JPWO2018230470A1 - Resin particles, conductive particles, conductive material, adhesive, connection structure, and liquid crystal display element - Google Patents

Resin particles, conductive particles, conductive material, adhesive, connection structure, and liquid crystal display element Download PDF

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Abstract

スプリングバックの発生を効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生を効果的に抑制することができる樹脂粒子を提供する。本発明に係る樹脂粒子は、重合性官能基を1個有し、かつ環状有機基を有する第1の重合性化合物と、重合性官能基を2個以上有し、かつ環状有機基を有する第2の重合性化合物との重合体であり、前記第1の重合性化合物に由来する構造の含有量の前記第2の重合性化合物に由来する構造の含有量に対する重量比が、7以上であり、樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の粒子径の加熱前の樹脂粒子の粒子径に対する比が、0.9以下である。Provided are resin particles capable of effectively suppressing the occurrence of springback and effectively suppressing the occurrence of floating or peeling. The resin particles according to the present invention have one polymerizable functional group and a first polymerizable compound having a cyclic organic group, and a second polymerizable functional group having two or more polymerizable functional groups and a cyclic organic group. And a weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound to the content of the structure derived from the second polymerizable compound is 7 or more. When the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the particle size of the heated resin particles to the particle size of the resin particles before heating is 0.9 or less.

Description

本発明は、樹脂により形成された樹脂粒子に関する。また、本発明は、上記樹脂粒子を用いた導電性粒子、導電材料、接着剤、接続構造体及び液晶表示素子に関する。   The present invention relates to resin particles formed from a resin. The present invention also relates to a conductive particle, a conductive material, an adhesive, a connection structure, and a liquid crystal display element using the above resin particles.

異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。上記異方性導電材料では、バインダー中に導電性粒子が分散されている。   Anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive pastes and films are widely known. In the anisotropic conductive material, conductive particles are dispersed in a binder.

上記異方性導電材料は、フレキシブルプリント基板(FPC)、ガラス基板、ガラスエポキシ基板及び半導体チップ等の様々な接続対象部材の電極間を電気的に接続し、接続構造体を得るために用いられている。また、上記導電性粒子として、樹脂粒子と、該樹脂粒子の表面上に配置された導電部とを有する導電性粒子が用いられることがある。   The anisotropic conductive material is used for electrically connecting electrodes of various members to be connected such as a flexible printed circuit (FPC), a glass substrate, a glass epoxy substrate, and a semiconductor chip to obtain a connection structure. ing. In addition, conductive particles having resin particles and a conductive part disposed on the surface of the resin particles may be used as the conductive particles.

また、液晶表示素子は、2枚のガラス基板間に液晶が配置されて構成されている。該液晶表示素子では、2枚のガラス基板の間隔(ギャップ)を均一かつ一定に保つために、ギャップ制御材としてスペーサが用いられている。該スペーサとして、樹脂粒子が一般に用いられている。   Further, the liquid crystal display element is configured such that liquid crystal is arranged between two glass substrates. In the liquid crystal display device, a spacer is used as a gap control material in order to keep the gap (gap) between two glass substrates uniform and constant. Resin particles are generally used as the spacer.

上記導電性粒子の一例として、下記の特許文献1では、重合体粒子と、該重合体粒子の表面を被覆している導電層とを有する導電性粒子が開示されている。上記重合体粒子は、2官能の(メタ)アクリレートモノマー、3官能の(メタ)アクリレートモノマー、及び4官能の(メタ)アクリレートモノマーの内の少なくとも1種の多官能(メタ)アクリレートと、単官能の(メタ)アクリレートモノマーとを含む共重合成分を共重合させることにより得られる。上記2官能の(メタ)アクリレートモノマーは、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレートである。上記多官能(メタ)アクリレートが上記2官能の(メタ)アクリレートモノマーを含む場合には、上記共重合成分は、上記2官能の(メタ)アクリレートモノマー100重量部に対して、上記単管能の(メタ)アクリレートモノマーを10重量部〜400重量部の範囲で含有する。上記多官能(メタ)アクリレートが上記4官能の(メタ)アクリレートモノマーを含む場合には、上記共重合成分は、上記4官能の(メタ)アクリレートモノマーと上記単管能の(メタ)アクリレートモノマーとの合計100重量%中、上記単管能の(メタ)アクリレートモノマーを80重量%以下で含有する。上記重合体粒子の圧縮変形回復率は、70%以上である。上記重合体粒子の体積膨張率は、1.3以下である。   As an example of the conductive particles, Patent Literature 1 below discloses conductive particles having polymer particles and a conductive layer covering the surface of the polymer particles. The polymer particles may include at least one of a bifunctional (meth) acrylate monomer, a trifunctional (meth) acrylate monomer, and a tetrafunctional (meth) acrylate monomer, and a monofunctional (meth) acrylate. (Meth) acrylate monomer is copolymerized. The bifunctional (meth) acrylate monomer is 1,10-decanediol di (meth) acrylate. In the case where the polyfunctional (meth) acrylate contains the bifunctional (meth) acrylate monomer, the copolymerization component is based on 100 parts by weight of the bifunctional (meth) acrylate monomer and has the single-tube capability. (Meth) acrylate monomer is contained in a range of 10 parts by weight to 400 parts by weight. When the polyfunctional (meth) acrylate includes the tetrafunctional (meth) acrylate monomer, the copolymer component includes the tetrafunctional (meth) acrylate monomer and the single-tubular (meth) acrylate monomer. And the above-mentioned (tubular) (meth) acrylate monomer is contained in an amount of 80% by weight or less based on a total of 100% by weight. The compression deformation recovery rate of the polymer particles is 70% or more. The volume expansion coefficient of the polymer particles is 1.3 or less.

また、上記導電性粒子又は上記スペーサに用いられる樹脂粒子の一例として、下記の特許文献2では、架橋(メタ)アクリル酸エステル系樹脂から構成されている高復元性樹脂粒子が開示されている。上記高復元性樹脂粒子の平均粒子径は、1μm〜100μmである。上記高復元性樹脂粒子の復元率は、22%以上である。上記高復元性樹脂粒子の30%圧縮強度は、1.5kgf/mm〜5.0kgf/mmである。As an example of the conductive particles or the resin particles used for the spacer, Patent Document 2 below discloses highly restorable resin particles composed of a crosslinked (meth) acrylate-based resin. The average particle diameter of the high restoring resin particles is 1 μm to 100 μm. The restoration ratio of the high restoring resin particles is 22% or more. 30% compressive strength of the high resilience resin particles is 1.5kgf / mm 2 ~5.0kgf / mm 2 .

WO2010/013668A1WO2010 / 013668A1 WO2016/039357A1WO2016 / 039357A1

従来の樹脂粒子を導電性粒子やスペーサとして用いる場合には、圧縮された樹脂粒子が元の形状に戻ろうとする作用が働いて、スプリングバックと呼ばれる現象が生じることがある。導電性粒子として用いられた樹脂粒子にスプリングバックが発生すると、導電性粒子と電極との接触面積が低下して、導通信頼性が低下することがある。また、スペーサとして用いられた樹脂粒子にスプリングバックが発生すると、スペーサと液晶表示素子用部材等とが十分に接触せず、ギャップ制御効果が十分に得られないことがある。   When conventional resin particles are used as conductive particles or spacers, the compressed resin particles tend to return to their original shape, and a phenomenon called springback may occur. When springback occurs in the resin particles used as the conductive particles, the contact area between the conductive particles and the electrode decreases, and the conduction reliability may decrease. Further, when springback occurs in the resin particles used as the spacer, the spacer and the member for the liquid crystal display element or the like do not sufficiently contact, and the gap control effect may not be sufficiently obtained.

また、導電性粒子とバインダーとを含む導電材料や、スペーサとバインダーとを含む接着剤は、使用時に加熱環境に曝されることがあり、バインダーが硬化収縮することがある。従来の樹脂粒子は、加熱時に十分に収縮せず、バインダーの硬化収縮に追随することができないことがある。結果として、導電材料と電極との間、又は、接着剤と液晶表示素子用部材等との間において、浮き又は剥離が発生することがある。   In addition, a conductive material containing conductive particles and a binder, or an adhesive containing a spacer and a binder may be exposed to a heating environment during use, and the binder may cure and shrink. Conventional resin particles do not sufficiently shrink when heated, and may not be able to follow the curing shrinkage of the binder. As a result, floating or peeling may occur between the conductive material and the electrode or between the adhesive and the liquid crystal display element member or the like.

本発明の目的は、スプリングバックの発生を効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生を効果的に抑制することができる樹脂粒子を提供することである。また、本発明の目的は、上記樹脂粒子を用いた導電性粒子、導電材料、接着剤、接続構造体及び液晶表示素子を提供することである。   An object of the present invention is to provide resin particles capable of effectively suppressing the occurrence of springback and effectively suppressing the occurrence of floating or peeling. Another object of the present invention is to provide a conductive particle, a conductive material, an adhesive, a connection structure, and a liquid crystal display element using the above resin particles.

本発明の広い局面によれば、重合性官能基を1個有し、かつ環状有機基を有する第1の重合性化合物と、重合性官能基を2個以上有し、かつ環状有機基を有する第2の重合性化合物との重合体であり、前記第1の重合性化合物に由来する構造の含有量の前記第2の重合性化合物に由来する構造の含有量に対する重量比が、7以上であり、樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の粒子径の加熱前の樹脂粒子の粒子径に対する比が、0.9以下である、樹脂粒子が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a first polymerizable compound having one polymerizable functional group and having a cyclic organic group, and having two or more polymerizable functional groups and having a cyclic organic group A weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound to the content of the structure derived from the second polymerizable compound, which is a polymer with the second polymerizable compound, is 7 or more. In addition, when the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the particle size of the resin particles after heating to the particle size of the resin particles before heating is 0.9 or less.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、60%圧縮変形させた際の圧縮回復率が、10%以下である。   In a specific aspect of the resin particles according to the present invention, the compression recovery rate when subjected to 60% compression deformation is 10% or less.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、10%K値が、3000N/mm以下である。In a specific aspect of the resin particles according to the present invention, the 10% K value is 3000 N / mm 2 or less.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、30%K値が、1500N/mm以下である。In a specific aspect of the resin particles according to the present invention, the 30% K value is 1500 N / mm 2 or less.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の30%K値の加熱前の樹脂粒子の30%K値に対する比が、0.8以上1.5以下である。   In a specific aspect of the resin particles according to the present invention, when the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the 30% K value of the resin particles after heating to the 30% K value of the resin particles before heating is increased. , 0.8 or more and 1.5 or less.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、前記第1の重合性化合物における環状有機基と前記第2の重合性化合物における環状有機基とがそれぞれ、炭化水素基である。   In a specific aspect of the resin particles according to the present invention, the cyclic organic group in the first polymerizable compound and the cyclic organic group in the second polymerizable compound are each a hydrocarbon group.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、前記第1の重合性化合物における環状有機基が、フェニレン基、シクロヘキシル基又はイソボルニル基である。   In a specific aspect of the resin particles according to the present invention, the cyclic organic group in the first polymerizable compound is a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、前記第2の重合性化合物における環状有機基が、フェニレン基、シクロヘキシル基又はイソボルニル基である。   In a specific aspect of the resin particles according to the present invention, the cyclic organic group in the second polymerizable compound is a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、前記樹脂粒子は、アシッドホスフェート化合物を含む。   In a specific aspect of the resin particles according to the present invention, the resin particles include an acid phosphate compound.

本発明に係る樹脂粒子のある特定の局面では、前記樹脂粒子は、スペーサとして用いられるか、又は、表面上に導電部が形成され、前記導電部を有する導電性粒子を得るために用いられる。   In a specific aspect of the resin particle according to the present invention, the resin particle is used as a spacer or a conductive part is formed on a surface, and is used to obtain a conductive particle having the conductive part.

本発明の広い局面によれば、上述した樹脂粒子と、前記樹脂粒子の表面上に配置された導電部とを備える、導電性粒子が提供される。   According to a broad aspect of the present invention, there is provided a conductive particle including the above-described resin particle and a conductive portion disposed on a surface of the resin particle.

本発明の広い局面によれば、導電性粒子と、バインダーとを含み、前記導電性粒子が、上述した樹脂粒子と、前記樹脂粒子の表面上に配置された導電部とを備える、導電材料が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a conductive material including conductive particles and a binder, wherein the conductive particles include the resin particles described above and a conductive portion disposed on the surface of the resin particles, Provided.

本発明の広い局面によれば、上述した樹脂粒子と、バインダーとを含む、接着剤が提供される。   According to a broad aspect of the present invention, there is provided an adhesive including the resin particles described above and a binder.

本発明の広い局面によれば、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、前記接続部の材料が、上述した樹脂粒子を含み、前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記接続部により電気的に接続されている、接続構造体が提供される。   According to a broad aspect of the present invention, a first connection target member having a first electrode on a surface, a second connection target member having a second electrode on a surface, the first connection target member, A connection portion that connects the second connection target member, wherein the material of the connection portion includes the resin particles described above, and the first electrode and the second electrode are connected to the connection portion. A connection structure is provided that is electrically connected by the connection structure.

本発明の広い局面によれば、第1の液晶表示素子用部材と、第2の液晶表示素子用部材と、前記第1の液晶表示素子用部材と前記第2の液晶表示素子用部材との間に配置されたスペーサとを備え、前記スペーサが、上述した樹脂粒子である、液晶表示素子が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a first liquid crystal display element member, a second liquid crystal display element member, and a first liquid crystal display element member and a second liquid crystal display element member A liquid crystal display element is provided, comprising: a spacer disposed therebetween, wherein the spacer is the resin particles described above.

本発明に係る樹脂粒子は、重合性官能基を1個有し、かつ環状有機基を有する第1の重合性化合物と、重合性官能基を2個以上有し、かつ環状有機基を有する第2の重合性化合物との重合体である。本発明に係る樹脂粒子では、上記第1の重合性化合物に由来する構造の含有量の上記第2の重合性化合物に由来する構造の含有量に対する重量比が、7以上である。本発明に係る樹脂粒子では、樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の粒子径の加熱前の樹脂粒子の粒子径に対する比が、0.9以下である。本発明に係る樹脂粒子では、上記の構成が備えられているので、スプリングバックの発生を効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生を効果的に抑制することができる。   The resin particles according to the present invention have one polymerizable functional group and a first polymerizable compound having a cyclic organic group, and a second polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups and a cyclic organic group. 2 is a polymer with the polymerizable compound. In the resin particles according to the present invention, the weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound to the content of the structure derived from the second polymerizable compound is 7 or more. In the resin particles according to the present invention, when the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the particle diameter of the heated resin particles to the particle diameter of the resin particles before heating is 0.9 or less. Since the resin particles according to the present invention have the above-described configuration, the occurrence of springback can be effectively suppressed, and the occurrence of floating or peeling can be effectively suppressed.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing the conductive particles according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the conductive particles according to the second embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第3の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a conductive particle according to the third embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を用いた接続構造体の一例を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an example of a connection structure using the conductive particles according to the first embodiment of the present invention. 図5は、本発明に係る樹脂粒子を用いた接続構造体の一例を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a connection structure using the resin particles according to the present invention. 図6は、本発明に係る樹脂粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いた液晶表示素子の一例を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing one example of a liquid crystal display device using the resin particles according to the present invention as a spacer for a liquid crystal display device.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(樹脂粒子)
本発明に係る樹脂粒子は、重合性官能基を1個有し、かつ環状有機基を有する第1の重合性化合物と、重合性官能基を2個以上有し、かつ環状有機基を有する第2の重合性化合物との重合体である。本発明に係る樹脂粒子では、上記第1の重合性化合物に由来する構造の含有量(WM)の、上記第2の重合性化合物に由来する構造の含有量(WD)に対する重量比(WM/WD)は、7以上である。本発明に係る樹脂粒子では、樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の粒子径の加熱前の樹脂粒子の粒子径に対する比(加熱後の樹脂粒子の粒子径/加熱前の樹脂粒子の粒子径)は、0.9以下である。
(Resin particles)
The resin particles according to the present invention have one polymerizable functional group and a first polymerizable compound having a cyclic organic group, and a second polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups and a cyclic organic group. 2 is a polymer with the polymerizable compound. In the resin particles according to the present invention, the weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound (WM) to the content of the structure derived from the second polymerizable compound (WD) (WM / WD) is 7 or more. In the resin particles according to the present invention, when the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the particle diameter of the heated resin particles to the particle diameter of the resin particles before heating (particle diameter of heated resin particles / The particle diameter of the resin particles before heating is 0.9 or less.

本発明では、上記の構成が備えられているので、スプリングバックの発生を効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生を効果的に抑制することができる。   In the present invention, since the above configuration is provided, the occurrence of springback can be effectively suppressed, and the occurrence of floating or peeling can be effectively suppressed.

本発明に係る樹脂粒子では、上記の構成が備えられているので、圧縮回復率が比較的低く、圧縮された樹脂粒子が元の形状に戻ろうとする作用が比較的働き難く、スプリングバックが発生し難い。例えば、本発明に係る樹脂粒子を導電性粒子として用いた場合には、導電性粒子と電極との接触面積の低下を効果的に防止することができ、電極間の導通信頼性を効果的に高めることができる。また、本発明に係る樹脂粒子をスペーサとして用いた場合には、スペーサを液晶表示素子用部材等に十分に接触させることができ、ギャップをより一層高精度に制御することができる。   Since the resin particles according to the present invention are provided with the above-described configuration, the compression recovery rate is relatively low, the action of the compressed resin particles to return to the original shape is relatively hard to work, and springback occurs. Difficult to do. For example, when the resin particles according to the present invention are used as conductive particles, a decrease in the contact area between the conductive particles and the electrodes can be effectively prevented, and the conduction reliability between the electrodes can be effectively reduced. Can be enhanced. Further, when the resin particles according to the present invention are used as spacers, the spacers can be brought into sufficient contact with a member for a liquid crystal display element or the like, and the gap can be controlled with higher precision.

また、導電性粒子とバインダーとを含む導電材料や、スペーサとバインダーとを含む接着剤は、使用時に加熱環境に曝されることがあり、加熱によりバインダーが硬化収縮することがある。本発明に係る樹脂粒子では、上記の構成が備えられているので、樹脂粒子が加熱により比較的容易に収縮する。加熱後の樹脂粒子の粒子径は、加熱前の樹脂粒子の粒子径よりも適度に小さくなるので、樹脂粒子がバインダーの硬化収縮にも追随することができる。結果として、導電材料と電極との間、又は、接着剤と液晶表示素子用部材等との間において、浮き又は剥離の発生を効果的に抑制することができる。   In addition, a conductive material containing conductive particles and a binder, or an adhesive containing a spacer and a binder may be exposed to a heating environment at the time of use, and the binder may cure and shrink when heated. Since the resin particles according to the present invention have the above-described configuration, the resin particles contract relatively easily by heating. Since the particle size of the resin particles after heating is appropriately smaller than the particle size of the resin particles before heating, the resin particles can follow the curing shrinkage of the binder. As a result, floating or peeling can be effectively suppressed between the conductive material and the electrode or between the adhesive and the member for a liquid crystal display element.

本発明に係る樹脂粒子では、上記第1の重合性化合物に由来する構造の含有量(WM)の、上記第2の重合性化合物に由来する構造の含有量(WD)に対する重量比(WM/WD)は、7以上である。スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、上記重量比(WM/WD)は、好ましくは9以上、より好ましくは13以上であり、好ましくは20以下、より好ましくは17以下である。   In the resin particles according to the present invention, the weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound (WM) to the content of the structure derived from the second polymerizable compound (WD) (WM / WD) is 7 or more. The weight ratio (WM / WD) is preferably 9 or more, and more preferably, from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback and the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of floating or peeling. It is 13 or more, preferably 20 or less, more preferably 17 or less.

上記第1の重合性化合物に由来する構造の含有量(WM)及び上記第2の重合性化合物に由来する構造の含有量(WD)を求める方法としては、以下の方法が挙げられる。重合体を得る際に用いた第1,第2の重合性化合物の配合量及び重合後の第1,第2の重合性化合物の残存量から、重合した第1,第2の重合性化合物の量を求め、重合した第1,第2の重合性化合物の量から算出する。   Examples of a method for obtaining the content (WM) of the structure derived from the first polymerizable compound and the content (WD) of the structure derived from the second polymerizable compound include the following methods. From the compounding amounts of the first and second polymerizable compounds used when obtaining the polymer and the remaining amount of the first and second polymerizable compounds after polymerization, the polymerized first and second polymerizable compounds The amount is determined and calculated from the amount of the polymerized first and second polymerizable compounds.

また、樹脂粒子から上記第1の重合性化合物に由来する構造の含有量(WM)及び上記第2の重合性化合物に由来する構造の含有量(WD)を求める方法としては、以下の方法が挙げられる。重合体を得る際に用いた第1,第2の重合性化合物のそれぞれの樹脂粒子における官能基の量や、重合体を得る際に用いた第1,第2の重合性化合物のそれぞれの樹脂粒子における官能基が反応した基の量から算出する。   The method for determining the content (WM) of the structure derived from the first polymerizable compound and the content (WD) of the structure derived from the second polymerizable compound from the resin particles is as follows. No. The amount of the functional group in each of the resin particles of the first and second polymerizable compounds used in obtaining the polymer, and the respective resins of the first and second polymerizable compounds used in obtaining the polymer It is calculated from the amount of the group reacted with the functional group in the particles.

本発明に係る樹脂粒子では、樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の粒子径の加熱前の樹脂粒子の粒子径に対する比(加熱後の樹脂粒子の粒子径/加熱前の樹脂粒子の粒子径)は、0.9以下である。浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、上記比(加熱後の樹脂粒子の粒子径/加熱前の樹脂粒子の粒子径)は、好ましくは0.4以上、より好ましくは0.6以上であり、好ましくは0.85以下、より好ましくは0.8以下である。   In the resin particles according to the present invention, when the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the particle diameter of the heated resin particles to the particle diameter of the resin particles before heating (particle diameter of heated resin particles / The particle diameter of the resin particles before heating is 0.9 or less. From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of floating or peeling, the ratio (particle diameter of resin particles after heating / particle diameter of resin particles before heating) is preferably 0.4 or more, more preferably It is 0.6 or more, preferably 0.85 or less, more preferably 0.8 or less.

上記樹脂粒子の粒子径(上記加熱前の樹脂粒子の粒子径)は、用途に応じて適宜設定することができる。上記樹脂粒子の粒子径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上であり、好ましくは500μm以下、より好ましくは300μm以下、より一層好ましくは150μm以下、さらに好ましくは100μm以下、特に好ましくは50μm以下である。上記樹脂粒子の粒子径が、上記下限以上及び上記上限以下であると、スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制することができる。上記樹脂粒子の粒子径が、0.5μm以上500μm以下であると、上記樹脂粒子を導電性粒子の用途に好適に用いることができる。上記樹脂粒子の粒子径が、0.5μm以上500μm以下であると、上記樹脂粒子をスペーサの用途に好適に用いることができる。   The particle size of the resin particles (the particle size of the resin particles before heating) can be appropriately set depending on the application. The particle size of the resin particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 500 μm or less, more preferably 300 μm or less, even more preferably 150 μm or less, even more preferably 100 μm or less, particularly preferably It is 50 μm or less. When the particle size of the resin particles is equal to or greater than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the occurrence of springback can be more effectively suppressed, and the occurrence of floating or peeling can be more effectively suppressed. be able to. When the particle diameter of the resin particles is 0.5 μm or more and 500 μm or less, the resin particles can be suitably used for conductive particles. When the particle diameter of the resin particles is 0.5 μm or more and 500 μm or less, the resin particles can be suitably used for a spacer.

上記樹脂粒子の粒子径(加熱前の樹脂粒子の粒子径及び加熱後の樹脂粒子の粒子径)は、樹脂粒子が真球状である場合には、直径を示し、樹脂粒子が真球状ではない場合には、最大径を示す。   The particle diameter of the resin particles (the particle diameter of the resin particles before heating and the particle diameter of the resin particles after heating) indicates the diameter when the resin particles are truly spherical, and when the resin particles are not truly spherical. Indicates the maximum diameter.

上記樹脂粒子の粒子径(加熱前の樹脂粒子の粒子径及び加熱後の樹脂粒子の粒子径)は、平均粒子径であることが好ましく、数平均粒子径であることがより好ましい。上記樹脂粒子の粒子径は、粒度分布測定装置等を用いて求められる。例えば、レーザー散乱光、電気抵抗値変化、撮像後の画像解析等の原理を用いた粒度分布測定装置を用いることができる。具体的には、樹脂粒子の粒子径の測定方法としては、例えば、粒度分布測定装置(ベックマンコールター社製「Multisizer4」)を用いて、約100000個の樹脂粒子の粒子径を測定し、平均値を算出する方法等が挙げられる。樹脂粒子の粒子径は、任意の樹脂粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求めることが好ましい。導電性粒子において、上記樹脂粒子の粒子径を測定する場合には、例えば、以下のようにして測定できる。   The particle size of the resin particles (the particle size of the resin particles before heating and the particle size of the resin particles after heating) is preferably an average particle size, and more preferably a number average particle size. The particle size of the resin particles is determined using a particle size distribution measuring device or the like. For example, a particle size distribution measuring apparatus using principles such as laser scattered light, electric resistance change, and image analysis after imaging can be used. Specifically, as a method for measuring the particle size of the resin particles, for example, using a particle size distribution measuring device (“Multisizer 4” manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the particle size of about 100,000 resin particles is measured, and the average value is measured. Is calculated. The particle diameter of the resin particles is preferably obtained by observing 50 arbitrary resin particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value. When measuring the particle size of the resin particles in the conductive particles, the measurement can be performed, for example, as follows.

導電性粒子の含有量が30重量%となるように、Kulzer社製「テクノビット4000」に添加し、分散させて、導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製する。検査用埋め込み樹脂中に分散した導電性粒子の中心付近を通るようにイオンミリング装置(日立ハイテクノロジーズ社製「IM4000」)を用いて、導電性粒子の断面を切り出す。そして、電界放射型走査型電子顕微鏡(FE−SEM)を用いて、画像倍率を25000倍に設定し、50個の導電性粒子を無作為に選択し、各導電性粒子の樹脂粒子を観察する。各導電性粒子における樹脂粒子の粒子径を計測し、それらを算術平均して樹脂粒子の粒子径とする。   A conductive particle inspection embedding resin is prepared by adding and dispersing the conductive particles to “Technobit 4000” manufactured by Kulzer so that the content of the conductive particles becomes 30% by weight. The cross section of the conductive particles is cut out using an ion milling apparatus (“IM4000” manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) so as to pass near the center of the conductive particles dispersed in the resin for inspection. Then, using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), the image magnification is set to 25,000 times, 50 conductive particles are randomly selected, and the resin particles of each conductive particle are observed. . The particle diameter of the resin particles in each conductive particle is measured, and arithmetically averaged to obtain the particle diameter of the resin particles.

スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、上記樹脂粒子の粒子径の変動係数(CV値)は、好ましくは0.5%以上、より好ましくは1%以上であり、好ましくは10%以下、より好ましくは7%以下である。上記樹脂粒子の粒子径の変動係数が、上記下限以上及び上記上限以下であると、上記樹脂粒子をスペーサ及び導電性粒子の用途に好適に用いることができる。但し、上記樹脂粒子の粒子径の変動係数は、0.5%未満であってもよい。   From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback and the more effectively suppressing the occurrence of floating or peeling, the coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the resin particles is preferably 0. It is at least 0.5%, more preferably at least 1%, preferably at most 10%, more preferably at most 7%. When the variation coefficient of the particle diameter of the resin particles is equal to or greater than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the resin particles can be suitably used for spacers and conductive particles. However, the coefficient of variation of the particle size of the resin particles may be less than 0.5%.

上記変動係数(CV値)は、以下のようにして測定できる。   The variation coefficient (CV value) can be measured as follows.

CV値(%)=(ρ/Dn)×100
ρ:樹脂粒子の粒子径の標準偏差
Dn:樹脂粒子の粒子径の平均値
CV value (%) = (ρ / Dn) × 100
ρ: Standard deviation of particle diameter of resin particles Dn: Average value of particle diameter of resin particles

上記樹脂粒子の形状は特に限定されない。上記樹脂粒子の形状は、球状であってもよく、扁平状等の球形状以外の形状であってもよい。   The shape of the resin particles is not particularly limited. The shape of the resin particles may be spherical or may be other than spherical, such as flat.

樹脂粒子の10%K値は、好ましくは1000N/mm以上、より好ましくは1500N/mm以上であり、好ましくは3000N/mm以下、より好ましくは2750N/mm以下、さらに好ましくは2500N/mm以下である。上記樹脂粒子の10%K値が、上記下限以上及び上記上限以下であると、スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制することができる。10% K value of the resin particles is preferably 1000 N / mm 2 or more, more preferably 1500 N / mm 2 or more, preferably 3000N / mm 2 or less, more preferably 2750N / mm 2 or less, more preferably 2500N / it mm 2 or less. When the 10% K value of the resin particles is equal to or more than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the occurrence of springback can be more effectively suppressed, and the occurrence of floating or peeling can be more effectively prevented. Can be suppressed.

樹脂粒子の30%K値は、好ましくは300N/mm以上、より好ましくは500N/mm以上であり、好ましくは1500N/mm以下、より好ましくは1200N/mm以下、さらに好ましくは1000N/mm以下である。上記樹脂粒子の30%K値が、上記下限以上及び上記上限以下であると、スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制することができる。The 30% K value of the resin particles is preferably 300 N / mm 2 or more, more preferably 500 N / mm 2 or more, preferably 1500 N / mm 2 or less, more preferably 1200 N / mm 2 or less, and even more preferably 1000 N / mm 2 or less. it mm 2 or less. When the 30% K value of the resin particles is equal to or greater than the lower limit and equal to or less than the upper limit, generation of springback can be more effectively suppressed, and occurrence of floating or peeling can be more effectively reduced. Can be suppressed.

樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の30%K値の加熱前の樹脂粒子の30%K値に対する比(加熱後の樹脂粒子の30%K値/加熱前の樹脂粒子の30%K値)は、好ましくは0.8以上、より好ましくは1.15以上、さらに好ましくは1.2以上である。樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の30%K値の加熱前の樹脂粒子の30%K値に対する比(加熱後の樹脂粒子の30%K値/加熱前の樹脂粒子の30%K値)は、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.45以下、さらに好ましくは1.4以下である。上記比(加熱後の樹脂粒子の30%K値/加熱前の樹脂粒子の30%K値)が、上記下限以上及び上記上限以下であると、スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制することができる。   When the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the 30% K value of the resin particles after heating to the 30% K value of the resin particles before heating (30% K value of the resin particles after heating / before heating) (30% K value of the resin particles) is preferably 0.8 or more, more preferably 1.15 or more, and still more preferably 1.2 or more. When the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the 30% K value of the resin particles after heating to the 30% K value of the resin particles before heating (30% K value of the resin particles after heating / before heating) (30% K value of the resin particles) is preferably 1.5 or less, more preferably 1.45 or less, and still more preferably 1.4 or less. When the ratio (30% K value of resin particles after heating / 30% K value of resin particles before heating) is not less than the lower limit and not more than the upper limit, generation of springback is more effectively suppressed. And the occurrence of floating or peeling can be more effectively suppressed.

上記樹脂粒子の10%K値及び30%K値(樹脂粒子を10%圧縮したときの圧縮弾性率及び30%圧縮したときの圧縮弾性率)は、以下のようにして測定できる。   The 10% K value and the 30% K value (compression elastic modulus when the resin particles are compressed by 10% and compression elastic modulus when the resin particles are compressed by 30%) of the resin particles can be measured as follows.

微小圧縮試験機を用いて、円柱(直径100μm、ダイヤモンド製)の平滑圧子端面で、25℃において、圧縮速度0.3mN/秒、及び最大試験荷重20mNの条件下で樹脂粒子1個を圧縮する。このときの荷重値(N)及び圧縮変位(mm)を測定する。得られた測定値から、25℃における10%K値又は30%K値を下記式により求めることができる。上記微小圧縮試験機として、例えば、島津製作所社製「微小圧縮試験機MCT−W200」、及びフィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」等が用いられる。上記樹脂粒子の10%K値又は30%K値は、任意に選択された50個の樹脂粒子の10%K値又は30%K値を算術平均することにより、算出することが好ましい。   Using a micro-compression tester, one resin particle is compressed under the conditions of a compression speed of 0.3 mN / sec and a maximum test load of 20 mN at 25 ° C. on a smooth indenter end face of a cylinder (diameter: 100 μm, made of diamond). . At this time, the load value (N) and the compression displacement (mm) are measured. From the obtained measured values, a 10% K value or a 30% K value at 25 ° C. can be determined by the following equation. As the micro compression tester, for example, "Micro compression tester MCT-W200" manufactured by Shimadzu Corporation and "Fischer Scope H-100" manufactured by Fischer are used. The 10% K value or 30% K value of the resin particles is preferably calculated by arithmetically averaging the 10% K value or 30% K value of the arbitrarily selected 50 resin particles.

10%K値又は30%K値(N/mm)=(3/21/2)・F・S−3/2・R−1/2
F:樹脂粒子が10%圧縮変形したときの荷重値(N)又は30%圧縮変形したときの荷重値(N)
S:樹脂粒子が10%圧縮変形したときの圧縮変位(mm)又は30%圧縮変形したときの圧縮変位(mm)
R:樹脂粒子の半径(mm)
10% K value or 30% K value (N / mm 2 ) = (3/2 1/2 ) ・FS -3 / 2・ R 1 /
F: Load value when resin particles undergo 10% compression deformation (N) or load value when 30% compression deformation occurs (N)
S: Compressive displacement (mm) when resin particles undergo 10% compressive deformation or compressive displacement (mm) when resin particles undergo 30% compressive deformation
R: radius of resin particles (mm)

上記K値は、樹脂粒子の硬さを普遍的かつ定量的に表す。上記K値を用いることにより、樹脂粒子の硬さを定量的かつ一義的に表すことができる。   The K value universally and quantitatively represents the hardness of the resin particles. By using the K value, the hardness of the resin particles can be quantitatively and uniquely expressed.

スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、樹脂粒子の60%圧縮変形させた際の圧縮回復率は、好ましくは2%以上、より好ましくは4%以上であり、好ましくは10%以下、より好ましくは9.5%以下、さらに好ましくは9%以下である。   From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of floating or peeling, the compression recovery rate when the resin particles are subjected to 60% compression deformation is preferably It is at least 2%, more preferably at least 4%, preferably at most 10%, more preferably at most 9.5%, even more preferably at most 9%.

上記樹脂粒子の60%圧縮変形させた際の圧縮回復率は、以下のようにして測定できる。   The compression recovery rate when the resin particles are compressed and deformed by 60% can be measured as follows.

試料台上に樹脂粒子を散布する。散布された樹脂粒子1個について、微小圧縮試験機を用いて、円柱(直径100μm、ダイヤモンド製)の平滑圧子端面で、25℃において、樹脂粒子の中心方向に、樹脂粒子が60%圧縮変形するまで負荷(反転荷重値)を与える。その後、原点用荷重値(0.40mN)まで除荷を行う。この間の荷重−圧縮変位を測定し、下記式から25℃における60%圧縮変形させた際の圧縮回復率を求めることができる。なお、負荷速度は0.33mN/秒とする。上記微小圧縮試験機として、例えば、島津製作所社製「微小圧縮試験機MCT−W200」、及びフィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」等が用いられる。   Spray resin particles on the sample stage. Using a micro-compression tester, one dispersed resin particle is subjected to 60% compression deformation of the resin particle toward the center of the resin particle at 25 ° C. at the end face of a cylindrical (diameter: 100 μm, made of diamond) smooth indenter. Apply load (reversal load value) up to. Thereafter, unloading is performed up to the origin load value (0.40 mN). The load-compression displacement during this time is measured, and the compression recovery rate at the time of 60% compression deformation at 25 ° C. can be obtained from the following equation. The load speed is 0.33 mN / sec. As the micro compression tester, for example, "Micro compression tester MCT-W200" manufactured by Shimadzu Corporation and "Fischer Scope H-100" manufactured by Fischer are used.

圧縮回復率(%)=[L2/L1]×100
L1:負荷を与えるときの原点用荷重値から反転荷重値に至るまでの圧縮変位
L2:負荷を解放するときの反転荷重値から原点用荷重値に至るまでの除荷変位
Compression recovery rate (%) = [L2 / L1] × 100
L1: Compressive displacement from load value for origin to reverse load value when applying load L2: Unload displacement from reverse load value to load value for origin when releasing load

上記樹脂粒子の用途は特に限定されない。上記樹脂粒子は、様々な用途に好適に用いられる。上記樹脂粒子は、スペーサとして用いられるか、又は導電部を有する導電性粒子を得るために用いられることが好ましい。上記導電性粒子において、上記導電部は、上記樹脂粒子の表面上に形成される。上記樹脂粒子は、スペーサとして用いられることが好ましい。上記樹脂粒子は、導電部を有する導電性粒子を得るために用いられることが好ましい。上記スペーサの使用方法としては、液晶表示素子用スペーサ、ギャップ制御用スペーサ、及び応力緩和用スペーサ等が挙げられる。上記ギャップ制御用スペーサは、スタンドオフ高さ及び平坦性を確保するための積層チップのギャップ制御、並びに、ガラス面の平滑性及び接着剤層の厚みを確保するための光学部品のギャップ制御等に用いることができる。上記応力緩和用スペーサは、センサチップ等の応力緩和、及び2つの接続対象部材を接続している接続部の応力緩和等に用いることができる。   The use of the resin particles is not particularly limited. The resin particles are suitably used for various applications. The resin particles are preferably used as spacers or used to obtain conductive particles having a conductive portion. In the conductive particle, the conductive portion is formed on a surface of the resin particle. The resin particles are preferably used as a spacer. The resin particles are preferably used to obtain conductive particles having a conductive part. Examples of the method of using the spacer include a spacer for a liquid crystal display element, a spacer for gap control, a spacer for stress relaxation, and the like. The gap control spacer is used for gap control of a laminated chip for securing stand-off height and flatness, and gap control of an optical component for securing smoothness of a glass surface and thickness of an adhesive layer. Can be used. The stress relaxation spacer can be used for stress relaxation of a sensor chip and the like, and stress relaxation of a connection portion connecting two connection target members.

上記樹脂粒子は、液晶表示素子用スペーサとして用いられることが好ましく、液晶表示素子用周辺シール剤に用いられることが好ましい。上記液晶表示素子用周辺シール剤において、上記樹脂粒子は、スペーサとして機能することが好ましい。上記樹脂粒子は、良好な圧縮変形特性を有するので、上記樹脂粒子をスペーサとして用いて基板間に配置したり、表面に導電部を形成して導電性粒子として用いて電極間を電気的に接続したりした場合に、スペーサ又は導電性粒子が、基板間又は電極間に効率的に配置される。さらに、上記樹脂粒子では、液晶表示素子用部材等の傷付きを抑えることができるので、上記液晶表示素子用スペーサを用いた液晶表示素子及び上記導電性粒子を用いた接続構造体において、接続不良及び表示不良が生じ難くなる。   The resin particles are preferably used as a spacer for a liquid crystal display element, and are preferably used as a peripheral sealant for a liquid crystal display element. In the peripheral sealant for a liquid crystal display element, the resin particles preferably function as spacers. Since the resin particles have good compressive deformation characteristics, the resin particles are arranged between substrates by using the resin particles as spacers, or a conductive portion is formed on the surface to electrically connect the electrodes by using the conductive particles as conductive particles. In this case, spacers or conductive particles are efficiently disposed between the substrates or between the electrodes. Further, since the resin particles can suppress damage to the liquid crystal display element member and the like, poor connection is caused in the liquid crystal display element using the liquid crystal display element spacer and the connection structure using the conductive particles. In addition, display defects are less likely to occur.

さらに、上記樹脂粒子は、無機充填材、トナーの添加剤、衝撃吸収剤又は振動吸収剤としても好適に用いられる。例えば、ゴム又はバネ等の代替品として、上記樹脂粒子を用いることができる。   Further, the resin particles are suitably used as an inorganic filler, a toner additive, a shock absorber or a vibration absorber. For example, the above resin particles can be used as a substitute for rubber or a spring.

(樹脂粒子のその他の詳細)
本発明に係る樹脂粒子は、重合性官能基を1個有し、かつ環状有機基を有する第1の重合性化合物と、重合性官能基を2個以上有し、かつ環状有機基を有する第2の重合性化合物との重合体である。上記樹脂粒子は、上記第1の重合性化合物と、上記第2の重合性化合物とを重合させて得ることが好ましい。
(Other details of resin particles)
The resin particles according to the present invention have one polymerizable functional group and a first polymerizable compound having a cyclic organic group, and a second polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups and a cyclic organic group. 2 is a polymer with the polymerizable compound. The resin particles are preferably obtained by polymerizing the first polymerizable compound and the second polymerizable compound.

スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、上記樹脂粒子では、樹脂粒子の中心部と樹脂粒子の表面部とが同一の上記重合体で構成されていることが好ましい。上記樹脂粒子の中心部における重合性化合物の配合比と、上記樹脂粒子の表面部における重合性化合物の配合比とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。上記樹脂粒子の中心部における構成成分の構成比と、上記樹脂粒子の表面部における構成成分の構成比とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。   From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of floating or peeling, in the resin particles, the central portion of the resin particles and the surface portion of the resin particles. It is preferable to be composed of the same polymer. The compounding ratio of the polymerizable compound at the center of the resin particles and the compounding ratio of the polymerizable compound at the surface of the resin particles may be the same or different. The composition ratio of the components at the center of the resin particles and the composition ratio of the components at the surface of the resin particles may be the same or different.

上記樹脂粒子では、樹脂粒子の中心部が中心部形成材料により形成されており、樹脂粒子の表面部が表面部形成材料により形成されていることが好ましい。スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、上記樹脂粒子では、上記中心部形成材料の成分と上記表面部形成材料の成分とは、同一であることが好ましい。上記樹脂粒子では、上記中心部形成材料の成分比と上記表面部形成材料の成分比とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、上記樹脂粒子では、上記中心部形成材料と上記表面部形成材料との双方を含む領域が存在することが好ましい。上記樹脂粒子では、上記中心部形成材料を含み、かつ上記表面部形成材料を含まないか又は上記表面部形成材料を25%未満で含む領域を、樹脂粒子が中心部に有することが好ましい。上記樹脂粒子では、上記表面部形成材料を含み、かつ上記中心部形成材料を含まないか又は上記中心部形成材料を25%未満で含む領域を、樹脂粒子が表面部に有することが好ましい。   In the resin particles, it is preferable that the center of the resin particles is formed of a material for forming a center portion, and the surface portion of the resin particles is formed of a material for forming a surface portion. From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of floating or peeling, in the resin particles, the components of the central portion forming material and the surface portion forming material The components are preferably the same. In the resin particles, the component ratio of the central portion forming material and the component ratio of the surface portion forming material may be the same or different. In addition, it is preferable that the resin particles have a region including both the center portion forming material and the surface portion forming material. In the resin particles, it is preferable that the resin particles have a region in the center portion that includes the center portion forming material and does not include the surface portion forming material or includes the surface portion forming material in less than 25%. In the resin particles, it is preferable that the resin particles have a region on the surface portion that includes the surface portion forming material and does not include the center portion forming material or includes the center portion forming material in less than 25%.

上記樹脂粒子は、コアと、該コアの表面上に配置されたシェルとを備えるコアシェル粒子ではないことが好ましく、樹脂粒子内で、コアとシェルとの界面を有さないことが好ましい。上記樹脂粒子は、樹脂粒子内で、界面を有さないことが好ましく、異なる面同士が接触している界面を有さないことがより好ましい。上記樹脂粒子は、表面が存在する不連続部分を有さないことが好ましく、構造表面が存在する不連続部分を有さないことが好ましい。   The resin particles are preferably not core-shell particles having a core and a shell disposed on the surface of the core, and preferably do not have an interface between the core and the shell in the resin particles. The resin particles preferably have no interface in the resin particles, and more preferably do not have an interface where different surfaces are in contact with each other. The resin particles preferably do not have a discontinuous portion where a surface is present, and preferably do not have a discontinuous portion where a structural surface is present.

本発明に係る樹脂粒子では、上記第1の重合性化合物は、重合性官能基(第1の重合性官能基)を1個有する。上記重合性官能基(第1の重合性官能基)としては特に限定されず、例えば、ビニル基、アクリロイル基及びメタクリロイル基等が挙げられる。上記第1の重合性化合物としては、スチレン、メタクリル酸フェニル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、イソボルニルメタクリレート及びイソボルニルアクリレート等が挙げられる。上記第1の重合性化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   In the resin particles according to the present invention, the first polymerizable compound has one polymerizable functional group (first polymerizable functional group). The polymerizable functional group (first polymerizable functional group) is not particularly limited, and includes, for example, a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group. Examples of the first polymerizable compound include styrene, phenyl methacrylate, phenyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl methacrylate, and isobornyl acrylate. As the first polymerizable compound, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

本発明に係る樹脂粒子では、上記第2の重合性化合物は、重合性官能基(第2の重合性官能基)を2個以上有する。上記重合性官能基(第2の重合性官能基)としては特に限定されず、例えば、ビニル基、アクリロイル基及びメタクリロイル基等が挙げられる。上記第2の重合性化合物としては、ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジビニルシクロヘキサン、及びトリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。上記第2の重合性化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   In the resin particles according to the present invention, the second polymerizable compound has two or more polymerizable functional groups (second polymerizable functional groups). The polymerizable functional group (second polymerizable functional group) is not particularly limited, and includes, for example, a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group. Examples of the second polymerizable compound include divinylbenzene, divinylnaphthalene, divinylcyclohexane, and trivinylcyclohexane. As the second polymerizable compound, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

上記樹脂粒子は、上記第1の重合性化合物と上記第2の重合性化合物とを重量比(第1の重合性化合物の重量/第2の重合性化合物の重量)で、好ましくは7以上、より好ましくは9以上、さらに好ましくは13以上、好ましくは20以下、より好ましくは18.5以下、さらに好ましくは17以下で重合させて得ることがさらに好ましい。上記樹脂粒子は、上記第1の重合性化合物と上記第2の重合性化合物とを重量比で、7以上で重合させて得ることが好ましく、9以上で重合させて得ることがより好ましく、13以上で重合させて得ることがさらに好ましい。上記樹脂粒子は、上記第1の重合性化合物と上記第2の重合性化合物とを重量比で、20以下で重合させて得ることが好ましく、18.5以下で重合させて得ることがより好ましく、17以下で重合させて得ることがさらに好ましい。上記樹脂粒子は、上記第1の重合性化合物と上記第2の重合性化合物とを上記の好ましい範囲の重量比で重合させて得ることにより、スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制することができ、かつ、浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制することができる。   The resin particles are preferably in a weight ratio of the first polymerizable compound and the second polymerizable compound (weight of the first polymerizable compound / weight of the second polymerizable compound) of 7 or more; More preferably, it is obtained by polymerization at 9 or more, more preferably 13 or more, preferably 20 or less, more preferably 18.5 or less, and still more preferably 17 or less. The resin particles are preferably obtained by polymerizing the first polymerizable compound and the second polymerizable compound at a weight ratio of 7 or more, more preferably 9 or more, and more preferably 13 or more. It is more preferable to obtain the above by polymerization. The resin particles are preferably obtained by polymerizing the first polymerizable compound and the second polymerizable compound at a weight ratio of 20 or less, more preferably 18.5 or less. , 17 or less. The resin particles are obtained by polymerizing the first polymerizable compound and the second polymerizable compound at a weight ratio within the above-mentioned preferred range, thereby suppressing the occurrence of springback more effectively. And the occurrence of floating or peeling can be more effectively suppressed.

本発明に係る樹脂粒子は、2種以上の環状有機基を含むことが好ましい。本発明に係る樹脂粒子では、上記第1の重合性化合物は環状有機基(第1の環状有機基)を有する。上記第1の重合性化合物は環状有機基を1個以上有する。本発明に係る樹脂粒子では、上記第2の重合性化合物は環状有機基(第2の環状有機基)を有する。上記第2の重合性化合物は環状有機基を1個以上有する。本発明に係る樹脂粒子では、上記第1の重合性化合物における環状有機基(第1の環状有機基)と上記第2の重合性化合物における環状有機基(第2の環状有機基)とは同一であってもよく、異なっていてもよい。上記第1の重合性化合物における環状有機基(第1の環状有機基)と上記第2の重合性化合物における環状有機基(第2の環状有機基)とは、異なることが好ましい。   The resin particles according to the present invention preferably contain two or more types of cyclic organic groups. In the resin particles according to the present invention, the first polymerizable compound has a cyclic organic group (first cyclic organic group). The first polymerizable compound has one or more cyclic organic groups. In the resin particles according to the present invention, the second polymerizable compound has a cyclic organic group (second cyclic organic group). The second polymerizable compound has one or more cyclic organic groups. In the resin particles according to the present invention, the cyclic organic group (first cyclic organic group) in the first polymerizable compound and the cyclic organic group (second cyclic organic group) in the second polymerizable compound are the same. And may be different. It is preferable that the cyclic organic group (first cyclic organic group) in the first polymerizable compound and the cyclic organic group (second cyclic organic group) in the second polymerizable compound are different.

スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、上記第1の重合性化合物における環状有機基(第1の環状有機基)と上記第2の重合性化合物における環状有機基(第2の環状有機基)とがそれぞれ、炭化水素基であることが好ましい。   From the viewpoint of suppressing the occurrence of springback more effectively and the viewpoint of suppressing the occurrence of floating or peeling more effectively, the cyclic organic group (the first cyclic organic group) in the first polymerizable compound is preferred. ) And the cyclic organic group (second cyclic organic group) in the second polymerizable compound are each preferably a hydrocarbon group.

上記炭化水素基としては、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、ナフチレン基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、イソボルニル基、及びジシクロペンタニル基等が挙げられる。   Examples of the hydrocarbon group include a phenyl group, a phenylene group, a naphthyl group, a naphthylene group, a cyclopropyl group, a cyclohexyl group, an isobornyl group, and a dicyclopentanyl group.

スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、本発明に係る樹脂粒子は、フェニレン基、シクロヘキシル基又はイソボルニル基の中の2個以上の環状有機基を有することが好ましい。   From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of lifting or peeling, the resin particles according to the present invention are preferably phenylene, cyclohexyl, or isobornyl groups. It is preferable to have two or more cyclic organic groups.

スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、上記第1の重合性化合物における環状有機基(第1の環状有機基)は、フェニレン基、シクロヘキシル基又はイソボルニル基であることが好ましい。   From the viewpoint of suppressing the occurrence of springback more effectively and the viewpoint of suppressing the occurrence of floating or peeling more effectively, the cyclic organic group (the first cyclic organic group) in the first polymerizable compound is preferred. ) Is preferably a phenylene group, a cyclohexyl group or an isobornyl group.

スプリングバックの発生をより一層効果的に抑制する観点、及び浮き又は剥離の発生をより一層効果的に抑制する観点からは、上記第2の重合性化合物における環状有機基(第2の環状有機基)は、フェニレン基、シクロヘキシル基又はイソボルニル基であることが好ましい。   From the viewpoint of suppressing the occurrence of springback more effectively and the viewpoint of suppressing the occurrence of floating or peeling more effectively, the cyclic organic group (second cyclic organic group) in the second polymerizable compound is preferred. ) Is preferably a phenylene group, a cyclohexyl group or an isobornyl group.

上記樹脂粒子が導電性粒子として用いられる場合において、樹脂粒子とめっきとの密着性をより一層効果的に高める観点からは、上記樹脂粒子は、アシッドホスフェート化合物を含むことが好ましい。上記樹脂粒子は、表面上にアシッドホスフェート化合物に由来するリン酸構造を有することが好ましい。上記樹脂粒子が表面上に上記リン酸構造を有することで、めっきとの密着性をより一層効果的に高めることができる。さらに、上記樹脂粒子が表面上に上記リン酸構造を有することで、上記樹脂粒子が加熱によって収縮したとしても、めっき割れをより一層効果的に抑制することができる。例えば、アシッドホスフェート化合物を含む樹脂粒子を無電解めっきすることにより作製した導電性粒子と、バインダーとを含む導電材料では、電極間の接続の際に加熱されたり、導電材料が加熱環境に曝されたりしたとしても、めっき割れをより一層効果的に抑制することができ、電極間の接続信頼性をより一層効果的に高めることができる。上記樹脂粒子が導電性粒子を得るために用いられる場合には、上記樹脂粒子は、アシッドホスフェート化合物を含むことが好ましい。上記樹脂粒子が導電性粒子を得るために用いられる場合には、上記樹脂粒子は、表面上にアシッドホスフェート化合物に由来するリン酸構造を有することが好ましい。上記アシッドホスフェート化合物は、酸性リン酸エステル化合物であることが好ましい。   When the resin particles are used as conductive particles, the resin particles preferably contain an acid phosphate compound from the viewpoint of more effectively improving the adhesion between the resin particles and the plating. The resin particles preferably have a phosphoric acid structure derived from an acid phosphate compound on the surface. When the resin particles have the phosphoric acid structure on the surface, the adhesion to plating can be more effectively increased. Further, since the resin particles have the phosphoric acid structure on the surface, even if the resin particles shrink by heating, plating cracks can be more effectively suppressed. For example, in a conductive material containing a binder and a conductive particle produced by electroless plating resin particles containing an acid phosphate compound, the conductive material is heated at the time of connection between the electrodes, or the conductive material is exposed to a heating environment. Even if it does, plating cracks can be more effectively suppressed, and the connection reliability between the electrodes can be more effectively increased. When the resin particles are used to obtain conductive particles, the resin particles preferably include an acid phosphate compound. When the resin particles are used to obtain conductive particles, the resin particles preferably have a phosphoric acid structure derived from an acid phosphate compound on the surface. The acid phosphate compound is preferably an acidic phosphate compound.

上記アシッドホスフェート化合物としては、エチルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、2−エチルヘキシルアシッドホスフェート、イソトリデシルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、テトラコシルアシッドホスフェート、エチレングリコールアシッドホスフェート、2−ヒドロキシエチルメタクリルアシッドホスフェート、ジブチルアシッドホスフェート、及びビス(2−エチルヘキシル)アシッドホスフェート等が挙げられる。上記アシッドホスフェート化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the acid phosphate compound include ethyl acid phosphate, butyl acid phosphate, butoxyethyl acid phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, isotridecyl acid phosphate, oleyl acid phosphate, tetracosyl acid phosphate, ethylene glycol acid phosphate, and 2-hydroxy acid. Ethyl methacrylic acid phosphate, dibutyl acid phosphate, bis (2-ethylhexyl) acid phosphate and the like can be mentioned. One of the above acid phosphate compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

樹脂粒子とめっきとの密着性をより一層効果的に高める観点からは、上記樹脂粒子100重量%中、上記アシッドホスフェート化合物の含有量は、好ましくは1重量%以上、より好ましくは5重量%以上であり、好ましくは20重量%以下、より好ましくは15重量%以下である。   From the viewpoint of more effectively increasing the adhesion between the resin particles and the plating, the content of the acid phosphate compound in 100% by weight of the resin particles is preferably 1% by weight or more, more preferably 5% by weight or more. , Preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less.

(導電性粒子)
本発明に係る導電性粒子は、上述した樹脂粒子と、該樹脂粒子の表面上に配置された導電部とを備える。
(Conductive particles)
The conductive particles according to the present invention include the above-described resin particles and a conductive portion disposed on the surface of the resin particles.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。   FIG. 1 is a sectional view showing the conductive particles according to the first embodiment of the present invention.

図1に示す導電性粒子1は、樹脂粒子11と、樹脂粒子11の表面上に配置された導電部2とを有する。導電部2は、樹脂粒子11の表面に接している。導電部2は、樹脂粒子11の表面を覆っている。導電性粒子1は、樹脂粒子11の表面が導電部2により被覆された被覆粒子である。導電性粒子1では、導電部2は、単層の導電部(導電層)である。   The conductive particles 1 shown in FIG. 1 have resin particles 11 and conductive portions 2 arranged on the surface of the resin particles 11. The conductive part 2 is in contact with the surface of the resin particle 11. The conductive portion 2 covers the surface of the resin particle 11. The conductive particles 1 are coated particles in which the surfaces of the resin particles 11 are coated with the conductive portions 2. In the conductive particles 1, the conductive part 2 is a single-layer conductive part (conductive layer).

図2は、本発明の第2の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the conductive particles according to the second embodiment of the present invention.

図2に示す導電性粒子21は、樹脂粒子11と、樹脂粒子11の表面上に配置された導電部22とを有する。導電部22は全体で、樹脂粒子11側に第1の導電部22Aと、樹脂粒子11側とは反対側に第2の導電部22Bとを有する。   The conductive particles 21 shown in FIG. 2 have the resin particles 11 and the conductive portions 22 arranged on the surface of the resin particles 11. The conductive part 22 has a first conductive part 22A on the resin particle 11 side and a second conductive part 22B on the side opposite to the resin particle 11 side as a whole.

図1に示す導電性粒子1と図2に示す導電性粒子21とでは、導電部22のみが異なっている。すなわち、導電性粒子1では、1層構造の導電部が形成されているのに対し、導電性粒子21では、2層構造の第1の導電部22A及び第2の導電部22Bが形成されている。第1の導電部22Aと第2の導電部22Bとは、異なる導電部として形成されていてもよく、同一の導電部として形成されていてもよい。   The only difference between the conductive particles 1 shown in FIG. 1 and the conductive particles 21 shown in FIG. That is, in the conductive particles 1, a conductive portion having a one-layer structure is formed, whereas in the conductive particles 21, a first conductive portion 22A and a second conductive portion 22B having a two-layer structure are formed. I have. The first conductive part 22A and the second conductive part 22B may be formed as different conductive parts, or may be formed as the same conductive part.

第1の導電部22Aは、樹脂粒子11の表面上に配置されている。樹脂粒子11と第2の導電部22Bとの間に、第1の導電部22Aが配置されている。第1の導電部22Aは、樹脂粒子11に接している。第2の導電部22Bは、第1の導電部22Aに接している。樹脂粒子11の表面上に第1の導電部22Aが配置されており、第1の導電部22Aの表面上に第2の導電部22Bが配置されている。   The first conductive portion 22 </ b> A is arranged on the surface of the resin particle 11. The first conductive portion 22A is arranged between the resin particle 11 and the second conductive portion 22B. First conductive portion 22A is in contact with resin particles 11. The second conductive part 22B is in contact with the first conductive part 22A. The first conductive portion 22A is disposed on the surface of the resin particle 11, and the second conductive portion 22B is disposed on the surface of the first conductive portion 22A.

図3は、本発明の第3の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。   FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a conductive particle according to the third embodiment of the present invention.

図3に示す導電性粒子31は、樹脂粒子11と、導電部32と、複数の芯物質33と、複数の絶縁性物質34とを有する。導電部32は、樹脂粒子11の表面上に配置されている。複数の芯物質33は、樹脂粒子11の表面上に配置されている。導電部32は、樹脂粒子11と、複数の芯物質33とを覆うように、樹脂粒子11の表面上に配置されている。導電性粒子31では、導電部32は、単層の導電部(導電層)である。   The conductive particles 31 shown in FIG. 3 include the resin particles 11, conductive portions 32, a plurality of core materials 33, and a plurality of insulating materials 34. The conductive part 32 is arranged on the surface of the resin particle 11. The plurality of core substances 33 are arranged on the surface of the resin particles 11. The conductive part 32 is disposed on the surface of the resin particle 11 so as to cover the resin particle 11 and the plurality of core substances 33. In the conductive particles 31, the conductive part 32 is a single-layer conductive part (conductive layer).

導電性粒子31は外表面に、複数の突起31aを有する。導電性粒子31では、導電部32は外表面に、複数の突起32aを有する。複数の芯物質33は、導電部32の外表面を隆起させている。導電部32の外表面が複数の芯物質33によって隆起されていることで、突起31a及び32aが形成されている。複数の芯物質33は導電部32内に埋め込まれている。突起31a及び32aの内側に、芯物質33が配置されている。導電性粒子31では、突起31a及び32aを形成するために、複数の芯物質33を用いている。上記導電性粒子では、上記突起を形成するために、複数の上記芯物質を用いなくてもよい。上記導電性粒子は、複数の上記芯物質を備えていなくてもよい。   The conductive particles 31 have a plurality of protrusions 31a on the outer surface. In the conductive particles 31, the conductive portion 32 has a plurality of protrusions 32a on the outer surface. The plurality of core substances 33 raise the outer surface of the conductive part 32. The projections 31a and 32a are formed by the outer surface of the conductive portion 32 being raised by the plurality of core substances 33. The plurality of core substances 33 are embedded in the conductive part 32. The core substance 33 is disposed inside the projections 31a and 32a. In the conductive particles 31, a plurality of core substances 33 are used to form the projections 31a and 32a. In the conductive particles, a plurality of the core materials may not be used to form the protrusions. The conductive particles may not include a plurality of the core materials.

導電性粒子31は、導電部32の外表面上に配置された絶縁性物質34を有する。導電部32の外表面の少なくとも一部の領域が、絶縁性物質34により被覆されている。絶縁性物質34は絶縁性を有する材料により形成されており、絶縁性粒子である。このように、本発明に係る導電性粒子は、導電部の外表面上に配置された絶縁性物質を有していてもよい。但し、上記導電性粒子は、絶縁性物質を必ずしも有していなくてもよい。上記導電性粒子は、複数の絶縁性物質を備えていなくてもよい。   The conductive particles 31 have an insulating substance disposed on the outer surface of the conductive part 32. At least a part of the outer surface of the conductive portion 32 is covered with an insulating material 34. The insulating substance 34 is formed of a material having an insulating property, and is an insulating particle. Thus, the conductive particles according to the present invention may have an insulating substance disposed on the outer surface of the conductive part. However, the conductive particles do not necessarily have to have an insulating substance. The conductive particles need not include a plurality of insulating substances.

導電部:
上記導電部を形成するための金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、パラジウム、銅、白金、亜鉛、鉄、錫、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、ケイ素、タングステン、モリブデン及びこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びはんだ等が挙げられる。電極間の接続抵抗をより一層低くすることができるので、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムが好ましい。
Conductive part:
The metal for forming the conductive portion is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, palladium, copper, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, silicon, and tungsten. , Molybdenum and alloys thereof. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. An alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is preferable because the connection resistance between the electrodes can be further reduced.

また、導通信頼性を効果的に高めることができるので、上記導電部及び上記導電部の外表面部分はニッケルを含むことが好ましい。ニッケルを含む導電部100重量%中のニッケルの含有量は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは50重量%以上、より一層好ましくは60重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。上記ニッケルを含む導電部100重量%中のニッケルの含有量は、97重量%以上であってもよく、97.5重量%以上であってもよく、98重量%以上であってもよい。   Further, since the conduction reliability can be effectively improved, it is preferable that the conductive portion and the outer surface portion of the conductive portion contain nickel. The content of nickel in 100% by weight of the conductive portion containing nickel is preferably 10% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, still more preferably 60% by weight or more, further preferably 70% by weight or more, and particularly preferably. Is 90% by weight or more. The content of nickel in the conductive portion containing 100% by weight of nickel may be 97% by weight or more, 97.5% by weight or more, or 98% by weight or more.

なお、導電部の表面には、酸化により水酸基が存在することが多い。一般的に、ニッケルにより形成された導電部の表面には、酸化により水酸基が存在する。このような水酸基を有する導電部の表面(導電性粒子の表面)に、化学結合を介して、絶縁性物質を配置することができる。   Note that a hydroxyl group is often present on the surface of the conductive portion due to oxidation. Generally, a hydroxyl group is present on the surface of a conductive portion formed of nickel due to oxidation. An insulating substance can be arranged on the surface of the conductive portion having such a hydroxyl group (the surface of the conductive particles) via a chemical bond.

導電性粒子1,31のように、上記導電部は、1つの層により形成されていてもよい。導電性粒子21のように、導電部は、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、導電部は、2層以上の積層構造を有していてもよい。導電部が複数の層により形成されている場合には、最外層は、金層、ニッケル層、パラジウム層、銅層又は錫と銀とを含む合金層であることが好ましく、金層であることがより好ましい。最外層がこれらの好ましい導電部である場合には、電極間の接続抵抗をより一層効果的に低くすることができる。また、最外層が金層である場合には、耐腐食性をより一層効果的に高めることができる。   Like the conductive particles 1 and 31, the conductive portion may be formed by one layer. Like the conductive particles 21, the conductive portion may be formed by a plurality of layers. That is, the conductive portion may have a laminated structure of two or more layers. When the conductive portion is formed of a plurality of layers, the outermost layer is preferably a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or an alloy layer containing tin and silver, and is preferably a gold layer. Is more preferred. When the outermost layer is one of these preferred conductive portions, the connection resistance between the electrodes can be reduced even more effectively. When the outermost layer is a gold layer, the corrosion resistance can be more effectively increased.

上記樹脂粒子の表面に上記導電部を形成する方法は特に限定されない。上記導電部を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的蒸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを樹脂粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。導電部の形成が簡便であるので、無電解めっきによる方法が好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。   The method for forming the conductive portion on the surface of the resin particles is not particularly limited. As a method of forming the conductive portion, for example, a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and a method of coating the surface of resin particles with a metal powder or a paste containing a metal powder and a binder And the like. The method using electroless plating is preferable because the formation of the conductive portion is simple. Examples of the method by physical vapor deposition include methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering.

上記導電性粒子の粒子径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.0μm以上であり、好ましくは500μm以下、より好ましくは450μm以下、より一層好ましくは100μm以下、さらに好ましくは50μm以下、特に好ましくは20μm以下である。上記導電性粒子の粒子径が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が十分に大きくなり、かつ導電部を形成する際に凝集した導電性粒子が形成され難くなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電部が樹脂粒子の表面から剥離し難くなる。また、上記導電性粒子の粒子径が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性粒子を導電材料の用途に好適に使用可能である。   The particle size of the conductive particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more, preferably 500 μm or less, more preferably 450 μm or less, even more preferably 100 μm or less, even more preferably 50 μm or less, Particularly preferably, it is 20 μm or less. When the particle size of the conductive particles is equal to or greater than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrode is sufficiently large when the electrodes are connected using the conductive particles, and Aggregated conductive particles are less likely to be formed when forming the conductive portion. In addition, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive portion does not easily peel off from the surface of the resin particles. When the particle size of the conductive particles is equal to or larger than the lower limit and equal to or smaller than the upper limit, the conductive particles can be suitably used for a conductive material.

上記導電性粒子の粒子径は、導電性粒子が真球状である場合には、直径を示し、導電性粒子が真球状ではない場合には、最大径を示す。   The particle diameter of the conductive particles indicates a diameter when the conductive particles are truly spherical, and indicates a maximum diameter when the conductive particles are not truly spherical.

上記導電性粒子の粒子径は、平均粒子径であることが好ましく、数平均粒子径であることがより好ましい。上記導電性粒子の粒子径は、例えば、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することや、複数回のレーザー回折式粒度分布測定装置による測定結果の平均値を算出することにより求められる。   The particle size of the conductive particles is preferably an average particle size, and more preferably a number average particle size. The particle diameter of the conductive particles, for example, by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope, calculating the average value, and a plurality of times measurement results by a laser diffraction particle size distribution analyzer Is calculated by calculating the average value of.

上記導電部の厚みは、好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上であり、好ましくは10μm以下、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.3μm以下である。上記導電部の厚みが、上記下限以上及び上記上限以下であると、十分な導電性が得られ、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子が十分に変形する。   The thickness of the conductive portion is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 10 μm or less, more preferably 1 μm or less, and still more preferably 0.3 μm or less. When the thickness of the conductive portion is not less than the lower limit and not more than the upper limit, sufficient conductivity is obtained, and the conductive particles are not too hard, and the conductive particles are sufficiently formed at the time of connection between the electrodes. Deform.

上記導電部が複数の層により形成されている場合に、最外層の導電部の厚みは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上であり、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。上記最外層の導電部の厚みが、上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電部による被覆が均一になり、耐腐食性が十分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗が十分に低くなる。また、上記最外層が金層である場合に、金層の厚みが薄いほど、コストが低くなる。   When the conductive portion is formed of a plurality of layers, the thickness of the outermost conductive portion is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably Is 0.1 μm or less. When the thickness of the conductive portion of the outermost layer is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the coating by the conductive portion of the outermost layer becomes uniform, the corrosion resistance is sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes is sufficient. Lower. When the outermost layer is a gold layer, the cost is lower as the thickness of the gold layer is smaller.

上記導電部の厚みは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子の断面を観察することにより測定できる。上記導電部の厚みについては、任意の導電部の厚み5箇所の平均値を1個の導電性粒子の導電部の厚みとして算出することが好ましく、導電部全体の厚みの平均値を1個の導電部の厚みとして算出することがより好ましい。複数の導電性粒子の場合には、上記導電部の厚みは、好ましくは、任意の導電性粒子10個について、これらの平均値を算出して求められる。   The thickness of the conductive portion can be measured, for example, by observing a cross section of the conductive particles using a transmission electron microscope (TEM). Regarding the thickness of the conductive portion, it is preferable to calculate the average value of the five conductive portions at an arbitrary thickness as the thickness of the conductive portion of one conductive particle, and calculate the average value of the thickness of the entire conductive portion as one. More preferably, it is calculated as the thickness of the conductive portion. In the case of a plurality of conductive particles, the thickness of the conductive portion is preferably obtained by calculating an average value of these values for 10 arbitrary conductive particles.

芯物質:
上記導電性粒子は、上記導電部の外表面に複数の突起を有することが好ましい。上記導電性粒子が、上記導電部の外表面に複数の突起を有していることで、電極間の導通信頼性をより一層高めることができる。上記導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。さらに、上記導電性粒子の導電部の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。上記突起を有する導電性粒子を用いることで、電極間に導電性粒子を配置した後、圧着させることにより、突起により酸化被膜が効果的に排除される。このため、電極と導電性粒子とをより一層確実に接触させることができ、電極間の接続抵抗をより一層効果的に低くすることができる。さらに、上記導電性粒子が表面に絶縁性物質を有する場合、又は導電性粒子がバインダー樹脂中に分散されて導電材料として用いられる場合に、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁性物質やバインダー樹脂が効果的に排除される。このため、電極間の導通信頼性をより一層効果的に高めることができる。
Core material:
The conductive particles preferably have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion. Since the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion, the reliability of conduction between the electrodes can be further improved. An oxide film is often formed on the surface of the electrode connected by the conductive particles. Further, an oxide film is often formed on the surface of the conductive portion of the conductive particles. By using the conductive particles having the protrusions, the conductive particles are arranged between the electrodes, and then pressed, whereby the oxide film is effectively removed by the protrusions. For this reason, an electrode and conductive particles can be more reliably contacted, and the connection resistance between electrodes can be reduced more effectively. Furthermore, when the conductive particles have an insulating material on the surface, or when the conductive particles are dispersed in a binder resin and used as a conductive material, the protrusions of the conductive particles cause the conductive particles and the electrode to be in contact with each other. The insulating material and the binder resin between them are effectively eliminated. For this reason, the conduction reliability between the electrodes can be more effectively improved.

上記芯物質が上記導電部中に埋め込まれていることによって、上記導電部の外表面に複数の突起を容易に形成することができる。但し、導電性粒子の導電部の表面に突起を形成するために、芯物質を必ずしも用いなくてもよい。   By embedding the core material in the conductive portion, a plurality of protrusions can be easily formed on the outer surface of the conductive portion. However, in order to form a projection on the surface of the conductive portion of the conductive particles, the core material may not be necessarily used.

上記突起を形成する方法としては、樹脂粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電部を形成する方法、並びに樹脂粒子の表面に無電解めっきにより導電部を形成した後、芯物質を付着させ、さらに無電解めっきにより導電部を形成する方法等が挙げられる。上記突起を形成する他の方法としては、樹脂粒子の表面上に、第1の導電部を形成した後、該第1の導電部上に芯物質を配置し、次に第2の導電部を形成する方法、並びに樹脂粒子の表面上に導電部(第1の導電部又は第2の導電部等)を形成する途中段階で、芯物質を添加する方法等が挙げられる。また、突起を形成するために、上記芯物質を用いずに、樹脂粒子に無電解めっきにより導電部を形成した後、導電部の表面上に突起状にめっきを析出させ、さらに無電解めっきにより導電部を形成する方法等を用いてもよい。   As a method of forming the projections, after attaching a core substance to the surface of the resin particles, a method of forming a conductive portion by electroless plating, and after forming a conductive portion by electroless plating on the surface of the resin particles, A method of attaching a core substance and forming a conductive portion by electroless plating is also used. As another method of forming the above-mentioned protrusion, after forming a first conductive portion on the surface of the resin particles, a core substance is disposed on the first conductive portion, and then the second conductive portion is formed. Examples of the method include a forming method, and a method of adding a core substance in the middle of forming a conductive portion (such as a first conductive portion or a second conductive portion) on the surface of resin particles. Also, in order to form projections, without using the above-mentioned core substance, after forming a conductive portion on the resin particles by electroless plating, plating is deposited on the surface of the conductive portion in the form of protrusions, and further by electroless plating. A method of forming a conductive portion or the like may be used.

上記樹脂粒子の表面上に芯物質を配置する方法としては、例えば、樹脂粒子の分散液中に、芯物質を添加し、樹脂粒子の表面に芯物質を、ファンデルワールス力により集積させ、付着させる方法、並びに樹脂粒子を入れた容器に、芯物質を添加し、容器の回転等による機械的な作用により樹脂粒子の表面に芯物質を付着させる方法等が挙げられる。付着させる芯物質の量を制御しやすいため、分散液中の樹脂粒子の表面に芯物質を集積させ、付着させる方法が好ましい。   As a method of arranging the core material on the surface of the resin particles, for example, a core material is added to a dispersion of the resin particles, and the core material is accumulated on the surface of the resin particles by van der Waals force and adhered. And a method in which a core substance is added to a container containing resin particles, and the core substance is attached to the surface of the resin particles by mechanical action such as rotation of the container. Since it is easy to control the amount of the core substance to be attached, a method of accumulating and attaching the core substance to the surface of the resin particles in the dispersion is preferable.

上記芯物質の材料は特に限定されない。上記芯物質の材料としては、例えば、導電性物質及び非導電性物質が挙げられる。上記導電性物質としては、金属、金属の酸化物、黒鉛等の導電性非金属及び導電性ポリマー等が挙げられる。上記導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン等が挙げられる。上記非導電性物質としては、シリカ、アルミナ、チタン酸バリウム及びジルコニア等が挙げられる。導電性を高めることができ、さらに接続抵抗を効果的に低くすることができるので、金属が好ましい。上記芯物質は金属粒子であることが好ましい。上記芯物質の材料である金属としては、上記導電部を形成するための金属として挙げた金属を適宜使用可能である。   The material of the core substance is not particularly limited. Examples of the material of the core substance include a conductive substance and a non-conductive substance. Examples of the conductive substance include metals, oxides of metals, conductive nonmetals such as graphite, and conductive polymers. Examples of the conductive polymer include polyacetylene. Examples of the non-conductive substance include silica, alumina, barium titanate, and zirconia. Metals are preferred because conductivity can be increased and connection resistance can be effectively reduced. The core material is preferably metal particles. As the metal which is the material of the core substance, any of the metals mentioned as the metal for forming the conductive portion can be used as appropriate.

絶縁性物質:
上記導電性粒子は、上記導電部の表面上に配置された絶縁性物質を備えることが好ましい。この場合には、導電性粒子を電極間の接続に用いると、隣接する電極間の短絡をより一層防止できる。具体的には、複数の導電性粒子が接触したときに、複数の電極間に絶縁性物質が存在するので、上下の電極間ではなく横方向に隣り合う電極間の短絡を防止できる。なお、電極間の接続の際に、2つの電極で導電性粒子を加圧することにより、導電性粒子の導電部と電極との間の絶縁性物質を容易に排除できる。上記導電性粒子が導電部の外表面に複数の突起を有する場合には、導電性粒子の導電部と電極との間の絶縁性物質をより一層容易に排除できる。
Insulating material:
It is preferable that the conductive particles include an insulating substance disposed on a surface of the conductive portion. In this case, when the conductive particles are used for connection between the electrodes, a short circuit between adjacent electrodes can be further prevented. Specifically, when a plurality of conductive particles come into contact with each other, an insulating substance is present between the plurality of electrodes, so that a short circuit between not only upper and lower electrodes but also horizontally adjacent electrodes can be prevented. When the conductive particles are pressurized by the two electrodes at the time of connection between the electrodes, the insulating substance between the conductive portion of the conductive particles and the electrode can be easily removed. When the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion, the insulating substance between the conductive portion of the conductive particles and the electrode can be more easily removed.

電極間の圧着時に上記絶縁性物質をより一層容易に排除できることから、上記絶縁性物質は、絶縁性粒子であることが好ましい。   The insulating material is preferably an insulating particle because the insulating material can be more easily removed at the time of pressure bonding between the electrodes.

上記絶縁性物質の材料としては、ポリオレフィン化合物、(メタ)アクリレート重合体、(メタ)アクリレート共重合体、ブロックポリマー、熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂の架橋物、熱硬化性樹脂及び水溶性樹脂等が挙げられる。上記絶縁性物質の材料は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the material of the insulating material include polyolefin compounds, (meth) acrylate polymers, (meth) acrylate copolymers, block polymers, thermoplastic resins, crosslinked thermoplastic resins, thermosetting resins, and water-soluble resins. Is mentioned. As the material of the insulating substance, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

上記ポリオレフィン化合物としては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びエチレン−アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記(メタ)アクリレート重合体としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリドデシル(メタ)アクリレート及びポリステアリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記ブロックポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、SB型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、及びSBS型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、並びにこれらの水素添加物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、ビニル重合体及びビニル共重合体等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂の架橋としては、ポリエチレングリコールメタクリレート、アルコキシ化トリメチロールプロパンメタクリレートやアルコキシ化ペンタエリスリトールメタクリレート等の導入が挙げられる。上記水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド及びメチルセルロース等が挙げられる。また、重合度の調整に、連鎖移動剤を使用してもよい。連鎖移動剤としては、チオールや四塩化炭素等が挙げられる。   Examples of the polyolefin compound include polyethylene, an ethylene-vinyl acetate copolymer, and an ethylene-acrylate copolymer. Examples of the (meth) acrylate polymer include polymethyl (meth) acrylate, polydodecyl (meth) acrylate, and polystearyl (meth) acrylate. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylate copolymer, SB-type styrene-butadiene block copolymer, SBS-type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the thermoplastic resin include a vinyl polymer and a vinyl copolymer. Examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a phenol resin, and a melamine resin. Examples of the crosslinking of the thermoplastic resin include introduction of polyethylene glycol methacrylate, alkoxylated trimethylolpropane methacrylate, and alkoxylated pentaerythritol methacrylate. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and methyl cellulose. Further, a chain transfer agent may be used for adjusting the degree of polymerization. Examples of the chain transfer agent include thiol and carbon tetrachloride.

上記導電部の表面上に絶縁性物質を配置する方法としては、化学的方法、及び物理的もしくは機械的方法等が挙げられる。上記化学的方法としては、例えば、界面重合法、粒子存在下での懸濁重合法及び乳化重合法等が挙げられる。上記物理的もしくは機械的方法としては、スプレードライ、ハイブリダイゼーション、静電付着法、噴霧法、ディッピング及び真空蒸着による方法等が挙げられる。絶縁性物質が脱離し難いことから、上記導電部の表面に、化学結合を介して上記絶縁性物質を配置する方法が好ましい。   Examples of a method for disposing an insulating substance on the surface of the conductive portion include a chemical method and a physical or mechanical method. Examples of the chemical method include an interfacial polymerization method, a suspension polymerization method in the presence of particles, and an emulsion polymerization method. Examples of the physical or mechanical method include spray drying, hybridization, electrostatic adhesion, spraying, dipping, and vacuum deposition. Since the insulating substance is not easily detached, a method of disposing the insulating substance on the surface of the conductive portion via a chemical bond is preferable.

上記導電部の外表面、及び絶縁性物質の表面はそれぞれ、反応性官能基を有する化合物によって被覆されていてもよい。導電部の外表面と絶縁性物質の表面とは、直接化学結合していなくてもよく、反応性官能基を有する化合物によって間接的に化学結合していてもよい。導電部の外表面にカルボキシル基を導入した後、該カルボキシル基がポリエチレンイミン等の高分子電解質を介して絶縁性物質の表面の官能基と化学結合していても構わない。   The outer surface of the conductive portion and the surface of the insulating material may be respectively coated with a compound having a reactive functional group. The outer surface of the conductive portion and the surface of the insulating material may not be directly chemically bonded, or may be indirectly chemically bonded by a compound having a reactive functional group. After introducing a carboxyl group to the outer surface of the conductive portion, the carboxyl group may be chemically bonded to a functional group on the surface of the insulating material via a polymer electrolyte such as polyethyleneimine.

(導電材料)
本発明に係る導電材料は、上述した導電性粒子と、バインダーとを含む。上記導電性粒子は、バインダー中に分散されて用いられることが好ましく、バインダー中に分散されて導電材料として用いられることが好ましい。上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。上記導電材料は、電極間の電気的な接続に用いられることが好ましい。上記導電材料は回路接続用導電材料であることが好ましい。
(Conductive material)
The conductive material according to the present invention includes the above-described conductive particles and a binder. The conductive particles are preferably used by being dispersed in a binder, and are preferably used by being dispersed in a binder and being used as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material. The conductive material is preferably used for electrical connection between electrodes. The conductive material is preferably a circuit-connecting conductive material.

上記バインダーは特に限定されない。上記バインダーとして、公知の絶縁性の樹脂が用いられる。上記バインダーは、熱可塑性成分(熱可塑性化合物)又は硬化性成分を含むことが好ましく、硬化性成分を含むことがより好ましい。上記硬化性成分としては、光硬化性成分及び熱硬化性成分が挙げられる。上記光硬化性成分は、光硬化性化合物及び光重合開始剤を含むことが好ましい。上記熱硬化性成分は、熱硬化性化合物及び熱硬化剤を含むことが好ましい。   The binder is not particularly limited. As the binder, a known insulating resin is used. The binder preferably contains a thermoplastic component (thermoplastic compound) or a curable component, and more preferably contains a curable component. Examples of the curable component include a photocurable component and a thermosetting component. The photocurable component preferably contains a photocurable compound and a photopolymerization initiator. The thermosetting component preferably contains a thermosetting compound and a thermosetting agent.

上記バインダーとしては、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体及びエラストマー等が挙げられる。上記バインダーは1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the binder include a vinyl resin, a thermoplastic resin, a curable resin, a thermoplastic block copolymer, and an elastomer. The binder may be used alone or in combination of two or more.

上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂又は湿気硬化型樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル−スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。   Examples of the vinyl resin include a vinyl acetate resin, an acrylic resin, and a styrene resin. Examples of the thermoplastic resin include a polyolefin resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer, and a polyamide resin. Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, and an unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a moisture curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer, and styrene-isoprene. -Hydrogenated products of styrene block copolymers. Examples of the elastomer include a styrene-butadiene copolymer rubber and an acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.

上記導電材料は、上記導電性粒子及び上記バインダーの他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。   The conductive material, in addition to the conductive particles and the binder, for example, fillers, extenders, softeners, plasticizers, polymerization catalysts, curing catalysts, colorants, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers And various additives such as an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and a flame retardant.

上記バインダー中に上記導電性粒子を分散させる方法は、従来公知の分散方法を用いることができ、特に限定されない。上記バインダー中に上記導電性粒子を分散させる方法としては、上記バインダー中に上記導電性粒子を添加した後、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、上記導電性粒子を水又は有機溶剤中にホモジナイザー等を用いて均一に分散させた後、上記バインダー中に添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法が挙げられる。さらに、上記バインダー中に上記導電性粒子を分散させる方法としては、上記バインダーを水又は有機溶剤等で希釈した後、上記導電性粒子を添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法等が挙げられる。   A method for dispersing the conductive particles in the binder can be a conventionally known dispersion method, and is not particularly limited. As a method of dispersing the conductive particles in the binder, after adding the conductive particles in the binder, a method of kneading and dispersing with a planetary mixer or the like, the conductive particles in water or an organic solvent After uniformly dispersing the mixture using a homogenizer or the like, adding the mixture to the binder, kneading with a planetary mixer or the like, and dispersing the mixture. Further, as a method of dispersing the conductive particles in the binder, a method of diluting the binder with water or an organic solvent, and then adding the conductive particles, kneading and dispersing with a planetary mixer, and the like. Is mentioned.

上記導電材料は、導電ペースト及び導電フィルム等として使用され得る。上記導電材料が、導電フィルムである場合には、導電性粒子を含む導電フィルムに、導電性粒子を含まないフィルムが積層されていてもよい。上記導電ペーストは、異方性導電ペーストであることが好ましい。上記導電フィルムは、異方性導電フィルムであることが好ましい。   The conductive material can be used as a conductive paste and a conductive film. When the conductive material is a conductive film, a film containing no conductive particles may be laminated on a conductive film containing conductive particles. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.

上記導電材料100重量%中、上記バインダーの含有量は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、さらに好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上であり、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダーの含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に導電性粒子が効率的に配置され、導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the conductive material, the content of the binder is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, further preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, and preferably It is at most 99.99% by weight, more preferably at most 99.9% by weight. When the content of the binder is equal to or more than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the conductive particles are efficiently arranged between the electrodes, and the connection reliability of the connection target member connected by the conductive material is further increased.

上記導電材料100重量%中、上記導電性粒子の含有量は、好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上であり、好ましくは80重量%以下、より好ましくは60重量%以下、さらに好ましくは40重量%以下、特に好ましくは20重量%以下、最も好ましくは10重量%以下である。上記導電性粒子の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the conductive material, the content of the conductive particles is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 80% by weight or less, more preferably 60% by weight. %, More preferably 40% by weight or less, particularly preferably 20% by weight or less, and most preferably 10% by weight or less. When the content of the conductive particles is equal to or greater than the lower limit and equal to or less than the upper limit, conduction reliability between the electrodes is further increased.

(接着剤)
本発明に係る接着剤は、上述した樹脂粒子と、バインダーとを含む。上記樹脂粒子は、バインダー中に分散されて用いられることが好ましく、バインダー中に分散されて接着剤として用いられることが好ましい。上記樹脂粒子は、バインダー中でスペーサとして用いられることが好ましい。上記接着剤は、導電性粒子を含んでいなくてもよい。
(adhesive)
The adhesive according to the present invention includes the resin particles described above and a binder. The resin particles are preferably used by being dispersed in a binder, and are preferably used by being dispersed in a binder and being used as an adhesive. The resin particles are preferably used as a spacer in a binder. The adhesive may not include conductive particles.

上記接着剤は、2つの接続対象部材を接着する接着層を形成するために用いられる。さらに、上記接着剤は、上記接着層のギャップを高精度に制御するため、又は上記接着層の応力を緩和するため等に用いられる。   The adhesive is used to form an adhesive layer that bonds two members to be connected. Further, the adhesive is used to control the gap of the adhesive layer with high accuracy, or to relieve the stress of the adhesive layer.

上記バインダーは特に限定されない。上記バインダーの具体例としては、上述した導電材料に用いられるバインダー等が挙げられる。上記接着剤は、上記バインダーとして、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。   The binder is not particularly limited. Specific examples of the binder include a binder used for the above-described conductive material. The adhesive preferably contains an epoxy resin as the binder.

上記接着剤100重量%中、上記バインダーの含有量は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、さらに好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上であり、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダーの含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、上記接着層の接着力をより一層効果的に高めることができ、上記樹脂粒子がスペーサとしての機能をより一層効果的に発揮することができる。   The content of the binder in 100% by weight of the adhesive is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, further preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, and preferably It is at most 99.99% by weight, more preferably at most 99.9% by weight. When the content of the binder is equal to or greater than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the adhesive force of the adhesive layer can be more effectively increased, and the resin particles exhibit the function as a spacer more effectively. can do.

上記接着剤100重量%中、上記樹脂粒子の含有量は、好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上であり、好ましくは80重量%以下、より好ましくは60重量%以下、さらに好ましくは40重量%以下、特に好ましくは20重量%以下、最も好ましくは10重量%以下である。上記樹脂粒子の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、上記樹脂粒子がスペーサとしての機能をより一層効果的に発揮することができる。   The content of the resin particles in 100% by weight of the adhesive is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 80% by weight or less, more preferably 60% by weight. The content is more preferably 40% by weight or less, particularly preferably 20% by weight or less, and most preferably 10% by weight or less. When the content of the resin particles is equal to or greater than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the resin particles can more effectively exhibit a function as a spacer.

(接続構造体)
上記導電性粒子を用いて、又は上記導電性粒子とバインダーとを含む導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
(Connection structure)
A connection structure can be obtained by connecting the connection target members using the conductive particles or using a conductive material including the conductive particles and a binder.

本発明に係る接続構造体は、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、上記第1の接続対象部材と、上記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備える。上記接続部の材料が、上述した樹脂粒子を含む。上記接続部の材料が、上述した導電性粒子であるか、又は上述した導電材料であることが好ましい。上記接続部が、上述した導電性粒子により形成されているか、又は上述した導電材料により形成されている接続構造体であることが好ましい。   The connection structure according to the present invention includes a first connection target member having a first electrode on the surface, a second connection target member having a second electrode on the surface, the first connection target member, A connection portion connecting the second connection target member. The material of the connection portion includes the resin particles described above. It is preferable that the material of the connection portion is the above-described conductive particles or the above-described conductive material. It is preferable that the connection portion is formed of the above-described conductive particles or a connection structure formed of the above-described conductive material.

上記導電性粒子が単独で用いられた場合には、接続部自体が導電性粒子である。すなわち、第1,第2の接続対象部材が上記導電性粒子により接続される。上記接続構造体を得るために用いられる上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。上記第1の電極と上記第2の電極とが、上記接続部により電気的に接続されていることが好ましい。   When the above-mentioned conductive particles are used alone, the connection part itself is a conductive particle. That is, the first and second connection target members are connected by the conductive particles. The conductive material used for obtaining the connection structure is preferably an anisotropic conductive material. It is preferable that the first electrode and the second electrode are electrically connected by the connection portion.

図4は、図1に示す導電性粒子1を用いた接続構造体の一例を示す断面図である。   FIG. 4 is a sectional view showing an example of a connection structure using the conductive particles 1 shown in FIG.

図4に示す接続構造体41は、第1の接続対象部材42と、第2の接続対象部材43と、第1の接続対象部材42と第2の接続対象部材43とを接続している接続部44とを備える。接続部44は、導電性粒子1とバインダーとを含む導電材料により形成されている。図4では、図示の便宜上、導電性粒子1は略図的に示されている。導電性粒子1に代えて、導電性粒子21,31等の他の導電性粒子を用いてもよい。   The connection structure 41 shown in FIG. 4 includes a first connection target member 42, a second connection target member 43, and a connection connecting the first connection target member 42 and the second connection target member 43. A part 44. The connection part 44 is formed of a conductive material containing the conductive particles 1 and a binder. In FIG. 4, the conductive particles 1 are schematically illustrated for convenience of illustration. Instead of the conductive particles 1, other conductive particles such as the conductive particles 21 and 31 may be used.

第1の接続対象部材42は表面(上面)に、複数の第1の電極42aを有する。第2の接続対象部材43は表面(下面)に、複数の第2の電極43aを有する。第1の電極42aと第2の電極43aとが、1つ又は複数の導電性粒子1により電気的に接続されている。従って、第1,第2の接続対象部材42,43が導電性粒子1により電気的に接続されている。   The first connection target member 42 has a plurality of first electrodes 42a on the surface (upper surface). The second connection target member 43 has a plurality of second electrodes 43a on the surface (lower surface). The first electrode 42a and the second electrode 43a are electrically connected by one or a plurality of conductive particles 1. Therefore, the first and second connection target members 42 and 43 are electrically connected by the conductive particles 1.

図5は、本発明に係る樹脂粒子を用いた接続構造体の一例を示す断面図である。   FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a connection structure using the resin particles according to the present invention.

図5に示す接続構造体51は、第1の接続対象部材52と、第2の接続対象部材53と、第1の接続対象部材52と第2の接続対象部材53とを接着している接着層54とを備える。   The connection structure 51 shown in FIG. 5 includes a first connection target member 52, a second connection target member 53, and an adhesive bonding the first connection target member 52 and the second connection target member 53. And a layer 54.

接着層54は、上述した樹脂粒子11を含む。樹脂粒子11は、第1,第2の接続対象部材52,53の双方に接していない。樹脂粒子11は、応力緩和用スペーサとして用いられている。   The adhesive layer 54 includes the resin particles 11 described above. The resin particles 11 are not in contact with both the first and second connection target members 52 and 53. The resin particles 11 are used as stress relaxation spacers.

接着層54は、ギャップ制御粒子61と、熱硬化性成分62とを含む。接着層54では、ギャップ制御粒子61が、第1,第2の接続対象部材52,53の双方に接している。ギャップ制御粒子61は導電性粒子であってもよく、導電性を有さない粒子であってもよい。上記ギャップ制御粒子は、上述した樹脂粒子であってもよい。熱硬化性成分62は、熱硬化性化合物と熱硬化剤とを含む。熱硬化性成分62は、熱硬化性化合物の硬化物である。熱硬化性成分62は、熱硬化性化合物を硬化させることにより形成されている。   The adhesive layer 54 includes gap control particles 61 and a thermosetting component 62. In the adhesive layer 54, the gap control particles 61 are in contact with both the first and second connection target members 52 and 53. The gap control particles 61 may be conductive particles or particles having no conductivity. The gap control particles may be the resin particles described above. The thermosetting component 62 contains a thermosetting compound and a thermosetting agent. The thermosetting component 62 is a cured product of a thermosetting compound. The thermosetting component 62 is formed by curing a thermosetting compound.

上記第1の接続対象部材は、第1の電極を表面に有していてもよい。上記第2の接続対象部材は、第2の電極を表面に有していてもよい。   The first connection target member may have a first electrode on a surface. The second connection target member may have a second electrode on a surface.

上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例として、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記加圧時の圧力は9.8×10Pa〜4.9×10Pa程度である。上記加熱時の温度は、120℃〜220℃程度である。フレキシブルプリント基板の電極、樹脂フィルム上に配置された電極及びタッチパネルの電極を接続するための上記加圧時の圧力は9.8×10Pa〜1.0×10Pa程度である。The method for manufacturing the connection structure is not particularly limited. As an example of a method of manufacturing the connection structure, a method of disposing the conductive material between a first connection target member and a second connection target member, obtaining a laminate, and then heating and pressing the laminate. And the like. The pressure at the time of pressurization is about 9.8 × 10 4 Pa to 4.9 × 10 6 Pa. The temperature at the time of the heating is about 120 ° C to 220 ° C. The pressure at the time of pressurization for connecting the electrodes of the flexible printed circuit board, the electrodes arranged on the resin film, and the electrodes of the touch panel is about 9.8 × 10 4 Pa to 1.0 × 10 6 Pa.

上記接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシ基板及びガラス基板等の回路基板等の電子部品等が挙げられる。上記接続対象部材は電子部品であることが好ましい。上記第1の接続対象部材及び上記第2の接続対象部材の内の少なくとも一方は、半導体ウェハ又は半導体チップであることが好ましい。上記接続構造体は、半導体装置であることが好ましい。   Specific examples of the connection target member include electronic components such as a semiconductor chip, a capacitor and a diode, and electronic components such as a circuit board such as a printed board, a flexible printed board, a glass epoxy board, and a glass board. Preferably, the connection target member is an electronic component. It is preferable that at least one of the first connection target member and the second connection target member is a semiconductor wafer or a semiconductor chip. The connection structure is preferably a semiconductor device.

上記導電材料は、電子部品を接続するための導電材料であることが好ましい。上記導電ペーストはペースト状の導電材料であり、ペースト状の状態で接続対象部材上に塗工されることが好ましい。   The conductive material is preferably a conductive material for connecting electronic components. The conductive paste is a paste-like conductive material, and is preferably applied to the connection target member in a paste-like state.

上記導電性粒子、上記導電材料及び上記接着剤は、タッチパネルにも好適に用いられる。従って、上記接続対象部材は、フレキシブル基板であるか、又は樹脂フィルムの表面上に電極が配置された接続対象部材であることも好ましい。上記接続対象部材は、フレキシブル基板であることが好ましく、樹脂フィルムの表面上に電極が配置された接続対象部材であることが好ましい。上記フレキシブル基板がフレキシブルプリント基板等である場合に、フレキシブル基板は一般に電極を表面に有する。   The conductive particles, the conductive material, and the adhesive are suitably used for touch panels. Therefore, it is also preferable that the connection target member is a flexible substrate or a connection target member having electrodes disposed on the surface of a resin film. The connection target member is preferably a flexible substrate, and is preferably a connection target member having electrodes disposed on a surface of a resin film. When the flexible substrate is a flexible printed substrate or the like, the flexible substrate generally has electrodes on its surface.

上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銀電極、SUS電極、銅電極、モリブデン電極及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。   Examples of the electrodes provided on the connection target member include metal electrodes such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a silver electrode, a SUS electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the member to be connected is a flexible printed circuit board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode or a copper electrode. When the member to be connected is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. When the electrode is an aluminum electrode, the electrode may be an electrode formed only of aluminum, or may be an electrode in which an aluminum layer is laminated on a surface of a metal oxide layer. Examples of the material of the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al, and Ga.

(液晶表示素子)
上記樹脂粒子は、液晶表示素子用スペーサとして好適に用いることができる。
(Liquid crystal display device)
The resin particles can be suitably used as a spacer for a liquid crystal display element.

本発明に係る液晶表示素子は、第1の液晶表示素子用部材と、第2の液晶表示素子用部材と、上記第1の液晶表示素子用部材と上記第2の液晶表示素子用部材との間に配置されたスペーサとを備える。上記スペーサは、上述した樹脂粒子である。   The liquid crystal display element according to the present invention includes a first liquid crystal display element member, a second liquid crystal display element member, the first liquid crystal display element member, and the second liquid crystal display element member. And a spacer disposed therebetween. The spacer is the resin particles described above.

上記液晶表示素子は、上記第1の液晶表示素子用部材と上記第2の液晶表示素子用部材とが対向した状態で、上記第1の液晶表示素子用部材と上記第2の液晶表示素子用部材との外周をシールしているシール部を備えていてもよい。   The liquid crystal display element includes a first liquid crystal display element member and a second liquid crystal display element member in a state where the first liquid crystal display element member and the second liquid crystal display element member face each other. A seal portion for sealing the outer periphery of the member may be provided.

上記樹脂粒子は、液晶表示素子用周辺シール剤に用いることもできる。液晶表示素子は、第1の液晶表示素子用部材と、第2の液晶表示素子用部材と、上記第1の液晶表示素子用部材と上記第2の液晶表示素子用部材とが対向した状態で、上記第1の液晶表示素子用部材と上記第2の液晶表示素子用部材との外周をシールしているシール部を備える。液晶表示素子は、上記シール部の内側で、上記第1の液晶表示素子用部材と上記第2の液晶表示素子用部材との間に配置されている液晶を備える。この液晶表示素子では、液晶滴下工法が適用され、かつ上記シール部が、液晶滴下工法用シール剤を熱硬化させることにより形成されている。   The resin particles can be used as a peripheral sealant for a liquid crystal display element. The liquid crystal display element includes a first liquid crystal display element member, a second liquid crystal display element member, and a state in which the first liquid crystal display element member and the second liquid crystal display element member face each other. A sealing portion for sealing the outer periphery of the first liquid crystal display element member and the second liquid crystal display element member. The liquid crystal display element includes a liquid crystal disposed between the first liquid crystal display element member and the second liquid crystal display element member inside the seal portion. In this liquid crystal display element, a liquid crystal dropping method is applied, and the seal portion is formed by thermosetting a sealant for the liquid crystal dropping method.

図6は、本発明に係る樹脂粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いた液晶表示素子の一例を示す断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view showing one example of a liquid crystal display device using the resin particles according to the present invention as a spacer for a liquid crystal display device.

図6に示す液晶表示素子81は、一対の透明ガラス基板82を有する。透明ガラス基板82は、対向する面に絶縁膜(図示せず)を有する。絶縁膜の材料としては、例えば、SiO等が挙げられる。透明ガラス基板82における絶縁膜上に透明電極83が形成されている。透明電極83の材料としては、ITO等が挙げられる。透明電極83は、例えば、フォトリソグラフィーによりパターニングして形成可能である。透明ガラス基板82の表面上の透明電極83上に、配向膜84が形成されている。配向膜84の材料としては、ポリイミド等が挙げられる。The liquid crystal display element 81 shown in FIG. 6 has a pair of transparent glass substrates 82. The transparent glass substrate 82 has an insulating film (not shown) on the opposite surface. As a material of the insulating film, for example, SiO 2 or the like can be used. A transparent electrode 83 is formed on the transparent glass substrate 82 on the insulating film. Examples of the material of the transparent electrode 83 include ITO. The transparent electrode 83 can be formed by patterning, for example, by photolithography. An alignment film 84 is formed on the transparent electrode 83 on the surface of the transparent glass substrate 82. Examples of the material of the alignment film 84 include polyimide.

一対の透明ガラス基板82間には、液晶85が封入されている。一対の透明ガラス基板82間には、複数の樹脂粒子11が配置されている。樹脂粒子11は、液晶表示素子用スペーサとして用いられている。複数の樹脂粒子11により、一対の透明ガラス基板82の間隔が規制されている。一対の透明ガラス基板82の縁部間には、シール剤86が配置されている。シール剤86によって、液晶85の外部への流出が防がれている。シール剤86には、樹脂粒子11と粒径のみが異なる樹脂粒子11Aが含まれている。   Liquid crystal 85 is sealed between the pair of transparent glass substrates 82. A plurality of resin particles 11 are arranged between the pair of transparent glass substrates 82. The resin particles 11 are used as liquid crystal display element spacers. The interval between the pair of transparent glass substrates 82 is regulated by the plurality of resin particles 11. A sealant 86 is arranged between the edges of the pair of transparent glass substrates 82. The sealant 86 prevents the liquid crystal 85 from flowing out. The sealant 86 includes resin particles 11A that differ only in particle size from the resin particles 11.

上記液晶表示素子において1mmあたりの液晶表示素子用スペーサの配置密度は、好ましくは10個/mm以上であり、好ましくは1000個/mm以下である。上記配置密度が10個/mm以上であると、セルギャップがより一層均一になる。上記配置密度が1000個/mm以下であると、液晶表示素子のコントラストがより一層良好になる。In the above-mentioned liquid crystal display element, the arrangement density of the liquid crystal display element spacers per 1 mm 2 is preferably 10 pieces / mm 2 or more, and more preferably 1000 pieces / mm 2 or less. When the arrangement density is 10 cells / mm 2 or more, the cell gap becomes even more uniform. When the arrangement density is 1000 / mm 2 or less, the contrast of the liquid crystal display element is further improved.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.

(実施例1)
(1)樹脂粒子の作製
種粒子として平均粒子径6.0μmのポリスチレン粒子を用意した。上記ポリスチレン粒子5.0重量部と、イオン交換水900重量部と、ポリビニルアルコールの5重量%水溶液170重量部とを混合し、混合液を調製した。上記混合液を超音波により分散させた後、セパラブルフラスコに入れて、均一に撹拌した。
(Example 1)
(1) Preparation of resin particles Polystyrene particles having an average particle diameter of 6.0 μm were prepared as seed particles. 5.0 parts by weight of the polystyrene particles, 900 parts by weight of ion-exchanged water, and 170 parts by weight of a 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol were mixed to prepare a mixed solution. After the above liquid mixture was dispersed by ultrasonic waves, it was placed in a separable flask and stirred uniformly.

また、重合性官能基を1個有し、かつ環状有機基を有する第1の重合性化合物1としてメタクリル酸シクロヘキシルを用意し、重合性官能基を1個有し、かつ環状有機基を有する第1の重合性化合物2としてイソボルニルアクリレートを用意した。また、重合性官能基を2個以上有し、かつ環状有機基を有する第2の重合性化合物としてジビニルベンゼンを用意した。   Further, cyclohexyl methacrylate is prepared as the first polymerizable compound 1 having one polymerizable functional group and having a cyclic organic group, and having one polymerizable functional group and having a cyclic organic group. Isobornyl acrylate was prepared as 1 polymerizable compound 2. Further, divinylbenzene was prepared as a second polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups and having a cyclic organic group.

次に、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート9重量部と、ジビニルベンゼン1重量部と、メタクリル酸シクロヘキシル15重量部と、イソボルニルアクリレート75重量部とを混合し、混合物を得た。得られた混合物に、過酸化ベンゾイル(日油社製「ナイパーBW」)6.0重量部を添加し、さらに、イオン交換水1000重量部を添加し、乳化液を調製した。   Next, 9 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate, 1 part by weight of divinylbenzene, 15 parts by weight of cyclohexyl methacrylate, and 75 parts by weight of isobornyl acrylate were mixed to obtain a mixture. To the obtained mixture, 6.0 parts by weight of benzoyl peroxide ("Niper BW" manufactured by NOF CORPORATION) was added, and further, 1000 parts by weight of ion-exchanged water was added to prepare an emulsion.

セパラブルフラスコ中の上記混合液に、上記乳化液をさらに添加し、16時間撹拌し、種粒子にモノマーを吸収させて、モノマーが膨潤した種粒子を含む懸濁液を得た。   The emulsion was further added to the mixture in the separable flask, and the mixture was stirred for 16 hours to allow the seed particles to absorb the monomer, thereby obtaining a suspension containing the seed particles in which the monomer was swollen.

その後、ポリビニルアルコールの5重量%水溶液510重量部を添加し、加熱を開始して85℃で10時間反応させ、樹脂粒子を得た。   Thereafter, 510 parts by weight of a 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol was added, heating was started and the reaction was carried out at 85 ° C. for 10 hours to obtain resin particles.

(2)導電性粒子の作製
得られた樹脂粒子を洗浄し、分級操作を行った後に乾燥した。その後、無電解めっき法により、得られた樹脂粒子の表面に、ニッケル層を形成し、導電性粒子を作製した。なお、ニッケル層の厚さは、0.1μmであった。
(2) Preparation of conductive particles The obtained resin particles were washed, subjected to a classification operation, and then dried. Then, a nickel layer was formed on the surface of the obtained resin particles by electroless plating to produce conductive particles. The thickness of the nickel layer was 0.1 μm.

(3)導電材料(異方性導電ペースト)の作製
導電材料(異方性導電ペースト)を作製するため、以下の材料を用意した。
(3) Preparation of conductive material (anisotropic conductive paste) In order to prepare a conductive material (anisotropic conductive paste), the following materials were prepared.

(導電材料(異方性導電ペースト)の材料)
熱硬化性化合物A:エポキシ化合物(ナガセケムテックス社製「EP−3300P」)
熱硬化性化合物B:エポキシ化合物(DIC社製「EPICLON HP−4032D」)
熱硬化性化合物C:エポキシ化合物(四日市合成社製「エポゴーセーPT」、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル)
熱硬化剤:熱カチオン発生剤(三新化学社製 サンエイド「SI−60」)
フィラー:シリカ(平均粒子径0.25μm)
(Material of conductive material (anisotropic conductive paste))
Thermosetting compound A: Epoxy compound ("EP-3300P" manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
Thermosetting compound B: epoxy compound ("DICPIC HP-4032D" manufactured by DIC)
Thermosetting compound C: Epoxy compound (“Epogoose PT” manufactured by Yokkaichi Gosei Co., Ltd., polytetramethylene glycol diglycidyl ether)
Thermosetting agent: Thermal cation generator (San Aid “SI-60” manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.)
Filler: silica (average particle size 0.25 μm)

導電材料(異方性導電ペースト)を以下のようにして作製した。   A conductive material (anisotropic conductive paste) was produced as follows.

(導電材料(異方性導電ペースト)の作製方法)
熱硬化性化合物A10重量部と、熱硬化性化合物B10重量部と、熱硬化性化合物C15重量部と、熱硬化剤5重量部と、フィラー20重量部とを配合し、配合物を得た。さらに得られた導電性粒子を配合物100重量%中での含有量が10重量%となるように添加した後、遊星式攪拌機を用いて2000rpmで5分間攪拌することにより、導電材料(異方性導電ペースト)を得た。
(Method of producing conductive material (anisotropic conductive paste))
10 parts by weight of the thermosetting compound A, 10 parts by weight of the thermosetting compound B, 15 parts by weight of the thermosetting compound C, 5 parts by weight of the thermosetting agent, and 20 parts by weight of the filler were obtained to obtain a blend. Further, after adding the obtained conductive particles so that the content in the formulation 100% by weight becomes 10% by weight, the mixture is stirred at 2,000 rpm for 5 minutes using a planetary stirrer to thereby form a conductive material (anisotropically). Conductive paste).

(4)接続構造体の作製
第1の接続対象部材として、L/Sが20μm/20μmのアルミニウム電極パターンを上面に有するガラス基板を用意した。また、第2の接続対象部材として、L/Sが20μm/20μmの金電極パターン(金電極厚み20μm)を下面に有する半導体チップを用意した。
(4) Preparation of Connection Structure As a first connection target member, a glass substrate having an aluminum electrode pattern having an L / S of 20 μm / 20 μm on the upper surface was prepared. Further, as a second connection target member, a semiconductor chip having a gold electrode pattern (gold electrode thickness: 20 μm) having an L / S of 20 μm / 20 μm on the lower surface was prepared.

上記ガラス基板の上面に、作製直後の導電材料(異方性導電ペースト)を厚さ30μmとなるように塗工し、導電材料(異方性導電ペースト)層を形成した。次に、導電材料(異方性導電ペースト)層の上面に上記半導体チップを、電極同士が対向するように積層した。その後、導電材料(異方性導電ペースト)層の温度が170℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、半導体チップの上面に加圧加熱ヘッドを載せ、導電材料(異方性導電ペースト)層を170℃、1.0MPa、及び15秒間の条件で硬化させ、接続構造体を得た。   A conductive material (anisotropic conductive paste) immediately after fabrication was applied on the upper surface of the glass substrate so as to have a thickness of 30 μm to form a conductive material (anisotropic conductive paste) layer. Next, the semiconductor chip was stacked on the upper surface of the conductive material (anisotropic conductive paste) layer so that the electrodes faced each other. Then, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the conductive material (anisotropic conductive paste) layer is 170 ° C., the pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip, and the conductive material (anisotropic conductive paste) The layer was cured at 170 ° C., 1.0 MPa, and 15 seconds to obtain a connection structure.

(実施例2)
樹脂粒子を作製する際に、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート9重量部をメタクリル酸メチル91重量部に変更し、メタクリル酸シクロヘキシルの配合量を15重量部から5重量部に変更し、イソボルニルアクリレートの配合量を75重量部から3重量部に変更した。上記の変更以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 2)
When preparing resin particles, 9 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate was changed to 91 parts by weight of methyl methacrylate, and the blending amount of cyclohexyl methacrylate was changed from 15 parts by weight to 5 parts by weight, and isobornyl acrylate was changed. Was changed from 75 parts by weight to 3 parts by weight. Except for the above changes, conductive particles, conductive materials, and connection structures were obtained in the same manner as in Example 1.

(実施例3)
樹脂粒子を作製する際に、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート9重量部を2−メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート9重量部に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 3)
The conductive particles and the conductive material were prepared in the same manner as in Example 1, except that 9 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate was changed to 9 parts by weight of 2-methacryloxyethyl acid phosphate when preparing the resin particles. And a connection structure.

(実施例4)
樹脂粒子を作製する際に、メタクリル酸シクロヘキシル5重量部をフェノキシエチレングリコールメタクリレート5重量部に変更したこと以外は、実施例2と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 4)
When producing resin particles, conductive particles, a conductive material and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 2, except that 5 parts by weight of cyclohexyl methacrylate was changed to 5 parts by weight of phenoxyethylene glycol methacrylate. .

(実施例5)
樹脂粒子を作製する際に、メタクリル酸シクロヘキシル5重量部をジシクロペンテニルアクリレート5重量部に変更したこと以外は、実施例2と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 5)
Conductive particles, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 2, except that 5 parts by weight of cyclohexyl methacrylate was changed to 5 parts by weight of dicyclopentenyl acrylate when producing resin particles. .

(実施例6)
樹脂粒子を作製する際に、ジビニルベンゼン1重量部をトリシクロデカンジメタノールジアクリレート1重量部に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Example 6)
When preparing the resin particles, the conductive particles, the conductive material and the connection structure were changed in the same manner as in Example 1 except that 1 part by weight of divinylbenzene was changed to 1 part by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate. Obtained.

(比較例1)
樹脂粒子を作製する際に、ポリテトラメチレングリコールジアクリレートの配合量を9重量部から10重量部に変更したこと、及びジビニルベンゼンを配合しないように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative Example 1)
When preparing the resin particles, the same procedure as in Example 1 was performed except that the amount of polytetramethylene glycol diacrylate was changed from 9 parts by weight to 10 parts by weight, and that no divinylbenzene was added. Thus, a conductive particle, a conductive material, and a connection structure were obtained.

(比較例2)
樹脂粒子を作製する際に、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート9重量部をメタクリル酸メチル94重量部に変更し、メタクリル酸シクロヘキシルの配合量を15重量部から5重量部に変更し、イソボルニルアクリレートを配合しないように変更した。上記の変更以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative Example 2)
When preparing resin particles, 9 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate was changed to 94 parts by weight of methyl methacrylate, and the blending amount of cyclohexyl methacrylate was changed from 15 parts by weight to 5 parts by weight. Was changed not to be blended. Except for the above changes, conductive particles, conductive materials, and connection structures were obtained in the same manner as in Example 1.

(比較例3)
樹脂粒子を作製する際に、ポリテトラメチレングリコールジアクリレートの配合量を9重量部から50重量部に変更したこと、及びイソボルニルアクリレートの配合量を75重量部から34重量部に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative Example 3)
When preparing the resin particles, the amount of polytetramethylene glycol diacrylate was changed from 9 parts by weight to 50 parts by weight, and the amount of isobornyl acrylate was changed from 75 parts by weight to 34 parts by weight. Except for the above, a conductive particle, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Example 1.

(比較例4)
樹脂粒子を作製する際に、メタクリル酸シクロヘキシル15重量部をフェノキシエチレングリコールメタクリレート15重量部に変更したこと以外は、比較例1と同様にして、導電性粒子、導電材料及び接続構造体を得た。
(Comparative Example 4)
When producing resin particles, a conductive particle, a conductive material, and a connection structure were obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that 15 parts by weight of cyclohexyl methacrylate was changed to 15 parts by weight of phenoxyethylene glycol methacrylate. .

(評価)
(1)第1の重合性化合物に由来する構造の含有量(WM)及び第2の重合性化合物に由来する構造の含有量(WD)
重合体を得る際に用いた第1,第2の重合性化合物の配合量及び重合後の第1,第2の重合性化合物の残存量から、重合した第1,第2の重合性化合物を求め、得られた樹脂粒子の第1の重合性化合物に由来する構造の含有量(WM)及び第2の重合性化合物に由来する構造の含有量(WD)を算出した。第1の重合性化合物に由来する構造の含有量(WM)の、第2の重合性化合物に由来する構造の含有量(WD)に対する重量比(WM/WD)を算出した。
(Evaluation)
(1) Content of structure derived from first polymerizable compound (WM) and content of structure derived from second polymerizable compound (WD)
From the compounding amounts of the first and second polymerizable compounds used in obtaining the polymer and the remaining amount of the first and second polymerizable compounds after polymerization, the polymerized first and second polymerizable compounds are obtained. The content (WM) of the structure derived from the first polymerizable compound and the content (WD) of the structure derived from the second polymerizable compound of the obtained resin particles were calculated. The weight ratio (WM / WD) of the content (WM) of the structure derived from the first polymerizable compound to the content (WD) of the structure derived from the second polymerizable compound was calculated.

(2)粒子径
得られた樹脂粒子の粒子径(加熱前の粒子径)を、粒度分布測定装置(ベックマンコールター社製「Multisizer4」)を用いて、約100000個の樹脂粒子の粒子径を測定し、平均値を算出することにより求めた。
(2) Particle Size The particle size of the obtained resin particles (particle size before heating) was measured using a particle size distribution analyzer (“Multisizer 4” manufactured by Beckman Coulter, Inc.) to measure the particle size of about 100,000 resin particles. Then, the average value was calculated.

次に、粒子径の測定に用いた樹脂粒子を150℃で1000時間加熱した。1000時間加熱後の樹脂粒子の粒子径を、上述した方法で測定した。得られた測定結果から、加熱後の樹脂粒子の粒子径の加熱前の樹脂粒子の粒子径に対する比(加熱後の樹脂粒子の粒子径/加熱前の樹脂粒子の粒子径)を算出した。   Next, the resin particles used for measuring the particle diameter were heated at 150 ° C. for 1000 hours. The particle size of the resin particles after heating for 1000 hours was measured by the method described above. From the obtained measurement results, the ratio of the particle size of the resin particles after heating to the particle size of the resin particles before heating (particle size of resin particles after heating / particle size of resin particles before heating) was calculated.

(3)10%K値及び30%K値
得られた樹脂粒子の10%K値及び30%K値(加熱前の30%K値)を、上述した方法で測定した。
(3) 10% K value and 30% K value The 10% K value and 30% K value (30% K value before heating) of the obtained resin particles were measured by the method described above.

次に、30%K値の測定に用いた樹脂粒子を150℃で1000時間加熱した。1000時間加熱後の樹脂粒子の30%K値を、上述した方法で測定した。得られた測定結果から、加熱後の30%K値の加熱前の30%K値に対する比(加熱後の30%K値/加熱前の30%K値)を算出した。   Next, the resin particles used for measuring the 30% K value were heated at 150 ° C. for 1000 hours. The 30% K value of the resin particles after heating for 1000 hours was measured by the method described above. From the obtained measurement results, the ratio of the 30% K value after heating to the 30% K value before heating (30% K value after heating / 30% K value before heating) was calculated.

(4)60%圧縮変形させた際の圧縮回復率
得られた樹脂粒子の60%圧縮変形させた際の圧縮回復率を、上述した方法で測定した。
(4) Compression recovery rate at 60% compression deformation The compression recovery rate at 60% compression deformation of the obtained resin particles was measured by the method described above.

(5)めっき状態
得られた導電性粒子を150℃で1000時間加熱した。加熱後の導電性粒子の50個のめっき状態を、走査型電子顕微鏡により観察した。めっき割れ又はめっき剥がれ等のめっきむらの有無を評価した。めっき状態を以下の基準で判定した。
(5) Plating state The obtained conductive particles were heated at 150 ° C. for 1000 hours. The state of plating of 50 conductive particles after heating was observed with a scanning electron microscope. The presence or absence of plating unevenness such as plating cracking or plating peeling was evaluated. The plating state was determined based on the following criteria.

[めっき状態の判定基準]
○○:めっきむらが確認された導電性粒子が3個未満
○:めっきむらが確認された導電性粒子が3個以上6個未満
×:めっきむらが確認された導電性粒子が6個以上
[Plating condition judgment criteria]
○: Less than three conductive particles with uneven plating ○: Three or more and less than six conductive particles with uneven plating :: Six or more conductive particles with uneven plating

(6)接続強度
マウント強度測定装置を用いて、得られた接続構造体の260℃での接続強度を測定した。接続強度を以下の基準で判定した。
(6) Connection strength The connection strength at 260 ° C. of the obtained connection structure was measured using a mount strength measurement device. The connection strength was determined based on the following criteria.

[接続強度の判定基準]
○○:シェア強度が150N/cm以上
〇:シェア強度が100N/cm以上150N/cm未満
×:シェア強度が100N/cm未満
[Judgment criteria for connection strength]
○: Shear strength is 150 N / cm 2 or more 〇: Shear strength is 100 N / cm 2 or more and less than 150 N / cm 2 ×: Shear strength is less than 100 N / cm 2

(7)スプリングバック
走査型電子顕微鏡により、得られた接続構造体の接続部においてスプリングバックが発生しているか否かを観察した。スプリングバックを以下の基準で判定した。
(7) Springback A scanning electron microscope was used to observe whether or not springback had occurred at the connection portion of the obtained connection structure. Springback was determined based on the following criteria.

[スプリングバックの判定基準]
○:スプリングバックが発生していない
×:スプリングバックが発生している
[Springback criteria]
○: No springback has occurred ×: Springback has occurred

(8)冷熱サイクル特性(接続信頼性)
得られた接続構造体を、−65℃から150℃に加熱し、−65℃に冷却する過程を1サイクルとする冷熱サイクル試験を1000サイクル実施した。超音波探傷装置(SAT)により、接続部において浮き又は剥離の発生の有無を観察した。冷熱サイクル特性(接続信頼性)を以下の基準で判定した。
(8) Cooling / heating cycle characteristics (connection reliability)
The obtained connection structure was heated from −65 ° C. to 150 ° C. and cooled / cooled to −65 ° C. as one cycle. The presence or absence of floating or peeling at the connection was observed by an ultrasonic flaw detector (SAT). The thermal cycle characteristics (connection reliability) were determined based on the following criteria.

[冷熱サイクル特性(接続信頼性)の判定基準]
○:接続部に浮き及び剥離なし
×:接続部に浮き又は剥離がある
[Criteria for cooling / heating cycle characteristics (connection reliability)]
:: No floating or peeling at the connecting part ×: Floating or peeling at the connecting part

結果を下記の表1,2,3に示す。   The results are shown in Tables 1, 2 and 3 below.

Figure 2018230470
Figure 2018230470

Figure 2018230470
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Figure 2018230470
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(9)液晶表示素子用スペーサとしての使用例
STN型液晶表示素子の作製:
イソプロピルアルコール70重量部と水30重量部とを含む分散媒に、得られるスペーサ分散液100重量%中で実施例1〜6の液晶表示素子用スペーサ(樹脂粒子)を固形分濃度が2重量%となるように添加し、撹拌し、液晶表示素子用スペーサ分散液を得た。
(9) Example of use as spacer for liquid crystal display element Fabrication of STN type liquid crystal display element:
In a dispersion medium containing 70 parts by weight of isopropyl alcohol and 30 parts by weight of water, the spacers (resin particles) for liquid crystal display elements of Examples 1 to 6 having a solid content of 2% by weight in 100% by weight of the obtained spacer dispersion liquid. And stirred to obtain a liquid crystal display element spacer dispersion.

一対の透明ガラス板(縦50mm、横50mm、厚さ0.4mm)の一面に、CVD法によりSiO膜を蒸着した後、SiO膜の表面全体にスパッタリングによりITO膜を形成した。得られたITO膜付きガラス基板に、スピンコート法によりポリイミド配向膜組成物(日産化学社製、SE3510)を塗工し、280℃で90分間焼成することによりポリイミド配向膜を形成した。配向膜にラビング処理を施した後、一方の基板の配向膜側に、液晶表示素子用スペーサを1mm当たり100個となるように湿式散布した。他方の基板の周辺にシール剤を形成した後、この基板とスペーサを散布した基板とをラビング方向が90°になるように対向配置させ、両者を貼り合わせた。その後、160℃で90分間処理してシール剤を硬化させて、空セル(液晶の入ってない画面)を得た。得られた空セルに、カイラル剤入りのSTN型液晶(DIC社製)を注入し、次に注入口を封止剤で塞いだ後、120℃で30分間熱処理してSTN型液晶表示素子を得た。After depositing a SiO 2 film on one surface of a pair of transparent glass plates (50 mm in length, 50 mm in width, and 0.4 mm in thickness) by a CVD method, an ITO film was formed on the entire surface of the SiO 2 film by sputtering. A polyimide alignment film composition (SE3510, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was applied to the obtained glass substrate with an ITO film by spin coating, and baked at 280 ° C. for 90 minutes to form a polyimide alignment film. After the rubbing treatment was performed on the alignment film, liquid crystal display element spacers were wet-sprayed on the alignment film side of one of the substrates so that the number of spacers was 100 per 1 mm 2 . After a sealant was formed around the other substrate, this substrate and the substrate on which the spacers were scattered were disposed so as to face each other so that the rubbing direction was 90 °, and the two were bonded together. Thereafter, the sealant was cured by treating at 160 ° C. for 90 minutes to obtain an empty cell (a screen containing no liquid crystal). An STN-type liquid crystal (manufactured by DIC) containing a chiral agent is injected into the obtained empty cell, and then the injection port is closed with a sealing agent. Obtained.

得られた液晶表示素子では、実施例1〜6の液晶表示素子用スペーサ(樹脂粒子)により基板間の間隔が良好に規制されていた。また、液晶表示素子は、良好な表示品質を示した。なお、液晶表示素子の周辺シール剤に、実施例1〜6の樹脂粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いた場合でも、得られた液晶表示素子の表示品質は良好であった。   In the obtained liquid crystal display element, the distance between the substrates was well regulated by the liquid crystal display element spacers (resin particles) of Examples 1 to 6. In addition, the liquid crystal display element showed good display quality. The display quality of the obtained liquid crystal display element was good even when the resin particles of Examples 1 to 6 were used as a spacer for the liquid crystal display element as a peripheral sealant for the liquid crystal display element.

1…導電性粒子
2…導電部
11…樹脂粒子
11A…樹脂粒子
21…導電性粒子
22…導電部
22A…第1の導電部
22B…第2の導電部
31…導電性粒子
31a…突起
32…導電部
32a…突起
33…芯物質
34…絶縁性物質
41…接続構造体
42…第1の接続対象部材
42a…第1の電極
43…第2の接続対象部材
43a…第2の電極
44…接続部
51…接続構造体
52…第1の接続対象部材
53…第2の接続対象部材
54…接着層
61…ギャップ制御粒子
62…熱硬化性成分
81…液晶表示素子
82…透明ガラス基板
83…透明電極
84…配向膜
85…液晶
86…シール剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive particle 2 ... Conductive part 11 ... Resin particle 11A ... Resin particle 21 ... Conductive particle 22 ... Conductive part 22A ... First conductive part 22B ... Second conductive part 31 ... Conductive particle 31a ... Projection 32 ... Conductive portion 32a Projection 33 Core material 34 Insulating material 41 Connection structure 42 First member to be connected 42a First electrode 43 Second member to be connected 43a Second electrode 44 Connection Part 51: Connection structure 52: First member to be connected 53: Second member to be connected 54: Adhesive layer 61: Gap control particle 62: Thermosetting component 81: Liquid crystal display element 82: Transparent glass substrate 83: Transparent Electrode 84: Alignment film 85: Liquid crystal 86: Sealant

Claims (15)

重合性官能基を1個有し、かつ環状有機基を有する第1の重合性化合物と、重合性官能基を2個以上有し、かつ環状有機基を有する第2の重合性化合物との重合体であり、
前記第1の重合性化合物に由来する構造の含有量の前記第2の重合性化合物に由来する構造の含有量に対する重量比が、7以上であり、
樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の粒子径の加熱前の樹脂粒子の粒子径に対する比が、0.9以下である、樹脂粒子。
The overlap between the first polymerizable compound having one polymerizable functional group and having a cyclic organic group and the second polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups and having a cyclic organic group. Coalescing,
The weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound to the content of the structure derived from the second polymerizable compound is 7 or more,
When the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the particle size of the resin particles after heating to the particle size of the resin particles before heating is 0.9 or less.
60%圧縮変形させた際の圧縮回復率が、10%以下である、請求項1に記載の樹脂粒子。   The resin particles according to claim 1, wherein a compression recovery rate when subjected to 60% compression deformation is 10% or less. 10%K値が、3000N/mm以下である、請求項1又は2に記載の樹脂粒子。The resin particles according to claim 1, wherein the 10% K value is 3000 N / mm 2 or less. 30%K値が、1500N/mm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂粒子。30% K value is 1500 N / mm 2 or less, the resin particles according to any one of claims 1 to 3. 樹脂粒子を150℃で1000時間加熱したときに、加熱後の樹脂粒子の30%K値の加熱前の樹脂粒子の30%K値に対する比が、0.8以上1.5以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂粒子。   When the resin particles are heated at 150 ° C. for 1000 hours, the ratio of the 30% K value of the heated resin particles to the 30% K value of the resin particles before heating is 0.8 or more and 1.5 or less. Item 5. The resin particles according to any one of Items 1 to 4. 前記第1の重合性化合物における環状有機基と前記第2の重合性化合物における環状有機基とがそれぞれ、炭化水素基である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂粒子。   The resin particles according to any one of claims 1 to 5, wherein the cyclic organic group in the first polymerizable compound and the cyclic organic group in the second polymerizable compound are each a hydrocarbon group. 前記第1の重合性化合物における環状有機基が、フェニレン基、シクロヘキシル基又はイソボルニル基である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂粒子。   The resin particle according to any one of claims 1 to 6, wherein the cyclic organic group in the first polymerizable compound is a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group. 前記第2の重合性化合物における環状有機基が、フェニレン基、シクロヘキシル基又はイソボルニル基である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂粒子。   The resin particles according to any one of claims 1 to 7, wherein the cyclic organic group in the second polymerizable compound is a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group. アシッドホスフェート化合物を含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂粒子。   The resin particles according to claim 1, further comprising an acid phosphate compound. スペーサとして用いられるか、又は、表面上に導電部が形成され、前記導電部を有する導電性粒子を得るために用いられる、請求項1〜9のいずれか1項に記載の樹脂粒子。   The resin particle according to any one of claims 1 to 9, which is used as a spacer or a conductive part is formed on a surface and used to obtain conductive particles having the conductive part. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂粒子と、
前記樹脂粒子の表面上に配置された導電部とを備える、導電性粒子。
The resin particles according to any one of claims 1 to 10,
A conductive portion disposed on a surface of the resin particle.
導電性粒子と、バインダーとを含み、
前記導電性粒子が、請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂粒子と、前記樹脂粒子の表面上に配置された導電部とを備える、導電材料。
Including conductive particles and a binder,
A conductive material, wherein the conductive particles include the resin particles according to claim 1 and a conductive portion disposed on a surface of the resin particles.
請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂粒子と、
バインダーとを含む、接着剤。
The resin particles according to any one of claims 1 to 10,
An adhesive containing a binder.
第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、
第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、
前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、
前記接続部の材料が、請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂粒子を含み、
前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記接続部により電気的に接続されている、接続構造体。
A first connection target member having a first electrode on its surface;
A second member to be connected having a second electrode on its surface;
The first connection target member, and a connection portion that connects the second connection target member,
The material of the connection portion includes the resin particles according to any one of claims 1 to 10,
A connection structure, wherein the first electrode and the second electrode are electrically connected by the connection portion.
第1の液晶表示素子用部材と、
第2の液晶表示素子用部材と、
前記第1の液晶表示素子用部材と前記第2の液晶表示素子用部材との間に配置されたスペーサとを備え、
前記スペーサが、請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂粒子である、液晶表示素子。
A first liquid crystal display element member;
A second liquid crystal display element member;
A spacer disposed between the first liquid crystal display element member and the second liquid crystal display element member;
A liquid crystal display device, wherein the spacer is a resin particle according to any one of claims 1 to 10.
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