;ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリレート重合体および共重合体;ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、SB型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、SBS型スチレン−ブタジエンブロック共重合体およびこれらの水添化合物等のブロックポリマー;ビニル系重合体および共重合体などの熱可塑性樹脂や特にその架橋物;エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂などの熱硬化性樹脂;ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド、メチルセルロースなどの水溶性樹脂およびこれらの混合物などが挙げられる。   The conductive fine particles of the present invention may further have an insulating resin layer on the surface of the conductive metal layer. The insulating resin layer is not particularly limited as long as the insulating property between the particles of the conductive fine particles can be ensured, and the insulating resin layer can be easily collapsed or peeled off by a certain pressure and / or heating. For example, polyolefins such as polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer; polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, in addition to resins similar to vinyl polymer fine particles described later (Meth) acrylate polymers and copolymers such as polybutyl (meth) acrylate; polystyrene, styrene-acrylate copolymer, SB type styrene-butadiene block copolymer, SBS type styrene-butadiene block copolymer, and Block polymers such as these hydrogenated compounds; Thermoplastic resins such as ethylene-based polymers and copolymers, and particularly crosslinked products thereof; Thermosetting resins such as epoxy resins, phenol resins, melamine resins; polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, Examples thereof include water-soluble resins such as methyl cellulose and mixtures thereof.

但し、重合体微粒子に比べて絶縁性樹脂層が硬過ぎる場合には、絶縁性樹脂層の破壊よりも先に重合体微粒子自体が破壊してしまう虞がある。したがって、絶縁性樹脂層には、未架橋または比較的架橋度の低い樹脂を用いることが好ましい。   However, when the insulating resin layer is too hard as compared with the polymer fine particles, the polymer fine particles themselves may be destroyed before the insulating resin layer is destroyed. Therefore, it is preferable to use an uncrosslinked or relatively low degree of crosslinking resin for the insulating resin layer.

上記絶縁性樹脂層は、単層であっても、複数の層からなるものであってもよい。例えば、単一又は複数の皮膜状の層が形成されていてもよく、又は、絶縁性を有する粒状、球状、塊状、鱗片状その他の形状の粒子を、導電性微粒子の表面に付着したもの、さらに、導電性微粒子の表面を化学修飾することにより形成されたものであってもよく、また、これらが組み合わされたものであってもよい。   The insulating resin layer may be a single layer or a plurality of layers. For example, a single or a plurality of film-like layers may be formed, or particles having insulating particles, spheres, lumps, scales, or other shapes attached to the surface of conductive fine particles, Furthermore, it may be formed by chemically modifying the surface of the conductive fine particles, or a combination of these.

上記樹脂絶縁層の厚みは0.01μm〜1μmであるのが好ましい。より好ましくは0.1μm〜0.5μmである。樹脂絶縁層の厚みが薄すぎると、電気絶縁性が不十分となり、一方、厚すぎると、導通特性が低下する虞がある。   The thickness of the resin insulation layer is preferably 0.01 μm to 1 μm. More preferably, it is 0.1 micrometer-0.5 micrometer. If the thickness of the resin insulating layer is too thin, the electrical insulation is insufficient. On the other hand, if the thickness is too thick, the conduction characteristics may be deteriorated.

本発明の導電性微粒子は、導電性微粒子を組み込んだ材料(例えば後述する異方導電性材料など)がはんだリフロー加工を受ける場合にも好適に用いられる。   The conductive fine particles of the present invention are also suitably used when a material incorporating conductive fine particles (for example, an anisotropic conductive material described later) undergoes solder reflow processing.

一般的に、回路基板には、はんだ付けや導電性微粒子を導電材料とする異方性導電性膜(ACF:Anisotropic Conductive Film)を組み合わせて電子部品が実装される。はんだ付けによって、抵抗、コンデンサ等の部品を実装する場合、はんだペーストを印刷した回路基板上に前記部品を配置した後、回路基板をリフロー炉に通すことによってはんだ接続を行う実装技術が用いられている。この実装技術は、通常、表面実装技術と呼ばれており、部品の小型化、高密度実装化の進展に伴い、回路基板の製造においてはこの方式が主流となってきている。   Generally, an electronic component is mounted on a circuit board by combining soldering or an anisotropic conductive film (ACF) using conductive fine particles as a conductive material. When mounting components such as resistors and capacitors by soldering, mounting technology is used in which the components are placed on a circuit board printed with solder paste and then soldered by passing the circuit board through a reflow furnace. Yes. This mounting technology is usually called surface mounting technology. With the progress of miniaturization of components and high density mounting, this method has become mainstream in the production of circuit boards.

前記はんだを用いた表面実装技術では、まず、はんだの溶融に先立って、部品への急激な熱衝撃の緩和や、有機溶剤の揮発等を目的として、リフロー炉内で、回路基板と部品とを予熱する(一般的には150℃〜170℃程度)プリヒートと呼ばれる工程を行い、その後、本加熱と呼ばれる工程で短時間高温処理して、はんだに熱を加えて溶融させており(リフロー工程、一般的には220℃〜260℃)、リフロー炉内では、回路基板全体が高温、例えば260℃程度に加熱される場合がある。したがって、ACFを用いた実装の後に、回路基板のはんだリフロー処理を行うと、はんだリフロー処理の際にACFが高温にさらされて、その接続信頼性が低下するといった問題があった。しかしながら、本発明の導電性微粒子は、耐熱性に優れ、且つ、加熱による強度低下が生じ難いものであるため、当該導電性微粒子を組み込んだ材料(例えば後述する異方導電性材料など)が、水平搬送式の連続炉などではんだ接合を一括して行うはんだリフロー加工を受ける場合にも好適に用いられる。   In the surface mounting technology using the solder, first, prior to melting of the solder, the circuit board and the component are placed in a reflow furnace for the purpose of mitigating rapid thermal shock to the component, volatilization of the organic solvent, etc. Preheating (generally about 150 ° C. to 170 ° C.) is carried out in a process called preheating, followed by a high temperature treatment in a process called main heating for a short time to heat the solder and melt it (reflow process, In general, the entire circuit board may be heated to a high temperature, for example, about 260 ° C. in a reflow furnace. Therefore, if the circuit board is subjected to solder reflow processing after mounting using the ACF, the ACF is exposed to a high temperature during the solder reflow processing, resulting in a problem that connection reliability is lowered. However, since the conductive fine particles of the present invention are excellent in heat resistance and are difficult to cause a decrease in strength due to heating, a material incorporating the conductive fine particles (for example, an anisotropic conductive material described later), It is also suitably used when receiving solder reflow processing in which solder joining is performed in a lump in a horizontal conveyance type continuous furnace or the like.

[導電性微粒子の製造方法]
本発明の導電性微粒子は、上記重合体微粒子の表面に導電性金属層を形成することにより得られる。重合体微粒子表面に導電性金属層を被覆する方法は特に限定されず、例えば、無電解めっき、置換めっきなどめっきによる方法;金属微粉を単独、または、バインダーに混ぜ合わせて得られるペーストを基材粒子にコーティングする方法;真空蒸着、イオンプレーティング、イオンスパッタリング等の物理的蒸着方法が挙げられる。これらの中でも、無電解めっき法は、大掛かりな装置を必要とせず、容易に導電性金属層を形成できるため好ましい。
[Method for producing conductive fine particles]
The conductive fine particles of the present invention can be obtained by forming a conductive metal layer on the surface of the polymer fine particles. The method for coating the surface of the polymer fine particles with the conductive metal layer is not particularly limited. For example, a method by plating such as electroless plating or displacement plating; a paste obtained by mixing metal fine powder alone or mixed with a binder as a base material Methods for coating particles: physical vapor deposition methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, ion sputtering and the like. Among these, the electroless plating method is preferable because a conductive metal layer can be easily formed without requiring a large-scale apparatus.

無電解めっき法では、まず、重合体微粒子の表面に、無電解めっきの起点となる触媒層を形成した後((i)触媒化工程)、触媒層を形成した重合体微粒子表面に導電性金属層を形成する((ii)無電解めっき工程)。以下、それぞれの工程について詳細に説明する。   In the electroless plating method, first, a catalyst layer serving as a starting point for electroless plating is formed on the surface of the polymer fine particles ((i) catalytic step), and then a conductive metal is formed on the surface of the polymer fine particles on which the catalyst layer is formed. A layer is formed ((ii) electroless plating step). Hereinafter, each process will be described in detail.

[(i)触媒化工程]
触媒化工程では、重合体微粒子の表面に、次工程で行う無電解めっきの基点となる触媒層を形成する。触媒層を形成する方法は特に限定されず、無電解めっき用として市販されている触媒化試薬を用いて行えばよい。例えば、触媒化試薬として塩化パラジウムと塩化スズとを含む溶液に、重合体微粒子を浸漬させて、重合体微粒子表面にパラジウムイオンを吸着させた後、硫酸、塩酸などの酸や水酸化ナトリウムなどのアルカリ溶液で上記パラジウムイオンを還元して、重合体微粒子表面にパラジウムを析出させる方法;硫酸パラジウム溶液に重合体微粒子を浸漬し、重合体微粒子表面にパラジウムイオンを吸着させた後、ジメチルアミンボランなどの還元剤を含む溶液でパラジウムウイオンを還元して重合体微粒子表面にパラジウムを析出させる方法などが挙げられる。
[(I) Catalytic step]
In the catalyzing step, a catalyst layer serving as a base point of electroless plating performed in the next step is formed on the surface of the polymer fine particles. The method for forming the catalyst layer is not particularly limited, and may be performed using a catalytic reagent commercially available for electroless plating. For example, after immersing polymer fine particles in a solution containing palladium chloride and tin chloride as a catalyzing reagent to adsorb palladium ions on the surface of the polymer fine particles, an acid such as sulfuric acid and hydrochloric acid, sodium hydroxide, etc. A method of reducing the palladium ions with an alkaline solution to deposit palladium on the surface of the polymer fine particles; after immersing the polymer fine particles in a palladium sulfate solution and adsorbing the palladium ions on the surface of the polymer fine particles, dimethylamine borane, etc. And a method in which palladium ions are reduced with a solution containing a reducing agent to deposit palladium on the surface of the polymer fine particles.

上記触媒化試薬としては、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、塩化スズ及びこれらの混合物などが挙げられる。触媒化試薬は、塩酸などに溶解させて用いる。上記還元剤としては、ジメチルアミンボラン、次亜リン酸などが挙げられる。   Examples of the catalyzing reagent include palladium chloride, palladium nitrate, tin chloride, and mixtures thereof. The catalytic reagent is used after being dissolved in hydrochloric acid or the like. Examples of the reducing agent include dimethylamine borane and hypophosphorous acid.

[(ii)無電解めっき工程]
次いで、触媒層を形成した重合体微粒子表面に導電性金属層を形成する無電解めっき処理を行う。この工程では、還元剤と所望の金属塩を溶解しためっき液中に触媒層を形成した重合体微粒子を浸漬し、触媒を起点として、めっき液中の金属イオンを還元剤で還元して、重合体微粒子表面に所望の金属を析出させ導電性金属層を形成する。
[(Ii) Electroless plating step]
Next, an electroless plating process for forming a conductive metal layer on the surface of the polymer fine particles on which the catalyst layer has been formed is performed. In this step, polymer fine particles having a catalyst layer formed therein are immersed in a plating solution in which a reducing agent and a desired metal salt are dissolved, and starting from the catalyst, metal ions in the plating solution are reduced with a reducing agent, A desired metal is deposited on the surface of the coalesced fine particles to form a conductive metal layer.

まず、触媒化処理を施した重合体微粒子を水に十分に分散させ、重合体微粒子の水性スラリーを調製する。ここで、重合体微粒子はめっき処理を行う水性媒体に十分分散させておく必要がある。重合体微粒子が凝集した状態で無電解めっき処理を行うと、重合体微粒子同士の接触面に未処理面(導電性金属層が存在しない面)が生じ、このような場合には、安定した導電特性が得られないからである。重合体微粒子の分散に際しては、公知の分散手段を使用しても良い。従来公知の分散手段としては、通常攪拌、高速攪拌、あるいは、コロイドミルまたはホモジナイザーのような剪断分散装置を用いることができる。また、分散操作には超音波を併用してもよく、さらに、必要に応じて界面活性剤などの分散剤を添加してもよい。   First, the polymer fine particles subjected to the catalyst treatment are sufficiently dispersed in water to prepare an aqueous slurry of the polymer fine particles. Here, the polymer fine particles need to be sufficiently dispersed in an aqueous medium to be plated. When the electroless plating process is performed in a state in which the polymer fine particles are aggregated, an untreated surface (a surface on which no conductive metal layer is present) is formed on the contact surface between the polymer fine particles. This is because characteristics cannot be obtained. A known dispersing means may be used for dispersing the polymer fine particles. As a conventionally known dispersing means, normal stirring, high-speed stirring, or a shearing dispersion device such as a colloid mill or a homogenizer can be used. In addition, ultrasonic waves may be used in the dispersion operation, and a dispersant such as a surfactant may be added as necessary.

次いで、所望の導電性金属の塩、還元剤、錯化剤および各種添加剤などを含んだ無電解めっき液に重合体微粒子の水性スラリーを添加し、無電解めっき処理を行う。   Next, an aqueous slurry of polymer fine particles is added to an electroless plating solution containing a desired conductive metal salt, a reducing agent, a complexing agent and various additives, and an electroless plating treatment is performed.

導電性金属塩としては、導電性金属層として先に例示した金属の塩化物、硫酸塩、酢酸塩などが挙げられる。例えば、導電性金属層として、ニッケル層を形成したい場合であれば、塩化ニッケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル等のニッケル塩等が挙げられる。無電解めっき液中における導電性金属塩の濃度は、所望の膜厚の導電性金属層が形成されるように、基材粒子のサイズ(表面積)に応じて適宜決定すればよい。   Examples of the conductive metal salt include metal chlorides, sulfates, and acetates exemplified above as the conductive metal layer. For example, if it is desired to form a nickel layer as the conductive metal layer, nickel salts such as nickel chloride, nickel sulfate, and nickel acetate can be used. What is necessary is just to determine suitably the density | concentration of the electroconductive metal salt in an electroless-plating liquid according to the size (surface area) of a base particle so that the electroconductive metal layer of a desired film thickness may be formed.

還元剤としては、次亜リン酸ナトリウム、ジメチルアミンボラン、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ヒドラジン等が用いられる。   As the reducing agent, sodium hypophosphite, dimethylamine borane, sodium borohydride, potassium borohydride, hydrazine and the like are used.

上記錯化剤としては、用いる導電性金属のイオンに対して錯化作用のある化合物が使用できる。例えば、ニッケルに対して錯化作用のある化合物としては、クエン酸、ヒドロキシ酢酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸またはそのアルカリ金属塩やアンモニウム塩などのカルボン酸(塩)、グリシン等のアミノ酸、エチレンジアミン、アルキルアミン等のアミン酸、その他のアンモニウム、EDTA、ピロリン酸(塩)等、が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、また、2種以上を組み合わせて使用してもよい。無電解めっき処理工程における好ましい無電解めっき液のpHは4〜14である。   As the complexing agent, a compound having a complexing action with respect to ions of the conductive metal to be used can be used. For example, compounds having a complexing action on nickel include citric acid, hydroxyacetic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid or carboxylic acids (salts) such as alkali metal salts and ammonium salts thereof, and amino acids such as glycine. Amine acids such as ethylenediamine and alkylamine, other ammonium, EDTA, pyrophosphate (salt), and the like. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type. The preferable pH of the electroless plating solution in the electroless plating treatment step is 4 to 14.

無電解めっき反応は、重合体微粒子スラリーを添加すると速やかに開始する。また、この反応には水素ガスの発生を伴う。したがって、無電解めっき処理工程は、水素ガスの発生が完全に認められなくなった時点をもって終了とする。反応終了後、反応系内から導電性金属層が形成された導電性微粒子を取り出し、必要に応じて洗浄、乾燥する。   The electroless plating reaction starts rapidly when the polymer fine particle slurry is added. Further, this reaction is accompanied by generation of hydrogen gas. Therefore, the electroless plating treatment process ends when the generation of hydrogen gas is not completely recognized. After completion of the reaction, the conductive fine particles on which the conductive metal layer is formed are taken out from the reaction system, and washed and dried as necessary.

本発明の導電性微粒子は、上述のようにして得られるが、上記無電解めっき処理工程を繰返すことで、導電性微粒子の表面に、異種金属を幾層にも被覆することもできる。例えば、基材粒子にニッケルめっきを施した後(ニッケル被覆粒子)、さらに、無電解金めっき液にニッケル被覆粒子を投入して金置換めっきを行うことにより、最外層に金の被覆層を有する導電性微粒子が得られる。   Although the conductive fine particles of the present invention are obtained as described above, the surface of the conductive fine particles can be coated with several layers of different metals by repeating the electroless plating treatment step. For example, after nickel plating is applied to the substrate particles (nickel-coated particles), the gold-coated plating is performed by introducing the nickel-coated particles into the electroless gold plating solution, so that the outermost layer has a gold coating layer. Conductive fine particles are obtained.

[(iii)その他の工程]
本発明の導電性微粒子が絶縁性樹脂層を有するものである場合、上記無電解めっき工程の後に、導電性金属層の表面に樹脂などによる絶縁処理を行う。
[(Iii) Other steps]
When the conductive fine particles of the present invention have an insulating resin layer, the surface of the conductive metal layer is subjected to insulation treatment with a resin or the like after the electroless plating step.

絶縁性樹脂層を形成する方法としては特に限定されず、例えば、無電解めっき処理後の導電性微粒子の存在下で、絶縁性樹脂層の原料の界面重合、懸濁重合、乳化重合を行い、絶縁性樹脂により導電性微粒子をマイクロカプセル化する方法;絶縁性樹脂を有機溶媒に溶解した絶縁性樹脂溶液中に導電性微粒子を分散させた後、乾燥させるディッピング法;スプレードライ法、ハイブリダイゼーションによる方法など、従来公知の方法はいずれも用いることができる。   The method for forming the insulating resin layer is not particularly limited, for example, in the presence of conductive fine particles after the electroless plating treatment, interfacial polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization of the raw material of the insulating resin layer is performed, A method of microencapsulating conductive fine particles with an insulating resin; a dipping method in which conductive fine particles are dispersed in an insulating resin solution in which an insulating resin is dissolved in an organic solvent and then dried; a spray drying method, by hybridization Any conventionally known method such as a method can be used.

[異方性導電材料]
本発明の導電性微粒子は、異方性導電材料の構成材料としても好適であり、本発明の導電性微粒子を用いてなる異方性導電材料もまた、本発明の好ましい実施態様の1つである。上記異方性導電材料は、本発明の導電性微粒子を用いてなるものであればその形態は特に限定されず、例えば、異方性導電フィルム、異方性導電ペースト、異方性導電接着剤、異方性導電インク等、様々な形態が挙げられる。すなわち、これらの異方性導電材料を相対向する基材同士や電極端子間に設けることで、電気的に接続することができる。
[Anisotropic conductive material]
The conductive fine particles of the present invention are also suitable as a constituent material of the anisotropic conductive material. An anisotropic conductive material using the conductive fine particles of the present invention is also one of the preferred embodiments of the present invention. is there. The form of the anisotropic conductive material is not particularly limited as long as the conductive fine particles of the present invention are used. For example, an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive paste, an anisotropic conductive adhesive is used. And various forms such as anisotropic conductive ink. That is, electrical connection can be achieved by providing these anisotropic conductive materials between opposing substrates or between electrode terminals.

上記異方性導電フィルムは、例えば、本発明の導電性微粒子とバインダー樹脂等を含むフィルム形成用組成物に溶媒を加えて溶液状にし、この溶液をポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に塗布した後、溶媒を蒸発させることにより得ることができる。得られた異方性導電フィルムは、例えば、電極上に配置され、この異方性導電フィルム上に対向電極を重ね合わせ、加熱圧縮することにより電極間の接続に使用される。   The anisotropic conductive film, for example, after adding a solvent to the film-forming composition containing the conductive fine particles of the present invention and a binder resin to form a solution, and applying this solution on a polyethylene terephthalate film, It can be obtained by evaporating the solvent. The obtained anisotropic conductive film is disposed on, for example, electrodes, and is used for connection between the electrodes by superposing a counter electrode on the anisotropic conductive film and heating and compressing the counter electrode.

上記異方性導電ペーストは、例えば、本発明の導電性微粒子とバインダー樹脂等を含む樹脂組成物をペースト状にすることにより得られる。得られた異方性導電ペーストは、例えば、適当なディスペンサーに入れられ、接続すべき電極上に所望の厚さで塗工され、塗工された異方性導電ペースト上に対向電極を重ね合わせ、加熱するとともに加圧して樹脂を硬化させることにより、電極間の接続に使用される。   The anisotropic conductive paste is obtained, for example, by making a resin composition containing the conductive fine particles of the present invention and a binder resin into a paste. The obtained anisotropic conductive paste is placed in, for example, a suitable dispenser, applied on the electrode to be connected with a desired thickness, and the counter electrode is superimposed on the coated anisotropic conductive paste. It is used for connection between electrodes by heating and pressurizing to cure the resin.

上記異方性導電接着剤は、例えば、本発明の導電性微粒子とバインダー樹脂などを含む樹脂組成物を所望の粘度に調整することにより得られる。得られた異方性導電接着剤は、異方性導電ペーストと同様、電極上に所望の厚さで塗工した後、対向電極を重ね合わせ、両者を接着することにより電極間の接続に使用される。   The anisotropic conductive adhesive is obtained, for example, by adjusting a resin composition containing the conductive fine particles of the present invention and a binder resin to a desired viscosity. The obtained anisotropic conductive adhesive is used to connect between electrodes by coating the electrodes with a desired thickness, then overlaying the counter electrodes and bonding them together, as with the anisotropic conductive paste. Is done.

上記異方性導電インクは、例えば、本発明の導電性微粒子とバインダー樹脂等を含む樹脂組成物に溶媒を加えて印刷に適した粘度に調整することにより得られる。得られた異方性導電インクは、例えば、接着すべき電極上にスクリーン印刷し、溶媒を蒸発させた後、異方性導電インクによる印刷面に対向電極を重ね合わせ、加熱圧縮することにより電極間の接続に使用される。   The anisotropic conductive ink can be obtained, for example, by adjusting a viscosity suitable for printing by adding a solvent to the resin composition containing the conductive fine particles of the present invention and a binder resin. The obtained anisotropic conductive ink is obtained by, for example, screen-printing on the electrode to be bonded, evaporating the solvent, superimposing the counter electrode on the printing surface with the anisotropic conductive ink, and heating and compressing the electrode. Used for connection between.

上記異方性導電材料は、絶縁性のバインダー樹脂中に、本発明の導電性微粒子を分散させ、所望の形態とすることで製造されるが、もちろん、絶縁性のバインダー樹脂と導電性微粒子とを別々に使用して、基材間あるいは電極端子間を接続してもかまわない。   The anisotropic conductive material is produced by dispersing the conductive fine particles of the present invention in an insulating binder resin to obtain a desired form. Of course, the insulating binder resin and the conductive fine particles May be used separately to connect between substrates or between electrode terminals.

上記バインダー樹脂としては、特に限定されず、例えば、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体などの熱可塑性樹脂;グリシジル基を有するモノマーやオリゴマーおよびイソシアネートなどの硬化剤との反応により硬化する硬化性樹脂組成物や、光や熱により硬化する硬化性樹脂組成物などが挙げられる。   The binder resin is not particularly limited, for example, thermoplastic resins such as acrylic resin, ethylene-vinyl acetate resin, styrene-butadiene block copolymer; monomers and oligomers having a glycidyl group, and curing agents such as isocyanate. Examples thereof include a curable resin composition that is cured by reaction and a curable resin composition that is cured by light and heat.

本発明の異方性導電材料中における上記導電性微粒子の含有割合は、用途に応じて適宜決定すればよいが、例えば、異方導電性材料中に占める導電性微粒子の割合は2体積%〜70体積%が好ましく用いられ、5体積%〜50体積%がより好ましく、10体積%〜40体積%がさらに好ましい。導電性微粒子の含有量が少なすぎると、十分な電気的導通が得られ難い場合があり、一方、導電性微粒子の含有量が多過ぎると、導電性微粒子同士が接触してしまい、異方性導電材料としての機能が発揮され難い場合がある。   The content ratio of the conductive fine particles in the anisotropic conductive material of the present invention may be appropriately determined according to the application. For example, the ratio of the conductive fine particles in the anisotropic conductive material is 2% by volume to 70% by volume is preferably used, more preferably 5% by volume to 50% by volume, and still more preferably 10% by volume to 40% by volume. If the content of the conductive fine particles is too small, it may be difficult to obtain sufficient electrical continuity. On the other hand, if the content of the conductive fine particles is too large, the conductive fine particles are in contact with each other, and anisotropy is caused. The function as a conductive material may be difficult to be exhibited.

上記異方性導電材料におけるフィルム膜厚、ペーストおよび接着剤の塗工膜厚および印刷膜厚は、使用する導電性微粒子の平均粒子径と、接続すべき電極の仕様とから計算し、接続すべき電極間に導電性微粒子が狭持され、接続すべき電極が形成された接合基板同士の空隙がバインダー樹脂層により十分に満たされるよう設定することが好ましい。   The film thickness of the anisotropic conductive material, the coating thickness of the paste and adhesive, and the printed thickness are calculated from the average particle diameter of the conductive fine particles used and the specifications of the electrode to be connected. It is preferable to set so that the conductive fine particles are sandwiched between the power electrodes and the gap between the bonding substrates on which the electrodes to be connected are formed is sufficiently filled with the binder resin layer.

本発明の異方性導電材料は、高い導電性を示すばかりでなく、加重圧縮した際にも導電性金属層に剥離や破壊が生じず、相対向する電極基板間の電気的な接続を確保することができる。また、経時安定性にも優れるので、長期間の使用においてもめっき割れなどによる導電性の低下をきたすことなく、電極基板間の電気的な接続を堅持し信頼性の向上を図ることができる。   The anisotropic conductive material of the present invention not only exhibits high conductivity, but also does not cause peeling or breakage of the conductive metal layer even when subjected to weight compression, and ensures electrical connection between opposing electrode substrates. can do. In addition, since the stability over time is excellent, the electrical connection between the electrode substrates can be maintained and the reliability can be improved without causing a decrease in conductivity due to plating cracking or the like even in long-term use.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, but may be appropriately modified within a range that can meet the purpose described above and below. Of course, it is possible to implement them, and they are all included in the technical scope of the present invention.

[平均粒子径、粒子径の変動係数(CV値)]
粒子の平均粒子径は、コールターマルチサイザーIII型(ベックマンコールター社製)により、30000個の粒子の粒子径を測定し、個数平均粒子径を求めた。粒子径のCV値(変動係数)は、下記式に従って求めた。
[Average particle size, coefficient of variation of particle size (CV value)]
The average particle size of the particles was determined by measuring the particle size of 30000 particles using a Coulter Multisizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.) to determine the number average particle size. The CV value (coefficient of variation) of the particle diameter was determined according to the following formula.

[圧縮破壊荷重]
島津微小圧縮試験機(島津製作所社製,「MCTW‐500」)により、室温(25℃)において、試料台(材質:SKS平板)上に散布した試料粒子1個について、直径50μmの円形平板圧子(材質:ダイヤモンド)を用いて、粒子の中心方向へ一定の負荷速度(2.275mN/秒)で荷重をかけて、粒子が変形により破壊したときの荷重(mN)を圧縮破壊荷重とした。
[Compressive fracture load]
A circular plate indenter with a diameter of 50 μm per sample particle spread on a sample table (material: SKS flat plate) at room temperature (25 ° C.) by a Shimadzu micro-compression tester (manufactured by Shimadzu Corporation, “MCTW-500”) Using (material: diamond), a load was applied in the center direction of the particle at a constant load speed (2.275 mN / sec), and the load (mN) when the particle was broken by deformation was defined as a compressive breaking load.

尚、熱処理前の圧縮破壊荷重値をP2(mN)、空気中200℃で1時間熱処理後の圧縮破壊荷重値をP1(mN)とし、前記前熱処理は、熱分析装置(「TG-DTA2000SA」、Bruker AXS社製)を使用して、空気気流下、流量50ml/分の条件で、昇温速度10℃/分で200℃まで昇温させた後、200℃で1時間保持することにより行った。   The compressive fracture load value before heat treatment is P2 (mN), and the compressive fracture load value after heat treatment at 200 ° C. for 1 hour in air is P1 (mN). , Manufactured by Bruker AXS) under a stream of air at a flow rate of 50 ml / min, heated to 200 ° C. at a rate of temperature increase of 10 ° C./min, and then held at 200 ° C. for 1 hour. It was.

[10%圧縮弾性率(10%K値:硬度)]
圧縮破壊荷重値の測定と同様にして粒子に荷重をかけ、圧縮変位が粒子径の10%となるまで粒子を変形させたときの荷重と変位量(mm)を測定する。測定した圧縮荷重、粒子の圧縮変位、粒子の半径を、下記式:
[10% compression modulus (10% K value: hardness)]
In the same manner as the measurement of the compression fracture load value, a load is applied to the particles, and the load and the amount of displacement (mm) when the particles are deformed until the compression displacement becomes 10% of the particle diameter are measured. The measured compression load, particle compression displacement, and particle radius are expressed as follows:


(ここで、K:10%圧縮弾性率(N/mm2)、F:圧縮荷重(N)、S:圧縮変位(mm)、R:粒子の半径(mm)である。)に代入し、値を算出する。この操作を、異なる3個の粒子について行い、その平均値を基材粒子の10%圧縮弾性率(N/mm2)とした。 (Where K: 10% compression modulus (N / mm 2 ), F: compression load (N), S: compression displacement (mm), R: particle radius (mm)). Calculate the value. This operation was performed for three different particles, and the average value was defined as the 10% compression modulus (N / mm 2 ) of the base particles.

[圧縮変形回復率(回復率)]
微小圧縮試験機(島津製作所製:「MCTW‐500」)を用いて、試料粒子を反転荷重9.8mNまで圧縮した後、荷重を減らしていくときの荷重値と圧縮変位との関係を測定して得られる値であり、荷重を除く際の終点を原点荷重値0.098mNとし、負荷および除負荷における圧縮(回復)速度を1.486mN/秒として測定したときに、反転の点までの変位(L1)と、反転の点から原点荷重値をとる点までの変位(L2)との比(L1/L2)(%)として表した値である。
[Compression deformation recovery rate (recovery rate)]
Using a micro-compression tester (manufactured by Shimadzu Corporation: “MCTW-500”), after compressing the sample particles to a reverse load of 9.8 mN, measure the relationship between the load value and the compression displacement when the load is reduced. Displacement to the point of reversal when measuring the end point when removing the load as the origin load value of 0.098 mN and the compression (recovery) speed at load and removal as 1.486 mN / sec. It is a value expressed as a ratio (L1 / L2) (%) between (L1) and the displacement (L2) from the reversal point to the point where the origin load value is taken.

[熱分解開始温度]
重合体微粒子の熱分解開始温度は、熱分析装置(「TG-DTA2000SA」、Bruker AXS社製)を使用して、試料量10mg〜20mg、昇温温度10℃/分の条件で測定した。なお、T1は、窒素気流下、流量50ml/分、T2は、空気気流下、流量50ml/分の条件で測定した。
[Pyrolysis start temperature]
The thermal decomposition start temperature of the polymer fine particles was measured using a thermal analyzer (“TG-DTA2000SA”, Bruker AXS) under the conditions of a sample amount of 10 mg to 20 mg and a temperature rising temperature of 10 ° C./min. T1 was measured under a flow of nitrogen at a flow rate of 50 ml / min, and T2 was measured under a flow of air at a flow rate of 50 ml / min.

まず、規定のアルミカップに試料を計り取り、このアルミカップを熱分析装置の所定の位置にセットし、窒素又は空気が規定流量(50ml/分)流れるように調整し、装置が安定した後、昇温を開始した。このとき得られたTG曲線のベースライン(水平線部)をもとに、質量減少が開始する温度を読み取り、これを重合体微粒子の熱分解開始温度(℃)とした。   First, a sample is weighed in a specified aluminum cup, this aluminum cup is set at a predetermined position of the thermal analyzer, adjusted so that nitrogen or air flows at a specified flow rate (50 ml / min), and after the apparatus is stabilized, Heating started. Based on the baseline (horizontal line part) of the TG curve obtained at this time, the temperature at which mass reduction starts was read and used as the thermal decomposition start temperature (° C.) of the polymer fine particles.

実施例1
<重合体微粒子の作成>
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、界面活性剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬製、「ハイテノール(登録商標)NF−08」)を2部溶解したイオン交換水の水溶液150部を仕込んだ。そこへ、予め、調製しておいたスチレン50部、ジビニルベンゼン960(新日鉄化学製)50部に、Irganox(登録商標)1010(ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、分子量:1177.7、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)1部を溶解させた混合物、および重合開始剤として、2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬製)2部を仕込み、TKホモミキサー(特殊機化工業製)により5000rpmで5分間乳化分散させて、懸濁液を調整した。この懸濁液に、イオン交換水250部を加え、窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、生成した乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いで、メタノールで洗浄した。その後、分級を行い、窒素雰囲気下40℃で2時間真空乾燥を行い、重合体微粒子(1)を得た。重合体微粒子(1)の粒子径をコールターマルチサイザーIII型(ベックマン・コールター社製)により測定したところ、個数平均粒子径は3.5μm、変動係数は4.7%であった。
Example 1
<Preparation of polymer fine particles>
Polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (Daiichi Kogyo Seiyaku, "Hitenol (registered trademark) NF-08") as a surfactant in a four-necked flask equipped with a condenser, thermometer, and dripping port 150 parts of aqueous solution of ion-exchanged water in which 2 parts were dissolved. Thereto, 50 parts of styrene prepared in advance and 50 parts of divinylbenzene 960 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) were added to Irganox (registered trademark) 1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], molecular weight: 1177.7, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and 2,2-azobis (2,4-dimethylvalero) as a polymerization initiator Nitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 2 parts was charged, and emulsified and dispersed at 5000 rpm for 5 minutes using a TK homomixer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.) to prepare a suspension. To this suspension, 250 parts of ion-exchanged water was added, the temperature was raised to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere, and the mixture was held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer. After radical polymerization, the produced emulsion was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol. Thereafter, classification was performed, and vacuum drying was performed at 40 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere to obtain polymer fine particles (1). When the particle size of the polymer fine particles (1) was measured by Coulter Multisizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the number average particle size was 3.5 μm and the coefficient of variation was 4.7%.

<導電性微粒子の作成>
ビーカーに「ピンクシューマー(日本カニゼン株式会社製)」50部と、イオン交換水400部を入れ混合した。別途、イオン交換水50部に重合体微粒子(1)10部を超音波分散させたものを準備し、これを前記混合液に投入し30℃で10分間攪拌して懸濁液とし、これを固液分離して得られたケーキを、イオン交換水、メタノールの順で洗浄し、窒素雰囲気下100℃で2時間真空乾燥を行った。
<Creation of conductive fine particles>
In a beaker, 50 parts of “Pink Summer (manufactured by Nippon Kanigen Co., Ltd.)” and 400 parts of ion-exchanged water were mixed. Separately, 50 parts of ion-exchanged water and 10 parts of polymer fine particles (1) ultrasonically dispersed were prepared. This was added to the mixed solution and stirred at 30 ° C. for 10 minutes to form a suspension. The cake obtained by solid-liquid separation was washed in the order of ion-exchanged water and methanol, and vacuum dried at 100 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere.

次に、イオン交換水50部に、前記乾燥粒子10部を超音波分散させ、これを、「レッドシューマー(日本カニゼン株式会社製)」100部とイオン交換水350部とを混合した溶液に投入し、30℃で10分間攪拌して懸濁液とした。この懸濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、メタノールの順で洗浄し、窒素雰囲気下100℃で2時間真空乾燥を行い、重合体微粒子(1)の表面にパラジウムを吸着させた。   Next, 10 parts of the dried particles are ultrasonically dispersed in 50 parts of ion-exchanged water, and this is added to a solution obtained by mixing 100 parts of “Red Summer (manufactured by Nippon Kanisen Co., Ltd.)” and 350 parts of ion-exchanged water. And stirred at 30 ° C. for 10 minutes to obtain a suspension. This suspension was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and methanol in that order, and vacuum-dried at 100 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere, so that palladium was deposited on the surface of the polymer fine particles (1). Adsorbed.

パラジウムにより活性化された重合体微粒子(1)をイオン交換水500部に添加し、超音波処理を30分間行い、粒子を十分分散させて微粒子懸濁液を得た。この微粒子懸濁液を50℃で攪拌しながら、硫酸ニッケル6水和物50g/L、次亜リン酸ナトリウム1水和物20g/L、ジメチルアミンボラン2.5g/L、クエン酸50g/Lからなる無電解めっき液(pH7.5)を徐々に微粒子懸濁液に添加して、重合体微粒子(1)の無電解ニッケルめっきを行った。めっき処理中の粒子を経時的にサンプリングして走査電子顕微鏡(SEM、HITACHI社製:「S-3500N」)による観察を行いながら、任意の10個の粒子径を測定し、めっき処理前の重合体微粒子(1)の測定結果との差からめっき厚みを算出し、めっき厚みが0.1μmになった時点で無電解めっき液の添加をやめた。得られた導電性微粒子を濾別し、イオン交換水で洗浄した後、さらにメタノールで洗浄し、60℃で12時間真空乾燥を行い、導電性微粒子(1)を得た。   Polymer fine particles (1) activated with palladium were added to 500 parts of ion-exchanged water and subjected to ultrasonic treatment for 30 minutes to sufficiently disperse the particles, thereby obtaining a fine particle suspension. While stirring this fine particle suspension at 50 ° C., nickel sulfate hexahydrate 50 g / L, sodium hypophosphite monohydrate 20 g / L, dimethylamine borane 2.5 g / L, citric acid 50 g / L An electroless plating solution (pH 7.5) consisting of the above was gradually added to the fine particle suspension to perform electroless nickel plating of the polymer fine particles (1). While sampling the particles during the plating process over time and observing them with a scanning electron microscope (SEM, manufactured by HITACHI: “S-3500N”), the particle size of any 10 particles is measured to determine the weight before plating. The plating thickness was calculated from the difference from the measurement result of the coalesced fine particles (1), and the addition of the electroless plating solution was stopped when the plating thickness reached 0.1 μm. The obtained conductive fine particles were separated by filtration, washed with ion-exchanged water, further washed with methanol, and vacuum dried at 60 ° C. for 12 hours to obtain conductive fine particles (1).

実施例2
実施例1において、Irganox1010をIrgafos168(トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、分子量:646、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様の方法により、重合体微粒子(2)、導電性微粒子(2)を得た。
Example 2
In Example 1, Irganox1010 was changed to Irgafos168 (Tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, molecular weight: 646, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and was the same as Example 1. By the method, polymer fine particles (2) and conductive fine particles (2) were obtained.

実施例3
<重合体微粒子の作製>
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水800部と、25%アンモニア水1.2部、メタノール330部を入れ、攪拌下、滴下口から3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン50部及びメタノール60部の混合液を添加して、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解、縮合反応を行って、オルガノポリシロキサン粒子の乳濁液を調製した。
Example 3
<Preparation of polymer fine particles>
In a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dripping port, put 800 parts of ion-exchanged water, 1.2 parts of 25% aqueous ammonia and 330 parts of methanol, and add 3-methacryloxypropyl from the dripping port with stirring. A mixed liquid of 50 parts of trimethoxysilane and 60 parts of methanol was added, and hydrolysis and condensation reaction of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was performed to prepare an emulsion of organopolysiloxane particles.

次いで、乳化剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製:「ハイテノール(登録商標)NF−08」)の20%水溶液3.85部をイオン交換水150部で溶解した溶液に、スチレン120部、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート30部、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製:「V−65」)2部、Irganox10102部を溶解した溶液を加え、TKホモミキサーにより6000rpmで5分間、乳化分散させて単量体成分の乳化液を調整した。   Next, 3.85 parts of a 20% aqueous solution of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: “Hytenol (registered trademark) NF-08”) as an emulsifier is added with 150 parts of ion-exchanged water. To the dissolved solution, 120 parts of styrene, 30 parts of 1,6-hexanediol dimethacrylate, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: “V-65”) 2 A solution in which 2 parts of Irganox 10102 were dissolved was added, and the mixture was emulsified and dispersed at 6000 rpm for 5 minutes with a TK homomixer to prepare an emulsion of monomer components.

反応開始から2時間後、得られた乳化液を、ポリシロキサン粒子の乳濁液中に添加して、さらに攪拌を行った。乳化液の添加から2時間後、混合液をサンプリングして顕微鏡で観察を行ったところ、ポリシロキサン粒子が単量体を吸収して肥大化していることが確認された。   Two hours after the start of the reaction, the obtained emulsion was added to an emulsion of polysiloxane particles and further stirred. Two hours after the addition of the emulsified liquid, the mixed liquid was sampled and observed with a microscope. As a result, it was confirmed that the polysiloxane particles were enlarged by absorbing the monomer.

次いで、窒素雰囲気下で反応液を65℃まで昇温させて、65℃で2時間保持し、単量体成分のラジカル重合を行った。ラジカル重合後の乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、メタノールで洗浄した後、80℃で12時間真空乾燥させて重合体微粒子(3)を得た。この重合体微粒子(3)の粒子径をコールターマルチサイザーIII型(ベックマンコールター社製)で測定したところ、個数平均粒子径は3.6μm、変動係数(CV値)は3.3%であった。   Next, the reaction solution was heated to 65 ° C. in a nitrogen atmosphere and held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer component. The emulsion after radical polymerization was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and methanol, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 12 hours to obtain polymer fine particles (3). When the particle size of the polymer fine particles (3) was measured by Coulter Multisizer III type (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the number average particle size was 3.6 μm and the coefficient of variation (CV value) was 3.3%. .

<導電性微粒子の作製>
重合体微粒子(3)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、導電性微粒子(3)を得た。
<Preparation of conductive fine particles>
Conductive fine particles (3) were obtained in the same manner as in Example 1 except that the polymer fine particles (3) were used.

実施例4
Irganox1010の使用量を6部に変更したこと以外は、実施例3と同様の方法により、重合体微粒子(4)、導電性微粒子(4)を得た。
Example 4
Polymer fine particles (4) and conductive fine particles (4) were obtained in the same manner as in Example 3, except that the amount of Irganox1010 used was changed to 6 parts.

実施例5
Irganox1010をIrgafos168に変更したこと以外は、実施例3と同様の方法により、重合体微粒子(5)、導電性微粒子(5)を得た。
Example 5
Polymer fine particles (5) and conductive fine particles (5) were obtained in the same manner as in Example 3 except that Irganox1010 was changed to Irgafos168.

実施例6
Irganox1010をアデカスタブ(登録商標)522A(分子量:1832)に変更したこと以外は、実施例3と同様の方法により、重合体微粒子(6)、導電性微粒子(6)を得た。
Example 6
Polymer fine particles (6) and conductive fine particles (6) were obtained in the same manner as in Example 3, except that Irganox1010 was changed to ADK STAB (registered trademark) 522A (molecular weight: 1832).

実施例7
スチレンを2部、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレートを148部に変更したこと以外は、実施例3と同様にして、重合体微粒子(7)、導電性微粒子(7)を得た。
Example 7
Polymer fine particles (7) and conductive fine particles (7) were obtained in the same manner as in Example 3 except that styrene was changed to 2 parts and 1,6-hexanediol dimethacrylate was changed to 148 parts.

実施例8
スチレンを0.6部、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレートを149.4部に変更したこと以外は、実施例3と同様にして、重合体微粒子(8)、導電性微粒子(8)を得た。
Example 8
Polymer fine particles (8) and conductive fine particles (8) were obtained in the same manner as in Example 3, except that styrene was changed to 0.6 parts and 1,6-hexanediol dimethacrylate was changed to 149.4 parts. It was.

実施例9
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水90部とスチレン10部、n−デシルメルカプタン0.5部、塩化ナトリウム0.1部を加え、反応容器内に1時間窒素を流して、反応容器内の窒素置換を行った。その後、混合溶液を70℃まで昇温させた後、少量のイオン交換水に溶かした0.1部の過硫酸カリウムを注射器により反応系中に加えた。その後70℃で24時間反応を行った。反応終了後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した。得られた重合体シード粒子の粒子径をコールターマルチサイザー(ベックマン・コールター社製)により測定したところ、個数平均粒子径は0.7μm、変動係数は3.0%であった。
Example 9
To a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dropping port, 90 parts of ion-exchanged water, 10 parts of styrene, 0.5 part of n-decyl mercaptan, and 0.1 part of sodium chloride are added. Nitrogen was purged for a period of time in the reaction vessel. Thereafter, the temperature of the mixed solution was raised to 70 ° C., and 0.1 part of potassium persulfate dissolved in a small amount of ion-exchanged water was added to the reaction system by a syringe. Thereafter, the reaction was carried out at 70 ° C. for 24 hours. After completion of the reaction, the obtained emulsion was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and then with methanol. When the particle size of the obtained polymer seed particles was measured with a Coulter Multisizer (manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the number average particle size was 0.7 μm and the coefficient of variation was 3.0%.

冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、得られた重合体シード粒子0.5部、イオン交換水50部、ラウリル硫酸ナトリウム0.05部を加え、均一に分散させて重合体シード粒子分散液を調整し、ここにポリビニルアルコールの3質量%水溶液を20部加えた。次いで、乳化剤として、ラウリル硫酸ナトリウム0.1部をイオン交換水50部で溶解した溶液に、スチレン4部、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート1部に、Irganox1010を0.05部、過酸化ベンゾイル0.10部を溶解した溶液を加え、ホモジナイザーにより攪拌してモノマーエマルションを調製した。得られたモノマーエマルションを、上記重合体シード粒子分散液中に添加し、さらに攪拌を行った。次いで、窒素雰囲気下、反応液を70℃まで昇温させ、70℃で24時間保持し、モノマー成分のラジカル重合を行った。ラジカル重合反応後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、メタノールで順に洗浄した後、80℃で12時間真空乾燥させて、重合体微粒子(9)を得た。また、実施例1と同様の方法で、重合体微粒子(9)の表面に金属被覆層を形成し、導電性微粒子(9)を作製した。   To a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dropping port, add 0.5 parts of the obtained polymer seed particles, 50 parts of ion-exchanged water, and 0.05 parts of sodium lauryl sulfate, and uniformly disperse them. A polymer seed particle dispersion was prepared, and 20 parts of a 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol was added thereto. Next, as an emulsifier, a solution obtained by dissolving 0.1 part of sodium lauryl sulfate in 50 parts of ion exchange water, 4 parts of styrene, 1 part of 1,6-hexanediol dimethacrylate, 0.05 part of Irganox 1010, benzoyl peroxide A solution in which 0.10 parts were dissolved was added and stirred with a homogenizer to prepare a monomer emulsion. The obtained monomer emulsion was added to the polymer seed particle dispersion and further stirred. Next, the temperature of the reaction solution was raised to 70 ° C. in a nitrogen atmosphere and held at 70 ° C. for 24 hours to perform radical polymerization of the monomer component. After the radical polymerization reaction, the obtained emulsion was subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake was washed with ion-exchanged water and methanol in order, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 12 hours to obtain polymer fine particles (9). Obtained. Further, by the same method as in Example 1, a metal coating layer was formed on the surface of the polymer fine particles (9) to produce conductive fine particles (9).

比較例1
酸化防止剤であるIrganox1010を用いなかったこと以外は、実施例1と同様にして、比較重合体微粒子(1)及び比較導電性微粒子(1)を得た。
Comparative Example 1
Comparative polymer fine particles (1) and comparative conductive fine particles (1) were obtained in the same manner as in Example 1 except that Irganox 1010 as an antioxidant was not used.

比較例2
酸化防止剤であるIrganox1010を用いなかったこと以外は、実施例5と同様にして、比較重合体微粒子(2)及び比較導電性微粒子(2)を得た。
Comparative Example 2
Comparative polymer fine particles (2) and comparative conductive fine particles (2) were obtained in the same manner as in Example 5 except that Irganox 1010 as the antioxidant was not used.

比較例3
酸化防止剤であるIrganox1010を用いなかったこと以外は、実施例7と同様にして、比較重合体微粒子(3)及び比較導電性微粒子(3)を得た。
Comparative Example 3
Comparative polymer fine particles (3) and comparative conductive fine particles (3) were obtained in the same manner as in Example 7 except that Irganox 1010 as the antioxidant was not used.

比較例4
攪拌器、滴下口及び温度計を備えたフラスコに、25%アンモニア水10部、水400部、及び、ポリビニルアルコール(クラレ社製、「PVA−205」)の10質量%水溶液6部を投入し、攪拌、混合した。この混合液を20±0.5℃の温度に調整して、攪拌しながら、フェニルトリメトキシシラン55部、スチリルトリメトキシシラン5部、及び、2,2−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)0.05部をメタノール150部に溶解した混合液を滴下口より投入した後、さらに、2時間攪拌を続けて、加水分解、縮合反応を行うことにより、ビニル基のラジカル重合を行った。
Comparative Example 4
A flask equipped with a stirrer, a dripping port and a thermometer was charged with 10 parts of 25% aqueous ammonia, 400 parts of water, and 6 parts of a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (Kuraray, “PVA-205”). , Stirred and mixed. The mixed solution was adjusted to a temperature of 20 ± 0.5 ° C., and while stirring, 55 parts of phenyltrimethoxysilane, 5 parts of styryltrimethoxysilane, and 2,2-azobis (4-methoxy-2,4 -Dimethylvaleronitrile) After adding a mixed solution in which 0.05 part is dissolved in 150 parts of methanol, the radical polymerization of a vinyl group is carried out by continuing the stirring for 2 hours, followed by hydrolysis and condensation reaction. Went.

次いで、ラジカル重合後の反応生成物を、100メッシュの金網でろ過後、円心分離により脱水してケーキ状にし、このケーキ層を40℃の乾燥機中で乾燥し、ラボジェットミル(日本ニューマチック工業株式会社製)を用いて解砕して比較重合体微粒子(4)を得た。また、得られた比較微粒子(4)を用いて、比較例(3)と同様の手法により、比較導電性微粒子(4)を得た。   Next, the reaction product after radical polymerization is filtered through a 100-mesh wire mesh, dewatered by circular separation to form a cake, and this cake layer is dried in a dryer at 40 ° C. Comparative polymer fine particles (4) were obtained by crushing using a product manufactured by Matic Kogyo Co., Ltd. Further, using the obtained comparative fine particles (4), comparative conductive fine particles (4) were obtained in the same manner as in Comparative Example (3).

[異方性導電材料の評価]
実施例1〜9および比較例1〜4で得られた導電性微粒子を用いて、異方性導電材料を作製し、電極間の抵抗値を評価した。
[Evaluation of anisotropic conductive material]
An anisotropic conductive material was prepared using the conductive fine particles obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4, and the resistance value between the electrodes was evaluated.

導電性微粒子2gをエポキシ樹脂(三井化学製:「ストラクトボンド(登録商標)XN−5A」)100gに混ぜて分散させ、導電性接着ペーストを製作した。その後、このペースト0.1mgを、内面にITO透明電極膜が形成された2枚のガラス基板で挟み、プレス機により13.7MPaの圧力を掛けつつ、150℃で30分間熱圧着して、試験片を作製した。   2 g of conductive fine particles were mixed and dispersed in 100 g of an epoxy resin (manufactured by Mitsui Chemicals: “Structbond (registered trademark) XN-5A”) to produce a conductive adhesive paste. Then, 0.1 mg of this paste was sandwiched between two glass substrates having an ITO transparent electrode film formed on the inner surface, and subjected to thermocompression bonding at 150 ° C. for 30 minutes while applying a pressure of 13.7 MPa with a press. A piece was made.

作製した試験片に対して耐熱接続信頼性試験を実施した。耐熱接続信頼性試験は、到達温度260℃/5分の熱処理を試験片に対して行い、4回の熱処理後における接続抵抗値を測定し、下記式により算出される変化率が10%未満であった場合を○(良好)、10%以上15%未満の場合を△(可)、15%以上の場合を×(劣る)と評価した。結果を表2に示す。
変化率(%)=[(熱処理後の接続抵抗値−熱処理前の接続抵抗値)/熱処理前の接続抵抗値]×100
A heat-resistant connection reliability test was performed on the prepared test piece. In the heat resistance connection reliability test, the test piece was heat-treated at an ultimate temperature of 260 ° C./5 minutes, the connection resistance value after four heat treatments was measured, and the rate of change calculated by the following formula was less than 10%. The case where it was ○ was evaluated as good (good), the case where it was 10% or more and less than 15% was evaluated as Δ (good), and the case where it was 15% or more was evaluated as × (inferior). The results are shown in Table 2.
Rate of change (%) = [(connection resistance value after heat treatment−connection resistance value before heat treatment) / connection resistance value before heat treatment] × 100

表1より、圧縮破壊指数Pが0.77以上である実施例1〜9の重合体微粒子は、圧縮破壊指数Pが0.77に満たない比較例1〜3の重合体微粒子に比べて、高い耐熱性および機械的強度を有していることが分かる。特に、シード重合法、及び、ゾルゲルシード重合法により得られた重合体微粒子は(実施例3〜7および9)、実施例1,2の重合体微粒子に比べても高い耐熱性および機械的強度を有していた。なお、実施例8の重合体微粒子は、重合体微粒子中に存在するスチレン系単量体に由来する成分量が少なかったため、他の重合体微粒子に比べて、やや熱分解開始温度が低かった。また、比較例4の重合体微粒子は、圧縮破壊指数Pが0.96であるものの、熱処理前後の圧縮破壊強度P1,P2が低く、機械的強度に劣るものであった。   From Table 1, the polymer fine particles of Examples 1 to 9 having a compression fracture index P of 0.77 or more are compared with the polymer fine particles of Comparative Examples 1 to 3 having a compression fracture index P of less than 0.77. It can be seen that it has high heat resistance and mechanical strength. In particular, the polymer fine particles obtained by the seed polymerization method and the sol-gel seed polymerization method (Examples 3 to 7 and 9) have higher heat resistance and mechanical strength than the polymer fine particles of Examples 1 and 2. Had. In addition, since the polymer fine particle of Example 8 had little component amount derived from the styrene-type monomer which exists in polymer fine particle, compared with the other polymer fine particle, the thermal decomposition start temperature was a little low. Further, the polymer fine particles of Comparative Example 4 had a compression fracture index P of 0.96, but the compression fracture strengths P1 and P2 before and after the heat treatment were low and the mechanical strength was poor.

表2より、本発明の導電性微粒子は、熱処理後も導通信頼性が低下し難いものであることが分かる。また、実施例6(P:0.77)と比較例3(P:0.76)との比較より、基材粒子(重合体微粒子)の圧縮破壊強度指数Pが0.77以上の場合には、熱処理後における接続抵抗値の変化率が顕著に低減されていることが分かる。特に、シード重合法、または、ゾルゲルシード重合法により製造された重合体粒子(実施例3〜9)、中でも、酸化防止剤を含み、単量体成分としてスチレンを0.5質量%以上用いた重合体粒子を基材粒子とする導電性微粒子は(実施例3〜7および9)、熱処理後も接続抵抗値が低く、高い導通信頼性を有するものであることが分かる。   From Table 2, it can be seen that the conductive fine particles of the present invention are those in which the conduction reliability is hardly lowered even after the heat treatment. In addition, when the compression fracture strength index P of the base particle (polymer fine particle) is 0.77 or more from the comparison between Example 6 (P: 0.77) and Comparative Example 3 (P: 0.76), It can be seen that the change rate of the connection resistance value after the heat treatment is significantly reduced. In particular, polymer particles (Examples 3 to 9) produced by a seed polymerization method or a sol-gel seed polymerization method, including an antioxidant, and using styrene as a monomer component in an amount of 0.5% by mass or more. It can be seen that the conductive fine particles having the polymer particles as the base particles (Examples 3 to 7 and 9) have a low connection resistance value even after the heat treatment and have high conduction reliability.

本発明の重合体微粒子は、優れた耐熱性、機械的強度を有し、また、加熱処理後の機械的強度の低下が生じ難いものである。したがって、本発明の重合体微粒子を基材粒子とする導電性微粒子は、電気的接合時やはんだリフローなどの熱履歴を受けた後の導通信頼性が低下し難いものである。本発明の導電性微粒子は、電極基板間の電気的な接続を堅持できる信頼性の高いものであり、異方導電性フィルム、異方導電性ペースト、導電性接着剤及び導電性粘着剤など、電極間を接続する導電性材料として好適に用いられる。   The polymer fine particles of the present invention have excellent heat resistance and mechanical strength, and the mechanical strength after heat treatment is unlikely to decrease. Therefore, the conductive fine particles using the polymer fine particles of the present invention as the base particles are less likely to lower the conduction reliability after being subjected to a thermal history during electrical joining or solder reflow. The conductive fine particles of the present invention are highly reliable capable of maintaining an electrical connection between electrode substrates, such as anisotropic conductive films, anisotropic conductive pastes, conductive adhesives and conductive adhesives, It is suitably used as a conductive material for connecting the electrodes.

Claims (10)

下記式(1)で表される圧縮破壊強度指数Pが0.77以上であり、且つ、P2が2.9(mN)以上であることを特徴とする重合体微粒子。
P=P1/P2 (1)
P1:空気中200℃で1時間熱処理後の圧縮破壊強度(mN)
P2:熱処理前の圧縮破壊強度(mN)
A polymer fine particle characterized by having a compressive fracture strength index P represented by the following formula (1) of 0.77 or more and P2 of 2.9 (mN) or more.
P = P1 / P2 (1)
P1: Compressive fracture strength (mN) after heat treatment in air at 200 ° C. for 1 hour
P2: Compressive fracture strength before heat treatment (mN)
窒素気流下における熱分解開始温度をT1、空気気流下における熱分解開始温度をT2としたときに、T2が280℃より高く、且つ、T2/T1が0.95以上である請求項1に記載の重合体微粒子。   The T2 is higher than 280 ° C and T2 / T1 is 0.95 or more, where T1 is a thermal decomposition start temperature under a nitrogen stream and T2 is a thermal decomposition start temperature under an air stream. Polymer fine particles. 一次酸化防止剤および二次酸化防止剤から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤、および/または、酸化防止剤由来の成分を含有する請求項1または2に記載の重合体微粒子。   The polymer fine particle according to claim 1 or 2, comprising at least one kind of antioxidant selected from a primary antioxidant and a secondary antioxidant, and / or a component derived from an antioxidant. 重合体微粒子が、スチレン系単量体に由来する成分を重合体微粒子構成成分中0.5質量%以上含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の重合体微粒子。   The polymer fine particle according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymer fine particle contains a component derived from a styrene monomer in an amount of 0.5% by mass or more in the constituent component of the polymer fine particle. 個数平均粒子径が0.5μm〜100μmであり、粒子径の変動係数が20%以下である請求項1〜4のいずれか一項に記載の重合体微粒子。   The polymer fine particles according to claim 1, wherein the number average particle diameter is 0.5 μm to 100 μm, and the coefficient of variation of the particle diameter is 20% or less. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の重合体微粒子の製造方法であって、
単量体成分を重合させてシード粒子を製造する工程、
ビニル系単量体と、一次酸化防止剤及び二次酸化防止剤から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤とを混合した単量体組成物を前記シード粒子に吸収させる工程、
を含むことを特徴とする重合体微粒子の製造方法。
It is a manufacturing method of the polymer particulates according to any one of claims 1 to 5,
A step of polymerizing monomer components to produce seed particles;
A step of allowing the seed particles to absorb a monomer composition in which a vinyl monomer and at least one antioxidant selected from a primary antioxidant and a secondary antioxidant are mixed;
A method for producing polymer fine particles, comprising:
請求項1〜5のいずれか一項に記載の重合体微粒子の表面に金属被覆層を有する導電性微粒子。   The electroconductive fine particle which has a metal coating layer on the surface of the polymer microparticle as described in any one of Claims 1-5. 前記金属被覆層が、無電解メッキ法により形成された層である請求項7に記載の導電性微粒子。   The conductive fine particles according to claim 7, wherein the metal coating layer is a layer formed by an electroless plating method. はんだリフロー加工に用いられるものである請求項8に記載の導電性微粒子。   The conductive fine particles according to claim 8, which are used for solder reflow processing. 請求項7または8に記載の導電性微粒子を用いてなることを特徴とする異方性導電材料。   An anisotropic conductive material comprising the conductive fine particles according to claim 7 or 8.
JP2009044837A 2009-02-26 2009-02-26 Polymer fine particles, production method thereof, conductive fine particles, and anisotropic conductive material Active JP5427437B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009044837A JP5427437B2 (en) 2009-02-26 2009-02-26 Polymer fine particles, production method thereof, conductive fine particles, and anisotropic conductive material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009044837A JP5427437B2 (en) 2009-02-26 2009-02-26 Polymer fine particles, production method thereof, conductive fine particles, and anisotropic conductive material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010195992A true JP2010195992A (en) 2010-09-09
JP5427437B2 JP5427437B2 (en) 2014-02-26

Family

ID=42821033

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009044837A Active JP5427437B2 (en) 2009-02-26 2009-02-26 Polymer fine particles, production method thereof, conductive fine particles, and anisotropic conductive material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5427437B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012248531A (en) * 2011-05-02 2012-12-13 Nippon Shokubai Co Ltd Conductive particulate and anisotropic conductive material using the same
JP2013008474A (en) * 2011-06-22 2013-01-10 Nippon Shokubai Co Ltd Manufacturing method of conductive particulate
JP2013030439A (en) * 2011-07-29 2013-02-07 Nippon Shokubai Co Ltd Conductive fine particle
JP2013073919A (en) * 2011-09-29 2013-04-22 Nippon Shokubai Co Ltd Conductive particulate
JP2014123456A (en) * 2012-12-20 2014-07-03 Nippon Shokubai Co Ltd Conductive fine particle and anisotropic conductive material using the same
WO2016195006A1 (en) 2015-06-04 2016-12-08 株式会社日本触媒 Organic polymer fine particles
JP2018095664A (en) * 2016-12-07 2018-06-21 株式会社日本触媒 Organic polymer fine particles
WO2018230470A1 (en) * 2017-06-12 2018-12-20 積水化学工業株式会社 Resin particles, conductive particles, conductive material, adhesive, connection structure and liquid crystal display element
WO2022181349A1 (en) * 2021-02-26 2022-09-01 積水化成品工業株式会社 Fine resin particles and composition containing fine resin particles

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63241013A (en) * 1987-03-27 1988-10-06 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Copolymer latex of high thermal resistance
JPH1112327A (en) * 1997-06-26 1999-01-19 Tousero Kk Mono-dispersed methacrylate-based resin particle and film formed by blending the same resin particle
JPH11116610A (en) * 1997-10-10 1999-04-27 Dyno Ind Asa Use of substantially monodisperse polymer particle as polymerization seed, production of polymer particle and substantially monodisperse particulate polymer
JP2003045230A (en) * 2001-08-01 2003-02-14 Hayakawa Rubber Co Ltd Synthetic resin particulate, conductive particulate and anisotropy conductive material composite
WO2008133147A1 (en) * 2007-04-16 2008-11-06 Nippon Shokubai Co., Ltd. Organic polymer fine particle having excellent heat resistance, method for producing the same, and member for optical use using the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63241013A (en) * 1987-03-27 1988-10-06 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Copolymer latex of high thermal resistance
JPH1112327A (en) * 1997-06-26 1999-01-19 Tousero Kk Mono-dispersed methacrylate-based resin particle and film formed by blending the same resin particle
JPH11116610A (en) * 1997-10-10 1999-04-27 Dyno Ind Asa Use of substantially monodisperse polymer particle as polymerization seed, production of polymer particle and substantially monodisperse particulate polymer
JP2003045230A (en) * 2001-08-01 2003-02-14 Hayakawa Rubber Co Ltd Synthetic resin particulate, conductive particulate and anisotropy conductive material composite
WO2008133147A1 (en) * 2007-04-16 2008-11-06 Nippon Shokubai Co., Ltd. Organic polymer fine particle having excellent heat resistance, method for producing the same, and member for optical use using the same

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012248531A (en) * 2011-05-02 2012-12-13 Nippon Shokubai Co Ltd Conductive particulate and anisotropic conductive material using the same
JP2013008474A (en) * 2011-06-22 2013-01-10 Nippon Shokubai Co Ltd Manufacturing method of conductive particulate
JP2013030439A (en) * 2011-07-29 2013-02-07 Nippon Shokubai Co Ltd Conductive fine particle
JP2013073919A (en) * 2011-09-29 2013-04-22 Nippon Shokubai Co Ltd Conductive particulate
JP2014123456A (en) * 2012-12-20 2014-07-03 Nippon Shokubai Co Ltd Conductive fine particle and anisotropic conductive material using the same
US11104753B2 (en) 2015-06-04 2021-08-31 Nippon Shokubai Co., Ltd. Organic polymer fine particles
WO2016195006A1 (en) 2015-06-04 2016-12-08 株式会社日本触媒 Organic polymer fine particles
JPWO2016195006A1 (en) * 2015-06-04 2018-02-22 株式会社日本触媒 Organic polymer fine particles
JP7348974B2 (en) 2015-06-04 2023-09-21 株式会社日本触媒 organic polymer fine particles
JP2022066218A (en) * 2015-06-04 2022-04-28 株式会社日本触媒 Organic polymer fine particles
JP2020172656A (en) * 2015-06-04 2020-10-22 株式会社日本触媒 Organic polymer fine particles
JP6993775B2 (en) 2016-12-07 2022-01-14 株式会社日本触媒 Organic polymer fine particles
JP2018095664A (en) * 2016-12-07 2018-06-21 株式会社日本触媒 Organic polymer fine particles
JPWO2018230470A1 (en) * 2017-06-12 2020-03-19 積水化学工業株式会社 Resin particles, conductive particles, conductive material, adhesive, connection structure, and liquid crystal display element
WO2018230470A1 (en) * 2017-06-12 2018-12-20 積水化学工業株式会社 Resin particles, conductive particles, conductive material, adhesive, connection structure and liquid crystal display element
WO2022181349A1 (en) * 2021-02-26 2022-09-01 積水化成品工業株式会社 Fine resin particles and composition containing fine resin particles

Also Published As

Publication number Publication date
JP5427437B2 (en) 2014-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5427437B2 (en) Polymer fine particles, production method thereof, conductive fine particles, and anisotropic conductive material
JP5957042B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive materials
JP5539887B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5563232B2 (en) Core-shell type organic-inorganic composite particle production method, core-shell type organic-inorganic composite particle, and conductive fine particle
JP5902717B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material containing the same
JP5140209B2 (en) Conductive fine particles, resin particles and anisotropic conductive material using the same
JP2005044773A (en) Particles having electrically conductive coating, anisotropically conductive material, and electrically conductive connection structure
JP5583647B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5672022B2 (en) Insulating coated conductive particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP2006269296A (en) Manufacturing method of particle with protrusions, particle with protrusions, conductive particle with protrusions, and anisotropic conductive material
JP5583712B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
KR102311892B1 (en) Resin particles, conductive microparticles, and anisotropic conductive material using same
JP2013125645A (en) Conductive fine particle and anisotropic conductive material
JP6719859B2 (en) Polymer fine particles, conductive fine particles and anisotropic conductive materials
JP5952553B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material containing the same
JP5998018B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5694671B2 (en) Method for producing metal-coated particles
JP5581276B2 (en) Conductive fine particles
JP5581291B2 (en) Conductive fine particles
JP7414404B2 (en) Base material particles for conductive particles, their use and manufacturing method
JP7241526B2 (en) Substrate Particles for Conductive Particles, Use and Production Method Thereof
JP2013115013A (en) Conductive fine particle and anisotropic conductive material including the same
JP5670133B2 (en) Resin particles, insulated conductive particles and anisotropic conductive materials using the same
JP6446514B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP6765825B2 (en) Polymer fine particles

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101015

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111012

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120710

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130430

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130628

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130806

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131007

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131119

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131202

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5427437

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150